JP2008310119A - Antireflection film - Google Patents

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力夫 井上
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection film with: high manufacturing efficiency; high uniformity; excellent adhesion; and extremely low reflection, wherein the antireflection film is constituted of three-layer thin film and a high refractive index layer and a middle refractive index layer can be formed by one application process. <P>SOLUTION: The middle refractive index layer, the high refractive index layer and a low refractive index layer, each of which has film thickness of ≤150 nm, are laminated in this order on a film base material or on the film base material having a hard coat layer to form the antireflection film. The high refractive index layer contains first metal oxide particulates having surface ornamentation by a specific polymer and mean grain size of ≤50 nm. The middle refractive index layer contains second metal oxide particulates which are different from the first metal oxide particulates and have mean grain size of ≤50 nm. Further, the middle refractive index layer and the high refractive index layer are two layers separated from one application film or the middle refractive index layer and the high refractive index layer are two layers obtained by simultaneous multilayer application. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、反射防止フィルムに関する。特に、高屈折率層と中屈折率層を1度の塗布工程で形成することができ、製造効率が高い、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層をこの順に積層した反射防止フィルムに関する。   The present invention relates to an antireflection film. In particular, the high refractive index layer and the medium refractive index layer can be formed by a single coating process, and the production efficiency is high. Related to film.

反射防止フィルムは、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、陰極管表示装置(CRT)などのような様々な画像表示装置において、ディスプレイの表面に配置され、外光の反射や像の映り込みによるコントラスト低下を防止するとともに、高い物理強度(耐擦傷性など)、透明性等が要求される。
平均反射率が1%以下の極低反射率を示す反射防止フィルムは、基材上またはハードコートされた基材上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の異なる屈折率である3層の薄膜を積層することによって得られることが知られている(例えば、特許文献1及び2参照)。
Anti-reflective films are placed on the display surface in various image display devices such as liquid crystal display (LCD), plasma display panel (PDP), electroluminescence display (ELD), cathode ray tube display (CRT), etc. In addition to preventing a decrease in contrast due to reflection of external light and reflection of an image, high physical strength (such as scratch resistance) and transparency are required.
An antireflection film having an extremely low reflectance with an average reflectance of 1% or less has different refractive indexes of a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer on a substrate or a hard-coated substrate. It is known to be obtained by laminating a certain three layers of thin films (see, for example, Patent Documents 1 and 2).

これら反射防止フィルムは、通常、塗布法により製造されるものであるが、異なる屈折率である3層の薄膜を積層することは、少なくとも3回の塗布工程が必要であり、製造コストが高くなるという問題を有していた。
この問題に関し、1の塗膜から2以上の層を形成することができる技術が開示されている(例えば、特許文献3及び4参照)。しかしながら、この技術は、3層を必要とする反射防止フィルムを少ない塗布工程で製造できる点では優れているが、塗布溶剤の選択肢の自由度がなく、塗布後の乾燥工程の制御が困難であり、条件の変動や乾燥の不均一性によって均一な反射防止フィルムを得ることが困難であった。
特開2003−121606号公報 特開2003−262702号公報 特開2006−206832号公報 特開2007−038199号公報
These antireflection films are usually produced by a coating method, but laminating three layers of thin films having different refractive indexes requires at least three coating steps, resulting in high production costs. Had the problem.
Regarding this problem, a technique capable of forming two or more layers from one coating film has been disclosed (see, for example, Patent Documents 3 and 4). However, this technique is excellent in that an antireflection film that requires three layers can be produced with a small number of coating processes, but there is no freedom in choice of coating solvent, and it is difficult to control the drying process after coating. It was difficult to obtain a uniform antireflection film due to variation in conditions and non-uniformity of drying.
JP 2003-121606 A JP 2003-262702 A JP 2006-206932 A JP 2007-038199 A

本発明は、3層薄膜構成の反射防止フィルムにおいて、高屈折率層と中屈折率層を1度の塗布工程で形成することができ、製造効率が高く、均一性の高い極低反射率の反射防止フィルムを提供することを目的とする。   In the antireflection film having a three-layer thin film structure, the present invention can form a high refractive index layer and a medium refractive index layer in a single coating step, has a high production efficiency, and a highly uniform and extremely low reflectance. An object is to provide an antireflection film.

本発明は、3層薄膜構成の反射防止フィルムにおいて高屈折率層と中屈折率層を1度の塗布工程で形成する技術であり、特に高屈折率層に必須である高屈折率の金属酸化物微粒子を表面エネルギーが低下する特定の化合物で表面修飾することによって、塗布液膜内で自発的に表面に偏在するように制御する技術である。
3層薄膜構成の反射防止フィルムは、高屈折率層および中屈折率層がともに150nm以下の膜厚で設計されるため、上記のような表面エネルギーが低下した高屈折率の金属酸化物微粒子は、空気界面側の上層に偏在させることができ、それに併せて中屈折率層用の金属酸化物微粒子は下層を占めるようにでき、その結果、高屈折率層と中屈折率層を分離することができる。このような現象は、高屈折率層の金属酸化物微粒子、および中屈折率層の金属酸化物微粒子の平均粒径が50nm以下と超微粒子であるときに発現させることができる。
本発明において、金属酸化物微粒子を表面修飾する表面エネルギーが低下する特定の化合物とは、一つめには含フッ素アルキル基を有するユニットと金属酸化物微粒子を表面修飾する反応基を有するユニットを持つポリマーであり、二つめにはポリジアルキルシロキサン基を有するユニットと金属酸化物微粒子を表面修飾する反応基を有するユニットを持つポリマーである。
本発明の課題は下記構成の反射防止フィルムによって達成される。
The present invention is a technique for forming a high-refractive index layer and a medium-refractive index layer in a single coating process in an antireflection film having a three-layer thin film structure. In this technique, the fine particles are surface-modified with a specific compound that reduces the surface energy so that they are spontaneously distributed on the surface in the coating liquid film.
Since the antireflective film having a three-layer thin film structure is designed so that both the high refractive index layer and the medium refractive index layer have a film thickness of 150 nm or less, the above-described high refractive index metal oxide fine particles having a reduced surface energy are In addition, the metal oxide fine particles for the middle refractive index layer can occupy the lower layer, and as a result, the high refractive index layer and the middle refractive index layer can be separated. Can do. Such a phenomenon can be manifested when the average particle diameter of the metal oxide fine particles of the high refractive index layer and the metal oxide fine particles of the medium refractive index layer is 50 nm or less and ultrafine particles.
In the present invention, the specific compound for reducing the surface energy for modifying the surface of the metal oxide fine particles includes a unit having a fluorine-containing alkyl group and a unit having a reactive group for modifying the surface of the metal oxide fine particles. The second is a polymer having a unit having a polydialkylsiloxane group and a unit having a reactive group for modifying the surface of the metal oxide fine particles.
The object of the present invention is achieved by an antireflection film having the following constitution.

(1)フィルム基材上またはハードコート層を有するフィルム基材上に、各層の膜厚が150nm以下である中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層をこの順に積層した反射防止フィルムであって、
高屈折率層は平均粒径が50nm以下である第一の金属酸化物微粒子を含有し、含フッ素アルキル基を有するユニットと金属酸化物微粒子を表面修飾する反応基を有するユニットを持つポリマーによって該第一の金属酸化物微粒子は表面修飾されており、
中屈折率層は第一の金属酸化物微粒子とは異なる平均粒径が50nm以下である第二の金属酸化物微粒子を含有し、
さらに前記中屈折率層と前記高屈折率層が1の塗布膜から分離した2層であるか、または前記中屈折率層と前記高屈折率層が同時重層塗布された2層である反射防止フィルム。
(1) An antireflection film in which a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer, each having a film thickness of 150 nm or less, are laminated in this order on a film substrate or a film substrate having a hard coat layer. Because
The high refractive index layer contains first metal oxide fine particles having an average particle diameter of 50 nm or less, and the polymer has a unit having a fluorine-containing alkyl group and a unit having a reactive group for modifying the surface of the metal oxide fine particles. The first metal oxide fine particles are surface-modified,
The middle refractive index layer contains second metal oxide fine particles having an average particle size different from the first metal oxide fine particles of 50 nm or less,
Further, the medium refractive index layer and the high refractive index layer are two layers separated from one coating film, or the middle refractive index layer and the high refractive index layer are two layers coated simultaneously by multilayer coating. the film.

(2)フィルム基材上またはハードコート層を有するフィルム基材上に、各層の膜厚が150nm以下である中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層をこの順に積層した反射防止フィルムであって、
高屈折率層は平均粒径が50nm以下である第一の金属酸化物微粒子を含有し、ポリジアルキルシロキサン基を有するユニットと金属酸化物微粒子を表面修飾する反応基を有するユニットを持つポリマーによって該第一の金属酸化物微粒子は表面修飾されており、
中屈折率層は第一の金属酸化物微粒子とは異なる平均粒径が50nm以下である第二の金属酸化物微粒子を含有し、
さらに前記中屈折率層と前記高屈折率層が1の塗布膜から分離した2層であるか、または前記中屈折率層と前記高屈折率層が同時重層塗布された2層である反射防止フィルム。
(2) An antireflection film in which a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer, each having a thickness of 150 nm or less, are laminated in this order on a film substrate or a film substrate having a hard coat layer. Because
The high refractive index layer contains first metal oxide fine particles having an average particle diameter of 50 nm or less, and the polymer has a unit having a polydialkylsiloxane group and a unit having a reactive group for modifying the surface of the metal oxide fine particles. The first metal oxide fine particles are surface-modified,
The middle refractive index layer contains second metal oxide fine particles having an average particle size different from the first metal oxide fine particles of 50 nm or less,
Further, the medium refractive index layer and the high refractive index layer are two layers separated from one coating film, or the middle refractive index layer and the high refractive index layer are two layers coated simultaneously by multilayer coating. the film.

