JP2008233656A - Antireflection film - Google Patents

Antireflection film Download PDF

Info

Publication number
JP2008233656A
JP2008233656A JP2007075056A JP2007075056A JP2008233656A JP 2008233656 A JP2008233656 A JP 2008233656A JP 2007075056 A JP2007075056 A JP 2007075056A JP 2007075056 A JP2007075056 A JP 2007075056A JP 2008233656 A JP2008233656 A JP 2008233656A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
refractive index
index layer
high refractive
ethylenically unsaturated
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007075056A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Rikio Inoue
力夫 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to JP2007075056A priority Critical patent/JP2008233656A/en
Publication of JP2008233656A publication Critical patent/JP2008233656A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection film with high chemical resistance, in which crosslinking of an interface adjacent to a high refractive index layer (especially, crosslinking of an interface between the adjacent low-refractive index layer and the high refractive index layer) is enhanced, physical strength such as contactness, abrasion resistance is raised and further more, the physical strength is not impaired, even when saponification processing is performed. <P>SOLUTION: The antireflection film is used, in which there is the high refractive index layer, containing metal alkoxide having an ethylenically unsaturated group on a transparent support, the content of Ti and/or Zr per gram for solid content of the high refractive index layer is at least 2.0 millimoles; furthermore, the low refractive index layer containing fluorine-containing compound, having silica fine particles and the ethylenically unsaturated group as major components, is formed on the high refractive index layer and which is cured through heat and UV irradiation. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、反射防止フィルムに関する。   The present invention relates to an antireflection film.

反射防止フィルムは、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、陰極管表示装置(CRT)などのような様々な画像表示装置において、ディスプレイの表面に配置され、外光の反射や像の映り込みによるコントラスト低下を防止するとともに、高い物理強度(耐擦傷性など)、透明性等が要求される。
反射防止の原理としては、屈折率の異なる薄膜の光学干渉を利用し反射光を低減するものであり、反射防止フィルムは、高屈折率層と低屈折率層を作製する技術が重要である。
Anti-reflective films are placed on the display surface in various image display devices such as liquid crystal display (LCD), plasma display panel (PDP), electroluminescence display (ELD), cathode ray tube display (CRT), etc. In addition to preventing a decrease in contrast due to reflection of external light and reflection of an image, high physical strength (such as scratch resistance) and transparency are required.
The principle of antireflection is to reduce the reflected light by utilizing the optical interference of thin films having different refractive indexes. For the antireflection film, a technique for producing a high refractive index layer and a low refractive index layer is important.

例えば、高屈折率層を作製する方法として、金属アルコキドのゾルゲル熱硬化とUV硬化を併用する高屈折率膜の技術が開示されている(例えば、特許文献1〜3参照)。しかし、これらの特許文献では、高屈折率層の強度自体は高くできても、密着性については満足できるものではなかった。また、これらの特許文献におけるゾルゲル法により形成された高屈折率膜は、反射防止フィルムを偏光板に加工する際に行われる高アルカリ液の鹸化処理によって金属アルコキシドの加水分解重縮合物であるゾルゲル膜が加水分解され、膜強度が劣化することがあり、最終的な偏光板形態として耐擦傷性、密着性は満足できるものでなかった。
また、従来技術による反射防止フィルムは、面内の膜厚不均一によると推測される、反射光の色ムラが塗布面に発生しやすく、満足できるものではなかった。
特許第3674293号公報 特開2001−31871号公報 特開2001−164119号公報
For example, as a method for producing a high refractive index layer, a technique of a high refractive index film using both sol-gel thermal curing of metal alkoxide and UV curing is disclosed (for example, see Patent Documents 1 to 3). However, in these patent documents, even if the strength of the high refractive index layer itself can be increased, the adhesion is not satisfactory. In addition, the high refractive index film formed by the sol-gel method in these patent documents is a sol-gel that is a hydrolyzed polycondensate of metal alkoxide by saponification treatment of a high alkaline solution performed when an antireflection film is processed into a polarizing plate. The film may be hydrolyzed and the film strength may be deteriorated, so that the final polarizing plate form is not satisfactory in scratch resistance and adhesion.
In addition, the antireflection film according to the prior art is not satisfactory because uneven color of reflected light, which is presumed to be due to in-plane film thickness non-uniformity, easily occurs on the coated surface.
Japanese Patent No. 3675293 JP 2001-31871 A JP 2001-164119 A

本発明の課題は、高屈折率層と隣接する界面の架橋(特に隣接する低屈折率層と高屈折率層の界面の架橋)を強化し、密着性、耐擦傷性などの物理強度を向上し、さらに鹸化処理を行ってもその物理強度が損なわれない高い耐薬品性を有する反射防止フィルムの提供にある。
さらに低反射率であり、反射光の色ムラが少ない反射防止フィルムを提供することにある。
The object of the present invention is to strengthen the cross-linking of the interface adjacent to the high refractive index layer (especially the cross-linking of the interface between the adjacent low refractive index layer and high refractive index layer) and improve physical strength such as adhesion and scratch resistance. In addition, the present invention provides an antireflection film having high chemical resistance that does not impair its physical strength even when saponification is performed.
Another object of the present invention is to provide an antireflection film having a low reflectance and less color unevenness of reflected light.

本発明者らは、鋭意検討した結果、エチレン性不飽和基を有する金属アルコキシドと、TiおよびまたはZr(のゾルゲル成分)を含有する高屈折率層を下層とし、シリカ微粒子およびエチレン性不飽和基を有する含フッ素化合物を主成分とする低屈折率層を上層とする組み合わせにより、上記課題が解決できることを見出し、下記構成の本発明を完成した。
まず本発明者らは、Tiおよび/またはZr(のゾルゲル成分)を多く含有する高屈折率層と、シリカ微粒子および含フッ素化合物を主成分とする低屈折率層を重層塗布した場合に、互いの層の交じり合いによる染み込みがなく、薄膜の厚み均一性が高いため、反射光の色ムラが起こらないという驚くべき事実を見出した。これは原因が明らかになっていないが、薄膜を重層する場合にのみ生じる現象であった。
さらに本発明者らは、高屈折率層がエチレン性不飽和基を有する金属アルコキシドを含有し、低屈折率層がエチレン性不飽和基を有する含フッ素化合物を含有する場合に、紫外線硬化により上下層の強固な界面結合がなされることを見いだした。
またこのとき、上層には含フッ素化合物があるため、高アルカリ液処理(鹸化処理)でも膜内部へのアルカリ水の浸透が少なく、高屈折率層の金属アルコキシドの加水分解重縮合部は加水分解を受けにくいことがわかった。これらのことを考え合わせ本発明に到った。
すなわち、本発明は下記の構成である。
As a result of intensive studies, the present inventors have made a high refractive index layer containing a metal alkoxide having an ethylenically unsaturated group and Ti and / or Zr (a sol-gel component thereof) as a lower layer, silica fine particles and ethylenically unsaturated groups. The present inventors have found that the above-mentioned problems can be solved by a combination of a low refractive index layer mainly composed of a fluorine-containing compound having an upper layer and completed the present invention having the following constitution.
First, when the present inventors applied multiple layers of a high refractive index layer containing a large amount of Ti and / or Zr (a sol-gel component thereof) and a low refractive index layer containing silica fine particles and a fluorine-containing compound as main components, We found the surprising fact that no unevenness in the color of reflected light occurs because there is no soaking due to the intermingling of the layers and the thickness uniformity of the thin film is high. Although the cause is not clear, this is a phenomenon that occurs only when thin films are stacked.
Furthermore, the present inventors have found that when the high refractive index layer contains a metal alkoxide having an ethylenically unsaturated group and the low refractive index layer contains a fluorine-containing compound having an ethylenically unsaturated group, the upper layer is cured by ultraviolet curing. We found that the lower layer has strong interface bonding.
At this time, since there is a fluorine-containing compound in the upper layer, there is little permeation of alkaline water into the film even in high alkali solution treatment (saponification treatment), and the hydrolysis polycondensation part of the metal alkoxide in the high refractive index layer is hydrolyzed. I found it difficult to receive. Considering these matters, the present invention has been reached.
That is, the present invention has the following configuration.

