JP2008241959A - Liquid crystal display - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は液晶表示装置に係り、特に位相差膜を有する液晶表示装置に関する。 The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a liquid crystal display device having a retardation film.
図5に従来の半透過型液晶表示装置750を説明する平面図を示す。液晶表示装置750では、ブラックマトリクス912の各開口部が画素760に対応する。各画素760は透過領域762と反射領域764とを有している。画素760内における両領域762,764の配置位置関係はいずれの画素760についても同じであり、図5では各画素760において透過領域762よりも反射領域764の方が図示の上方に位置する場合を示している。
FIG. 5 is a plan view for explaining a conventional transflective liquid
各反射領域764には内蔵位相差膜920が設けられている。なお、図5は内蔵位相差膜920が設けられた基板を当該膜920側すなわち液晶層側から見た平面図である。位相差膜920は、マトリクス配列された画素760の各行ごとに設けられ、行方向に延在している。このとき、位相差膜920は、行方向に配列された各画素760の反射領域764を横断している。
Each
位相差膜920は膜厚の制御によって、その位相差量を調整できる。内蔵位相差膜920は例えば特許文献1に記載された方法によって形成可能である。例えば液晶を含んだ紫外線硬化性樹脂を利用して内蔵位相差膜920を形成することができる。このとき、紫外線の照射部分を選定することによって、位相差膜920を所望のパターンに形成することができる。
The phase difference amount of the
上記形成方法によると内蔵位相差膜920の縁部920bがテーパー状に形成される場合があることが分かった。テーパー状の縁部920bは、一定膜厚の平坦な中央部920aよりも薄いので、当該縁部920bでは中央部920aと同様の光学特性が得られない。その結果、例えば縁部920bで光漏れが生じてコントラストが低下してしまう。反射領域764の面積が小さい場合、中央部920aよりもテーパー状の縁部920bが占める割合が大きくなり、コントラスト低下は大きくなる。
According to the above formation method, it has been found that the
本発明の目的は、位相差膜を有する液晶表示装置について良好な表示品位が得られる液晶表示装置を提供することである。 An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device capable of obtaining good display quality for a liquid crystal display device having a retardation film.
本発明に係る液晶表示装置は、一対の基板と、前記一対の基板の間に挟持された液晶層と、それぞれ反射領域および透過領域を有する複数の画素を含む表示領域と、を備えた液晶表示装置であって、前記一対の基板の少なくとも一方の基板に設けられ延在した複数の位相差膜を備え、前記位相差膜は延在した方向と交差する方向に隣接する画素にまたがって形成されていることを特徴とする。上記構成によれば、平坦部(膜厚一定部分)の広い位相差膜が得られる。このため、良好な表示品位が得られる。 A liquid crystal display device according to the present invention includes a pair of substrates, a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates, and a display region including a plurality of pixels each having a reflective region and a transmissive region. An apparatus comprising a plurality of retardation films provided on and extending at least one of the pair of substrates, wherein the retardation films are formed across adjacent pixels in a direction crossing the extending direction. It is characterized by. According to the above configuration, a retardation film having a wide flat portion (a constant film thickness portion) can be obtained. For this reason, good display quality can be obtained.
前記位相差膜は前記反射領域に形成されていることが好ましい。 The retardation film is preferably formed in the reflection region.
前記一方の基板に設けられた遮光膜をさらに備え、前記遮光膜は前記位相差膜の縁部の少なくとも一部に対向して設けられていることが好ましい。上記構成によれば、位相差膜の縁部が遮光され、良好な表示品位が得られる。 It is preferable that a light-shielding film provided on the one substrate is further provided, and the light-shielding film is provided to face at least a part of the edge of the retardation film. According to the above configuration, the edge of the retardation film is shielded from light, and good display quality can be obtained.