(3)前記含フッ素アルキル基を有するユニットと金属酸化物微粒子を表面修飾する反応基を有するユニットを持つポリマーが下記一般式[I]で表される構造を有する上記(1)に記載の反射防止フィルム。 (3) The reflection according to (1) above, wherein the polymer having a unit having the fluorine-containing alkyl group and a unit having a reactive group for modifying the surface of the metal oxide fine particle has a structure represented by the following general formula [I] Prevention film.

Figure 2008310119
Figure 2008310119

(式中、R1、R2は水素原子またはアルキル基を表す。L1は炭素数10以下の2価の連結基を表し、n1は0または1を表し、Rfは−CFまたは−CFHを表し、pは1〜10の整数であり、Lは炭素数10以下の2価の連結基を表し、mは0または1を表し、Aは水酸基または加水分解可能な基を表し、xはモル%を表す。) (In the formula, R 1 and R 2 represent a hydrogen atom or an alkyl group. L 1 represents a divalent linking group having 10 or less carbon atoms, n 1 represents 0 or 1, and R f represents —CF 3 or —CF 2 H. P represents an integer of 1 to 10, L represents a divalent linking group having 10 or less carbon atoms, m represents 0 or 1, A represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group, x represents a mole %.)

(4)前記ポリジアルキルシロキサン基を有するユニットと金属酸化物微粒子を表面修飾する反応基を有するユニットを持つポリマーが下記一般式[II]で表される構造を有する上記(2)に記載の反射防止フィルム。 (4) The reflection according to (2) above, wherein the polymer having a unit having the polydialkylsiloxane group and a unit having a reactive group for modifying the surface of the metal oxide fine particle has a structure represented by the following general formula [II]: Prevention film.

Figure 2008310119
Figure 2008310119

(式中、R1、R2は水素原子またはアルキル基を表す。L2は炭素数10以下の2価の連結基を表し、n2は0または1を表し、R11〜R15は同一であっても異なってもよく、それぞれ水素原子または炭素数1〜5のアルキル基またはアリール基を表し、qは10〜500の整数であり、Lは炭素数10以下の2価の連結基を表し、mは0または1を表し、Aは水酸基または加水分解可能な基を表し、yはモル%を表す。) (In the formula, R 1 and R 2 represent a hydrogen atom or an alkyl group. L 2 represents a divalent linking group having 10 or less carbon atoms, n 2 represents 0 or 1, and R 11 to R 15 are the same or different. Each represents a hydrogen atom or an alkyl or aryl group having 1 to 5 carbon atoms, q is an integer of 10 to 500, L represents a divalent linking group having 10 or less carbon atoms, and m is 0 or 1 represents A, a hydroxyl group or a hydrolyzable group, and y represents mol%.)

(5)前記第一の金属酸化物微粒子が酸化チタンまたは酸化ジルコニウムの微粒子である上記(1)〜(4)のいずれかに記載の反射防止フィルム。 (5) The antireflection film according to any one of (1) to (4), wherein the first metal oxide fine particles are fine particles of titanium oxide or zirconium oxide.

(6)前記第二の金属酸化物微粒子が導電性の酸化亜鉛系微粒子である上記(1)〜(5)のいずれかに記載の反射防止フィルム。 (6) The antireflection film according to any one of (1) to (5), wherein the second metal oxide fine particles are conductive zinc oxide-based fine particles.

高屈折率層と中屈折率層を1度の塗布工程で形成することができ、均一性が高く、密着性が良好な極低反射率の反射防止フィルムを得ることができる。   The high refractive index layer and the medium refractive index layer can be formed by a single coating step, and an antireflection film having a very low reflectance with high uniformity and good adhesion can be obtained.

以下本発明の反射防止フィルムについて説明する。
〔光学フィルムの層構成〕
本発明の反射防止フィルムは、透明な基材(支持体とも言う)上に、各層の膜厚が150nm以下である中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層をこの順に有し、目的に応じてその他の機能層を単独又は複数層設けることができる。
好ましい一つの態様としては、基材上に光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層された反射防止フィルムを挙げることができる。反射防止フィルムは、基材よりも屈折率の高い高屈折率層と、基材よりも屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて構成する。構成例としては、基材側から、屈折率の異なる3層を、中屈折率層(基材又はハードコート層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層)/高屈折率層/低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性等から、ハードコート層を有する基材上に、中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層の順に塗布することが好ましく、例えば、特開平8−122504号公報、同8−110401号公報、同10−300902号公報、特開2002−243906号公報、特開2000−111706号公報等に記載の構成が挙げられる。
また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの(例、特開平10−206603号公報、特開2002−243906号公報等)等が挙げられる。
Hereinafter, the antireflection film of the present invention will be described.
[Layer structure of optical film]
The antireflection film of the present invention has a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer in this order on a transparent substrate (also referred to as a support) in which the thickness of each layer is 150 nm or less, Depending on the purpose, other functional layers can be provided alone or in multiple layers.
As a preferred embodiment, there can be mentioned an antireflection film laminated on the substrate in consideration of the refractive index, the film thickness, the number of layers, the layer order, etc. so that the reflectance is reduced by optical interference. The antireflection film is formed by combining a high refractive index layer having a higher refractive index than the base material and a low refractive index layer having a lower refractive index than the base material. As a configuration example, three layers having different refractive indexes from the base material side, a medium refractive index layer (a layer having a higher refractive index than the base material or the hard coat layer and a lower refractive index than the high refractive index layer) / high Some of them are laminated in the order of refractive index layer / low refractive index layer, and others in which more antireflection layers are laminated have also been proposed. Among them, in view of durability, optical characteristics, cost, productivity, etc., it is preferable to apply a medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer in this order on a substrate having a hard coat layer. Examples include the configurations described in Kaihei 8-122504, 8-110401, 10-300902, JP-A 2002-243906, JP-A 2000-111706, and the like.
Other functions may be imparted to each layer, for example, an antifouling low refractive index layer or an antistatic high refractive index layer (eg, JP-A-10-206603, JP-A-2002). -243906 publication etc.) etc. are mentioned.

上記態様のフィルムの好ましい層構成の例を下記に示す。下記構成においてフィルム基材は、フィルムで構成された支持体を指している。
・フィルム基材/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
・フィルム基材/防眩層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
・防湿層/フィルム基材/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
・防湿層/フィルム基材/防眩層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
・フィルム基材/ハードコート層/導電性層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
・フィルム基材/ハードコート層/導電性中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
・防湿層/フィルム基材/ハードコート層/導電性中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
以下各構成層について説明する。
The example of the preferable layer structure of the film of the said aspect is shown below. In the following configuration, the film substrate refers to a support composed of a film.
Film base / hard coat layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer / film base / antiglare layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer / moisture proof layer / Film substrate / hard coat layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer / moisture-proof layer / film substrate / antiglare layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer / film Substrate / hard coat layer / conductive layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer / film substrate / hard coat layer / conductive medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer Moisture proof layer / film substrate / hard coat layer / conductive medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer Each component layer will be described below.

(低屈折率層)
本発明において、低屈折率層は、反射防止フィルムの最表面側に位置し、反射防止フィルムの層の中で最も屈折率が低い層である。
低屈折率層の屈折率は、1.50以下であることが好ましく、特に1.40以下であることがより好ましく、1.20〜1.40であることが最も好ましい。
(Low refractive index layer)
In the present invention, the low refractive index layer is located on the outermost surface side of the antireflection film and is the layer having the lowest refractive index among the layers of the antireflection film.
The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.50 or less, more preferably 1.40 or less, and most preferably 1.20 to 1.40.

また、低屈折率層の厚みは、150nm以下であることが必須であり、さらに20nm〜150nmであることがより好ましく、40nm〜130nmであることが最も好ましい。   The thickness of the low refractive index layer is essential to be 150 nm or less, more preferably 20 nm to 150 nm, and most preferably 40 nm to 130 nm.

低屈折率層は、低屈折率物質として、紫外線照射による硬化が可能なエチレン性不飽和基を有する含フッ素化合物を含有することが好ましい。
エチレン性不飽和基とは、具体的には末端がビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、イソプロペニル基であることを意味し、アクリロイル基、メタクリロイル基が特に好ましい。
エチレン性不飽和基は一分子中に一つであってもよいが、エチレン性不飽和基を有する含フッ素化合物が一分子中に2個以上のエチレン性不飽和基を有することがより好ましい。
The low refractive index layer preferably contains a fluorine-containing compound having an ethylenically unsaturated group that can be cured by ultraviolet irradiation as a low refractive index material.
Specifically, the ethylenically unsaturated group means that the terminal is a vinyl group, an allyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, or an isopropenyl group, and an acryloyl group or a methacryloyl group is particularly preferable.
Although one ethylenically unsaturated group may be present in one molecule, it is more preferable that the fluorine-containing compound having an ethylenically unsaturated group has two or more ethylenically unsaturated groups in one molecule.

2個以上のエチレン性不飽和基を有する含フッ素化合物の具体例としては、公知の技術を使用することができ、例えば特開平9−301925号公報に記載の含フッ素多官能(メタ)アクリル酸エステル、特開平10−182745号公報に記載の含フッ素多官能(メタ)アクリル酸エステル、特開平10−182746号公報に記載の含フッ素多官能(メタ)アクリル酸エステル、特開2001−72646号公報に記載の含フッ素多官能(メタ)アクリル酸エステルを挙げることができる。   As a specific example of the fluorine-containing compound having two or more ethylenically unsaturated groups, a known technique can be used, for example, fluorine-containing polyfunctional (meth) acrylic acid described in JP-A-9-301925. Esters, fluorine-containing polyfunctional (meth) acrylic acid esters described in JP-A-10-182745, fluorine-containing polyfunctional (meth) acrylic acid esters described in JP-A-10-182746, JP-A-2001-72646 Mention may be made of the fluorine-containing polyfunctional (meth) acrylic acid esters described in the publication.

