JP2008239743A - Polyester film for dry film resist carrier - Google Patents

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Yoshihiro Yoshikawa
由浩 吉川
Akihiko Ohashi
明彦 大橋
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a biaxially oriented polyester film for dry film resist carrier and corresponding to high resolution. <P>SOLUTION: A biaxially oriented polyester film for dry film resist carrier, having 5/m<SP>2</SP>number of depression defect having ≥0.5 μm depth, 70-150 MPa F-5 value in the longitudinal direction, 80-160 MPa F-5 value in the cross direction, ≤1% haze value, and 1.5-3.5% heat shrinkage in the longitudinal direction and 0.5-2.5% heat shrinkage in the cross direction each based at 150°C for 30 min, is provided thereby. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、二軸配向ポリエステルフィルムに関するものであり、具体的には透明性に優れ、滑り性にすぐれ、とくに、片面に感光性樹脂組成物を積層して使用されるドライフィルムレジスト支持体用ポリエステルフィルムに関する。   The present invention relates to a biaxially oriented polyester film, specifically, excellent in transparency and excellent in slipperiness, especially for dry film resist supports used by laminating a photosensitive resin composition on one side. It relates to a polyester film.

近年、プリント配線基板、半導体パッケージ、フレキシブル基板などの製造法として、ドライフィルムレジスト(以下、DFRと略記することがある)が多く用いられるようになっている。   In recent years, dry film resists (hereinafter sometimes abbreviated as DFR) are often used as methods for producing printed wiring boards, semiconductor packages, flexible boards, and the like.

通常のDFRは感光層(フォトレジスト層)が、支持体としてのポリエステルフィルムとLDPEフィルムなどからなる保護フィルム(カバーフィルム)でとの間に挟まれたサンドイッチ構造をしている。このDFRを用いて導体回路を作製するには、一般的に次のような操作が行われる。   A normal DFR has a sandwich structure in which a photosensitive layer (photoresist layer) is sandwiched between a polyester film as a support and a protective film (cover film) made of an LDPE film or the like. In order to produce a conductor circuit using this DFR, the following operations are generally performed.

すなわち、DFRから保護フィルムを剥離し、露出したレジスト層の表面と、基板上の例えば銅箔などの導電性基材層の表面とが密着するように、基板・導電性基材層とラミネートする。次に、導体回路パターンを焼き付けたレチクルを、ポリエステルフィルムからなる支持体上に置き、その上から、感光性樹脂を主体としたレジスト層に紫外線(例えば365nmにピークを有するI線)を照射して、露光させる。その後、レクチルおよびポリエステルフィルムを剥離した後、溶剤によってレジスト層中の未反応分を溶解、除去する。次いで、酸などでエッチングを行い、導電性基材層中の露出した部分を溶解、除去する。この結果、レジスト層中の光反応部分とこの光反応部分に対応する導電性基材層部分がそのまま残ることになる。その後、残ったレジスト層を除去すれば、基板上の導体回路が形成されることになる。     That is, the protective film is peeled off from the DFR and laminated with the substrate / conductive substrate layer so that the exposed surface of the resist layer and the surface of the conductive substrate layer such as copper foil on the substrate are in close contact with each other. . Next, the reticle on which the conductor circuit pattern is baked is placed on a support made of a polyester film, and from there, the resist layer mainly composed of a photosensitive resin is irradiated with ultraviolet rays (for example, I-line having a peak at 365 nm). And expose. Thereafter, after the reticle and polyester film are peeled off, unreacted components in the resist layer are dissolved and removed with a solvent. Next, etching is performed with an acid or the like to dissolve and remove the exposed portion in the conductive base material layer. As a result, the photoreactive portion in the resist layer and the conductive base material layer portion corresponding to the photoreactive portion remain as they are. Thereafter, if the remaining resist layer is removed, a conductor circuit on the substrate is formed.

このような方法により導体回路が形成されるので、支持体としてポリエステルフィルムには、紫外線を邪魔なく透過できることが要求され、この結果、レクチルに焼き付けられた回路パターンが正確にレジスト層上に反映される。   Since the conductor circuit is formed by such a method, the polyester film as the support is required to be able to transmit ultraviolet rays without interruption, and as a result, the circuit pattern baked on the reticle is accurately reflected on the resist layer. The

とくに、近年、OA機器、IT機器など小型化、軽量化などに伴い、透過性に優れ、ヘイズが低く、高解像化を達成できるドライフィルムレジスト支持体用ポリエステルフィルムが要求されている。   Particularly, in recent years, with the miniaturization and weight reduction of OA equipment and IT equipment, there is a demand for a polyester film for a dry film resist support that has excellent transparency, low haze, and high resolution.

しかしながら、ポリエステルフィルムには、通常、走行性や巻き特性を付与するために易滑材としての粒子を含有させているため、露光工程時の紫外線照射の際、粒子による光散乱が引き起こされ、レジストの解像度を低下させてしまうという問題が生じていた。   However, since the polyester film usually contains particles as an easy-sliding material for imparting running properties and winding characteristics, light scattering by the particles is caused during the ultraviolet irradiation in the exposure process, and the resist There has been a problem of reducing the resolution.

そこで、フィルムのヘイズ値を低くすること(例えば、特許文献1,2,3,5)、あるいは、波長365nmの透過率を一定範囲内とすることを特徴とするドライフィルムレジスト支持体用ポリエステルフィルムが提案されている。また、これらの課題を達成する手法として、複合フィルムとすること、特定の粒子、粒子平均径、粒子含有量とすることが提案されている。   Accordingly, a polyester film for a dry film resist support, characterized in that the haze value of the film is lowered (for example, Patent Documents 1, 2, 3, and 5), or the transmittance at a wavelength of 365 nm is within a certain range. Has been proposed. Moreover, as a method for achieving these problems, it has been proposed to use a composite film, specific particles, particle average diameter, and particle content.

さらに、特許文献4では、フィルム加工時のシワの発生の抑制および露光時のパターン欠点の発生のためモース硬度8以上の平均粒径0.001〜0.5μmの粒子を添加することが提案されている。
特開平7−333853号公報 特開2001−264971号公報 特開2002−043691号公報 特開2002−341546号公報 特開2005−059285号公報
Further, in Patent Document 4, it is proposed to add particles having an average particle size of 0.001 to 0.5 μm having a Mohs hardness of 8 or more in order to suppress generation of wrinkles during film processing and generation of pattern defects during exposure. ing.
Japanese Patent Laid-Open No. 7-333853 JP 2001-264971 A JP 2002-043691 A JP 2002-341546 A JP 2005-059285 A

しかしながら、前記した提案でも、近年における一層の高解像度化の要求を満足することは難しく、現像後のレジストのパターニングにゆがみや、抜けなどの欠点が十分に解消できず、依然として、高改造度化への品質向上、収率などの生産性向上の要求が続いている上記事情に鑑み、本発明はレジストの高解像度を達成するとも、欠点が少なく、品質向上、生産性向上に対応できるドライフィルムレジスト支持体用ポリエステルフィルムを提供することを目的とする。   However, even with the proposals described above, it is difficult to satisfy the demand for higher resolution in recent years, and defects such as distortion and omission in resist patterning after development cannot be solved sufficiently, and the degree of modification is still high. In view of the above-mentioned circumstances where demands for improving productivity such as quality improvement and yield continue, the present invention achieves high resist resolution, and has few defects, and can be used for quality improvement and productivity improvement. It aims at providing the polyester film for resist supports.