前記液晶層の厚さを調整する層厚調整膜を有し、前記位相差膜は前記層厚調整膜に重畳して形成されていることが好ましい。 Preferably, the liquid crystal layer includes a layer thickness adjusting film that adjusts the thickness of the liquid crystal layer, and the retardation film is formed to overlap the layer thickness adjusting film.
前記一対の基板の一方の基板に前記液晶層に電圧を印加する第1電極および第2電極が形成されていることが好ましい。 It is preferable that a first electrode and a second electrode for applying a voltage to the liquid crystal layer are formed on one of the pair of substrates.
以下に図面を用いて本発明に係る実施の形態について詳細に説明する。 Embodiments according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
図1および図2に実施の形態に係る液晶表示装置50を説明する断面図および平面図をそれぞれ示す。図2中の1−1線における断面図が図1に対応する。図2では図1に図示した要素の一部を省略している。
1 and 2 are a sectional view and a plan view, respectively, for explaining a liquid
液晶表示装置50は、対向配置された一対の基板110,210と、当該一対の基板110,210の間に挟持された液晶層300とを含んでいる。基板110,210は、例えばガラス板等の透光性基板で構成可能である。基板110および基板210は以下に例示する種々の要素が設けられて素子基板100および対向基板200をそれぞれ構成する。このため、液晶層300は素子基板100と対向基板200との間に挟持されているとも捉えられる。液晶層300の厚さ、換言すれば基板100,200間の距離がセルギャップに対応する。なお、図2は対向基板200を液晶層300側から見た場合の平面図に対応し、複数の画素60が配列され画像等を表示する領域である表示領域の隅部を例示している。
The liquid
ここでは、液晶表示装置50がカラー表示用である場合を例示するが、白黒表示用に構成することも可能である。また、各画素60が赤(R)、緑(G)または青(B)のいずれかを表示するように構成されている場合を例示するが、画素60の表示色(色相)および表示色の数はこの例示に限定されるものではない。図2には同じ表示色の画素60が列方向に配列されている場合、すなわちストライプ配列を例示しているが、これに限定されるものではない。
Here, a case where the liquid
各画素60は透過領域62と反射領域64とを有している。透過領域62ではバックライト装置400からの出射光72を利用して表示を行い、反射領域64では外光を反射させ当該反射光74を利用して表示を行う。このとき、これらの表示光72,74は対応する領域62,64において着色・調光される。両領域62,64の面積比は、図示の例示に限られるものではなく、種々に設定可能である。図1には液晶表示装置50が素子基板110の外側にバックライト装置400を含む構成を例示している。
Each
ここでは透過領域62および反射領域64のいずれにもFFS(Fringe Field Switching)方式が適用される構成を例示するが、他の配向制御方式を適用することも可能である。また、領域62,64で配向制御方式を異ならせることも可能である。
Here, a configuration in which an FFS (Fringe Field Switching) method is applied to both the
図2の例示では、上から第1行目および第3行目の各画素60は透過領域62が反射領域64よりも図示の上方に位置する向きに配置され、第2行目および第4行目の各画素60は反射領域64が透過領域62よりも図示の上方に位置する向きに配置されている。この場合、同一行中の画素60は同じ向きに配列されており、透過領域62同士が隣接しかつ反射領域64同士が隣接している。これに対して、同一列中で互いに隣接する画素60は、反対向きに配列されている。図2の例示では、第1行目の画素60と第2行目の画素60とは互いの反射領域64が隣接し、第2行目の画素60と第3行目の画素60とは互いの透過領域62が隣接し、第3行目の画素60と第4行目の画素60とは互いの反射領域64が隣接している。各画素60の向きを図2の例示とは逆にすることも可能である。
In the illustration of FIG. 2, the
素子基板100は例えば、基板110の液晶層300側に、絶縁層112と、画素電極114と、反射層116と、絶縁層118と、共通電極120と、不図示の配向膜とを含んでいる。
