JP2008254136A - Polishing cloth - Google Patents

Polishing cloth Download PDF

Info

Publication number
JP2008254136A
JP2008254136A JP2007100136A JP2007100136A JP2008254136A JP 2008254136 A JP2008254136 A JP 2008254136A JP 2007100136 A JP2007100136 A JP 2007100136A JP 2007100136 A JP2007100136 A JP 2007100136A JP 2008254136 A JP2008254136 A JP 2008254136A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polishing
fiber
polishing cloth
ultrafine
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007100136A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5029104B2 (en
Inventor
Hajime Nishimura
一 西村
Akihiro Tanabe
昭大 田辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP2007100136A priority Critical patent/JP5029104B2/en
Publication of JP2008254136A publication Critical patent/JP2008254136A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5029104B2 publication Critical patent/JP5029104B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Nonwoven Fabrics (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a high-performance polishing cloth capable of eliminating scratch and minute projections by having microfibers of nano fiber level on its surface, when used for accurate polishing of a hard disc and the like. <P>SOLUTION: The polishing cloth is manufactured by electrostatic spinning method; and composed of a microfiber structure having an average fiber diameter of 1.0 nm to 1.0 μm, and a composite fiber structure in which a microfiber structure having an average fiber diameter of 0.50 to 10 μm are laminated. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体ウェハや磁気記録ディスクなどの仕上げ加工における、研磨加工及び/またはクリーニング加工を施す際に好適に用いられ得る研磨布に関し、ナノファイバーレベルの極細繊維を表面に分散させることで、優れた平滑性と高い研磨性能を有する研磨布に関するものである。   The present invention relates to a polishing cloth that can be suitably used when performing polishing and / or cleaning processing in finishing processing of a semiconductor wafer, a magnetic recording disk, etc., by dispersing nanofiber-level ultrafine fibers on the surface, The present invention relates to a polishing cloth having excellent smoothness and high polishing performance.

近年、磁気ディスク等の磁気記録媒体は、高容量化、高記憶密度化に伴い、磁気ヘッドの浮上高さ(フライングハイト)が著しく低くなる傾向にある。そのため、磁気ディスク表面に突起などの異常欠点が存在すると、磁気ヘッドと異常欠点とが接触してヘッドクラッシュを起こし、ディスク表面に傷が発生する。また、ヘッドクラッシュには至らない程度の微小な突起であっても、磁気ヘッドとの接触により情報の読み書きの際に発生するエラーの原因につながる。   2. Description of the Related Art In recent years, magnetic recording media such as magnetic disks tend to have a significantly reduced flying height (flying height) of a magnetic head with an increase in capacity and storage density. Therefore, if there is an abnormal defect such as a protrusion on the surface of the magnetic disk, the magnetic head and the abnormal defect come into contact with each other, causing a head crash and causing a scratch on the disk surface. Further, even a minute protrusion that does not cause a head crash leads to an error that occurs when reading and writing information due to contact with the magnetic head.

磁気記録媒体の製造方法としては、アルミニウム合金基板またはガラス基板に対し、研磨パッドを用いたスラリー研削を行った後、磁性体をスパッタリングにより形成している。一般に、硬質ポリウレタンフォームやポリウレタン含浸型の不織布からなる研磨パッドを用いてスラリー研削を行った後のディスク表面は、傷や微小な突起が多数存在し平滑性に乏しいことから、傷や微小な突起を除去して平滑性を高めるため、不織布や織物からなるテープ状の研磨布表面に遊離砥粒を付着させて研削を行ってきた。加工としては、研磨布をテープ状として用い、アルミニウム合金基板またはガラス基板を連続回転させた状態で、研磨テープを基板に押し付けながら、基板の径方向に往復運動させ、連続的に研磨テープを走行させる。その際、遊離砥粒を含んだスラリーを研磨テープと基板との間に供給することで、遊離砥粒が研磨テープ表面の繊維に微分散した状態で把持され、これが基板に接触することで研磨が進行するものである。   As a method of manufacturing a magnetic recording medium, a magnetic material is formed by sputtering after slurry grinding using a polishing pad is performed on an aluminum alloy substrate or a glass substrate. Generally, the surface of the disk after slurry grinding using a polishing pad made of rigid polyurethane foam or polyurethane impregnated nonwoven fabric has many scratches and minute protrusions and is not smooth. In order to improve the smoothness by removing the surface, grinding has been performed by attaching free abrasive grains to the surface of a tape-like polishing cloth made of a nonwoven fabric or a woven fabric. For processing, using a polishing cloth as a tape, while the aluminum alloy substrate or glass substrate is continuously rotated, the abrasive tape is pressed against the substrate and reciprocated in the radial direction of the substrate to continuously run the polishing tape. Let At that time, by supplying a slurry containing loose abrasive grains between the polishing tape and the substrate, the loose abrasive grains are gripped in a finely dispersed state on the fibers on the polishing tape surface, and polishing is performed by contacting this with the substrate. Is something that progresses.

中でも従来の長手(面内)磁気記録方式の磁気記録ディスクの製造においては、テープ状の研磨布でのスラリー研削により、記録ディスクの基板表面に略同心円状に微細な条痕を形成させることによって、ディスク基板上に金属磁性層を形成する際に磁性体の結晶成長の方向性が制御されることで記録方向の抗磁力が向上し、高記録密度化が可能となる。この長手磁気記録方式におけるスラリー研削は、テクスチャー加工と呼ばれている。   In particular, in the manufacture of a conventional magnetic recording disk of the longitudinal (in-plane) magnetic recording system, fine constrictions are formed substantially concentrically on the substrate surface of the recording disk by slurry grinding with a tape-like polishing cloth. When the metal magnetic layer is formed on the disk substrate, the direction of crystal growth of the magnetic material is controlled, so that the coercive force in the recording direction is improved and the recording density can be increased. Slurry grinding in this longitudinal magnetic recording system is called texture processing.

一方最近では、磁気記録ディスクの記録方式が従来の長手磁気記録方式から垂直磁気記録方式に移行するに伴い、テープ状の研磨布を用いたスラリー研削及び/またはスラリーを用いないクリーニング加工により、平滑性を向上させるという要求が高まってきている。この際、表面平滑化のためには、長手磁気記録方式で要求されたディスク基板表面への微細な条痕の形成を抑制する必要がある。   On the other hand, recently, as the recording method of the magnetic recording disk has shifted from the conventional longitudinal magnetic recording method to the perpendicular magnetic recording method, smoothing is achieved by slurry grinding using a tape-like polishing cloth and / or cleaning processing without using a slurry. There is a growing demand for improved performance. At this time, in order to smooth the surface, it is necessary to suppress the formation of fine streaks on the disk substrate surface required in the longitudinal magnetic recording method.

テープ状の研磨布を用いたスラリー研削及び/またはクリーニング加工によって、磁気ヘッドの低浮上を満足するための表面処理を行う場合、最近の急激な高記録容量化のための高記録密度化に対応するためには、0.2nm以下の基板表面粗さを達成し、かつスクラッチ欠点と呼ばれる基板表面の傷を極小化することが要求されており、その要求に対応しうる研磨布が切望されている。基板表面粗さを小さくするため、不織布を構成する繊維を極細化し、基板表面への傷を極小化するため、クッション性を持たせるべく不織布に高分子弾性体を含浸させるという提案が種々なされている。   When performing surface treatment to satisfy low flying height of the magnetic head by slurry grinding and / or cleaning processing using a tape-like polishing cloth, it supports the recent rapid increase in recording density for high recording capacity. In order to achieve this, it is required to achieve a substrate surface roughness of 0.2 nm or less and to minimize scratches on the substrate surface called scratch defects, and a polishing cloth that can meet the demand is desired. Yes. In order to reduce the substrate surface roughness, various proposals have been made to impregnate the nonwoven fabric with a polymer elastic body to provide cushioning properties in order to minimize the fibers constituting the nonwoven fabric and minimize scratches on the substrate surface. Yes.

例えば、0.03dtex以下のポリアミド極細繊維不織布からなる研磨布(特許文献1)が提案されており、実施例中では最も細いもので10−4オーダーの極細繊維が用いられている。しかし、研磨布を用いた加工では、表面粗さは0.4nm程度であり、さらなる表面粗さの低下を達成するため、ナノファイバーレベルの超極細繊維が求められている。 For example, an abrasive cloth made of a polyamide ultrafine fiber nonwoven fabric of 0.03 dtex or less (Patent Document 1) has been proposed, and the finest ones in the examples use 10-4 order ultrafine fibers. However, in processing using an abrasive cloth, the surface roughness is about 0.4 nm, and in order to achieve a further reduction in surface roughness, ultrafine fibers at the nanofiber level are required.

ナノファイバーレベルの極細繊維を用いた研磨布として、例えば特許文献2では、ポリマーアロイ繊維を用い、1×10−8〜4×10−4dtexの超極細繊維からなる研磨布が開示されている。しかし、研磨布の極細繊維は束状に集束した状態であって、束状繊維としての性質が支配的となり、表面粗さの低下といった超極細繊維の優位性を充分に発揮できるものではなかった(実施例中の基板表面粗さとしては0.21〜0.30nm程度)。そのため、最近の垂直記録方式の磁気記録ディスクにおいて求められる平滑性ならびにスクラッチ・突起の極少化を満足できる研磨布が切望されていた。
特開2002−79472号公報 特開2005−329534号公報
As an abrasive cloth using nanofiber level ultrafine fibers, for example, Patent Document 2 discloses an abrasive cloth made of ultrafine fibers of 1 × 10 −8 to 4 × 10 −4 dtex using polymer alloy fibers. . However, the ultrafine fibers of the polishing cloth are in a bundled state, the properties of the bundled fibers are dominant, and the superiority of the ultrafine fibers, such as a reduction in surface roughness, cannot be fully exhibited. (The substrate surface roughness in the examples is about 0.21 to 0.30 nm). Therefore, there has been a strong demand for a polishing cloth that can satisfy the smoothness and minimum scratches and protrusions required in recent perpendicular recording type magnetic recording disks.
JP 2002-79472 A JP 2005-329534 A

本発明の目的は、ハードディスクなどの精密研磨用途において、ナノファイバーレベルの超極細繊維を表面に有することにより、スクラッチおよび微小な突起の除去を達成することが可能な、高性能研磨布を提供することである。   An object of the present invention is to provide a high-performance polishing cloth that can achieve removal of scratches and minute protrusions by having nanofiber-level ultrafine fibers on the surface in precision polishing applications such as hard disks. That is.

本発明はかかる課題を解決するために、次のような手段を採用するものである。すなわち、
(1)静電紡糸法により製造された、平均繊維径が1.0nm〜1.0μmの極細繊維構造体と、平均繊維径が0.50〜10μmの細繊維構造体が積層した複合繊維構造体とからなることを特徴とする研磨布。
The present invention employs the following means in order to solve such problems. That is,
(1) A composite fiber structure in which an ultrafine fiber structure having an average fiber diameter of 1.0 nm to 1.0 μm and a fine fiber structure having an average fiber diameter of 0.50 to 10 μm, which are manufactured by an electrostatic spinning method, are laminated. A polishing cloth comprising a body.

