JP2018065250A - Biaxially oriented polyester film for dry film resist support and production method of the same - Google Patents

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大平 貴之
Takayuki Ohira
貴之 大平
益民 下田
Mitsuhito Shimoda
益民 下田
山本 さとし
Satoshi Yamamoto
さとし 山本
維允 鈴木
Tadamasa Suzuki
維允 鈴木
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a biaxially oriented polyester film for a dry film resist support, capable of responding to demands for higher quality and higher productivity, in which entrained dust is reduced by imparting antistatic performance to one surface of the sheet, offset of an antistatic component to the other surface is prevented by imparting antistatic performance by kneading the antistatic, thereby, high resolution of a resist can be achieved, and slipping property can be significantly improved by using two types of particles having different particle diameters together.SOLUTION: The biaxially oriented polyester film for a dry film resist support is a polyester film having a multilayer structure of at least three layers, in which a difference in the surface free energy between a surface (referred as surface (A)) of one outermost layer (referred as A layer) and a surface (referred as surface (B)) of the other outermost layer (referred as B layer) is 5.0 mN/m or more, the surface specific resistance value of the surface (A) is 1.0×10Ω/unit square or more, and the surface specific resistance value of the surface (B) is 1.0×10Ω/unit square or less.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、ドライフィルムレジスト支持体用ポリエステルフィルムに関するものである。   The present invention relates to a polyester film for a dry film resist support.

ドライフィルムレジスト(以下DFRと呼ぶ場合がある)は、プリント配線基板、半導体パッケージ、フレキシブル基板などの回路を形成するために用いられている。DFRは、感光層(フォトレジスト層)を、支持体としてのポリエステルフィルム上に積層させた後、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエステルフィルムなどからなる保護フィルム(カバーフィルム)で挟んだ構造をしている。このDFRを用いて導体回路を作成するには、一般的に次のような工程で行われる。
1)DFRから保護フィルムを剥離し、露出したレジスト層の表面と、基板上の銅箔などの導電性基材層の表面とが密着するように、基板・導電性基材層とラミネートする工程。
2)次に、導体回路パターンを焼き付けたフォトマスクを、ポリエステルフィルムからなる支持体上に置き、その上から、感光性樹脂を主体としたレジスト層に紫外線を照射して、露光させる工程。
3)その後、フォトマスクおよびポリエステルフィルムを剥離した後、溶剤によってレジスト層中の未反応分を溶解、除去する工程。
4)次いで、酸などでエッチングを行い、導電性基材層中の露出した部分を溶解、除去する工程。
Dry film resists (hereinafter sometimes referred to as DFR) are used to form circuits such as printed wiring boards, semiconductor packages, and flexible boards. The DFR has a structure in which a photosensitive layer (photoresist layer) is laminated on a polyester film as a support and then sandwiched between protective films (cover films) made of a polyethylene film, a polypropylene film, a polyester film, or the like. . To create a conductor circuit using this DFR, the following steps are generally performed.
1) Step of laminating the protective film from the DFR and laminating it with the substrate / conductive substrate layer so that the exposed surface of the resist layer and the surface of the conductive substrate layer such as copper foil on the substrate are in close contact with each other .
2) Next, a step of placing a photomask on which a conductor circuit pattern is baked on a support made of a polyester film and exposing the resist layer mainly composed of a photosensitive resin by irradiating with ultraviolet rays.
3) Then, after peeling the photomask and the polyester film, a step of dissolving and removing unreacted components in the resist layer with a solvent.
4) Next, a step of etching with acid or the like to dissolve and remove the exposed portion in the conductive base material layer.

4)の工程の後には、レジスト層中の光反応部分とこの光反応部分に対応する導電性基材層部分がそのまま残り、その後、残ったレジスト層を除去する工程を経て、基板上の導体回路が形成されることになる。このため、支持体であるポリエステルフィルムには、紫外線を効率的に透過できることが要求される。これにより、導体回路パターンが、正確にレジスト層上に反映される。とくに近年では、IT機器など小型化、軽量化などに伴い、透過性に優れ、ヘイズが低く、高解像化を達成できるドライフィルムレジスト支持体用ポリエステルフィルムが要求されている。また、支持体としてのポリエステルフィルムは、支持体上にレジスト層を形成してレジストフィルムを製造する際の取り扱い性を良好にするために、適度なすべり性を有することが重要である。しかしながら、適度なすべり性を付与するために易滑材としての粒子を含有させた場合、露光工程時の紫外線照射の際、粒子による光散乱が透過、反射共に引き起こされ、レジストの解像度を低下させてしまうという問題が生じていた。   After the step 4), the photoreactive portion in the resist layer and the conductive base material layer portion corresponding to the photoreactive portion remain as they are, and then the step of removing the remaining resist layer, the conductor on the substrate A circuit will be formed. For this reason, it is requested | required that the polyester film which is a support body can permeate | transmit an ultraviolet-ray efficiently. Thereby, the conductor circuit pattern is accurately reflected on the resist layer. Particularly in recent years, with the miniaturization and weight reduction of IT equipment and the like, there is a demand for a polyester film for a dry film resist support that has excellent transparency, low haze, and high resolution. In addition, it is important that the polyester film as a support has an appropriate sliding property in order to improve the handleability when a resist film is produced by forming a resist layer on the support. However, when particles as an easy-to-slip material are included to give appropriate slipperiness, light scattering by the particles is caused in both transmission and reflection during ultraviolet irradiation during the exposure process, and the resolution of the resist is lowered. There was a problem that it would end up.

そこで、フィルムの表面を高平滑にして、かつヘイズ値を低くすることや、波長365nmにおける透過率を一定範囲内とすることを特徴とするドライフィルムレジスト支持体用ポリエステルフィルムが提案されている(特許文献1)。また、帯電防止剤の配合によりレジスト用ポリエステルフィルムを製造する際の取り扱い性、ゴミや異物の付着防止や、該フィルムを用いたレジストフィルム自身の取り扱い性、ゴミや異物の付着防止を向上させる技術が開示されている(特許文献2、3)。   Therefore, a polyester film for a dry film resist support has been proposed in which the surface of the film is highly smoothed and the haze value is lowered, and the transmittance at a wavelength of 365 nm is within a certain range ( Patent Document 1). Technology to improve handling of polyester film for resist by blending antistatic agent, prevention of dust and foreign matter adhesion, handling of resist film itself using the film, and prevention of dust and foreign matter adhesion Are disclosed (Patent Documents 2 and 3).

特開2016−87854号公報JP-A-2006-87854 特開2001−117237号公報JP 2001-117237 A 特開2006−327158号公報JP 2006-327158 A

しかしながら、これら前記の提案でも、高解像度化の要求を満足することは難しく、現像後のレジストのパターニングにゆがみや、抜け、レジストパターン壁面の状態が悪いなどの欠点が十分に解消できず、依然として、高解像度化への品質向上が求められている。さらには、高解像度化への対応結果、滑剤としてベースフィルムに添加する、あるいはベースフィルム上に付与する粒子の量が減った結果フィルム製造工程や上記DFR製造工程にて収率低下、特に巻きに関わる問題が目立って発生しているため、生産性(フィルム巻き取り性)向上の要求がある。また、塗布方式による帯電防止性能の付与の場合、塗布層の工程内でのロールなどでの削れによる帯電防止性能の失活や、裏面(レジスト面)への帯電防止剤成分裏移りによるレジストのパターニングでの不具合(ゆがみ、欠け、抜け)が発生する可能性がある。これら事情に鑑み、本発明は、一方の面に帯電防性能を持たせることで巻き込み塵埃を減らし、練り込みによる帯電防止性能付与によりもう一方の面への裏移りを防ぐことでレジストの高解像度を達成するとともに、粒径の異なる2種類の粒子を併用することにより、すべり性を著しく向上することができ、品質向上、生産性向上に対応できるドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムを提供することを課題とする。   However, even in these proposals, it is difficult to satisfy the demand for higher resolution, and the defects such as distortion and omission in resist patterning after development, and the state of the resist pattern wall surface cannot be sufficiently solved, and still remain. Therefore, there is a demand for quality improvement for higher resolution. Furthermore, as a result of supporting high resolution, the amount of particles added to the base film as a lubricant or applied on the base film is reduced, resulting in a decrease in yield in the film manufacturing process and the above DFR manufacturing process, especially in winding. Since related problems are conspicuously occurring, there is a demand for improvement in productivity (film winding property). In addition, in the case of imparting antistatic performance by the coating method, the resist is deactivated due to scraping with a roll or the like in the coating layer process, or the antistatic agent component is transferred to the back surface (resist surface). There is a possibility that defects (distortion, chipping, omission) may occur in patterning. In view of these circumstances, the present invention reduces the entrainment dust by providing antistatic performance on one surface, and prevents the settling to the other surface by imparting antistatic performance by kneading, thereby improving the high resolution of the resist. A biaxially oriented polyester film for a dry film resist support that can remarkably improve slipperiness by using two types of particles having different particle diameters, and can improve quality and productivity. The issue is to provide.

本発明は、以下の特徴を有する。
[I]3層以上の積層構造を有するポリエステルフィルムであり、
一方の最外層(該層をA層とする)の表面(該面を表面(A)とする)ともう一方の最外層(該層をB層とする)の表面(該面を表面(B)とする)の表面自由エネルギーの差が5.0mN/m以上であり、表面(A)の表面比抵抗値が1.0×1014Ω/□以上かつ、表面(B)の表面比抵抗値が1.0×1013Ω/□以下であるドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルム。
[II]表面(B)の表面自由エネルギーが、表面(A)の表面自由エネルギーよりも大きい[I]に記載のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルム。
[III]前記B層が2種類以上の粒子を含有しており、1種の粒子が最大粒子径DAが0.3μm未満であり(当該粒子を粒子Aとする)、1種の粒子が最大粒子径DBが0.3μm以上1.0μm未満である(当該粒子を粒子Bとする)[I]または[II]に記載のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルム。
[IV]フィルムヘイズが1.0%未満である[I]〜[III]のいずれかに記載のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルム。
[V]帯電防止剤を含有する[I]〜[IV]のいずれかに記載のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルム。
[VI]表面(A)の表面粗さSRa(A)および表面(B)の表面粗さSRa(B)がいずれも7nm以下であり、表面(A)の表面粗さSRz(A)および表面(B)の表面粗さSRz(B)がいずれも400nm以下である[I]〜[V]のいずれかに記載のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルム。
[VII]表面(A)の表面粗さSRz(A)が100nm以下であり、表面(B)の表面粗さSRz(B)が100nm以上400nm以下である[I]〜[VI]のいずれかに記載のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルム。
[VIII]表面(A)上にレジスト層を積層して用いる[I]〜[VII]のいずれかに記載のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルム。
[IX]共押出し法により溶融製膜して得ることを特徴とする[I]〜[VIII]のいずれかに記載のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムの製造方法。
The present invention has the following features.
[I] A polyester film having a laminated structure of three or more layers,
The surface of one outermost layer (this layer is A layer) (the surface is the surface (A)) and the other outermost layer (this layer is the B layer) (the surface is the surface (B )) Is a surface free energy difference of 5.0 mN / m or more, the surface resistivity of the surface (A) is 1.0 × 10 14 Ω / □ or more, and the surface resistivity of the surface (B). A biaxially oriented polyester film for a dry film resist support having a value of 1.0 × 10 13 Ω / □ or less.
[II] The biaxially oriented polyester film for a dry film resist support according to [I], wherein the surface free energy of the surface (B) is larger than the surface free energy of the surface (A).
[III] The layer B contains two or more types of particles, one type of particles has a maximum particle size DA of less than 0.3 μm (the particles are referred to as particles A), and one type of particles is the maximum The biaxially oriented polyester film for dry film resist support according to [I] or [II], wherein the particle size DB is 0.3 μm or more and less than 1.0 μm (the particles are referred to as particles B).
[IV] The biaxially oriented polyester film for dry film resist support according to any one of [I] to [III], wherein the film haze is less than 1.0%.
[V] The biaxially oriented polyester film for dry film resist support according to any one of [I] to [IV] containing an antistatic agent.
[VI] Surface roughness SRa (A) of surface (A) and surface roughness SRa (B) of surface (B) are both 7 nm or less, surface roughness SRz (A) and surface of surface (A) The biaxially oriented polyester film for a dry film resist support according to any one of [I] to [V], wherein the surface roughness SRz (B) of (B) is 400 nm or less.
[VII] The surface roughness SRz (A) of the surface (A) is 100 nm or less, and the surface roughness SRz (B) of the surface (B) is 100 nm or more and 400 nm or less, and any one of [I] to [VI] 2. A biaxially oriented polyester film for a dry film resist support according to 1.
[VIII] The biaxially oriented polyester film for dry film resist support according to any one of [I] to [VII], which is used by laminating a resist layer on the surface (A).
[IX] The method for producing a biaxially oriented polyester film for a dry film resist support according to any one of [I] to [VIII], which is obtained by melt film formation by a coextrusion method.