さらにエチレン性不飽和基を有する含フッ素化合物が重合体であることが好ましく、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(以下GPCともいう)で、テトラヒドロフラン(以下THFともいう)を溶剤として測定したポリスチレン換算数平均分子量が1000〜500,000であることが好ましい。数平均分子量が500,000以下であると、組成物の粘度が抑制され、薄膜化が容易になる。   Further, the fluorine-containing compound having an ethylenically unsaturated group is preferably a polymer, and the number average molecular weight in terms of polystyrene measured by tetrahydrofuran (hereinafter also referred to as THF) as a solvent by gel permeation chromatography (hereinafter also referred to as GPC). Is preferably 1000 to 500,000. When the number average molecular weight is 500,000 or less, the viscosity of the composition is suppressed and thinning becomes easy.

本発明において好ましいエチレン性不飽和基を有する含フッ素重合体は、具体的には公
知の技術を使用することができ、例えば特開2005−89536号公報、特開2005−290133号公報、特開2006−36835号公報に記載されたエチレン性不飽和基含有含フッ素重合体を挙げることができる。
For the fluorine-containing polymer having an ethylenically unsaturated group, which is preferable in the present invention, specifically, a known technique can be used. For example, JP 2005-89536 A, JP 2005-290133 A, JP The ethylenically unsaturated group containing fluoropolymer described in 2006-36835 can be mentioned.

これらエチレン性不飽和基を有する含フッ素化合物の添加量は、低屈折率層の固形分100質量%に対して10〜100質量%が好ましく、20〜90質量%がより好ましく、30〜90質量%が最も好ましい。   The addition amount of the fluorine-containing compound having an ethylenically unsaturated group is preferably 10 to 100% by mass, more preferably 20 to 90% by mass, and more preferably 30 to 90% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the low refractive index layer. % Is most preferred.

本発明において低屈折率層は、平均粒子径は1nm〜100nmのシリカ微粒子を含有することが好ましい。シリカ微粒子は、中実粒子でも良いが、屈折率を低下させるために中空状シリカ微粒子を用いることが好ましい。
該中空状シリカ微粒子は屈折率が1.17〜1.40、より好ましくは1.17〜1.35、さらに好ましくは1.17〜1.30である。ここでの屈折率は粒子全体としての屈折率を表し、中空状シリカ微粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をa、粒子外殻の半径をbとすると、空隙率xは下記数式(VIII)で算出される。
(数式VIII) x=(4πa3/3)/(4πb3/3)×100
空隙率xは、好ましくは10〜60%、さらに好ましくは20〜60%、最も好ましくは30〜60%である。中空状シリカ微粒子をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点から1.17未満の低屈折率の粒子は成り立たない。
なお、これら中空状シリカ微粒子の屈折率はアッベ屈折率計(アタゴ(株)製)にて測定をおこなった。
In the present invention, the low refractive index layer preferably contains silica fine particles having an average particle diameter of 1 nm to 100 nm. The silica fine particles may be solid particles, but it is preferable to use hollow silica fine particles in order to lower the refractive index.
The hollow silica fine particles have a refractive index of 1.17 to 1.40, more preferably 1.17 to 1.35, and still more preferably 1.17 to 1.30. The refractive index here represents the refractive index of the whole particle, and does not represent the refractive index of only the outer shell silica forming the hollow silica fine particles. At this time, when the radius of the cavity in the particle is a and the radius of the particle outer shell is b, the porosity x is calculated by the following formula (VIII).
(Formula VIII) x = (4πa 3/ 3) / (4πb 3/3) × 100
The porosity x is preferably 10 to 60%, more preferably 20 to 60%, and most preferably 30 to 60%. If the hollow silica fine particles are made to have a lower refractive index and a higher porosity, the thickness of the outer shell becomes thinner and the strength of the particles becomes weaker. Therefore, the low refractive index is less than 1.17 from the viewpoint of scratch resistance. Rate particles do not hold.
The refractive index of these hollow silica fine particles was measured with an Abbe refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd.).

これらシリカ微粒子または中空状シリカ微粒子の添加量は、低屈折率層の固形分100質量%に対して10〜80質量%が好ましく、20〜70質量%がより好ましく、30〜60質量%が最も好ましい。   The addition amount of these silica fine particles or hollow silica fine particles is preferably 10 to 80% by mass, more preferably 20 to 70% by mass, and most preferably 30 to 60% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the low refractive index layer. preferable.

(高屈折率層)
本発明において高屈折率層は、反射防止フィルムの表面側から低屈折率層の直下にある隣接層であり、前述の低屈折率層よりも屈折率が高い層である。
(High refractive index layer)
In the present invention, the high refractive index layer is an adjacent layer immediately below the low refractive index layer from the surface side of the antireflection film, and is a layer having a higher refractive index than the low refractive index layer.

高屈折率層の屈折率は、1.60〜2.00であることが好ましく、特に1.65〜1.90であることがより好ましく、1.70〜1.85であることが最も好ましい。   The refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.60 to 2.00, more preferably 1.65 to 1.90, and most preferably 1.70 to 1.85. .

また本発明において高屈折率層の膜厚は、高屈折率層内の金属酸化物微粒子を均一に含有させるうる範囲であることが必要であり、150nm以下であることが必須であり、特に20〜150nmであることが好ましく、さらに30〜130nmであることが最も好ましい。   In the present invention, the film thickness of the high refractive index layer must be within a range in which the metal oxide fine particles in the high refractive index layer can be uniformly contained, and it is essential that the film thickness be 150 nm or less. It is preferably ˜150 nm, more preferably 30 to 130 nm.

高屈折率層は、第一の金属酸化物微粒子として屈折率調整の必要に応じて公知の金属酸化物の種類を選択することができるが、特に酸化チタン微粒子または酸化ジルコニウム微粒子を用いることが好ましい。
また第一の金属酸化物微粒子の平均粒径は、高屈折率層内の金属酸化物微粒子を均一に含有させるうる適切な範囲が存在し、50nm以下であることが必須であり、特に5〜40nmであることが好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒径は電子顕微鏡写真などにより測定することができる。
In the high refractive index layer, a known metal oxide type can be selected as the first metal oxide fine particles according to the necessity of adjusting the refractive index, but it is particularly preferable to use titanium oxide fine particles or zirconium oxide fine particles. .
Further, the average particle diameter of the first metal oxide fine particles has an appropriate range in which the metal oxide fine particles in the high refractive index layer can be uniformly contained, and is essential to be 50 nm or less, particularly 5 to 5 nm. It is preferable that it is 40 nm. The average particle diameter of the metal oxide fine particles can be measured by an electron micrograph or the like.

高屈折率層の第一の金属酸化物微粒子は、高屈折率層内の金属酸化物微粒子を均一に含有させる観点から、高屈折率層の全固形分に対して50〜95質量%含有することが好ま
しく、さらに60〜90質量%含有することが好ましい。
The first metal oxide fine particles of the high refractive index layer are contained in an amount of 50 to 95% by mass with respect to the total solid content of the high refractive index layer from the viewpoint of uniformly containing the metal oxide fine particles in the high refractive index layer. It is preferable to contain 60 to 90% by mass.

以下では、含フッ素アルキル基を有するユニットと金属酸化物微粒子を表面修飾する反応基を有するユニットを持つポリマー、そしてポリジアルキルシロキサン基を有するユニットと金属酸化物微粒子を表面修飾する反応基を有するユニットを持つポリマーについて記述する。   Below, a polymer having a unit having a fluorine-containing alkyl group and a unit having a reactive group for modifying the surface of the metal oxide fine particle, and a unit having a polydialkylsiloxane group and a unit having a reactive group for modifying the surface of the metal oxide fine particle A polymer having

・含フッ素アルキル基を有するユニットと金属酸化物微粒子を表面修飾する反応基を有するユニットを持つポリマー
本発明の一つにおいて、第一の金属酸化物微粒子は含フッ素アルキル基を有するユニットと金属酸化物微粒子を表面修飾する反応基を有するユニットを持つポリマーによって表面修飾されている。
A polymer having a unit having a fluorine-containing alkyl group and a unit having a reactive group for modifying the surface of the metal oxide fine particle In one of the present invention, the first metal oxide fine particle has a unit having a fluorine-containing alkyl group and a metal oxide. It is surface-modified by a polymer having a unit having a reactive group that modifies the surface of physical particles.

本発明において含フッ素アルキル基を有するユニットと金属酸化物微粒子を表面修飾する反応基を有するユニットを持つポリマーの質量平均分子量としては、分子量が300未満の成分を除いた場合に、5000〜100000が好ましく、10000〜80000がより好ましく、10000〜50000が最も好ましい。
ここで、質量平均分子量及び分子量は、TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxL、TSKgel G2000HxL(何れも東ソー(株)製の商品名)のカラムを使用したGPC分析装置により、溶媒THF、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量であり、含有量は、分子量が300以上の成分のピーク面積を100%とした場合の、前記分子量範囲のピークの面積%である。
In the present invention, the mass average molecular weight of the polymer having a unit having a fluorine-containing alkyl group and a unit having a reactive group for modifying the surface of the metal oxide fine particles is 5000 to 100,000 when a component having a molecular weight of less than 300 is excluded. Preferably, 10,000 to 80,000 is more preferable, and 10,000 to 50,000 is most preferable.
Here, the mass average molecular weight and the molecular weight are converted to polystyrene by GTH analyzer using a column of TSKgel GMHxL, TSKgel G4000HxL, TSKgel G2000HxL (all trade names manufactured by Tosoh Corporation), and solvent THF and differential refractometer detection. The content is the area% of the peak in the molecular weight range when the peak area of the component having a molecular weight of 300 or more is defined as 100%.