(2)静電紡糸法により製造された、平均繊維径が1.0nm〜1.0μmの極細繊維構造体と、高分子弾性体層が積層した複合構造体とからなることを特徴とする研磨布。   (2) Polishing characterized by comprising an ultrafine fiber structure having an average fiber diameter of 1.0 nm to 1.0 μm, produced by an electrospinning method, and a composite structure in which a polymer elastic body layer is laminated. cloth.

(3)前記複合繊維構造体が、高分子弾性体を含むことを特徴とする前記(1)に記載の研磨布。   (3) The abrasive cloth according to (1), wherein the composite fiber structure includes a polymer elastic body.

(4)前記高分子弾性体がポリウレタンであることを特徴とする前記(2)または(3)のいずれかに記載の研磨布。   (4) The polishing cloth according to any one of (2) and (3), wherein the elastic polymer is polyurethane.

(5)前記細繊維構造体および高分子弾性体の表面が、JIS K−6253Aに基づいて測定される硬度が30〜60°であることを特徴とする、前記(2)〜(4)のいずれかに記載の研磨布。   (5) The surface of the fine fiber structure and the polymer elastic body has a hardness measured based on JIS K-6253A of 30 to 60 °, according to the above (2) to (4) The polishing cloth in any one.

(6)片面に補強層が積層されていることを特徴とする前記(1)〜(5)のいずれかに記載の研磨布。   (6) The polishing cloth according to any one of (1) to (5), wherein a reinforcing layer is laminated on one side.

本発明の研磨布は、研磨布表面の超極細繊維の分散性、均一性に優れているため、磁気記録ディスクなどの基板表面に対し、テープ状の研磨布を用いたスラリー研削及び/またはスラリーを用いないクリーニング加工において、スクラッチ及び微小な突起の発生を極少化することが可能となり、また垂直記録方式の記録ディスクにて要求される微細な条痕の抑制を満足できる高性能研磨布を提供できるものである。   Since the polishing cloth of the present invention is excellent in the dispersibility and uniformity of the ultrafine fibers on the surface of the polishing cloth, slurry grinding and / or slurry using a tape-like polishing cloth on the surface of a substrate such as a magnetic recording disk. Provides a high-performance polishing cloth that can minimize the generation of scratches and minute protrusions in the cleaning process that does not use, and that can satisfy the fine streaking requirements of perpendicular recording disks. It can be done.

以下、本発明について、望ましい実施の形態とともに詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail together with preferred embodiments.

本発明において、極細繊維構造体とは平均繊維径が1.0nm〜1.0μmの極細繊維からなる構造体であり、細繊維構造体とは平均繊維径が0.50〜10μmの細繊維からなる構造体をいい、その構造は特に限定されるものではない。   In the present invention, the ultrafine fiber structure is a structure made of ultrafine fibers having an average fiber diameter of 1.0 nm to 1.0 μm, and the fine fiber structure is made of fine fibers having an average fiber diameter of 0.50 to 10 μm. The structure is not particularly limited.

本発明の研磨布に用いられる極細繊維構造体層の平均繊維径は、研磨布表面の繊維強度及び砥粒の把持性の点から、1.0nm〜1.0μmであることが好ましい。1.0nm以上とすることで、研削に必要とされる充分な繊維強度を得ることができ、砥粒を的確に把持できる。一方、1.0μm以下とすることで、砥粒を微分散化でき、研磨布表面における砥粒分布を均一化させることができる。平均繊維径のより好ましい範囲としては1.0nm〜0.50μmである。なお、平均繊維径は後述する測定方法により測定した値をいう。すなわち、研磨布を厚み方向にカットした断面を観察面として走査型電子顕微鏡(SEM)、または透過型電子顕微鏡(TEM)により観察し、繊維300本の繊維径を有効数字3桁で測定し、これを母集団とした平均値を有効数字2桁で算出し、この平均値を平均繊維径とする。なお、繊維の断面形状が非円形である場合には、断面積を算出した後、同じ面積をもつ円の直径を繊維径とみなすものとする。   The average fiber diameter of the ultrafine fiber structure layer used in the polishing cloth of the present invention is preferably 1.0 nm to 1.0 μm from the viewpoint of fiber strength on the polishing cloth surface and gripping ability of the abrasive grains. By setting the thickness to 1.0 nm or more, sufficient fiber strength necessary for grinding can be obtained, and the abrasive grains can be accurately grasped. On the other hand, when the thickness is 1.0 μm or less, the abrasive grains can be finely dispersed, and the abrasive grain distribution on the surface of the polishing cloth can be made uniform. A more preferable range of the average fiber diameter is 1.0 nm to 0.50 μm. In addition, an average fiber diameter says the value measured with the measuring method mentioned later. That is, using a scanning electron microscope (SEM) or a transmission electron microscope (TEM) with a cross section cut in the thickness direction of the polishing cloth as an observation surface, the fiber diameter of 300 fibers is measured with three significant digits, An average value using this as a population is calculated with two significant digits, and this average value is taken as the average fiber diameter. When the cross-sectional shape of the fiber is non-circular, after calculating the cross-sectional area, the diameter of a circle having the same area is regarded as the fiber diameter.

研磨布表面に分散化した平均繊維径1.0nm〜1.0μmの極細繊維を得るには、単純な直接紡糸法では困難である。また極細短繊維を用いた抄紙法でも良いように思われるが、繊維長が短いことに起因する繊維の脱落、さらには加工時の生産性などの観点から研磨布に使用するには問題がある。一方、海島型複合紡糸法やポリマーブレンド、チップブレンドなどの極細繊維発生型繊維を用いる方法は研磨布用途にも好ましいが、繊維が束状となりやすく、極細繊維の分散性を優先させると静電紡糸法を用いることがより好ましい。   It is difficult to obtain ultrafine fibers having an average fiber diameter of 1.0 nm to 1.0 μm dispersed on the surface of the polishing cloth by a simple direct spinning method. Also, it seems that the papermaking method using ultra-fine short fibers seems to be acceptable, but there are problems in using them in abrasive cloths from the viewpoint of fiber dropout due to short fiber length and productivity during processing. . On the other hand, the sea-island type composite spinning method or the method using ultrafine fiber generation type fibers such as polymer blend and chip blend is preferable for abrasive cloth use. However, the fibers tend to be bundled, and electrostatic properties can be given priority to the dispersibility of ultrafine fibers. It is more preferable to use a spinning method.

本発明の研磨布に用いられる平均繊維径が1.0nm〜1.0μmの極細繊維のポリマーとしては、静電紡糸法にて紡糸可能なものであれば特に限定されるものではない。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレートなどの芳香族ポリエステル系、ポリ乳酸(PLA)、ポリカプロラクトン、ポリブチレンサクシネート、ポリエチレンサクシネートなどの脂肪族ポリエステル系、ナイロン6(N6)、ナイロン66、ナイロン11、ナイロン12、ナイロン610、ナイロン612などのポリアミド系、ポリメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレートなどのメタクリレート系、ポリノルマルプロピルアクリレート、ポリノルマルブチルアクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリエチルアクリレート、ポリブチルアクリレートなどのアクリレート系、および、ポリブチルイソシアネート、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリスチレン、およびこれらの共重合体などが挙げられる。こらのうち、紡糸の簡便性、得られる繊維による研磨性能が良好であることから、ポリアミド系、ポリエステル系、ポリアクリロニトリル系などが好ましい。また、ポリマーの性能をを損なわない範囲で、他の高分子や他の化合物を併用してもよい。   The polymer of ultrafine fibers having an average fiber diameter of 1.0 nm to 1.0 μm used in the polishing cloth of the present invention is not particularly limited as long as it can be spun by an electrostatic spinning method. For example, aromatic polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polytrimethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene naphthalate, aliphatic such as polylactic acid (PLA), polycaprolactone, polybutylene succinate, polyethylene succinate Polyester, Nylon 6 (N6), Nylon 66, Nylon 11, Nylon 12, Nylon 610, Nylon 612 and other polyamides, Polymethyl methacrylate, Polyethyl methacrylate and other methacrylates, Poly normal propyl acrylate, Poly normal butyl acrylate, Acrylates such as polymethyl acrylate, polyethyl acrylate, polybutyl acrylate, and polybutyl isocyanate , Polyvinyl chloride, polyacrylonitrile, polystyrene, and the like copolymers thereof. Of these, polyamide-based, polyester-based, polyacrylonitrile-based, and the like are preferable because of the ease of spinning and the polishing performance with the resulting fibers. Further, other polymers and other compounds may be used in combination as long as the performance of the polymer is not impaired.

本発明の研磨布は上述した極細繊維構造体に加えて、細繊維構造体を有することにより適度なクッション性を得ることができ、極細繊維集合体のみでは得られなかった高い研磨性能を得ることが可能となる。一般的な構造としては極細繊維集合体と細繊維集合体が積層しており、研磨布表面に極細繊維集合体を有するものが好ましい。細繊維集合体としては、その構造は特に限定されないが、基材としてはポリエステル系、ポリアミド系、ポリオレフィン系等からなる織編物、不織布などが好適に用いられる。   In addition to the ultrafine fiber structure described above, the abrasive cloth of the present invention can obtain an appropriate cushioning property by having a fine fiber structure, and obtain a high polishing performance that cannot be obtained only with an ultrafine fiber assembly. Is possible. As a general structure, an ultrafine fiber aggregate and a fine fiber aggregate are laminated, and a structure having the ultrafine fiber aggregate on the surface of the polishing cloth is preferable. The structure of the fine fiber aggregate is not particularly limited, but a woven or knitted fabric or nonwoven fabric made of polyester, polyamide, polyolefin or the like is preferably used as the base material.

また、細繊維構造体の平均繊維径は0.50〜10μmの範囲が好ましい。0.50μm以上とすることで充分な強力、クッション性を得ることができるため好ましい。また、10μm以下とすることで、細繊維構造体層の柔軟性を得ることができ、また細繊維が研磨布表面に露出した場合でも、スクラッチなどの異常欠点になりにくいため好ましい。   The average fiber diameter of the fine fiber structure is preferably in the range of 0.50 to 10 μm. A thickness of 0.50 μm or more is preferable because sufficient strength and cushioning properties can be obtained. Further, when the thickness is 10 μm or less, the flexibility of the fine fiber structure layer can be obtained, and even when the fine fibers are exposed on the surface of the polishing cloth, it is difficult to cause abnormal defects such as scratches, which is preferable.