本発明によれば、一方の面に帯電防性能を持たせることで巻き込み塵埃を減らし、練り込みによる帯電防止性能付与によりもう一方の面への裏移りを防ぐことでレジストの高解像度を達成するとともに、粒径の異なる2種類の粒子を併用することにより、すべり性を著しく向上することができ、品質向上、生産性向上に対応できるドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムを提供することができる。   According to the present invention, the high resolution of the resist is achieved by reducing entrained dust by imparting antistatic performance to one surface and preventing settling to the other surface by imparting antistatic performance by kneading. In addition, by using two types of particles having different particle diameters together, it is possible to remarkably improve slipperiness, and to provide a biaxially oriented polyester film for a dry film resist support capable of improving quality and improving productivity. Can do.

本発明にかかるレジスト支持体用ポリエステルフィルムは、ポリエステル樹脂を主成分とする3層以上の積層構造を有する。そして、一方の最外層(該層をA層とする)の表面(該面を表面(A)とする)の算術平均表面粗さSRa(A)および、もう一方の最外層(該層をB層とする)の表面(該面を表面(B)とする)の算術平均表面粗さSRa(B)がいずれも7nm以下かつ、表面(A)の十点平均表面粗さSRz(A)および表面(B)の十点平均表面粗さSRz(B)がいずれも400nm以下であることが好ましい。好ましくは、SRz(A)が100nm以下かつSRz(B)が100nm以上400nm以下で、表面(A)と表面(B)とで差異があることが性能とハンドリングを両立する意味で好ましい。   The polyester film for resist support according to the present invention has a laminated structure of three or more layers containing a polyester resin as a main component. Then, the arithmetic average surface roughness SRa (A) of the surface of the outermost layer (the layer is A layer) (the surface is the surface (A)) and the other outermost layer (the layer is B) The arithmetic average surface roughness SRa (B) of the surface of the layer (referred to as the surface (B)) is 7 nm or less, and the ten-point average surface roughness SRz (A) of the surface (A) and The ten-point average surface roughness SRz (B) of the surface (B) is preferably 400 nm or less. Preferably, SRz (A) is 100 nm or less, SRz (B) is 100 nm or more and 400 nm or less, and there is a difference between the surface (A) and the surface (B) in terms of achieving both performance and handling.

表面(A)においては、SRa(A)は7nm以下かつSRz(A)は400nm以下であることが好ましい。さらには、SRa(A)は3nm以上6nm未満であることがより好ましく、SRz(A)は50nm以上100nm未満であることがより好ましい。本発明のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムは、レジスト支持体用に用いるときには、表面(A)側にレジスト層を積層して用いることが好ましい。該範囲の表面粗さを達成することにより、露光時にフィルム表面での反射の影響を抑える適切な平滑性が得られ、高精細なレジストパターンを形成することが可能であり、同時に加工時のハンドリング性を得られる。SRa(A)が7nmより大きい、もしくはSRz(A)が400nmより大きい場合、フィルムよりレジスト面に転写される凹凸と凹凸による露光工程での光の入射角が不均一になることによる光の反射や散乱の影響により、レジストパターンの抜けが生じることがあり好ましくない。   On the surface (A), SRa (A) is preferably 7 nm or less and SRz (A) is preferably 400 nm or less. Furthermore, SRa (A) is more preferably 3 nm or more and less than 6 nm, and SRz (A) is more preferably 50 nm or more and less than 100 nm. The biaxially oriented polyester film for dry film resist support of the present invention is preferably used by laminating a resist layer on the surface (A) side when used for a resist support. By achieving the surface roughness within this range, it is possible to obtain appropriate smoothness that suppresses the influence of reflection on the film surface during exposure, and to form a high-definition resist pattern, and at the same time handling during processing You can get sex. When SRa (A) is larger than 7 nm or SRz (A) is larger than 400 nm, light reflection due to unevenness transferred from the film to the resist surface and unevenness of the incident angle of light in the exposure process due to the unevenness. The resist pattern may be lost due to the influence of scattering and scattering, which is not preferable.

一方で表面(B)においては、SRa(B)は7nm以下かつSRz(B)は400nm以下であることが好ましい。さらには、SRa(B)は3nm以上6nm未満であることがより好ましく、SRz(B)は100nm以上400nm未満であることがより好ましい。本発明のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムの表面(A)側にレジスト層を積層し、その上にカバーフィルムを貼合し巻き取った際には、表面(B)側はカバーフィルムと接する面となる。SRa(B)が3nm未満もしくはSRz(B)が100nm未満となると、レジスト塗布工程にてハンドリング性が悪化し、塗布が不安定となり、塗布斑が発生することや、塗布後の巻き取り時に、噛み込んだ空気が抜けにくくなることによる、巻きズレを起こすことがあるため、好ましくない。また、SRa(B)が7nmより大きい、もしくはSRz(B)が400nmより大きい場合、表面に形成された凹凸により露光工程での光の入射角が不均一になるにことによる光の反射や散乱の影響により、レジストパターンを形成する際のノイズとなるため、好ましくない。   On the other hand, on the surface (B), SRa (B) is preferably 7 nm or less and SRz (B) is preferably 400 nm or less. Furthermore, SRa (B) is more preferably 3 nm or more and less than 6 nm, and SRz (B) is more preferably 100 nm or more and less than 400 nm. When the resist layer is laminated on the surface (A) side of the biaxially oriented polyester film for dry film resist support of the present invention, and the cover film is bonded and wound on the surface, the surface (B) side is covered. It will be the surface in contact with the film. When SRa (B) is less than 3 nm or SRz (B) is less than 100 nm, handling properties deteriorate in the resist coating process, coating becomes unstable, coating spots occur, and when winding after coating, This is not preferable because the entrained air may be difficult to escape and may cause winding deviation. Further, when SRa (B) is larger than 7 nm or SRz (B) is larger than 400 nm, light reflection or scattering due to unevenness of the incident angle of light in the exposure process due to the unevenness formed on the surface. This is not preferable because it causes noise when forming a resist pattern.

A層、B層の表面粗さを上述の範囲とするには、A面を有する層(A層)およびB面を有する層(B層)を構成するポリエステル樹脂に、後述する特定の有機粒子あるいは無機粒子を特定量含有させることによって達成出来る。   In order to make the surface roughness of the A layer and the B layer within the above-mentioned range, specific organic particles described later are added to the polyester resin constituting the layer having the A surface (A layer) and the layer having the B surface (B layer). Alternatively, it can be achieved by containing a specific amount of inorganic particles.

ポリエステルフィルムに高い透明性を付与するためには、A層およびB層の粒子量をコントロールしながら、A層とB層の間に存在する中間層(C層)を例えば実質的に粒子を含まない構成にすることが好ましい。   In order to impart high transparency to the polyester film, for example, an intermediate layer (C layer) existing between the A layer and the B layer is substantially contained while controlling the amount of particles in the A layer and the B layer. It is preferable to have no configuration.

また、本発明のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムは、二軸配向していることが必要である。本発明における、二軸配向とは、未延伸(未配向)フィルムを、常法により、二次元方向に延伸された状態(広角X線回折で二軸配向のパターンを示すもの)を指す。延伸は、逐次二軸延伸、同時二軸延伸を採ることができる。逐次二軸延伸は、長手方向(縦)および幅方向(横)に延伸する工程を、縦−横の1回ずつ実施することもできるし、縦−横−縦−横など、2回ずつ実施することもできる。   In addition, the biaxially oriented polyester film for dry film resist support of the present invention needs to be biaxially oriented. In the present invention, the biaxial orientation refers to a state in which an unstretched (unoriented) film is stretched in a two-dimensional direction by a conventional method (showing a biaxially oriented pattern by wide-angle X-ray diffraction). Stretching can take sequential biaxial stretching and simultaneous biaxial stretching. In sequential biaxial stretching, the process of stretching in the longitudinal direction (longitudinal) and the width direction (transverse) can be performed once in the length-width direction, or twice in the length-width-length-width direction. You can also

本発明において、ポリエステル樹脂を主成分とするとは、少なくとも70モル%以上が、ジカルボン酸とジオール、およびそれらのエステル形成性誘導体を主たる構成成分とする単量体または低重合体からの重合により得られるポリエステルである。本発明では、ジカルボン酸としては、芳香族ジカルボン酸を用いることが好ましい。   In the present invention, a polyester resin as a main component means that at least 70 mol% or more is obtained by polymerization from a monomer or a low polymer mainly composed of a dicarboxylic acid, a diol, and an ester-forming derivative thereof. Polyester. In the present invention, it is preferable to use an aromatic dicarboxylic acid as the dicarboxylic acid.

芳香族ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、などであり、とくにはテレフタル酸が好ましい。これらの酸成分は1種のみ用いてもよく、2種以上併用してもよく、イソフタル酸など他の芳香族ジカルボン酸、あるいは脂肪酸を一部共重合してもよい。   Examples of the aromatic dicarboxylic acid include terephthalic acid and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, and terephthalic acid is particularly preferable. These acid components may be used alone or in combination of two or more, and may be partially copolymerized with other aromatic dicarboxylic acids such as isophthalic acid or fatty acids.

また、ジオール成分としては、例えば、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、などを挙げることができる。中でもエチレングリコールが好ましく用いられる。これらのジオール成分は1種のみ用いてもよく、2種以上併用してもよい。   Examples of the diol component include ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, neopentyl glycol, and the like. Of these, ethylene glycol is preferably used. These diol components may be used alone or in combination of two or more.

本発明のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムに用いられるポリエステルとして、好ましくは、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、およびその共重合体、ポリブチレンテレフタレートおよびその共重合体、ポリブチレンナフタレートおよびその共重合体、さらにはポリヘキサメチレンテレフタレートおよびその共重合体、ポリヘキサメチレンナフタレートおよびその共重合体等を挙げることができ、とくに、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。   The polyester used in the biaxially oriented polyester film for dry film resist support of the present invention is preferably polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and a copolymer thereof, polybutylene terephthalate and a copolymer thereof, polybutylene naphthalate, and Examples of the copolymer include polyhexamethylene terephthalate and a copolymer thereof, polyhexamethylene naphthalate and a copolymer thereof, and polyethylene terephthalate is particularly preferable.

本発明に使用するポリエステルは、従来から知られている方法で製造することができる。例えば、酸成分をジオール成分と直接エステル化反応させた後、この反応の生成物を減圧下で加熱して余剰のジオール成分を除去しつつ重縮合させることによって製造する方法や、酸成分としてジアルキルエステルを用い、これとジオール成分とでエステル交換反応させた後、上記と同様に重縮合させることによって製造する方法などが採用できる。この際、必要に応じて、反応触媒として従来公知のアルカリ金属、アルカリ土類金属、マンガン、コバルト、亜鉛、アンチモン、ゲルマニウム、チタン化合物などを用いることもできる。   The polyester used in the present invention can be produced by a conventionally known method. For example, a method in which an acid component is directly esterified with a diol component, and then the product of this reaction is heated under reduced pressure to perform polycondensation while removing excess diol component, or a dialkyl as an acid component A method of producing an ester by transesterifying it with a diol component and then performing polycondensation in the same manner as described above can be employed. At this time, conventionally known alkali metals, alkaline earth metals, manganese, cobalt, zinc, antimony, germanium, titanium compounds, and the like can be used as a reaction catalyst, if necessary.