特に含フッ素アルキル基を有するユニットと金属酸化物微粒子を表面修飾する反応基を有するユニットを持つポリマーとしては下記一般式[I]で表される構造を有することが好ましい。   In particular, the polymer having a unit having a fluorine-containing alkyl group and a unit having a reactive group for modifying the surface of the metal oxide fine particles preferably has a structure represented by the following general formula [I].

Figure 2008310119
Figure 2008310119

式中、R1、R2は水素原子またはアルキル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基である。
L1は炭素数10以下の2価の連結基を表し、好ましくは−COO−L’−または−O−L’−(L’はアルキレン基)で表される連結基であり、n1は0または1を表し、好ましくは1である。
Rfは−CFまたは−CFHを表し、好ましくは−CFであり、pは1〜10の整数であり、好ましくは3〜6である。
Lは炭素数10以下の2価の連結基を表し、好ましくは−COO−L’−または−O−L’−(L’はアルキレン基)で表される連結基であり、mは0または1を表す。
Aは水酸基または加水分解可能な基を表し、好ましくはメトキシ基またはエトキシ基で
ある。
xはモル%を表し、好ましくは60〜99.9であり、特に好ましくは70〜95である。
In the formula, R1 and R2 represent a hydrogen atom or an alkyl group, preferably a hydrogen atom or a methyl group.
L1 represents a divalent linking group having 10 or less carbon atoms, preferably a linking group represented by -COO-L'- or -OL- (L 'is an alkylene group), and n1 is 0 or 1 is represented, preferably 1.
Rf represents —CF 3 or —CF 2 H, preferably —CF 3 , and p is an integer of 1 to 10, preferably 3 to 6.
L represents a divalent linking group having 10 or less carbon atoms, and is preferably a linking group represented by —COO-L′— or —O—L′— (L ′ is an alkylene group), and m is 0 or 1 is represented.
A represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group, preferably a methoxy group or an ethoxy group.
x represents mol%, preferably 60 to 99.9, and particularly preferably 70 to 95.

一般式[I]で表される構造を有する含フッ素アルキル基を有するユニットと金属酸化物微粒子を表面修飾する反応基を有するユニットを持つポリマーの具体例を下記表1に示すが、これに限定されるものではない。   Specific examples of the polymer having a unit having a fluorine-containing alkyl group having a structure represented by the general formula [I] and a unit having a reactive group for modifying the surface of the metal oxide fine particles are shown in Table 1 below. Is not to be done.

Figure 2008310119
Figure 2008310119

例えば例I−1は、特開2004−163610号公報に記載されたテロマー法を用いて得られるモノマー「F−5」とアクリル酸3−(トリメトキシシリル)プロピルを所望のモル比となるように有機溶媒中で混合し、汎用のラジカル重合開始剤を添加し、重合させることにより合成することができる。   For example, in Example I-1, the monomer “F-5” obtained using the telomer method described in JP-A No. 2004-163610 and 3- (trimethoxysilyl) propyl acrylate have a desired molar ratio. It can synthesize | combine by mixing in an organic solvent, adding a general purpose radical polymerization initiator, and making it polymerize.

上記一般式[I]で表される構造を有する含フッ素アルキル基を有するユニットと金属酸化物微粒子を表面修飾する反応基を有するユニットを持つポリマーは、無機酸化物微粒子に対して1質量%〜100質量%使用することが好ましく、より好ましくは5質量%〜80質量%であり、更に好ましくは10質量%〜50質量%である。   The polymer having a unit having a fluorine-containing alkyl group having the structure represented by the general formula [I] and a unit having a reactive group for modifying the surface of the metal oxide fine particles is 1% by mass to the inorganic oxide fine particles. It is preferable to use 100 mass%, More preferably, it is 5 mass%-80 mass%, More preferably, it is 10 mass%-50 mass%.

・ポリジアルキルシロキサン基を有するユニットと金属酸化物微粒子を表面修飾する反応基を有するユニットを持つポリマー
本発明の一つにおいて、第一の金属酸化物微粒子はポリジアルキルシロキサン基を有するユニットと金属酸化物微粒子を表面修飾する反応基を有するユニットを持つポリマーによって表面修飾されている。
A polymer having a unit having a polydialkylsiloxane group and a unit having a reactive group for modifying the surface of the metal oxide fine particle In one of the present invention, the first metal oxide fine particle is a unit having a polydialkylsiloxane group and a metal oxide. It is surface-modified by a polymer having a unit having a reactive group that modifies the surface of physical particles.

本発明においてポリジアルキルシロキサン基を有するユニットと金属酸化物微粒子を表面修飾する反応基を有するユニットを持つポリマーの質量平均分子量としては、分子量が300未満の成分を除いた場合に、10000〜200000が好ましく、20000〜150000がより好ましく、30000〜100000が最も好ましい。
ここで、質量平均分子量及び分子量は、TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxL、TSKgel G2000HxL(何れも東ソー(株)製の商品名)のカラムを使用したGPC分析装置により、溶媒THF、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量であり、含有量は、分子量が300以上の成分のピーク面積を100%とした場合の、前記分子量範囲のピークの面積%である。
In the present invention, the mass average molecular weight of the polymer having a unit having a polydialkylsiloxane group and a unit having a reactive group for modifying the surface of the metal oxide fine particles is 10000 to 200000 when a component having a molecular weight of less than 300 is excluded. Preferably, 20000 to 150,000 are more preferable, and 30000 to 100,000 are most preferable.
Here, the mass average molecular weight and the molecular weight are converted to polystyrene by GTH analyzer using a column of TSKgel GMHxL, TSKgel G4000HxL, TSKgel G2000HxL (all trade names manufactured by Tosoh Corporation), and solvent THF and differential refractometer detection. The content is the area% of the peak in the molecular weight range when the peak area of the component having a molecular weight of 300 or more is defined as 100%.

特にポリジアルキルシロキサン基を有するユニットと金属酸化物微粒子を表面修飾する反応基を有するユニットを持つポリマーとしては下記一般式[II]で表される構造を有することが好ましい。   In particular, the polymer having a unit having a polydialkylsiloxane group and a unit having a reactive group for modifying the surface of the metal oxide fine particles preferably has a structure represented by the following general formula [II].

Figure 2008310119
Figure 2008310119

式中、R1、R2は水素原子またはアルキル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基である。
L2は炭素数10以下の2価の連結基を表し、好ましくは−COO−L’−または−O−L’−(L’はアルキレン基)で表される連結基であり、n2は0または1を表し、好ましくは1である。
R11〜R15は同一であっても異なってもよく、それぞれ水素原子または炭素数1〜5のアルキル基またはアリール基を表し、好ましくは全てがメチル基であり、qは10〜500の整数であり、好ましくは10〜200である。
Lは炭素数10以下の2価の連結基を表し、好ましくは−COO−L’−または−O−L’−(L’はアルキレン基)で表される連結基であり、mは0または1を表す。
Aは水酸基または加水分解可能な基を表し、好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。
yはモル%を表し、好ましくは10〜90であり、特に好ましくは30〜90である。
In the formula, R1 and R2 represent a hydrogen atom or an alkyl group, preferably a hydrogen atom or a methyl group.
L2 represents a divalent linking group having 10 or less carbon atoms, preferably a linking group represented by -COO-L'- or -OL- (wherein L 'is an alkylene group), and n2 is 0 or 1 is represented, preferably 1.
R11 to R15 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or an alkyl or aryl group having 1 to 5 carbon atoms, preferably all are methyl groups, and q is an integer of 10 to 500. , Preferably 10 to 200.
L represents a divalent linking group having 10 or less carbon atoms, and is preferably a linking group represented by —COO-L′— or —O—L′— (L ′ is an alkylene group), and m is 0 or 1 is represented.
A represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group, preferably a methoxy group or an ethoxy group.
y represents mol%, preferably 10 to 90, and particularly preferably 30 to 90.

一般式[II]で表される構造を有するポリジアルキルシロキサン基を有するユニットと金属酸化物微粒子を表面修飾する反応基を有するユニットを持つポリマーの具体例を下記表2に示すが、これに限定されるものではない。   Specific examples of the polymer having a unit having a polydialkylsiloxane group having a structure represented by the general formula [II] and a unit having a reactive group for modifying the surface of the metal oxide fine particles are shown in Table 2 below, but are limited thereto. Is not to be done.

Figure 2008310119
Figure 2008310119

例えば例II−1は、チッソ(株)製の片末端サイラプレーン「FM−0711」とアクリル酸3−(トリメトキシシリル)プロピルを所望のモル比となるように有機溶媒中で混合し、汎用のラジカル重合開始剤を添加し、重合させることにより合成することができる。   For example, in Example II-1, one-end silaplane “FM-0711” manufactured by Chisso Corporation and 3- (trimethoxysilyl) propyl acrylate are mixed in an organic solvent so as to have a desired molar ratio. It can synthesize | combine by adding the radical polymerization initiator of and polymerizing.

上記一般式[II]で表されるポリジアルキルシロキサン基を有するユニットと金属酸化物微粒子を表面修飾する反応基を有するユニットを持つポリマーは、無機酸化物微粒子に対して1質量%〜100質量%使用することが好ましく、より好ましくは5質量%〜80質量%であり、更に好ましくは10質量%〜50質量%である。   The polymer having a unit having a polydialkylsiloxane group represented by the general formula [II] and a unit having a reactive group for modifying the surface of the metal oxide fine particles is 1% by mass to 100% by mass with respect to the inorganic oxide fine particles. It is preferable to use, More preferably, it is 5 mass%-80 mass%, More preferably, it is 10 mass%-50 mass%.