本発明の研磨布はクッション性を向上させる目的で高分子弾性体を含んでいてもよく、一般に、研磨布表面に極細繊維層、非研磨面として高分子弾性体層を有するものが好ましい。高分子弾性体層としては、不織布などのシート状物に含浸したものであっても良いし、乾式法などにより得られたシート状の高分子弾性体のみであっても良い。用いる高分子弾性体としては特に限定はないが、例えば、ポリウレア、ポリウレタン・ポリウレアエラストマー、ポリアクリル酸樹脂、アクリロニトリル・ブタジエンエラストマー、スチレン・ブタジエンエラストマーなどを用いることができるが、中でもポリウレタン、ポリウレタン・ポリウレアエラストマーなどのポリウレタン系エラストマーが好ましい。   The polishing cloth of the present invention may contain a polymer elastic body for the purpose of improving cushioning properties. In general, it is preferable to have an ultrafine fiber layer on the surface of the polishing cloth and a polymer elastic body layer as a non-polished surface. The polymer elastic body layer may be impregnated into a sheet-like material such as a nonwoven fabric, or may be only a sheet-like polymer elastic body obtained by a dry method or the like. The polymer elastic body to be used is not particularly limited. For example, polyurea, polyurethane / polyurea elastomer, polyacrylic resin, acrylonitrile / butadiene elastomer, styrene / butadiene elastomer, etc. can be used. A polyurethane-based elastomer such as an elastomer is preferred.

ポリウレタンは、ポリオール成分にポリエステル系、ポリエーテル系、ポリカーボネート系のジオール、もしくはこれらの共重合物を用いることができる。また、ジイソシアネート成分としては、芳香族ジイソシアネート、脂環式イソシアネート、脂肪族系イソシアネートなどを使用することができる。   Polyurethanes can use polyester-based, polyether-based, polycarbonate-based diols, or copolymers thereof for the polyol component. Moreover, as a diisocyanate component, aromatic diisocyanate, alicyclic isocyanate, aliphatic isocyanate, etc. can be used.

ポリウレタンの重量平均分子量は50,000〜300,000が好ましく、より好ましくは100,000〜250,000である。重量平均分子量を50,000以上とすることにより、得られるシート状物の強度を保持し、また極細繊維の脱落を防ぐことができる。また、300,000以下とすることで、ポリウレタン溶液の粘度の増大を抑えて不織布への含浸を行いやすくすることができる。   The weight average molecular weight of the polyurethane is preferably 50,000 to 300,000, more preferably 100,000 to 250,000. By setting the weight average molecular weight to 50,000 or more, it is possible to maintain the strength of the obtained sheet-like material and to prevent the ultrafine fibers from falling off. Moreover, by setting it as 300,000 or less, the increase in the viscosity of a polyurethane solution can be suppressed and it can make it easy to impregnate a nonwoven fabric.

また、高分子弾性体は、主成分としてポリウレタンを用いることが好ましいが、バインダーとして性能や立毛繊維の均一分散状態を損なわない範囲で、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリオレフィン系などのエラストマー樹脂、アクリル樹脂、エチレン−酢酸ビニル樹脂などが含まれていても良く、必要に応じて着色剤、酸化防止剤、帯電防止剤、分散剤、柔軟剤、凝固調整剤、難燃剤、抗菌剤、防臭剤などの添加剤が配合されていてもよい。   In addition, it is preferable to use polyurethane as the main component of the polymer elastic body, but as a binder, it does not impair the performance and the uniform dispersion state of the napped fibers, and polyester resin, polyamide resin, polyolefin resin, etc., acrylic resin , Ethylene-vinyl acetate resin, etc. may be included, and if necessary, colorants, antioxidants, antistatic agents, dispersants, softeners, coagulation modifiers, flame retardants, antibacterial agents, deodorants, etc. Additives may be blended.

本発明において、不織布などのシート状物への高分子弾性体の付与量は、研磨布表面繊維の緻密性、クッション性などを考慮し、固形分として対繊維重量比で10〜200重量%の範囲が好ましい。好ましくは20〜100重量%の範囲である。   In the present invention, the amount of the polymeric elastic body applied to the sheet-like material such as the nonwoven fabric is 10 to 200% by weight as a solid content with respect to the weight of the fiber in consideration of the denseness and cushioning properties of the polishing cloth surface fibers. A range is preferred. Preferably it is the range of 20-100 weight%.

本発明の細繊維集合体層、および高分子弾性体層はJIS K−6253Aの規定に基づいて測定される硬度が30〜60°であることが好ましい。硬度を30°以上とすることで、砥粒の押付力が充分に伝わり、60°以下とすることでスクラッチ欠点の抑制や低表面粗さを達成できる。   The fine fiber assembly layer and the polymer elastic layer of the present invention preferably have a hardness of 30 to 60 ° as measured based on JIS K-6253A. By setting the hardness to 30 ° or more, the pressing force of the abrasive grains is sufficiently transmitted, and by setting the hardness to 60 ° or less, it is possible to suppress scratch defects and achieve low surface roughness.

本発明の研磨布をテープ状、あるいはパッド状として研磨加工を施す際に、大きな寸法変化が生じると、基板表面を均一に研磨することができないため、研磨布の形態安定性の点から、本発明に用いられる細繊維集合体層、および高分子弾性体層の目付は50〜2000g/mであることが好ましく、100〜1000g/mであることがより好ましく、さらに好ましくは150〜600g/mの範囲である。また、同様の観点から本発明の細繊維集合体および高分子弾性体層は厚みが0.1〜5mmの範囲が好ましく、0.2〜3mmの範囲がより好ましい。均一な加工性を得るために見掛け密度としては、0.2〜0.9g/cmの範囲が好適であり、より好ましくは0.3〜0.8g/cmの範囲である。 When the polishing cloth of the present invention is subjected to a polishing process in the form of a tape or a pad, if a large dimensional change occurs, the substrate surface cannot be uniformly polished. invention fine fiber aggregate layer used, and it is preferable that the basis weight of the elastic polymer layer is 50 to 2000 g / m 2, more preferably from 100 to 1000 g / m 2, more preferably 150~600g / M 2 range. From the same viewpoint, the fine fiber aggregate and the polymer elastic layer of the present invention preferably have a thickness in the range of 0.1 to 5 mm, more preferably in the range of 0.2 to 3 mm. In order to obtain uniform workability, the apparent density is preferably in the range of 0.2 to 0.9 g / cm 3 , more preferably in the range of 0.3 to 0.8 g / cm 3 .

なお、研磨布表面の極細繊維集合体層の目付としては0.3〜10g/mの範囲が好ましい。0.3g/m以上とすることで細繊維集合体層として充分な性能を発揮することができ、10g/m以下とすることで、極細繊維集合体層と積層を行った層間剥離などを防ぐことができるため好ましい。 Incidentally, preferably in the range of 0.3 to 10 / m 2 as a weight per unit area of the ultrafine fibrous aggregate layer of the polishing cloth surface. When it is 0.3 g / m 2 or more, sufficient performance as a fine fiber assembly layer can be exhibited, and when it is 10 g / m 2 or less, delamination that is laminated with the ultrafine fiber assembly layer, etc. Can be prevented.

本発明の各層の目付はJIS L 1096 8.4.2(1999)に準拠して測定した。また、見掛け密度については、各集合体層の厚みをダイヤルシックネスゲージ((株)尾崎製作所製、商品名”ピーコックH”)にて任意の10点を測定し、平均値を算出し、目付を厚みで除することにより算出した。   The basis weight of each layer of the present invention was measured according to JIS L 1096 8.4.2 (1999). As for the apparent density, the thickness of each aggregate layer was measured at 10 arbitrary points with a dial thickness gauge (manufactured by Ozaki Mfg. Co., Ltd., trade name “Peacock H”), and the average value was calculated. Calculated by dividing by thickness.

本発明では、スクラッチ欠点抑制の点から、研磨布中に含まれる金属あるいは金属化合物の含有量は、研磨布の総重量に対する金属元素の重量として100ppm以下であることが好ましく、30ppm以下であることがより好ましく、全く含有していないことが更に好ましい。100ppm以下であれば、金属あるいは金属化合物が基板表面に接触することによる、スクラッチ欠点及の発生を抑制できるため、好ましい。   In the present invention, from the viewpoint of suppressing scratch defects, the content of the metal or metal compound contained in the polishing cloth is preferably 100 ppm or less, preferably 30 ppm or less, as the weight of the metal element with respect to the total weight of the polishing cloth. Is more preferable, and it is still more preferable not to contain at all. If it is 100 ppm or less, the generation of scratch defects due to the contact of the metal or metal compound with the substrate surface can be suppressed, which is preferable.

研磨布中に含まれる金属あるいは金属化合物の例としては、鉄、酸化鉄、繊維ポリマーの添加剤として用いられる二酸化チタンなどが挙げられる。   Examples of the metal or metal compound contained in the polishing cloth include iron, iron oxide, and titanium dioxide used as an additive for fiber polymers.

更に、研磨加工時の加工ムラ、スクラッチ欠点の発生を抑える点から、複合繊維構造体からなる研磨布に対し、さらに研磨布の細繊維を有する面の裏面に補強層を接着する方法が好適に用いられる。   Furthermore, from the viewpoint of suppressing the occurrence of processing irregularities and scratch defects at the time of polishing, a method of adhering a reinforcing layer to the back surface of the surface having fine fibers of the polishing cloth is preferably applied to the polishing cloth made of the composite fiber structure. Used.

補強層としては、寸法安定性が得られれば特に限定されるものではなく、織編物や熱接着繊維を用いた不織布、フィルム状物を用いることが好ましい。中でも、高精度の研磨加工を行うには、厚みや物理特性において均一なフィルム状物を使用することがより好ましい。   The reinforced layer is not particularly limited as long as dimensional stability is obtained, and it is preferable to use a woven or knitted fabric, a nonwoven fabric using heat-bonding fibers, or a film-like material. Among these, in order to perform high-precision polishing, it is more preferable to use a film-like material that is uniform in thickness and physical characteristics.

ここでいうフィルムとなる素材としては、ポリオレフィン系、ポリエステル系およびポリフェニルサルファイド系などのフィルム形状を有するものであれば使用可能である。汎用性を考えた場合、ポリエステルフィルムを使用することが好ましい。フィルムからなる補強層を設ける場合には、研磨加工時の研磨布の形態安定性、クッション性および基板表面へのフィット性を全て満足させる必要があるため、不織布からなるシート状物との厚みバランスをとることが重要である。不織布からなるシート状物の仕上がり厚みとしては0.2mm以上であることが好ましく、生産性の点からより好ましくは0.2〜2.0mmの範囲である。そのため、フィルムの厚みは20〜100μmとすることが好ましい。不織布からなるシート状物の厚みが0.2mm未満の場合、研磨加工時の寸法変化を抑えるため補強層が必要である。一方、フィルム層の厚みが20μm未満であると、研磨加工時の寸法変化を抑えられず、100μmを超えると、研磨布全体の剛性が高くなりすぎ、結果としてスクラッチなどの発生を抑えることができないため好ましくない。   As a raw material used as a film here, what has film shape, such as a polyolefin type, a polyester type, and a polyphenyl sulfide type, can be used. In consideration of versatility, it is preferable to use a polyester film. When a reinforcing layer made of a film is provided, it is necessary to satisfy all of the form stability, cushioning properties and fitability to the substrate surface of the polishing cloth during polishing, so the thickness balance with the sheet-like material made of nonwoven fabric It is important to take The finished thickness of the sheet-like material made of nonwoven fabric is preferably 0.2 mm or more, and more preferably in the range of 0.2 to 2.0 mm from the viewpoint of productivity. Therefore, the thickness of the film is preferably 20 to 100 μm. When the thickness of the sheet-like material made of nonwoven fabric is less than 0.2 mm, a reinforcing layer is necessary to suppress dimensional changes during polishing. On the other hand, if the thickness of the film layer is less than 20 μm, the dimensional change at the time of polishing cannot be suppressed, and if it exceeds 100 μm, the rigidity of the entire polishing cloth becomes too high, and as a result, the occurrence of scratches cannot be suppressed. Therefore, it is not preferable.