上記ポリエステルの固有粘度は下限0.5dl/g、上限 0.8dl/gが好ましい。さらに好ましくは下限0.55dl/g、上限0.70dl/gである。   The intrinsic viscosity of the polyester is preferably a lower limit of 0.5 dl / g and an upper limit of 0.8 dl / g. More preferably, the lower limit is 0.55 dl / g and the upper limit is 0.70 dl / g.

本発明のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムは、フィルムの全厚みが10〜350μmであることが好ましく、10〜50μmであることがより好ましい。とくに好ましくは12μmから40μmである。全厚みが10μm未満では、強度が不足し加工工程での取り扱いが難しくなることがあり、350μmを越えると、光線透過率およびヘイズ値を本発明範囲内にすることが難しくなる場合がある。   The biaxially oriented polyester film for a dry film resist support of the present invention preferably has a total film thickness of 10 to 350 μm, more preferably 10 to 50 μm. Particularly preferably, it is 12 μm to 40 μm. If the total thickness is less than 10 μm, the strength may be insufficient and handling in the processing step may be difficult, and if it exceeds 350 μm, it may be difficult to make the light transmittance and haze value within the range of the present invention.

本発明におけるポリエステルフィルムにおいては、寸法変化率が、下記の範囲内であるとDFR加工工程での熱収縮による歪みやシワの発生を抑制できるため好ましい。寸法変化率は、製膜条件における弛緩・熱処理等の条件を公知の方法により適宜調整することにより達成出来る。150℃における寸法変化率は長手方向で3.0%以下、幅方向で2.5%以下が好ましく、長手方向で0.5%以上2.0%以下、幅方向で1.0%以上2.0%以下がさらに好ましい。また、100℃における寸法変化率は長手方向、幅方向ともに1.0%以下が好ましく、0.2%以上0.8%以下の範囲であるとさらに好ましい。該寸法変化率において上記範囲の下限を下回ると、レジスト層を塗布する際にタルミによる平面性不良が発生し、上限を上回ると、レジスト層を塗布する際に収縮によりトタン状に収縮斑が発生し平面性不良となり、いずれの場合もレジスト層の塗布厚みに斑を生じさせることがある。   In the polyester film in the present invention, it is preferable that the dimensional change rate is in the following range, because generation of distortion and wrinkles due to thermal shrinkage in the DFR processing step can be suppressed. The dimensional change rate can be achieved by appropriately adjusting the conditions such as relaxation and heat treatment in the film forming conditions by a known method. The dimensional change rate at 150 ° C. is preferably 3.0% or less in the longitudinal direction and 2.5% or less in the width direction, 0.5% or more and 2.0% or less in the longitudinal direction, and 1.0% or more and 2 in the width direction. 0.0% or less is more preferable. The dimensional change rate at 100 ° C. is preferably 1.0% or less in both the longitudinal direction and the width direction, and more preferably in the range of 0.2% to 0.8%. If the dimensional change rate is below the lower limit of the above range, flatness defects due to tarmi occur when applying the resist layer, and if it exceeds the upper limit, shrinkage spots are generated in a tin shape due to shrinkage when applying the resist layer. However, the flatness becomes poor, and in any case, the coating thickness of the resist layer may be uneven.

また、長手方向のフィルムが5%伸張したときの強度(以降この値のことをF−5値と称する)が70MPa以上150MPa未満であることが好ましい。長手方向のF−5値が70MPa未満では強度不足により傷の発生などにより加工特性が悪くなる場合がある。一方、長手方向のF−5値が150MPa以上では幅方向のF−5値との両立が困難となる場合がある。長手方向のF−5値は、好ましくは、80MPa以上140MPa未満、さらに好ましくは90MPa以上130MPa未満である。   Moreover, it is preferable that the strength (hereinafter, this value is referred to as F-5 value) when the film in the longitudinal direction is stretched by 5% is 70 MPa or more and less than 150 MPa. If the F-5 value in the longitudinal direction is less than 70 MPa, the processing characteristics may be deteriorated due to scratches due to insufficient strength. On the other hand, when the F-5 value in the longitudinal direction is 150 MPa or more, it may be difficult to achieve compatibility with the F-5 value in the width direction. The F-5 value in the longitudinal direction is preferably 80 MPa or more and less than 140 MPa, more preferably 90 MPa or more and less than 130 MPa.

さらに、幅方向のF−5値が80MPa以上160MPa未満であることが好ましい。幅方向のF−5値が80MPa未満では強度不足による傷の発生などによる加工特性が悪くなる場合があり、160MPa以上では長手方向のF−5値との両立が難しくなる場合がある。好ましくは90MPa以上150MPa未満であり、さらに好ましくは100MPa以上140MPa未満である。   Furthermore, the F-5 value in the width direction is preferably 80 MPa or more and less than 160 MPa. If the F-5 value in the width direction is less than 80 MPa, the processing characteristics due to the occurrence of scratches due to insufficient strength may be deteriorated, and if it is 160 MPa or more, it may be difficult to achieve compatibility with the F-5 value in the longitudinal direction. Preferably it is 90 MPa or more and less than 150 MPa, More preferably, it is 100 MPa or more and less than 140 MPa.

また、長手方向の破断強度は200MPa以上360MPa未満であるのが好ましく、220MPa以上340MPa未満の場合がさらに好ましい。幅方向の破断強度については260MPa以上420MPa未満であるのが好ましく、とくに好ましくは280MPa以上400MPa未満である。   The breaking strength in the longitudinal direction is preferably 200 MPa or more and less than 360 MPa, and more preferably 220 MPa or more and less than 340 MPa. The breaking strength in the width direction is preferably 260 MPa or more and less than 420 MPa, and particularly preferably 280 MPa or more and less than 400 MPa.

上記、F−5値および破断強度は縦方向および横方向の延伸温度、延伸倍率を適宜調整することで達成できる。   The F-5 value and the breaking strength can be achieved by appropriately adjusting the stretching temperature and the stretching ratio in the longitudinal direction and the transverse direction.

さらに、本発明のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムでは、フィルムヘイズは1.0%未満であることが好ましい。1.0%以上になると、ポリエステルフィルムにレジスト層を積層した後、紫外線を照射して露光するにあたってのレジスト層の支持体であるポリエステルフィルムによる紫外光線の散乱が大きくなるため、現像後のレジストのパターニングにゆがみや、抜け、レジストパターン壁面の状態が悪化する。また、ポリエステルフィルムの透過率を阻害する場合がある。   Furthermore, in the biaxially oriented polyester film for dry film resist support of the present invention, the film haze is preferably less than 1.0%. When the ratio is 1.0% or more, the resist film after development is increased because the polyester film, which is a support for the resist layer, is exposed by irradiating ultraviolet rays after laminating a resist layer on the polyester film. The patterning is distorted, missing, and the state of the resist pattern wall surface deteriorates. Moreover, the transmittance | permeability of a polyester film may be inhibited.

本発明のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムの表面を構成するポリエステル層(A層、B層)に含有する粒子としては、有機、無機の粒子を用いることができるが、有機系としては、例えば、ポリイミド系樹脂、オレフィンあるいは変性オレフィン系樹脂、架橋ポリスチレン系樹脂、シリコーン樹脂などを、無機系としては、例えば、酸化珪素、炭酸カルシウム、凝集アルミナ、珪酸アルミニウム、マイカ、クレー、タルク、硫酸バリウムなどを挙げることができる。これらの粒子の採用にあたっては、光線透過率およびヘイズ値の上昇を抑制するため、粒子表面を界面活性剤などで表面改質し、ポリエステルとの親和性を改善する方法が添加粒子周辺でのボイド発生を抑制する点で好ましく採用できる。また、粒子形状が球状に近く、さらに、ポリエステルとの屈折率の差が少ない方が、フィルム層内を紫外線が通過時の散乱光を抑制することができ好ましく、コロイダルシリカ、有機粒子がとくに好ましく、さらに、シリコーン粒子、架橋ポリスチレン粒子が好適である。中でも、乳化重合で調整された、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体からなる架橋ポリスチレン粒子は粒子形状が真球に近く、粒子径分布が均一であり、均一な突起形成を図ることが可能で好ましい。   As particles contained in the polyester layer (A layer, B layer) constituting the surface of the biaxially oriented polyester film for dry film resist support of the present invention, organic and inorganic particles can be used. Is, for example, polyimide resin, olefin or modified olefin resin, cross-linked polystyrene resin, silicone resin, etc., as inorganic, for example, silicon oxide, calcium carbonate, agglomerated alumina, aluminum silicate, mica, clay, talc, Examples thereof include barium sulfate. In adopting these particles, in order to suppress the increase in light transmittance and haze value, a method of improving the affinity with polyester by modifying the particle surface with a surfactant or the like is a void around the added particles. It can preferably be employed in terms of suppressing the occurrence. Further, the particle shape is almost spherical and the difference in refractive index from the polyester is preferably smaller because it can suppress scattered light when ultraviolet rays pass through the film layer, and colloidal silica and organic particles are particularly preferable. Furthermore, silicone particles and crosslinked polystyrene particles are suitable. Among these, crosslinked polystyrene particles made of a styrene-divinylbenzene copolymer prepared by emulsion polymerization are preferable because the particle shape is close to a true sphere, the particle size distribution is uniform, and uniform protrusions can be formed.

ポリエステル層であるA層、B層ともに、前記した粒子とともに、凝集アルミナを併用することも望ましい形態のひとつである。ここで、凝集アルミナは、平均一次粒子径が5nm以上30nm未満の粒子が数個から数百個凝集したものを表す。凝集アルミナの平均一次粒子径は、8nm以上15nm未満の平均一次粒子径であることがより好ましい。当該凝集アルミナは、無水塩化アルミニウムを原料として火焔加水分解法、あるいはアルコキシドアルミナの加水分解などによって製造されたものが採用できる。凝集アルミナは、結晶型としてδ型、θ型、γ型などが知られているが、とくにδ型アルミナが好適に使用できる。これらの凝集アルミナについて、ポリエステル重合時に添加することで使用に供せるが、例えば、ポリエステル重合時の原料の一部であるエチレングリコールのスラリーとして、サンドグラインダーなどの粉砕、分散を行い、精密濾過を行うことによって、平均二次粒子径が0.01μm以上0.2μm未満の凝集アルミナを得ることができる。このようにして得られた凝集アルミナをフィルム中に添加した場合、二軸延伸によって、面方向に配置されるため、実質的突起を形成せず、表面粗さへの影響が少なく、また、透過性が良いため、光線透過率およびヘイズ値の劣化を抑制できる。凝集アルミナを含有せしめることにより、フィルム表面の地肌補強効果が大きく得られ、耐摩耗性が向上し、延伸時のロールとの接触時に発生する凹み欠点を抑制するという効果が得られる。凝集アルミナは表層(A層、B層)を構成するポリエステル樹脂組成物に含有させることが好ましく、その含有量はポリエステル樹脂組成物全体に対して0.1重量%以上5重量%未満が好ましい。   It is also a desirable form to use the aggregated alumina together with the above-described particles in both the A layer and the B layer which are polyester layers. Here, the agglomerated alumina represents an aggregate of several to several hundred particles having an average primary particle diameter of 5 nm or more and less than 30 nm. The average primary particle diameter of the aggregated alumina is more preferably an average primary particle diameter of 8 nm or more and less than 15 nm. As the agglomerated alumina, one produced by a flame hydrolysis method using anhydrous aluminum chloride as a raw material or hydrolysis of alkoxide alumina can be employed. Agglomerated alumina is known in crystal form such as δ type, θ type, and γ type, and in particular, δ type alumina can be preferably used. These agglomerated alumina can be used by adding at the time of polyester polymerization.For example, as a slurry of ethylene glycol, which is part of the raw material at the time of polyester polymerization, pulverization and dispersion of a sand grinder, etc. By carrying out, an aggregated alumina having an average secondary particle diameter of 0.01 μm or more and less than 0.2 μm can be obtained. When the agglomerated alumina thus obtained is added to the film, it is arranged in the plane direction by biaxial stretching, so it does not form substantial protrusions, has little effect on the surface roughness, and is transparent. Since the property is good, deterioration of light transmittance and haze value can be suppressed. By including the aggregated alumina, the effect of reinforcing the background of the film surface is greatly obtained, the wear resistance is improved, and the effect of suppressing the dent defect generated when contacting with the roll during stretching is obtained. Aggregated alumina is preferably contained in the polyester resin composition constituting the surface layer (A layer, B layer), and the content is preferably 0.1 wt% or more and less than 5 wt% with respect to the entire polyester resin composition.

