JP2008238536A - 防眩性フィルム、及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）等の画像表示装置に用いられる防眩性フィルムについて、鋳型の型押しによる透明フィルム基材の表面への凹凸模様の周期をほゞ無くす。該透明フィルム基材を用いて作製した防眩性フィルムを具備する液晶ディスプレイに濃淡ムラの発現をなくす。均一な防眩性及び膜厚を有する防眩性フィルム、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 流延支持体から剥離されたフィルムを鋳型でバックロールに押し当てて、透明フィルム基材の表面に凹凸を形成するにあたり、１つのバックロールに対して複数の鋳型を使用し、複数の鋳型をバックロールの周囲に、隣り合う鋳型同士、均等な配置角度で位置するように配置する。複数の鋳型の直径を、鋳型による型押しによって透明フィルム基材の表面に生じる凹凸模様の周期が２ｍを超えるものとするのが、好ましい。
【選択図】 図１

Description

本発明は、防眩性フィルム、及びその製造方法に関するものである。

液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ、ＣＲＴ、ＥＬ等に代表される画像表示装置（以下、これを「ディスプレイ」と称する）は、テレビやコンピュータをはじめとして様々な分野で使用されており、目覚ましい発展を遂げている。特に液晶ディスプレイは、薄く、軽量で、かつ汎用性に富むディスプレイとして、薄型テレビや携帯電話、パーソナルコンピュータ、デジタルカメラ、ＰＤＡその他各種デバイス用の表示媒体として普及が著しい。

これらのディスプレイを屋外や蛍光灯下等の比較的明るい場所で使用する場合、太陽光や蛍光灯等の外部光によるディスプレイへの映り込みが問題となり、これを防止するためにディスプレイ表面に凹凸を形成して、映り込む外部光を乱反射させる防眩処理を施すことが一般的となっている。

この防眩処理は、ディスプレイの表面材料として用いる透明フィルム基材に対して、凹凸面を有する鋳型ロールや賦型フィルムで賦型処理を行なったり、サンドブラスト等により透明フィルム基材の粗面形成を行なったり、透明フィルム基材の表面に、透明樹脂中に無機や有機の透明微粒子を分散させた塗料をコーティングしてディスプレイ表面に防眩層を設けたりする等の方法により行なわれている。

これらの技術のうち、流延製膜法による防眩性フィルムの製造方法で、流延支持体から剥離されたフィルムを、鋳型ロールによる型押しによって透明フィルム基材の表面に凹凸を形成する賦型処理は、例えば下記の特許文献１に開示されている。
特開２００５−１５６６１５号公報 特許文献１には、熱可塑性樹脂フィルムの製膜工程で、１つのバックロールに対して複数の鋳型ロールでフィルムを押し当てて、フィルム表面に凹凸を形成し、得られた透明フィルム基材の凹凸面上にハードコート層を形成する防眩フィルムの製造方法が記載されている。

上記の特許文献１では、熱可塑性樹脂フィルムの製膜工程で、１つのバックロールに対して複数の鋳型ロールでフィルムを押し当てているために、バックロールの表面が応力により不均一に変形することがあった。バックロールの表面が応力により不均一に変形すると、フィルムに形成される凹凸が不均一となるため、当該透明フィルム基材を用いて作製した防眩性フィルムを具備する液晶ディスプレイでは、わずかな濃淡ムラが発現するという問題があった。

本発明の目的は、上記の従来技術の問題を解決し、鋳型の型押しによる透明フィルム基材の表面への凹凸模様の周期をほゞ無くすことができて、該透明フィルム基材を用いて作製した防眩性フィルムを具備する液晶ディスプレイに、透明フィルム基材の凹凸模様の周期に起因する濃淡ムラが発現することなく、均一な防眩性、及び膜厚を有する防眩性フィルム、及びその製造方法を提供することにある。

上記の目的を達成するために、請求項１の発明は、流延製膜法による防眩性フィルムの製造方法で、流延支持体から剥離されたフィルムを鋳型でバックロールに押し当てて、透明フィルム基材の表面に凹凸を形成する工程を含む防眩性フィルムの製造方法において、１つのバックロールに対して複数の鋳型を使用し、複数の鋳型をバックロールの周囲に、隣り合う鋳型同士、均等な配置角度で位置するように配置したことを特徴としている。

すなわち、請求項１の防眩性フィルムの製造方法の発明は、バックロールの周囲に複数の鋳型を、すべての鋳型が隣り合う鋳型同士、均等な配置角度で位置するように配置したものである。

請求項２の発明は、請求項１に記載の防眩性フィルムの製造方法であって、複数の鋳型の直径を、鋳型による型押しによって透明フィルム基材の表面に生じる凹凸模様の周期が２ｍを超えるものとすることを特徴としている。

請求項３の発明は、請求項１または２に記載の防眩性フィルムの製造方法であって、バックロールの表面素材のヤング率が、４〜１００００００（Ｎ／ｍｍ^２）であるバックロールを用いること特徴としている。

請求項４の発明は、請求項１〜３のうちのいずれか一項に記載の防眩性フィルムの製造方法であって、透明フィルム基材が、セルロースエステルを主成分とするものであることを特徴としている。

請求項５の発明は、請求項１〜４のうちのいずれか一項に記載の製造方法で製造された防眩性フィルムであって、鋳型による型押しによって形成される透明フィルム基材の表面の凹凸の中心線平均粗さ（Ｒａ）が、０．０５〜１０μｍであり、透明フィルム基材の表面の凹凸の平均ピーク間隔（Ｓｍ）が、２〜２００μｍであり、透明フィルム基材のヘイズが、３〜６０％であることを特徴としている。

上記の目的を達成するために、請求項１の発明は、流延製膜法による防眩性フィルムの製造方法で、流延支持体から剥離されたフィルムを鋳型でバックロールに押し当てて、透明フィルム基材の表面に凹凸を形成する工程を含む防眩性フィルムの製造方法において、１つのバックロールに対して複数の鋳型を使用し、複数の鋳型をバックロールの周囲に、隣り合う鋳型同士、均等な配置角度で位置するように配置したもので、請求項１の発明によれば、バックロールの表面の不均一な変形を防ぐことができて、当該透明フィルム基材を用いて作製した防眩性フィルムを具備する液晶ディスプレイに、濃淡ムラが発現することなく、均一な防眩性、及び膜厚を有する防眩性フィルムを製造することができるという効果を奏する。

請求項２の発明は、請求項１に記載の防眩性フィルムの製造方法であって、複数の鋳型の直径を、鋳型による型押しによって透明フィルム基材の表面に生じる凹凸模様の周期が２ｍを超えるものとすることにより、請求項２の発明によれば、鋳型の型押しによる透明フィルム基材の表面の凹凸模様の周期をほゞ無くすことができて、該透明フィルム基材を用いて作製した防眩性フィルムを具備する液晶ディスプレイに、透明フィルム基材の凹凸模様の周期に起因する濃淡ムラが発現することなく、均一な防眩性、及び膜厚を有する防眩性フィルムを製造することができるという効果を奏する。

本発明の防眩性フィルムの製造方法において、バックロールの表面素材のヤング率は、４〜１００００００（Ｎ／ｍｍ^２）であるが、バックロールのヤング率は、５００〜１００００００（Ｎ／ｍｍ^２）であるのが好ましい。

請求項５の防眩性フィルムの発明は、上記の防眩性フィルムの製造方法で製造されたもので、鋳型による型押しによって形成される透明フィルム基材の表面の凹凸の中心線平均粗さ（Ｒａ）が、０．０５〜１０μｍ、好ましくは１．０〜１０μｍであり、透明フィルム基材の表面の凹凸の平均ピーク間隔（Ｓｍ）が、２〜２００μｍ、好ましくは５〜５０μｍであり、透明フィルム基材のヘイズが、３〜６０％、好ましくは５〜５５％であるもので、請求項５の発明によれば、防眩性フィルムのヘイズが高くなく、透明性、平面性に優れ、防眩性と視認性をバランス良く満たすという効果を奏する。

つぎに、本発明の実施の形態を、図面を参照して説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

本発明による防眩性フィルムの製造方法は、流延製膜法による防眩性フィルムの製造方法で、流延支持体から剥離されたフィルムを鋳型でバックロールに押し当てて、透明フィルム基材の表面に凹凸を形成する工程を含んでおり、１つのバックロールに対して複数の鋳型を使用し、複数の鋳型をバックロールの周囲に、隣り合う鋳型同士、均等な配置角度で位置するように配置したものである。

すなわち、本発明の防眩性フィルムの製造方法の発明は、バックロールの周囲に複数の鋳型を、すべての鋳型が隣り合う鋳型同士、均等な配置角度で位置するように配置したもので、鋳型を押し当てた際に生じるバックロール表面の応力変形を、複数の鋳型により矯正して、透明フィルム基材の表面に均一な凹凸を形成するものである。

このとき、複数の鋳型の直径を、鋳型による型押しによって透明フィルム基材の表面に生じる凹凸模様の周期（いわゆるうねりの周期）が、２ｍを超えるものとするのが好ましい。

本発明によれば、鋳型の型押しによる透明フィルム基材の表面の凹凸模様の周期をほゞ無くすことができて、該透明フィルム基材を用いて作製した防眩性フィルムを具備する液晶ディスプレイに、透明フィルム基材の凹凸模様の周期に起因する濃淡ムラが発現することなく、均一な防眩性、及び膜厚を有する防眩性フィルムを製造することができる。

（透明フィルム基材）
つぎに、本発明において用いることができる透明フィルム基材について説明する。

本発明に用いられる透明フィルム基材としては、製造が容易であること、活性線硬化型樹脂層との接着性が良好である、光学的に等方性である、光学的に透明であること等が好ましい要件として挙げられる。

また、本発明の透明フィルム基材は、平面性の点から特に１．４〜４ｍのものが好ましい。

本発明でいう透明とは、可視光の透過率６０％以上であることを指し、好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。

上記の性質を有していれば、特に限定はないが、例えばセルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム，ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム（アートン、ＪＳＲ社製）、ゼオネックス、ゼオノア（以上、日本ゼオン社製）、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルムまたはガラス板等を挙げることができる。中でも、セルローストリアセテートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンを含む）が好ましく、本発明においては、特にセルロースエステルフィルム（例えばコニカミノルタタック、製品名ＫＣ８ＵＸ２ＭＷ、ＫＣ４ＵＸ２ＭＷ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ５ＵＮ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ８ＵＣＲ−３、ＫＣ８ＵＣＲ−４、ＫＣ８ＵＣＲ−５、ＫＣ４ＵＥＷ、ＫＣ４ＦＲ−１、ＫＣ４ＦＲ−２（コニカミノルタオプト株式会社製））が、製造上、コスト面、透明性、等方性、接着性等の観点から好ましく用いられる。

（セルロースエステル）
本発明においては、透明フィルム基材としては、セルロースエステルを主成分とするものであることが好ましい。このようなセルロースエステルとしては、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく、中でもセルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートが好ましく用いられる。

特にアセチル基の置換度をＸ、プロピオニル基またはブチリル基の置換度をＹとした時、ＸとＹが下記の範囲にあるセルロースの混合脂肪酸エステルを有するものが好ましい。

２．３≦Ｘ＋Ｙ≦３．０ ０．１≦Ｙ≦２．０
特に、２．４≦Ｘ＋Ｙ≦２．９ ０．３≦Ｙ≦１．５であることが好ましい。

本発明に用いられる透明フィルム基材として、セルロースエステルを用いる場合、セルロースエステルの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ（針葉樹由来、広葉樹由来）、ケナフ等を挙げることができる。またそれらから得られたセルロースエステルはそれぞれ任意の割合で混合使用することができる。これらのセルロースエステルは、アシル化剤が酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸）である場合には、酢酸のような有機酸やメチレンクロライド等の有機溶媒を用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用いてセルロース原料と反応させて得ることができる。

アシル化剤が、酸クロライド（ＣＨ_３ＣＯＣｌ、Ｃ_２Ｈ_５ＣＯＣｌ、Ｃ_３Ｈ_７ＣＯＣｌ）の場合には、触媒としてアミンのような塩基性化合物を用いて反応が行なわれる。具体的には、特開平１０−４５８０４号公報に記載の方法等を参考にして合成することができる。また、本発明に用いられるセルロースエステルは各置換度に合わせて上記アシル化剤量を混合して反応させたものであり、セルロースエステルはこれらアシル化剤がセルロース分子の水酸基に反応する。セルロース分子はグルコースユニットが多数連結したものからなっており、グルコースユニットに３個の水酸基がある。この３個の水酸基にアシル基が誘導された数を置換度（モル％）という。例えばセルローストリアセテートはグルコースユニットの３個の水酸基全てにアセチル基が結合している（実際には２．６〜３．０）。

本発明に用いられるセルロースエステルの置換度として、２位、３位、６位が平均的にアシル基で置換されていてもよく、もしくは６位に多くもしくは少なく置換されているセルロースエステルも好ましく用いられる。好ましい６位の置換度は０．７〜０．９７、さらに、好ましくは０．８〜０．９７である。

本発明に用いられるセルロースエステルとしては、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、またはセルロースアセテートプロピオネートブチレートのようなアセチル基の他にプロピオネート基またはブチレート基が結合したセルロースの混合脂肪酸エステルが特に好ましく用いられる。なお、ブチレートを形成するブチリル基としては、直鎖状でも分岐していてもよい。

プロピオネート基を置換基として含むセルロースアセテートプロピオネートは耐水性に優れ、液晶画像表示装置用のフィルムとして有用である。

アシル基の置換度の測定方法はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６の規定に準じて測定することができる。

セルロースエステルの数平均分子量は、７００００〜２５００００が、成型した場合の機械的強度が強く、かつ、適度なドープ粘度となり好ましく、さらに好ましくは、８００００〜１５００００である。

これらセルロースエステルフィルムは、一般的に溶液流延製膜法と呼ばれるセルロースエステル溶解液（ドープ）を、例えば無限に移送する無端の金属ベルトまたは回転する金属ドラムの流延用支持体上に加圧ダイからドープを流延（キャスティング）し製膜する方法で製造されることが好ましい。

（有機溶媒）
これらドープの調製に用いられる有機溶媒としては、セルロースエステルを溶解でき、かつ、適度な沸点であることが好ましく、例えばメチレンクロライド、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセト酢酸メチル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等を挙げることができるが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物、ジオキソラン誘導体、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン、アセト酢酸メチル等が好ましい有機溶媒（すなわち、良溶媒）として挙げられる。

また、下記の製膜工程に示すように、溶媒蒸発工程において流延用支持体上に形成されたウェブ（ドープ膜）から溶媒を乾燥させる時に、ウェブ中の発泡を防止する観点から、用いられる有機溶媒の沸点としては、３０〜８０℃が好ましく、例えば上記記載の良溶媒の沸点は、メチレンクロライド（沸点４０．４℃）、酢酸メチル（沸点５６．３２℃）、アセトン（沸点５６．３℃）、酢酸エチル（沸点７６．８２℃）等である。

上記記載の良溶媒の中でも溶解性に優れるメチレンクロライドあるいは酢酸メチルが好ましく用いられる。

上記有機溶媒の他に、０．１〜４０質量％の炭素原子数１〜４のアルコールを含有させることが好ましい。特に好ましくは５〜３０質量％でアルコールが含まれることが好ましい。これらは上記記載のドープを流延用支持体に流延後、溶媒が蒸発を始めアルコールの比率が多くなるとウェブ（ドープ膜）がゲル化し、ウェブを丈夫にし流延用支持体から剥離することを容易にするゲル化溶媒として用いられたり、これらの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒のセルロースエステルの溶解を促進する役割もある。

炭素原子数１〜４のアルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等を挙げることができる。

これらの溶媒のうち、ドープの安定性がよく、沸点も比較的低く、乾燥性もよく、かつ毒性がないこと等からエタノールが好ましい。好ましくは、メチレンクロライド７０〜９５質量％に対してエタノール５〜３０質量％を含む溶媒を用いることが好ましい。メチレンクロライドの代わりに酢酸メチルを用いることもできる。このとき、冷却溶解法によりドープを調製してもよい。

もしくはメチレンクロライドと酢酸メチルを併用することもでき、例えば１０．１〜３の質量比で併用することができる。ここに、さらに前述のアルコールを含有させることが好ましい。

（可塑剤）
本発明の防眩フィルムにセルロースエステルフィルムを用いる場合、下記のような可塑剤を含有するのが好ましい。可塑剤としては、例えばリン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤等を好ましく用いることができる。

リン酸エステル系可塑剤では、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系可塑剤では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジフェニルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等、トリメリット酸系可塑剤では、トリブチルトリメリテート、トリフェニルトリメリテート、トリエチルトリメリテート等、ピロメリット酸エステル系可塑剤では、テトラブチルピロメリテート、テトラフェニルピロメリテート、テトラエチルピロメリテート等、グリコレート系可塑剤では、トリアセチン、トリブチリン、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等、クエン酸エステル系可塑剤では、トリエチルシトレート、トリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−（２−エチルヘキシル）シトレート等を好ましく用いることができる。その他のカルボン酸エステルの例には、トリメチロールプロパントリベンゾエート、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。

多価アルコールエステル系可塑剤は２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる可塑剤であり、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。好ましくは２〜２０価の脂肪族多価アルコールエステルである。

ポリエステル系可塑剤として脂肪族二塩基酸、脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二塩基酸とグリコールの共重合ポリマーを用いることができる。脂肪族二塩基酸としては特に限定されないが、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキシルジカルボン酸等を用いることができる。グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，２−ブチレングリコール等を用いることができる。これらの二塩基酸及びグリコールはそれぞれ単独で用いてもよいし、２種以上混合して用いてもよい。

これらの可塑剤の使用量は、フィルム性能、加工性等の点で、セルロースエステルに対して１〜２０質量％が好ましく、特に好ましくは、３〜１３質量％である。

（紫外線吸収剤）
本発明の防眩フィルムには、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。

本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば下記の紫外線吸収剤を具体例として挙げるが、本発明はこれらに限定されない。

ＵＶ−１：２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−２：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−３：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−４：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−５：２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−６：２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）
ＵＶ−７：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−８：２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ１７１、Ｃｉｂａ製）
ＵＶ−９：オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物（ＴＩＮＵＶＩＮ１０９、Ｃｉｂａ製）
また、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては下記の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。

ＵＶ−１０：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
ＵＶ−１１：２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン
ＵＶ−１２：２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン
ＵＶ−１３：ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）
本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤としては、透明性が高く、偏光板や液晶の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。

また、特開２００１−１８７８２５号公報に記載されている分配係数が９．２以上の紫外線吸収剤は、長尺フィルムの面品質を向上させ、塗布性にも優れている。特に分配係数が１０．１以上の紫外線吸収剤を用いることが好ましい。

また、特開平６−１４８４３０号公報に記載の一般式（１）または一般式（２）、特願２０００−１５６０３９号公報の一般式（２）、（６）、（７）記載の高分子紫外線吸収剤（または紫外線吸収性ポリマー）も好ましく用いられる。高分子紫外線吸収剤としては、ＰＵＶＡ−３０Ｍ（大塚化学株式会社製）等が市販されている。

（微粒子）
また、本発明に用いられるセルロースエステルフィルムには滑り性を付与するため、以下の微粒子を用いることができる。

微粒子としては、無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子は珪素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。

微粒子の一次粒子の平均径は５〜５０ｎｍが好ましく、さらに好ましいのは７〜２０ｎｍである。これらは主に粒径０．０５〜０．３μｍの２次凝集体として含有されることが好ましい。セルロースエステルフィルム中のこれらの微粒子の含有量は０．０５〜１質量％であることが好ましく、特に０．１〜０．５質量％が好ましい。共流延法による多層構成のセルロースエステルフィルムの場合は、表面にこの添加量の微粒子を含有することが好ましい。

二酸化珪素の微粒子は、例えばアエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上、日本アエロジル株式会社製）の商品名で市販されており、使用することができる。

酸化ジルコニウムの微粒子は、例えばアエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上、日本アエロジル株式会社製）の商品名で市販されており、使用することができる。

また、ポリマー微粒子も用いることができ、その例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。これらの中ではシリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えばトスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン株式会社製）の商品名で市販されており、使用することができる。

これらの中でもアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖがセルロースエステルフィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため、特に好ましく用いられる。本発明で用いられるセルロースエステルフィルムにおいては活性エネルギー線硬化樹脂層の裏面側の動摩擦係数が１．０以下であることが好ましい。

（セルロースエステルフィルムの製造方法）
以下、溶液流延製膜法によるセルロースエステルフィルムの製造方法を例にとってについて説明する。

セルロースエステルフィルムの製造は、セルロースエステル及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状もしくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸または幅保持する工程、さらに乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻取る工程により行なわれる。

ドープを調製する工程について述べる。ドープ中のセルロースエステルの濃度は、濃度が高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、セルロースエステルの濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、１０〜３５質量％が好ましく、さらに好ましくは、１５〜２５質量％である。

ドープで用いられる溶剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよいが、セルロースエステルの良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶剤が多い方がセルロースエステルの溶解性の点で好ましい。良溶剤と貧溶剤の混合比率の好ましい範囲は、良溶剤が７０〜９８質量％であり、貧溶剤が２〜３０質量％である。良溶剤、貧溶剤とは、使用するセルロースエステルを単独で溶解するものを良溶剤、単独で膨潤するかまたは溶解しないものを貧溶剤と定義している。そのため、セルロースエステルのアシル基置換度によっては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばアセトンを溶剤として用いる時には、セルロースエステルの酢酸エステル（アセチル基置換度２．４）、セルロースアセテートプロピオネートでは良溶剤になり、セルロースの酢酸エステル（アセチル基置換度２．８）では貧溶剤となる。

本発明に用いられる良溶剤は特に限定されないが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類、アセトン、酢酸メチル、アセト酢酸メチル等が挙げられる。特に好ましくはメチレンクロライドまたは酢酸メチルが挙げられる。

また、本発明に用いられる貧溶剤は特に限定されないが、例えばメタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等が好ましく用いられる。また、ドープ中には水が０．０１〜２質量％含有していることが好ましい。

上記のドープを調製する時の、セルロースエステルの溶解方法としては、一般的な方法を用いることができる。加熱と加圧を組み合わせると常圧における沸点以上に加熱できる。溶剤の常圧での沸点以上でかつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するため好ましい。また、セルロースエステルを貧溶剤と混合して湿潤または膨潤させた後、さらに良溶剤を添加して溶解する方法も好ましく用いられる。

加圧は窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱によって溶剤の蒸気圧を上昇させる方法によって行なってもよい。加熱は外部から行なうことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。

溶剤を添加しての加熱温度は、高い方がセルロースエステルの溶解性の観点から好ましいが、加熱温度が高すぎると、必要とされる圧力が大きくなり、生産性が悪くなる。好ましい加熱温度は４５〜１２０℃であり、６０〜１１０℃がより好ましく、７０℃〜１０５℃がさらに好ましい。また、圧力は設定温度で溶剤が沸騰しないように調整される。

また、冷却溶解法も好ましく用いられ、これによって酢酸メチル等の溶媒にセルロースエステルを溶解させることができる。

つぎに、このセルロースエステル溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さすぎると濾過材の目詰まりが発生しやすいという問題がある。このため絶対濾過精度０．００８ｍｍ以下の濾材が好ましく、０．００１〜０．００８ｍｍの濾材がより好ましく、０．００３〜０．００６ｍｍの濾材がさらに好ましい。

濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン（登録商標）等のプラスチック製の濾材や、ステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過により、原料のセルロースエステルに含まれていた不純物、特に輝点異物を除去、低減することが好ましい。

輝点異物とは、２枚の偏光板をクロスニコル状態にして配置し、その間にセルロースエステルフィルムを置き、一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察した時に反対側からの光が漏れて見える点（異物）のことであり、径が０．０１ｍｍ以上である輝点数が２００個／ｃｍ^２以下であることが好ましい。より好ましくは１００個／ｃｍ^２以下であり、さらに好ましくは５０個／ｍ^２以下であり、さらに好ましくは０〜１０個／ｃｍ^２以下である。また、０．０１ｍｍ以下の輝点も少ない方が好ましい。

ドープの濾過は通常の方法で行なうことができるが、溶剤の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差（差圧という）の上昇が小さく、好ましい。好ましい温度は４５〜１２０℃であり、４５〜７０℃がより好ましく、４５〜５５℃であることがさらに好ましい。

濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は１．６ＭＰａ以下であることが好ましく、１．２ＭＰａ以下であることがより好ましく、１．０ＭＰａ以下であることがさらに好ましい。

つぎに、ドープの流延について説明する。

流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルトもしくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は１〜４ｍとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−５０℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高すぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい金属支持体温度としては０〜１００℃で適宜決定され、５〜３０℃がさらに好ましい。または、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行なわれるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で金属支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行なうことが好ましい。

セルロースエステルフィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は１０〜１５０質量％が好ましく、さらに好ましくは２０〜４０質量％または６０〜１３０質量％であり、特に好ましくは、２０〜３０質量％または７０〜１２０質量％である。

本発明においては、残留溶媒量は下記式で定義される。

残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
式中、Ｍはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、ＮはＭを１１５℃で１時間の加熱後の質量である。

また、セルロースエステルフィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、さらに乾燥し、残留溶媒量を１質量％以下にすることが好ましく、さらに好ましくは０．１質量％以下であり、特に好ましくは０〜０．０１質量％以下である。

フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式（上下に配置した多数のロールをウェブを交互に通し乾燥させる方式）やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。

本発明の防眩性フィルム用のセルロースエステルフィルムを作製するためには、金属支持体より剥離した直後のウェブの残留溶剤量の多いところで搬送方向に延伸し、さらにウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で幅方向に延伸を行なうことが特に好ましい。縦方向、横方向ともに好ましい延伸倍率は１．０５〜１．５倍であり、さらに好ましくは１．０５〜１．３倍であり、１．０５〜１．１５倍がさらに好ましい。縦方向及び横方向延伸により面積が１．１〜２倍となっていることが好ましい。これは縦方向の延伸倍率×横方向の延伸倍率で求めることができる。

剥離直後に縦方向に延伸するために、剥離張力及びその後の搬送張力によって延伸することが好ましい。例えば剥離張力を２１０Ｎ／ｍ以上で剥離することが好ましく、特に好ましくは２２０〜３００Ｎ／ｍである。

ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行なうことができるが、簡便さの点で熱風で行なうことが好ましい。

ウェブの乾燥工程における乾燥温度は３０〜１５０℃で段階的に高くしていくことが好ましく、５０〜１４０℃の範囲で行なうことが寸法安定性をよくするためさらに好ましい。

セルロースエステルフィルムの膜厚は、特に限定はされないが１０〜２００μｍが好ましく用いられる。特に１０〜７０μｍの薄膜フィルムでは平面性と硬度に優れた防眩性フィルムを得ることが困難であったが、本発明によれば、平面性と硬度に優れた薄膜の防眩性フィルムが得られ、また生産性にも優れているため、セルロースエステルフィルムの膜厚は１０〜７０μｍであることが特に好ましい。さらに好ましくは２０〜６０μｍである。最も好ましくは３０〜６０μｍである。また、共流延法によって多層構成としたセルロースエステルフィルムも好ましく用いることができる。セルロースエステルが多層構成の場合でも紫外線吸収剤と可塑剤を含有する層を有しており、それがコア層、スキン層、もしくはその両方であってもよい。

本発明による防眩性フィルムの製造方法は、流延製膜法による防眩性フィルムの製造方法で、流延支持体から剥離されたフィルムを鋳型でバックロールに押し当てて、透明フィルム基材の表面に凹凸を形成する工程を含んでおり、１つのバックロールに対して複数の鋳型を使用し、複数の鋳型をバックロールの周囲に、隣り合う鋳型同士、均等な配置角度で位置するように配置するものである。

すなわち、本発明の防眩性フィルムの製造方法の発明は、バックロールの周囲に複数の鋳型を、すべての鋳型が隣り合う鋳型同士、均等な配置角度で位置するように配置したもので、鋳型を押し当てた際に生じるバックロール表面の応力変形を、複数の鋳型により矯正して、透明フィルム基材の表面に均一な凹凸を形成するものである。

このとき、複数の鋳型の直径を、鋳型による型押しによって透明フィルム基材の表面に生じる凹凸模様の周期（いわゆるうねりの周期）が、２ｍを超えるものとするのが好ましい。

本発明によれば、鋳型の型押しによる透明フィルム基材の表面の凹凸模様の周期をほゞ無くすことができて、該透明フィルム基材を用いて作製した防眩性フィルムを具備する液晶ディスプレイに、透明フィルム基材の凹凸模様の周期に起因する濃淡ムラが発現することなく、均一な防眩性、及び膜厚を有する防眩性フィルムを製造することができる。

まず、鋳型としては表面に凹凸を設けた鋳型ロールが挙げられるが、板状、フィルム状、ベルト状の鋳型でもよい。

図示は省略したが、予め調液された熱可塑性樹脂溶液を、流延ダイより流延用ベルト（金属支持体）上に流延し、ウェブ（金属支持体上にドープを流延した以降の残留溶媒を含むフィルムをウェブと言う）を形成し、剥離ロールによる剥離後、凹凸面形成用鋳型ロール及びそれと対向したバックロールによりウェブ上に凹凸面を形成する。その後、テンターによりウェブは延伸され、ついで側面よりみて千鳥状に配置された多数の搬送ロールを具備するフィルム乾燥装置により乾燥され、得られたフィルムは、巻き取りロールにより巻き取られる。

本発明において、凹凸面形成装置は、流延用ベルトを用いた装置以外にも適用でき、流延用ドラム（図示略）を用いた装置に組み込むことも可能である。この場合も、テンターの前もしくは後の位置に、１つのバックロールに対して複数の鋳型を使用し、複数の鋳型をバックロールの周囲に、隣り合う鋳型同士、均等な配置角度で位置するように配置するものである。

凹凸面形成に用いられる鋳型ロールとしては、凹凸が細かいもの、粗いものまで、適宜選択して適用でき、模様、マット状、レンチキュラーレンズ状、球面の一部からなる凹部または凸部、プリズム状の凹凸を形成するための鋳型が規則正しくもしくはランダムに配列されたものが使用できる。例えば凸部または凹部の直径が５〜１００μｍ、高さが０．１〜２μｍの球の一部からなる凹部または凸部等が挙げられるが、これらは大きな凹凸と小さな凹凸を組み合わせてもよい。

なお、鋳型ロールの材質は、金属、ステンレス、炭素鋼、アルミニウム合金、チタン合金、セラミック、硬質ゴム、強化プラスチックまたはこれらを組み合わせた素材などが使用できるが、強度の点や加工のしやすさの点から鋳型ロールは金属が好ましい。特に洗浄のしやすさ、耐久性も重要であり、ステンレス製の鋳型ロールを使用することが好ましい。また、表面に撥水もしくは撥水加工を施してもよい。鋳型ロールに所望の凹凸面を形成する方法としてはエッチングによる方法、サンドブラストによる方法、機械的に加工する方法または金型等を使用して形成することができる。

鋳型は、凸部や凹部を組み合わせて形成されてもよく、凹凸形状は限定されず、四角錐状、三角錐状、円錐状、半球状の凸部または凹部の組み合わせでもよい。あるいは波形状のパターン等も好ましく用いられる。

また、鋳型ロール５１及びバックロール５２の偏芯は、５０μｍ以内であることが好ましく、２０μｍ以内がさらに好ましく、０〜５μｍであることがさらに好ましい。

鋳型ロール５１の直径は５〜２００ｃｍが好ましく、１０〜１００ｃｍがさらに好ましく、１０〜５０ｃｍが特に好ましい。

本発明において、鋳型ロール５１の表面温度Ｔ1は、用いる熱可塑性樹脂の熱変形温度Ｔ2に対してＴ2＋１０℃〜Ｔ2＋５５℃、好ましくはＴ2＋３０℃〜Ｔ2＋５０℃とであることが好ましい。なお、熱変形温度Ｔ2とは、ＡＳＴＭＤ−６４８に従って測定した値である。

鋳型ロールの表面温度Ｔ1が熱変形温度Ｔ2より低いと、微細な凹凸形状が形成しにくくなる。表面温度Ｔ1が熱変形温度Ｔ2よりも５５℃を超えると、得られるフィルムの平面性が劣化しやすくなる。

鋳型ロール５１の表面温度Ｔ1は、鋳型ロール自身の温度、雰囲気温度、凹凸を形成するフィルム温度、フィルムの残留溶媒量、凹凸形成速度を設定することで制御することができる。鋳型ロール自身の温度は鋳型内に温度制御された気体もしくは液体の媒体を循環させることで制御することができる。例えば４０〜３００℃、好ましくは５０〜２５０℃の範囲で樹脂の種類や形成する凹凸形状に応じて選択される。その時、フィルム中の残留溶媒が発泡しないようにすることが好ましく、鋳型ロール５１の表面が、例えば残留溶媒の沸点以上の温度であっても、凹凸を形成する速度が速ければ発泡を防ぐことができる。例えば１０ｍ／ｍｉｎ以上の速度で凹凸を形成することができる。

バックロール５２の温度も同様に制御することが好ましく、鋳型ロール５１と同等か低い温度に設定することが好ましい。

凹凸を形成する際のロール圧力は、線圧で５〜５００Ｎ／ｃｍ、さらに好ましくは３０〜５００Ｎ／ｃｍから熱可塑性樹脂の種類、形成する凹凸の形状、温度等を考慮して適宜決定される。

本発明の防眩性フィルムの製造方法においては、バックロールの表面素材のヤング率が、４〜１００００００（Ｎ／ｍｍ^２）、好ましくは５００〜１００００００（Ｎ／ｍｍ^２）であるバックロールを用いるのが好ましい。

ここで、バックロールのヤング率が低すぎると、変形が大きすぎるため、加重が面圧で加わることになり、加重を加えても所要の線圧が得られなくなり、また、バックロールのヤング率が高すぎると、ロールが全く変形せず線圧で押していることになり、型押しでの機械精度（軸出し）を出すのが難しくなるので、好ましくない。

なお、バックロールの材質は、金属、ステンレス、炭素鋼、アルミニウム合金、チタン合金、セラミック、硬質ゴム、強化プラスチックまたはこれらを組み合わせた素材などが使用できるが、バックロールとしては、硬質ゴムまたは金属が好ましく用いられる。

また、バックロールの偏芯は、５０μｍ以内であることが好ましく、２０μｍ以内がさらに好ましく、０〜５μｍであることがさらに好ましい。

バックロール５１の直径は、５〜２００ｃｍが好ましく、１０〜１００ｃｍがさらに好ましく、２０〜１００ｃｍが特に好ましい。

本発明において、透明フィルム基材１の表面に、型押しによる凹凸部を形成する方法として好ましい態様を、以下に示す。

（ａ）溶融流延製膜工程で、フィルムの製造工程内で加熱されたフィルムを室温まで戻すことなく、フィルム面に鋳型を押し当てて表面に凹凸を形成する方法。

（ｂ）熱可塑性樹脂フィルムの製膜工程で、フィルム面に鋳型を押し当てて表面に凹凸を形成する前もしくは後にテンターで延伸し、長尺方向に延伸した後、フィルム面に鋳型を押し当てて表面に凹凸を形成する方法。

（ｃ）製膜工程が溶液流延方式であり、熱可塑性樹脂フィルムを有機溶剤に溶解したドープを平滑面を有する支持体上に流延し、剥離可能となるまで支持体上で有機溶剤を揮発させた後、剥ぎ取った平滑面を有するフィルムを乾燥する工程で、フィルム面に鋳型を押し当てて表面に凹凸を形成する方法。

（ｄ）溶液流延製膜工程で、残留溶媒を含有する熱可塑性樹脂フィルムに鋳型を押し当てて表面に凹凸を形成し、残留溶媒中の貧溶媒比率が１０質量％以上のときに鋳型により凹凸を形成する方法。

（ｅ）フィルム面に鋳型を押し当てて表面に凹凸を形成した後、１００℃以上で熱処理する工程を有する方法。

（ｆ）共流延または逐次流延もしくは塗布によって２層以上の多層構成とした熱可塑性樹脂フィルムに鋳型を押し当てて表面に凹凸を形成する方法。

（ｇ）鋳型による凹凸付与部の前もしくは後に除電装置を設ける方法。

なお、凹凸を形成する際のフィルムの搬送速度は、１０〜１００ｍ／ｍｉｎが好ましい。

本発明の方法で製造された防眩性フィルムは、鋳型による型押しによって形成される透明フィルム基材の表面の凹凸の中心線平均粗さ（Ｒａ）が、０．０５〜１０μｍ、好ましくは１．０〜１０μｍであり、透明フィルム基材の表面の凹凸の平均ピーク間隔（Ｓｍ）が、２〜２００μｍ、好ましくは５〜５０μｍであり、透明フィルム基材のヘイズが、３〜６０％、好ましくは５〜５５％であることが好ましい。

ここで、鋳型による型押しによって形成される透明フィルム基材の表面の凹凸の中心線平均粗さ（Ｒａ）が、０．０５μｍ未満であれば、防眩性が得られず、防眩性フィルムとして好ましくない。また、中心線平均粗さ（Ｒａ）が、１０μｍを超えると、防眩性能は得られるが、画像表示用フィルムとしては、透過画像表示が乱れるので、好ましくない。

また、フィルム基材の表面の凹凸の平均ピーク間隔（Ｓｍ）が、２μｍ未満であれば、フィルムの白濁が劣化し、好ましくない。また、凹凸の平均ピーク間隔（Ｓｍ）が、２００μｍを超えると、防眩性が得られず、防眩性フィルムとして好ましくない。

さらに、透明フィルム基材のヘイズが、３％未満であれば、防眩性が得られず、防眩性フィルムとして好ましくない。また、透明フィルム基材のヘイズが、６０％を超えると、画像表示用フィルムとしては、透過画像表示が乱れるので、好ましくない。

つぎに、本発明の防眩性フィルムにおけるハードコート層について説明する。

本発明の防眩性フィルムにおいては、透明フィルム基材１上に１層以上のハードコート層を形成した後、そのハードコート層の最表面上に凹凸構造からなる防眩層を形成するものである。

ハードコート層には、熱硬化性樹脂または活性線硬化型樹脂を好ましく用いることができるが、特に紫外線硬化樹脂が好ましい。また、ハードコート層の形成に際しては、上記各樹脂の他に、光反応開始剤、光増感剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、無機微粒子、有機微粒子等を適宜添加することができる。

また、本発明においては、ハードコート層は複数層で構成されてもよいが、インク液滴を着弾させるハードコート層の最表層が、可塑剤を含有していることが好ましい。

ハードコート層で用いることのできる可塑剤としては、例えば、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤等を好ましく用いることができる。

リン酸エステル系可塑剤としては、例えば、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系可塑剤では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジフェニルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等、トリメリット酸系可塑剤では、トリブチルトリメリテート、トリフェニルトリメリテート、トリエチルトリメリテート等、ピロメリット酸エステル系可塑剤では、テトラブチルピロメリテート、テトラフェニルピロメリテート、テトラエチルピロメリテート等、グリコレート系可塑剤では、トリアセチン、トリブチリン、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等、クエン酸エステル系可塑剤では、トリエチルシトレート、トリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−（２−エチルヘキシル）シトレート等を好ましく用いることができる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。

ポリエステル系可塑剤として脂肪族二塩基酸、脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二塩基酸とグリコールの共重合ポリマーを用いることができる。脂肪族二塩基酸としては特に限定されないが、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキシルジカルボン酸等を用いることができる。グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，２−ブチレングリコール等を用いることができる。これらの二塩基酸及びグリコールはそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以上混合して用いてもよい。

特に、特開２００２−１４６０４４号公報に記載のエポキシ系化合物、ロジン系化合物、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ケトン樹脂、トルエンスルホンアミド樹脂等の添加物を有するセルロースエステルも好ましく用いられる。

上記化合物としては、ＫＥ−６０４とＫＥ−６１０は荒川化学工業株式会社からそれぞれ酸価２３７と１７０で市販されている。同じく、荒川化学工業株式会社からアビエチン酸、デヒドロアビエチン酸及びパラストリン酸３者の混合物のエステル化物として、ＫＥ−１００及びＫＥ−３５６が、それぞれの酸価は８と０で市販されている。また、アビエチン酸、デヒドロアビエチン酸及びパラストリン酸３者の混合物は、播磨化成株式会社からそれぞれの酸価１６７、１６８のＧ−７及びハートールＲ−Ｘで市販されている。

また、エポキシ樹脂としては、アラルダイドＥＰＮ１１７９及びアラルダイドＡＥＲ２６０は旭チバ株式会社から市販されている。

ケトン樹脂としては、ハイラック１１０及びハイラック１１０Ｈは日立化成株式会社から市販されている。

パラトルエンスルホンアミド樹脂としては、トップラーとして、フジアミドケミカル株式会社から市販されている。

防眩層を形成するインク液滴を着弾させるハードコート層の最表層には、可塑剤が０．１〜１０質量％を含有することが好ましい。例えばハードコート層の塗布組成物に予め可塑剤を添加することが好ましく、あるいはハードコート層を塗設前に予め基材表面に可塑剤を塗布もしくは付着させておくこともできる。これらによって、硬化後のインク滴の密着性が改善される。

ハードコート層を塗設する際の溶媒は、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類、その他の溶媒の中から適宜選択し、または混合して使用できる。好ましくは、プロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルまたはプロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルエステルを５質量％以上、さらに好ましくは５質量％〜８０質量％以上含有する溶媒が用いられる。

上記説明した組成からなるハードコート層用組成物塗布液を透明フィルム基材１上に塗布する方法としては、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコーター、押出コーター、エアードクターコーター等公知の方法を用いることができる。塗布量はウェット膜厚で５μｍ〜３０μｍが適当で、好ましくは１０μｍ〜２０μｍである。塗布速度は１０ｍ／分〜６０ｍ／分が好ましい。また、乾燥膜厚保としては、１〜１０μｍが好ましい。

本発明の防眩性フィルムは、透明フィルム基材上にハードコート層を塗布、乾燥させた後、インクジェット方式により凹凸構造を有する防眩層を形成し、さらに、防眩層上に反射防止層あるいは防汚層を設けることが好ましい。

（防眩層）
本発明による防眩性フィルムは、透明フィルム基材上に防眩層を有しており、防眩層は、第１樹脂及び第２樹脂と、ポリメチルメタクリレート系微粒子、ポリスチレン系微粒子、メラミンポリマー系微粒子、及び親水性シリカ微粒子よりなる群の中から選ばれた少なくとも１種の微粒子とを含む塗布組成物から形成されているものである。

本発明の防眩性フィルムによれば、防眩性と視認性をバランス良く満たす光学特性、耐久保存後のハードコート性、塗工液の安定性、生産性や低コスト化に優れた防眩性フィルムを得ることができる。

ここでいう防眩性とは、表面に反射した像の輪郭をぼかすことによって反射像の視認性を低下させて、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイといった画像表示装置等の使用時に反射像の映り込みが気にならないようにするものである。表面に適切な凹凸を設けることによって、このような性質を持たせることができる。

凹凸形状としては、直円錐、斜円錐、角錐、斜角錐、楔型、凸多角体、半球状等から選ばれる構造、並びにそれらの部分形状を有する構造が挙げられる。なお、半球状は、必ずしもその表面形状は真球形状である必要はなく、楕円体形状や、より変形した凸曲面形状であってもよい。また、凹凸形状の稜線が線状に伸びた、プリズム形状、レンチキュラーレンズ形状、フレネルレンズ形状も挙げられる。その稜線から谷線にかけての斜面は平面状、曲面状、もしくは両者の複合的形状であってもよい。

防眩層の凹凸形状の粗さは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２００１で規定される中心線平均粗さ（Ｒａ）に基づいて、測定することができ、中心線平均粗さ（Ｒａ）が６０〜７００ｎｍ、好ましくは８０〜４００ｎｍである。ここで、凹凸形状の粗さ（Ｒａ）が、６０ｎｍ未満では、防眩性の効果が弱く、凹凸形状の中心線平均粗さ粗さ（Ｒａ）が、７００ｎｍを超えると、目視で粗すぎる印象を受ける。中心線平均粗さ（Ｒａ）は、光干渉式の表面粗さ測定器で測定することが好ましく、例えば光学干渉式表面粗さ計ＲＳＴ／ＰＬＵＳ（ＷＹＫＯ社製）を用いて測定することができる。

本発明において、防眩性を付与するために、透明フィルム基材１表面に、光または加熱して硬化する樹脂をインクジェット法により印刷し、光または加熱により硬化して、透明フィルム基材１表面を凹凸形状にする方法が効果的である。

つぎに、防眩層用塗布組成物について説明する。

（微粒子）
本発明の目的効果の点から防眩層用塗布組成物には、ポリメチルメタクリレート系微粒子、ポリスチレン系微粒子、メラミンポリマー系微粒子、及び親水性シリカ微粒子よりなる群の中から選ばれた少なくとも１種の微粒子を含有することを特徴とする。

なお、高速塗布時のレベリング性や取り扱い性から、塗工液の液粘度を下げるため、固形濃度を低くした方が良いが、このような状態での塗工液の安定性、また良好な分散性が得られることから、ポリメチルメタクリレート系微粒子、ポリスチレン系微粒子、メラミンポリマー系微粒子、及び親水性シリカ微粒子よりなる群の中から選ばれた少なくとも１種の微粒子の平均粒子径としては、５ｎｍ〜３０μｍの範囲内であることが好ましい。さらに好ましくは、１０ｎｍ〜１５μｍである。平均粒子径は、例えばレーザー回折式粒度分布測定装置により測定することができる。

また、前記の理由により、防眩層用塗布組成物に含まれるポリメチルメタクリレート系微粒子、ポリスチレン系微粒子、メラミンポリマー系微粒子、及び親水性シリカ微粒子よりなる群の中から選ばれた少なくとも１種の微粒子の含有量としては、塗布組成物の樹脂固形分１００質量部に対して、０．０１〜５００質量部が好ましく、さらに好ましくは０．１〜１００質量部であり、特に好ましくは１〜３０質量部である。

ここで、ポリメチルメタクリレート系微粒子、ポリスチレン系微粒子、及びメラミンポリマー系微粒子の具体例として、ポリメチルメタクリレート系微粒子としては、例えば綜研化学製；ＭＸ１５０、ＭＸ３００、日本触媒製；エポスターＭＡ、グレード；ＭＡ１００２、ＭＡ１００４、ＭＡ１００６、ＭＡ１０１０、エポスターＭＸ（エマルジョン）、グレード；ＭＸ０２０Ｗ、ＭＸ０３０Ｗ、ＭＸ０５０Ｗ、ＭＸ１００Ｗ）、積水化成品工業製：ＭＢＸシリーズ（ＭＢＸ−８、ＭＢＸ１２）があげられる。

ポリメチルメタクリレート系微粒子の中でも、本発明の効果であるハードコート性をより良く発揮する点から、フッ素含有ポリメチルメタクリレート微粒子が好ましい。本発明におけるフッ素含有ポリメチルメタクリレート微粒子とは、フッ化アクリレートまたはフッ化メタクリレートをモノマーまたはポリマーから形成された微粒子、フッ素含有アクリル酸、フッ素含有メタクリル酸、フルオロアクリル酸もしくはフルオロメタクリル酸から形成された微粒子、及びフッ素含有メタアクリル酸を架橋剤の存在下にビニル単量体と共重合させて得られる微粒子等が挙げられる。

フッ素含有メタアクリル酸としては、例えばトリフルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート等のフッ素含有メタクリル酸アルキル、パーフルオロオクチルエチルアクリレートのようなフッ素含有アクリル酸アルキル等が挙げられる。

フッ素含有（メタ）アクリル酸と共重合可能なビニル単量体としては、ビニル基を有するものであればよく、具体的にはメタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル等のメタクリル酸アルキルエステル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル等のアクリル酸アルキルエステル及びスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン類等が挙げられる。

重合反応の際に用いられる架橋剤としては、特に限定されないが、２個以上の不飽和基を有するものを用いることが好ましく、例えばエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート等の２官能性ジメタクリレートや、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ジビニルベンゼン等が挙げられる。なお、共重合反応は、ランダム共重合およびブロック共重合のいずれでもよい。

具体的化合物としては、例えば特開２０００−１６９６５８号公報に記載の化合物等も挙げることができ、市販品としては、日本ペイント製：ＦＳ−７０１、根上工業製：ＭＦ−００４３等を挙げることができる。

ポリスチレン系微粒子としては、例えば綜研化学製；ＳＸ−１３０Ｈ、ＳＸ−２００Ｈ、ＳＸ−３５０Ｈ）、積水化成品工業製、ＳＢＸシリーズ（ＳＢＸ−６、ＳＢＸ−８）等の市販品が挙げられる。また、ポリスチレン系微粒子の中には、アクリルとスチレンが架橋した微粒子も含まれ、具体的には、日本ペイント製：ＦＳ−１０２、ＦＳ−４０１、ＦＳ−２０１、ＭＧ−３５１等の市販品を挙げることができる。

メラミンポリマー系微粒子としては、日本触媒製：ベンゾグアナミン・メラミン・ホルムアルデヒド縮合物（商品名：エポスター、グレード；Ｍ３０、商品名：エポスターＧＰ、グレード；Ｈ４０〜Ｈ１１０）、日本触媒製：メラミン・ホルムアルデヒド縮合物（商品名：エポスター、グレード；Ｓ１２、Ｓ６、Ｓ、ＳＣ４）、日産化学工業製：メラミン樹脂・シリカ複合粒子（商品名：オプトビーズ）等の市販品を挙げることができる。

一方、親水性シリカ微粒子としては、日本アエロジル製、アエロジル２００、２００Ｖ、３００、デグサ製、アエロジルＯＸ５０、ＴＴ６００、富士シリシア化学製、サイリシア３５０等の商品名を挙げることができる。

なお、本発明の微粒子は、単独で用いてもよいが、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、これら微粒子の状態は、粉体あるいはエマルジョン等のどのような状態で加えられても良い。

その他の微粒子としては、ベンゾグアナミン系微粒子が挙げられ、日本触媒製：ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合物（商品名：エポスター、グレード；Ｌ１５、Ｍ０５、ＭＳ、ＳＣ２５）等、ポリウレタン系技粒子としては、大日精化製ダイミックビーズ、またエチレン・メチルメタクリラート共重合物等が挙げられる。

シリコーン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、またはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等の紫外線硬化性樹脂組成物をも加えることができる。また必要に応じて、さらに特開２０００−２４１８０７号公報に記載の微粒子を含んでいても良い。

つぎに、本発明の目的効果の点から含有される第１樹脂及び第２樹脂について説明する。

第１樹脂及び第２樹脂は、透明フィルム基材上に塗布することにより得られる塗膜を乾燥させることによって、表面に凹凸形状を有する樹脂層を形成する組成物である。例えば特開２００６−３６４７号公報に記載の塗布組成物が好ましく用いられる。これらの第１樹脂及び第２樹脂は、塗布組成物を塗布した後に、それぞれの表面張力の差に基づいて、第１樹脂及び第２樹脂が局在化すると考えられる。

第１樹脂及び第２樹脂は、互いに反応する官能基を有する樹脂を使用する。第１樹脂が有する官能基と第２樹脂が有する官能基とが反応することによって、樹脂層が硬化する。

このような官能基の組合せとしては、例えば水酸基とメラミン樹脂のイミノ基、メチロール基、アルコキシド基との組合せ、水酸基と（ブロック）イソシアネート基との組合せ、水酸基と酸（無水物）基との組合せ、水酸基とシラノール基との組合せ、エポキシ基とカルボキシル基との組合せ、エポキシ基とアミノ基との組合せ、エポキシ基と水酸基との組合せ、エポキシ基とシラノール基との組合せ、オキサゾリン基とカルボキシル基との組合せ、活性メチレン基とアクリロイル基との組合せ等の、異なる官能基の組み合わせが挙げられる。なお、ここにいう「互いに反応する官能基」とは、第１樹脂及び第２樹脂のみを混合しただけでは反応は進行しないか、または反応速度が遅いが、触媒等を併せて混合することにより互いに反応するものも含まれる。ここで使用できる触媒としては、例えば光開始剤、ラジカル開始剤、酸・塩基触媒、金属触媒などが挙げられる。

つぎに、第１樹脂及び第２樹脂の具体的化合物について説明する。

第１樹脂（ａ−１）としては、水酸基含有樹脂が好ましく、かつアクリル樹脂、オレフィン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂及びポリウレタン樹脂よりなる群の中から選ばれた少なくとも１種の骨格を有する水酸基有樹脂がさらに好ましい。

第２樹脂（ｂ−１）としては、メラミン樹脂を使用することが好ましい。この場合、第１樹脂（ａ−１）が有する水酸基と、第２樹脂（ｂ−１）が有するイミノ基、メチロール基及び／またはアルコキシド基とが反応して、架橋が形成され、硬化する。

第１樹脂（ａ−１）として用いることができるオレフィン樹脂としては、アクリル樹脂、例えば（メタ）アクリルモノマーを重合または共重合した樹脂、（メタ）アクリルモノマーと他のエチレン性不飽和二重結合を有するモノマーとを共重合した樹脂などであって、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、アイオノマー、エチレン・ビニルアルコール共重合体、エチレン・塩化ビニル共重合体などが挙げられる。

第１樹脂（ａ−１）として用いることができるポリエーテル樹脂は、分子鎖中にエーテル結合を含む樹脂であり、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどが挙げられる。

第１樹脂（ａ−１）として用いることができるポリエステル樹脂は、分子鎖中にエステル結合を含む樹脂であり、例えば不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、ポリエチレンテレフタレートなどが挙げられる。

第１樹脂（ａ−１）として用いることができるポリカーボネート樹脂は、４，４−ジヒドロキシジフェニル−２，２−プロパン（通称、ビスフェノールＡ）をはじめとする４，４−ジオキシジアリルアルカン系ポリカーボネートであるが、その中でも特に４，４−ジヒドロキシジフェニル−２，２−プロパンのポリカーボネートが好ましく、その数平均分子量が１５，０００〜８０，０００程度のものが好ましい。ポリカーボネート樹脂としては、例えば帝人化成株式会社製のパンライトＬ−１２２５、Ｌ−１２５０、Ｋ−１３００等がある。

第１樹脂（ａ−１）として用いることができるポリアミド樹脂は、分子鎖中に酸アミド結合（−ＣＯＮＨ−）を有するものであり、例えばε―カプロラクタム、６−アミノカプロン酸、ε―エナントラクタム、７−アミノヘプタン酸、９−アミノノナン酸、１１−アミノウンデカン酸、１２−アミノドデカン酸、ラウロラクタム、α―ピロリドンやヘキサメチレンジアミン、ウンデカメチレンジアミン、ドデカメチレンジアミンなどの重縮合物、ジアミンとアジピン酸、セバシン酸などのジカルボン酸との重縮合物からなる重合体、もしくはこれらの共重合体、もしくはこれらの重合体あるいは共重合体のブレンド物を挙げることができる。好ましくは、ε―カプロラクタム、６−アミノカプロン酸、１１−アミノウンデカン酸、１２−アミノドデカン酸、ラウロラクタム、及びヘキサメチレンジアミンとアジピン酸の重縮合物からなる重合体、もしくはこれらの共重合体、もしくはこれらの重合体や共重合体のブレンド物である。

第１樹脂（ａ−１）として用いることができるポリウレタン樹脂は、分子鎖中にウレタン結合を含む樹脂であるが挙げられる。

さらに、第１樹脂（ａ−１）としては、上記の樹脂の共重合物も使用することができる。

第１樹脂（ａ−１）の水酸基価（ＯＨ価）は、好ましくは１０〜４００であることが好ましい。第１樹脂（ａ−１）のＯＨ価が、１０未満の場合は、硬化が不十分となり、成膜性（樹脂層形成能力）の低下、得られる樹脂層の耐薬品性の低下が生じるおそれがある。一方、第１樹脂（ａ−１）のＯＨ価が４００を超える場合は、架橋密度が高くなりすぎることによる、得られる樹脂層の可撓性の低下、機械的強度の低下が生じるおそれがある。

上記第１樹脂（ａ−１）のうち、水酸基を有する（メタ）アクリル樹脂が、本発明において特に好ましく使用される。この樹脂は、第２樹脂（ｂ−１）としてメラミン樹脂を用いる組み合わせにおいて、より良好な凹凸表面を有する樹脂層を形成することができるからである。

第２樹脂（ｂ−１）を構成するメラミン樹脂は、一般に市販されているものを用いることができ、例えば日本サイテックインダストリーズ株式会社、大日本インキ株式会社、三井東圧株式会社などから購入することができる。

他の具体的な実施態様として、第１樹脂（ａ−２）としては、カルボキシル基含有樹脂を使用することが好ましい。

そして、これに対し、第２樹脂（ｂ−２）として、エポキシ基含有樹脂を使用することが好ましい。この場合、第１樹脂（ａ−２）が有するカルボキシル基と、第２樹脂（ｂ−２）が有するエポキシ基とが反応して、架橋が形成され、硬化する。

第１樹脂（ａ−２）として用いることができる樹脂として、アクリル樹脂、例えば（メタ）アクリルモノマーを重合または共重合した樹脂、または（メタ）アクリルモノマーと他のエチレン性不飽和二重結合を有するモノマーとを共重合した樹脂など、のアクリル樹脂であって、その骨格上にカルボキシル基を有する樹脂が特に好ましい。

ここで、第１樹脂（ａ−２）の酸価は、２０〜４００であることが好ましく、５０〜２５０であることがより好ましい。第１樹脂（ａ−２）の酸価が、２０未満の場合は、硬化が不十分となり、成膜性（樹脂層形成能力）の低下、得られる樹脂層の耐薬品性の低下が生じるおそれがある。一方、第１樹脂（ａ−２）の酸価が、４００を超える場合は、架橋密度が高くなりすぎることによる、得られる樹脂層の可撓性の低下、機械的強度の低下が生じるおそれがある。

本発明の上記の実施態様において、第２樹脂（ｂ−２）として用いることができるエポキシ基含有樹脂は、例えばビスフェノール型エポキシ樹脂、エポキシ基含有アクリル樹脂などが挙げられ、特にエポキシ基含有アクリル樹脂が好ましい。なお、本明細書において「エポキシ基含有樹脂」とは、エポキシ基を有する樹脂をいい、その樹脂の骨格の構造は限定されない。

本発明において、第２樹脂（ｂ−２）として使用することができるエポキシ基含有樹脂として、例えばエポキシ基を有するラジカル重合性モノマー３０〜７０質量％、水酸基を有するラジカル重合性モノマー１０〜５０質量％、及びその他のラジカル重合性モノマーを残量含むモノマー組成物を共重合して得ることができる共重合体が挙げられる。

エポキシ基を有するラジカル重合性モノマーとしては、例えば（メタ）アクリル酸グリシジル、３，４エポキシシクロヘキサニルメチルメタクリレート等が挙げられる。水酸基を有するラジカル重合性モノマーとしては、例えば（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル等、アクリル酸４ヒドロキシブチル、プラクセルＦＭ−１（ダイセル社製）等が挙げられる。その他のラジカル重合性モノマーとしては、スチレン、α−メチルスチレン、アクリル酸エステル類（例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸−ｎ、ｉ、及びｔ−ブチル、アクリル酸２エチルヘキシル、アクリル酸ラウリル等）、メタクリル酸エステル類（例えばメタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸−ｎ、ｉ、及びｔ−ブチル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸ラウリル等）、アクリルアミド、メタクリルアミド等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。これらのモノマーを、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ジメチル２，２′−アゾビスイソブチレート等のラジカル重合開始剤の存在下で重合させることによって、エポキシ基含有樹脂を得ることができる。

また、第２樹脂（ｂ−２）として使用するエポキシ樹脂は、エポキシ当量１００〜５０００のエポキシ樹脂を使用するのが好ましく、エポキシ当量１６０〜２０００のエポキシ樹脂を使用するのが、より好ましい。

上記のいずれの態様においても、第１樹脂の重量平均分子量は、５００〜５００，０００、特に１０００〜１００，０００であることが好ましい。第１樹脂の重量平均分子量が５００，０００を超えると、ポリマー粘度が高くなり、作業性などが悪くなる恐れがある。一方、第１樹脂の重量平均分子量が５００未満の場合には、局在化が不十分となる恐れがある。重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー法（ＧＰＣ法）により求めることができる。

また、第２樹脂の重量平均分子量は、２００〜５００，０００、特に４００〜１００，０００であることが好ましい。第２樹脂の重量平均分子量が５００，０００を超えると、ポリマー粘度が高くなり、作業性などが悪くなる恐れがある。一方、第２樹脂の重量平均分子量が２００未満の場合には、局在化が不十分となる恐れがある。この重量平均分子量もゲル浸透クロマトグラフィー法（ＧＰＣ法）により求めることができる。

用いられる溶媒は、特に限定されるものではなく、塗布の下地となる部分の材質や、バインダー樹脂及び塗布方法などを考慮して適宜選択される。

溶媒の具体例としては、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒；ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル等のエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸−ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸−ｎ−ブチル、乳酸メチル、乳酸メチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、γ−ブチロラクトン等のエステル系溶媒；ジメチルホルムアルデヒド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒；プロピレンカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート等のカーボネート系溶媒；ｎ−ブタン、ｎ−へキサン、シクロヘキサン等の脂肪族系溶媒；ｉ−プロパノール、ｉ−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶媒が挙げられる。これらの溶媒のうちエステル系、エーテル系、アルコール系溶媒が好ましく、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。また、水系の溶媒が用いられてもよい。

第１樹脂と第２樹脂は、樹脂の固形分質量比（第１樹脂／第２樹脂）で表して１０／９０〜９０／１０の範囲で用いられるのが好ましく、７０／３０〜４０／６０の範囲で用いられるのがより好ましい。このような比率で用いることによって、良好な凹凸表面を有し、そして物理的強度などに優れた樹脂層を得ることができる。

第１樹脂と第２樹脂の屈折率は同じでも異なっていてもよく、好ましい屈折率差としては０．００〜０．５０、さらに、好ましくは０．０１〜０．３０である。

また、必要に応じて、その他、種々の添加剤を添加することができる。このような添加剤としてはポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックスなどのワックス類のようなレオロジーコントロール剤、アセチレンジオール類のような表面調整剤（レベリング剤）、カップリング剤、可塑剤、分散剤等が挙げられる。レベリング剤としては、後述の低屈折率層に記載のフッ素系またはシリコーン界面活性剤やポリオキシエチレンオレイルエーテル化合物等が挙げられる。

ポリオキシエチレンオレイルエーテル化合物としては、一般的に一般式（Ｉ）で表される化合物である。

一般式（Ｉ） Ｃ_１８Ｈ_３５−Ｏ（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎＨ
式中、ｎは２〜４０を表す。

オレイル部分に対するエチレンオキシドの平均付加個数（ｎ）は、２〜４０であり、好ましくは２〜１０である。また一般式（Ｉ）の化合物はエチレンオキシドとオレイルアルコールとを反応させて得られる。

具体的商品としては、エマルゲン４０４〔ポリオキシエチレン（４）オレイルエーテル〕、エマルゲン４０８〔ポリオキシエチレン（８）オレイルエーテル〕、エマルゲン４０９Ｐ〔ポリオキシエチレン（９）オレイルエーテル〕、エマルゲン４２０〔ポリオキシエチレン（１３）オレイルエーテル〕、エマルゲン４３０〔ポリオキシエチレン（３０）オレイルエーテル〕以上花王社製、日本油脂製ＮＯＦＡＢＬＥＥＡＯ−９９０５〔ポリオキシエチレン（５）オレイルエーテル〕等が挙げられる。なお、（）内がｎの数字を表す。

本発明の防眩層用塗布組成物には、親水性シリカ以外の無機微粒子や金属酸化物も含んで良い。具体的には、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、酸化インジウム−スズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、及びリン酸カルシウムを挙げることができる。

また、防眩層の厚さは、ハードコート性（耐擦性、鉛筆硬度）や、良好な光拡散性が付与され、視野角の拡大に貢献することから、制限されないが、通常、０．５〜５０μｍ、とくに１〜３０μｍが好ましい。また、防眩層は単層または複数の層から構成しても良い。

防眩層は、透明フィルム基材に上記防眩層用塗布組成物を塗布する塗布工程、得られた塗膜を乾燥させる乾燥工程、及び乾燥させた塗膜を硬化させる硬化工程、を包含する方法によって形成される。

防眩層用の塗布組成物を基材に塗布する方法は、特に限定されるものではなく、使用する塗布組成物や塗布工程の状況に応じて適宜選択される。例えばワイヤバーコーティング、スピンコーティング、ロールコーティング、スクリーン印刷、スプレーコーティング、グラビアコーティング、後述のインクジェット法等の種々の塗布方法を採用することができる。

また、塗布は後述の透明フィルム基材幅が１．４〜４ｍでロール状に巻き取られた状態から繰り出して、塗布を行ない、乾燥・硬化処理した後、ロール状に巻き取られることが好ましい。

乾燥工程は、減圧乾燥によって行なわれるのが好ましい。減圧乾燥することにより、塗布組成物中に含まれる溶媒を除去し、そして第１樹脂及び第２樹脂を良好に局在化させることができるためと考えられる。

乾燥工程において第１樹脂及び第２樹脂が局在化した塗膜を硬化させることによって、凹凸樹脂層が形成される。硬化方法としては、加熱することによって熱硬化させる方法、電子線、または紫外線等の光照射によって硬化させる方法などが挙げられる。紫外線光照射としては、例えば低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。熱硬化させる場合は、加熱温度は５０〜３００℃が好ましく、好ましくは６０〜２５０℃、さらに好ましくは８０〜１５０℃である。

加熱時間は、加熱温度により変化するが、３〜３００分の範囲が適当である。あるいは一度巻き取った後、５０〜１００℃程度の温度で１〜２０日間程度エージング処理する方法でも良い。

また光照射によって硬化させる場合は、照射光の露光量は１０ｍＪ／ｃｍ^２〜１０Ｊ／ｃｍ^２であることが好ましく、５０ｍＪ／ｃｍ^２〜１Ｊ／ｃｍ^２であるのがより好ましい。ここで照射される光の波長域としては特に限定されないが、紫外線領域の波長を有する光が好ましく用いられる。

さらに、防眩層には、活性エネルギー線硬化樹脂を含有させてもよい。もしくは別の層として積層することもできる。

活性エネルギー線硬化樹脂とは、紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂をいう。活性エネルギー線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させて活性エネルギー線硬化樹脂層が形成される。活性エネルギー線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する樹脂が好ましい。

紫外線硬化性樹脂としては、例えば紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。中でも紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましい。

紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物にさらに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下、アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば特開昭５９−１５１１１０号公報に記載のものを用いることができる。

例えばユニディック１７−８０６（大日本インキ化学工業株式会社製）１００部とコロネートＬ（日本ポリウレタン株式会社製）１部との混合物等が好ましく用いられる。

紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させると容易に形成されるものを挙げることができ、特開昭５９−１５１１１２号公報に記載のものを用いることができる。

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光重合開始剤を添加し、反応させて生成するものを挙げることができ、特開平１−１０５７３８号公報に記載のものを用いることができる。

紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。

これら紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤としては、具体的には、ベンゾイン及びその誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。光増感剤と共に使用してもよい。上記光重合開始剤も光増感剤として使用できる。また、エポキシアクリレート系の光重合開始剤の使用の際、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。紫外線硬化樹脂組成物に用いられる光重合開始剤また光増感剤は該組成物１００質量部に対して０．１〜２０質量部であり、好ましくは１〜１５質量部である。

樹脂モノマーとしては、例えば不飽和二重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、酢酸ビニル、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることができる。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとして、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、１，４−シクロヘキシルジメチルアジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリルエステル等を挙げることができる。

本発明において使用し得る紫外線硬化樹脂の市販品としては、アデカオプトマーＫＲ・ＢＹシリーズ：ＫＲ−４００、ＫＲ−４１０、ＫＲ−５５０、ＫＲ−５６６、ＫＲ−５６７、ＢＹ−３２０Ｂ（旭電化株式会社製）；コーエイハードＡ−１０１−ＫＫ、Ａ−１０１−ＷＳ、Ｃ−３０２、Ｃ−４０１−Ｎ、Ｃ−５０１、Ｍ−１０１、Ｍ−１０２、Ｔ−１０２、Ｄ−１０２、ＮＳ−１０１、ＦＴ−１０２Ｑ８、ＭＡＧ−１−Ｐ２０、ＡＧ−１０６、Ｍ−１０１−Ｃ（広栄化学株式会社製）；セイカビームＰＨＣ２２１０（Ｓ）、ＰＨＣＸ−９（Ｋ−３）、ＰＨＣ２２１３、ＤＰ−１０、ＤＰ−２０、ＤＰ−３０、Ｐ１０００、Ｐ１１００、Ｐ１２００、Ｐ１３００、Ｐ１４００、Ｐ１５００、Ｐ１６００、ＳＣＲ９００（大日精化工業株式会社製）；ＫＲＭ７０３３、ＫＲＭ７０３９、ＫＲＭ７１３０、ＫＲＭ７１３１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０２（ダイセル・ユーシービー株式会社製）；ＲＣ−５０１５、ＲＣ−５０１６、ＲＣ−５０２０、ＲＣ−５０３１、ＲＣ−５１００、ＲＣ−５１０２、ＲＣ−５１２０、ＲＣ−５１２２、ＲＣ−５１５２、ＲＣ−５１７１、ＲＣ−５１８０、ＲＣ−５１８１（大日本インキ化学工業株式会社製）；オーレックスＮｏ．３４０クリヤ（中国塗料株式会社製）；サンラッドＨ−６０１、ＲＣ−７５０、ＲＣ−７００、ＲＣ−６００、ＲＣ−５００、ＲＣ−６１１、ＲＣ−６１２（三洋化成工業株式会社製）；ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５０７（昭和高分子株式会社製）；ＲＣＣ−１５Ｃ（グレース・ジャパン株式会社製）、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０（東亞合成株式会社製）；ＮＫハードＢ−４２０、Ｂ−５００（新中村化学工業株式会社製）等を適宜選択して利用できる。

また、その他としては、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、イソボニルアクリレート等を挙げることができる。

光硬化反応の照射条件は、上記の水銀ランプ等によって異なるが、活性線の照射量は、通常５〜５００ｍＪ／ｃｍ^２、好ましくは５〜１５０ｍＪ／ｃｍ^２であるが、特に好ましくは２０〜１００ｍＪ／ｃｍ^２である。

また、活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行なうことが好ましく、さらに好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行なうことである。付与する張力は３０〜３００Ｎ／ｍが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、または２軸方向に張力を付与してもよい。これによってさらに平面性優れたフィルムを得ることができる。

本発明による防眩性フィルムの防眩層は、インクジェット方法より凹凸形成することができる。

防眩層用塗布組成物をインキ液として、インクジェット方法により塗布することで凸状構造部を形成してもよく、もしくは活性エネルギー線硬化樹脂を有する塗布液で形成された凸状構造部の上にオーバーコート層として用いることもでき、またはインクジェット方法により凸状構造部を形成しさらに、その上にオーバーコートする際の両者の塗布液として用いることもできる。

（バックコート層）
本発明では、セルロースエステルフィルムなどの透明フィルム基材の防眩層を設けた側と反対側の面にはバックコート層を設けることが好ましい。

バックコート層は、活性エネルギー線硬化樹脂層やその他の層を設けることで生じるカールを矯正するために設けられる。すなわち、バックコート層を設けた面を内側にして丸まろうとする性質を持たせることにより、カールの度合いをバランスさせることができる。なお、バックコート層は好ましくはブロッキング防止層を兼ねて塗設され、その場合、バックコート層用塗布組成物には、ブロッキング防止機能を持たせるために微粒子が添加されることが好ましい。

バックコート層に添加される微粒子としては無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ＩＴＯ、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子は珪素を含むものがヘイズが低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。

これらの微粒子は、例えばアエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル株式会社製）の商品名で市販されており、使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えばアエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル株式会社製）の商品名で市販されており、使用することができる。ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えばトスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン株式会社製）の商品名で市販されており、使用することができる。

これらの中でもアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖがヘイズを低く保ちながら、ブロッキング防止効果が大きいため特に好ましく用いられる。本発明で用いられる防眩フィルムは、活性エネルギー線硬化樹脂層の裏面側の動摩擦係数が０．９以下、特に０．１〜０．９であることが好ましい。

バックコート層に含まれる微粒子は、バインダーに対して０．１〜５０質量％好ましくは０．１〜１０質量％であることが好ましい。バックコート層を設けた場合のヘイズの増加は１％以下であることが好ましく０．５％以下であることが好ましく、特に０．０〜０．１％であることが好ましい。

バックコート層は、具体的にはセルロースエステルフィルムを溶解させる溶媒または膨潤させる溶媒を含む組成物を塗布することによって行なわれる。用いる溶媒としては、溶解させる溶媒及び／または膨潤させる溶媒の混合物の他さらに溶解させない溶媒を含む場合もあり、これらを透明樹脂フィルムのカール度合いや樹脂の種類によって適宜の割合で混合した組成物及び塗布量を用いて行なう。

カール防止機能を強めたい場合は、用いる溶媒組成を溶解させる溶媒及び／または膨潤させる溶媒の混合比率を大きくし、溶解させない溶媒の比率を小さくするのが効果的である。この混合比率は好ましくは（溶解させる溶媒及び／または膨潤させる溶媒）：（溶解させない溶媒）＝１０：０〜１：９で用いられる。このような混合組成物に含まれる、透明樹脂フィルムを溶解または膨潤させる溶媒としては、例えばジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、トリクロロエチレン、メチレンクロライド、エチレンクロライド、テトラクロロエタン、トリクロロエタン、クロロホルム等がある。溶解させない溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサノールまたは炭化水素類（トルエン、キシレン）等がある。

これらの塗布組成物をグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、またはスプレー塗布、インクジェット塗布等を用いて透明樹脂フィルムの表面にウェット膜厚１〜１００μｍで塗布するのが好ましいが、特に５〜３０μｍであることが好ましい。バックコート層のバインダーとして用いられる樹脂としては、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニルとビニルアルコールの共重合体、部分加水分解した塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等のビニル系重合体または共重合体、ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート（好ましくはアセチル基置換度１．２〜２．３、プロピオニル基置換度０．１〜１．０）、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート樹脂等のセルロース誘導体、マレイン酸及び／またはアクリル酸の共重合体、アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、塩素化ポリエチレン、アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、スチレン−ブタジエン樹脂、ブタジエン−アクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。例えばアクリル樹脂としては、アクリペットＭＤ、ＶＨ、ＭＦ、Ｖ（三菱レーヨン株式会社製）、ハイパールＭ−４００３、Ｍ−４００５、Ｍ−４００６、Ｍ−４２０２、Ｍ−５０００、Ｍ−５００１、Ｍ−４５０１（根上工業株式会社製）、ダイヤナールＢＲ−５０、ＢＲ−５２、ＢＲ−５３、ＢＲ−６０、ＢＲ−６４、ＢＲ−７３、ＢＲ−７５、ＢＲ−７７、ＢＲ−７９、ＢＲ−８０、ＢＲ−８２、ＢＲ−８３、ＢＲ−８５、ＢＲ−８７、ＢＲ−８８、ＢＲ−９０、ＢＲ−９３、ＢＲ−９５、ＢＲ−１００、ＢＲ−１０１、ＢＲ−１０２、ＢＲ−１０５、ＢＲ−１０６、ＢＲ−１０７、ＢＲ−１０８、ＢＲ−１１２、ＢＲ−１１３、ＢＲ−１１５、ＢＲ−１１６、ＢＲ−１１７、ＢＲ−１１８等（三菱レーヨン株式会社製）のアクリル及びメタクリル系モノマーを原料として製造した各種ホモポリマー並びにコポリマー等が市販されており、この中から好ましいモノを適宜選択することもできる。

特に好ましくはジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートのようなセルロース系樹脂層である。

バックコート層を塗設する順番はセルロースエステルフィルムの活性エネルギー線硬化樹脂層を塗設する前でも後でも構わないが、バックコート層がブロッキング防止層を兼ねる場合は先に塗設することが望ましい。または２回以上に分けてバックコート層を塗布することもできる。

（最表面処理）
防眩層の表面は、洗浄法、アルカリ処理法、フレームプラズマ処理法、高周波放電プラズマ法、電子ビーム法、イオンビーム法、スパッタリング法、酸処理、コロナ処理法、大気圧プラズマ法等で処理しても良い。

（コロナ処理法）
コロナ処理とは、大気圧下、電極間に１ｋＶ以上の高電圧を印加し、放電することで行なう処理のことであり、春日電機株式会社や株式会社トーヨー電機等で市販されている装置を用いて行なうことができる。コロナ放電処理の強度は、電極間距離、単位面積当たりの出力、ジェネレーターの周波数に依存する。コロナ処理装置の一方の電極（Ａ電極）は、市販のものを用いることができるが、材質はアルミニウム、ステンレス等から選択ができる。もう一方はプラスチックフィルムを抱かせるための電極（Ｂ電極）であり、コロナ処理が、安定かつ均一に実施されるように、Ａ電極に対して一定の距離に設置されるロール電極である。これも通常市販されているものを用いることができ、材質は、アルミニウム、ステンレス、及びそれらの金属でできたロールに、セラミック、シリコーン、ＥＰＴゴム、ハイパロンゴム等がライニングされているロールが好ましく用いられる。本発明に用いられるコロナ処理に用いる周波数は、２０〜１００ｋＨｚの周波数であり、３０〜６０ｋＨｚの周波数が好ましい。周波数が低下するとコロナ処理の均一性が劣化し、コロナ処理のムラが発生する。また、周波数が大きくなると、高出力のコロナ処理を行なう場合には、特に問題ないが、低出力のコロナ処理を実施する場合には、安定した処理を行なうことが難しくなり、結果として、処理ムラが発生する。コロナ処理の出力は、１〜５ｗ・ｍｉｎ．／ｍ^２であるが、２〜４ｗ・ｍｉｎ．／ｍ^２の出力が好ましい。電極とフィルムとの距離は、５〜５０ｍｍであるが、好ましくは、１０〜３５ｍｍである。間隙が開いてくると、一定の出力を維持するためにより高電圧が必要になり、ムラが発生し易くなる。また、間隙が狭くなりすぎると、印加する電圧が低くなりすぎ、ムラが発生し易くなる。さらにまた、フィルムを搬送して連続処理する際に電極にフィルムが接触し傷が発生する。

（アルカリ処理法）
アルカリ処理法としては、防眩性層を塗設したフィルムをアルカリ水溶液に浸す方法であれば特に限定されない。

アルカリ水溶液としては、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、アンモニア水溶液等が使用可能であり、中でも水酸化ナトリウム水溶液が好ましい。

アルカリ水溶液のアルカリ濃度、例えば水酸化ナトリウム濃度は０．１〜２５質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がより好ましい。

アルカリ処理温度は、通常１０〜８０℃、好ましく２０〜６０℃である。アルカリ処理時間は、５秒〜５分、好ましくは３０秒〜３分である。アルカリ処理後のフィルムは、酸性水で中和した後、十分に水洗いを行なうことが好ましい。

（大気圧プラズマ法）
本発明では、大気圧またはその近傍の圧力下で、対向する電極の間に周波数が５０ｋＨｚ〜１５０ＭＨｚの高周波電圧を印加して放電を形成し、該放電により形成された励起ガスを、透明フィルム基材または透明フィルム基材上に防眩性層を有するフィルムの表面に接触させた後に、層を塗布により形成することが好ましい。

周波数は５０ｋＨｚ〜２７ＭＨｚであることが好ましい。対向する電極は、第１電極と第２電極とで構成され、何れか一方の電極に印加する高周波電圧の周波数が５０ｋＨｚ〜１５０ＭＨｚであることが好ましい。また、第１電極に印加する高周波電圧の周波数が１〜２００ｋＨｚであり、かつ第２電極に印加する高周波電圧の周波数が８００ｋＨｚ〜１５０ＭＨｚであることが好ましい。

大気圧またはその近傍の圧力下で行なうプラズマ放電処理を以下、単に大気圧プラズマ法ともいう。

すなわち、透明フィルム基材または透明フィルム基材上に防眩層を有するフィルムを、大気圧またはその近傍の圧力下、第１電極と第２電極とで構成する対向電極間に、第１電極には第１の周波数ω1の電圧成分の高周波電圧を印加し、第２電極には第２の周波数ω2の電圧成分の高周波電圧を印加して放電を形成し、該放電により形成された励起ガスに該透明フィルム基材の表面を接触させた後、その上に層を形成する。

本発明に適用できる大気圧プラズマ法としては、特開平１１−１３３２０５号公報、特開２０００−１８５３６２号公報、特開平１１−６１４０６号公報、特開２０００−１４７２０９号公報、同２０００−１２１８０４号公報等に開示されている技術を参考にすることができる。

以下に、大気圧プラズマ方法について説明する。

まず最初に、本発明に有用な大気圧プラズマ方法、及びその装置について説明する。

本発明では、大気圧またはその近傍の圧力下で、放電空間（対向電極間）にガスを供給し、該放電空間に高周波電圧を印加し、ガスを励起してプラズマ状態とし、この励起したプラズマ状態のガスに透明フィルム基材、または透明フィルム基材上に防眩性層を有するフィルムの表面を晒すものである。対向電極間で形成する放電空間に印加する高周波電圧は、一つの周波数の高周波であってもよいし、二つあるいはそれ以上の周波数の高周波であってもよい。

本発明において、大気圧プラズマ処理は、大気圧またはその近傍の圧力下で行なわれるが、大気圧またはその近傍の圧力とは２０〜１１０ｋＰａ程度であり、本発明に記載の良好な効果を得るためには、９３〜１０４ｋＰａが好ましい。

本発明において、対向電極間（放電空間）に供給するガスは、少なくとも、高周波電圧により励起する励起ガス、または、高周波電圧により励起する励起ガスとそのエネルギーを受け取ってプラズマ状態あるいは励起状態になるガスとを含んでいる。本発明でいう高周波とは、少なくとも０．５ｋＨｚの周波数を有するものをいう。

一つの周波数の高周波電圧でプラズマ放電処理する場合（１周波数高周波電圧印加方式という場合がある）、または二つの周波数の高周波電圧でプラズマ放電処理する場合（２周波数高周波電圧印加方式という場合がある）の電極は全く同じものが使用でき、装置自体は大きな違いはない。異なる点は、高周波電源が二つ、それに付随するフィルターがあること、さらに対向電極の両方の電極から高周波電圧を印加することである。

本発明に有用な１周波数高周波電圧印加方式の場合には、対向電極の一方はアース電極、もう片方は印加電極であり、印加電極に高周波電源が接続されており、アース電極にはアースが接地されている。

防眩性フィルムをロール状に巻き取る際の、巻きコアとしては、円筒上のコアであれは、特に限定されないが、好ましくは中空プラスチックコアであり、プラスチック材料としては加熱処理温度に耐える耐熱性プラスチックが好ましく、例えばフェノール樹脂、キシレン樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂が挙げられる。またガラス繊維等の充填材により強化した熱硬化性樹脂が好ましい。

これらの巻きコアへの巻き数は、１００巻き以上であることが好ましく、５００巻き以上であることがさらに好ましく、巻き厚は５ｃｍ以上であることが好ましい。

このようにして長巻の防眩性フィルムを、巻き取った状態で加熱処理を行なうとき、該ロールを回転させることが好ましく、回転は、１分間に１回転以下の速度が好まく、連続でも良く断続的な回転であってもよい。また、加熱期間中に該ロールの巻き替えを１回以上行なうことが好ましい。

コアに巻き取られた長巻の防眩性フィルムを加熱処理中に回転させるため加熱処理室に専用の回転台を設けることが好ましい。

回転は、断続の場合は停止している時間を１０時間以内とすることが好ましく、停止位置は、円周方向に均一となるようにすることが好ましく、停止時間は１０分以内とすることがより好ましい。最も好ましくは、連続回転である。

連続回転での回転速度は、１回転に要する時間は好ましくは１０時間以下とすることであり、早いと装置的に負担となるため実質的には、１５分から２時間の範囲が好ましい。

なお、回転機能を有する専用の台車の場合には、移動や保管中にも光学フィルムロールを回転させることができて好ましく、この場合、保管期間が長い場合に生じるブラックバンド対策として回転が有効に機能する。

（偏光板）
つぎに、本発明の防眩性フィルムを用いた偏光板について述べる。

本発明による偏光板は、フィルムのヘイズが高くなく、透明性、平面性に優れ、防眩性と視認性をバランス良く満たすた光学特性を有する防眩性フィルムを一方の面に用いるものである。従って、本発明による偏光板は、これを表示装置に用いたときに、光の映り込みが気にならず、視認性に優れているものである。

ここで、偏光板は一般的な方法で作製することができる。すなわち、本発明の防眩性フィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、処理した該フィルムを、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面にも該フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。本発明の防眩性フィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは面内リタデーション（Ｒｏ）が５９０ｎｍで、２０〜７０ｎｍ、厚み方向リタデーション（Ｒｔ）が１００〜４００ｎｍの位相差を有する光学補償フィルム（位相差フィルム）であることが好ましい。これらは、例えば特開２００２−７１９５７号公報、特願２００２−１５５３９５号公報記載の方法で作製することができる。また、さらにディスコチック液晶等の液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることが好ましい。例えば特開２００３−９８３４８号公報記載の方法で、光学異方性層を形成することができる。あるいは面内方向リタデーション（Ｒｏ）が５９０ｎｍで０〜５ｎｍ、厚み方向リタデーション（Ｒｔ）が−２０〜＋２０ｎｍの無配向フィルムも好ましく用いられ、平面性に優れ、安定した視野角拡大効果を有する偏光板を得ることができる。

裏面側に用いられる偏光板保護フィルムとしては、市販のセルロースエステルフィルムとして、ＫＣ８ＵＸ２ＭＷ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ４ＵＥＷ、ＫＣ８ＵＣＲ−３、ＫＣ８ＵＣＲ−４、ＫＣ８ＵＣＲ−５、ＫＣ４ＦＲ−１、ＫＣ４ＦＲ−２（コニカミノルタオプト株式会社製）等が好ましく用いられる。

偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがあるがこれのみに限定されるものではない。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行なったものが用いられている。偏光膜の膜厚は５〜３０μｍ、好ましくは８〜１５μｍの偏光膜が好ましく用いられる。該偏光膜の面上に、本発明のフィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。

（画像表示装置）
本発明の表示装置は、防眩性と視認性をバランス良く満たす防眩性フィルムを用いるものであるから、光の映り込みが気にならず、視認性に優れているものである。

また、本発明の防眩性フィルムを用いた偏光板を画像表示装置の鑑賞面側に組み込むことによって、種々の視認性に優れた画像表示装置を作製することができる。本発明の防眩性フィルムは、反射型、透過型、半透過型ＬＣＤまたはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型（ＰＶＡ型、ＭＶＡ型）、ＩＰＳ型等の各種駆動方式のＬＣＤで好ましく用いられる。また、平面性に優れ、プラズマディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬディスプレイ、電子ペーパー等の各種表示装置にも好ましく用いられる。特に画面が３０型以上の大画面の画像表示装置では、色ムラや波打ちムラが少なく、長時間の鑑賞でも目が疲れないという効果がある。

以下、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

実施例１
まず、下記のドープ組成物を用いて、透明フィルム基材１を作製した。

（ドープ組成物）
セルローストリアセテート（平均酢化度６１．０％） １００質量部
トリフェニルフォスフェート ８質量部
エチルフタリルエチルグリコレート ２質量部
チヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ株式会社製） １質量部
チヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ株式会社製） １質量部
メチレンクロライド ４３０質量部
メタノール ９０質量部
上記の材料を密閉容器に投入し、加圧下で温度８０℃に保温し、攪拌しながら完全に溶解して、ドープ組成物を得た。

つぎに、このドープ組成物を濾過し、冷却して温度３３℃に保ち、流延ダイよりステンレスバンドからなる流延用ベルト上に流延し、ウェブを形成し、剥離ロールによる剥離後、流延支持体から剥離されたフィルム（ウェブ）を凹凸面形成用鋳型ロールでバックロールに押し当てて、透明フィルム基材の表面に凹凸を形成した。

この実施例では、図１に示すように、１つのバックロール２に対して２つの鋳型ロール１ａ，１ｂを使用し、これらの鋳型ロール１ａ，１ｂをバックロール２の周囲に、隣り合う鋳型同士、１８０度の均等な配置角度で位置するように配置した。

その後、テンターによりフィルム（ウェブ）を幅方向に１．１倍に延伸した後、側面よりみて千鳥状に配置された多数の搬送ロールを具備するフィルム乾燥装置により乾燥させ、両端部に高さ１０μｍのナーリングを設けて、巻き取りロールにより巻き取り、透明なセルローストリアセテートフィルムよりなるの透明フィルム基材を作製した。

ここで、凹凸面形成に用いられる鋳型ロール１ａ，１ｂとしては、Ｒａ＝２．５μｍ、Ｓｍ＝１０μｍの凹凸模様を有するものを使用した。また、バックロール２としては、直径５００ｍｍで、ヤング率２０００（Ｎ／ｍｍ^２）であり、直径４００ｍｍの金属製ろるに５０ｍｍの肉厚のＭＣナイロン（登録商標）を巻き付けたものを使用した。

また、フィルムの搬送速度を４０ｍ／分とした。得られた透明フィルム基材は、膜厚８０μｍ、幅１．５ｍ、及び長さ３０００ｍを有するものであった。

こうして得られた透明フィルム基材の表面の凹凸の中心線平均粗さ（Ｒａ）、透明フィルム基材の表面の凹凸の平均ピーク間隔（Ｓｍ）、及び透明フィルム基材のヘイズを測定し、得られた結果を、下記の表１に記載した。

ここで、型押しによる凹凸部を有する透明フィルム基材表面の中心線平均粗さ：Ｒａは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２００１で規定される中心線平均粗さ（Ｒａ）に基づいて、測定することができ、光干渉式の表面粗さ測定器である光学干渉式表面粗さ計ＲＳＴ／ＰＬＵＳ（ＷＹＫＯ社製）を用いて測定を行なった。

また、透明フィルム基材の表面の凹凸の平均ピーク間隔（Ｓｍ）は、表面粗さ計（ＳＶ３０００、ミツトヨ社製）を用いて測定した。

透明フィルム基材のヘイズは、フィルムをサンプリングし、その中から無作為に１０箇所選んで、ＪＩＳ Ｋ６７１４に規定される方法に従って、ヘイズ メーター（１００１ＤＰ型、日本電色工業株式会社製）を用いて測定した。

実施例２
上記実施例１の場合と同様にして、セルローストリアセテートを主成分とする透明フィルム基材を作製するが、この実施例では、図２に示すように、１つのバックロール２に対して３つの鋳型ロール１ａ，１ｂ，１ｃを使用し、これらの鋳型ロール１ａ，１ｂ，１ｃをバックロール２の周囲に、隣り合う鋳型同士、１２０度の均等な配置角度で位置するように配置した。

実施例３
上記実施例１の場合と同様にして、セルローストリアセテートを主成分とする透明フィルム基材を作製するが、この実施例では、図３に示すように、１つのバックロール２に対して４つの鋳型ロール１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄを使用し、これらの鋳型ロール１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄをバックロール２の周囲に、隣り合う鋳型同士、９０度の均等な配置角度で位置するように配置した。

比較例１
比較のために、上記実施例１の場合と同様にして、セルローストリアセテートを主成分とする透明フィルム基材を作製するが、この比較例では、図４に示すように、１つのバックロール１２に対し、２つの鋳型ロール１１ａ，１１ｂを使用する時、隣り合う鋳型ロール１１ａ，１１ｂ同士のバックロール１２との成す角が１２０°となるように配置し、防眩性フィルム用の透明フィルム基材を作製した。

比較例２
比較のために、上記実施例１の場合と同様にして、セルローストリアセテートを主成分とする透明フィルム基材を作製するが、この比較例では、図５に示すように、１つのバックロール１２に対し、３つの鋳型ロール１１ａ，１１ｂ，１１ｃを使用する時、隣り合う鋳型ロール１１ａ，１１ｂ，１１ｃを同士のバックロール１２との成す角が９０°となるように配置し、防眩性フィルム用の透明フィルム基材を作製した。

比較例３
比較のために、上記実施例１の場合と同様にして、セルローストリアセテートを主成分とする透明フィルム基材を作製するが、この比較例では、図６に示すように、１つのバックロール１２に対し、４つの鋳型ロール１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄを使用する時、鋳型ロール１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ同士のバックロール１２との成す角が６０°となるように配置し、防眩性フィルム用の透明フィルム基材を作製した。

上記の実施例２及び３、比較例１〜３で得られた透明フィルム基材の表面の凹凸の中心線平均粗さ（Ｒａ）、透明フィルム基材の表面の凹凸の平均ピーク間隔（Ｓｍ）、及び透明フィルム基材のヘイズを測定し、得られた結果を、下記の表１にあわせて示した。

（型押し均一性の評価）
こうして作製した実施例１〜３、及び比較例１〜３の各防眩性フィルム用の透明フィルム基材について、型押し均一性、及び膜厚の均一性を下記のようにして評価し、得られた結果を下記の表１に示した。

（型押し均一性）
各透明フィルム基材の両端部、及び中央部のヘイズを測定し、ヘイズ値のバラツキによって、型押しの均一性を、以下の基準で評価を行なった。

型押し評価基準
○：ヘイズ値のバラツキが±０．５％未満であるもの
×：ヘイズ値のバラツキが±０．５％以上であるもの

上記表１の結果から明らかなように、本発明による実施例１〜３の防眩性フィルム用の透明フィルム基材によれば、ヘイズ値のバラツキが小さく、型押しの均一性、及び膜厚の均一性に優れているものであった。これに対し、比較例１〜３の防眩性フィルム用の透明フィルム基材では、ヘイズ値のバラツキが大きく、型押しの均一性、及び膜厚の均一性に劣るものであった。

実施例４
実施例１の条件で型押す時、ロール径が２０ｃｍと３５ｃｍである２種類の鋳型ロール（ロール径比＝４：７）を用い、鋳型による防眩性フィルム用の透明フィルム基材を作製した。

実施例５
実施例２の条件で型押す時、ロール径が２０ｃｍと３５ｃｍと４０ｃｍである３種類の鋳型ロール（ロール径比＝４：７：８）を用い、鋳型によって防眩性フィルム用の透明フィルム基材を作製した。

実施例６
実施例３の条件で型押す時、ロール径が１０ｃｍと３５ｃｍと４０ｃｍと５０ｃｍである４種類の鋳型ロール（ロール径比＝２：７：８：１０）を用い、型押しによって防眩性フィルム用の透明フィルム基材を作製した。

比較例４
実施例１の条件で型押す時、ロール径が２０ｃｍと４０ｃｍである二種類の鋳型ロール（ロール径比＝１：２）を用い、型押しによる防眩性フィルム用の透明フィルム基材を作製した。

比較例５
実施例１の条件で型押す時、ロール径が１０ｃｍと１５ｃｍである二種類の鋳型ロール（ロール径比＝２：３）を用い、型押しによる防眩性フィルム用の透明フィルム基材を作製した。

比較例６
実施例２の条件で型押す時、ロール径が１０ｃｍと１５ｃｍと２０ｃｍである３種類の鋳型ロール（ロール径比＝２：３：４）を用い、型押しによって防眩性フィルム用の透明フィルム基材を作製した。

比較例７
実施例３の条件で型押す時、ロール径が１０ｃｍと１５ｃｍと１５ｃｍと２０ｃｍである４種類の鋳型ロール（ロール径比＝２：３：３：４）を用い、型押しによって防眩性フィルム用の透明フィルム基材を作製した。

上記実施例４〜６、及び比較例４〜７で作製した各透明フィルム基材の表面の凹凸の中心線平均粗さ（Ｒａ）、透明フィルム基材の表面の凹凸の平均ピーク間隔（Ｓｍ）、及び透明フィルム基材のヘイズを、上記実施例１の場合と同様に、測定し、得られた結果を、下記の表２にまとめて記載した。

つぎに、上記実施例４〜６、及び比較例４〜７で作製した各透明フィルムについて、型押し周期うねり（ｍ）を検出した。ここで、型押し周期うねりの検出は、レーザー変位計（ＬＫ−Ｇ、キーエンス社製）を用い、フィルムの搬送方向にスキャンして、評価した。得られた結果を、下記の表２にあわせて示した。

上記表２の結果から明らかなように、本発明による実施例４〜６の防眩性フィルム用の透明フィルム基材によれば、型押し周期うねり（ｍ）がいずれも２ｍを超えるものであった。本発明による実施例４〜６の防眩性フィルム用の透明フィルム基材を液晶表示ディスプレイに用いたところ、鋳型によるフィルム凹凸模様の周期性を検出されることはなかった。

これに対し、比較例４〜７の防眩性フィルム用の透明フィルム基材は、型押し周期うねり（ｍ）がいずれも２ｍ未満と、非常に小さいものであった。比較例４〜７の防眩性フィルム用の透明フィルム基材を液晶表示ディスプレイに用いたところ、鋳型によるフィルム凹凸模様の周期性が検出され、目視で濃淡ムラが見られた。

（ハードコート層の塗布）
上記製膜した実施例１〜６フィルム上に、下記の紫外線硬化樹脂組成物を孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して紫外線硬化樹脂層塗布液を調製し、これをマイクログラビアコーターを用いて塗布し、９０℃で乾燥の後、紫外線ランプを用い照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ^２で、照射量を０．２Ｊ／ｃｍ^２として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚１０μｍの紫外線硬化樹脂層を形成し、防眩性を有したハードコートフィルムを得た。

（紫外線硬化樹脂組成物）
下記材料を攪拌、混合し紫外線硬化樹脂組成物とした。

ペンタエリスリトールトリアクリレート ２０質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート ６０質量部
ウレタンアクリレート ５０質量部
（新中村化学工業社製 商品名Ｕ−４ＨＡ）
イルガキュア１８４ ２０質量部
（チバスペシャルティケミカルズ株式会社製）
イルガキュア９０７ １２質量部
（チバスペシャルティケミカルズ株式会社製）
ポリエーテル変性シリコーンオイル ０．８質量部
（信越化学社製、ＫＦ−３５１）
ポリオキシアルキルエーテル １．０質量部
（花王社製 エマルゲン１１０８）
プロピレングリコールモノメチルエーテル １１０質量部
酢酸エチル １１０質量部
このようにして得られた本発明による防眩性フィルムは、ヘイズが高くなく、透明性、平面性に優れ、防眩性と視認性をバランス良く満たすものであった。

本発明の防眩性フィルムの製造装置において使用する鋳型ロールとバックロールの部分を示す概略断面図で、図１ａは第１実施形態を、図１ｂは第２実施形態を、図１ｃは第３実施形態を、それぞれ示している。 比較例の防眩性フィルムの製造装置において使用する鋳型ロールとバックロールの部分を示す概略断面図で、図２ａは第１具体例を、図２ｂは第２具体例を、図２ｃは第３具体例を、それぞれ示している。

符号の説明

Ｆ：透明フィルム基材
１ａ：鋳型ローラ
１ｂ：鋳型ローラ
１ｃ：鋳型ローラ
１ｄ：鋳型ローラ
２：バックロール

Claims (5)

1. 流延製膜法による防眩性フィルムの製造方法で、流延支持体から剥離されたフィルムを鋳型でバックロールに押し当てて、透明フィルム基材の表面に凹凸を形成する工程を含む防眩性フィルムの製造方法において、１つのバックロールに対して複数の鋳型を使用し、複数の鋳型をバックロールの周囲に、隣り合う鋳型同士、均等な配置角度で位置するように配置したことを特徴とする、防眩性フィルムの製造方法。
2. 複数の鋳型の直径を、鋳型による型押しによって透明フィルム基材の表面に生じる凹凸模様の周期が２ｍを超えるものとすることを特徴とする、請求項１に記載の防眩性フィルムの製造方法。
3. バックロールの表面素材のヤング率が、４〜１００００００（Ｎ／ｍｍ^２）であるバックロールを用いること特徴とする、請求項１または２に記載の防眩性フィルムの製造方法。
4. 透明フィルム基材が、セルロースエステルを主成分とするものであることを特徴とする、請求項１〜３のうちのいずれか一項に記載の防眩性フィルムの製造方法。
5. 請求項１〜４のうちのいずれか一項に記載の製造方法で製造された防眩性フィルムであって、鋳型による型押しによって形成される透明フィルム基材の表面の凹凸の中心線平均粗さ（Ｒａ）が、０．０５〜１０μｍであり、透明フィルム基材の表面の凹凸の平均ピーク間隔（Ｓｍ）が、２〜２００μｍであり、透明フィルム基材のヘイズが、３〜６０％であることを特徴とする、防眩性フィルム。

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