次に、本発明の研磨布の製造方法について詳細に記述する。   Next, the manufacturing method of the polishing cloth of the present invention will be described in detail.

本発明の極細繊維構造体は静電紡糸法により製造される。静電紡糸法により製造された極細繊維は束状になりにくく、極細繊維が分散しているため研磨加工において砥粒を的確に把持できるため好ましい。静電紡糸法とは従来公知の手法であって、繊維形成可能な化合物を溶解させた溶液にをノズル等から供給し、電界を作用させることによって延伸し、繊維形成するものである。   The ultrafine fiber structure of the present invention is produced by an electrospinning method. The ultrafine fibers produced by the electrospinning method are preferable because they do not easily form bundles and the ultrafine fibers are dispersed, so that the abrasive grains can be accurately grasped in the polishing process. The electrospinning method is a conventionally known method, in which a solution in which a fiber-forming compound is dissolved is supplied from a nozzle or the like and stretched by applying an electric field to form a fiber.

次に静電紡糸法について具体的に説明する。   Next, the electrostatic spinning method will be specifically described.

まず、極細繊維構成材料を溶解させた紡糸溶液を準備する。紡糸溶液の溶媒としては、極細繊維構成材料を溶解するものであれば特に限定されるものではないが、例えば、水、アセトン、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ベンジルアルコール、1,4−ジオキサン、フェノール、トルエン、ベンゼン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエタン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、エチレンカーボネート、ジエチルカーボネート、プロピレンカーボネート、アセトニトリルなどを挙げることができるが、これらの溶媒に限定されるものではなく、2種類以上の混合溶媒としても使用可能である。また、ポリマーの溶解性や、紡糸安定性を向上させるために、無機塩や有機塩、可塑剤などを上記溶媒に加えても良い。なお、これらの溶媒に溶解させるポリマーの種類は前述の通りである。   First, a spinning solution in which an ultrafine fiber constituent material is dissolved is prepared. The solvent of the spinning solution is not particularly limited as long as it dissolves the ultrafine fiber constituent material. For example, water, acetone, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, benzyl alcohol, 1,4-dioxane, Phenol, toluene, benzene, cyclohexane, cyclohexanone, tetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide, methylene chloride, chloroform, trichloroethane, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, ethylene carbonate, diethyl carbonate, propylene carbonate, acetonitrile, etc. However, it is not limited to these solvents, and can be used as a mixed solvent of two or more kinds. In order to improve the solubility of the polymer and the spinning stability, an inorganic salt, an organic salt, a plasticizer, or the like may be added to the solvent. In addition, the kind of polymer dissolved in these solvents is as described above.

また、溶液中のポリマーの濃度は1〜40重量%であることが好ましい。1重量%以上とすることで繊維構造体を形成するのに充分な濃度を確保でき、40重量%以下とすることで、得られる繊維の平均繊維径をナノファイバーレベルに制御することが可能となる。より好ましくは2〜30重量%の範囲である。   The concentration of the polymer in the solution is preferably 1 to 40% by weight. By setting it to 1% by weight or more, it is possible to secure a concentration sufficient to form a fiber structure, and by setting it to 40% by weight or less, it is possible to control the average fiber diameter of the obtained fibers to the nanofiber level. Become. More preferably, it is in the range of 2 to 30% by weight.

紡糸溶液をノズルへ供給し、ノズルから紡出し、紡出された紡糸溶液に電界を作用させて極細繊維化するものである。紡糸溶液を紡出するノズルの直径(内径)としては極細繊維の平均直径に影響するため、繊維径1.0μm以下の極細繊維を得るためには好ましくは0.1〜2.0mm程度とすることが好ましい。   A spinning solution is supplied to a nozzle, spun from the nozzle, and an electric field is applied to the spun spinning solution to form ultrafine fibers. Since the diameter (inner diameter) of the nozzle for spinning the spinning solution affects the average diameter of the ultrafine fibers, it is preferably about 0.1 to 2.0 mm in order to obtain ultrafine fibers with a fiber diameter of 1.0 μm or less. It is preferable.

ノズルから紡糸溶液を紡出した後、紡出した紡糸溶液に電界を作用させて延伸、極細化する。この電界の大きさとしては特に限定されるものではないが、極細繊維の直径を所望の範囲とするためには、0.1〜5kV/cmであることが好ましい。0.1kV/cm以上とすることで繊維形成が可能となり、5kV/cm以下とすることで空気の絶縁破壊を未然に防ぐことができるため好ましい。   After spinning the spinning solution from the nozzle, an electric field is applied to the spinning solution to draw and make it ultrafine. Although the magnitude of the electric field is not particularly limited, it is preferably 0.1 to 5 kV / cm in order to make the diameter of the ultrafine fiber within a desired range. Fiber formation is possible by setting it to 0.1 kV / cm or more, and it is preferable because it can prevent dielectric breakdown of air by setting it to 5 kV / cm or less.

電界は、例えばノズルと集積体の間に電位差を設けることによって作用させることができる。印加電圧としては上述した電界強度が得られれば特に限定されるものではないが、5〜50kVの範囲が好ましく、より好ましくは5〜30kVの範囲である。   The electric field can be applied, for example, by providing a potential difference between the nozzle and the integrated body. The applied voltage is not particularly limited as long as the above-described electric field strength can be obtained, but is preferably in the range of 5 to 50 kV, more preferably in the range of 5 to 30 kV.

前記極細化した極細繊維を捕集体上に積層させた極細繊維集合体層を形成することができる。捕集体としては、極細繊維を捕集可能なものであれば特に限定されないが、例えば、金属製などの導電性材料、非導電性材料として不織布、織編物、ネット、ドラム、ベルトなどを使用可能である。   An ultrafine fiber assembly layer in which the ultrafine fibers are laminated on a collector can be formed. The collector is not particularly limited as long as it can collect ultrafine fibers. For example, a conductive material such as a metal or a non-conductive material such as a nonwoven fabric, a woven or knitted fabric, a net, a drum, or a belt can be used. It is.

本発明の研磨布は、上述した極細繊維集合体層に加えて、平均繊維径が0.50〜10μmの細繊維集合体からなるクッション層を設けることにより、表面にナノファイバーレベルの極細繊維を有し、かつ平滑性、クッション性、寸法安定性に優れた高研磨性能を得ることが可能となる。   The polishing cloth of the present invention provides nanofiber-level ultrafine fibers on the surface by providing a cushion layer made of fine fiber aggregates having an average fiber diameter of 0.50 to 10 μm in addition to the above-described ultrafine fiber aggregate layers. It is possible to obtain a high polishing performance having excellent smoothness, cushioning properties and dimensional stability.

細繊維集合体層としては特に限定されるものではないが織編物、不織布などが好適に用いられるが、集合体層全体のうねり、厚み・目付の均一性、クッション性などの観点から不織布が好適に用いられる。   The fine fiber aggregate layer is not particularly limited, but a woven or knitted fabric, a non-woven fabric, or the like is preferably used, but a non-woven fabric is preferable from the viewpoint of the undulation of the entire aggregate layer, uniformity of thickness / weight per unit area, cushioning property, etc. Used for.

本発明における細繊維構造体を構成する不織布を得る方法としては、特に限定されるものではないが、平均繊維径が0.50〜10μmの細繊維を得るために、単成分紡糸や海島型複合紡糸、分割型複合紡糸、静電紡糸法など公知の極細化手法を用いることができる。中でも得られる細繊維の繊維径を細くできることなどの観点から、海島型複合紡糸から得られる細繊維が好ましい。また、不織布の構成としては、紡糸、延伸、捲縮、カットを経て得られた短繊維をカード、クロスラッパーを用いて幅方向に配列させた積層ウェブを形成させた後にニードルパンチを施して得られる短繊維不織布や、スパンボンドやメルトブロー法などから得られる長繊維不織布、抄紙法で得られる不織布、静電紡糸法により得られる不織布などを用いることができる。中でも研磨布としての平滑性、目付ムラ、寸法安定性、クッション性などの観点から、短繊維不織布が好適に用いられる。   The method for obtaining the nonwoven fabric constituting the fine fiber structure in the present invention is not particularly limited. In order to obtain fine fibers having an average fiber diameter of 0.50 to 10 μm, single-component spinning or sea-island composite Known ultra-thinning techniques such as spinning, split-type composite spinning, and electrostatic spinning can be used. Among these, fine fibers obtained from sea-island type composite spinning are preferable from the viewpoint of reducing the fiber diameter of the obtained fine fibers. In addition, the structure of the nonwoven fabric is obtained by forming a laminated web in which short fibers obtained through spinning, drawing, crimping, and cutting are arranged in the width direction using a card and a cross wrapper, and then performing needle punching. The short fiber nonwoven fabric obtained, the long fiber nonwoven fabric obtained from the spun bond or melt blow method, the nonwoven fabric obtained by the papermaking method, the nonwoven fabric obtained by the electrostatic spinning method, etc. can be used. Among these, a short fiber nonwoven fabric is preferably used from the viewpoints of smoothness as a polishing cloth, unevenness per unit area, dimensional stability, cushioning properties, and the like.

短繊維不織布の繊維ウェブの絡合方法は特に限定されるものではないが、ニードルパンチやウォータジェットパンチなどの方法を適宜組み合わせることが出来る。   The method of entanglement of the fiber web of the short fiber nonwoven fabric is not particularly limited, but methods such as needle punching and water jet punching can be appropriately combined.

ニードルパンチ処理のパンチング本数としては、繊維の高絡合化による緻密な表面状態の達成の観点から500〜8000本/cmであることが好ましい。500本/cm以上とすることで表面繊維の緻密性を得ることができ、8000本/cm以下とすることで、加工性の悪化、繊維の損傷による強度低下を防ぐことができるため好ましい。ニードルパンチング後の複合繊維不織布の繊維密度は、表面繊維本数の緻密化の観点から、0.20〜0.50g/cmの範囲であることが好ましい。ウォータージェットパンチング処理を行う場合には、水は柱状流の状態で行うことが好ましい。柱状流を得るには、通常、直径0.05〜1.0mmのノズルから圧力1〜60MPaで噴出させる方法が好適に用いられる。このようにして得られた複合繊維不織布は、緻密化の観点から、乾熱または湿熱、あるいはその両者によって収縮させ、さらに高密度化させる方法を採用しても良い。 The number of punches in the needle punching process is preferably 500 to 8000 / cm 2 from the viewpoint of achieving a dense surface state by high entanglement of fibers. The density of the surface fiber can be obtained by setting it to 500 lines / cm 2 or more, and it is preferable to set it to 8000 lines / cm 2 or less because deterioration of workability and strength reduction due to fiber damage can be prevented. . The fiber density of the composite fiber nonwoven fabric after needle punching is preferably in the range of 0.20 to 0.50 g / cm 3 from the viewpoint of densification of the number of surface fibers. When performing a water jet punching process, it is preferable to perform water in the state of a columnar flow. In order to obtain a columnar flow, generally, a method of ejecting from a nozzle having a diameter of 0.05 to 1.0 mm at a pressure of 1 to 60 MPa is suitably used. From the viewpoint of densification, the composite fiber nonwoven fabric obtained in this way may be contracted by dry heat or wet heat, or both, and further densified.