(1)透明支持体上に、エチレン性不飽和基を有する金属アルコキシドを含有する高屈折率層があり、かつ高屈折率層の固形分1グラム当たりのTiおよび又はZrの含有量が少なくとも2.0ミリモルであり、さらに該高屈折率層の上にシリカ微粒子およびエチレン性不飽和基を有する含フッ素化合物を主成分として含有する低屈折率層を形成し、熱および紫外線照射により硬化した反射防止フィルム。 (1) On the transparent support, there is a high refractive index layer containing a metal alkoxide having an ethylenically unsaturated group, and the content of Ti and / or Zr per gram solid content of the high refractive index layer is at least 2 A low refractive index layer containing as a main component a fine particle of silica and a fluorine-containing compound having an ethylenically unsaturated group on the high refractive index layer and cured by heat and ultraviolet irradiation. Prevention film.

(2)前記高屈折率層のエチレン性不飽和基を有する金属アルコキシドの金属種が、Ti、Ta、Zr、In、Znのいずれかである(1)に記載の反射防止フィルム。 (2) The antireflection film according to (1), wherein the metal species of the metal alkoxide having an ethylenically unsaturated group of the high refractive index layer is any one of Ti, Ta, Zr, In, and Zn.

(3)前記低屈折率層のエチレン性不飽和基を有する含フッ素化合物が、一分子中に2個以上のエチレン性不飽和基を有する(1)又は(2)に記載の反射防止フィルム。 (3) The antireflection film according to (1) or (2), wherein the fluorine-containing compound having an ethylenically unsaturated group of the low refractive index layer has two or more ethylenically unsaturated groups in one molecule.

(4)前記低屈折率層のエチレン性不飽和基を有する含フッ素化合物が、重合体である(1)〜(3)のいずれかに記載の反射防止フィルム。 (4) The antireflection film according to any one of (1) to (3), wherein the fluorine-containing compound having an ethylenically unsaturated group in the low refractive index layer is a polymer.

(5)前記シリカ微粒子が、中空状シリカ微粒子である請求項1〜4のいずれかに記載の反射防止フィルム。 (5) The antireflection film according to any one of claims 1 to 4, wherein the silica fine particles are hollow silica fine particles.

(6)前記低屈折率層の屈折率が1.20〜1.40である(1)〜(5)のいずれかに記載の反射防止フィルム。 (6) The antireflection film according to any one of (1) to (5), wherein the low refractive index layer has a refractive index of 1.20 to 1.40.

(7)前記高屈折率層の屈折率が1.70〜2.00である(1)〜(6)のいずれかに記載の反射防止フィルム。 (7) The antireflection film according to any one of (1) to (6), wherein the refractive index of the high refractive index layer is 1.70 to 2.00.

(8)前記高屈折率層が、さらに1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能性モノマーを含有する(1)〜(7)のいずれかに記載の反射防止フィルム。 (8) The antireflection film according to any one of (1) to (7), wherein the high refractive index layer further contains a polyfunctional monomer having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule.

極低反射率を得るために好ましい薄膜の屈折率を容易に実現することができ、鹸化処理を行ってもフィルムの密着性が高く、耐擦傷性に優れた反射防止フィルムを得ることができる。   In order to obtain an extremely low reflectance, the refractive index of a preferable thin film can be easily realized, and even when saponification is performed, an antireflection film having high film adhesion and excellent scratch resistance can be obtained.

以下本発明の反射防止フィルムについて説明する。
〔光学フィルムの層構成〕
本発明の反射防止フィルムは、透明な基材(支持体とも言う。)上に、少なくとも1層の高屈折率層と、少なくとも1層の低屈折率層を有し、目的に応じてその他の機能層を単独又は複数層設けることができる。
好ましい一つの態様としては、基材上に光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層された反射防止フィルムを挙げることができる。反射防止フィルムは、基材よりも屈折率の高い高屈折率層と、基材よりも屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて構成することが好ましい。構成例としては、基材側から高屈折率層/低屈折率層の2層のものや、屈折率の異なる3層を、中屈折率層(基材又はハードコート層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層)/高屈折率層/低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性等から、ハードコート層を有する基材上に、中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層の順に塗布することが好ましく、例えば、特開平8−122504号公報、同8−110401号公報、同10−300902号公報、特開2002−243906号公報、特開2000−111706号公報等に記載の構成が挙げられる。
また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの(例、特開平10−206603号公報、特開2002−243906号公報等)等が挙げられる。
Hereinafter, the antireflection film of the present invention will be described.
[Layer structure of optical film]
The antireflection film of the present invention has at least one high-refractive index layer and at least one low-refractive index layer on a transparent substrate (also referred to as a support), depending on the purpose. A functional layer can be provided alone or in multiple layers.
As a preferred embodiment, there can be mentioned an antireflection film laminated on the substrate in consideration of the refractive index, the film thickness, the number of layers, the layer order, etc. so that the reflectance is reduced by optical interference. The antireflection film is preferably configured by combining a high refractive index layer having a higher refractive index than that of the base material and a low refractive index layer having a lower refractive index than that of the base material. Examples of configurations include two layers of a high refractive index layer / low refractive index layer from the base material side, and three layers having different refractive indices, a medium refractive index layer (having a higher refractive index than the base material or hard coat layer). , A layer having a refractive index lower than that of a high refractive index layer) / a layer having a high refractive index / a layer having a low refractive index, and the like. Among them, in view of durability, optical characteristics, cost, productivity, etc., it is preferable to apply a medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer in this order on a substrate having a hard coat layer. Examples include the configurations described in Kaihei 8-122504, 8-110401, 10-300902, JP-A 2002-243906, JP-A 2000-111706, and the like.
Other functions may be imparted to each layer, for example, an antifouling low refractive index layer or an antistatic high refractive index layer (eg, JP-A-10-206603, JP-A-2002). -243906 publication etc.) etc. are mentioned.

上記態様のフィルムの好ましい層構成の例を下記に示す。下記構成において基材フィルムは、フィルムで構成された支持体を指している。
・基材フィルム/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層
・基材フィルム/防眩層/高屈折率層/低屈折率層
・基材フィルム/防湿層/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層
・基材フィルム/防湿層/防眩層/高屈折率層/低屈折率層
・基材フィルム/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
・基材フィルム/防眩層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
・防湿層/基材フィルム/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
・防湿層/基材フィルム/防眩層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
・基材フィルム/ハードコート層/導電性層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
・基材フィルム/ハードコート層/導電性中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
・防湿層/基材フィルム/ハードコート層/導電性中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
The example of the preferable layer structure of the film of the said aspect is shown below. In the following configuration, the base film refers to a support composed of a film.
-Base film / hard coat layer / high refractive index layer / low refractive index layer-Base film / anti-glare layer / high refractive index layer / low refractive index layer-Base film / moisture-proof layer / hard coat layer / high refraction Index layer / low refractive index layer / base film / moisture proof layer / antiglare layer / high refractive index layer / low refractive index layer / base film / hard coat layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index Layer / base film / antiglare layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer / moisture barrier layer / base film / hard coat layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer -Moisture-proof layer / base film / anti-glare layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer-base film / hard coat layer / conductive layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low Refractive index layer / base film / hard coat layer / conductive medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer / moisture-proof layer / base film / hard coat layer Conductive intermediate refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer

これらの層は、蒸着、大気圧プラズマ、塗布などの方法により形成することができる。生産性の観点からは、塗布により形成することが好ましい。
以下各構成層について説明する。
These layers can be formed by methods such as vapor deposition, atmospheric pressure plasma, and coating. From the viewpoint of productivity, it is preferably formed by coating.
Each constituent layer will be described below.

(低屈折率層)
本発明において、低屈折率層は、反射防止フィルムの最表面側に位置し、反射防止フィルムの層の中で最も屈折率が低い層であり、エチレン性不飽和基を有する含フッ素化合物を含有する。
エチレン性不飽和基とは、具体的には末端がビニル基、アリル基、アクリロリル基、メタクリロイル基、イソプロペニル基であることを意味し、アクリロリル基、メタクリロイル基が特に好ましい。
エチレン性不飽和基は一分子中に一つであってもよいが、エチレン性不飽和基を有する含フッ素化合物が一分子中に2個以上のエチレン性不飽和基を有することがより好ましい。
(Low refractive index layer)
In the present invention, the low refractive index layer is located on the outermost surface side of the antireflection film and has the lowest refractive index among the layers of the antireflection film, and contains a fluorine-containing compound having an ethylenically unsaturated group. To do.
Specifically, the ethylenically unsaturated group means that the terminal is a vinyl group, an allyl group, an acrylolyl group, a methacryloyl group, or an isopropenyl group, and an acrylolyl group or a methacryloyl group is particularly preferable.
Although one ethylenically unsaturated group may be present in one molecule, it is more preferable that the fluorine-containing compound having an ethylenically unsaturated group has two or more ethylenically unsaturated groups in one molecule.