さらに高屈折率層は、1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能性モノマーを含有することが好ましい。
多官能性モノマーとしては、1、4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1、6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、3−メチルペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールビスβ‐(メタ)アクリロイルオキシプロピネート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリ(2−ヒドロキシエチル)イソシアネートジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、2、3‐ビス(メタ)アクリロイルオキシエチルオキシメチル[2.2.1]ヘプタン、ポリ1、2−ブタジエンジ(メタ)アクリレート、1、2−ビス(メタ)アクリロイルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラデカンエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、10−デカンジオール(メタ)アクリレート、3、8−ビス(メタ)アクリロイルオキシメチルトリシクロ[5.2.10]デカン、水素添加ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、2、2−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシジエトキシフェニル)プロパン、1、4−ビス((メタ)アクリロイルオキシメチル)シクロヘキサン、ヒドロキシピバリンサンエステルネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、エポキシ変成ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート等を挙げることができる。多官能モノマーは、一種類のみを使用しても良いし、二種類以上を併用しても良い。
Further, the high refractive index layer preferably contains a polyfunctional monomer having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule.
As polyfunctional monomers, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol Di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol bis β- (meth) acryloyloxypropionate, trimethylolethane Tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tri (2-H Roxyethyl) isocyanate di (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, 2,3-bis (meth) acryloyloxyethyloxymethyl [2.2.1] heptane, poly 1,2-butadiene di (meth) acrylate 1,2-bis (meth) acryloyloxymethylhexane, nonaethylene glycol di (meth) acrylate, tetradecanethylene glycol di (meth) acrylate, 10-decanediol (meth) acrylate, 3,8-bis (meth) acryloyl Oxymethyltricyclo [5.2.10] decane, hydrogenated bisphenol A di (meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloyloxydiethoxyphenyl) propane, 1,4-bis ((meta ) Acryloyloxymethyl Examples thereof include cyclohexane, hydroxypivalin sun ester neopentyl glycol di (meth) acrylate, bisphenol A diglycidyl ether di (meth) acrylate, and epoxy-modified bisphenol A di (meth) acrylate. Only one type of polyfunctional monomer may be used, or two or more types may be used in combination.

本発明において、これら多官能性モノマーの添加量は、高屈折率層の固形分100質量%に対して1〜50質量%が好ましく、1〜40質量%がより好ましく、3〜30質量%が最も好ましい。   In the present invention, the addition amount of these polyfunctional monomers is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 1 to 40% by mass, and 3 to 30% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the high refractive index layer. Most preferred.

(中屈折率層)
本発明においては、ハードコート層または防眩層が設けられた透明支持体と高屈折率層の間に中屈折率層を設ける。
中屈折率層の屈折率はハードコート層または防眩層の屈折率と、高屈折率層の中間的な値であるように調節し、値としては1.55〜1.80であることが好ましい。
(Medium refractive index layer)
In the present invention, an intermediate refractive index layer is provided between a transparent support provided with a hard coat layer or an antiglare layer and a high refractive index layer.
The refractive index of the medium refractive index layer is adjusted to be an intermediate value between the refractive index of the hard coat layer or the antiglare layer and the high refractive index layer, and the value is 1.55 to 1.80. preferable.

また本発明において中屈折率層の膜厚は、中屈折率層内の金属酸化物微粒子を均一に含有させるうる範囲であることが必要であり、150nm以下であることが必須であり、特に20〜150nmであることが好ましく、さらに30〜130nmであることが最も好ましい。   In the present invention, the film thickness of the medium refractive index layer must be within a range in which the metal oxide fine particles in the medium refractive index layer can be uniformly contained, and it is essential that the film thickness be 150 nm or less. It is preferably ˜150 nm, more preferably 30 to 130 nm.

また第二の金属酸化物微粒子の平均粒径は、中屈折率層内の金属酸化物微粒子を均一に含有させるうる適切な範囲が存在し、50nm以下であることが必須であり、特に5〜40nmであることが好ましい。   The average particle diameter of the second metal oxide fine particles has an appropriate range in which the metal oxide fine particles in the medium refractive index layer can be uniformly contained, and is essential to be 50 nm or less, particularly 5 to 5 nm. It is preferable that it is 40 nm.

中屈折率層の第二の金属酸化物微粒子は、中屈折率層の全固形分に対して50〜95質量%含有することが好ましく、さらに60〜90質量%含有することが好ましい。   The second metal oxide fine particles in the medium refractive index layer are preferably contained in an amount of 50 to 95% by mass, more preferably 60 to 90% by mass, based on the total solid content of the medium refractive index layer.

本発明において、中屈折率層に含有する第二の金属酸化物微粒子は、前記ポリマーで表面修飾されていないことが好ましく、酸化チタン、酸化ジルコニウムなど中屈折率層の屈折率を調整可能な金属酸化物微粒子であってもよいが、とりわけ導電性の酸化亜鉛系微粒子は、屈折率が1.9〜2.0と適切な範囲にある点、帯電防止性を付与することが可能な点の両方の観点で好ましく用いることができる。
導電性の酸化亜鉛系微粒子は、導電性を発現するために3価の金属元素をドープすることが好ましく、特にアルミニウムをドープしたアルミニウム含有酸化亜鉛微粒子であることが好ましい。
In the present invention, it is preferable that the second metal oxide fine particles contained in the medium refractive index layer are not surface-modified with the polymer, and a metal capable of adjusting the refractive index of the medium refractive index layer, such as titanium oxide and zirconium oxide. Oxide fine particles may be used, but conductive zinc oxide fine particles are particularly suitable in that the refractive index is in an appropriate range of 1.9 to 2.0 and that antistatic properties can be imparted. It can be preferably used from both viewpoints.
The conductive zinc oxide-based fine particles are preferably doped with a trivalent metal element in order to develop conductivity, and are particularly preferably aluminum-containing zinc oxide fine particles doped with aluminum.

・アルミニウム含有酸化亜鉛粒子
アルミニウム含有酸化亜鉛粒子の一次粒径は、通常、5nm〜100nmのものを使用できる。また、結晶構造も特に限定されないが、単斜晶系等を使用できる。アルミニウム含有酸化亜鉛粒子の一次粒径は、例えば、透過型電子顕微鏡観察による数平均粒径として測定することができる。粒子が球形でない場合は、長軸と短軸の平均を粒径とし、長軸/短軸の比が2以上の場合は短軸を粒径とする。
-Aluminum-containing zinc oxide particles The primary particle diameter of aluminum-containing zinc oxide particles can usually be 5 nm to 100 nm. The crystal structure is not particularly limited, but a monoclinic system or the like can be used. The primary particle diameter of the aluminum-containing zinc oxide particles can be measured, for example, as the number average particle diameter by observation with a transmission electron microscope. When the particles are not spherical, the average of the major axis and the minor axis is the particle diameter, and when the ratio of the major axis / minor axis is 2 or more, the minor axis is the particle diameter.

アルミニウム含有酸化亜鉛粒子の形状は球状、中空状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、又は不定形状であり、好ましくは、球状である。
このようなアルミニウム含有酸化亜鉛粒子の市販品としては、ハクスイテック(株)製
商品名:パゼットAB、パゼットAK、パゼットCK、堺化学工業(株)製 商品名:SC−18等が挙げられる。
The aluminum-containing zinc oxide particles have a spherical shape, a hollow shape, a porous shape, a rod shape, a plate shape, a fiber shape, or an indefinite shape, and preferably a spherical shape.
Examples of such commercially available aluminum-containing zinc oxide particles include Hakusui Tech Co., Ltd. trade names: Passet AB, Passet AK, Passet CK, Sakai Chemical Industry Co., Ltd. trade name: SC-18.

さらに中屈折率層は、1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能性モノマーを含有することが好ましい。
多官能性モノマーとしては、高屈折率層の記載と同じである。
これら多官能性モノマーの添加量は、中屈折率層の固形分100質量%に対して1〜50質量%が好ましく、1〜40質量%がより好ましく、3〜30質量%が最も好ましい。
Further, the medium refractive index layer preferably contains a polyfunctional monomer having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule.
The polyfunctional monomer is the same as described for the high refractive index layer.
The addition amount of these polyfunctional monomers is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 1 to 40% by mass, and most preferably 3 to 30% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the medium refractive index layer.

(フィルム基材)
前記フィルム基材は、可視光の光線透過率に優れ(好ましくは光線透過率90%以上)、透明性に優れるもの(好ましくはヘイズ値1%以下)であれば特に制限はない。具体的には、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィルムが挙げられる。また、ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン系ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ないしノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィルムも挙げられる。更に、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマーや前記ポリマーのブレンド物等の透明ポリマーからなるフィルム等も挙げられる。特に光学的に複屈折の少ないものが好適に用いられる。
(Film substrate)
The film substrate is not particularly limited as long as it has an excellent visible light transmittance (preferably a light transmittance of 90% or more) and excellent transparency (preferably a haze value of 1% or less). Specifically, for example, a film made of a transparent polymer such as a polyester polymer such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, a cellulose polymer such as diacetyl cellulose and triacetyl cellulose, a polycarbonate polymer, and an acrylic polymer such as polymethyl methacrylate. Is mentioned. In addition, styrene polymers such as polystyrene and acrylonitrile / styrene copolymer, polyethylene, polypropylene, polyolefins having a cyclic or norbornene structure, olefin polymers such as ethylene / propylene copolymer, vinyl chloride polymers, nylon and aromatic polyamides. Examples thereof include a film made of a transparent polymer such as an amide polymer. Furthermore, imide polymers, sulfone polymers, polyether sulfone polymers, polyether ketone polymers, polyphenylene sulfide polymers, vinyl alcohol polymers, vinylidene chloride polymers, vinyl butyral polymers, arylate polymers, polyoxymethylene polymers Examples thereof include a film made of a transparent polymer such as a polymer, an epoxy-based polymer, and a blend of the aforementioned polymers. In particular, those having a small optical birefringence are preferably used.