細繊維集合体を構成する海島型複合繊維から極細繊維を発現せしめる方法、すなわち、細繊維発生加工は、除去する成分(易溶解性ポリマーからなる海成分)の種類によって異なるが、ポリエチレンやポリスチレン等のポリオレフィンであれば、トルエンやトリクロロエチレン等の有機溶媒、PLAや共重合ポリエステルであれば、水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液で浸漬・窄液を行う方法を好ましく用いることができる。   The method of developing ultrafine fibers from the sea-island type composite fibers that make up the fine fiber aggregates, that is, the fine fiber generation processing varies depending on the types of components to be removed (sea components made of easily soluble polymers), but polyethylene, polystyrene, etc. In the case of polyolefins such as these, an organic solvent such as toluene or trichlorethylene, and in the case of PLA or copolymer polyester, a method of immersing and constricting with an alkaline aqueous solution such as sodium hydroxide can be preferably used.

本発明の研磨布は、前記細繊維集合体層を極細繊維化処理する前および/または前記細繊維集合体層を極細繊維化処理した後、もしくは極細繊維集合体層と積層後のいずれかのプロセスで、ポリウレタンを主成分とする高分子弾性体を付与させても良い。かかる高分子弾性体は、表面凹凸や振動吸収のためのクッション、繊維形態保持などの役割を有し、不織布の内部空間に高分子弾性体を充填し一体化させることにより、被研磨物へのフィット性および被研磨物表面の傷の抑制効果に優れるものである。   The abrasive cloth of the present invention is either before the fine fiber assembly layer is subjected to ultrafine fiber treatment and / or after the fine fiber aggregate layer is subjected to ultrafine fiber treatment, or after being laminated with the ultrafine fiber aggregate layer. In the process, a polymer elastic body mainly composed of polyurethane may be provided. Such a polymer elastic body has a role of surface unevenness, a cushion for vibration absorption, fiber shape maintenance, and the like. It is excellent in fit and the effect of suppressing scratches on the surface of the workpiece.

かかるポリウレタンの不織布への付与方法としては、ポリウレタンを塗布、あるいは含浸後凝固させる方法などを適宜採用することができるが、中でも加工性の点から、不織布中にポリウレタン溶液を含浸した後に、湿式凝固させる方法が好ましく使用される。   As a method for applying such polyurethane to the nonwoven fabric, a method of applying polyurethane or solidifying after impregnation can be appropriately employed. Among them, from the viewpoint of processability, wet nonwoven solidification is carried out after impregnating the polyurethane solution into the nonwoven fabric. Is preferably used.

使用する高分子弾性体については前述の通りであるが、高分子弾性体を付与させる際に用いる溶媒としてはN,N’−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等を好ましく用いることができる。また、水中にエマルジョンとして分散させた水系ポリウレタンを用いてもよい。溶媒に溶解した高分子弾性体溶液に不織布を浸漬する等して高分子弾性体を不織布に付与し、その後、乾燥することによって高分子弾性体を実質的に凝固し固化させる。乾燥にあたっては不織布及び高分子弾性体の性能が損なわない程度の温度で加熱してもよい。   The polymer elastic body to be used is as described above, and N, N'-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, or the like can be preferably used as a solvent used for imparting the polymer elastic body. Further, an aqueous polyurethane dispersed as an emulsion in water may be used. The polymer elastic body is applied to the nonwoven fabric by immersing the nonwoven fabric in a polymer elastic body solution dissolved in a solvent, and then dried to substantially solidify and solidify the polymer elastic body. In drying, you may heat at the temperature which does not impair the performance of a nonwoven fabric and a polymeric elastic body.

本発明の研磨布は、例えば、上述した極細繊維集合体層と細繊維集合体層および/または高分子弾性体層を別々に製造した後に、フラットロールなどを用いたカレンダー加工などにより、厚みを加圧圧縮することで一体化することが可能である。カレンダー加工時には極細繊維層の性能を損なわない範囲で加熱してもよいし、加熱しなくてもよい。この加圧圧縮加工は、乾燥、湿潤いずれの状態でも実施可能であるが、乾燥状態であると、表面繊維のロールへの接着、表面部分のみの融着を引き起こす場合があるため、この加工は湿潤状態で行うことが好ましい。湿潤状態では熱伝導率が乾燥状態対比高く、結果として研磨布全体を均一に圧縮できるため好ましい。   The polishing cloth of the present invention can be formed by, for example, calendering using a flat roll or the like after separately manufacturing the above-described ultrafine fiber aggregate layer and fine fiber aggregate layer and / or polymer elastic body layer. It is possible to integrate by pressing and compressing. At the time of calendering, heating may be performed within a range that does not impair the performance of the ultrafine fiber layer, or heating may not be performed. This pressure compression process can be carried out in either a dry or wet state, but in the dry state, it may cause adhesion of the surface fibers to the roll and fusion of only the surface part. It is preferably performed in a wet state. In the wet state, the thermal conductivity is higher than that in the dry state, and as a result, the entire polishing cloth can be compressed uniformly, which is preferable.

本発明の複合繊維構造体からなる研磨布にさらに補強層を接着する方法としては、熱圧着法、フレームラミ法、補強層とシート状物との間に接着層を設けるいずれの方法を採用してもよく、接着層としては、ポリウレタン、スチレンブタジエンゴム(SBR)、ニトリルブタジエン(NBR)、ポリアミノ酸およびアクリル系接着剤などゴム弾性を有するものが使用可能である。コストや実用性を考えると、NBRやSBRのような接着剤が好ましい。接着剤の付与方法としては、エマルジョンや、ラテックス状態でシート状物に塗布する方法が好適に用いられる。   As a method of further adhering the reinforcing layer to the polishing cloth comprising the composite fiber structure of the present invention, any method can be adopted, such as a thermocompression bonding method, a frame lamination method, or an adhesive layer provided between the reinforcing layer and the sheet-like material. As the adhesive layer, those having rubber elasticity such as polyurethane, styrene butadiene rubber (SBR), nitrile butadiene (NBR), polyamino acid and acrylic adhesive can be used. In view of cost and practicality, an adhesive such as NBR or SBR is preferable. As a method for applying the adhesive, an emulsion or a method of applying the adhesive to a sheet in a latex state is preferably used.

本発明の研磨布を用いて、研磨加工を行う方法としては、加工効率と安定性の観点から、研磨布を30〜50mm幅のテープ状にカットして、研磨加工用テープとして用いる。   As a method for performing polishing using the polishing cloth of the present invention, from the viewpoint of processing efficiency and stability, the polishing cloth is cut into a tape having a width of 30 to 50 mm and used as a polishing tape.

この研磨加工用加工テープと遊離砥粒を含むスラリーとを用いて、アルミニウム合金磁気記録ディスクまたはガラス磁気記録ディスクの研磨加工を行う方法、この加工テープと水系洗浄剤とを用いて前記ディスクのクリーニング加工が好適な方法である。研磨条件として、スラリーはダイヤモンド微粒子やコロイダルシリカなどの砥粒を水系分散媒に分散したものが好ましく用いられる。なお、砥粒の保持性と分散性の観点から、本発明の研磨布を構成する極細繊維に適合した1次砥粒径としては1〜200nmが好ましく、より好ましくは1〜100nmである。また、1次砥粒がクラスター化した2次粒子からなる砥粒を用いても良い。   A method of polishing an aluminum alloy magnetic recording disk or a glass magnetic recording disk using the polishing processing tape and a slurry containing free abrasive grains, and cleaning of the disk using the processing tape and an aqueous cleaning agent Processing is the preferred method. As a polishing condition, a slurry in which abrasive particles such as diamond fine particles and colloidal silica are dispersed in an aqueous dispersion medium is preferably used. In addition, from a viewpoint of the retainability and dispersibility of abrasive grains, the primary abrasive grain size suitable for the ultrafine fibers constituting the polishing cloth of the present invention is preferably 1 to 200 nm, more preferably 1 to 100 nm. Moreover, you may use the abrasive grain which consists of a secondary particle which the primary abrasive grain clustered.

以下、実施例により、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。また実施例で用いた評価法とその測定条件について、以下に説明する。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. The evaluation methods used in the examples and the measurement conditions will be described below.

(1)ポリマーの硫酸相対粘度
研磨布より細繊維成分以外の成分を溶解等により除去し、細繊維のみを取り出し、細繊維0.25gを直示天秤で精秤する(0.25±0.005g)。次いで精秤した試料を25mlの濃硫酸にて溶解し、試料溶液とする。次いで、25±0.5℃に昇温した恒温槽にセットされた粘度管(濃硫酸の落下秒数が100±20秒のもの)に、試料溶液を15ml注入した後、試料溶液の落下時間を測定する。この操作を3回繰り返し実施し、平均値Tを求める。同様の操作を、試料を溶解していない濃硫酸についても3回繰り返し実施し、平均値T0を求め、T/T0を硫酸相対粘度とする。
(1) Sulfuric acid relative viscosity of polymer The components other than the fine fiber component are removed from the polishing cloth by dissolution or the like, only the fine fiber is taken out, and 0.25 g of the fine fiber is precisely weighed with a direct balance (0.25 ± 0. 005g). Next, the precisely weighed sample is dissolved in 25 ml of concentrated sulfuric acid to obtain a sample solution. Next, 15 ml of the sample solution was injected into a viscosity tube (with a concentrated sulfuric acid falling time of 100 ± 20 seconds) set in a thermostat heated to 25 ± 0.5 ° C., and then the dropping time of the sample solution Measure. This operation is repeated three times to obtain an average value T. The same operation is repeated three times for concentrated sulfuric acid in which the sample is not dissolved, the average value T0 is determined, and T / T0 is defined as the sulfuric acid relative viscosity.

(2)平均繊維径
研磨布を厚み方向にカットした断面を観察面として走査型電子顕微鏡(SEM)、または透過型電子顕微鏡(TEM)により観察し、繊維300本の繊維径を有効数字3桁で測定し、これを母集団とした平均値を有効数字2桁で算出し、この平均値を平均繊維径とする。なお、繊維の断面形状が非円形である場合には、断面積を算出した後、同じ面積をもつ円の直径を繊維径とみなすものとする。
TEM装置 : (株)日立製作所製 H−7100FA型
SEM装置 : (株)キーエンス社製 VE−7800型
(3)目付
極細繊維および細繊維集合体それぞれについて、JIS L 1096 8.4.2(1999)に準拠して測定した。
(2) Average fiber diameter Using a scanning electron microscope (SEM) or transmission electron microscope (TEM) as an observation surface, a cross-section of the polishing cloth cut in the thickness direction is observed, and the fiber diameter of 300 fibers is 3 significant figures Then, the average value of this as a population is calculated with two significant figures, and this average value is taken as the average fiber diameter. When the cross-sectional shape of the fiber is non-circular, after calculating the cross-sectional area, the diameter of a circle having the same area is regarded as the fiber diameter.
TEM equipment: H-7100FA type SEM equipment manufactured by Hitachi, Ltd .: VE-7800 type, manufactured by Keyence Corporation (3) JIS L 1096 8.4.2 (1999) for each of the ultrafine fibers and the fine fiber aggregates ) And measured.