本発明のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムは、表面(B)を有するポリエステル層(B層)が、最大粒子径DAが0.3μm未満の粒子Aと、最大粒子径DBが0.3μm以上1.0μm未満の粒子Bを含む2種類以上の粒子を含むことが好ましい。表面(A)においては、粒子の最大粒子径DAが0.3μm未満の粒子Aが含まれていることが好ましい。本発明でいう最大粒子径とは、後述する方法で求められる粒子の円相当径のデータの大きい方からの上位2%の中間値を表す。表面(A)の上に、レジスト層が積層する場合、A層に含有する粒子によって露光工程で照射される光の反射や散乱の影響を受け、レジスト層の形成に影響を与える。A層に含まれる最大粒子径DAが0.3μm以上の場合、粒子による影響がレジストパターンを形成する際のノイズとなり、レジストパターンの欠けを誘発することがある。また、表面(B)はレジスト層と反対面を構成することになるが、B層に含有する粒子によって露光工程で照射される光の反射や散乱の影響を受けるとレジスト層の形成に影響を与える。B層に含まれる最大粒子径DBが1.0μm以上では、粒子による影響がレジストパターンを形成する際のノイズとなり、レジストパターンの欠けを誘発する場合がある。また、平均粒子径DBが0.3μm未満では、レジスト塗布工程にてハンドリング性が悪化し、塗布が不安定となり、塗布斑が発生することや、塗布後の巻き取り時に、噛み込んだ空気が抜けにくくなることによる、巻きズレを起こすことがある。さらに具体的には、B層において、粒子Aとして凝集アルミナを、粒子Bとして架橋ポリスチレン粒子とを併用して含有させることにより、後述する帯電防止剤添加により悪化したすべり性を著しく向上させることが可能となる。   In the biaxially oriented polyester film for dry film resist support of the present invention, the polyester layer (B layer) having the surface (B) has a particle A having a maximum particle size DA of less than 0.3 μm and a maximum particle size DB of 0. It is preferable to include two or more kinds of particles including particles B of 3 μm or more and less than 1.0 μm. The surface (A) preferably contains particles A having a maximum particle diameter DA of less than 0.3 μm. The maximum particle diameter referred to in the present invention represents an intermediate value of the upper 2% from the larger data of equivalent-circle diameters of particles determined by the method described later. When a resist layer is laminated on the surface (A), the particles contained in the A layer are affected by the reflection and scattering of light irradiated in the exposure step, thereby affecting the formation of the resist layer. When the maximum particle diameter DA contained in the A layer is 0.3 μm or more, the influence of the particles becomes noise when forming the resist pattern, and the resist pattern may be chipped. Also, the surface (B) constitutes the opposite surface of the resist layer, but if the particles contained in the B layer are affected by the reflection or scattering of light irradiated in the exposure process, the formation of the resist layer is affected. give. When the maximum particle size DB included in the layer B is 1.0 μm or more, the influence of the particles becomes noise when forming the resist pattern, and the resist pattern may be chipped. Also, if the average particle diameter DB is less than 0.3 μm, the handling property is deteriorated in the resist coating process, the coating becomes unstable, the coating spots are generated, and the air taken in at the time of winding after coating is Winding misalignment may occur due to difficulty in removal. More specifically, in the B layer, by containing agglomerated alumina as the particle A and a crosslinked polystyrene particle as the particle B, the slippage deteriorated due to the addition of the antistatic agent described later can be remarkably improved. It becomes possible.

本発明のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムのB層には帯電防止剤を含有することが好ましい。B層に帯電防止剤を含有させることにより、レジスト用ポリエステルフィルムを製造する際の取り扱い性、ゴミや異物の付着防止や、該フィルムを用いたレジストフィルム自身の取り扱い性、ゴミや異物の付着防止を向上させることが可能となる。   The B layer of the biaxially oriented polyester film for dry film resist support of the present invention preferably contains an antistatic agent. By including an antistatic agent in the B layer, handling properties when producing a resist polyester film, prevention of adhesion of dust and foreign materials, handling property of the resist film itself using the film, prevention of adhesion of dust and foreign materials Can be improved.

上記帯電防止剤は、帯電防止性を付与する目的で使用される化合物であり、スルホン酸塩基を有する不飽和単量体(例えば、ビニルスルホン酸ナトリウム、メタクリル酸ナトリウム、スチレンスルホン酸ナトリウムなど)の1種以上の重合体からなる高分子型帯電防止剤や、アルキルスルホン酸塩(例えば、ペンタンスルホン酸ナトリウム、オクタンスルホン酸ナトリウムなど)、アリールスルホン酸塩(例えば、ベンジルスルホン酸ナトリウム、トルイルスルホン酸ナトリウムなど)、アルキル基を有する芳香族スルホン酸塩(例えば、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムなど)の低分子型帯電防止剤などが挙げられる。   The antistatic agent is a compound used for the purpose of imparting antistatic properties, and is an unsaturated monomer having a sulfonate group (for example, sodium vinylsulfonate, sodium methacrylate, sodium styrenesulfonate). Polymer type antistatic agent composed of one or more polymers, alkyl sulfonate (eg, sodium pentane sulfonate, sodium octane sulfonate), aryl sulfonate (eg, sodium benzyl sulfonate, toluyl sulfonic acid) Sodium), a low molecular weight antistatic agent of an aromatic sulfonate having an alkyl group (for example, sodium dodecylbenzenesulfonate), and the like.

上記帯電防止剤は、押出機中でポリエステル層に練り込まれても、バインダー樹脂とともに塗布により積層させてもよいが、塗布方式で帯電防止剤を積層させた場合、塗布層の工程内でのロールなどでの削れによる帯電防止性能の消失や、裏面(レジスト面)への帯電防止剤成分裏移りによるレジストのパターニングでの不具合(ゆがみ、欠け、抜け)が発生することがあるため、押出機中でポリエステル層に練り込まれるほうが好ましい。さらに、塗布方式で帯電防止剤を積層させた場合、削れ物の堆積による工程汚染、搬送ロールの白化等を招く点でも好ましくない。   The antistatic agent may be kneaded into the polyester layer in an extruder or may be laminated by coating with a binder resin, but when the antistatic agent is laminated by a coating method, Extruders may cause loss of antistatic performance due to scraping on rolls, etc., and failure of resist patterning (distortion, chipping, omission) due to antistatic agent component transfer to the back surface (resist surface). Among them, it is preferable to be kneaded into the polyester layer. Furthermore, when an antistatic agent is laminated | stacked by the apply | coating system, it is unpreferable also at the point which causes the process contamination by the accumulation of a shaving thing, whitening of a conveyance roll, etc.

B層に含有させる上記帯電防止剤の含有量は、B層のポリエステルに対し、0.5重量%以上2.0重量%未満であることが好ましく、より好ましくは、0.7重量%以上1.5重量%未満である。帯電防止剤の含有量が2.0重量%以上だと、本発明のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムにおけるヘイズが高くなることや、ブロッキングなどによりすべり性が著しく悪化し、取り扱い性が低下することがある。一方、帯電防止剤の含有量が0.5重量%未満だと、帯電防止性が不十分となる。   The content of the antistatic agent contained in the B layer is preferably 0.5% by weight or more and less than 2.0% by weight, more preferably 0.7% by weight or more and 1%, based on the polyester of the B layer. Less than 5% by weight. When the content of the antistatic agent is 2.0% by weight or more, the haze in the biaxially oriented polyester film for dry film resist support of the present invention is increased, the slipping property is remarkably deteriorated due to blocking, and the handling property May decrease. On the other hand, when the content of the antistatic agent is less than 0.5% by weight, the antistatic property becomes insufficient.

本発明のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムでは、表面(A)と表面(B)の表面自由エネルギーの差が5.0mN/m以上である必要がある。好ましくは、7.0mN/m以上以上である。また、表面(B)の表面自由エネルギーが、表面(A)の表面自由エネルギーよりも大きいことが好ましい。表面(A)と表面(B)の表面自由エネルギーの差が5.0mN/m未満であることは、表面(B)の帯電防止剤成分がレジスト面である表面(A)に裏移りしていることをあらわし、その結果、レジストのパターニングでの不具合(ゆがみ、欠け、抜け)が発生する可能性がある。   In the biaxially oriented polyester film for dry film resist support of the present invention, the difference in surface free energy between the surface (A) and the surface (B) needs to be 5.0 mN / m or more. Preferably, it is 7.0 mN / m or more. Moreover, it is preferable that the surface free energy of the surface (B) is larger than the surface free energy of the surface (A). The difference in surface free energy between the surface (A) and the surface (B) is less than 5.0 mN / m because the antistatic agent component on the surface (B) is transferred to the surface (A) which is a resist surface. As a result, there is a possibility that a defect (distortion, chipping, omission) in resist patterning may occur.

ここでいう表面自由エネルギーの算出方法の詳細については後述するが、フィルム表面に対して、純粋、エチレングリコール、ホルムアミド、ジヨードメタンの4種の溶液のそれぞれの接触角を測定し、「固体の表面自由エネルギー(γ)を分散力成分(γ )、極性力成分(γ p)、および水素結合力成分(γ )の3成分に分離し、Fowks式を拡張した式(拡張Fowks式)」に基づく幾何平均法により、分散力、極性力、水素結合力の和として得られる値である。 Although the details of the calculation method of the surface free energy here will be described later, the contact angles of four kinds of solutions of pure, ethylene glycol, formamide, and diiodomethane were measured on the film surface, The energy (γ) is separated into three components of a dispersion force component (γ s d ), a polar force component (γ s p ), and a hydrogen bond force component (γ s h ), and an expression that expands the Fowks expression (expanded Fowks expression) ) "Is a value obtained as the sum of dispersion force, polarity force, and hydrogen bonding force.

表面(A)と表面(B)の表面自由エネルギーの差を上述の範囲とするには、押出機中でポリエステル層のB層のみに帯電防止剤を練り込ませることによって達成出来る。   The difference in the surface free energy between the surface (A) and the surface (B) can be controlled within the above range by kneading the antistatic agent only in the B layer of the polyester layer in an extruder.

本発明のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムでは、表面(A)の表面比抵抗値が1.0×1014Ω/□以上かつ、表面(B)の表面比抵抗値が1.0×1013Ω/□以下である必要がある。さらには、表面(B)の表面比抵抗値が1.0×1012Ω/□以下であることが好ましく、1.0×1011Ω/□以下であることがより好ましい。表面(B)の表面比抵抗値が1.0×1013Ω/□を超える場合は、フィルム表面の帯電が多くなり、レジスト用ポリエステルフィルムを製造する際の取り扱い性悪化、ゴミや異物の付着が増大することや、該フィルムを用いたレジストフィルム自身の取り扱い性悪化、ゴミや異物の付着が増大することがある。一方、表面(A)の表面比抵抗値が1.0×1014Ω/□未満であることは、表面(B)の帯電防止剤成分がレジスト面である表面(A)に裏移りしていることをあらわし、その結果、レジストのパターニングでの不具合(ゆがみ、欠け、抜け)が発生する可能性がある。 In the biaxially oriented polyester film for dry film resist support of the present invention, the surface specific resistance value of the surface (A) is 1.0 × 10 14 Ω / □ or more and the surface specific resistance value of the surface (B) is 1. It must be 0 × 10 13 Ω / □ or less. Furthermore, the surface specific resistance value of the surface (B) is preferably 1.0 × 10 12 Ω / □ or less, and more preferably 1.0 × 10 11 Ω / □ or less. When the surface specific resistance value of the surface (B) exceeds 1.0 × 10 13 Ω / □, the charge on the film surface increases, and the handling property deteriorates when a polyester film for resist is produced, and dust and foreign matter adhere. May increase, the handling property of the resist film itself using the film may deteriorate, and the adhesion of dust and foreign matter may increase. On the other hand, when the surface specific resistance value of the surface (A) is less than 1.0 × 10 14 Ω / □, the antistatic agent component on the surface (B) is transferred to the surface (A) which is the resist surface. As a result, there is a possibility that a defect (distortion, chipping, omission) in resist patterning may occur.