本実施の形態に係る反射防止フィルムを保護フィルムとして偏光板に使用する場合には、フィルム基材としては、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、アクリル系ポリマー、環状ないしノルボルネン構造を有するポリオレフィン等が好適である。また、フィルム基材は、後述の偏光子自体であってもよい。この様な構成であると、TAC等からなる保護層を不要とし偏光板の構造を単純化できるので製造工程数を減少させ、生産効率の向上が図れる。また、偏光板を一層薄層化することができる。また、防眩性ハードコートフィルムは、液晶セル表面に装着されるカバープレートとしての機能を兼ねることになる。   When the antireflection film according to the present embodiment is used as a protective film for a polarizing plate, the film base material is preferably triacetyl cellulose, polycarbonate, acrylic polymer, polyolefin having a cyclic or norbornene structure, or the like. . The film base material may be a polarizer itself described later. With such a configuration, a protective layer made of TAC or the like is not required and the structure of the polarizing plate can be simplified, so that the number of manufacturing steps can be reduced and the production efficiency can be improved. Further, the polarizing plate can be further thinned. Further, the antiglare hard coat film also serves as a cover plate attached to the surface of the liquid crystal cell.

フィルム基材の厚さについては適宜に決定しうるが、一般には強度や取り扱い性等の作業性、薄層性等の点を考慮し、10〜500μm程度である。特に20〜300μmが好ましく、30〜200μmがより好ましい。更に、フィルム基材の屈折率としては特に制限されず、通常1.30〜1.80程度、特に1.40〜1.70であることが好ましい。   The thickness of the film substrate can be appropriately determined, but is generally about 10 to 500 μm in consideration of workability such as strength and handleability and thin layer properties. 20-300 micrometers is especially preferable, and 30-200 micrometers is more preferable. Furthermore, it does not restrict | limit especially as a refractive index of a film base material, It is usually about 1.30-1.80, It is especially preferable that it is 1.40-1.70.

(塗布溶媒)
本発明において、高屈折率層および中屈折率層に用いる塗布溶媒としては特に制限はなく、従来知られているものが使用できる。一般的な塗布に使用されるトルエン、メチルエチルケトン、イソブチルケトンなどの溶媒を用いることができる。
(Coating solvent)
In the present invention, the coating solvent used for the high refractive index layer and the medium refractive index layer is not particularly limited, and conventionally known solvents can be used. Solvents such as toluene, methyl ethyl ketone, and isobutyl ketone used for general coating can be used.

(乾燥工程)
本発明において、高屈折率層および中屈折率層の塗布液をフィルム基材またはハードコート層を有するフィルム基材上に塗布した後の乾燥工程には特に制約はなく、中屈折率層と高屈折率層が1の塗布膜から分離した2層である場合や中屈折率層と高屈折率層が同時重層塗布された2層である場合でも通常の塗布後乾燥に使用できる方法を用いることができる。
(Drying process)
In the present invention, there is no particular limitation on the drying step after the coating liquid for the high refractive index layer and the medium refractive index layer is applied on the film substrate or the film substrate having the hard coat layer. Use a method that can be used for normal post-coating drying even when the refractive index layer is two layers separated from the coating film of 1 or when the middle refractive index layer and the high refractive index layer are two layers coated simultaneously. Can do.

(各層の形成方法)
本発明の反射防止フィルムの各層は以下の塗布方法により形成することができるが、この方法に制限されない。
ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法(ダイコート法)(米国特許2681294号明細書参照)、マイクログラビアコート法等の公知の方法が用いられ、その中でもマイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましい。
(Method for forming each layer)
Each layer of the antireflection film of the present invention can be formed by the following coating method, but is not limited to this method.
Dip coating method, air knife coating method, curtain coating method, roller coating method, wire bar coating method, gravure coating method and extrusion coating method (die coating method) (see US Pat. No. 2,681,294), micro gravure coating method, etc. Known methods are used, and among them, the micro gravure coating method and the die coating method are preferable.

ここでマイクログラビアコート法とは、直径が約10〜100mm、好ましくは約20〜50mmで全周にグラビアパターンが刻印されたグラビアロールを支持体の下方に、かつ支持体の搬送方向に対してグラビアロールを逆回転させると共に、該グラビアロールの表面からドクターブレードによって余剰の塗布液を掻き落として、定量の塗布液を前記支持体の上面が自由状態にある位置におけるその支持体の下面に塗布液を転写させて塗工することを特徴とするコート法である。ロール形態の透明支持体を連続的に巻き出し、該巻き出された支持体の一方の側に、少なくとも一層をマイクログラビアコート法によって塗工することができる。   Here, the micro gravure coating method refers to a gravure roll having a diameter of about 10 to 100 mm, preferably about 20 to 50 mm and having a gravure pattern engraved on the entire circumference, below the support and in the transport direction of the support. While rotating the gravure roll in a reverse direction, the surplus coating liquid is scraped off from the surface of the gravure roll by a doctor blade, and a predetermined amount of coating liquid is applied to the lower surface of the support at a position where the upper surface of the support is in a free state. The coating method is characterized in that the coating is performed by transferring the liquid. A roll-shaped transparent support can be continuously unwound, and at least one layer can be coated on one side of the unwound support by a microgravure coating method.

マイクログラビアコート法による塗工条件としては、グラビアロールに刻印されたグラビアパターンの線数は50〜800本/インチが好ましく、100〜300本/インチがより好ましく、グラビアパターンの深度は1〜600μmが好ましく、5〜200μmがより好ましく、グラビアロールの回転数は3〜800rpmであることが好ましく、5〜200rpmであることがより好ましく、支持体の搬送速度は0.5〜100m/分であることが好ましく、1〜50m/分がより好ましい。   As coating conditions by the micro gravure coating method, the number of gravure patterns imprinted on the gravure roll is preferably 50 to 800 lines / inch, more preferably 100 to 300 lines / inch, and the depth of the gravure pattern is 1 to 600 μm. Is preferable, 5 to 200 μm is more preferable, the rotation speed of the gravure roll is preferably 3 to 800 rpm, more preferably 5 to 200 rpm, and the conveyance speed of the support is 0.5 to 100 m / min. It is preferably 1 to 50 m / min.

また本発明において、中屈折率層と高屈折率層が同時重層塗布された2層であるとは、中屈折率層の上に乾燥工程を経ずに高屈折率層をwet on wetで積層することを意味し、それには、押し出しコーターにより乾燥を経ずに逐次重層するか、若しくは複数のスリットを有するスロットダイにて同時重層を行えばよい。
本発明では、複数のスリットを有するスロットダイによる同時重層が好ましい。
In the present invention, the two layers in which the medium refractive index layer and the high refractive index layer are simultaneously coated are that the high refractive index layer is laminated on the medium refractive index layer without wet process. In order to do this, the layers may be sequentially stacked without being dried by an extrusion coater, or may be simultaneously stacked using a slot die having a plurality of slits.
In the present invention, simultaneous multi-layering by a slot die having a plurality of slits is preferable.

(硬化方法)
本発明において、塗布乾燥された反射防止フィルムを熱、およびまたは紫外線照射により硬化することができる。ここで紫外線照射による硬化とは、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等、また、ArFエキシマレーザ、KrFエキシマレーザ、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等の光源を用いて乾燥した膜に紫外線を照射して膜を硬化させることをいう。
照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は20〜10000mJ/cm2が好ましく、さらに好ましくは、100〜2000mJ/cm2であり、特に好ましくは、400〜2000mJ/cm2である。
紫外線による硬化の場合、各層を1層ずつ照射してもよいし、積層後照射してもよい。
(Curing method)
In the present invention, the coated and dried antireflection film can be cured by heat and / or ultraviolet irradiation. Here, curing by ultraviolet irradiation means low pressure mercury lamp, medium pressure mercury lamp, high pressure mercury lamp, ultra high pressure mercury lamp, carbon arc lamp, metal halide lamp, xenon lamp, etc., ArF excimer laser, KrF excimer laser, excimer lamp or synchrotron radiation. This refers to curing the film by irradiating the dried film with ultraviolet light using a light source such as light.
The irradiation conditions vary depending on individual lamps, but the amount of light irradiated is preferably 20~10000mJ / cm 2, more preferably from 100 to 2000 mJ / cm 2, particularly preferably 400~2000mJ / cm 2.
In the case of curing with ultraviolet rays, each layer may be irradiated one by one or after lamination.

〔画像表示装置〕
本発明の反射防止フィルムは、液晶パネル画面の表面フィルムとして使用することが好ましい。
使用される液晶パネルとしては、棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向
させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させるVAモード、さらにそれをマルチドメイン化したMVAモードや、ネマティック液晶に横電界をかけてスイッチングする方式のIPSモード、さらに棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に対称的に配向させるOCBモードが、視野角が広いモードであるため本発明の反射防止フィルムを好ましく使用することができる。
さらに液晶パネルは、高精細なものほど本発明の反射防止フィルムを好ましく使用することができ、特に画素数が1920×1080または1440×1080のフルスペックハイビジョンと称される高解像度の液晶パネルに好ましく用いることができる。
(Image display device)
The antireflection film of the present invention is preferably used as a surface film of a liquid crystal panel screen.
The liquid crystal panel used includes a VA mode in which rod-like liquid crystal molecules are aligned substantially vertically when no voltage is applied, and is horizontally aligned when a voltage is applied, and an MVA mode in which the multi-domain is formed, and a nematic The IPS mode in which switching is performed by applying a lateral electric field to the liquid crystal, and the OCB mode in which rod-like liquid crystalline molecules are aligned substantially symmetrically at the upper and lower portions of the liquid crystal cell are modes having a wide viewing angle. The antireflection film can be preferably used.
Furthermore, the higher the resolution of the liquid crystal panel, the more preferably the antireflection film of the present invention can be used. In particular, the liquid crystal panel is preferably used for a high-resolution liquid crystal panel called full-spec high-definition having 1920 × 1080 or 1440 × 1080. Can be used.