The
絶縁層112は、基板110上に配置されており、酸化シリコン、窒化シリコン等の透光性の絶縁材料で構成可能である。絶縁層112中には不図示の画素TFT(Thin Film Transistor)等が作り込まれている。
The
画素電極114は、絶縁層112上に配置されており、ITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)等の透光性導電材料で構成可能である。画素電極114は各画素60に設けられており、ここでは透過領域62と反射領域64との両方に設けられている場合を例示する。画素電極114は不図示の画素TFT等と接続されている。これにより、当該画素TFTを介して、その画素60の表示に応じた電位が画素電極114に供給される。なお、トランジスタ以外の他のスイッチング素子を用いることも可能である。
The
反射層116は、各画素60の反射領域64内に設けられ、画素電極114上に配置されている。反射層116は外光(可視光)を反射可能な材料、例えばアルミニウム等で構成可能である。画素電極114が反射領域64内にも設けられている場合、反射層116は導電性材料と非導電性材料とのいずれによっても構成可能である。これに対して、反射層116を導電性材料、例えば上記のアルミニウムで構成する場合、画素電極114のうちで反射領域64内の部分を省略し当該部分を反射層116によって構成することも可能である。
The
絶縁層118は、反射層116上および画素電極114上に配置されており、酸化シリコン、窒化シリコン等の透光性の絶縁材料で構成可能である。
The insulating
共通電極120は、絶縁層118上に配置されている。すなわち、共通電極120と画素電極114とは絶縁層118を介して積層されている。共通電極120はITO、IZO等の透光性導電材料で構成可能である。ここでは、共通電極120が全ての画素60にまたがって配置され、これにより各画素60に共通電極120が設けられる場合を例示する。共通電極120によって各画素60に共通の電位が供給される。共通電極120には画素電極114に対向する位置にスリット122が設けられている。スリット122を通って電極114,120間に形成される電界(換言すれば電圧)が液晶層300に印加されることによって、液晶分子の配向が制御される。
The
なお、画素電極114はスリット122だけでなくスリット122に挟まれた共通電極120の電極部にも対向しており、これにより両電極120,114は絶縁層118を介して保持容量を構成している。
Note that the
不図示の配向膜は、液晶層300中の液晶分子の配向制御用の膜であり、共通電極120を覆って配置されている。当該配向膜の液晶層300側の表面はスリット122の長手方向に略平行に、例えば約5°〜10°傾いた方向にラビングされている。
The alignment film (not shown) is a film for controlling the alignment of the liquid crystal molecules in the
液晶表示装置50は、基板110の液晶層300とは反対側に、不図示の偏光板を含んでいる。なお、当該偏光板を素子基板100に含めることも可能である。
The liquid
対向基板200は例えば、基板210の液晶層300側に、遮光膜212と、カラーフィルタ214と、オーバーコート層216と、位相差膜用配向膜218(以下「RF用配向膜218」と呼ぶ)と、位相差膜220と、オーバーコート層222と、マルチギャップ層224と、不図示の配向膜とを含んでいる。
The
遮光膜212は、基板210上に配置されており、基板210よりも遮光性の高い材料、例えば黒色顔料を含有した各種樹脂等で構成可能である。遮光膜212の厚さは例えば1.5μmである。遮光膜212には画素60ごとに、画素電極114に対向して開口部が設けられている。ここでは複数の開口部がマトリクス状に設けられている。
The
カラーフィルタ214は、遮光膜212の各開口部に、すなわち各画素60に設けられており、基板210上に配置されている。各カラーフィルタ214の色(色相)は、その画素60の表示色(色相)に応じて選定されている。カラーフィルタ214の厚さは例えば2μmである。図1ではカラーフィルタ214が画素60ごとに分割された構成を例示しているが、隣接する画素60の表示色が同じ場合、それらの画素60にまたがってカラーフィルタ214を設けることも可能である。
The
オーバーコート層216は、遮光膜212上およびカラーフィルタ214上に配置されており、アクリル樹脂等の透光性の絶縁材料で構成可能である。オーバーコート層216の厚さは例えば2μmである。図1ではオーバーコート層216が平坦化膜として利用される場合を例示しており、オーバーコート層216はRF用配向膜218側に平坦面を有している。
The