(4)見掛け密度
細繊度集合体の厚みをダイヤルシックネスゲージ((株)尾崎製作所製、商品名”ピーコックH”)にて任意の10点を測定し、平均値を算出した。(3)にて得られた目付を、厚みで除することにより、見掛け密度を有効数字2桁で算出した。
(4) Apparent density The thickness of the fineness aggregate was measured at 10 arbitrary points with a dial thickness gauge (manufactured by Ozaki Mfg. Co., Ltd., trade name “Peacock H”), and the average value was calculated. By dividing the basis weight obtained in (3) by the thickness, the apparent density was calculated with two significant figures.

(5)細繊維集合体層および高分子弾性体層の硬度
JIS K−6253Aの規定に基づき、大きさ7cm×7cmの試料片を10枚準備した。この中の一枚を高分子計器社のASKER A型硬度感知部を取付けたCL−150低圧荷重硬度計に取り付け、室温20℃、湿度60%下にて硬度を測定した。同様の方法にて計10枚の硬度を測定し、得られた試料硬度の平均値を細繊維集合体層、および高分子弾性体層の硬度として評価した。
(5) Hardness of Fine Fiber Assembly Layer and Polymer Elastic Body Layer Ten specimen pieces having a size of 7 cm × 7 cm were prepared based on the provisions of JIS K-6253A. One of them was attached to a CL-150 low-pressure load hardness meter equipped with an ASKER A-type hardness sensor from Kobunshi Keiki Co., Ltd., and the hardness was measured at room temperature of 20 ° C. and humidity of 60%. The hardness of 10 sheets in total was measured by the same method, and the average value of the obtained sample hardness was evaluated as the hardness of the fine fiber assembly layer and the polymer elastic body layer.

(6)基板表面粗さ
原子間力顕微鏡AFM(Digital Instruments社製NanoScope IIIaAFM Dimension3000ステージシステム)を用いて、研磨加工後のディスク基板サンプル5枚の両面、すなわち計10表面の各々について、任意の10カ所(1カ所あたりの観察領域はディスク表面上の径方向5μm×周方向5μmの領域である)を抽出した。次いで、この10カ所の各々について1点、ディスクの厚み方向における横軸を径方向とした断面プロファイルを任意に抽出し、得られた断面プロファイル各々について、JIS B 0601(2001年版)に準拠して、算術平均粗さRaを算出する。得られた10表面×10点=合計100点の測定値を平均することにより基板表面粗さを算出した。数値が低いほど高性能であることを示す。
(6) Substrate Surface Roughness Using an atomic force microscope AFM (NanoScope IIIaAFM Dimension 3000 stage system manufactured by Digital Instruments), any number of 10 surfaces on each side of five disk substrate samples after polishing, that is, a total of 10 surfaces Two areas (the observation area per area is an area of 5 μm in the radial direction on the disk surface × 5 μm in the circumferential direction) were extracted. Next, a cross-sectional profile with one point for each of these 10 locations and a cross-sectional profile with the horizontal axis in the thickness direction of the disk as a radial direction is arbitrarily extracted, and each of the obtained cross-sectional profiles conforms to JIS B 0601 (2001 edition). The arithmetic average roughness Ra is calculated. The substrate surface roughness was calculated by averaging the measured values of the obtained 10 surfaces × 10 points = total 100 points. The lower the value, the higher the performance.

(7)スクラッチ点数
研磨加工後の基板5枚の両面、すなわち計10表面の全領域を測定対象として、Candela5100光学表面分析計を用いて、深さ2nm以上の溝をスクラッチとし、スクラッチ点数を測定し、10表面の測定値の平均値で評価した。数値が低いほど高性能であることを示す。
(7) Scratch point Using both Candela 5100 optical surface analyzer as a measurement object, measure the scratch point by using a Candela 5100 optical surface analyzer on both surfaces of 5 substrates after polishing, that is, the total area of 10 surfaces. And it evaluated by the average value of the measured value of 10 surfaces. The lower the value, the higher the performance.

(実施例1)
(極細繊維集合体層の作製)
室温(25℃)にて、N6試薬を15wt%濃度でギ酸溶媒に溶解させた。これを紡糸溶液として用い、静電紡糸法により、内径が0.5mmのステンレス製ノズルを使用し、電圧20kVにて電界を作用させ、表面に導電フッ素加工を施したステンレス薄板を取付けたドラムに、紡糸距離15cmにて紡出し、極細繊維を集積させて極細繊維集合体層を形成した。この極細繊維集合体層の作製において、紡糸空間の相対湿度は30%に設定した。
Example 1
(Preparation of extra-fine fiber assembly layer)
At room temperature (25 ° C.), N6 reagent was dissolved in a formic acid solvent at a concentration of 15 wt%. Using this as a spinning solution, by using an electrospinning method, a stainless steel nozzle having an inner diameter of 0.5 mm is used, and an electric field is applied at a voltage of 20 kV, and a stainless steel plate with conductive fluorine processing applied to the surface is attached to the drum. Spinning was performed at a spinning distance of 15 cm, and ultrafine fibers were accumulated to form an ultrafine fiber assembly layer. In the production of this ultrafine fiber assembly layer, the relative humidity of the spinning space was set to 30%.

得られたN6からなる極細繊維の繊維径は平均で0.13μmであり、極細繊維がランダムな方向で重なり合った網目状となっていた。極細繊維集合体の目付は0.30g/mであった。 The obtained ultrafine fibers made of N6 had an average fiber diameter of 0.13 μm, and had a mesh shape in which the ultrafine fibers overlapped in random directions. The basis weight of the ultrafine fiber assembly was 0.30 g / m 2 .

(細繊維集合体層の作製)
島成分として硫酸相対粘度2.63のN6、海成分として2−エチルヘキシルアクリレートを22%共重合したポリスチレン(温度220℃、オリフィスサイズ2.0955mmφ×8mm、荷重2160g下でのメルトインデックスが15g/10min、軟化点温度が60℃のもの)を用い、N6、ポリスチレンともに275℃でそれぞれプレッシャーメルターにて溶融し、口金温度285℃にて、島本数200島/ホールの高分子相互配列体方式の海島型複合口金を用いて、島/海重量比率60/40にて紡糸速度1200m/分にて溶融紡糸した後、液浴中で3.0倍に延伸、捲縮、カットを経て、繊度4.0dtexの海島型複合繊維の原綿を得た。
この海島型複合繊維の原綿を用いて、カード、クロスラッパー工程を経て積層ウェブを形成し、ついで1バーブのニードルを植込んだニードルパンチ機にて針深度8mmにて1500本/cmのパンチ本数でニードルパンチし、目付640g/m、密度0.23g/cmの複合繊維不織布を作製した。この不織布を95℃で熱水収縮させた後、ポリビニルアルコールを繊維重量に対し20重量%付与後、乾燥させた後、トリクロロエチレンにて海成分であるポリスチレンを溶解除去した後、乾燥させ、目付460g/m、厚み1.70mm、見掛け密度0.27g/cm、硬度45°の細繊維集合体を得た。得られた細繊維集合体層の平均繊維径は1.2μmであった。
(Preparation of fine fiber assembly layer)
Polystyrene with 22% copolymerization of N6 with sulfuric acid relative viscosity 2.63 as island component and 2-ethylhexyl acrylate as sea component (temperature 220 ° C., orifice size 2.0955 mmφ × 8 mm, melt index under load 2160 g is 15 g / 10 min) N6 and polystyrene are melted in a pressure melter at 275 ° C., respectively, and the number of islands is 200 islands / hole. Using a compound die, melt spinning at an island / sea weight ratio of 60/40 at a spinning speed of 1200 m / min, drawing, crimping and cutting 3.0 times in a liquid bath, a fineness of 4. A raw material cotton of 0 dtex sea-island type composite fiber was obtained.
Using this raw material of sea-island type composite fiber, a laminated web is formed through a card and cross wrapping process, and then punched at 1500 needles / cm 2 at a needle depth of 8 mm using a needle punch machine in which a 1 barb needle is implanted. Needle punching was performed with the number of fibers to produce a composite fiber nonwoven fabric having a basis weight of 640 g / m 2 and a density of 0.23 g / cm 3 . This non-woven fabric was subjected to hot water shrinkage at 95 ° C., and then 20 wt% of polyvinyl alcohol was added to the fiber weight, followed by drying. After dissolving and removing polystyrene, which is a sea component, with trichloroethylene, it was dried to a weight of 460 g. / M 2 , a thickness of 1.70 mm, an apparent density of 0.27 g / cm 3 , and a fine fiber aggregate having a hardness of 45 ° were obtained. The average fiber diameter of the obtained fine fiber assembly layer was 1.2 μm.

(研磨布の作製)
前記細繊維集合体層1枚上に、前記極細繊維集合体層を4枚積層し、湿潤状態でフラットロールを用い温度120℃、線圧10kg/cm、加工速度2m/分にて過熱圧縮を行い、目付495g/m、厚み1.40mm、見掛け密度0.35g/cmの研磨布を得た。
(Production of polishing cloth)
Four ultrafine fiber aggregate layers are laminated on one fine fiber aggregate layer, and are heated and compressed using a flat roll in a wet state at a temperature of 120 ° C., a linear pressure of 10 kg / cm, and a processing speed of 2 m / min. Then, a polishing cloth having a basis weight of 495 g / m 2 , a thickness of 1.40 mm, and an apparent density of 0.35 g / cm 3 was obtained.

(研磨性能評価)
研磨布を40mm幅のテープとし、以下の条件で研磨加工を行った。
アルミニウム基板にNi−Pメッキ処理した後、ポリッシング加工し平均表面粗さ0.2nmに制御したディスクを用い、研磨布表面に1次粒子径10〜100nmのコロイダルシリカの遊離砥粒スラリーを滴下し、テープ走行速度を5cm/分の条件で30秒間研磨を実施した。尚、研磨加工は各ディスクの両面について前記条件にて研磨を実施した。
(Polishing performance evaluation)
A polishing cloth was used as a tape having a width of 40 mm, and polishing was performed under the following conditions.
After a Ni-P plating treatment is applied to an aluminum substrate, a free abrasive slurry of colloidal silica having a primary particle diameter of 10 to 100 nm is dropped onto the surface of the polishing cloth using a disk that is polished and controlled to an average surface roughness of 0.2 nm. The polishing was performed for 30 seconds under the condition of the tape running speed of 5 cm / min. The polishing process was performed on both sides of each disk under the above conditions.