本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意検討の結果、レジストの解像度の低下は、フィルムの透過率、ヘイズに加え、フィルムの長手方向および幅方向の強度バランスが重要で、併せて、熱収縮率を特定範囲内にすることが必要であり、さらに、現像後のレジストのパターニングにゆがみや、抜けなどの欠点は、ドライフィルムレジスト支持体用ポリエステルフィルムの表面に存在する窪み欠点が要因の一部であることを見出し、さらにまた、三層複合の構造とし、表層部に特定の粒子を含有させることが好ましいことを見出した。
すなわち、本発明は、深さ0.5μm以上の窪み欠点数が5個/m以下であり、長手方向のF−5値が70〜150MPaで、幅方向のF−5値が80〜160MPaであり、ヘイズ値が1%以下であり、150℃30分間の熱収縮率が長手方向で1.5〜3.5%、幅方向で0.5〜2.5%であることを特徴とするドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムによって達成できる。
As a result of intensive studies to achieve the above object, the inventors of the present invention have reduced the resolution of the resist, in addition to the transmittance and haze of the film, the balance of strength in the longitudinal direction and the width direction of the film is important. It is necessary to make the thermal shrinkage rate within a specific range. In addition, defects such as distortion and omission in resist patterning after development are caused by depression defects existing on the surface of the polyester film for dry film resist support. It was also found that it is preferable to have a three-layer composite structure and to contain specific particles in the surface layer portion.
That is, according to the present invention, the number of recess defects having a depth of 0.5 μm or more is 5 / m 2 or less, the F-5 value in the longitudinal direction is 70 to 150 MPa, and the F-5 value in the width direction is 80 to 160 MPa. The haze value is 1% or less, and the heat shrinkage rate at 150 ° C. for 30 minutes is 1.5 to 3.5% in the longitudinal direction and 0.5 to 2.5% in the width direction. It can be achieved by a biaxially oriented polyester film for a dry film resist support.

本発明により、レジストの高解像度を達成するとも、欠点が少なく、品質向上、生産性向上に対応できるドライフィルムレジスト支持体用ポリエステルフィルムを提供できる。   According to the present invention, it is possible to provide a polyester film for a dry film resist support that can achieve high resolution of a resist, has few defects, and can cope with quality improvement and productivity improvement.

本発明は、深さ0.5μm以上の窪み欠点数が5個/m以下であり、長手方向のF−5値が70〜150MPaで、幅方向のF−5値が80〜160MPaであり、ヘイズ値が1%以下であり、150℃30分間の熱収縮率が長手方向で1.5〜3.5%、幅方向で0.5〜2.5%であることを特徴とするドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムである。 In the present invention, the number of recess defects having a depth of 0.5 μm or more is 5 / m 2 or less, the F-5 value in the longitudinal direction is 70 to 150 MPa, and the F-5 value in the width direction is 80 to 160 MPa. The haze value is 1% or less, and the thermal shrinkage at 150 ° C. for 30 minutes is 1.5 to 3.5% in the longitudinal direction and 0.5 to 2.5% in the width direction. It is a biaxially oriented polyester film for a film resist support.

ここで、二軸配向ポリエステルに用いられるポリエステルとは、少なくとも70モル%以上が、芳香族ジカルボン酸とジオールを主たる構成成分とする単量体からの重合により得られるポリエステルである。   Here, the polyester used for the biaxially oriented polyester is a polyester obtained by polymerization from a monomer having at least 70 mol% as a main component of an aromatic dicarboxylic acid and a diol.

芳香族ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、などであり、とくにはテレフタル酸が好ましい。これらの酸成分は1種のみ用いてもよく、2種以上併用してもよく、イソフタル酸など他の芳香族ジカルボン酸、あるいは脂肪酸を一部共重合してもよい。   Examples of the aromatic dicarboxylic acid include terephthalic acid and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, and terephthalic acid is particularly preferable. These acid components may be used alone or in combination of two or more, and may be partially copolymerized with other aromatic dicarboxylic acids such as isophthalic acid or fatty acids.

また、ジオール成分としては、例えば、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、などを挙げることができる。中でもエチレングリコールが好ましく用いられる。これらのジオール成分は1種のみ用いてもよく、2種以上併用してもよい。   Examples of the diol component include ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, neopentyl glycol, and the like. Of these, ethylene glycol is preferably used. These diol components may be used alone or in combination of two or more.

本発明の積層ポリエステルフィルムに用いられるポリエステルとして、好ましくは、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、およびその共重合体、ポリブチレンテレフタレートおよびその共重合体、ポリブチレンナフタレートおよびその共重合体、さらにはポリヘキサメチレンテレフタレートおよびその共重合体、ポリヘキサメチレンナフタレートおよびその共重合体等を挙げることができ、とくに、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。   The polyester used in the laminated polyester film of the present invention is preferably polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and copolymers thereof, polybutylene terephthalate and copolymers thereof, polybutylene naphthalate and copolymers thereof, and further Examples include hexamethylene terephthalate and copolymers thereof, polyhexamethylene naphthalate and copolymers thereof, and polyethylene terephthalate is particularly preferable.

本発明に使用するポリエステルは、従来から知られている方法で製造することができる。例えば、酸成分をジオール成分と直接エステル化反応させた後、この反応の生成物を減圧下で加熱して余剰のジオール成分を除去しつつ重縮合させることによって製造する方法や、酸成分としてジアルキルエステルを用い、これとジオール成分とでエステル交換反応させた後、上記と同様に重縮合させることによって製造する方法などが採用できる。この際、必要に応じて、反応触媒として従来公知のアルカリ金属、アルカリ土類金属、マンガン、コバルト、亜鉛、アンチモン、ゲルマニウム、チタン化合物などを用いることもできる。   The polyester used in the present invention can be produced by a conventionally known method. For example, a method in which an acid component is directly esterified with a diol component, and then the product of this reaction is heated under reduced pressure to perform polycondensation while removing excess diol component, or a dialkyl as an acid component A method of producing an ester by transesterifying it with a diol component and then performing polycondensation in the same manner as described above can be employed. At this time, conventionally known alkali metals, alkaline earth metals, manganese, cobalt, zinc, antimony, germanium, titanium compounds, and the like can be used as a reaction catalyst, if necessary.

本発明のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムは、全フィルム厚みが10〜25μmが好ましい。とくに好ましくは12μmから20μmである。厚みが10μm以下では、強度が不足し加工工程での取り扱いが難しくなり、逆に25μmを越えると、光線透過率およびヘイズ値を本発明範囲内にすることが難しくなる。   The biaxially oriented polyester film for dry film resist support of the present invention preferably has a total film thickness of 10 to 25 μm. Particularly preferably, the thickness is 12 μm to 20 μm. When the thickness is 10 μm or less, the strength is insufficient and handling in the processing step becomes difficult. Conversely, when the thickness exceeds 25 μm, it is difficult to make the light transmittance and haze value within the range of the present invention.

また、長手方向のF−5値が70〜150MPaであることが必要である。長手方向のF−5値が70MPa未満では強度不足により傷の発生などにより加工特性が悪くなり、160MPaを越えると幅方向のF−5値との両立が困難となる。好ましくは、70〜140MPa、さらに好ましくは80〜130MPaである。   In addition, the F-5 value in the longitudinal direction needs to be 70 to 150 MPa. If the F-5 value in the longitudinal direction is less than 70 MPa, the processing characteristics deteriorate due to scratches due to insufficient strength, and if it exceeds 160 MPa, it is difficult to achieve both the F-5 value in the width direction. Preferably, it is 70-140 MPa, More preferably, it is 80-130 MPa.

さらに、幅方向のF−5値が80〜160MPaであることが必要である。幅方向のF−5値が80MPa未満では強度不足による傷の発生などによる加工特性が悪くなり、160MPaを越えると長手方向のF−5値との両立が難しくなる。好ましくは80〜150MPaであり、さらに好ましくは90〜140MPaである
また、縦方向のF−5値と長手方向のF−5値の和は200〜270MPaであることが好ましく、とくに220〜250MPaが好ましい。また幅方向のF−5値が長手方向のF−5値よりも同等以上が好ましく、その差が10〜20MPaの場合がさらに好ましい。
Furthermore, the F-5 value in the width direction needs to be 80 to 160 MPa. If the F-5 value in the width direction is less than 80 MPa, the processing characteristics due to the occurrence of scratches due to insufficient strength will deteriorate, and if it exceeds 160 MPa, it will be difficult to achieve both the F-5 value in the longitudinal direction. It is preferably 80 to 150 MPa, more preferably 90 to 140 MPa. The sum of the longitudinal F-5 value and the longitudinal F-5 value is preferably 200 to 270 MPa, and particularly preferably 220 to 250 MPa. preferable. Further, the F-5 value in the width direction is preferably equal to or greater than the F-5 value in the longitudinal direction, and the difference is more preferably 10 to 20 MPa.