以下本発明を実施例によって詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

〔比較例1:反射防止フィルム101〕
(ハードコート層用塗布液Aの調製)
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌してハードコート層塗布液とした。
トリメチロールプロパントリアクリレート(ビスコート#295(大阪有機化学(株)製)750.0質量部に、質量平均分子量15000のポリ(グリシジルメタクリレート)270.0質量部、メチルエチルケトン730.0質量部、シクロヘキサノン500.0質量部及び光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)50.0質量部を添加して攪拌した。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液Aを調製した。
[Comparative Example 1: Antireflection film 101]
(Preparation of coating liquid A for hard coat layer)
The following composition was put into a mixing tank and stirred to obtain a hard coat layer coating solution.
750.0 parts by mass of trimethylolpropane triacrylate (Biscoat # 295 (manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.)), 270.0 parts by mass of poly (glycidyl methacrylate) having a mass average molecular weight of 15000, 730.0 parts by mass of methyl ethyl ketone, 500 cyclohexanone 0.0 parts by mass and 50.0 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) were added and stirred, and filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to form a hard coat layer. Coating solution A was prepared.

(中屈折率層用塗布液Aの調製)
アルミニウム含有酸化亜鉛微粒子分散液(A−1)の調製
アルミニウム含有酸化亜鉛微粒子(ハクスイテック(株)製、パゼットCK(商品名)、一次粒径30nm)、分散剤(楠本化成(株)製、PLAAD ED211(商品名)
:数平均分子量40,000の高分子ポリカルボン酸のアミドアミン塩、固形分量50%)、メチルエチルケトンを、30/3/67(質量比)の配合量で混合した。この分散液をアルミ皿に2g秤量後、175℃のホットプレート上で1時間乾燥、秤量して固形分含量を求めたところ、33%であった。また、この分散液を磁性るつぼに2g秤量後、80℃のホットプレート上で30分予備乾燥し、750℃のマッフル炉中で1時間焼成した後の無機残渣より、固形分中の無機含量を求めたところ、30%であった。
ペイントシェーカの50mlポリ瓶に、ガラスビーズ40g(TOSHINRIKO製、BZ−01、ビーズ径0.1mm、体積約16ml)と上記混合液(30g)を入れて8時間分散し、アルミニウム含有酸化亜鉛微粒子分散液(A−1)を得た。
(Preparation of coating liquid A for medium refractive index layer)
Preparation of Aluminum-Containing Zinc Oxide Fine Particle Dispersion (A-1) Aluminum-Containing Zinc Oxide Fine Particles (manufactured by Hakusui Tech Co., Ltd., Passetto CK (trade name), primary particle size 30 nm), dispersant (manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd., PLAAD) ED211 (product name)
: High molecular polycarboxylic acid amidoamine salt having a number average molecular weight of 40,000, solid content 50%) and methyl ethyl ketone were mixed in a blending amount of 30/3/67 (mass ratio). 2 g of this dispersion was weighed on an aluminum dish, dried on a hot plate at 175 ° C. for 1 hour, and weighed to determine the solid content, which was 33%. Also, 2 g of this dispersion was weighed into a magnetic crucible, pre-dried on a hot plate at 80 ° C. for 30 minutes, and baked in a muffle furnace at 750 ° C. for 1 hour. When calculated, it was 30%.
In a 50 ml plastic bottle of a paint shaker, 40 g of glass beads (manufactured by TOSHINRIKO, BZ-01, bead diameter 0.1 mm, volume of about 16 ml) and the above mixed solution (30 g) are dispersed for 8 hours, and aluminum-containing zinc oxide fine particles are dispersed A liquid (A-1) was obtained.

アルミニウム含有酸化亜鉛微粒子分散液(A−1)21.0質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)2.7質量部、光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.1質量部、メチルエチルケトン73.7質量部およびシクロヘキサノン2.5質量部を添加して攪拌し、中屈折率層用塗布液Aを調製した。   21.0 parts by mass of the aluminum-containing zinc oxide fine particle dispersion (A-1), 2.7 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), a photopolymerization initiator (Irgacure 184, Ciba -Specialty Chemicals Co., Ltd.) 0.1 mass part, methyl ethyl ketone 73.7 mass part, and cyclohexanone 2.5 mass part were added and stirred, and the coating liquid A for medium refractive index layers was prepared.

(高屈折率層用塗布液Aの調製)
酸化ジルコニウム微粒子ゾル(メチルエチルケトン酸化ジルコニウムゾル、住友大阪セメント(株)製 平均粒子径10nm、酸化ジルコニウム質量濃度30%)21.0質量
部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)2.7質量部、光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.1質量部、メチルエチルケトン73.7質量部およびシクロヘキサノン2.5質量部を添加して攪拌し、高屈折率層用塗布液Aを調
製した。
(Preparation of coating liquid A for high refractive index layer)
A mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate in 21.0 parts by mass of zirconium oxide fine particle sol (methyl ethyl ketone zirconium sol, average particle diameter 10 nm, zirconium oxide mass concentration 30%, manufactured by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.) DPHA) 2.7 parts by mass, 0.1 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), 73.7 parts by mass of methyl ethyl ketone and 2.5 parts by mass of cyclohexanone were added and stirred. Then, a coating solution A for a high refractive index layer was prepared.

(低屈折率層用塗布液の調製)
(パーフルオロオレフィン共重合体P−1の合成)
(Preparation of coating solution for low refractive index layer)
(Synthesis of perfluoroolefin copolymer P-1)

Figure 2008310119
Figure 2008310119

上記構造式中、50:50はモル比を表す。   In the above structural formula, 50:50 represents a molar ratio.

内容量100mlのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル40ml、ヒドロキシエチルビニルエーテル14.7gおよび過酸化ジラウロイル0.55gを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン(HFP)25gをオートクレーブ中に導入して65℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が65℃に達した時点の圧力は、0.53MPa(5.4kg/cm2)であった。該温度を保持し
8時間反応を続け、圧力が0.31MPa(3.2kg/cm2)に達した時点で加熱を
やめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから2回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー28gを得た。次に該ポリマーの20gをN,N−ジメチルアセトアミド100mlに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド11.4gを滴下した後、室温で10時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体P−1を19g得た。得られたポリマーの屈折率は1.422であった。
Into a stainless steel autoclave with a stirrer of 100 ml, 40 ml of ethyl acetate, 14.7 g of hydroxyethyl vinyl ether and 0.55 g of dilauroyl peroxide were charged, and the inside of the system was deaerated and replaced with nitrogen gas. Furthermore, 25 g of hexafluoropropylene (HFP) was introduced into the autoclave and the temperature was raised to 65 ° C. The pressure when the temperature in the autoclave reached 65 ° C. was 0.53 MPa (5.4 kg / cm 2 ). The reaction was continued for 8 hours while maintaining the temperature, and when the pressure reached 0.31 MPa (3.2 kg / cm 2 ), the heating was stopped and the mixture was allowed to cool. When the internal temperature dropped to room temperature, unreacted monomers were driven out, the autoclave was opened, and the reaction solution was taken out. The obtained reaction solution was poured into a large excess of hexane, and the polymer was precipitated by removing the solvent by decantation. Further, this polymer was dissolved in a small amount of ethyl acetate and reprecipitated twice from hexane to completely remove the residual monomer. After drying, 28 g of polymer was obtained. Next, 20 g of the polymer was dissolved in 100 ml of N, N-dimethylacetamide, and 11.4 g of acrylic acid chloride was added dropwise under ice cooling, followed by stirring at room temperature for 10 hours. Ethyl acetate was added to the reaction solution, washed with water, the organic layer was extracted and concentrated, and the resulting polymer was reprecipitated with hexane to obtain 19 g of perfluoroolefin copolymer P-1. The resulting polymer had a refractive index of 1.422.

(ゾル液aの調製)
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン120部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−5103、信越化学工業(株)製)100部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート(商品名:ケロープEP−12、ホープ製薬(株)製)3部を加え混合したのち、イオン交換水31部を加え、61℃で4時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液aを得た。質量平均分子量は1620であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が1000〜20000の成分は100%であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
(Preparation of sol solution a)
A stirrer, a reactor equipped with a reflux condenser, 120 parts of methyl ethyl ketone, 100 parts of acryloyloxypropyltrimethoxysilane (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), diisopropoxyaluminum ethyl acetoacetate (trade name: Kerope EP) -12, manufactured by Hope Pharmaceutical Co., Ltd.) 3 parts were added and mixed, and then 31 parts of ion exchange water was added and reacted at 61 ° C. for 4 hours, followed by cooling to room temperature to obtain sol solution a. The mass average molecular weight was 1620, and among the components higher than the oligomer component, the component having a molecular weight of 1000 to 20000 was 100%. Further, from the gas chromatography analysis, the raw material acryloyloxypropyltrimethoxysilane did not remain at all.

(中空シリカ粒子分散液の調製)
中空シリカ粒子微粒子ゾル(イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業(株)製CS60−IPA、平均粒子径60nm、シエル厚み10nm、シリカ濃度20%、シリカ粒子の屈折率1.31)500部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン30.5部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート1.51部加え混合した後に、イオン交換水9部を加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し
、アセチルアセトン1.8部を添加し、分散液を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力30Torrで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度18.2%の分散液を得た。得られた分散液のIPA残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ0.5%以下であった。
(Preparation of hollow silica particle dispersion)
Hollow silica particle fine particle sol (isopropyl alcohol silica sol, CS60-IPA manufactured by Catalytic Chemical Industry Co., Ltd., average particle diameter 60 nm, shell thickness 10 nm, silica concentration 20%, silica particle refractive index 1.31) in 500 parts, acryloyloxy After 30.5 parts of propyltrimethoxysilane and 1.51 parts of diisopropoxyaluminum ethyl acetate were added and mixed, 9 parts of ion-exchanged water was added. After reacting at 60 ° C. for 8 hours, the mixture was cooled to room temperature, and 1.8 parts of acetylacetone was added to obtain a dispersion. Then, while adding cyclohexanone so that the silica content was substantially constant, the solvent was replaced by distillation under reduced pressure at a pressure of 30 Torr. Finally, a dispersion having a solid content concentration of 18.2% was obtained by adjusting the concentration. When the amount of IPA remaining in the obtained dispersion was analyzed by gas chromatography, it was 0.5% or less.