2個以上のエチレン性不飽和基を有する含フッ素化合物の具体例としては、公知の技術を使用することができ、例えば特開平9−301925号公報に記載の含フッ素多官能(メタ)アクリル酸エステル、特開平10−182745号公報に記載の含フッ素多官能(メタ)アクリル酸エステル、特開平10−182746号公報に記載の含フッ素多官能(メタ)アクリル酸エステル、特開2001−72646号公報に記載の含フッ素多官能(メタ)アクリル酸エステルを挙げることができる。   As a specific example of the fluorine-containing compound having two or more ethylenically unsaturated groups, a known technique can be used, for example, fluorine-containing polyfunctional (meth) acrylic acid described in JP-A-9-301925. Esters, fluorine-containing polyfunctional (meth) acrylic acid esters described in JP-A-10-182745, fluorine-containing polyfunctional (meth) acrylic acid esters described in JP-A-10-182746, JP-A-2001-72646 Mention may be made of the fluorine-containing polyfunctional (meth) acrylic acid esters described in the publication.

さらにエチレン性不飽和基を有する含フッ素化合物が重合体であることが好ましく、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(以下GPCともいう)で、テトラヒドロフラン(以下THFともいう)を溶剤として測定したポリスチレン換算数平均分子量が1000〜500,000であることが好ましい。数平均分子量が500,000を超えると、組成物の粘度が高くなり、薄膜化が困難となるため好ましくない。   Further, the fluorine-containing compound having an ethylenically unsaturated group is preferably a polymer, and the number average molecular weight in terms of polystyrene measured by tetrahydrofuran (hereinafter also referred to as THF) as a solvent by gel permeation chromatography (hereinafter also referred to as GPC). Is preferably 1000 to 500,000. When the number average molecular weight exceeds 500,000, the viscosity of the composition becomes high and it is difficult to make a thin film, which is not preferable.

本発明において好ましいエチレン性不飽和基を有する含フッ素重合体は、具体的には公知の技術を使用することができ、例えば特開2005−89536号公報、特開2005−290133号公報、特開2006−36835号公報に記載されたエチレン性不飽和基含有含フッ素重合体を挙げることができる。   For the fluorine-containing polymer having an ethylenically unsaturated group, which is preferable in the present invention, specifically, a known technique can be used. For example, JP 2005-89536 A, JP 2005-290133 A, JP The ethylenically unsaturated group containing fluoropolymer described in 2006-36835 can be mentioned.

これらエチレン性不飽和基を有する含フッ素化合物の添加量は、低屈折率層の固形分100質量%に対して10〜100質量%が好ましく、20〜90質量%がより好ましく、30〜90質量%が最も好ましい。   The addition amount of the fluorine-containing compound having an ethylenically unsaturated group is preferably 10 to 100% by mass, more preferably 20 to 90% by mass, and more preferably 30 to 90% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the low refractive index layer. % Is most preferred.

本発明において低屈折率層は、シリカ微粒子を含有し、その平均粒子径は1nm〜100nmであることが好ましい。シリカ微粒子は、中実粒子でも良いが、屈折率を低下させるために中空状シリカ微粒子を用いることが好ましい。該中空状シリカ微粒子は屈折率が1.17〜1.40、より好ましくは1.17〜1.35、さらに好ましくは1.17〜1.30である。ここでの屈折率は粒子全体としての屈折率を表し、中空状シリカ微粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をa、粒子外殻の半径をbとすると、空隙率xは下記数式(VIII)で算出される。
(数式VIII) x=(4πa 3 /3)/(4πb 3 /3)×100
空隙率xは、好ましくは10〜60%、さらに好ましくは20〜60%、最も好ましくは30〜60%である。中空状シリカ微粒子をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点から1.17未満の低屈折率の粒子は成り立たない。
なお、これら中空状シリカ微粒子の屈折率はアッベ屈折率計(アタゴ(株)製)にて測定をおこなった。
In the present invention, the low refractive index layer contains silica fine particles, and the average particle diameter is preferably 1 nm to 100 nm. The silica fine particles may be solid particles, but it is preferable to use hollow silica fine particles in order to lower the refractive index. The hollow silica fine particles have a refractive index of 1.17 to 1.40, more preferably 1.17 to 1.35, and still more preferably 1.17 to 1.30. The refractive index here represents the refractive index of the whole particle, and does not represent the refractive index of only the outer shell silica forming the hollow silica fine particles. At this time, when the radius of the cavity in the particle is a and the radius of the particle outer shell is b, the porosity x is calculated by the following formula (VIII).
(Formula VIII) x = (4πa 3/ 3) / (4πb 3/3) × 100
The porosity x is preferably 10 to 60%, more preferably 20 to 60%, and most preferably 30 to 60%. If the hollow silica fine particles are made to have a lower refractive index and a higher porosity, the thickness of the outer shell becomes thinner and the strength of the particles becomes weaker. Therefore, the low refractive index is less than 1.17 from the viewpoint of scratch resistance. Rate particles do not hold.
The refractive index of these hollow silica fine particles was measured with an Abbe refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd.).

これらシリカ微粒子または中空状シリカ微粒子の添加量は、低屈折率層の固形分100質量%に対して10〜80質量%が好ましく、20〜70質量%がより好ましく、30〜60質量%が最も好ましい。   The addition amount of these silica fine particles or hollow silica fine particles is preferably 10 to 80% by mass, more preferably 20 to 70% by mass, and most preferably 30 to 60% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the low refractive index layer. preferable.

本発明において低屈折率層は、シリカ微粒子およびエチレン性不飽和基を有する含フッ素化合物を主成分として含有するが、低屈折率層の全固形分を100質量%としたときに、シリカ微粒子とエチレン性不飽和基を有する含フッ素化合物の合計固形分が70質量%以上であるとき、主成分といえる。シリカ微粒子とエチレン性不飽和基を有する含フッ素化合物の合計固形分は80質量%以上であることがより好ましく、90質量%以上であることが最も好ましい。
また、シリカ微粒子とエチレン性不飽和基を有する含フッ素化合物の固形分の比は、3:7〜7:3であることが好ましい。
In the present invention, the low refractive index layer contains, as main components, silica fine particles and a fluorine-containing compound having an ethylenically unsaturated group. When the total solid content of the low refractive index layer is 100% by mass, When the total solid content of the fluorine-containing compound having an ethylenically unsaturated group is 70% by mass or more, it can be said to be a main component. The total solid content of the silica fine particles and the fluorine-containing compound having an ethylenically unsaturated group is more preferably 80% by mass or more, and most preferably 90% by mass or more.
Moreover, it is preferable that ratio of solid content of a silica fine particle and the fluorine-containing compound which has an ethylenically unsaturated group is 3: 7-7: 3.

低屈折率層の屈折率は、1.50以下であることが好ましく、特に1.40以下であることがより好ましく、1.20〜1.40であることが最も好ましい。   The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.50 or less, more preferably 1.40 or less, and most preferably 1.20 to 1.40.

また、低屈折率層の厚みは、10nm〜500nmであることが好ましく、さらに20nm〜300nmであることがより好ましく、40nm〜200nmであることが最も好ましい。   The thickness of the low refractive index layer is preferably 10 nm to 500 nm, more preferably 20 nm to 300 nm, and most preferably 40 nm to 200 nm.

(高屈折率層)
本発明において高屈折率層は、反射防止フィルムの表面側から低屈折率層の直下にある隣接層であり、前述の低屈折率層よりも屈折率が高い層であり、エチレン性不飽和基を有する金属アルコキシドを含有する。
エチレン性不飽和基を有する金属アルコキシドは、単体で高屈折率層に添加されてもよいし、加水分解物としたものを高屈折率層に添加しても良い。
エチレン性不飽和基とは、具体的には末端がビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、イソプロペニル基であることを意味し、アクリロイル基、メタクリロイル基が特に好ましい。
エチレン性不飽和基は一分子中に複数あってもよい。
(High refractive index layer)
In the present invention, the high refractive index layer is an adjacent layer immediately below the low refractive index layer from the surface side of the antireflection film, and is a layer having a higher refractive index than the low refractive index layer described above, and an ethylenically unsaturated group. A metal alkoxide having
The metal alkoxide having an ethylenically unsaturated group may be added alone to the high refractive index layer, or a hydrolyzate may be added to the high refractive index layer.
Specifically, the ethylenically unsaturated group means that the terminal is a vinyl group, an allyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, or an isopropenyl group, and an acryloyl group or a methacryloyl group is particularly preferable.
There may be a plurality of ethylenically unsaturated groups in one molecule.