また、長手方向の破断強度は200〜360MPaであるのが好ましく、220〜304MPaの場合がさらに好ましい。幅方向の破断強度については260〜420MPaであるのが好ましく、とくに好ましくは280〜400MPaである。   The breaking strength in the longitudinal direction is preferably 200 to 360 MPa, and more preferably 220 to 304 MPa. The breaking strength in the width direction is preferably 260 to 420 MPa, particularly preferably 280 to 400 MPa.

上記、F−5値および破断強度は縦方向および横方向の延伸温度、延伸倍率を適宜調整することで達成できる。   The F-5 value and the breaking strength can be achieved by appropriately adjusting the stretching temperature and the stretching ratio in the longitudinal direction and the transverse direction.

本発明のフィルムは、150℃30分間の熱収縮率が長手方向で1.5〜3.5%、幅方向で0.5〜2.5%である。長手方向および幅方向の熱収縮値がこの範囲内であるとDFR加工工程での熱収縮による歪みやシワの発生を抑制でき好ましく、150℃30分の熱収縮値が長手方向で2〜3%、幅方向で0.8〜2.3%であるとさらに好ましい。
熱収縮値は、製膜条件における弛緩熱処理の条件などを適宜調整することにより達成できる。
The film of the present invention has a heat shrinkage rate at 150 ° C. for 30 minutes of 1.5 to 3.5% in the longitudinal direction and 0.5 to 2.5% in the width direction. When the heat shrinkage value in the longitudinal direction and the width direction is within this range, it is possible to suppress the occurrence of distortion and wrinkles due to heat shrinkage in the DFR processing step, and the heat shrinkage value at 150 ° C. for 30 minutes is 2-3% in the longitudinal direction. Furthermore, it is more preferable that it is 0.8 to 2.3% in the width direction.
The heat shrinkage value can be achieved by appropriately adjusting the relaxation heat treatment conditions in the film forming conditions.

さらに、本発明のフィルムの光線透過率は85%以上であることが必要である。85%未満では露光にあたって紫外光線を邪魔なく透過させるには不十分であり、好ましくは86%以上、さらに好ましくは88%以上である。   Furthermore, the light transmittance of the film of the present invention needs to be 85% or more. If it is less than 85%, it is insufficient to allow ultraviolet light to pass through without exposure, preferably 86% or more, and more preferably 88% or more.

また、フィルムのヘイズ値は1%以下であることが必要である。1%を越えると露光にあたっての紫外光線の散乱が大きくなり、また透過率を阻害し好ましくない。好ましくは0.8%以下、さらに好ましくは0.6%以下である。   Further, the haze value of the film needs to be 1% or less. If it exceeds 1%, the scattering of ultraviolet rays during exposure increases, and the transmittance is impaired, which is not preferable. Preferably it is 0.8% or less, More preferably, it is 0.6% or less.

光線透過率およびヘイズ値を本発明範囲内に達成するためには、含有する粒子などによる光線透過の阻害を抑制し、さらにフィルム表面の粗さ・凹凸による散乱を抑制することが必要である。このためには、フィルム中に含有する粒子の粒径を小さくし、含有量を減少することが有効であるが、このようにすると、フィルム表面が平滑化し過ぎ、易滑性、走行性が悪くなり、加工特性が劣ることになる。全光透過率、ヘイズ値を悪化させないで加工特性を保持するという相反する機能の両立が必要である。   In order to achieve the light transmittance and haze value within the scope of the present invention, it is necessary to suppress the light transmission inhibition by the contained particles and the like, and to further suppress the scattering due to the roughness and unevenness of the film surface. For this purpose, it is effective to reduce the particle size of the particles contained in the film and reduce the content. However, in this case, the film surface becomes too smooth and the slipperiness and running properties are poor. Thus, the processing characteristics are inferior. It is necessary to satisfy both contradictory functions of maintaining processing characteristics without deteriorating the total light transmittance and haze value.

上記課題を達成するため、三層構造からなり、表層に平均粒径が0.2〜0.7μmの有機粒子を表層に対して0.01〜0.1重量%含有し、表面粗さ(Ra)が3〜10nmであることが好ましい。   In order to achieve the above object, the surface layer contains organic particles having an average particle diameter of 0.2 to 0.7 μm with respect to the surface layer of 0.01 to 0.1% by weight. Ra) is preferably 3 to 10 nm.

ここで、三層構造とはA/B/AまたはA/B/Cの層からなるものが好ましく、表層部であるA層およびC層に含有する粒子種、平均粒子径、含有量が異なっても良い。さらにA/B/Aの構成において、両側の積層厚さが異なっても良い。さらに好ましくは、A/B/Aの構成とし、実質的に、両側の積層厚さを同一とし、同一の粒子組成とすることが、フィルムの生産にあたって設備構成も簡易で生産性も期待できる。
上記構成において、好ましくはB層には実質的に粒子を含有せず、A層に粒子を含有することが好ましく、A層の積層厚さは0.1〜2μm、好ましくは0.2〜1.0μm、さらに好ましくは0.4〜0.8μmである。0.1μm未満の場合には積層部への含有粒子の脱落が大きくなり、2μmを越えるとA層に添加している粒子の平均径および添加量をさらに減少することが必要になり、加工特性との両立が難しくなる。
Here, the three-layer structure is preferably composed of layers of A / B / A or A / B / C, and the particle types, average particle diameters, and contents contained in the A layer and C layer as the surface layer portion are different. May be. Furthermore, in the configuration of A / B / A, the laminated thickness on both sides may be different. More preferably, the structure of A / B / A is substantially the same, and the laminated thickness on both sides is substantially the same, and the particle composition is the same, so that the equipment structure can be simplified and productivity can be expected in the production of the film.
In the above configuration, the layer B preferably contains substantially no particles, and the layer A preferably contains particles, and the layer A has a thickness of 0.1 to 2 μm, preferably 0.2 to 1. 0.0 μm, more preferably 0.4 to 0.8 μm. When the particle size is less than 0.1 μm, the drop of the contained particles in the laminated portion becomes large. When the particle size exceeds 2 μm, it is necessary to further reduce the average diameter and added amount of the particles added to the A layer. It becomes difficult to achieve both.

表層部A層に含有する粒子としては、有機、無機の粒子を用いることができるが、例えば、酸化珪素、炭酸カルシウム、アルミナ、珪酸アルミニウム、マイカ、クレー、タルク、硫酸バリウムなどを、有機系としては、例えば、ポリイミド系樹脂、オレフィンあるいは変性オレフィン系樹脂、架橋ポリスチレン系樹脂、シリコーン樹脂などを挙げることができる。これらの粒子の採用にあたっては、光線透過率およびヘイズ値の上昇を抑制するため、粒子表面を界面活性剤などで表面改質し、ポリエステルとの親和性を改善すること方法が添加粒子周辺でのボイド発生を抑制する点で好ましく採用できる。また、粒子形状が球状に近く、さらに、ポリエステルとの屈折率の差が少ない方が、フィルム層内を紫外線が通過時の散乱光を抑制することができ好ましく、コロイダルシリカ、有機粒子がとくに好ましく、さらに、シリコーン粒子、架橋ポリスチレン粒子が好適である。   As the particles contained in the surface layer part A layer, organic and inorganic particles can be used. For example, silicon oxide, calcium carbonate, alumina, aluminum silicate, mica, clay, talc, barium sulfate, and the like are organic. Examples include polyimide resins, olefins or modified olefin resins, cross-linked polystyrene resins, and silicone resins. In adopting these particles, in order to suppress the increase in light transmittance and haze value, the surface of the particle is modified with a surfactant or the like, and the method of improving the affinity with the polyester is a method around the added particle. It can preferably be employed in terms of suppressing the generation of voids. Further, the particle shape is almost spherical and the difference in refractive index from the polyester is preferably smaller because it can suppress scattered light when ultraviolet rays pass through the film layer, and colloidal silica and organic particles are particularly preferable. Furthermore, silicone particles and crosslinked polystyrene particles are suitable.