表面(A)と表面(B)の表面比抵抗値を上述の範囲とするには、押出機中でポリエステル層のB層のみに帯電防止剤を練り込ませることによって達成出来る。   In order to make the surface specific resistance value of the surface (A) and the surface (B) into the above-mentioned range, it can be achieved by kneading an antistatic agent only in the B layer of the polyester layer in an extruder.

本発明のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムは、3層以上の積層構造を有するポリエステルフィルムであることが必要である。3層の積層構造を有するフィルムとしては、A層/C(中間層)/B層からなるものが挙げられる。4層以上の積層構造を有するフィルムとしては、中間層が積層構造を有するものが挙げられる。表層部であるA層およびB層に含有する粒子種、平均粒子径、含有量は、異なっても良い。表層を構成するポリエステル層には、粒子を塗布工程にて添加してもよいが、粒子の分散性の観点から、粒子を含有するポリエステル樹脂組成物を用いて、共押出し法により溶融製膜して得ることが好ましい。   The biaxially oriented polyester film for dry film resist support of the present invention is required to be a polyester film having a laminated structure of three or more layers. Examples of the film having a three-layer laminated structure include those composed of A layer / C (intermediate layer) / B layer. Examples of the film having a laminated structure of four or more layers include those in which the intermediate layer has a laminated structure. The particle type, average particle diameter, and content contained in the A layer and B layer as the surface layer portion may be different. Particles may be added to the polyester layer constituting the surface layer in the coating step, but from the viewpoint of dispersibility of the particles, a polyester resin composition containing the particles is used to perform melt film formation by a coextrusion method. It is preferable to obtain.

上記構成において、フィルムの表面を構成する層(A層、B層)の積層厚さは0.1μm以上2μm未満が好ましく、更に好ましくは0.4μm以上1.8μm未満である。0.1μm未満の場合にはポリエステル層に添加した粒子の脱落が大きくなり、2μm以上になると前述したヘイズを達成するためには添加している粒子の平均径および添加量を更に減少することが必要になり、加工特性との両立が難しくなる場合がある。   In the above configuration, the layer thickness (A layer, B layer) constituting the surface of the film is preferably 0.1 μm or more and less than 2 μm, and more preferably 0.4 μm or more and less than 1.8 μm. When the particle size is less than 0.1 μm, dropout of the particles added to the polyester layer becomes large. It becomes necessary, and it may be difficult to achieve compatibility with processing characteristics.

次に本発明のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムの製造方法について説明する。共押出し法による溶融製膜におけるポリエステルに不活性粒子を含有せしめる方法としては、例えばジオール成分であるエチレングリコールに不活性粒子を所定割合にてスラリーの形で分散せしめ、例えば3μm以上の粗大粒子を95%以上捕集できる高精度濾過を行った後、このエチレングリコールスラリーをポリエステル重合完結前の任意段階で添加する。ここで、粒子を添加する際には、例えば、粒子を合成時に得られる水ゾルやアルコールゾルを一旦乾燥させることなく添加すると粒子の分散性が良好であり、粗大突起の発生を抑制でき好ましい。また粒子の水スラリーを直接、所定のポリエステルペレットと混合し、ベント方式の2軸混練押出機に供給しポリエステルに練り込む方法も本発明の効果に有効である。   Next, the manufacturing method of the biaxially-oriented polyester film for dry film resist supports of this invention is demonstrated. As a method of adding inert particles to polyester in melt film formation by co-extrusion method, for example, inert glycol is dispersed in a predetermined ratio in ethylene glycol, which is a diol component, for example, coarse particles of 3 μm or more. After high-precision filtration capable of collecting 95% or more, this ethylene glycol slurry is added at an arbitrary stage before completion of polyester polymerization. Here, when adding the particles, for example, it is preferable to add the water sol or alcohol sol obtained at the time of synthesis without drying once because the dispersibility of the particles is good and the generation of coarse protrusions can be suppressed. Also effective for the effect of the present invention is a method in which a water slurry of particles is directly mixed with predetermined polyester pellets, supplied to a vent type twin-screw kneading extruder and kneaded into polyester.

このようにして、各層のために準備した、粒子含有マスターペレットと粒子などを実質的に含有しないペレットを所定の割合で混合し、乾燥したのち、公知の溶融積層用押出機に供給する。本発明のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムの製造における押出機は、1軸、2軸の押出機を用いることができる。また、ペレットの乾燥工程を省くために、押出機に真空引きラインを設けた、ベント式押出機を用いることもできる。また、中間層を設ける場合には、最も押出量が多くなるため、ペレットを溶融する機能と、溶融したペレットを一定温度に保つ機能をそれぞれの押出機で分担する、いわゆるタンデム押出機を用いることができる。本発明のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムにおける表面を構成する層の押し出しには、二軸式ベント式押出機を用いることが、粒子の分散性を良好に保てるので好ましい。   In this way, the particle-containing master pellets prepared for each layer and the pellets substantially free of particles and the like are mixed at a predetermined ratio, dried, and then supplied to a known melt laminating extruder. As the extruder for producing the biaxially oriented polyester film for a dry film resist support of the present invention, a uniaxial or biaxial extruder can be used. Moreover, in order to omit the drying process of a pellet, the vent type extruder which provided the vacuum drawing line in the extruder can also be used. In addition, when providing an intermediate layer, since the amount of extrusion is the largest, use a so-called tandem extruder that shares the function of melting the pellets and the function of maintaining the molten pellets at a constant temperature. Can do. In order to extrude the layer constituting the surface of the biaxially oriented polyester film for dry film resist support of the present invention, it is preferable to use a biaxial vent type extruder because the dispersibility of the particles can be kept good.

押出機で溶融して押出したポリマーは、フィルターにより濾過する。ごく小さな異物もフィルム中に入ると粗大突起欠陥となるため、フィルターには例えば5μm以上の異物を95%以上捕集する高精度のものを用いることが有効である。続いてスリット状のスリットダイからシート状に押し出し、キャスティングロール上で冷却固化せしめて未延伸フィルムを作る。すなわち、複数の押出機、複数層のマニホールドまたは合流ブロック(例えば矩形合流部を有する合流ブロック)を用いて積層し、口金からシートを押し出し、キャスティングロールで冷却して未延伸フィルムを作る。この場合、背圧の安定化および厚み変動の抑制の観点からポリマー流路にスタティックミキサー、ギヤポンプを設置する方法は有効である。   The polymer melted and extruded by the extruder is filtered through a filter. Since even a very small foreign substance enters a film and becomes a coarse protrusion defect, it is effective to use a high-accuracy filter that collects 95% or more of a foreign substance of 5 μm or more, for example. Subsequently, the sheet is extruded from a slit-shaped slit die and cooled and solidified on a casting roll to form an unstretched film. That is, it laminates using a plurality of extruders, a plurality of layers of manifolds or a merge block (for example, a merge block having a rectangular merge portion), extrudes a sheet from a die, and cools with a casting roll to produce an unstretched film. In this case, a method of installing a static mixer and a gear pump in the polymer flow channel is effective from the viewpoint of stabilizing the back pressure and suppressing thickness fluctuation.

延伸方法は同時二軸延伸であっても逐次二軸延伸であってもよい。逐次延伸の場合、最初の長手方向の延伸が重要であり延伸温度は好ましくは90℃以上130℃未満、更に好ましくは100℃以上125℃未満である。延伸温度が90℃未満になるとフィルムが破断しやすく、延伸温度が130℃以上になるとフィルム表面が熱ダメージを受けやすくなるため好ましくない。また、延伸ムラ、およびキズを防止する観点からは延伸は2段階以上に分けて行うことが好ましく、トータル倍率は長さ方向に好ましくは3倍以上4.5倍未満、更に好ましくは3.5倍以上4.3倍未満であり、幅方向に好ましくは3.2倍以上5倍未満、更に好ましくは4.0倍以上4.6倍未満である。目標とするフィルムの破断強度を達成するため、適時倍率を選択できる。かかる温度、倍率範囲をはずれると延伸ムラあるいはフィルム破断などの問題を引き起こし、本発明の特徴とするフィルムが得られにくいため好ましくない。再縦または横延伸した後、好ましくは200℃以上230℃未満、更に好ましくは210℃以上230℃未満で好ましくは0.5秒以上20秒未満、更に好ましくは1秒以上15秒未満の熱固定を行う。とくに熱固定温度が200℃未満になるとフィルムの結晶化が進まないために構造が安定せず、目標とする熱収縮率などの特性が得られず好ましくない。その後、長手及び/又は幅方向に0.1%以上7.0%未満の弛緩処理を施すことが好ましい。   The stretching method may be simultaneous biaxial stretching or sequential biaxial stretching. In the case of sequential stretching, the first longitudinal stretching is important, and the stretching temperature is preferably 90 ° C. or higher and lower than 130 ° C., more preferably 100 ° C. or higher and lower than 125 ° C. When the stretching temperature is less than 90 ° C., the film is easily broken, and when the stretching temperature is 130 ° C. or more, the film surface is easily damaged by heat. Further, from the viewpoint of preventing stretching unevenness and scratches, stretching is preferably performed in two or more stages, and the total magnification is preferably 3 times or more and less than 4.5 times, more preferably 3.5 times in the length direction. 2 times or more and less than 4.3 times, and preferably 3.2 times or more and less than 5 times, more preferably 4.0 times or more and less than 4.6 times in the width direction. In order to achieve the target breaking strength of the film, a timely magnification can be selected. If the temperature and magnification range are out of this range, problems such as uneven stretching or film breakage are caused, and it is difficult to obtain a film characterized by the present invention. After re-longitudinal or transverse stretching, the heat setting is preferably 200 ° C. or higher and lower than 230 ° C., more preferably 210 ° C. or higher and lower than 230 ° C., preferably 0.5 second or longer and shorter than 20 seconds, more preferably 1 second or longer and shorter than 15 seconds. I do. In particular, when the heat setting temperature is less than 200 ° C., the crystallization of the film does not proceed, the structure is not stable, and the target characteristics such as heat shrinkage cannot be obtained. Thereafter, it is preferable to perform a relaxation treatment of 0.1% or more and less than 7.0% in the longitudinal and / or width direction.

さらに延伸ロールの表面粗さRaは好ましくは0.005μm以上1.0μm未満、更に好ましくは0.1μm以上0.6μm未満である。Raが1.0μm以上だと延伸時ロール表面の凸凹がフィルム表面に転写するため好ましくなく、一方0.005μm未満だとロールとフィルム地肌が粘着し、フィルムが熱ダメージを受けやすくなるため好ましくない。延伸ロールの表面粗さを制御するためには、延伸ロールを研磨する研磨剤の粒度や、延伸ロールを研磨する回数などを適宜調整することが有効である。とくに延伸ロールについては、フィルム表面の凹み欠点の原因と懸念されるポリエステルの分解物、オリゴマーの付着、蓄積を回避するため、延伸ロールの研磨の回数を高くすることが好ましい。   Furthermore, the surface roughness Ra of the drawing roll is preferably 0.005 μm or more and less than 1.0 μm, more preferably 0.1 μm or more and less than 0.6 μm. When Ra is 1.0 μm or more, unevenness on the roll surface during stretching is transferred to the film surface. On the other hand, when it is less than 0.005 μm, the roll and the film background adhere to each other, and the film is easily damaged by heat. . In order to control the surface roughness of the drawing roll, it is effective to appropriately adjust the particle size of the abrasive for polishing the drawing roll, the number of times of polishing the drawing roll, and the like. In particular, with respect to the stretching roll, it is preferable to increase the number of polishing of the stretching roll in order to avoid adhesion and accumulation of polyester degradation products and oligomers, which are a cause of dent defects on the film surface.

さらに、延伸部におけるロールとフィルムのトータルの接触時間は好ましくは0.1秒未満、更に好ましくは0.08秒未満にすることがフィルムを製造する上で特に有効である。延伸ロールとフィルムの接触時間が0.1秒以上だと、延伸ロールの熱によりフィルム表面のみが局所的に加熱され、引いては熱負荷時の微小平面性悪化を引き起こすこともあり、あるいは、フィルムに傷を発生する場合がある。接触時間を短くする方法としては、例えばフィルムを延伸ロールに巻き付けず、ニップロール間で平行に延伸する方法が有効である。   Further, the total contact time between the roll and the film in the stretched portion is preferably less than 0.1 seconds, more preferably less than 0.08 seconds, which is particularly effective in producing the film. When the contact time between the stretching roll and the film is 0.1 seconds or more, only the film surface is locally heated by the heat of the stretching roll, which may cause a deterioration in micro-planarity at the time of heat load, or The film may be scratched. As a method for shortening the contact time, for example, a method in which a film is stretched in parallel between nip rolls without being wound around a stretch roll is effective.