エチレン性不飽和基を有する金属アルコキシドの金属種は、熱硬化した際の金属酸化物の屈折率が2.0以上となる金属種が好ましく、特にTi、Ta、Zr、In、Znのいずれかであることが好ましい。中でもTi、Zrであることが最も好ましい。   The metal species of the metal alkoxide having an ethylenically unsaturated group is preferably a metal species in which the refractive index of the metal oxide when thermally cured is 2.0 or more, particularly any one of Ti, Ta, Zr, In, and Zn. It is preferable that Of these, Ti and Zr are most preferable.

エチレン性不飽和基を有する金属アルコキシドの具体例としては、ビニルトリメトキシチタン、ビニルトリ(β−メトキシ−エトキシ)チタン、ジビニロキジメトキシチタン、アクリロイルオキシエチルトリエトキシチタン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリ(n)プロポキシチタン、メタクリロイルオキシプロピルトリ(n)プロポキシチタン、ジ(γ−アクリロイルオキシプロピル)ジ(n)プロポキシチタン、アクリロイルオキシジメトキシエトキシチタン、メタクリロイルオキシトリイソプロポキシチタン、アクリロイルオキシ(n)ブトキシチタン、2−(アクリロイルオキシ)エトキシトリイソプロポキシチタン、ビニルトリメトキシジルコニウム、ジビニロキジメトキシジルコニウム、アクリロイルオキシエチルトリエトキシジルコニウム、γ−アクリロイルオキシプロピルトリ(n)プロポキシジルコニウム、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリ(n)プロポキシジルコニウム、ジ(γ−アクリロイルオキシプロピル)ジ(n)プロポキシジルコニウム、アクリロイルオキシジメトキシエトキシジルコニウム、アクリロイルオキシ(n)ブトキシジルコニウム、ビニルジメトキシタリウム、ビニルジ(β−メトキシ−エトキシ)タリウム、ジビニロキシメトキシタリウム、アクリロイルオキシエチルジエトキシタリウム、γ−アクリロイルオキシプロピルジ(n)プロポキシタリウム、γ−メタクリロイルオキシプロピルジ(n)プロポキシタリウム、ジ(γ−アクリロイルオキシプロピル)(n)プロポキシタリウム、アクリロイルオキシメトキシエトキシタリウム、アクリロイルオキシ(n)ブトキシタリウム等を挙げることが出来る。   Specific examples of the metal alkoxide having an ethylenically unsaturated group include vinyltrimethoxytitanium, vinyltri (β-methoxy-ethoxy) titanium, divinyloxydimethoxytitanium, acryloyloxyethyltriethoxytitanium, γ-acryloyloxypropyltri ( n) Propoxy titanium, methacryloyloxypropyltri (n) propoxytitanium, di (γ-acryloyloxypropyl) di (n) propoxytitanium, acryloyloxydimethoxyethoxytitanium, methacryloyloxytriisopropoxytitanium, acryloyloxy (n) butoxytitanium 2- (acryloyloxy) ethoxytriisopropoxytitanium, vinyltrimethoxyzirconium, divinyloxydimethoxyzirconium, acryloyloxyethyltriethoxy Zirconium, γ-acryloyloxypropyltri (n) propoxyzirconium, γ-methacryloyloxypropyltri (n) propoxyzirconium, di (γ-acryloyloxypropyl) di (n) propoxyzirconium, acryloyloxydimethoxyethoxyzirconium, acryloyloxy ( n) Butoxyzirconium, vinyldimethoxythallium, vinyldi (β-methoxy-ethoxy) thallium, divinyloxymethoxythallium, acryloyloxyethyldiethoxythallium, γ-acryloyloxypropyldi (n) propoxytalium, γ-methacryloyloxypropyldi (N) propoxytalium, di (γ-acryloyloxypropyl) (n) propoxytalium, acryloyloxymethoxyethoxytali And acryloyloxy (n) butoxythallium.

これらエチレン性不飽和基を有する金属アルコキシドの添加量は、高屈折率層の固形分100質量%に対して10〜90質量%が好ましく、15〜85質量%がより好ましく、20〜80質量%が最も好ましい。   The addition amount of the metal alkoxide having an ethylenically unsaturated group is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 15 to 85% by mass, more preferably 20 to 80% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the high refractive index layer. Is most preferred.

高屈折率層の屈折率は、1.70〜2.00であることが好ましく、特に1.75〜1.95であることがより好ましく、1.80〜1.90であることが最も好ましい。   The refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.70 to 2.00, more preferably 1.75 to 1.95, and most preferably 1.80 to 1.90. .

また、高屈折率層の厚みは、10nm〜500nmであることが好ましく、さらに20nm〜400nmであることがより好ましく、40nm〜300nmであることが最も好ましい。   The thickness of the high refractive index layer is preferably 10 nm to 500 nm, more preferably 20 nm to 400 nm, and most preferably 40 nm to 300 nm.

本発明において、高屈折率層の固形分1グラム当たりのTiおよび/又はZrの含有量は少なくとも2.0ミリモルであるが、これは高屈折率層の主成分がTiまたはZrのゾルゲル成分であることを意図したものである。高屈折率層の固形分1グラム当たりのTiおよび又はZrの含有量が2.0ミリモル未満になると、低屈折率層と高屈折率層の互いの染み込みが起こり、膜厚にムラが生じるため、反射光に色味ムラが生じるという問題が起こる。特に高屈折率層の固形分1グラム当たりのTiおよび又はZrの含有量はさらに2.2〜10.0ミリモルであることがより好ましく、2.4〜10.0ミリモルであることが最も好ましい。   In the present invention, the content of Ti and / or Zr per gram of solid content in the high refractive index layer is at least 2.0 mmol, which is a sol-gel component in which the main component of the high refractive index layer is Ti or Zr. It is intended to be. When the content of Ti and / or Zr per gram of the solid content in the high refractive index layer is less than 2.0 mmol, the low refractive index layer and the high refractive index layer may permeate each other, resulting in uneven thickness. As a result, there arises a problem that unevenness of color occurs in the reflected light. In particular, the content of Ti and / or Zr per gram of the solid content of the high refractive index layer is more preferably 2.2 to 10.0 mmol, and most preferably 2.4 to 10.0 mmol. .

また高屈折率層は、TiまたはZrのゾルゲル成分としてテトラアルコキシチタンまたはテトラアルコキシジルコニウムのモノマー、オリゴマーまたはそれらの加水分解物を含有することが好ましい。これらの材料は、膜を乾燥させた後、フィルムを90〜200℃の温度で加熱し、アルコキシド基を加水分解して縮合架橋硬化させることができる。   The high refractive index layer preferably contains a tetraalkoxytitanium or tetraalkoxyzirconium monomer, oligomer or a hydrolyzate thereof as a sol-gel component of Ti or Zr. In these materials, after the membrane is dried, the film can be heated at a temperature of 90 to 200 ° C. to hydrolyze the alkoxide group and be condensed and cured.

テトラアルコキシチタンの具体例としては、Ti(OCH34、Ti(OC254、Ti(O−n−C374、Ti(O−i−C374、Ti(O−n−C494、Ti(O−n−C374の2〜10量体、Ti(O−i−C374の2〜10量体、Ti(O−n−C494の2〜10量体等が好ましい例として挙げられる。 Specific examples of the tetraalkoxy titanium include Ti (OCH 3 ) 4 , Ti (OC 2 H 5 ) 4 , Ti (On-C 3 H 7 ) 4 , Ti (Oi-C 3 H 7 ) 4. , Ti (On-C 4 H 9 ) 4 , Ti (On-C 3 H 7 ) 4 2-10 mer, Ti (Oi-C 3 H 7 ) 4 2-10 And a di- to 10-mer of Ti (On-C 4 H 9 ) 4 are preferred examples.

テトラアルコキシジルコニウムの具体例としては、Zr(OCH34、Zr(OC254、Zr(O−n−C374、Zr(O−i−C374、Zr(O−n−C494、Zr(O−n−C374の2〜10量体、Zr(O−i−C374の2〜10量体、Zr(O−n−C494の2〜10量体等が好ましい例として挙げられる。
これらは単独で、または2種以上組み合わせて用いることができる。
これらテトラアルコキシチタンまたはテトラアルコキシジルコニウムの添加量は、高屈折率層の固形分100質量%に対して10〜90質量%が好ましく、20〜80質量%がより好ましく、20〜70質量%が最も好ましい。
Specific examples of tetraalkoxyzirconium include Zr (OCH 3 ) 4 , Zr (OC 2 H 5 ) 4 , Zr (On-C 3 H 7 ) 4 , Zr (Oi-C 3 H 7 ) 4. , Zr (On-C 4 H 9 ) 4 , Zr (On-C 3 H 7 ) 4 2 to 10 mer, Zr (OiC 3 H 7 ) 4 2 to 10 Preferred examples include Zr (On-C 4 H 9 ) 4 dimer to 10-mer.
These can be used alone or in combination of two or more.
The amount of tetraalkoxytitanium or tetraalkoxyzirconium added is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, and most preferably 20 to 70% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the high refractive index layer. preferable.