中でも、乳化重合で調整された、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体からなる架橋ポリスチレン粒子は粒子形状が真球に近く、粒径分布が均一であり、均一な突起形成を図ることが可能で好ましい。   Among these, crosslinked polystyrene particles made of a styrene-divinylbenzene copolymer prepared by emulsion polymerization are preferable because the particle shape is close to a true sphere, the particle size distribution is uniform, and uniform protrusions can be formed.

さらに具体的には、表層部A層に平均粒径が0.2〜0.7μmの有機粒子を表層に対して0.01〜0.1重量%させ、表面粗さ(Ra)が3〜10nmに調整することが好ましい。表面粗さが3nm未満であると走行性が悪く加工特性に劣り、10nmを越えると表面凹凸による光散乱にとるヘイズ値の上昇が無視出来なくなる。表面粗さ(Ra)が4〜8nmであるとさらに好ましい。   More specifically, organic particles having an average particle size of 0.2 to 0.7 μm are added to the surface layer part A layer in an amount of 0.01 to 0.1% by weight with respect to the surface layer, and the surface roughness (Ra) is 3 to 3. It is preferable to adjust to 10 nm. If the surface roughness is less than 3 nm, the running property is poor and the processing characteristics are inferior. If it exceeds 10 nm, an increase in haze value due to light scattering due to surface irregularities cannot be ignored. The surface roughness (Ra) is more preferably 4 to 8 nm.

表面粗さは、表層A層に添加する有機粒子の平均粒径と添加量によって適宜調整できるが、好ましい範囲は平均粒径が0.2〜0.7μm、添加量が表層に対して0.01〜0.1重量%である。平均粒径がこの範囲を外れると、添加量の関係で、上記表面粗さを達成した場合のヘイズ値および光線透過率を悪化させ好ましくない。平均粒径0.3〜0.5μmの有機粒子を0.01〜0.05重量%添加することがとくに好ましい。   The surface roughness can be adjusted as appropriate depending on the average particle size and the amount of organic particles added to the surface layer A, but the preferred range is an average particle size of 0.2 to 0.7 μm, and the amount added is 0. 01 to 0.1% by weight. If the average particle size is out of this range, the haze value and light transmittance when the surface roughness is achieved are deteriorated due to the addition amount, which is not preferable. It is particularly preferable to add 0.01 to 0.05% by weight of organic particles having an average particle size of 0.3 to 0.5 μm.

本発明のフィルムは、フィルムの両面において、深さ0.5μm以上の窪み欠点数が5個/m以下である。窪み欠点数が5個/mを越えると窪みによる露光時に透過紫外線の異常屈折が起こり、レジストパターンの乱れを発生させることがあり、さらに局所的にヘイズ値を高めることにもなり好ましくない。 In the film of the present invention, the number of depression defects having a depth of 0.5 μm or more is 5 pieces / m 2 or less on both surfaces of the film. If the number of dent defects exceeds 5 / m 2 , abnormal refraction of transmitted ultraviolet rays occurs at the time of exposure due to the dent, which may cause disturbance of the resist pattern and further increase the haze value locally.

本発明において窪み欠点とは、フィルム表面の微細な凹部を意味し、深さとは、フィルム表面から厚み方向への最大深さとし、窪み欠点の周りに盛り上がりを生じている場合は、盛り上がり部の頂部から窪みの底部までの最大深さを意味する。   In the present invention, the dent defect means a fine recess on the film surface, and the depth is the maximum depth in the thickness direction from the film surface. It means the maximum depth from the bottom of the dent.

窪み欠点数を限りなく少なくすることは望ましいことであるが、実質的に障害となるのは、深さ0.5μm以上の窪みであり、0.5μm以上の窪み欠点数を5個/m以下とすることにより達成される。好ましくは3個/m以下であり、さらに好ましくは1個/m以下である。 Although it is desirable to reduce the number of dent defects as much as possible, it is substantially a dent with a depth of 0.5 μm or more that substantially impedes the number of dent defects with a depth of 5 μm / m 2 or more. This is achieved by the following. Preferably it is 3 pieces / m 2 or less, more preferably 1 piece / m 2 or less.

窪み欠点数は、延伸時にロール延伸に伴うフィルムとロールとの接触場所での速度差を少なくし、ロールの微少傷の転写などを抑制することで達成できる。とくに延伸ロールからの傷の転写を抑制するため、ロールへのオリゴマーなどの付着物を減少させることが必要であり、ロールの頻繁な清浄化作業、オリゴマーの付着抑制のための延伸ゾーンの清浄化が効果的である。   The number of dent defects can be achieved by reducing the difference in speed at the contact place between the film and the roll during roll stretching and suppressing transfer of minute scratches on the roll. In particular, it is necessary to reduce deposits such as oligomers on the roll in order to suppress the transfer of scratches from the drawing roll. Frequent cleaning work on the roll and cleaning of the drawing zone to suppress oligomer adhesion Is effective.

さらに、前記粒子とともに、凝集アルミナを添加することが好ましい。ここで、凝集アルミナは平均一次粒子径が5〜30nm、好ましくは8〜15nmの平均一次粒子径が数個から数百個凝集したものであり、無水塩化アルミニウムを原料として火焔加水分解法、あるいはアルコシドアルミナの加水分解などによって製造されたものが採用できる。これ結晶型としてδ型、θ型、γ型などが知られているが、とくにδ型アルミナが好適に使用できる。これらの凝集アルミナについて、ポリエステル重合時に添加することで使用に供せるが、例えば、ポリエステル重合時の原料の一部であるエチレングリコールのスラリーとして、サンドグラインダーなどの粉砕、分散を行い、精密濾過を行うことによって、平均二次粒子径が0.01〜0.2μmの凝集アルミナを得ることができる。このようにして得られた凝集アルミナをフィルム中に添加した場合、二軸延伸によって、面方向に配置され、前述の突起形成粒子と異なり、実質的突起を形成せず、表面粗さへの影響が少なく、また、透過性が良いため、光線透過率およびヘイズ値の劣化を抑制できる。   Furthermore, it is preferable to add agglomerated alumina together with the particles. Here, the aggregated alumina has an average primary particle diameter of 5 to 30 nm, preferably an average primary particle diameter of 8 to 15 nm aggregated from several to several hundreds. Those produced by hydrolysis of alcoside alumina can be employed. As this crystal type, δ type, θ type, γ type and the like are known, and in particular, δ type alumina can be preferably used. These agglomerated alumina can be used by adding at the time of polyester polymerization.For example, as a slurry of ethylene glycol, which is part of the raw material at the time of polyester polymerization, pulverization and dispersion of a sand grinder, etc. By carrying out, agglomerated alumina having an average secondary particle diameter of 0.01 to 0.2 μm can be obtained. When the agglomerated alumina thus obtained is added to the film, it is arranged in the plane direction by biaxial stretching, and unlike the above-mentioned projection-forming particles, it does not form substantial projections and affects the surface roughness. In addition, since the transparency is good, deterioration of light transmittance and haze value can be suppressed.

凝集アルミナの添加により、フィルム表面の地肌補強効果が大きく、耐摩耗性が向上し、延伸時のロールとの接触時に発生する窪み欠点の抑制に効果的である。凝集アルミナは表層に添加することが好ましく、その含有量は表層に対して0.1〜1重量%、好ましくは0.2〜0.9重量%、0.6〜0.8重量%がさらに好ましい。   By adding aggregated alumina, the effect of reinforcing the background of the film surface is great, the wear resistance is improved, and it is effective in suppressing the dent defect that occurs when contacting the roll during stretching. Aggregated alumina is preferably added to the surface layer, and its content is 0.1 to 1% by weight, preferably 0.2 to 0.9% by weight, and 0.6 to 0.8% by weight based on the surface layer. preferable.