二軸延伸後のフィルムは、搬送工程にて冷却させた後、エッジを切断後巻取り、中間製品を得る。この搬送工程にて、フィルムの厚みを測定し、該データをフィードバックして用いてダイ厚みなどの調整によってフィルム厚みの調整を行い、また、欠点検出器による異物検知を行う。   After the biaxially stretched film is cooled in the conveying step, the edge is cut and wound to obtain an intermediate product. In this conveying step, the thickness of the film is measured, the data is fed back and used to adjust the film thickness by adjusting the die thickness and the like, and foreign matter detection is performed by a defect detector.

エッジの切断時には、切粉の発生を抑制することが、本発明のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムにおいて好ましい。エッジの切断は丸刃、シェアー刃、ストレート刃を使用して行うが、ストレート刃を用いる場合は、刃がフィルムに当たる箇所を、常に同じ箇所にさせないことが、刃の摩耗を抑制できるため好ましい形態である。このため刃を上限までオシレーションする機構を有することが好ましい。また、フィルム切断箇所に吸引装置を設けて、発生した切り粉や、切断後のフィルム端部同士が削れて発生する削れ粉を吸引することが好ましい。   In the biaxially oriented polyester film for dry film resist support of the present invention, it is preferable to suppress the generation of chips when cutting the edge. Edge cutting is performed using a round blade, a shear blade, and a straight blade, but when using a straight blade, it is preferable not to always make the location where the blade hits the film the same location, because it is possible to suppress wear of the blade. It is. For this reason, it is preferable to have a mechanism for oscillating the blade to the upper limit. Moreover, it is preferable to provide a suction device at a film cutting location to suck generated chips and scraped powder generated by cutting the film ends after cutting.

中間製品はスリット工程により適切な幅・長さにスリットして巻き取り、本発明のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムのロールが得られる。スリット工程におけるフィルムの切断時も、先述のエッジの切断と同様な切断の方式から選定できる。   The intermediate product is slit into an appropriate width and length by a slitting process and wound to obtain a biaxially oriented polyester film roll for dry film resist support of the present invention. When cutting the film in the slitting process, it can be selected from the same cutting method as the above-described edge cutting.

中間製品を所望の幅にスリットを行い、本発明のドライフィルムレジスト用二軸配向ポリエステルフィルムを得る。   The intermediate product is slit to a desired width to obtain the biaxially oriented polyester film for dry film resist of the present invention.

以下実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれに限定して解釈されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not construed as being limited thereto.

(測定方法)
(1)粒子の最大粒子径
フィルム表面を構成する層については次のように測定する。フィルムからポリマーをプラズマ低温灰化処理法で除去し、粒子を露出させる。処理条件は、ポリマーは灰化されるが粒子は極力ダメージを受けない条件を選択する。処理後の試料を走査型電子顕微鏡(SEM;株式会社日立製作所製 S−4000型)で観察し、粒子画像をイメージアナライザ(株式会社ニレコ製 LUZEX_AP)に取り込み、等価円相当径を測定し、粒子の体積平均粒子径を求める。SEMの倍率は粒子径により、5000〜20000倍から適宜選択する。任意に観察箇所をかえて、少なくとも粒子数5000個の粒子の等価円相当径を測定し、測定した等価円相当径データの大きい方から上位2%の等価円相当径の中間値から最大粒子径を求める。
(Measuring method)
(1) Maximum particle diameter of particles The layer constituting the film surface is measured as follows. The polymer is removed from the film by plasma low temperature ashing to expose the particles. The processing conditions are selected such that the polymer is ashed but the particles are not damaged as much as possible. The treated sample was observed with a scanning electron microscope (SEM; model S-4000 manufactured by Hitachi, Ltd.), the particle image was taken into an image analyzer (LUZEX_AP manufactured by Nireco Corporation), and the equivalent circle equivalent diameter was measured. The volume average particle diameter of is determined. The magnification of SEM is appropriately selected from 5000 to 20000 times depending on the particle diameter. Measure the equivalent circle equivalent diameter of at least 5000 particles, arbitrarily changing the observation location, and determine the maximum particle diameter from the middle value of the equivalent circle equivalent diameter of the top 2% from the larger of the measured equivalent circle equivalent diameter data. Ask for.

フィルム表面を構成しない層については、フィルム断面を透過型電子顕微鏡(TEM;株式会社日立製作所製H−600型)を用いて、粒子径により、3000〜20000倍で観察する。TEMの切片厚さは約100nmとし、場所を変えて1000個の粒子の等価円相当径を測定し、測定した等価円相当径データの大きい方から上位2%の粒子の等価円相当径の中間値から最大粒子径を求める。   About the layer which does not comprise the film surface, a film cross section is observed by 3000 to 20000 times by a particle diameter using a transmission electron microscope (TEM; Hitachi, Ltd. H-600 type | mold). The TEM slice thickness is about 100 nm, the equivalent circle equivalent diameter of 1000 particles is measured at different locations, and the middle of the equivalent circle equivalent diameter of the top 2% of the particles from the larger equivalent circle equivalent diameter data measured. The maximum particle size is obtained from the value.

なお、粒子の体積平均粒子径を測定する際に、SEMおよびTEMで観察した際に5000倍で10視野確認しても、粒子が認められなかった場合には、粒子を実質的に含有しないと判断する。   In addition, when measuring the volume average particle diameter of the particles, when observed by SEM and TEM, even if 10 fields of view are confirmed at 5000 times, if no particles are found, the particles should be substantially not contained. to decide.

(2)フィルム表面粗さ(SRa、SRz値)
三次元微細表面形状測定器( 小坂製作所製ET−350K)を用いて表面(A)および表面(B)について測定し、得られた表面のプロファイル曲線より、JIS・B0601に準じ、算術平均表面粗さSRa値、十点平均表面粗さSRz値を求める。測定条件は下記のとおり。
X 方向測定長さ: 0.5mm、X方向送り速度: 0.1mm/ 秒。
Y 方向送りピッチ: 5μm、Y方向ライン数: 40本。
カットオフ: 0.25mm。
触針圧: 0.02mN。
高さ(Z方向) 拡大倍率: 5万倍。
(2) Film surface roughness (SRa, SRz value)
Surface (A) and surface (B) were measured using a three-dimensional fine surface profile measuring instrument (ET-350K manufactured by Kosaka Manufacturing Co., Ltd.), and an arithmetic average surface roughness was obtained from the obtained surface profile curve according to JIS / B0601. SRa value and 10-point average surface roughness SRz value are obtained. The measurement conditions are as follows.
X direction measurement length: 0.5 mm, X direction feed rate: 0.1 mm / second.
Y direction feed pitch: 5 μm, number of Y direction lines: 40.
Cut-off: 0.25 mm.
Stylus pressure: 0.02 mN.
Height (Z direction) Magnification: 50,000 times.

(3)フィルムのヘイズ
JIS K7105−1981に準じ、フィルム幅方向の中央部から、長手4.0×幅3.5cmの寸法に切り出したものをサンプルとし、ヘイズを、ヘイズメータ(スガ試験機製HGM−2DP(C光源用))を用いて測定する。
(3) Haze of film In accordance with JIS K7105-1981, a sample cut into a dimension of length 4.0 × width 3.5 cm from the center in the film width direction was used as a sample, and the haze was measured using a haze meter (HGM-manufactured by Suga Test Instruments). 2DP (for C light source)).

(4)表面自由エネルギー
二軸配向ポリエステルフィルムの表面エネルギー(単位:mN/m)は以下の方法で算出する。二軸配向ポリエステルフィルムを室温23℃相対湿度65%の雰囲気中に24時間静置後する。その後、同雰囲気下で、表面(A)および表面(B)に対して、純水、エチレングリコール、ホルムアミド、ジヨードメタンの4種の溶液のそれぞれの接触角を、接触角計CA−D型(協和界面科学(株)社製)により、それぞれ5点測定する。5点の測定値の最大値と最小値を除いた3点の測定値の平均値をそれぞれの溶液の接触角とする。
(4) Surface free energy The surface energy (unit: mN / m) of the biaxially oriented polyester film is calculated by the following method. The biaxially oriented polyester film is allowed to stand for 24 hours in an atmosphere having a room temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 65%. Thereafter, the contact angle of each of the four types of solutions of pure water, ethylene glycol, formamide, and diiodomethane with respect to the surface (A) and the surface (B) under the same atmosphere is a contact angle meter CA-D type (Kyowa). 5 points are measured respectively by Interface Science Co., Ltd. The average value of the three measured values excluding the maximum value and the minimum value of the five measured values is defined as the contact angle of each solution.

次に、得られた4種類の溶液の接触角を用いて、畑らによって提案された「固体の表面自由エネルギー(γ)を分散力成分(γ )、極性力成分(γ )、および水素結合力成分(γ )の3成分に分離し、Fowkes式を拡張した式(拡張Fowkes式)」に基づく幾何平均法により、本発明の分散力、極性力、及び分散力と極性力の和である表面エネルギーを算出する。 Next, using the contact angles of the four types of solutions obtained, “the surface free energy (γ) of the solid, which is proposed by Hata et al., Is expressed as a dispersion force component (γ s d ) and a polar force component (γ s p ). , and separated into three components of the hydrogen bond force component (gamma s h), the geometric mean method based on equations that extends Fowkes equation (extended Fowkes equation) "dispersion force of the present invention, polar forces, and dispersion forces and The surface energy that is the sum of the polar forces is calculated.

具体的な算出方法を示す。各記号の意味について下記する。γSLは固体と液体の界面での張力である場合、数式(1)が成立する。
γ : フィルム表面と既知の溶液の表面自由エネルギー
γ : フィルム表面の表面自由エネルギー
γ : 既知の溶液の表面自由エネルギー
γ : フィルム表面の表面自由エネルギーの分散力成分
γ : フィルム表面の表面自由エネルギーの極性力成分
γ : フィルム表面の表面自由エネルギーの水素結合力成分
γ : 既知の溶液の表面自由エネルギーの分散力成分
γ : 既知の溶液の表面自由エネルギーの極性力成分
γ : 既知の溶液の表面自由エネルギーの水素結合力成分
γ =γ+γ−2(γ ・γ )1/2−2(γ ・γ )1/2−2(γ ・γ ) 1/2 ・・・ 式(1)。
A specific calculation method is shown. The meaning of each symbol is described below. When γ SL is the tension at the interface between the solid and the liquid, Equation (1) is established.
γ S L : surface free energy of film surface and known solution
γ S : Surface free energy on the film surface
γ L : Surface free energy of known solution
γ S d : Dispersive force component of surface free energy on film surface
γ S p : Polar force component of surface free energy on film surface
γ S h : Hydrogen bond strength component of surface free energy on film surface
γ L d : Dispersion force component of surface free energy of known solution
γ L p : Polar force component of the surface free energy of a known solution
γ L h : hydrogen bonding force component of surface free energy of known solution
γ S L = γ S + γ L -2 (γ S d · γ L d) 1 / 2-2 (γ S p · γ L p) 1 / 2-2 (γ S h · γ L h) 1/2 ... Formula (1).

また、平滑な固体面と液滴が接触角(θ)で接しているときの状態は次式で表現される(Youngの式)。
γ=γ +γcosθ ・・・ 式(2)。
The state when the smooth solid surface and the droplet are in contact with each other at the contact angle (θ) is expressed by the following equation (Young's equation).
γ S = γ S L + γ L cos θ (2).

これら数式(1)、数式(2)を組み合わせると、次式が得られる。
(γ ・γ 1/2+(γ ・γ 1/2+(γ ・γ 1/2=γ(1+cosθ)/2 ・・・ 式(3)。
When these mathematical formulas (1) and (2) are combined, the following formula is obtained.
s d · γ L d ) 1/2 + (γ s p · γ L p ) 1/2 + (γ s h · γ L h ) 1/2 = γ L (1 + cos θ) / 2 Formula (3).