高屈折率層は、屈折率調整の必要に応じて酸化チタン微粒子、酸化ジルコニウム微粒子を含有しても良い。その場合、酸化チタン微粒子、酸化ジルコニウム微粒子のTiとZr成分は、高屈折率層の固形分1グラム当たりのTiおよび又はZrの含有量に加算する。   The high refractive index layer may contain fine titanium oxide particles and fine zirconium oxide particles as necessary for refractive index adjustment. In that case, the Ti and Zr components of the titanium oxide fine particles and the zirconium oxide fine particles are added to the content of Ti and / or Zr per gram of the solid content of the high refractive index layer.

さらに高屈折率層は、1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能性モノマーを含有することが好ましい。
多官能性モノマーとしては、1、4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1、6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、3−メチルペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールビスβ‐(メタ)アクリロイルオキシプロピネート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリ(2−ヒドロキシエチル)イソシアネートジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、2、3‐ビス(メタ)アクリロイルオキシエチルオキシメチル[2.2.1]ヘプタン、ポリ1、2−ブタジエンジ(メタ)アクリレート、1、2−ビス(メタ)アクリロイルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラデカンエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、10−デカンジオール(メタ)アクリレート、3、8−ビス(メタ)アクリロイルオキシメチルトリシクロ[5.2.10]デカン、水素添加ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、2、2−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシジエトキシフェニル)プロパン、1、4−ビス((メタ)アクリロイルオキシメチル)シクロヘキサン、ヒドロキシピバリンサンエステルネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、エポキシ変成ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート等を挙げることができる。多官能モノマーは、一種類のみを使用しても良いし、二種類以上を併用しても良い。
Further, the high refractive index layer preferably contains a polyfunctional monomer having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule.
As polyfunctional monomers, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol Di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol bis β- (meth) acryloyloxypropionate, trimethylolethane Tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tri (2-H Roxyethyl) isocyanate di (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, 2,3-bis (meth) acryloyloxyethyloxymethyl [2.2.1] heptane, poly 1,2-butadiene di (meth) acrylate 1,2-bis (meth) acryloyloxymethylhexane, nonaethylene glycol di (meth) acrylate, tetradecanethylene glycol di (meth) acrylate, 10-decanediol (meth) acrylate, 3,8-bis (meth) acryloyl Oxymethyltricyclo [5.2.10] decane, hydrogenated bisphenol A di (meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloyloxydiethoxyphenyl) propane, 1,4-bis ((meta ) Acryloyloxymethyl Examples thereof include cyclohexane, hydroxypivalin sun ester neopentyl glycol di (meth) acrylate, bisphenol A diglycidyl ether di (meth) acrylate, and epoxy-modified bisphenol A di (meth) acrylate. Only one type of polyfunctional monomer may be used, or two or more types may be used in combination.

本発明において、これら多官能性モノマーの添加量は、高屈折率層の固形分100質量%に対して1〜50質量%が好ましく、1〜40質量%がより好ましく、3〜30質量%が最も好ましい。   In the present invention, the addition amount of these polyfunctional monomers is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 1 to 40% by mass, and 3 to 30% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the high refractive index layer. Most preferred.

(中屈折率層)
本発明においては、反射率の低減のために、ハードコート層または防眩層が設けられた透明支持体と高屈折率層の間に中屈折率層を設けることが好ましい。中屈折率層の屈折率はハードコート層または防眩層の屈折率と、高屈折率層の中間的な値であるように調節し、値としては1.55〜1.80であることが好ましい。
(Medium refractive index layer)
In the present invention, in order to reduce the reflectance, it is preferable to provide a middle refractive index layer between the transparent support provided with the hard coat layer or the antiglare layer and the high refractive index layer. The refractive index of the medium refractive index layer is adjusted to be an intermediate value between the refractive index of the hard coat layer or the antiglare layer and the high refractive index layer, and the value is 1.55 to 1.80. preferable.

また、中屈折率層の厚みは10nm〜500nmであることが好ましく、20nm〜200nmであることがより好ましく、40nm〜200nmであることが最も好ましい。   The thickness of the medium refractive index layer is preferably 10 nm to 500 nm, more preferably 20 nm to 200 nm, and most preferably 40 nm to 200 nm.

また中屈折率層は、高屈折率層と同様にテトラアルコキシチタンまたはテトラアルコキシジルコニウムのモノマー、オリゴマーまたはそれらの加水分解物を含有することが好ましい。これらの具体例は高屈折率層の記載と同じである。
これらテトラアルコキシチタンまたはテトラアルコキシジルコニウムの添加量は、中屈折率層の固形分100質量%に対して10〜90質量%が好ましく、10〜70質量%がより好ましく、10〜50質量%が最も好ましい。
The medium refractive index layer preferably contains a tetraalkoxytitanium or tetraalkoxyzirconium monomer, oligomer, or a hydrolyzate thereof, similarly to the high refractive index layer. Specific examples thereof are the same as those described for the high refractive index layer.
The amount of tetraalkoxytitanium or tetraalkoxyzirconium added is preferably 10 to 90 mass%, more preferably 10 to 70 mass%, and most preferably 10 to 50 mass% with respect to 100 mass% of the solid content of the medium refractive index layer. preferable.

さらに中屈折率層は、1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能性モノマーを含有することが好ましい。
多官能性モノマーとしては、高屈折率層の記載と同じである。
これら多官能性モノマーの添加量は、中屈折率層の固形分100質量%に対して1〜90質量%が好ましく、10〜90質量%がより好ましく、20〜90質量%が最も好ましい。
Further, the medium refractive index layer preferably contains a polyfunctional monomer having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule.
The polyfunctional monomer is the same as described for the high refractive index layer.
The addition amount of these polyfunctional monomers is preferably 1 to 90% by mass, more preferably 10 to 90% by mass, and most preferably 20 to 90% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the medium refractive index layer.

本発明は、高屈折率層の上に低屈折率層を形成し、熱および紫外線照射により硬化することを特徴とする。
ここでいう熱による硬化とは、膜を乾燥させた後にフィルムを90〜200℃の温度で1〜60分間加熱し、膜を硬化させることをいう。特に加熱条件は、90〜150℃の温度で1〜40分間加熱することが好ましく、100〜140℃の温度で1〜30分間加熱することがより好ましい。
熱による硬化の場合、各層を1層ずつ加熱してもよいし、積層後加熱してもよい。生産性の点から、高屈折率層を形成した後、加熱することが好ましい。
The present invention is characterized in that a low refractive index layer is formed on a high refractive index layer and cured by heat and ultraviolet irradiation.
The term “curing by heat” as used herein refers to curing the film by drying the film and then heating the film at a temperature of 90 to 200 ° C. for 1 to 60 minutes. In particular, heating is preferably performed at a temperature of 90 to 150 ° C. for 1 to 40 minutes, and more preferably at a temperature of 100 to 140 ° C. for 1 to 30 minutes.
In the case of curing by heat, each layer may be heated one by one, or may be heated after lamination. From the viewpoint of productivity, it is preferable to heat after forming the high refractive index layer.

また、本発明でいう紫外線照射による硬化とは、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等、また、ArFエキシマレーザ、KrFエキシマレーザ、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等の光源を用いて乾燥した膜に紫外線を照射して膜を硬化させることをいう。
照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は20〜10000mJ/cm2が好ましく、さらに好ましくは、100〜2000mJ/cm2であり、特に好ましくは、400〜2000mJ/cm2である。
紫外線による硬化の場合、各層を1層ずつ照射してもよいし、積層後照射してもよい。生産性の点から、低屈折率層を形成した後、紫外線を照射することが好ましい。
Further, the curing by ultraviolet irradiation in the present invention means low pressure mercury lamp, medium pressure mercury lamp, high pressure mercury lamp, ultra high pressure mercury lamp, carbon arc lamp, metal halide lamp, xenon lamp, etc., ArF excimer laser, KrF excimer laser, excimer lamp. Alternatively, the film is cured by irradiating the dried film with ultraviolet rays using a light source such as synchrotron radiation.
The irradiation conditions vary depending on individual lamps, but the amount of light irradiated is preferably 20~10000mJ / cm 2, more preferably from 100 to 2000 mJ / cm 2, particularly preferably 400~2000mJ / cm 2.
In the case of curing with ultraviolet rays, each layer may be irradiated one by one or after lamination. From the viewpoint of productivity, it is preferable to irradiate ultraviolet rays after forming the low refractive index layer.