次に本発明のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムの製造方法について説明する。ポリエステルに不活性粒子を含有せしめる方法としては、例えばジオール成分であるエチレングリコールに不活性粒子を所定割合にてスラリーの形で分散せしめ、例えば3μm以上の粗大粒子を95%以上捕集できる高精度濾過を行った後、このエチレングリコールスラリーをポリエステル重合完結前の任意段階で添加する。ここで、粒子を添加する際には、例えば、粒子を合成時に得られる水ゾルやアルコールゾルを一旦乾燥させることなく添加すると粒子の分散性が良好であり、粗大突起の発生を抑制でき好ましい。また粒子の水スラリーを直接、所定のポリエステルペレットと混合し、ベント方式の2軸混練押出機に供給しポリエステルに練り込む方法も本発明の効果に有効である。     Next, the manufacturing method of the biaxially-oriented polyester film for dry film resist supports of this invention is demonstrated. As a method for incorporating inert particles into polyester, for example, high-precision that can collect 95% or more of coarse particles of 3 μm or more, for example, by dispersing inert particles in ethylene glycol, which is a diol component, at a predetermined ratio in the form of a slurry. After filtration, this ethylene glycol slurry is added at an optional stage prior to completion of polyester polymerization. Here, when adding the particles, for example, it is preferable to add the water sol or alcohol sol obtained at the time of synthesis without drying once because the dispersibility of the particles is good and the generation of coarse protrusions can be suppressed. Also effective for the effect of the present invention is a method in which a water slurry of particles is directly mixed with predetermined polyester pellets, supplied to a vent type twin-screw kneading extruder and kneaded into polyester.

このようにして準備した、粒子含有マスターペレットと粒子などを実質的に含有しないペレットを所定の割合で混合し、乾燥したのち、公知の溶融積層用押出機に供給し、ポリマーをフィルターにより濾過する。     The particle-containing master pellets prepared in this way and pellets substantially free of particles, etc., are mixed at a predetermined ratio, dried, then supplied to a known melt laminating extruder, and the polymer is filtered through a filter. .

また、ごく小さな異物もフィルム欠陥となるため、フィルターには例えば5μm以上の異物を95%以上捕集する高精度のものを用いることが有効である。続いてスリット状のスリットダイからシート状に押し出し、キャスティングロール上で冷却固化せしめて未延伸フィルムを作る。     Further, since a very small foreign matter also becomes a film defect, it is effective to use a high-accuracy filter that collects 95% or more of a foreign matter of 5 μm or more, for example. Subsequently, the sheet is extruded from a slit-shaped slit die and cooled and solidified on a casting roll to form an unstretched film.

すなわち、1から3台の押出機、1から3層のマニホールドまたは合流ブロック(例えば矩形合流部を有する合流ブロック)を用いて必要に応じて積層し、口金からシートを押し出し、キャスティングロールで冷却して未延伸フィルムを作る。この場合、背圧の安定化および厚み変動の抑制の観点からポリマー流路にスタティックミキサー、ギヤポンプを設置する方法は有効である。   In other words, 1 to 3 extruders, 1 to 3 layers of manifolds or merging blocks (for example, merging blocks having a rectangular merging section) are stacked as necessary, sheets are extruded from the die, and cooled by casting rolls. To make an unstretched film. In this case, a method of installing a static mixer and a gear pump in the polymer flow channel is effective from the viewpoint of stabilizing the back pressure and suppressing thickness fluctuation.

延伸方法は同時二軸延伸であっても逐次二軸延伸であってもよい。
逐次延伸の場合、最初の長手方向の延伸が重要であり延伸温度は90〜130℃、好ましくは105〜120℃である。延伸温度が90℃よりも低くなるとフィルムが破断しやすく、延伸温度が130℃よりも高くなるとフィルム表面が熱ダメージを受けやすくなるため好ましくない。また、延伸ムラ、およびキズを防止する観点からは延伸は2段階以上に分けて行うことが好ましく、トータル倍率は長さ方向に3〜4.5倍、好ましくは3.2〜4.2倍であり、幅方向に3.2〜5倍、好ましくは3.9〜4.5倍である。目標とするフィルムの破断強度を達成するため、適時倍率を選択できるが、幅方向の破断強度を高くするため、幅方向の延伸倍率を長手方向よりも高めに設定することがさらに好ましい。かかる温度、倍率範囲をはずれると延伸ムラあるいはフィルム破断などの問題を引き起こし、本発明の特徴とするフィルムが得られにくいため好ましくない。再縦または横延伸した後、200〜230℃、好ましくは210〜230℃で0.5〜20秒、好ましくは1〜15秒熱固定を行う。とくに熱固定温度が200℃よりも低くなるとフィルムの結晶化が進まないために構造が安定せず、目標とする熱収縮率などの特性が得られず好ましくない。その後、長手及び/又は幅方向に0.5〜7.0%の弛緩処理を施すことが好ましい。
The stretching method may be simultaneous biaxial stretching or sequential biaxial stretching.
In the case of sequential stretching, the first longitudinal stretching is important, and the stretching temperature is 90 to 130 ° C, preferably 105 to 120 ° C. When the stretching temperature is lower than 90 ° C., the film is easily broken, and when the stretching temperature is higher than 130 ° C., the film surface is easily damaged by heat, which is not preferable. Further, from the viewpoint of preventing uneven stretching and scratches, the stretching is preferably performed in two or more stages, and the total magnification is 3 to 4.5 times, preferably 3.2 to 4.2 times in the length direction. It is 3.2 to 5 times in the width direction, preferably 3.9 to 4.5 times. In order to achieve the target breaking strength of the film, a timely magnification can be selected, but in order to increase the breaking strength in the width direction, it is more preferable to set the stretching ratio in the width direction higher than in the longitudinal direction. If the temperature and magnification range are out of this range, problems such as uneven stretching or film breakage are caused, and it is difficult to obtain a film characterized by the present invention. After re-longitudinal or transverse stretching, heat setting is performed at 200 to 230 ° C., preferably 210 to 230 ° C. for 0.5 to 20 seconds, preferably 1 to 15 seconds. In particular, when the heat setting temperature is lower than 200 ° C., the crystallization of the film does not proceed, the structure is not stable, and the target characteristics such as heat shrinkage cannot be obtained. Thereafter, it is preferable to apply a relaxation treatment of 0.5 to 7.0% in the longitudinal and / or width direction.

延伸過程では、フィルムとロールの接触が避けられず、ロールの周速とフィルムの速度差を極力抑えるようにするとともに、延伸ロールとしては、表面の粗さなどを制御しやすい非粘着性のシリコーンロールが好ましい。従来技術のようにセラミックスやテフロン(登録商標)さらには金属のロールを用いても可能であるが、フィルム表面のみが局所的に加熱されて粘着が発生し、フィルム表面に傷を発生する場合があり、好ましくない。     In the stretching process, contact between the film and the roll is unavoidable, and the difference between the peripheral speed of the roll and the speed of the film is suppressed as much as possible, and as the stretching roll, non-adhesive silicone that is easy to control the surface roughness and the like A roll is preferred. Although it is possible to use ceramics, Teflon (registered trademark) or metal rolls as in the prior art, only the film surface is locally heated and sticking occurs, which may cause scratches on the film surface. Yes, not preferred.

さらに延伸ロールの表面粗さRaは、0.005〜1.0μm、好ましくは0.1〜0.6μmである。Raが1.0μmよりも大きいと延伸時ロール表面の凸凹がフィルム表面に転写するため好ましくなく、一方0.005μmよりも小さいとロールとフィルム地肌が粘着し、フィルムが熱ダメージを受けやすくなるため好ましくない。表面粗さを制御するためには研磨剤の粒度、研磨回数などを適宜調整することが有効であるが、とくに延伸ロールについては、フィルム表面の窪み欠点の原因と懸念されるポリエステルの分解物、オリゴマーの付着、蓄積を回避するため、頻度の高いロール研磨が好ましい。     Furthermore, the surface roughness Ra of the drawing roll is 0.005 to 1.0 μm, preferably 0.1 to 0.6 μm. When Ra is larger than 1.0 μm, unevenness on the roll surface during stretching is transferred to the film surface, which is not preferable. On the other hand, when it is smaller than 0.005 μm, the roll adheres to the film background, and the film is easily damaged by heat. It is not preferable. In order to control the surface roughness, it is effective to adjust the particle size of the abrasive, the number of times of polishing, etc. as appropriate, especially for the stretching roll, the degradation product of the polyester that is a cause of the dimple defects on the film surface, In order to avoid adhesion and accumulation of oligomers, frequent roll polishing is preferable.