研磨加工後のディスクは、表面粗さが0.12nm、スクラッチ点数は10であり、略同心円状のテクスチャー痕が形成されていない平滑性に優れた加工面であり、加工性も良好であった。また、研磨加工後に磁性層を成膜した基板は、電磁変換特性に極めて優れるものであった。   The polished disc had a surface roughness of 0.12 nm, a scratch score of 10, a processed surface excellent in smoothness with no substantially concentric texture marks formed, and good workability. . Moreover, the substrate on which the magnetic layer was formed after the polishing process was extremely excellent in electromagnetic conversion characteristics.

(実施例2)
(細繊維集合体層の作製)
実施例1にて作製した細繊維不織布に、ポリウレタン(ポリマージオールのポリエステル:ポリエーテル比率が75:25)を12%に調整したDMF溶液に含浸、ニップロールで窄液し、繊維重量に対して固形分で25重量%のポリウレタンを付与し、液温35℃の30%DMF水溶液でポリウレタンを凝固させ、約85℃の熱水でDMFを除去し、乾燥することで、目付505g/m、厚み1.50mm、見掛け密度0.34g/cm、硬度40°の細繊維集合体を得た。
(Example 2)
(Preparation of fine fiber assembly layer)
The fine fiber nonwoven fabric produced in Example 1 was impregnated with 12% DMF solution of polyurethane (polyester of polymer diol: polyether ratio: 75:25), squeezed with a nip roll, and solid with respect to the fiber weight. 25% by weight of polyurethane is applied per minute, the polyurethane is solidified with 30% DMF aqueous solution at a liquid temperature of 35 ° C., DMF is removed with hot water at about 85 ° C., and dried, resulting in a basis weight of 505 g / m 2 , thickness A fine fiber aggregate having a density of 1.50 mm, an apparent density of 0.34 g / cm 3 , and a hardness of 40 ° was obtained.

(研磨布の作製)
前記細繊維集合体層1枚上に、実施例1にて作製した極細繊維集合体層を4枚積層し、実施例1と同一の条件にて過熱圧縮を行い、目付530g/m、厚み1.44mm、見掛け密度0.37g/cmの研磨布を得た。
(Production of polishing cloth)
Four ultrafine fiber aggregate layers produced in Example 1 are laminated on one fine fiber aggregate layer, and overheated compression is performed under the same conditions as in Example 1, with a basis weight of 530 g / m 2 and a thickness. A polishing cloth having a diameter of 1.44 mm and an apparent density of 0.37 g / cm 3 was obtained.

(研磨性能評価)
研磨布を40mm幅のテープとし、実施例1と同一の条件で研磨加工を行った。研磨加工後のディスクは、表面粗さが0.10nm、スクラッチ点数は5であり、略同心円状のテクスチャー痕が形成されていない平滑性に優れた加工面であり、加工性も良好であった。細繊維構造体にポリウレタンを含浸することでクッション性が良好となり、性能が向上した。また、研磨加工後に磁性層を成膜した基板は、電磁変換特性に極めて優れるものであった。
(Polishing performance evaluation)
The polishing cloth was made into a tape having a width of 40 mm, and polishing was performed under the same conditions as in Example 1. The polished disk had a surface roughness of 0.10 nm, a scratch score of 5, a processed surface with excellent smoothness with no substantially concentric texture marks formed, and good workability. . By impregnating the fine fiber structure with polyurethane, the cushioning property was improved and the performance was improved. Moreover, the substrate on which the magnetic layer was formed after the polishing process was extremely excellent in electromagnetic conversion characteristics.

(実施例3)
(研磨布の作製)
エステル系ポリウレタン(株式会社ミスミ製”MUR−200”)(硬度40°)上に、実施例1で作製した極細繊維集合体層6枚を、アクリル系粘着剤を厚さ30μmとなるように塗布して貼り合せを行い、実施例1で用いたフラットロールにて加熱圧縮を行い、研磨布を得た。
(Example 3)
(Production of polishing cloth)
On the ester polyurethane (Misumi Co., Ltd. “MUR-200”) (hardness 40 °), 6 ultrafine fiber assembly layers prepared in Example 1 were coated with an acrylic adhesive to a thickness of 30 μm. Then, they were bonded together and heated and compressed with the flat roll used in Example 1 to obtain an abrasive cloth.

(研磨性能評価)
研磨布を40mm幅のテープとし、実施例1と同一の条件で研磨加工を行った。研磨加工後のディスクは、表面粗さが0.15nm、スクラッチ点数は19であり、略同心円状のテクスチャー痕が形成されていない平滑性に優れた加工面であり、加工性も良好であった。また、研磨加工後に磁性層を成膜した基板は、電磁変換特性に極めて優れるものであった。クッション層を積層することで研磨性能が向上した。
(Polishing performance evaluation)
The polishing cloth was made into a tape having a width of 40 mm, and polishing was performed under the same conditions as in Example 1. The disk after polishing had a surface roughness of 0.15 nm, a scratch score of 19, a processed surface excellent in smoothness with no substantially concentric texture marks formed, and good workability. . Moreover, the substrate on which the magnetic layer was formed after the polishing process was extremely excellent in electromagnetic conversion characteristics. Polishing performance improved by laminating a cushion layer.

(実施例4)
(極細繊維集合体層の作製)
室温(25℃)にて、数平均分子量16万のポリアクリロニトリルを10wt%濃度でジメチルホルムアミド溶媒に溶解させた。これを紡糸溶液として用い、静電紡糸法により、実施例1と同様にして極細繊維不織布を作製した。
Example 4
(Preparation of extra-fine fiber assembly layer)
At room temperature (25 ° C.), polyacrylonitrile having a number average molecular weight of 160,000 was dissolved in a dimethylformamide solvent at a concentration of 10 wt%. Using this as a spinning solution, an ultrafine fiber nonwoven fabric was produced in the same manner as in Example 1 by an electrostatic spinning method.

得られたポリアクリロニトリルからなる極細繊維の繊維径は平均で0.14μmであり、極細繊維がランダムな方向で重なり合った網目状となっていた。極細繊維集合体の目付は0.30g/mであった。 The fiber diameter of the obtained ultrafine fiber made of polyacrylonitrile was 0.14 μm on average, and it was a network in which the ultrafine fibers overlapped in random directions. The basis weight of the ultrafine fiber assembly was 0.30 g / m 2 .

(研磨布の作製)
実施例2にて作製した細繊維集合体層1枚上に、前記極細繊維集合体層を4枚積層し、湿潤状態でフラットロールを用いて実施例1と同様の方法にて、目付533g/m、厚み1.40mm、見掛け密度0.38g/cmの研磨布を得た。
(Production of polishing cloth)
Four ultrafine fiber aggregate layers were laminated on one fine fiber aggregate layer produced in Example 2, and the basis weight was 533 g / min in the same manner as in Example 1 using a flat roll in a wet state. An abrasive cloth having m 2 , thickness of 1.40 mm, and apparent density of 0.38 g / cm 3 was obtained.

(研磨性能評価)
研磨布を40mm幅のテープとし、実施例1と同一の条件で研磨加工を行った。研磨加工後のディスクは、表面粗さが0.10nm、スクラッチ点数は6であり、略同心円状のテクスチャー痕が形成されていない平滑性に優れた加工面であり、加工性も良好であった。また、研磨加工後に磁性層を成膜した基板は、電磁変換特性に極めて優れるものであった。
(Polishing performance evaluation)
The polishing cloth was made into a tape having a width of 40 mm, and polishing was performed under the same conditions as in Example 1. The polished disc had a surface roughness of 0.10 nm, a scratch score of 6, a smooth processed surface on which substantially concentric texture marks were not formed, and good workability. . Moreover, the substrate on which the magnetic layer was formed after the polishing process was extremely excellent in electromagnetic conversion characteristics.

(比較例1)
(研磨布の作製)
実施例2にて作製した細繊維集合体層を用い、厚み方向に半裁した後、サンドペーパー番手が240番のエンドレスサンドペーパーを用いて、非スライス面に対し、3段バッフィングを施して立毛面を形成させて立毛シート状物を作製した。該立毛シート状物を研磨布とし、厚さ0.56mm、目付190g/m、見掛け密度0.34g/cmの研磨布を作製した。
(Comparative Example 1)
(Production of polishing cloth)
Using the fine fiber assembly layer produced in Example 2 and half-cutting in the thickness direction, the napped surface is subjected to three-stage buffing on the non-sliced surface using an endless sandpaper with a sandpaper count of 240 To form a napped sheet-like material. The napped sheet was used as an abrasive cloth, and an abrasive cloth having a thickness of 0.56 mm, a basis weight of 190 g / m 2 , and an apparent density of 0.34 g / cm 3 was produced.

(研磨性能評価)
研磨布を40mm幅のテープとし、実施例1と同一の条件にて研磨性能評価を行った。研磨加工後のディスクは、表面粗さが0.22nm、スクラッチ点数は45であり、平滑性に優れた加工面であり、加工性に問題はなかったものの、略同心円状にテクスチャー痕が残るものであった。研磨加工後に磁性層を成膜した基板は、電磁変換特性に劣るものであった。
(Polishing performance evaluation)
Polishing performance was evaluated under the same conditions as in Example 1 except that the polishing cloth was a 40 mm wide tape. The polished disc has a surface roughness of 0.22 nm and a scratch score of 45, and is a processed surface with excellent smoothness, which has no problem in workability, but has texture marks that are substantially concentric. Met. The substrate on which the magnetic layer was formed after polishing was inferior in electromagnetic conversion characteristics.

(比較例2)
(細繊維集合体層の作製)
硫酸相対粘度0.716のPETを用い、295℃でプレッシャーメルターにて溶融し、口金温度295℃にて、紡糸速度1200m/分にて溶融紡糸した後、液浴中で3.0倍に延伸、捲縮、カットを経て原綿を得た。
(Comparative Example 2)
(Preparation of fine fiber assembly layer)
Using PET with sulfuric acid relative viscosity 0.716, melted in a pressure melter at 295 ° C, melt spun at a die temperature of 295 ° C at a spinning speed of 1200 m / min, and then stretched 3.0 times in a liquid bath The raw cotton was obtained through crimping and cutting.

この原綿を用いて、カード、クロスラッパー工程を経て積層ウェブを形成し、ついで1バーブのニードルを植込んだニードルパンチ機にて針深度8mmにて1500本/cmのパンチ本数でニードルパンチし、ポリウレタン(ポリマージオールのポリエステル:ポリエーテル比率が75:25)を13%に調整したDMF溶液に含浸、ニップロールで窄液し、繊維重量に対して固形分で30重量%のポリウレタンを付与し、液温35℃の30%DMF水溶液でポリウレタンを凝固させ、約85℃の熱水でDMFを除去し、厚み方向に圧縮、乾燥することで、目付590g/m、厚み1.64mm、密度0.36g/cm、硬度47°の細繊維集合体を作製した。得られた細繊維集合体層の平均繊維径は13.6μmであった。 Using this raw cotton, a laminated web is formed through a card and cross wrapping process, and then needle punched at a punch number of 1500 / cm 2 at a needle depth of 8 mm with a needle punch machine in which a needle of 1 barb is implanted. , Impregnated with 13% DMF solution of polyurethane (polyester of polymer diol: polyether ratio: 75:25), squeezed with a nip roll to give 30% by weight of polyurethane with solid content to fiber weight, Polyurethane is solidified with a 30% DMF aqueous solution at a liquid temperature of 35 ° C., DMF is removed with hot water at about 85 ° C., compressed in the thickness direction, and dried to have a basis weight of 590 g / m 2 , a thickness of 1.64 mm, and a density of 0 A fine fiber aggregate having a hardness of .36 g / cm 3 and a hardness of 47 ° was produced. The average fiber diameter of the obtained fine fiber assembly layer was 13.6 μm.