本実施例において使用した化合物を以下に示す。
・エチレン性不飽和基を有する含フッ素化合物
特開平9−301925号公報の実施例3−3に記載された方法に従い、特開平9−301925の(30)で表されるエチレン性不飽和基を一分子中に4個有する下記構造の含フッ素化合物を得た。
この化合物を、エチレン性不飽和基を有する含フッ素化合物A−1とした。
The compounds used in this example are shown below.
Fluorine-containing compound having an ethylenically unsaturated group According to the method described in Example 3-3 of JP-A-9-301925, an ethylenically unsaturated group represented by (30) of JP-A-9-301925 is obtained. A fluorine-containing compound having the following structure having four in one molecule was obtained.
This compound was designated as a fluorine-containing compound A-1 having an ethylenically unsaturated group.

Figure 2008233656
Figure 2008233656

特開2006−36835号公報の製造例2に記載された方法に従い得られたメタアクリル変性含フッ素重合体を、A−2とした。
特開2006−36835号公報の製造例3に記載された方法に従い得られたアクリル変性含フッ素重合体を、A−3とした。
A methacryl-modified fluoropolymer obtained according to the method described in Production Example 2 of JP-A-2006-36835 was designated as A-2.
The acrylic modified fluoropolymer obtained according to the method described in Production Example 3 of JP-A-2006-36835 was designated as A-3.

・中空シリカ微粒子分散物
中空シリカ微粒子ゾル(イソプロピルアルコールシリカゾル、平均粒子径60nm、シェル厚み10nm、シリカ濃度20質量%、シリカ粒子の屈折率1.31、特開2002−79616の調製例4に準じサイズを変更して調製)500gに、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製)30g、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート1.5g加え混合した後に、イオン交換水を9gを加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8gを添加した。この分散液500gにほぼシリカの含量が一定となるようにシクロヘキサノンを添加しながら、減圧蒸留による溶媒置換を行った。分散液に異物の発生はなく、固形分濃度をシクロヘキサノンで調整し20質量%にしたときの粘度は25℃で5mPa・sであった。得られた分散液のイソプロピルアルコールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ、1.5%であった。
Hollow silica fine particle dispersion Hollow silica fine particle sol (isopropyl alcohol silica sol, average particle diameter 60 nm, shell thickness 10 nm, silica concentration 20 mass%, refractive index of silica particles 1.31, according to Preparation Example 4 of JP-A-2002-79616) 500 g of acryloyloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 1.5 g of diisopropoxyaluminum ethyl acetate were added to and mixed with 9 g of ion-exchanged water. . After reacting at 60 ° C. for 8 hours, the mixture was cooled to room temperature, and 1.8 g of acetylacetone was added. While adding cyclohexanone to 500 g of this dispersion so that the content of silica was almost constant, solvent substitution by vacuum distillation was performed. There was no generation of foreign matters in the dispersion, and the viscosity when the solid content concentration was adjusted to 20% by mass with cyclohexanone was 5 mPa · s at 25 ° C. When the residual amount of isopropyl alcohol in the obtained dispersion was analyzed by gas chromatography, it was 1.5%.

・TEOS:テトラエトキシシランの加水分解物
・DPHA:ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物[日本化薬(株)製]
・Irg907:重合開始剤イルガキュア907[チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製]
・TBT:テトラ(n)ブトキシチタン[日本曹達(株)製]
TEOS: Tetraethoxysilane hydrolyzate DPHA: Mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate [Nippon Kayaku Co., Ltd.]
Irg907: Polymerization initiator Irgacure 907 [Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.]
TBT: Tetra (n) butoxytitanium [Nippon Soda Co., Ltd.]

(エチレン性不飽和基を有する金属アルコキシド)
・アクリロイルオキシ(n)ブトキシチタン 化合物B−1とする。
・アクリロイルオキシ(n)ブトキシジルコニウム 化合物B−2とする。
(Metal alkoxide having an ethylenically unsaturated group)
-Acrylyloxy (n) butoxy titanium It is set as compound B-1.
-Acrylyloxy (n) butoxyzirconium Compound B-2.

<実施例1>
表1に示すような構成要件で反射防止フィルムの試料101〜105を作製した。
<Example 1>
Samples 101 to 105 of the antireflection film were produced with the constitutional requirements as shown in Table 1.

<塗布液の調製>
(ハードコート層)
DPHA;95質量%、Irg907;5質量%を溶解したメチルイソブチルケトン溶液を調製した。
(高屈折率層、低屈折率層)
表1に示す組成の高屈折率層、および低屈折率層の塗布液を、メチルエチルケトンを溶媒として調製した。塗布液の固形分濃度は5%とした。
<Preparation of coating solution>
(Hard coat layer)
A methyl isobutyl ketone solution in which DPHA: 95% by mass and Irg907: 5% by mass were dissolved was prepared.
(High refractive index layer, low refractive index layer)
Coating solutions for the high refractive index layer and the low refractive index layer having the composition shown in Table 1 were prepared using methyl ethyl ketone as a solvent. The solid content concentration of the coating solution was 5%.

<反射防止フィルムの塗設方法>
トリアセチルセルロースフィルム(TAC−TD80U、富士フイルム(株)製)をロール形態で巻き出して、スロットルダイを有するコーターを用いて、前述のハードコート層用塗布液を直接押し出して塗布した。搬送速度30m/分の条件で塗布し、30℃で15秒間、90℃で20秒間乾燥の後、さらに窒素パージ下で160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照射量90mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ3.0μmのハードコート層を形成し、巻き取った。
<Coating method of antireflection film>
A triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) was unwound in a roll form, and using the coater having a throttle die, the aforementioned coating liquid for hard coat layer was directly extruded and applied. After applying at a transfer speed of 30 m / min, drying at 30 ° C. for 15 seconds and 90 ° C. for 20 seconds, and further using a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (made by Eye Graphics Co., Ltd.) under a nitrogen purge. The coating layer was cured by irradiating ultraviolet rays with an irradiation amount of 90 mJ / cm 2 to form a hard coat layer having a thickness of 3.0 μm and wound up.

さらに上記のハードコート層上に前述の高屈折率層塗布液を、スロットルダイを有するコーターを用いて塗布した。搬送速度30m/分の条件で塗布し、30℃で15秒間、90℃で20秒間乾燥の後、100℃5分間の熱処理を行い、さらに窒素パージ下で160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照射量90mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させた。
各層の厚み、屈折率は表1に記載した。
Further, the above-mentioned high refractive index layer coating solution was applied onto the above hard coat layer using a coater having a throttle die. It was applied at a transfer speed of 30 m / min, dried at 30 ° C. for 15 seconds and 90 ° C. for 20 seconds, then heat-treated at 100 ° C. for 5 minutes, and further air-cooled metal halide lamp of 160 W / cm under nitrogen purge (eye graphics) The coating layer was cured by irradiating with ultraviolet rays having an irradiation amount of 90 mJ / cm 2 .
The thickness and refractive index of each layer are shown in Table 1.

上記の様にして得られた塗布フィルムの高屈折率層の上に、スロットルダイを有するコーターを用いて、前述の低屈折率層用塗布液を塗布し、乾燥:90℃60秒で乾燥し、窒素パージにより酸素濃度0.1%の雰囲気下で240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照射量400mJ/cm2の紫外線を照射し、その後120℃10分加熱を施し、表1に示す反射防止フィルムを作製した。 On the high refractive index layer of the coated film obtained as described above, the above-mentioned coating solution for the low refractive index layer is applied using a coater having a throttle die, and dried: dried at 90 ° C. for 60 seconds. Then, an ultraviolet ray with an irradiation amount of 400 mJ / cm 2 was irradiated using a 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) in an atmosphere with an oxygen concentration of 0.1% by nitrogen purge. Minute heating was performed to produce an antireflection film shown in Table 1.

各試料の各層の成分比率、屈折率、厚みを表1に示した。
表1おいて、成分比率は各層の固形分合計を100質量%とした成分比率を記載してある。
Table 1 shows the component ratio, refractive index, and thickness of each layer of each sample.
In Table 1, the component ratio describes the component ratio in which the total solid content of each layer is 100% by mass.