さらに、延伸部におけるロールとフィルムのトータルの接触時間は0.1秒以下、好ましくは0.08秒以下にすることがフィルムを製造する上で特に有効である。ロールとフィルムの接触時間が0.1秒よりも大きくなると、延伸ロールの熱によりフィルム表面のみが局所的に加熱され、引いては熱負荷時の微小平面性悪化を引き起こすこともあり、あるいは、フィルムに傷を発生する場合もあり、好ましくない。接触時間を短くする方法としては、例えばフィルムを延伸ロールに巻き付けず、ニップロール間で平行に延伸する方法が有効である。     Further, the total contact time between the roll and the film in the stretching portion is 0.1 seconds or less, preferably 0.08 seconds or less, which is particularly effective in producing the film. When the contact time between the roll and the film is longer than 0.1 seconds, only the film surface is locally heated by the heat of the stretching roll, which may cause a deterioration in micro-planarity during heat load, or The film may be scratched, which is not preferable. As a method for shortening the contact time, for example, a method in which a film is stretched in parallel between nip rolls without being wound around a stretch roll is effective.

以下、実施例で本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples.

本発明の特性値の測定方法、並びに効果の評価方法は次の通りである。   The characteristic value measurement method and effect evaluation method of the present invention are as follows.

(1)粒子の平均粒径
フィルムからポリマーをプラズマ低温灰化処理法で除去し、粒子を露出させる。処理条件は、ポリマーは灰化されるが粒子は極力ダメージを受けない条件を選択する。その粒子を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察し、粒子画像をイメージアナライザで処理する。SEMの倍率はおよそ5000〜20000倍から適宜選択する。観察箇所をかえて粒子数500個以上で粒径とその体積分率から、次式で体積平均径dを得る。粒径の異なる2種類以上の粒子を含有している場合には、それぞれの粒子について同様の測定を行い、粒径を求めた。
d=Σ(di・Nvi)
ここで、diは粒径、Nviはその体積分率である。粒子がプラズマ低温灰化処理法で大幅にダメージを受ける場合には、フィルム断面を透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて、3000〜100000倍で観察する。TEMの切片厚さは約100nmとし、場所をかえて100視野以上測定し、上記式から体積平均径dを求める。
(1) Average particle diameter of particles The polymer is removed from the film by a plasma low-temperature ashing method to expose the particles. The processing conditions are selected such that the polymer is ashed but the particles are not damaged as much as possible. The particles are observed with a scanning electron microscope (SEM), and the particle image is processed with an image analyzer. The magnification of SEM is appropriately selected from about 5000 to 20000 times. The volume average diameter d is obtained by the following formula from the particle diameter and its volume fraction when the number of particles is changed to 500 or more by changing the observation location. When two or more kinds of particles having different particle diameters were contained, the same measurement was performed for each particle to obtain the particle diameter.
d = Σ (di · Nvi)
Here, di is the particle size, and Nvi is the volume fraction. When the particles are significantly damaged by the plasma low-temperature ashing treatment method, the film cross section is observed at 3000 to 100,000 times using a transmission electron microscope (TEM). The section thickness of the TEM is about 100 nm, the place is changed, 100 fields or more are measured, and the volume average diameter d is obtained from the above formula.

凝集アルミナの粒径は上記と同様に、フィルム断面を透過型電子顕微鏡(TEM)で用いて、10000〜100000倍で観察する。TEMの切片厚さは約100nmとし、場所をかえて100視野以上測定し、観察される凝集アルミナの円相当径の平均径dを求める。   The particle diameter of the aggregated alumina is observed at a magnification of 10,000 to 100,000 using a transmission electron microscope (TEM) as in the above. The section thickness of the TEM is about 100 nm, and 100 fields or more are measured from different locations, and the average diameter d of the equivalent circle diameter of the aggregated alumina to be observed is obtained.

(2)固有粘度
オルトクロロフェノール中、25℃で測定した溶液粘度から、下式で計算した値を用いた。すなわち、
ηsp/C=[η]+K[η]・C
ここで、ηsp=(溶液粘度/溶媒粘度)−1であり、Cは溶媒100mlあたりの溶
解ポリマー重量(g/100ml、通常1.2)、Kはハギンス定数(0.343とする)である。また、溶液粘度、溶媒粘度はオストワルド粘度計を用いて測定した。単位は[dl/g]で示す。
(2) Intrinsic viscosity The value calculated by the following equation from the solution viscosity measured at 25 ° C in orthochlorophenol was used. That is,
ηsp / C = [η] + K [η] 2 · C
Here, ηsp = (solution viscosity / solvent viscosity) −1, C is the weight of dissolved polymer per 100 ml of solvent (g / 100 ml, usually 1.2), and K is the Huggins constant (assuming 0.343). . The solution viscosity and solvent viscosity were measured using an Ostwald viscometer. The unit is indicated by [dl / g].

(3)フィルム積層厚み
表面からエッチングしながらXPS(X線光電子光法)、IR(赤外分光法)あるいはコンフォーカル顕微鏡などで、その粒子濃度のデプスプロファイルを測定する。片面に積層したフィルムにおける表層では、表面という空気−樹脂の界面のために粒子濃度は低く、表面から遠ざかるにつれて粒子濃度は高くなる。本発明の片面に積層したフィルムの場合は、深さ[I]で一旦極大値となった粒子濃度がまた減少し始める。この濃度分布曲線をもとに極大値の粒子濃度の1/2になる深さ[II](ここで、II>I)を積層厚さとした。さらに、無機粒子などが含有されている場合には、二次イオン質量分析装置(SIMS)を用いて、フィルム中の粒子のうち最も高濃度の粒子の起因する元素とポリエステルの炭素元素の濃度比(M+/C+)を粒子濃度とし、層(A)の表面からの深さ(厚さ)方向の分析を行う。そして上記同様の手法から積層厚さを得る。
(3) Film Laminating Thickness The depth profile of the particle concentration is measured with XPS (X-ray photoelectron optical method), IR (infrared spectroscopy) or confocal microscope while etching from the surface. In the surface layer of the film laminated on one side, the particle concentration is low due to the air-resin interface called the surface, and the particle concentration increases as the distance from the surface increases. In the case of the film laminated on one side of the present invention, the particle concentration once reached the maximum value at the depth [I] starts to decrease again. Based on this concentration distribution curve, the depth [II] (here, II> I), which is ½ of the maximum particle concentration, was defined as the lamination thickness. Furthermore, when inorganic particles etc. are contained, using a secondary ion mass spectrometer (SIMS), the concentration ratio of the element resulting from the highest concentration of the particles in the film and the carbon element of the polyester Using (M + / C +) as the particle concentration, analysis in the depth (thickness) direction from the surface of the layer (A) is performed. Then, the laminated thickness is obtained from the same method as described above.

(4)F−5値および破断強度
インストロンタイプの引張試験機(オリエンテック(株)製フィルム強伸度自動測定装置“テンシロン”万能試験機RTC−1210)を用いて測定した。幅10mmの試料フィルムを、試長間100mm、引張り速度200mm/分の条件で引っ張り試験を行い、フフィルムが5%伸長時の応力をF−5値とし、破断した時の応力を求めて破断強度とした。測定は23℃、湿度65%RHで行った。
(4) F-5 value and breaking strength Measured using an Instron type tensile tester (Orientec Co., Ltd. film strength automatic elongation measuring device “Tensilon” universal testing machine RTC-1210). A 10 mm wide sample film was subjected to a tensile test under the conditions of a test length of 100 mm and a pulling speed of 200 mm / min. The stress when the film was stretched by 5% was defined as F-5 value, and the stress at the time of breaking was obtained to determine the breaking strength. It was. The measurement was performed at 23 ° C. and a humidity of 65% RH.