RF用配向膜218はオーバーコート層216上に配置されており、RF用配向膜218上に複数の位相差膜220が配置されている。位相差膜220は各画素60の反射領域64に設けられている。位相差膜220は、反射表示光74の位相を透過表示光72との関係において調整するための膜である。位相差膜220における位相差量は例えば当該膜220の厚さの制御によって調整可能であり、これにより位相差膜220を例えば1/2波長板(2分の1波長板)、1/4波長板(4分の1波長板)等として機能させることができる。位相差膜220の厚さは例えば200nm〜400nmである。RF用配向膜218は、位相差膜220の遅相軸方向を規定する膜であり、図1では反射領域64および透過領域62に設けられた場合を例示している。
The
RF用配向膜218および位相差膜220は例えば次のようにして形成可能である。まず、オーバーコート層216上に水平配向性の配向膜材料を塗布し焼成およびラビング処理を順次施すことによって、RF用配向膜218を形成する。そして、光反応性のアクリル基を分子末端に有する液晶と反応開始剤とを含む有機溶媒をRF用配向膜218上に塗布し、加熱により有機溶媒を取り除く。このとき、上記光反応性液晶はRF用配向膜218のラビング方向に従って配向している。次に、上記光反応性液晶に紫外線を照射してアクリル基を光重合し成膜化することによって、位相差膜220が形成される。紫外線の未照射部分は各種薬液等によって除去する。紫外線の照射部分を選定することによって、位相差膜220を反射領域64に選択的に形成することができる。なお、RF用配向膜218および位相差膜220を上記例示以外の方法によって形成してもよい。例えば、RF用配向膜218を光配向材料で形成することもでき、この場合ラビングが不要である。
The
各位相差膜220は、ここでは行方向に延在し、行方向に配列された画素60にまたがって延在している。また、位相差膜220は、当該膜220の延在方向に交差する方向(ここでは直交する方向である列方向)に隣接した画素60にまたがって設けられている。特に画素60の互いに隣り合った反射領域64にまたがって、位相差膜220が設けられている。すなわち、位相差膜220は、行方向だけでなく列方向においても、隣接する反射領域64にまたがって設けられている。図2の例示では、上記のように第1行目の画素60と第2行目の画素60とで反射領域64が互いに隣り合っており、位相差膜220は当該隣り合った反射領域64にまたがっており、行方向に延在している。同様に、位相差膜220は、第3行目と第4行目にまたがって行方向に延在し、当該2行において列方向で隣り合う反射領域64にまたがっている。
Here, each
オーバーコート層222は、位相差膜220上およびRF用配向膜218上に配置されており、アクリル樹脂等の透光性の絶縁材料で構成可能である。オーバーコート層222の厚さは例えば2μmである。図1ではオーバーコート層222が平坦化膜として利用される場合を例示しており、オーバーコート層222はマルチギャップ層224側に平坦面を有している。
The
マルチギャップ層224は、オーバーコート層222上に配置されており、アクリル樹脂等の透光性の絶縁材料で構成可能である。各マルチギャップ層224は、反射領域64に設けられており、位相差膜220と同様の配置範囲に設けられている。すなわち、マルチギャップ層224と位相差膜220とは重畳して設けられている。マルチギャップ層224は、反射領域64の液晶層300の層厚すなわちセルギャップを調整する層厚調整膜である。例えば、反射領域64のセルギャップが透過領域62の半分になるように、マルチギャップ層224の厚さが設定されている。
The
不図示の配向膜は、液晶層300中の液晶分子の配向制御用の膜であり、マルチギャップ層224およびオーバーコート層222を覆って配置されている。当該配向膜の液晶層300側の表面は所定方向にラビングされている。
The alignment film (not shown) is a film for controlling the alignment of liquid crystal molecules in the
液晶表示装置50は、基板210の液晶層300とは反対側に、不図示の偏光板を含んでいる。なお、当該偏光板を対向基板200に含めることも可能である。
The liquid
透過領域62における表示は例えば、液晶分子の配向制御用の上記2つの配向膜のラビング方向と上記2つの偏光板の偏光軸方向との関係によって、ノーマリ・ブラック(Normaly Black)とノーマリ・ホワイト(Normaly White)とのいずれにも設計可能である。反射領域64における表示は、さらに位相差膜220による位相差量を調整することによって、透過領域62でのノーマリ・ブラックまたはノーマリ・ホワイトに合わせることが可能である。
The display in the