実際には、水、エチレングリコール、ホルムアミド、及びジヨードメタンの4種類の溶液に接触角(θ)と、既知の溶液の表面張力の各成分(γ 、γ 、γ )を数式(3)に代入し、4つの連立方程式を解く。その結果、固体の表面エネルギー(γ)、すなわちドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムの表面(A)および表面(B)の表面エネルギーが算出される。 Actually, the contact angle (θ) and the components of the surface tension of the known solution (γ L d , γ L p , γ L h ) are expressed in four types of solutions of water, ethylene glycol, formamide, and diiodomethane. Substituting into (3), the four simultaneous equations are solved. As a result, the solid surface energy (γ), that is, the surface energy of the surface (A) and the surface (B) of the biaxially oriented polyester film for dry film resist support is calculated.

(5)表面比抵抗
温度23℃、相対湿度65%で24時間放置して調湿した後、同条件下でデジタル超高抵抗/微小電流計(アドバンテスト製R8340A)を用い、印可電圧100Vで測定を行った。単位はΩ/□であり、この値が小さいものほど、帯電防止性能が良好である。
(5) Surface specific resistance Measured at an applied voltage of 100 V using a digital ultrahigh resistance / microammeter (R8340A manufactured by Advantest) under the same conditions after adjusting the humidity by leaving it to stand for 24 hours at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 65%. Went. The unit is Ω / □, and the smaller the value, the better the antistatic performance.

(6)レジスト解像度の目視検査
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムにおけるレジストの解像度の目視評価方法は、以下のような手順で行った。
(i)片面鏡面研磨した6インチSiウエハー上に、東京応化(株)製のネガレジスト“PMER N−HC600”を塗布し、大型スピナーで回転させることによって厚み7μmのレジスト層を作製した。次いで、窒素循環の通風オーブンを用いて70℃の温度条件で、約20分間の前熱処理を行った。
(ii)ポリエステルフィルムをレジスト層と接触するように重ね、ゴム製のローラーを用いて、レジスト層上にポリエステルフィルムをラミネートし、その上に、クロム金属でパターニングされたフォトマスクを配置し、そのフォトマスク上からI線ステッパーを用いて露光を行った。
(iii)レジスト層からポリエステルフィルムを剥離した後、現像液N−A5が入った容器にレジスト層を入れ約1分間の現像を行った。その後、現像液から取り出し、水で約1分間の洗浄を行った。
(iv)現像後に作成されたレジストパターンのL/S(μm)(Line and Space )の状態を走査型電子顕微鏡SEMを用いて1000倍率で観察した。レジストの解像度の評価は、以下の基準に従った。なお、○以上の評価が実用可能レベルとなる。
◎:L/S=8/8μmが明確に確認できる。
○:L/S=8/8μmは明確に確認できないが、L/S=10/10μmは明確に確認できる。
△:L/S=10/10μmは明確に確認できないが、L/S=15/15μmは明確に確認できる。
×:L/S=15/15μmが明確に確認できない。(生産適用不可)。
(6) Visual inspection of resist resolution The visual evaluation method of resist resolution in the biaxially oriented polyester film of the present invention was performed in the following procedure.
(I) A negative resist “PMER N-HC600” manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd. was applied on a 6-inch Si wafer that had been polished on one side, and a resist layer having a thickness of 7 μm was prepared by rotating with a large spinner. Next, a pre-heat treatment was performed for about 20 minutes under a temperature condition of 70 ° C. using a ventilation oven with nitrogen circulation.
(Ii) The polyester film is stacked so as to come into contact with the resist layer, the polyester film is laminated on the resist layer using a rubber roller, and a photomask patterned with chromium metal is disposed thereon, Exposure was performed using an I-line stepper on the photomask.
(Iii) After peeling the polyester film from the resist layer, the resist layer was placed in a container containing the developer N-A5 and developed for about 1 minute. Then, it removed from the developing solution and washed with water for about 1 minute.
(Iv) The state of L / S (μm) (Line and Space) of the resist pattern prepared after development was observed at 1000 magnifications using a scanning electron microscope SEM. The resolution of the resist was evaluated according to the following criteria. Note that an evaluation of ◯ or higher is a practical level.
A: L / S = 8/8 μm can be clearly confirmed.
○: L / S = 8/8 μm cannot be clearly confirmed, but L / S = 10/10 μm can be clearly confirmed.
Δ: L / S = 10/10 μm cannot be clearly confirmed, but L / S = 15/15 μm can be clearly confirmed.
X: L / S = 15/15 μm cannot be clearly confirmed. (Production not applicable).

(7)レジストフィルムの取り扱い性(すべり性評価)
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムを支持体として、A層側にネガ型感光性樹脂からなるレジスト層をコーティングにより形成し、レジストフィルムを作製した。レジストフィルム製造時の取り扱い性としてすべり性の評価は、以下の基準に従った。なお、○以上の評価が実用可能レベルとなる。
○:適正なすべり性を有し、取り扱い性が良好。
△:すべり性が悪く、取り扱い性に劣る。
×:適正なすべり性がないため、取り扱い不可(生産適用不可)。
(7) Handling of resist film (slipability evaluation)
Using the biaxially oriented polyester film of the present invention as a support, a resist layer made of a negative photosensitive resin was formed on the A layer side by coating to prepare a resist film. The evaluation of slipperiness as handleability during the production of a resist film was in accordance with the following criteria. Note that an evaluation of ◯ or higher is a practical level.
○: Appropriate slipperiness and good handleability.
(Triangle | delta): Sliding property is bad and it is inferior to handleability.
×: Since it does not have proper sliding properties, it cannot be handled (production not applicable).

(8) レジストフィルムの取り扱い性(帯電性評価)
上記評価(7)で作製したレジストフィルムの製造時の取り扱い性として帯電性の評価は、以下の基準に従った。なお、○以上の評価が実用可能レベルとなる。
○:帯電が生じず、取り扱い性が良好。
△:帯電が生じ、取り扱い性に劣る。
×:帯電が生じ、取り扱い不可(生産適用不可)。
(8) Resist film handling (chargeability evaluation)
The evaluation of chargeability as the handleability during the production of the resist film produced in the above evaluation (7) was in accordance with the following criteria. Note that an evaluation of ◯ or higher is a practical level.
○: No charge is generated and the handleability is good.
(Triangle | delta): Charge arises and it is inferior to handleability.
X: Charging occurs and cannot be handled (not applicable for production).

(原料)
(ポリエステルAの作成)
テレフタル酸86.5重量部とエチレングリコール37.1重量部を255℃で、水を留出しながらエステル化反応を行う。エステル化反応終了後、トリメチルリン酸0.02重量部、酢酸マグネシウム0.06重量部、酢酸リチウム0.01重量部、三酸化アンチモン0.0085重量部を添加し、引き続いて、真空下、290℃まで加熱、昇温して重縮合反応を行い、固有粘度0.63dl/gのポリエステルペレットを得た。(ポリエステルA)。
(material)
(Creation of polyester A)
Esterification reaction is carried out while distilling water at 255 ° C. with 86.5 parts by weight of terephthalic acid and 37.1 parts by weight of ethylene glycol. After completion of the esterification reaction, 0.02 part by weight of trimethyl phosphoric acid, 0.06 part by weight of magnesium acetate, 0.01 part by weight of lithium acetate, and 0.0085 part by weight of antimony trioxide were added. The polycondensation reaction was carried out by heating up to 0 ° C. to obtain polyester pellets having an intrinsic viscosity of 0.63 dl / g. (Polyester A).

(ポリエステルB、CおよびポリエステルDの作成)
さらに別に、モノマーを吸着させる方法によって得た体積平均粒子径0.3μm、体積形状係数f=0.51のジビニルベンゼン/スチレン共重合架橋粒子の水スラリーを、上記の実質的に粒子を含有しないホモポリエステルペレットに、ベント式二軸混練機を用いて含有させ、体積平均粒子径0.3μmのジビニルベンゼン/スチレン共重合架橋粒子をポリエステルに対し2重量%含有するマスターペレットを得る(ポリエステルB)。
(Creation of polyester B, C and polyester D)
In addition, a water slurry of divinylbenzene / styrene copolymer crosslinked particles having a volume average particle diameter of 0.3 μm and a volume shape factor f = 0.51 obtained by a method for adsorbing monomers is substantially free of the above particles. A homopolyester pellet is contained using a vent type biaxial kneader to obtain a master pellet containing 2% by weight of divinylbenzene / styrene copolymer crosslinked particles having a volume average particle diameter of 0.3 μm with respect to the polyester (polyester B). .

体積平均粒子径0.45μm、0.8μmのジビニルベンゼン/スチレン共重合架橋粒子含有マスターペレットは、ポリエステルに対しそれぞれ1重量%含有するマスターペレットを同様にして得た(それぞれポリエステルC、ポリエステルD)。   Master pellets containing divinylbenzene / styrene copolymer crosslinked particles having a volume average particle size of 0.45 μm and 0.8 μm were obtained in the same manner as the master pellets containing 1% by weight with respect to the polyester (polyester C and polyester D, respectively). .

(ポリエステルEの作成)
上記と同様にポリエステルを製造するにあたり、エステル交換後、体積平均粒子径0.2μm、体積形状係数f=0.51、体積平均粒子径0.06μm、体積形状係数f=0.51、モース硬度7の球状シリカをそれぞれ添加し、重縮合反応を行い、粒子をポリエステルに対し1重量%含有するシリカ含有マスターペレットを得た(ポリエステルE)。なお、用いる球状シリカは、エタノールとエチルシリケートとの混合溶液を攪拌しながら、この混合溶液に、エタノール、純水、および塩基性触媒としてアンモニア水からなる混合溶液を添加し、得られた反応液を攪拌して、エチルシリケートの加水分解反応およびこの加水分解生成物の重縮合反応を行なった後に、反応後の攪拌を行い、単分散シリカ粒子を得た。
(Creation of polyester E)
In the production of polyester in the same manner as described above, after transesterification, the volume average particle size 0.2 μm, the volume shape factor f = 0.51, the volume average particle size 0.06 μm, the volume shape factor f = 0.51, the Mohs hardness No. 7 spherical silica was added and a polycondensation reaction was performed to obtain silica-containing master pellets containing 1% by weight of the particles with respect to the polyester (Polyester E). The spherical silica to be used was obtained by adding a mixed solution consisting of ethanol, pure water, and ammonia water as a basic catalyst to this mixed solution while stirring the mixed solution of ethanol and ethyl silicate, and the resulting reaction solution The mixture was stirred to carry out a hydrolysis reaction of ethyl silicate and a polycondensation reaction of this hydrolysis product, followed by stirring after the reaction to obtain monodispersed silica particles.

(ポリエステルFの作成)
さらに、平均粒子径1.0μmの炭酸カルシウムを準備し、10%のエチレングリコールスラリーとした。このスラリーをジェットアジターで一時間分散処理を行い、5μm以上の捕集効率95%のフィルターで高精度濾過した。
ジメチルテレフタレートに1.9モルのエチレングリコールおよび酢酸マグネシウム・4水塩を0.05%、リン酸を0.015%加え加熱エステル交換を行い、前述した炭酸カルシウムを含むスラリーをエステル交換後に添加し、引き続き三酸化アンチモン0.025%を加え、加熱昇温し真空化で重縮合反応を行い、平均粒子径1.0μmの炭酸カルシウムを1重量%含む、固有粘度0.63dl/gの炭酸カルシウム含有マスターペレットを得た。(ポリエステルF)。
(Creation of polyester F)
Furthermore, calcium carbonate having an average particle diameter of 1.0 μm was prepared to prepare a 10% ethylene glycol slurry. This slurry was subjected to a dispersion treatment with a jet agitator for one hour, and was subjected to high-precision filtration with a filter having a collection efficiency of 95% of 5 μm or more.
Dimethyl terephthalate is added with 1.9 moles of ethylene glycol and magnesium acetate tetrahydrate and 0.055% phosphoric acid to perform transesterification, and the slurry containing calcium carbonate is added after the transesterification. Subsequently, 0.025% of antimony trioxide was added, the temperature was raised and the polycondensation reaction was performed by evacuation, and the calcium carbonate having an intrinsic viscosity of 0.63 dl / g containing 1% by weight of calcium carbonate having an average particle size of 1.0 μm. A contained master pellet was obtained. (Polyester F).