Figure 2008233656
Figure 2008233656

表1に示した各反射防止フィルムを以下の方法で評価した。
なお、スチールウール耐擦傷性および密着性の評価は後述の偏光板加工したフィルムで評価した。
Each antireflection film shown in Table 1 was evaluated by the following method.
The steel wool scratch resistance and adhesion were evaluated by a polarizing film processed film described later.

<評価方法>
〔積分反射率〕
フィルムの裏面をサンドペーパーで粗面化した後に黒色インクで処理し、裏面反射をなくした状態で、表面側を、分光光度計(日本分光(株)製)を用いて、380〜780nmの波長領域において、入射角5°における積分分光反射率を測定した。結果には450〜650nmの積分反射率の算術平均値を用いた。
<Evaluation method>
[Integral reflectance]
The back side of the film was roughened with sandpaper, then treated with black ink, and the back side was removed, and the surface side was 380 to 780 nm using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation). In the region, the integrated spectral reflectance at an incident angle of 5 ° was measured. The arithmetic average value of the integrated reflectance of 450 to 650 nm was used for the result.

〔反射光色ムラ〕
各試料の反射防止フィルム1mを白色蛍光灯下で目視観察し、反射光の色ムラの発生頻度を以下の3段階に分類、評価した。
○:反射光色ムラが1mに全く認められなかったもの。
△:反射光色ムラが1mに1箇所のもの。
×:反射光色ムラが1mに2箇所以上のもの。
[Reflective color unevenness]
The antireflection film 1m 2 of each sample was visually observed under a white fluorescent lamp, and the occurrence frequency of color unevenness of reflected light was classified and evaluated in the following three stages.
○: Reflected light color unevenness was not recognized at 1 m 2 at all.
Δ: Reflected light color unevenness at one location per 1 m 2 .
X: Reflected light color unevenness is 2 or more in 1 m 2 .

[光学フィルムの鹸化処理]
各反射防止フィルム試料の裏面を以下に示す条件で鹸化処理した。
アルカリ浴:1.5mol/dm水酸化ナトリウム水溶液、55℃−120秒
第1水洗浴:水道水、60秒
中和浴:0.05mol/dm硫酸、30℃−20秒
第2水洗浴:水道水、60秒
乾燥:120℃、60秒
[光学フィルム付き偏光板の作製]
延伸したポリビニルアルコールフィルムに、ヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。鹸化処理済みの反射防止フィルムに、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、該反射防止フィルムの支持体(トリアセチルセルロース)側が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付けた。このようにして偏光板を作製した。
[Saponification of optical film]
The back surface of each antireflection film sample was saponified under the following conditions.
Alkaline bath: 1.5 mol / dm 3 sodium hydroxide aqueous solution, 55 ° C.-120 seconds First water wash bath: tap water, 60 seconds Neutralization bath: 0.05 mol / dm 3 sulfuric acid, 30 ° C.-20 seconds Second water wash bath : Tap water, 60 seconds Drying: 120 ° C, 60 seconds [Preparation of polarizing plate with optical film]
A polarizing film was prepared by adsorbing iodine to a stretched polyvinyl alcohol film. A saponified antireflection film was attached to one side of the polarizing film using a polyvinyl alcohol adhesive so that the support (triacetylcellulose) side of the antireflection film was the polarizing film side. In this way, a polarizing plate was produced.

〔スチールウール耐擦傷性〕
反射防止フィルムの低屈折率層を有する側の表面を、スチールウールに200g/cm2の加重をかけ50往復擦り、このとき生じる傷の状態を観察して、以下の5段階で評価した。
◎:傷が全くつかなかったもの。
○:ほとんど見えない傷が少しついたもの。
△:明確に見える傷がついたもの。
×:明確に見える傷が顕著についたもの。
××:膜の剥離が生じたもの。
[Steel wool scratch resistance]
The surface of the antireflection film having the low refractive index layer was subjected to 50 reciprocations by applying a weight of 200 g / cm 2 to steel wool, and the state of scratches generated at this time was observed and evaluated in the following five stages.
(Double-circle): The thing which did not scratch at all.
○: Slightly invisible scratches.
Δ: Scratches clearly visible.
X: Scratches clearly visible.
XX: The film peeled off.

〔密着性〕
反射防止フィルムの低屈折率層を有する側の表面にカッターナイフで碁盤目状に縦11本、横11本の切り込みを入れて合計100個の正方形の升目を刻み、日東電工(株)製のポリエステル粘着テープ(NO.31B)を圧着して密着試験を同じ場所で繰り返し5回行った。剥がれの度合いを以下の4段階で評価した。
◎:100個の升目中に剥がれが全く認められなかったもの。
○:100個の升目中に剥がれが認められたものが2升以内のもの。
△:100個の升目中に剥がれが認められたものが3〜10升のもの。
×:100個の升目中に剥がれが認められたものが10升を越えたもの。
[Adhesion]
The surface of the antireflective film having the low refractive index layer is cut with a cutter knife into a grid pattern with 11 vertical and 11 horizontal cuts, and a total of 100 square grids are engraved, made by Nitto Denko Corporation. A polyester adhesive tape (NO. 31B) was pressure-bonded and the adhesion test was repeated 5 times at the same place. The degree of peeling was evaluated according to the following four levels.
A: No peeling was observed in 100 squares.
○: Within 100 squares, peeling was observed within 2 squares.
(Triangle | delta): The thing by which peeling was recognized in 100 squares is a thing of 3-10cm.
X: A thing in which peeling was recognized in 100 squares exceeded 10 squares.

以上の評価方法に従った評価結果を表2に示した。   The evaluation results according to the above evaluation method are shown in Table 2.

Figure 2008233656
Figure 2008233656

表2において、低屈折率層の構成要件が異なる試料101、102、103を比較すると、耐擦傷性と密着性の両方を満足するのは、本発明の試料101のみである。比較例102は、最外層がゾルゲル膜であるため鹸化処理による低屈折率層、高屈折率層の両方の膜強度劣化が起こっており、耐擦傷性が劣っている。また比較例103では、最外層がDPHAをバインダーとしており、DPHAの耐薬品性が低いために、鹸化処理による高屈折率層の膜強度劣化が起こっていると推測している。これに対し、試料101のエチレン性不飽和基を有する含フッ素化合物(化合物A−1)を含有する低屈折率層では、エチレン性不飽和基を有する含フッ素化合物を含有させることにより、鹸化処理の悪影響が高屈折率層に及んでいないと考えられる。また、試料101、102、103、105を比較すると、反射光色ムラが良好なのは本発明101のみである。これは本発明の組合せのみが低屈折率層と高屈折率層の界面の染み込みがないため、各薄層の厚みが面内で均一に保たれるからであろうと推測している。
一方、低屈折率層に中空状シリカ微粒子とエチレン性不飽和基を有する含フッ素化合物(化合物A−1)を含有し、高屈折率層の構成要件が異なる試料101、104、105を比較しても、耐擦傷性と密着性の両方を満足するのは、本発明の試料101のみである。比較例104は高屈折率層のゾルゲル成分比率が高すぎ、低屈折率層と高屈折率層間の界面の密着性が劣っている。また比較例105は高屈折率層にエチレン性不飽和基を有する金属アルコキシド(化合物B−1)がないため、低屈折率層と高屈折率層間の界面の密着性が不十分である。すなわちエチレン性不飽和基を有する金属アルコキシド(化合物B−1)を高屈折率層に含有することが好ましいことがわかる。
これらの比較から本発明が従来技術に比して優れていることがわかる。
In Table 2, when samples 101, 102, and 103 having different constitutional requirements for the low refractive index layer are compared, only sample 101 of the present invention satisfies both scratch resistance and adhesion. In Comparative Example 102, since the outermost layer is a sol-gel film, the strength of both the low refractive index layer and the high refractive index layer is deteriorated due to the saponification treatment, and the scratch resistance is poor. In Comparative Example 103, the outermost layer uses DPHA as a binder, and since the chemical resistance of DPHA is low, it is presumed that film strength deterioration of the high refractive index layer is caused by saponification treatment. On the other hand, in the low refractive index layer containing the fluorine-containing compound having the ethylenically unsaturated group (Compound A-1) of the sample 101, the saponification treatment is performed by containing the fluorine-containing compound having the ethylenically unsaturated group. It is considered that the adverse effect of is not exerted on the high refractive index layer. Further, when the samples 101, 102, 103, and 105 are compared, only the present invention 101 has good reflected light color unevenness. It is presumed that this is because only the combination of the present invention does not permeate the interface between the low refractive index layer and the high refractive index layer, so that the thickness of each thin layer is kept uniform in the plane.
On the other hand, samples 101, 104, and 105 containing hollow silica fine particles and a fluorine-containing compound having an ethylenically unsaturated group (compound A-1) in the low refractive index layer and having different constitutional requirements for the high refractive index layer were compared. However, only the sample 101 of the present invention satisfies both scratch resistance and adhesion. In Comparative Example 104, the sol-gel component ratio of the high refractive index layer is too high, and the adhesion at the interface between the low refractive index layer and the high refractive index layer is poor. In Comparative Example 105, since there is no metal alkoxide having an ethylenically unsaturated group (Compound B-1) in the high refractive index layer, the adhesion at the interface between the low refractive index layer and the high refractive index layer is insufficient. That is, it can be seen that the metal alkoxide having an ethylenically unsaturated group (Compound B-1) is preferably contained in the high refractive index layer.
From these comparisons, it can be seen that the present invention is superior to the prior art.