(5)熱収縮率:
フィルム表面に、幅10mm、測定長約100mmとなるように2本のラインを引き、この2本のライン間の距離を23℃で正確に測定しこれをL0とする。このフィルムサンプルを100℃および150℃のオーブン中に30分間、1.5gの荷重下で放置した後、再び2本のライン間の距離を23℃で測定しこれをL1とし、下式により熱収縮率を求めた。
熱収縮率(%)={(L0−L1)/L0]×100。
(5) Thermal contraction rate:
Two lines are drawn on the film surface so as to have a width of 10 mm and a measurement length of about 100 mm. The distance between the two lines is accurately measured at 23 ° C., and this is defined as L0. This film sample was left in an oven at 100 ° C. and 150 ° C. for 30 minutes under a load of 1.5 g, and then the distance between the two lines was measured again at 23 ° C., and this was defined as L1. Shrinkage was determined.
Thermal contraction rate (%) = {(L0−L1) / L0] × 100.

(6)フィルム表面粗さ(Ra値)
表面粗さ測定器(小坂研究所(株)製SE−3500)を用いて測定した。測定条件は下記のとおり。
触芯先端半径:5μm、針圧:0.7mN、測定長:4mm、カットオフ:0.25mm。
(6) Film surface roughness (Ra value)
It measured using the surface roughness measuring device (SE-3500 by Kosaka Laboratory). The measurement conditions are as follows.
Touch tip radius: 5 μm, needle pressure: 0.7 mN, measurement length: 4 mm, cut-off: 0.25 mm.

(7)窪み欠点数
フィルム10m(例えば、1m幅で10m長)の両面について、スポットライトを光源とし、反射光及び透過光を用いて、光の散乱に基づく輝点に注目しフィルムの表面を肉眼で検査し、欠点箇所にペンでマークを付ける。さらに、偏光光源を用いて、クロスニコルによる偏向乱れ輝点を検出する方法も併用する。マークした欠点箇所について、実体顕微鏡で窪みの最大径を測定し、最大径3mm以上の窪みについて、ミロー型二光束干渉検鏡装置付実体顕微鏡(Nikon製SMZ−10)を用いで窪み深さを測定し、深さ0.5μm以上で、最大径3mm以上の窪み欠点個数を測定した。窪みの深さは得られるλ/2ピッチで得られる干渉縞の乱れを測微接眼レンズで読みとり、下記により求めた。深さはフィルム表面から厚み方向への最大深さであり、窪み欠点の周りに盛り上がりを生じている場合は、盛り上がりの頂部から窪みの底部までの最大深さを求める。
深さ=λ/2×(B/A)
λ:546nm
A:接眼レンズによるλ/2の読みとり値
B:干渉縞の乱れ量。
(7) Number of dimple defects On both sides of the film 10 m 2 (for example, 1 m wide and 10 m long), the surface of the film is focused on bright spots based on light scattering using reflected light and transmitted light using a spotlight as a light source. Are examined with the naked eye, and the defect is marked with a pen. Further, a method of detecting a deflection disorder bright spot by crossed Nicols using a polarized light source is also used. For the marked defects, the maximum diameter of the dent is measured with a stereomicroscope, and the dent depth is measured for a dent with a maximum diameter of 3 mm or more using a stereo microscope with a mirro-type two-beam interference microscope (Nikon SMZ-10). Measurement was made to determine the number of recess defects having a depth of 0.5 μm or more and a maximum diameter of 3 mm or more. The depth of the dent was obtained by reading the disturbance of the interference fringes obtained at the obtained λ / 2 pitch with a microscopic eyepiece lens, as follows. The depth is the maximum depth in the thickness direction from the film surface. When a bulge occurs around the dent defect, the maximum depth from the top of the bulge to the bottom of the dent is obtained.
Depth = λ / 2 × (B / A)
λ: 546 nm
A: Reading value of λ / 2 by eyepiece
B: Disturbance amount of interference fringes.

(8)延伸ロールの表面粗さ
Mitutoyo(株)製の表面粗さ計サーフテスト301を使用して、カットオフ0.25mmにてロール幅方向3点において中心面平均粗さを測定し、その平均値を採用した。
(8) Surface roughness of stretching roll
Using a surface roughness meter Surf Test 301 manufactured by Mitutoyo Co., Ltd., the average roughness of the center plane was measured at three points in the roll width direction at a cutoff of 0.25 mm, and the average value was adopted.

(9)光線透過率およびヘイズ値
スガ試験機(株)製HZ−1型を用い、JIS K7105−1981に準じ測定した。
(9) Light transmittance and haze value Measured according to JIS K7105-1981 using HZ-1 type manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.

(10)レジスト解像度の目視検査
ドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムによるレジストの解像度の目視評価方法は、以下のような手順で行った。
(10) Visual inspection of resist resolution The visual evaluation method of resist resolution by the biaxially oriented polyester film for dry film resist support was performed in the following procedure.

(i)片面鏡面研磨した6インチSiウエハー上に、東京応化(株)製のネガレジスト“PMERN−HC600”を塗布し、大型スピナーで回転させることによって厚み7μmのレジスト層を作製した。次いで、窒素循環の通風オーブンを用いて70℃の温度条件で、約20分間の前熱処理を行った。   (i) A negative resist “PMERN-HC600” manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd. was applied onto a 6-inch Si wafer that had been polished on one side, and rotated with a large spinner to form a resist layer having a thickness of 7 μm. Next, a pre-heat treatment was performed for about 20 minutes under a temperature condition of 70 ° C. using a ventilation oven with nitrogen circulation.

(ii)ポリエステルフィルムをレジスト層と接触するように重ね、ゴム製のローラーを用いて、レジスト層上にポリエステルフィルムをラミネートし、その上に、クロム金属でパターニングされたレチクルを配置し、そのレクチル上からI線ステッパーを用いて露光を行った。   (ii) Overlay the polyester film in contact with the resist layer, laminate the polyester film on the resist layer using a rubber roller, place a reticle patterned with chromium metal on it, Exposure was performed from above using an I-line stepper.

(iii)レジスト層からポリエステルフィルムを剥離した後、現像液N−A5が入った容器にレジスト層を入れ約1分間の現像を行った。その後、現像液から取り出し、水で約1分間の洗浄を行った。   (iii) After peeling the polyester film from the resist layer, the resist layer was placed in a container containing the developer N-A5 and developed for about 1 minute. Then, it removed from the developing solution and washed with water for about 1 minute.

(iv)現像後に作成されたレジストパターンのL/S(μm)(Line and Space )の状態を走査型電子顕微鏡SEMを用いて約800〜3000倍率で観察した。レジストの解像度の評価は、以下の基準に従った。   (iv) The state of L / S (μm) (Line and Space) of the resist pattern prepared after development was observed at a magnification of about 800 to 3000 using a scanning electron microscope SEM. The resolution of the resist was evaluated according to the following criteria.

○:L/S=10/10μmが明確に確認できる。     ○: L / S = 10/10 μm can be clearly confirmed.

△:L/S=10/10μmは明確に確認できないが、L/S=15/15μmは明確に確認できる。     Δ: L / S = 10/10 μm cannot be clearly confirmed, but L / S = 15/15 μm can be clearly confirmed.

×:L/S=15/15μmが明確に確認できない。     X: L / S = 15/15 μm cannot be clearly confirmed.

(11)易滑性
フィルム同士の摩擦係数をASTM−D−1894−63に準じ、動摩擦係数μdを新東科学(株)製表面測定機HEIDON−14DRを用いて、サンプル移動速度200mm/分、荷重200g、接触面積63.5mm×63.5mmの条件で測定し、アンラライジングレコーダーTYPE・HEIDON3655E−99で記録評価し、以下の基準で判定した。○と△が使用可能であり、×は加工特性に劣り不合格である。
(11) The friction coefficient between slippery films is in accordance with ASTM-D-1894-63, and the dynamic friction coefficient μd is measured using a surface measuring machine HEIDON-14DR manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd. The measurement was performed under the conditions of a load of 200 g and a contact area of 63.5 mm × 63.5 mm, and recorded and evaluated with an unraising recorder TYPE / HEIDON 3655E-99, and judged according to the following criteria. ○ and Δ can be used, and × is inferior in processing characteristics and rejected.

○:μdが0.7未満
△:μdが0.7〜1.0未満
×:μdが1.0以上。
○: μd is less than 0.7 Δ: μd is less than 0.7 to 1.0 x: μd is 1.0 or more.