位相差膜220の上記形成方法によれば、位相差膜220の縁部220bがテーパー状に形成される場合がある。この場合、位相差膜220において縁部220bが平坦な中央部220aよりも薄くなり、両部分220a,220bで光学特性が異なってしまう。上記のように位相差膜220は隣接する2行にまたがって設けられている。このため、各行ごとに設けられた従来の位相差膜920(図5参照)に比べて、各画素60において膜厚が一定の中央部220aを広く得ることができる。また、従来の位相差膜920の場合、各画素760に位相差膜920の縁部920bが2箇所存在する(図5参照)。これに対して、位相差膜220によれば各画素60内に存在する縁部220bを1箇所に減らすことができる。したがって、位相差膜220によれば、各画素60内で縁部220bが占める割合が削減され、縁部220bの影響を低減して良好な表示品位が得られる。例えば縁部220bでの光漏れを低減してコントラストを向上させることができる。位相差膜220の適用は反射領域64が小さい場合、高精細を図る場合等において効果的である。
According to the method of forming the
図2では位相差膜220の端部(図示の左端部)が表示領域の最外周の画素60の縁部に揃っている場合を例示しているが、当該端部を最外周の画素60を超えて設けてもよい。この場合、最外周の画素60における縁部220bを減らすことができる。
FIG. 2 illustrates the case where the end portion (left end portion in the drawing) of the
ここで、図3の平面図に例示する液晶表示装置50Bのように、遮光膜212を位相差膜220がまたがった隣接画素60の間を通らないように設けてもよい。この遮光膜212によれば、各画素60の面積を広くすることができる。この場合、位相差膜220は上記隣接画素60の間の領域に縁部220bを有さないので、当該領域に遮光膜212を設けない構成であっても縁部220bによるコントラスト低下等を招くことがない。液晶表示装置50Bの残りの構成は例えば上記の液晶表示装置50(図1および図2参照)を適用可能である。
Here, as in the liquid
また、図4の断面図に例示する液晶表示装置50Cのように、遮光膜212を位相差膜220の縁部220bに対向する位置にも設けてもよい。このとき、縁部220bに対向する領域の全部に遮光膜212を設けてもよいし、当該対向領域の一部に遮光膜212を設けてもよい。この遮光膜212によれば例えば、位相差膜220の縁部220bでの光漏れが遮光され、コントラスト低下を防止することができる。これにより、良好な表示品位が得られる。液晶表示装置50Cの残りの構成は例えば上記の液晶表示装置50(図1および図2参照)を適用可能である。
Further, as in the liquid
図4では透過領域62と反射領域64とでカラーフィルタ214を分割した構成を例示しているが、各画素60のカラーフィルタ214を両領域62,64にまたがって設けることも可能である。また、隣接する画素60の表示色が同じ場合、それらの画素60にまたがってカラーフィルタ214を設けることも可能である。
Although FIG. 4 illustrates a configuration in which the
また、液晶表示装置50B,50Cの各遮光膜212を組み合わせてもよい。すなわち、液晶表示装置50Cの遮光膜212のうちで位相差膜220がまたがった隣接画素60の間の部分を取り除いてもよい。この遮光膜212によれば、液晶表示装置50B,50Cについての上記効果を同時に奏する。
Further, the
上記では位相差膜220が基板210の液晶層300側に設けられた場合、すなわち液晶層300側に内蔵された場合を例示した。これに対して、位相差膜220を基板210の液晶層300とは反対側に設ける、すなわち基板210に外付けすることも可能である。また、上記では位相差膜220が基板210に設けられた構成を例示したが、位相差膜220を基板110または両方の基板110,210に設けることも可能である。また、上記では位相差膜220が反射領域64に設けられた構成を例示したが、位相差膜220を透過領域62に設けて液晶表示装置を構成することも可能である。
The case where the
上記では共通電極120が液晶層300側に配置された構成を例示したが、画素電極114を液晶層300側に配置することも可能である。また、上記ではFFS方式を例示したが、他の配向制御方式を適用することも可能である。例えば、画素電極114と共通電極120との両方を基板110に設けて液晶層300に電界を印加する配向制御方式としてIPS(In-Plane Switching)方式等があり、画素電極114と共通電極120とを別々の基板110,210に設けて液晶層300に電界を印加する配向制御方式としてTN(Twisted Nematic)方式等がある。また、領域62,64で配向制御方式を異ならせてもよい。
In the above description, the