(ポリエステルGの作成)
さらに、凝集アルミナとしてδ型−アルミナを10%のエチレングリコールスラリーとし、サンドグラインダーを用い、粉砕、分散処理を行い、さらに捕集効率95%の3μmフィルターを用いて濾過し、これを前記と同様に調整したエステル交換反応物に添加し、引き続き三酸化アンチモンを加え、重縮合反応を行い、凝集アルミナを2重量%含有する、固有粘度0.62dl/gのマスターペレットを得た。(ポリエステルG)。
(Creation of polyester G)
Further, δ-alumina is made into 10% ethylene glycol slurry as agglomerated alumina, pulverized and dispersed using a sand grinder, and further filtered using a 3 μm filter with a collection efficiency of 95%. Was added to the transesterification reaction product prepared above, followed by polycondensation reaction by adding antimony trioxide to obtain a master pellet having an intrinsic viscosity of 0.62 dl / g and containing 2% by weight of aggregated alumina. (Polyester G).

(ポリエステルHの作成)
さらに、上記と同様にポリエステルを製造するにあたり、帯電防止剤(ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム)を6重量%含有するシリカ含有マスターペレットを得た(ポリエステルH)。
(Creation of polyester H)
Furthermore, when manufacturing polyester similarly to the above, the silica containing master pellet which contains 6 weight% of antistatic agents (sodium dodecylbenzenesulfonate) was obtained (polyester H).

(塗布層(D)形成塗液の作成)
帯電防止剤を含有する塗布層を形成する塗布液を、日本カーバイド(株)製塗剤ニカゾールRX−7013ED(アクリル酸系ポリエステル樹脂エマルジョン)および日本NSC製塗剤バーサYE−910(ポリエステルスルホン酸リチウム塩系帯電防止剤)を、固形分質量比において、RX−7013ED/YE−910=90/10で混合したものを水で希釈し、互応化学製界面活性剤RY−2を総液比0.1重量%添加することにより、作製した。
(Preparation of coating layer (D) forming coating solution)
The coating solution for forming the coating layer containing the antistatic agent was coated with Nicazole RX-7013ED (acrylic polyester resin emulsion) manufactured by Nippon Carbide Co., Ltd., and Versa YE-910 manufactured by Nippon NSC (lithium polyester sulfonate). Salt-based antistatic agent) in a solid content mass ratio of RX-7013ED / YE-910 = 90/10 was diluted with water, and the surfactant RY-2 manufactured by Kyosei Chemical Co. has a total liquid ratio of 0.00. It was prepared by adding 1% by weight.

(実施例1)
各層について表1に示した配合で調合した原料の混合物を、ブレンダー内で攪拌した後、A層、B層の原料は攪拌後の原料を、A層用、B層用のベント付き二軸押出機に供給し、C層の原料は160℃で8時間減圧乾燥し、C層用の一軸押出機に供給した。275℃で溶融押出し、5μm以上の異物を95% 以上捕集する高精度なフィルターにて濾過した後、矩形の3層用合流ブロックで合流積層し、A層、B層、C層からなる3層積層とした。その後、285℃に保ったスリットダイを介し冷却ロール上に静電印可キャスト法を用いて表面温度25℃のキャスティングドラムに巻き付け冷却固化して未延伸積層フィルムを得た。
Example 1
After stirring the mixture of the raw materials prepared in the blend shown in Table 1 for each layer in the blender, the raw materials for the A layer and the B layer are the stirred raw materials, and the biaxial extrusion with vents for the A layer and the B layer The raw material of the C layer was dried under reduced pressure at 160 ° C. for 8 hours and supplied to the single screw extruder for the C layer. It is melt-extruded at 275 ° C., filtered with a high-precision filter that collects 95% or more of foreign matters of 5 μm or more, and then merged and laminated with a rectangular three-layer confluence block, consisting of A layer, B layer, and C layer 3 Layer lamination was used. Thereafter, the film was wound around a casting drum having a surface temperature of 25 ° C. on a cooling roll through a slit die maintained at 285 ° C. by using an electrostatic application casting method, and solidified by cooling to obtain an unstretched laminated film.

この未延伸フィルムを表面粗さRaが0.2μmの延伸ロールを用い、110℃で長手方向4.2倍に延伸した。さらに、引き続いてステンタにて115℃の熱風下で幅方向に4.5倍延伸後、定張下、215℃で4秒間熱処理し、その後長手方向に0.1%、幅方向に3.2%の弛緩処理を施し、厚さ16μmの二軸配向ポリエステルフィルムの中間製品を得た。この中間製品をスリッターにてスリットし、厚さ16μmの二軸配向ポリエステルフィルムのロールを得た。得られたフィルムの評価結果を表2に示した。このように本発明の二軸配向ポリエステルフィルムはすべり性、帯電防止性、レジスト解像度に優れるものであった。   This unstretched film was stretched 4.2 times in the longitudinal direction at 110 ° C. using a stretching roll having a surface roughness Ra of 0.2 μm. Further, after stretching 4.5 times in the width direction with hot air at 115 ° C. with a stenter, heat treatment was performed at 215 ° C. for 4 seconds under constant tension, and then 0.1% in the longitudinal direction and 3.2% in the width direction. % Relaxation treatment was performed to obtain an intermediate product of a biaxially oriented polyester film having a thickness of 16 μm. This intermediate product was slit with a slitter to obtain a roll of biaxially oriented polyester film having a thickness of 16 μm. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 2. Thus, the biaxially oriented polyester film of the present invention was excellent in slipperiness, antistatic properties and resist resolution.

(実施例2〜5)
A層、B層、C層の組成を表1に記載のように変更する以外は実施例1と同様にして二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムの評価結果を表2に示した。このように本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは実施例1同様に、すべり性、帯電防止性、レジスト解像度に優れるものであった。特に実施例2〜4においては、特にレジスト解像度に優れるものであった。
(Examples 2 to 5)
A biaxially oriented polyester film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the compositions of the A layer, the B layer, and the C layer were changed as shown in Table 1. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 2. Thus, the biaxially oriented polyester film of the present invention was excellent in slipperiness, antistatic properties and resist resolution, as in Example 1. Particularly in Examples 2 to 4, the resist resolution was particularly excellent.

(比較例1〜7)
A層、B層、C層の組成を表1に記載のように変更する以外は実施例1と同様にして二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムの評価結果を表2に示した。しかし、本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、実施例1に比べそれぞれ、すべり性、帯電防止性、レジスト解像度に劣り、全てを満足するフィルムは得られなかった。
(Comparative Examples 1-7)
A biaxially oriented polyester film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the compositions of the A layer, the B layer, and the C layer were changed as shown in Table 1. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 2. However, the biaxially oriented polyester film of the present invention was inferior to the sliding property, antistatic property and resist resolution as compared with Example 1, and a film satisfying all of them could not be obtained.

(比較例8)
A層、B層、C層の組成を表1に記載のように変更し、長手方向に延伸した後に帯電防止剤を含有する塗布層(D)形成塗液を、メタリングバーを用いたバーコート方式で塗布し、テンター内での延伸と同時に乾燥させ帯電防止層を形成させたこと以外は実施例1と同様にして二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムの評価結果を表2に示した。しかし、本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、裏面(レジスト面)への帯電防止剤成分裏移りが発生したため、実施例1に比べ、すべり性、帯電防止性、レジスト解像度すべてにおいて劣るものであった。
(Comparative Example 8)
The composition of the A layer, the B layer, and the C layer was changed as shown in Table 1, and the coating layer (D) forming coating solution containing the antistatic agent after stretching in the longitudinal direction was changed to a bar using a metalling bar. A biaxially oriented polyester film was obtained in the same manner as in Example 1 except that it was applied by a coating method and dried simultaneously with stretching in a tenter to form an antistatic layer. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 2. However, the biaxially oriented polyester film of the present invention was inferior in all of the slip property, antistatic property, and resist resolution compared to Example 1 because the antistatic agent component was transferred to the back surface (resist surface). It was.

Figure 2018065250
Figure 2018065250

Figure 2018065250
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本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、良好な透過性、すべり性、帯電防止性を有するため、ドライフィルムレジスト支持体用に好適に用いることができる。   Since the biaxially oriented polyester film of the present invention has good permeability, slipperiness and antistatic properties, it can be suitably used for a dry film resist support.

Claims (9)

3層以上の積層構造を有するポリエステルフィルムであり、
一方の最外層(該層をA層とする)の表面(該面を表面(A)とする)ともう一方の最外層(該層をB層とする)の表面(該面を表面(B)とする)の表面自由エネルギーの差が5.0mN/m以上であり、表面(A)の表面比抵抗値が1.0×1014Ω/□以上かつ、表面(B)の表面比抵抗値が1.0×1013Ω/□以下であるドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルム。
A polyester film having a laminated structure of three or more layers,
The surface of one outermost layer (this layer is A layer) (the surface is the surface (A)) and the other outermost layer (this layer is the B layer) (the surface is the surface (B )) Is a surface free energy difference of 5.0 mN / m or more, the surface resistivity of the surface (A) is 1.0 × 10 14 Ω / □ or more, and the surface resistivity of the surface (B). A biaxially oriented polyester film for a dry film resist support having a value of 1.0 × 10 13 Ω / □ or less.
表面(B)の表面自由エネルギーが、表面(A)の表面自由エネルギーよりも大きい請求項1に記載のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルム。 The biaxially oriented polyester film for a dry film resist support according to claim 1, wherein the surface free energy of the surface (B) is larger than the surface free energy of the surface (A). 前記B層が、最大粒子径DAが0.3μm未満である粒子(当該粒子を粒子Aとする)と、最大粒子径DBが0.3μm以上1.0μm未満である粒子(当該粒子を粒子Bとする)を含む請求項1または2に記載のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルム。 The B layer includes particles having a maximum particle size DA of less than 0.3 μm (the particles are referred to as particles A) and particles having a maximum particle size DB of 0.3 μm or more and less than 1.0 μm (the particles are converted to particles B). The biaxially oriented polyester film for a dry film resist support according to claim 1 or 2. フィルムヘイズが1.0%未満である請求項1〜3のいずれかに記載のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルム。 The biaxially oriented polyester film for a dry film resist support according to any one of claims 1 to 3, wherein the film haze is less than 1.0%. 帯電防止剤を含有する請求項1〜4のいずれかに記載のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルム。 The biaxially oriented polyester film for a dry film resist support according to any one of claims 1 to 4, comprising an antistatic agent. 表面(A)の算術平均表面粗さSRa(A)および表面(B)の算術平均表面粗さSRa(B)がいずれも7nm以下であり、
表面(A)の十点平均表面粗さSRz(A)および表面(B)の十点平均表面粗さSRz(B)がいずれも400nm以下である請求項1〜5のいずれかに記載のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルム。
The arithmetic average surface roughness SRa (A) of the surface (A) and the arithmetic average surface roughness SRa (B) of the surface (B) are both 7 nm or less,
The 10-point average surface roughness SRz (A) of the surface (A) and the 10-point average surface roughness SRz (B) of the surface (B) are both 400 nm or less. Biaxially oriented polyester film for film resist support.
表面(A)の表面粗さSRz(A)が100nm以下であり、表面(B)の表面粗さSRz(B)が100nm以上400nm以下である請求項1〜6のいずれかに記載のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルム。 The dry film according to any one of claims 1 to 6, wherein the surface roughness SRz (A) of the surface (A) is 100 nm or less, and the surface roughness SRz (B) of the surface (B) is 100 nm or more and 400 nm or less. Biaxially oriented polyester film for resist supports. 表面(A)上にレジスト層を積層して用いる請求項1〜7のいずれかに記載のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルム。 The biaxially oriented polyester film for a dry film resist support according to any one of claims 1 to 7, wherein a resist layer is laminated on the surface (A). 共押出し法により溶融製膜して得ることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載のドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムの製造方法。
The method for producing a biaxially oriented polyester film for a dry film resist support according to any one of claims 1 to 8, which is obtained by melt film formation by a coextrusion method.
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