(研磨布の作製)
前記細繊維集合体層1枚上に、実施例1にて作製した極細繊維集合体層を4枚積層し、実施例1と同一の条件にて過熱圧縮を行い、目付600g/m、厚み1.61mm、見掛け密度0.37g/cmの研磨布を得た。
(Production of polishing cloth)
Four ultrafine fiber aggregate layers prepared in Example 1 are laminated on one fine fiber aggregate layer, and overheated compression is performed under the same conditions as in Example 1, with a basis weight of 600 g / m 2 and a thickness. A polishing cloth having a diameter of 1.61 mm and an apparent density of 0.37 g / cm 3 was obtained.

(研磨性能評価)
研磨布を40mm幅のテープとし、実施例1と同一の条件にて研磨性能評価を行った。研磨加工後のディスクは、表面粗さが0.25nm、スクラッチ点数は94であった。繊維径10μm以上の繊維構造体と積層したため、研磨時に13.6μmの繊維が一部表面に露出して研磨に寄与することで砥粒の押付圧が高くなりすぎ、スクラッチ欠点が多く発生した。また、研磨加工後に磁性層を成膜した基板は、電磁変換特性に劣るものであった。
(Polishing performance evaluation)
Polishing performance was evaluated under the same conditions as in Example 1 except that the polishing cloth was a 40 mm wide tape. The polished disk had a surface roughness of 0.25 nm and a scratch score of 94. Since a fiber structure having a fiber diameter of 10 μm or more was laminated, a part of 13.6 μm fibers was exposed to the surface during polishing and contributed to the polishing, so that the pressing pressure of the abrasive grains became too high and many scratch defects occurred. In addition, the substrate on which the magnetic layer was formed after polishing was inferior in electromagnetic conversion characteristics.

(比較例3)
(研磨布の作製)
エステル系ポリウレタン(株式会社ミスミ製”MUR−200”)(硬度70°)上に、実施例1で作製した極細繊維集合体層6枚を、アクリル系粘着剤を厚さ30μmとなるように塗布して貼り合せを行い、実施例1で用いたフラットロールにて加熱圧縮を行い、研磨布を得た。
(Comparative Example 3)
(Production of polishing cloth)
On the ester-based polyurethane ("MUR-200" manufactured by MISUMI Corporation) (hardness 70 °), the 6 ultrafine fiber assembly layers prepared in Example 1 were applied so that the acrylic pressure-sensitive adhesive had a thickness of 30 µm. Then, they were bonded together and heated and compressed with the flat roll used in Example 1 to obtain an abrasive cloth.

(研磨性能評価)
研磨布を40mm幅のテープとし、実施例1と同一の条件にて研磨性能評価を行った。研磨加工後のディスクは、表面粗さが0.28nm、スクラッチ点数は86であった。硬度の高い高分子弾性体層と積層したことで、押付圧が高くなりすぎ、結果として表面粗さが高く、スクラッチ欠点が多く発生した。また、研磨加工後に磁性層を成膜した基板は、電磁変換特性に劣るものであった。
(Polishing performance evaluation)
Polishing performance was evaluated under the same conditions as in Example 1 except that the polishing cloth was a 40 mm wide tape. The disc after polishing had a surface roughness of 0.28 nm and a scratch score of 86. By laminating with a polymer elastic body layer having high hardness, the pressing pressure becomes too high, resulting in high surface roughness and many scratch defects. In addition, the substrate on which the magnetic layer was formed after polishing was inferior in electromagnetic conversion characteristics.

Claims (6)

静電紡糸法により製造された、平均繊維径が1.0nm〜1.0μmの極細繊維構造体と、平均繊維径が0.50〜10μmの細繊維構造体が積層した複合繊維構造体とからなることを特徴とする研磨布。   From an ultrafine fiber structure having an average fiber diameter of 1.0 nm to 1.0 μm and a composite fiber structure in which fine fiber structures having an average fiber diameter of 0.50 to 10 μm are laminated manufactured by an electrostatic spinning method A polishing cloth characterized by comprising: 静電紡糸法により製造された、平均繊維径が1.0nm〜1.0μmの極細繊維構造体と、高分子弾性体層が積層した複合構造体とからなることを特徴とする研磨布。   A polishing cloth comprising an ultrafine fiber structure having an average fiber diameter of 1.0 nm to 1.0 μm and a composite structure obtained by laminating a polymer elastic body layer, which is produced by an electrostatic spinning method. 前記複合繊維構造体が、高分子弾性体を含むことを特徴とする請求項1に記載の研磨布。   The abrasive cloth according to claim 1, wherein the composite fiber structure includes a polymer elastic body. 前記高分子弾性体がポリウレタンであることを特徴とする請求項2または3に記載の研磨布。   The abrasive cloth according to claim 2 or 3, wherein the polymer elastic body is polyurethane. 前記細繊維構造体および高分子弾性体の表面が、JIS K−6253Aに基づいて測定される硬度が30〜60°であることを特徴とする、請求項2〜4のいずれかに記載の研磨布。   The polishing according to any one of claims 2 to 4, wherein the surface of the fine fiber structure and the elastic polymer body has a hardness measured according to JIS K-6253A of 30 to 60 °. cloth. 片面に補強層が積層されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の研磨布。   The polishing cloth according to any one of claims 1 to 5, wherein a reinforcing layer is laminated on one side.
JP2007100136A 2007-04-06 2007-04-06 Polishing cloth Expired - Fee Related JP5029104B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007100136A JP5029104B2 (en) 2007-04-06 2007-04-06 Polishing cloth

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007100136A JP5029104B2 (en) 2007-04-06 2007-04-06 Polishing cloth

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008254136A true JP2008254136A (en) 2008-10-23
JP5029104B2 JP5029104B2 (en) 2012-09-19

Family

ID=39978240

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007100136A Expired - Fee Related JP5029104B2 (en) 2007-04-06 2007-04-06 Polishing cloth

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5029104B2 (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010102236A (en) * 2008-10-27 2010-05-06 Teijin Fibers Ltd Manufacturing method for sound-absorbing structure, and the sound-absorbing structure
JP2010201530A (en) * 2009-03-02 2010-09-16 Fujibo Holdings Inc Polishing pad
JP2010247269A (en) * 2009-04-15 2010-11-04 Teijin Techno Products Ltd Abrasive material
JP2011031362A (en) * 2009-08-05 2011-02-17 Toray Ind Inc Polishing cloth
WO2015008572A1 (en) * 2013-07-19 2015-01-22 国立大学法人名古屋工業大学 Metallic polishing pad and production method therefor

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03161502A (en) * 1989-11-20 1991-07-11 I C I Japan Kk Production of electrostatic spun yarn
JP2004118893A (en) * 2002-09-24 2004-04-15 Toray Ind Inc Cleaning card for card equipment
JP2005074609A (en) * 2003-09-03 2005-03-24 Toray Ind Inc Polishing cloth and texture machining method using the same
JP2005074577A (en) * 2003-09-01 2005-03-24 Toray Ind Inc Polishing cloth
JP2005329534A (en) * 2004-04-21 2005-12-02 Toray Ind Inc Polishing cloth
JP2006152531A (en) * 2002-10-23 2006-06-15 Toray Ind Inc Nanofiber aggregate

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03161502A (en) * 1989-11-20 1991-07-11 I C I Japan Kk Production of electrostatic spun yarn
JP2004118893A (en) * 2002-09-24 2004-04-15 Toray Ind Inc Cleaning card for card equipment
JP2006152531A (en) * 2002-10-23 2006-06-15 Toray Ind Inc Nanofiber aggregate
JP2005074577A (en) * 2003-09-01 2005-03-24 Toray Ind Inc Polishing cloth
JP2005074609A (en) * 2003-09-03 2005-03-24 Toray Ind Inc Polishing cloth and texture machining method using the same
JP2005329534A (en) * 2004-04-21 2005-12-02 Toray Ind Inc Polishing cloth

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010102236A (en) * 2008-10-27 2010-05-06 Teijin Fibers Ltd Manufacturing method for sound-absorbing structure, and the sound-absorbing structure
JP2010201530A (en) * 2009-03-02 2010-09-16 Fujibo Holdings Inc Polishing pad
JP2010247269A (en) * 2009-04-15 2010-11-04 Teijin Techno Products Ltd Abrasive material
JP2011031362A (en) * 2009-08-05 2011-02-17 Toray Ind Inc Polishing cloth
WO2015008572A1 (en) * 2013-07-19 2015-01-22 国立大学法人名古屋工業大学 Metallic polishing pad and production method therefor
CN105556642A (en) * 2013-07-19 2016-05-04 国立大学法人名古屋工业大学 Metallic polishing pad and production method therefor
US9815170B2 (en) 2013-07-19 2017-11-14 Nagoya Institute Of Technology Metallic abrasive pad and method for manufacturing same

Also Published As

Publication number Publication date
JP5029104B2 (en) 2012-09-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101872552B1 (en) Polishing pad
EP1757406B1 (en) Abrasive cloth and method for preparing nano-fiber structure
TW491757B (en) Abrasive sheet for texturing and method of producing same
JP4736514B2 (en) Polishing cloth
JP4645361B2 (en) Polishing cloth
US20100129592A1 (en) Polishing cloth and production method thereof
WO2012029547A1 (en) Polishing cloth and method for producing same
JP5810802B2 (en) Polishing cloth
JP5029104B2 (en) Polishing cloth
JP2008155359A (en) Abrasive cloth for mirror-finishing glass substrate and manufacturing method thereof
JP2009083093A (en) Polishing cloth
JP2008144287A (en) Polishing cloth and method for producing the same
JP2004130395A (en) Abrasive cloth for glass texture working, and method of manufacturing magnetic recording medium using the same
JP5341447B2 (en) Textured polishing cloth
JP2008173759A (en) Abrasive cloth and its manufacturing method
JP2013169627A (en) Polishing pad substrate
JP5032472B2 (en) Abrasive cloth for precision processing
JP2007283420A (en) Abrasive cloth
JP5510151B2 (en) Abrasive cloth and method for producing the same
JP5453710B2 (en) Sheet
JP4457758B2 (en) Washed cloth
JP2007308829A (en) Abrasive cloth
JP2009066749A (en) Abrasive cloth and method for manufacturing the same
JP5029040B2 (en) Sheet material and method for producing the same
JP2009090454A (en) Method for producing abrasive cloth

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100324

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120510

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120529

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120611

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5029104

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150706

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees