JP2008234956A - 衝撃波を用いた無発塵除電除塵システム - Google Patents

衝撃波を用いた無発塵除電除塵システム Download PDF

Info

Publication number
JP2008234956A
JP2008234956A JP2007071885A JP2007071885A JP2008234956A JP 2008234956 A JP2008234956 A JP 2008234956A JP 2007071885 A JP2007071885 A JP 2007071885A JP 2007071885 A JP2007071885 A JP 2007071885A JP 2008234956 A JP2008234956 A JP 2008234956A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
dust
shock wave
cylinder
free
air
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007071885A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4938516B2 (ja
Inventor
Akira Mizuno
彰 水野
Hiroyuki Matsutame
宏幸 松為
Tatsuo Oguchi
達夫 小口
Hideaki Matsuhashi
秀明 松橋
Masanori Suzuki
政典 鈴木
Takashi Matsuda
喬 松田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyohashi University of Technology NUC
Techno Ryowa Ltd
Original Assignee
Toyohashi University of Technology NUC
Techno Ryowa Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyohashi University of Technology NUC, Techno Ryowa Ltd filed Critical Toyohashi University of Technology NUC
Priority to JP2007071885A priority Critical patent/JP4938516B2/ja
Publication of JP2008234956A publication Critical patent/JP2008234956A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4938516B2 publication Critical patent/JP4938516B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Elimination Of Static Electricity (AREA)

Abstract

【課題】サブミクロン粒子をも除去することができる衝撃波を用いた無発塵除電除塵システムを提供する。
【解決手段】イオン化チャンバ1内に供給されたイオン搬送ガスの一部を所定のイオン化源によってイオン化し、該チャンバ内で発生したイオンを除電対象となるガラス基板5に供給して除電する除電部と、円筒状のシリンダ11とその内壁に沿って摺動可能に配設されたピストン12から構成され、電磁弁24の開閉動作により間欠的に連続して衝撃波を発生させると共に、その衝撃波を除電処理後のガラス基板5に当てる衝撃波発生ヘッド10と、衝撃波を発生させるためにガラス基板5に吹き付けられたエアを吸い込み、排気する排気チャンバ30とからなる除塵部とを備える。
【選択図】図1

Description

本発明は、清浄環境で生産等する半導体や液晶ディスプレイ等の製品に発生する静電気の除電、およびこの静電気により製品に付着する塵埃を除去するための無発塵除電除塵システムに係り、特に、サブミクロンサイズの微粒子をも除去することができるように改良を施した衝撃波を用いた無発塵除電除塵システムに関するものである。
従来より、半導体や液晶ディスプレイ(以下、LCD)等を製造するクリーンルームでは、静電気の発生が問題となっている。半導体製造のクリーンルームの場合は、低湿度環境であることや、ウエハ及び半導体素子を運搬するプラスチック容器が帯電しやすいこと等が静電気の発生の原因となっている。この静電気は、ウエハ表面上に塵埃を付着させたり、ウエハ上のICや半導体素子を破壊してしまい、製品の歩留りを低下させている。
また、LCDの場合は、処理工程で異なる材質等と接触し、摩擦帯電による静電気が発生する。特に、このLCDに使用するガラス基板は、大面積で絶縁性が高く静電気が発生しやすいため、大量の静電気による塵埃付着や静電破壊が製品の歩留りに影響を与えている。
そこで、従来から、このようなクリーンルーム等の生産環境における静電気、あるいはその静電気によりガラス基板等の製品に付着した微粒子を、イオン化した高速気流で除電しながら除塵するシステムが種々考案されている(例えば、特許文献1参照)。
特開2001−176691号公報
しかしながら、上述したような従来の技術では、高速気流をガラス基板等に吹き付けた際に、すぐにガラス基板等の表面に密着して動かない薄い空気層(気流の境界層)が形成されてしまうため、高速気流の大半はその境界層に阻まれてガラス基板等の表面へ到達できず、境界層内のサブミクロン粒子を除去することができないといった問題点があった。
本発明は、上述したような従来技術の問題点を解決するために提案されたものであり、その目的は、サブミクロン粒子をも除去することができる衝撃波を用いた無発塵除電除塵システムを提供することにある。
上記目的を達成するため、請求項1に記載の衝撃波を用いた無発塵除電除塵システムは、チャンバ内に供給されたイオン搬送ガスの一部を所定のイオン化源によってイオン化し、該チャンバ内で発生したイオンを除電対象となる帯電体に供給して除電する除電部と、電磁弁の開閉動作により間欠的に連続して衝撃波を発生させると共に、該衝撃波を除電処理後の前記帯電体に当てる衝撃波発生手段と、該衝撃波を発生させるために前記帯電体に吹き付けられたエアを吸い込み、排気する排気手段とからなる除塵部とを備えたことを特徴とするものである。
上記のような構成を有する請求項1に記載の発明によれば、除電部によって、除電対象となる帯電体の表面に発生した静電気及びその表面に静電気力により付着したサブミクロン粒子が除電されると共に、衝撃波発生手段によって間欠的に連続して発生させた衝撃波を帯電体に当てることにより、気流境界層を形成することなくサブミクロン粒子を剥離し、排気手段で捕集することができるので、製品を汚染及び再汚染することなく、サブミクロン粒子の除去が可能になる。
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の衝撃波を用いた無発塵除電除塵システムにおいて、前記衝撃波発生手段は、円筒状のシリンダと、その内壁に沿って摺動可能に配設されたピストンから構成され、前記シリンダの上面には第1の圧縮エア供給口とエア排出口とが設けられ、下面には衝撃波を発生させる噴流を吹き出すエア噴出口が設けられると共に、前記シリンダの側面には、第2の圧縮エア供給口が設けられ、前記エア排出口には、所定の間隔で開閉動作可能に構成された電磁弁が接続され、前記ピストンが、前記第1の圧縮エア供給口と前記第2の圧縮エア供給口のそれぞれからシリンダ内に供給されるエアの圧力差及び前記電磁弁の開閉動作によってシリンダ内を摺動するように構成され、このピストンの移動により、前記エア噴出口から間欠的に連続して衝撃波が発生するように構成されていることを特徴とするものである。
上記のような構成を有する請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明の構成をより具体的に規定したものであり、除電部によって、除電対象となる帯電体の表面に発生した静電気及びその表面に静電気力により付着したサブミクロン粒子が除電されると共に、シリンダ内を摺動するように構成されたピストンの移動により、エア噴出口から間欠的に連続して衝撃波が発生するように構成された衝撃波発生手段によって、衝撃波を帯電体に当てることにより、気流境界層を形成することなくサブミクロン粒子を剥離し、排気手段で捕集することができるので、製品を汚染及び再汚染することなく、サブミクロン粒子の除去が可能になる。
請求項3に記載の発明は、請求項2に記載の衝撃波を用いた無発塵除電除塵システムにおいて、前記シリンダの上部側壁内部にリング状の塵埃捕集管が設けられると共に、その塵埃捕集管と連通する塵埃捕集用スリットがシリンダの上部内側面に形成され、前記塵埃捕集管には塵埃排気口が連接され、この塵埃排気口により、前記塵埃捕集管によって捕集された塵埃をシリンダの外部に排出することができるように構成されていることを特徴とするものである。
上記のような構成を有する請求項3に記載の発明によれば、ピストンがシリンダ内を摺動する際に発生する塵埃を塵埃捕集用スリット及び塵埃捕集管によって収集し、塵埃排気口からシリンダの外部に排出することができる。
請求項4に記載の発明は、請求項3に記載の衝撃波を用いた無発塵除電除塵システムにおいて、前記塵埃捕集用スリットが、シリンダの上部内側面にリング状に形成されていることを特徴とするものである。
また、請求項5に記載の発明は、請求項3に記載の衝撃波を用いた無発塵除電除塵システムにおいて、前記塵埃捕集用スリットが、シリンダの上部内側面に窓状となるように所定間隔をあけて所定の個数形成されていることを特徴とするものである。
上記のような構成を有する請求項4又は請求項5に記載の発明は、塵埃捕集用スリットの形状を具体的に規定したものである。
請求項6に記載の発明は、請求項2乃至請求項5のいずれか一に記載の衝撃波を用いた無発塵除電除塵システムにおいて、前記エア噴出口に、所定の長さを有するパイプが接続されていることを特徴とするものである。
上記のような構成を有する請求項6に記載の発明によれば、帯電体がエア噴出口から離れている場合であっても、噴流の広がりによる噴流の速度低下を防止することができるので、衝撃波を弱めることなく帯電体に当てることが可能になる。
請求項7に記載の発明は、請求項1乃至請求項6のいずれか一に記載の衝撃波を用いた無発塵除電除塵システムにおいて、前記除電対象となる帯電体が移動可能に設置されている場合に、前記帯電体は、前記除電部における除電処理の後、前記除塵部に移動して衝撃波を当てられるように構成されていることを特徴とするものである。
上記のような構成を有する請求項7に記載の発明によれば、除電対象となる帯電体が移動可能に設置されている場合には、まず、除電部によって、除電対象となる帯電体の表面に発生した静電気及びその表面に静電気力により付着したサブミクロン粒子が除電され、その後に、除塵部に移動して、衝撃波発生手段によって間欠的に連続して発生させた衝撃波を帯電体に当てることにより、気流境界層を形成することなくサブミクロン粒子を剥離し、排気手段で捕集することができるので、製品を汚染及び再汚染することなく、サブミクロン粒子の除去が可能になる。
また、請求項8に記載の発明は、請求項1乃至請求項6のいずれか一に記載の衝撃波を用いた無発塵除電除塵システムにおいて、前記除電対象となる帯電体が固定されている場合に、前記除電部における除電処理の後、前記除塵部が作動して前記帯電体に衝撃波を当てるように構成されていることを特徴とするものである。
上記のような構成を有する請求項8に記載の発明によれば、除電対象となる帯電体が固定されている場合には、まず、除電部によって、除電対象となる帯電体の表面に発生した静電気及びその表面に静電気力により付着したサブミクロン粒子が除電された後、除塵部が作動して、衝撃波発生手段によって間欠的に連続して発生させた衝撃波を帯電体に当てることにより、気流境界層を形成することなくサブミクロン粒子を剥離し、排気手段で捕集することができるので、製品を汚染及び再汚染することなく、サブミクロン粒子の除去が可能になる。
本発明によれば、サブミクロン粒子をも除去することができる衝撃波を用いた無発塵除電除塵システムを提供することができる。
以下、本発明に係る衝撃波を用いた無発塵除電除塵システム(以下、無発塵除電除塵システムという)の具体的な実施の形態(以下、実施形態という)を、図面を参照して説明する。
(1)第1実施形態
(1−1)構成
本実施形態の無発塵除電除塵システムは、図1に示したように、大別して、除電部と除塵部とから構成されている。
(1−1−1)除電部
除電部は、イオン化チャンバ1と、そのイオン化チャンバ1の一側部に設置された軟X線ヘッド2と、イオン化チャンバ1の出口側に設置された軟X線遮蔽部3とから構成されている。そして、前記軟X線ヘッド2により発生した軟X線が、軟X線照射窓4を介してイオン化チャンバ1内に照射されることにより、イオン化チャンバ1内に供給されたイオン搬送ガスをイオン化し、これらのイオンが軟X線遮蔽部3を介してガラス基板5に吹き付けられるように構成されている。なお、ガラス基板5は、図中、右方向に移動するように設置されている。
(1−1−2)除塵部
除塵部は、大別して衝撃波発生ヘッド10と、排気チャンバ30とから構成されている。また、衝撃波発生ヘッド10は、衝撃波を当てる対象となるガラス基板5等に対して所定の角度α(例えば、45°)だけ傾斜して配設され、排気チャンバ30もガラス基板5に対して所定の角度β(例えば、45°)だけ傾斜して配設されている。
(衝撃波発生ヘッド)
衝撃波発生ヘッド10は、円筒状のシリンダ11と、その内壁に沿って摺動可能に配設されたピストン12から構成されている。また、前記シリンダ11の上面には第1の圧縮エア供給口13とエア排出口14とが設けられ、下面にはエア噴出口15が設けられると共に、後述するピストン12の背面板12bと当接するシール部材としてO−リング16が配設されている。また、前記シリンダ11の側面には、第2の圧縮エア供給口17が設けられている。なお、前記エア噴出口15の直径は、約1〜10mmとされ、エア噴出口15から吹き出す噴流は、約300m/sを超えると、圧縮された圧力波(衝撃波)を発生する。
また、前記ピストン12は、断面形状が略H字形となるように、前面板12aと背面板12bとが軸部12cによって一体化された構成とされている。なお、前面板12aは、その側部に配設されたO−リング18を介してシリンダ11の内側面と当接しながら上下に摺動可能に構成されている。そして、前面板12aによって、シリンダ11の内部が上部空間Aと下部空間Bとに区分されている。
一方、下部空間Bに位置する背面板12bの径は前面板12aの径より小さく構成され、背面板12bとシリンダ11の内側面との間を、前記第2の圧縮エア供給口17からシリンダ11内に供給された圧縮エアが流通できるように構成されている。
また、前記第1の圧縮エア供給口13は、第1の減圧弁19を備えた第1の圧縮エア供給配管20を介してエアコンプレッサ(図示せず)に接続されている。また、前記第2の圧縮エア供給口17は、エアチャンバ21及び第2の減圧弁22を備えた第2の圧縮エア供給配管23を介して、エアコンプレッサ(図示せず)に接続されている。
一方、前記エア排出口14は、電磁弁24及びフィルタ25を備えたエア排出配管26に接続され、シリンダ11から排出されたエアを大気中に排出するように構成されている。なお、前記エアチャンバ21は、約10リットルのエアを蓄えられるように構成されている。また、前記電磁弁24は、図示しない制御部によって、所定の間隔で開閉されるように構成されている。
(排気チャンバ)
排気チャンバ30には、その下面に吸気口31が設けられると共に、その上面に排気口32が設けられ、この排気口32には、排気ファン33及びフィルタ34を備えた排気用配管35が接続されている。そして、前記衝撃波発生ヘッド10のエア噴出口15からガラス基板5に吹き付けられた噴流が、ガラス基板5で跳ね返された後、前記吸気口31から排気チャンバ30内に吸い込まれ、前記排気口32から排出されるように構成されている。
(1−2)作用
上記のような構成を有する本実施形態の無発塵除電除塵システムは、以下のように作用する。
まず、除電部によって、ガラス基板5等の製品表面に発生した静電気、及びその表面に静電気力により付着したサブミクロン粒子が除電される。その後、ガラス基板5等が図の右方向に移動して、除塵部に到達すると、以下のようにして、衝撃波が連続的にガラス基板5等に当てられる。
すなわち、電磁弁24が閉じている時は、衝撃波発生ヘッド10の上部空間Aには、第1の圧縮エア供給配管20を介して、第1の減圧弁19により例えば4kg/cm2に減圧されたエアが供給されると共に、下部空間Bには、第2の減圧弁22により例えば3kg/cm2に減圧されたエアがエアチャンバ21を介して供給されている。
このようにして上部空間Aと下部空間Bに生じた圧力差により、ピストン12はシリンダ11の下方に押圧され、ピストン12の背面板12bがシリンダ11の下面に配設されたO−リング16に押し付けられるため、エア噴出口15は閉じた状態にある。
次に、電磁弁24が開くと、上部空間Aのエアがエア排出配管26を介して放出されるため、上部空間Aの圧力が一気に低下し、ピストン12は瞬時にシリンダ11内を上昇する。その際、シリンダ11下部のエア噴出口15から、エアチャンバ21内のエアが音速を超える速度で噴出し、衝撃波が発生する。この衝撃波がガラス基板5に当てられる。
そして、この衝撃波によって、気流境界層を形成することなく、ガラス基板5等の製品表面に付着したサブミクロン粒子を剥離することができ、さらに、剥離されたサブミクロン粒子は、排気チャンバ30で捕集される。
その後、再び電磁弁24が閉まると、上部空間Aへ4kg/cm2のエアが供給され、再びピストン12はシリンダ11下部のシール部材(O−リング16)に押しつけられ、エアの噴出が止まる。
このように、本実施形態によれば、電磁弁24を連続的に開閉することにより、間欠的に連続して衝撃波を発生することができるので、ガラス基板等の製品表面に付着したサブミクロン粒子を確実に除去することができる。
(1−3)効果
上述したように、本実施形態の無発塵除電除塵システムによれば、まず、ガラス基板等の製品表面に静電気力により付着したサブミクロン粒子を、無発塵あるいは低発塵のイオナイザーにより除電した後、衝撃波発生ヘッドにより間欠的に連続して衝撃波を発生させ、その衝撃波をガラス基板等に当てることにより、気流境界層を形成することなく、サブミクロン粒子を剥離し、排気チャンバで捕集することができるので、ガラス基板等の製品を汚染及び再汚染することなく、サブミクロン粒子の除去が可能になる。
(2)第2実施形態
(2−1)構成
本実施形態は、上記第1実施形態の変形例であって、エア噴出口15から吹き出す噴流の速度が低下することを防止したものである。すなわち、本実施形態においては、図2に示すように、エア噴出口15に、このエア噴出口と同内径で、適当な長さを有するパイプ40を取り付けたものである。なお、この場合も、排気チャンバは、第1実施形態と同様に、ガラス基板5に対して所定の角度β(例えば、45°)だけ傾斜して配設されている。
(2−2)作用・効果
上記第1実施形態に示したように、エア噴出口15からの噴流により衝撃波が発生するが、この噴流はエア噴出口15から離れるにつれてコーン状に広がるため、噴流の速度が低下し、衝撃波はすぐに弱まってしまう。
これに対して、図2に示したように、エア噴出口15に、このエア噴出口と同内径で、適当な長さを有するパイプ40を取り付けることにより、噴流の広がりによる噴流の速度低下を防止することができるので、衝撃波発生ヘッドからガラス基板等が多少離れていても、衝撃波を弱めることなくガラス基板等に当てることが可能になる。
(3)第3実施形態
本実施形態は、上記第1実施形態の変形例であって、ピストン12とシリンダ11の内側面との摩擦により発生するシール部材(O−リング)の飛散による塵埃を捕集・排気する機構を備えたものである。
(3−1)構成
本実施形態においては、図3〜図5に示すように、シリンダ11の上部側面に、ピストン12とシリンダ11内側面との摩擦により発生するシール部材(O−リング)の飛散による塵埃を捕集・排気する手段が設けられている。
すなわち、シリンダ11の上部側壁内部に、リング状の塵埃捕集管51が設けられると共に、その塵埃捕集管51と連通する塵埃捕集用スリット52がシリンダ11の上部側面にリング状に形成されている。また、前記塵埃捕集管51には、塵埃排気口53が連接され、塵埃捕集管51によって捕集された塵埃をシリンダ11の外部に排出することができるように構成されている。また、前記塵埃排気口53には塵埃排気用配管54が接続され、この塵埃排気用配管54は、前記エア排出配管26に合流するように構成されている。なお、前記塵埃捕集用スリット52のスリット幅は約1mmとされている。
(3−2)作用・効果
上記のような構成を有する本実施形態の無発塵除電除塵システムにおいては、上記第1実施形態と同様の作用・効果が得られるだけでなく、以下のような作用・効果を有する。
すなわち、ピストン12がシリンダ11内を上下に摺動する際に、ピストン12のシール部材18から発生した塵埃は、塵埃捕集用スリット52によって掻き取られて塵埃捕集管51に集められる。そして、電磁弁24が開いた際に、上部空間Aのエアが、塵埃捕集用スリット52で掻き取った塵埃と共に一気に排気される。すなわち、衝撃波を発生させるたびにシール材からの塵埃を排気することができるので、衝撃波発生ヘッド10からの発塵をも防止することができる。
(4)他の実施形態
なお、本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、具体的な各部材の形状、あるいは取付け位置及び方法は適宜変更可能である。例えば、塵埃捕集管51と連通する塵埃捕集用スリット52の形状はリング状だけでなく、シリンダ11の上部側面に、窓状となるように所定間隔をあけて所定の個数、形成しても良い。
また、上記の実施形態においては、イオン化源として軟X線の発生装置を用いたが、密封放射性同位元素、低エネルギー電子線の発生部又は紫外線の発生部等を用いることもできる。さらに、上記の実施形態の除電部は、無発塵又は低発塵であれば、他のイオナイザーでも良い。
さらに、上記の実施形態においては、ガラス基板等が移動可能に設置されている場合について説明したが、ガラス基板等が固定されている場合にも本発明を適用できることは言うまでもない。この場合、除電部における除電処理の後、除塵部が作動してガラス基板等に衝撃波を当てるように構成する。
本発明に係る衝撃波を用いた無発塵除電除塵システムの第1実施形態の全体構成を示す図である。 本発明に係る衝撃波を用いた無発塵除電除塵システムの第2実施形態における要部の構成を示す図である。 本発明に係る衝撃波を用いた無発塵除電除塵システムの第3実施形態における要部の構成を示す図である。 図3のA部の拡大断面図である。 図4のA−A´断面図である。
符号の説明
1…イオン化チャンバ
2…軟X線ヘッド
3…軟X線遮蔽部
4…軟X線照射窓
10…衝撃波発生ヘッド
11…シリンダ
12…ピストン
12a…前面板
12b…背面板
12c…軸部
13…第1の圧縮エア供給口
14…エア排出口
15…エア噴出口
16…O−リング
17…第2の圧縮エア供給口
18…O−リング18
19…第1の減圧弁
20…第1の圧縮エア供給配管
21…エアチャンバ
22…第2の減圧弁
23…第2の圧縮エア供給配管
24…電磁弁
25…フィルタ
26…エア排出配管
30…排気チャンバ
31…吸気口
32…排気口
33…排気ファン
34…フィルタ
35…排気用配管
40…パイプ
51…塵埃捕集管
52…塵埃捕集用スリット
53…塵埃排気口
54…塵埃排気用配管

Claims (8)

  1. チャンバ内に供給されたイオン搬送ガスの一部を所定のイオン化源によってイオン化し、該チャンバ内で発生したイオンを除電対象となる帯電体に供給して除電する除電部と、
    電磁弁の開閉動作により間欠的に連続して衝撃波を発生させると共に、該衝撃波を除電処理後の前記帯電体に当てる衝撃波発生手段と、該衝撃波を発生させるために前記帯電体に吹き付けられたエアを吸い込み、排気する排気手段とからなる除塵部とを備えたことを特徴とする衝撃波を用いた無発塵除電除塵システム。
  2. 前記衝撃波発生手段は、円筒状のシリンダと、その内壁に沿って摺動可能に配設されたピストンから構成され、
    前記シリンダの上面には第1の圧縮エア供給口とエア排出口とが設けられ、下面には衝撃波を発生させる噴流を吹き出すエア噴出口が設けられると共に、前記シリンダの側面には、第2の圧縮エア供給口が設けられ、
    前記エア排出口には、所定の間隔で開閉動作可能に構成された電磁弁が接続され、
    前記ピストンが、前記第1の圧縮エア供給口と前記第2の圧縮エア供給口のそれぞれからシリンダ内に供給されるエアの圧力差及び前記電磁弁の開閉動作によってシリンダ内を摺動するように構成され、
    このピストンの移動により、前記エア噴出口から間欠的に連続して衝撃波が発生するように構成されていることを特徴とする請求項1に記載の衝撃波を用いた無発塵除電除塵システム。
  3. 前記シリンダの上部側壁内部にリング状の塵埃捕集管が設けられると共に、その塵埃捕集管と連通する塵埃捕集用スリットがシリンダの上部内側面に形成され、
    前記塵埃捕集管には塵埃排気口が連接され、この塵埃排気口により、前記塵埃捕集管によって捕集された塵埃をシリンダの外部に排出することができるように構成されていることを特徴とする請求項2に記載の衝撃波を用いた無発塵除電除塵システム。
  4. 前記塵埃捕集用スリットが、シリンダの上部内側面にリング状に形成されていることを特徴とする請求項3に記載の衝撃波を用いた無発塵除電除塵システム。
  5. 前記塵埃捕集用スリットが、シリンダの上部内側面に窓状となるように所定間隔をあけて所定の個数形成されていることを特徴とする請求項3に記載の衝撃波を用いた無発塵除電除塵システム。
  6. 前記エア噴出口に、所定の長さを有するパイプが接続されていることを特徴とする請求項2乃至請求項5のいずれか一に記載の衝撃波を用いた無発塵除電除塵システム。
  7. 前記除電対象となる帯電体が移動可能に設置されている場合に、前記帯電体は、前記除電部における除電処理の後、前記除塵部に移動して衝撃波を当てられるように構成されていることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか一に記載の衝撃波を用いた無発塵除電除塵システム。
  8. 前記除電対象となる帯電体が固定されている場合に、前記除電部における除電処理の後、前記除塵部が作動して前記帯電体に衝撃波を当てるように構成されていることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか一に記載の衝撃波を用いた無発塵除電除塵システム。
JP2007071885A 2007-03-20 2007-03-20 衝撃波を用いた無発塵除電除塵システム Active JP4938516B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007071885A JP4938516B2 (ja) 2007-03-20 2007-03-20 衝撃波を用いた無発塵除電除塵システム