実施例1
ジメチルテレフタレート(DMT)に、DMT・1モルに対し1.9モルのエチレングリコールおよび酢酸マグネシウム・4水塩をDMTに100重量部対し0.05重量部、リン酸を0.015重量部加え加熱エステル交換を行い、引き続き三酸化アンチモンを0.025重量部加え、加熱昇温し真空化で重縮合反応を行い、粒子を実質的に含有しない、固有粘度0.62のホモポリエステルペレットを得た。
Example 1
To dimethyl terephthalate (DMT), 1.9 moles of ethylene glycol and magnesium acetate tetrahydrate per mole of DMT are added to 0.05 parts by weight of DMT and 0.015 parts by weight of phosphoric acid. Transesterification was performed, 0.025 parts by weight of antimony trioxide was subsequently added, the temperature was raised by heating and a polycondensation reaction was performed by evacuation to obtain homopolyester pellets having an inherent viscosity of 0.62, substantially containing no particles. .

さらに、凝集アルミナとしてδ型−アルミナを10重量%含むエチレングリコールスラリーとし、サンドグラインダーを用い、粉砕、分散処理を行い、さらに捕集効率95%の3μmフィルターを用いて濾過し、これを前記と同様に調整したエステル交換反応物に添加し、引き続き三酸化アンチモンを加え、重縮合反応を行い、凝集アルミナを2重量%含有する、固有粘度0.62のマスターペレットを得た。   Further, an ethylene glycol slurry containing 10% by weight of δ-type alumina as agglomerated alumina is crushed and dispersed using a sand grinder, and further filtered using a 3 μm filter with a collection efficiency of 95%. It added to the transesterification reaction material adjusted similarly, followed by adding antimony trioxide, and performing polycondensation reaction, The master pellet of the intrinsic viscosity 0.62 containing 2 weight% of aggregated alumina was obtained.

さらに別に、平均粒径0.45μmのビニルベンゼン/スチレン共重合架橋粒子の水スラリーを、上記の実質的に粒子を含有しないホモポリエステルペレットに、ベント式二軸混練機を用いて含有させ、0.45μmのジビニルベンゼン/スチレン共重合架橋粒子をポリエステルに対し1重量%含有するマスターペレットを得た。   Further, an aqueous slurry of vinylbenzene / styrene copolymer crosslinked particles having an average particle size of 0.45 μm is contained in the above-mentioned homopolyester pellets substantially free of particles using a vented biaxial kneader, and 0 A master pellet containing 1% by weight of .45 μm divinylbenzene / styrene copolymer crosslinked particles based on the polyester was obtained.

次に、A/B/Aの構成にすべく、B層の原料として、粒子を実質的に含有しないホモポリエステルを準備した(ポリエステルB)。さらに、A層の原料として、ホモポリエステル、凝集アルミナ含有マスターペレットおよびジビニルベンゼン/スチレン共重合架橋粒子含有マスターペレットを混合し、凝集アルミナ0.7重量%、0.45μmのジビニルベンゼン/スチレン共重合架橋粒子を0.03重量%含有するポリマーを準備した(ポリエステルA)。   Next, a homopolyester containing substantially no particles was prepared as a raw material for the layer B (polyester B) so as to have a configuration of A / B / A. Further, homopolyester, aggregated alumina-containing master pellets and divinylbenzene / styrene copolymer crosslinked particle-containing master pellets were mixed as raw materials for layer A, and 0.7% by weight of aggregated alumina and 0.45 μm divinylbenzene / styrene copolymer were mixed. A polymer containing 0.03% by weight of crosslinked particles was prepared (Polyester A).

これらのポリエステルA、Bをそれぞれ160℃で8時間減圧乾燥した後、別々の押出機に供給し、275℃で溶融押出して5μmのフィルターで高精度濾過した後、矩形の3層用合流ブロックで合流積層し、ポリエステルA/ポリエステルB/ポリエステルAからなる3層積層とした。その後、285℃に保ったスリットダイを介し冷却ロール上に静電印可キャスト法を用いて表面温度25℃のキャスティングドラムに巻き付け冷却固化して未延伸積層フィルムを得た。この未延伸積層フィルムを逐次二軸延伸機により、110℃で長手方向に3.7倍、および幅方向にそれぞれ4.1倍、トータルで15.2倍延伸しその後、再度180℃で1.05倍幅方向に延伸し、定長下、220℃で3秒間熱処理した。その後長手方向に1%、幅方向に2%の弛緩処理を施し、総厚み16μm、両面のポリエステルA層の厚みがそれぞれ0.6μmの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。
なお、延伸工程には、表面粗さ0.2μmのシリコーンロールを用い、延伸部におけるロールとフィルムのトータルの接触時間は0.06秒とした。
本フィルムの評価結果を表1,表2示した。
These polyesters A and B were each dried under reduced pressure at 160 ° C. for 8 hours, then supplied to separate extruders, melt-extruded at 275 ° C., filtered with high accuracy through a 5 μm filter, and then joined with a rectangular three-layer confluence block. Combined lamination was performed to form a three-layer laminate comprising polyester A / polyester B / polyester A. Thereafter, the film was wound around a casting drum having a surface temperature of 25 ° C. on a cooling roll through a slit die maintained at 285 ° C. by using an electrostatic application casting method, and solidified by cooling to obtain an unstretched laminated film. This unstretched laminated film was stretched by a sequential biaxial stretching machine at 110 ° C. in the longitudinal direction by 3.7 times and in the width direction by 4.1 times, respectively, for a total of 15.2 times. The film was stretched in the 05-fold width direction and heat-treated at 220 ° C. for 3 seconds under a constant length. Thereafter, relaxation treatment of 1% in the longitudinal direction and 2% in the width direction was performed to obtain a biaxially oriented polyester film having a total thickness of 16 μm and the thicknesses of the polyester A layers on both sides of 0.6 μm.
In the stretching step, a silicone roll having a surface roughness of 0.2 μm was used, and the total contact time between the roll and the film in the stretching portion was 0.06 seconds.
Tables 1 and 2 show the evaluation results of this film.

実施例2〜5、比較例1〜4
添加する粒子の粒径、添加量、およびA層に添加する粒子の添加量、さらにA層の厚み、延伸条件を変更する以外は実施例1と同様にして二軸配向ポリエステルフィルムを得た。
製造条件、評価結果について、表1,表2に示した。
Examples 2-5, Comparative Examples 1-4
A biaxially oriented polyester film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the particle diameter of the particles to be added, the addition amount, the addition amount of the particles to be added to the A layer, the thickness of the A layer, and the stretching conditions were changed.
The production conditions and evaluation results are shown in Tables 1 and 2.

Figure 2008239743
Figure 2008239743

Figure 2008239743
Figure 2008239743

Claims (3)

深さ0.5μm以上の窪み欠点数が5個/m以下であり、
長手方向のF−5値が70〜150MPaで、
幅方向のF−5値が80〜160MPaであり、
ヘイズ値が1%以下であり、
150℃30分間の熱収縮率が長手方向で1.5〜3.5%、幅方向で0.5〜2.5%であるドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルム。
The number of dent defects having a depth of 0.5 μm or more is 5 / m 2 or less,
F-5 value in the longitudinal direction is 70 to 150 MPa,
The F-5 value in the width direction is 80 to 160 MPa,
The haze value is 1% or less,
A biaxially oriented polyester film for a dry film resist support having a heat shrinkage of 150 to 30 ° C. for 30 minutes in the longitudinal direction of 1.5 to 3.5% and in the width direction of 0.5 to 2.5%.
三層構造からなり、表層部に平均粒径が0.2〜0.7μmの有機粒子を表層に対して0.01〜0.1重量%含有し、
表面粗さ(Ra)が3〜10nmである請求項1記載のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルム。
It consists of a three-layer structure, and the surface layer portion contains organic particles having an average particle diameter of 0.2 to 0.7 μm with respect to the surface layer of 0.01 to 0.1% by weight,
The biaxially oriented polyester film for a dry film resist support according to claim 1, wherein the surface roughness (Ra) is 3 to 10 nm.
表層に凝集アルミナ粒子を0.1〜1重量%含有する請求項2記載のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルム。 The biaxially oriented polyester film for a dry film resist support according to claim 2, wherein the surface layer contains 0.1 to 1% by weight of aggregated alumina particles.
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