50,50B,50C 液晶表示装置、60 画素、62 透過領域、64 反射領域、100 素子基板、110 基板、200 対向基板、210 基板、212 遮光膜、220 位相差膜、220b 縁部、300 液晶層。 50, 50B, 50C liquid crystal display device, 60 pixels, 62 transmission region, 64 reflection region, 100 element substrate, 110 substrate, 200 counter substrate, 210 substrate, 212 light shielding film, 220 phase difference film, 220b edge, 300 liquid crystal layer .
Claims (5)
前記一対の基板の間に挟持された液晶層と、
それぞれ反射領域および透過領域を有する複数の画素を含む表示領域と、
を備えた液晶表示装置であって、
前記一対の基板の少なくとも一方の基板に設けられ延在した複数の位相差膜を備え、
前記位相差膜は延在した方向と交差する方向に隣接する画素にまたがって形成されていることを特徴とする液晶表示装置。 A pair of substrates;
A liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates;
A display area comprising a plurality of pixels each having a reflective area and a transmissive area;
A liquid crystal display device comprising:
A plurality of retardation films provided on and extending at least one of the pair of substrates;
The liquid crystal display device, wherein the retardation film is formed across pixels adjacent to each other in a direction crossing the extending direction.
前記位相差膜は前記反射領域に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1,
The liquid crystal display device, wherein the retardation film is formed in the reflection region.
前記一方の基板に設けられた遮光膜をさらに備え、
前記遮光膜は前記位相差膜の縁部の少なくとも一部に対向して設けられていることを特徴とする液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1 or 2,
A light-shielding film provided on the one substrate;
The liquid crystal display device, wherein the light shielding film is provided to face at least a part of an edge of the retardation film.
前記液晶層の厚さを調整する層厚調整膜を有し、
前記位相差膜は前記層厚調整膜に重畳して形成されていることを特徴とする液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 2, wherein
Having a layer thickness adjusting film for adjusting the thickness of the liquid crystal layer;
The liquid crystal display device, wherein the retardation film is formed so as to overlap with the layer thickness adjusting film.
前記一対の基板の一方の基板に前記液晶層に電圧を印加する第1電極および第2電極が形成されていることを特徴とする液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to any one of claims 2 to 4,
A liquid crystal display device, wherein a first electrode and a second electrode for applying a voltage to the liquid crystal layer are formed on one of the pair of substrates.
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2007
- 2007-03-27 JP JP2007080570A patent/JP2008241959A/en active Pending
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