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007071885A JP4938516B2 (ja) 2007-03-20 2007-03-20 衝撃波を用いた無発塵除電除塵システム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008234956A true JP2008234956A (ja) 2008-10-02
JP4938516B2 JP4938516B2 (ja) 2012-05-23

Family

ID=39907531

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007071885A Active JP4938516B2 (ja) 2007-03-20 2007-03-20 衝撃波を用いた無発塵除電除塵システム

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4938516B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101853779A (zh) * 2009-03-19 2010-10-06 东京毅力科创株式会社 基板处理装置和排气方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH039694U (ja) * 1989-06-19 1991-01-30
JPH03118619U (ja) * 1990-03-17 1991-12-06
JPH09119956A (ja) * 1995-09-14 1997-05-06 Kasuga Denki Kk トナーによる除電状態の確認方法
JP2003200121A (ja) * 2002-01-11 2003-07-15 Ricoh Microelectronics Co Ltd エアー洗浄装置
JP2004220872A (ja) * 2003-01-14 2004-08-05 Techno Ryowa Ltd 無発塵除電除塵システム
JP2005243325A (ja) * 2004-02-25 2005-09-08 Kazuo Okano 軟x線式イオナイザ
JP2006216453A (ja) * 2005-02-04 2006-08-17 Techno Ryowa Ltd 帯電物の除電装置及びその方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH039694U (ja) * 1989-06-19 1991-01-30
JPH03118619U (ja) * 1990-03-17 1991-12-06
JPH09119956A (ja) * 1995-09-14 1997-05-06 Kasuga Denki Kk トナーによる除電状態の確認方法
JP2003200121A (ja) * 2002-01-11 2003-07-15 Ricoh Microelectronics Co Ltd エアー洗浄装置
JP2004220872A (ja) * 2003-01-14 2004-08-05 Techno Ryowa Ltd 無発塵除電除塵システム
JP2005243325A (ja) * 2004-02-25 2005-09-08 Kazuo Okano 軟x線式イオナイザ
JP2006216453A (ja) * 2005-02-04 2006-08-17 Techno Ryowa Ltd 帯電物の除電装置及びその方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101853779A (zh) * 2009-03-19 2010-10-06 东京毅力科创株式会社 基板处理装置和排气方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4938516B2 (ja) 2012-05-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100625099B1 (ko) 감압 처리실내의 부재 청정화 방법과, 청정도 평가방법과, 청정화 종점 검출 방법과, 기판 처리 장치 및비산 미립자 검출 장치
TWI680020B (zh) 基板洗淨方法及基板洗淨裝置
KR101776575B1 (ko) 연마재 회수 시스템을 갖는 블라스트 가공 방법 및 장치, 박막 태양전지 패널의 가공 방법 및 이에 의해 가공된 박막 태양전지 패널
US7552503B2 (en) Apparatus and method for cleaning a surface with high pressure air
JP4738636B2 (ja) 防爆型無発塵イオナイザー
JP5578181B2 (ja) 噴射材回収装置および噴射材回収装置を備えたブラスト加工装置およびブラスト加工方法
KR20100019341A (ko) 연마재 회수 시스템을 갖는 블라스트 가공 방법 및 장치, 박막 태양전지 패널의 가공 방법 및 이에 의해 가공된 박막 태양전지 패널
US20200215751A1 (en) Shrouds to transport additive manufacturing build material
CN1606145B (zh) 防止微粒附着装置和等离子体处理装置
JP4938516B2 (ja) 衝撃波を用いた無発塵除電除塵システム
JP2529431B2 (ja) 洗浄装置
JP2000311797A (ja) 静電気除去装置および静電気除去方法
KR100618905B1 (ko) 정전기 제거 시스템 및 이를 이용한 테이핑 공정 시스템
TW402528B (en) Dust-removal apparatus and its method
JP2010165726A (ja) 真空処理装置、及び、該真空処理装置における静電チャックのクリーニング方法
JPH10209097A (ja) 基板洗浄方法及び装置
TW201321543A (zh) 用於基材及/或基材載體的清潔模組及清潔方法
CN100437901C (zh) 防止微粒附着装置和等离子体处理装置
JP5635954B2 (ja) 除電除塵装置と除電除塵方法
JP4801103B2 (ja) プラズマ発生装置
JP4489883B2 (ja) チャンバ型イオン搬送式イオン化装置
JP2000286249A (ja) パーティクル除去システム、不純物質検出システム、パーティクル検出システム、パーティクル除去方法、不純物質検出方法、パーティクル検出方法、及び記録媒体
JP2004220872A (ja) 無発塵除電除塵システム
JP6003285B2 (ja) 異物除去装置
KR20010038334A (ko) 제진 방법 및 제진 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100302

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20111121

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111129

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120118

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120207

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120223

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150302

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4938516

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250