<実施例2>
実施例1のハードコート層と高屈折率層の間に中屈折率層を新たに設けて、それ以外は実施例1と同様に試料201〜205を作製した。
中屈折率層の塗布液は、メチルエチルケトンを溶媒として固形分濃度を5%として塗布した。
各試料の各層の成分比率、屈折率、厚みを表3に示した。
表3おいて、成分比率は各層の固形分合計を100質量%として成分比率を記載してある。
<Example 2>
Samples 201 to 205 were prepared in the same manner as in Example 1 except that a medium refractive index layer was newly provided between the hard coat layer and the high refractive index layer of Example 1.
The coating solution for the medium refractive index layer was applied with methyl ethyl ketone as a solvent and a solid content concentration of 5%.
The component ratio, refractive index, and thickness of each layer of each sample are shown in Table 3.
In Table 3, the component ratio is described with the total solid content of each layer being 100% by mass.

Figure 2008233656
Figure 2008233656

本発明品201〜205を実施例1と同様に評価した。
評価結果を表4に示した。

Figure 2008233656
The inventive products 201 to 205 were evaluated in the same manner as in Example 1.
The evaluation results are shown in Table 4.
Figure 2008233656

表4から分るように、エチレン性不飽和基を有する含フッ素化合物が重合体(化合物A−2、A−3)である場合、スチールウール耐擦傷性、密着性、反射光色ムラともに極めて好ましい結果が得られた。また、いずれの試料も最適な屈折率、最適な厚みで、低屈折率層、高屈折率層、中屈折率層を形成したので、積分反射率は極めて低い値を示した。   As can be seen from Table 4, when the fluorine-containing compound having an ethylenically unsaturated group is a polymer (compounds A-2 and A-3), both the steel wool scratch resistance, adhesion, and reflected light color unevenness are extremely high. Favorable results have been obtained. Moreover, since the low refractive index layer, the high refractive index layer, and the middle refractive index layer were formed with the optimal refractive index and the optimal thickness for each sample, the integrated reflectance showed a very low value.

Claims (8)

透明支持体上に、エチレン性不飽和基を有する金属アルコキシドを含有する高屈折率層があり、かつ高屈折率層の固形分1グラム当たりのTiおよび/又はZrの含有量が少なくとも2.0ミリモルであり、さらに該高屈折率層の上にシリカ微粒子およびエチレン性不飽和基を有する含フッ素化合物を主成分として含有する低屈折率層を形成し、熱および紫外線照射により硬化した反射防止フィルム。   There is a high refractive index layer containing a metal alkoxide having an ethylenically unsaturated group on the transparent support, and the content of Ti and / or Zr per gram of the solid content of the high refractive index layer is at least 2.0. An antireflection film formed by forming a low-refractive index layer containing as a main component a silica fine particle and a fluorine-containing compound having an ethylenically unsaturated group on the high-refractive index layer and being cured by heat and ultraviolet irradiation . 前記高屈折率層のエチレン性不飽和基を有する金属アルコキシドの金属種が、Ti、Ta、Zr、In、Znのいずれかである請求項1に記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 1, wherein the metal species of the metal alkoxide having an ethylenically unsaturated group in the high refractive index layer is any one of Ti, Ta, Zr, In, and Zn. 前記低屈折率層のエチレン性不飽和基を有する含フッ素化合物が、一分子中に2個以上のエチレン性不飽和基を有する請求項1又は2に記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 1 or 2, wherein the fluorine-containing compound having an ethylenically unsaturated group in the low refractive index layer has two or more ethylenically unsaturated groups in one molecule. 前記低屈折率層のエチレン性不飽和基を有する含フッ素化合物が、重合体である請求項1〜3のいずれかに記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 1, wherein the fluorine-containing compound having an ethylenically unsaturated group in the low refractive index layer is a polymer. 前記シリカ微粒子が、中空状シリカ微粒子である請求項1〜4のいずれかに記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 1, wherein the silica fine particles are hollow silica fine particles. 前記低屈折率層の屈折率が1.20〜1.40である請求項1〜5のいずれかに記載の反射防止フィルム。   The antireflective film according to claim 1, wherein the low refractive index layer has a refractive index of 1.20 to 1.40. 前記高屈折率層の屈折率が1.70〜2.00である請求項1〜6のいずれかに記載の反射防止フィルム。   The antireflective film according to claim 1, wherein the high refractive index layer has a refractive index of 1.70 to 2.00. 前記高屈折率層が、さらに1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能性モノマーを含有する請求項1〜7のいずれかに記載の反射防止フィルム。   The antireflective film according to claim 1, wherein the high refractive index layer further contains a polyfunctional monomer having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule.
JP2007075056A 2007-03-22 2007-03-22 Antireflection film Pending JP2008233656A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007075056A JP2008233656A (en) 2007-03-22 2007-03-22 Antireflection film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007075056A JP2008233656A (en) 2007-03-22 2007-03-22 Antireflection film

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008233656A true JP2008233656A (en) 2008-10-02

Family

ID=39906488

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007075056A Pending JP2008233656A (en) 2007-03-22 2007-03-22 Antireflection film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008233656A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018180504A1 (en) * 2017-03-31 2018-10-04 グンゼ株式会社 Anti-reflection film

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018180504A1 (en) * 2017-03-31 2018-10-04 グンゼ株式会社 Anti-reflection film

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI498212B (en) Optical laminate and hardcoat film
JP4145332B2 (en) Hard coat film, method for producing hard coat film, optical element and image display device
KR102159687B1 (en) Optical laminate, polarizing plate and image display device
JP6237796B2 (en) Optical laminate, polarizing plate, and image display device
EP1701184A1 (en) Polarizing plate protective film, polarizing plate with reflection preventing function and optical product
WO2005073763A1 (en) Antidazzle coating composition, antidazzle film and process for producing the same
WO2005093464A1 (en) Method for producing antireflective film, antireflective film, polarizing plate and image display
TW200401116A (en) High refraction film, high refraction film-forming coating composition, anti-reflection film, protective film for polarizing plate, polarizing plate and image display device
JP2006116754A (en) Reflection decreasing material, and electronic image displaying device using it
JP2008151998A (en) Manufacturing method of hard coat film, hard coat film, polarizing plate and image display apparatus
JP2012078541A (en) Optical film, polarizing plate, image display device and method for producing optical film
JP5076763B2 (en) Optical laminate manufacturing method, optical laminate, polarizing plate, and image display device
JP2008088309A (en) Cured coating film, anti-reflection hard coating film using it, polarization plate and image display device
JP5116166B2 (en) Hard coat film, optical element and image display device
JP2013097356A (en) Antireflection film manufacturing method, antireflection film, polarizing plate, and display device
JP6689564B2 (en) Antireflection film, polarizing plate, and image display device
JP2009025384A (en) Antireflection film, polarizing plate and image display device
JP2005309392A (en) Method for manufacturing antireflection film, antireflection film, polarizing plate and image display device
JP2009103734A (en) Anti-glare film, polarizing plate and image display device
KR20160001688A (en) Polarizing plate protective film, polarizing plate, image display device and method of producing polarizing plate protective film
JP2013092782A (en) Optical laminate
JP2008310119A (en) Antireflection film
JP2008257160A (en) Optical laminate, polarizing plate and image display apparatus
JP2013076969A (en) Antireflection film, antireflective polarizing plate and transmissive liquid crystal display
JP2008233656A (en) Antireflection film