得られた中空シリカ粒子分散液やゾル液を用いて、下記組成の組成物を混合し、得られた溶液を攪拌後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Aを調製した。   Using the obtained hollow silica particle dispersion or sol solution, a composition having the following composition is mixed, and the resulting solution is stirred and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to obtain a coating solution for a low refractive index layer. A was prepared.

(低屈折率層用塗布液Aの組成)
DPHA 1.6g
P−1 6.3g
中空シリカ粒子分散液(18.2%) 60.0g
RMS−033 0.5g
イルガキュア907 0.3g
ゾル液a 7.4g
MEK 263.9g
シクロヘキサノン 10.0g
(Composition of coating liquid A for low refractive index layer)
DPHA 1.6g
P-1 6.3g
Hollow silica particle dispersion (18.2%) 60.0 g
RMS-033 0.5g
Irgacure 907 0.3g
Sol liquid a 7.4 g
MEK 263.9g
Cyclohexanone 10.0g

それぞれ使用した化合物を以下に示す。
・ P−1 : パーフルオロオレフィン共重合体P−1
・ DPHA : ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(日本化薬(株)製)
・ 中空シリカ粒子分散液 : 前記アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランで表面修飾した中空シリカ粒子ゾル、固形分濃度18.2%。
・ MEK : メチルエチルケトン
・ RMS−033 : 反応性シリコーン(Gelest(株)製)
・ イルガキュア907 : 光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)
The compounds used are shown below.
P-1: Perfluoroolefin copolymer P-1
DPHA: Mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
Hollow silica particle dispersion: Hollow silica particle sol surface-modified with the acryloyloxypropyltrimethoxysilane, solid content concentration 18.2%.
MEK: methyl ethyl ketone RMS-033: reactive silicone (manufactured by Gelest Co., Ltd.)
・ Irgacure 907: Photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)

(ハードコート層Aの作製)
層厚80μmの透明支持体としてのトリアセチルセルロースフィルム(TD80UF、富士フィルム(株)製、屈折率1.48)上に、前記組成のハードコート層用塗布液Aをグラビアコーターを用いて塗布した。100℃で乾燥した後、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量300mJ
/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ8μmのハードコート層Aを形成し
た。
(Preparation of hard coat layer A)
On a triacetyl cellulose film (TD80UF, manufactured by Fuji Film Co., Ltd., refractive index 1.48) as a transparent support having a layer thickness of 80 μm, the hard coat layer coating solution A having the above composition was applied using a gravure coater. . After drying at 100 ° C., an irradiance of 400 mW / cm using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) of 160 W / cm while purging with nitrogen so that the oxygen concentration becomes 1.0 vol% or less. 2. Irradiation amount 300mJ
The hardened layer A having a thickness of 8 μm was formed by curing the coating layer by irradiating UV light of / cm 2 .

(中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の作製)
以上のハードコート層Aの上に、中屈折率層用塗布液A、高屈折率層用塗布液A、低屈折率層用塗布液Aをグラビアコーターを用いて逐次塗布した。
中屈折率層は、屈折率1.62、膜厚60nm、高屈折率層は、屈折率1.72、膜厚110nm、低屈折率層は、屈折率1.36、膜厚90nmであった。なお、各層の屈折率の測定は、各層の塗布液を約4μmの厚みになるようにガラス板に塗布し、アッベ屈折率計(アタゴ(株)製)にて測定した。各層の膜厚は反射分光膜厚計“FE−3000”(大塚電子(株)製)を用いて、算出した。
(Preparation of medium refractive index layer, high refractive index layer, low refractive index layer)
On the above hard coat layer A, the medium refractive index layer coating liquid A, the high refractive index layer coating liquid A, and the low refractive index layer coating liquid A were sequentially applied using a gravure coater.
The middle refractive index layer had a refractive index of 1.62 and a film thickness of 60 nm, the high refractive index layer had a refractive index of 1.72 and a film thickness of 110 nm, and the low refractive index layer had a refractive index of 1.36 and a film thickness of 90 nm. . In addition, the measurement of the refractive index of each layer applied the coating liquid of each layer to the glass plate so that it might become a thickness of about 4 micrometers, and measured it with the Abbe refractometer (made by Atago Co., Ltd.). The film thickness of each layer was calculated using a reflection spectral film thickness meter “FE-3000” (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.).

中屈折率層の乾燥条件は90℃、30秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら180W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量400mJ/cm2の照射量とした。 The medium refractive index layer was dried at 90 ° C. for 30 seconds, and the ultraviolet curing condition was 180 W / cm air-cooled metal halide lamp (eye graphics) while purging with nitrogen so that the atmosphere had an oxygen concentration of 1.0% by volume or less. ), And the irradiation dose was 400 mW / cm 2 and the irradiation dose was 400 mJ / cm 2 .

高屈折率層の乾燥条件は90℃、30秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量400mJ/cm2の照射量とした。 The drying condition of the high refractive index layer is 90 ° C. for 30 seconds, and the ultraviolet curing condition is a 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (eye graphics) while purging with nitrogen so that the atmosphere has an oxygen concentration of 1.0% by volume or less. ), And the irradiation dose was 400 mW / cm 2 and the irradiation dose was 400 mJ / cm 2 .

低屈折率層の乾燥条件は90℃、30秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が0.1体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量600mJ/cm2の照射量とした。 The low refractive index layer was dried at 90 ° C. for 30 seconds, and the ultraviolet curing condition was 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (eye graphics) while purging with nitrogen so that the atmosphere had an oxygen concentration of 0.1% by volume or less. ), And the irradiation dose was 400 mW / cm 2 and the irradiation dose was 600 mJ / cm 2 .

〔実施例1:反射防止フィルム102〕
比較例1に示した反射防止フィルム101の作製方法における高屈折率層塗布液Aを以下に記載する高屈折率層塗布液Bに変更し、さらに中屈折率層と高屈折率層の塗布方法を下記方法に変更した以外は比較例1と全く同じ作製方法により反射防止フィルム102を作製した。
[Example 1: Antireflection film 102]
The high refractive index layer coating solution A in the method for producing the antireflection film 101 shown in Comparative Example 1 is changed to the high refractive index layer coating solution B described below, and further a coating method for the medium refractive index layer and the high refractive index layer. The antireflection film 102 was produced by the same production method as in Comparative Example 1 except that the following method was changed.

(酸化ジルコニウム分散液Z−1の調製)
酸化ジルコニウム微粒子ゾル(メチルエチルケトン酸化ジルコニウムゾル、住友大阪セメント(株)製 平均粒子径10nm、酸化ジルコニウム濃度30%)333部に、一般
式[I]の例I−1を30部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート1.5部加え混合した後に、イオン交換水9部を加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、含フッ素アルキル基を有するポリマーで表面修飾した酸化ジルコニウム微粒子分散液Z−1を得た。
酸化ジルコニウム分散液Z−1の酸化ジルコニウムの質量濃度は30%に調節した。
(Preparation of zirconium oxide dispersion Z-1)
Zirconium oxide fine particle sol (methyl ethyl ketone zirconium oxide sol, Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. average particle size 10 nm, zirconium oxide concentration 30%), 333 parts, 30 parts of Example I-1 of general formula [I], and diisopropoxy After adding 1.5 parts of aluminum ethyl acetoacetate and mixing, 9 parts of ion-exchanged water was added. After reacting at 60 ° C. for 8 hours, the mixture was cooled to room temperature to obtain zirconium oxide fine particle dispersion Z-1 whose surface was modified with a polymer having a fluorine-containing alkyl group.
The mass concentration of zirconium oxide in the zirconium oxide dispersion Z-1 was adjusted to 30%.

(高屈折率層用塗布液Bの調製)
酸化ジルコニウム微粒子分散液Z−1(酸化ジルコニウム質量濃度30%)21.0質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)2.7質量部、光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.1質量部、メチルエチルケトン73.7質量部およびシクロヘキサノン2.5質量部を添加して攪拌し、高屈折率層用塗布液Bを調製した。
(Preparation of coating liquid B for high refractive index layer)
Zirconium oxide fine particle dispersion Z-1 (zirconium oxide mass concentration 30%) 21.0 parts by mass, dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate mixture (DPHA) 2.7 parts by mass, photopolymerization initiator ( Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 0.1 parts by mass, 73.7 parts by mass of methyl ethyl ketone and 2.5 parts by mass of cyclohexanone were added and stirred to prepare a coating solution B for a high refractive index layer. .

(中屈折率層および高屈折率層の塗布方法)
2スロットの押し出しコーターを用いwet on wetにて同時に重層塗布を行った。
(Method of applying medium refractive index layer and high refractive index layer)
Multi-layer coating was simultaneously performed on a wet-on-wet using a two-slot extrusion coater.

尚膜厚については単層で塗布した場合の流量に従って設定した。
(第1スロット;中屈折率層)
・塗布液:中屈折率層塗布液A
塗布液の流量は乾燥硬化後の膜厚が60nmになるように調整した。
(第2スロット;高屈折率層)
・塗布液:高屈折率層塗布液B
塗布液の流量は乾燥硬化後の膜厚が110nmになるように調整した。
The film thickness was set according to the flow rate when applied as a single layer.
(First slot; medium refractive index layer)
-Coating solution: Medium refractive index layer coating solution A
The flow rate of the coating solution was adjusted so that the film thickness after drying and curing was 60 nm.
(Second slot; high refractive index layer)
・ Coating liquid: High refractive index layer coating liquid B
The flow rate of the coating solution was adjusted so that the film thickness after drying and curing was 110 nm.

乾燥条件は90℃、30秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグ
ラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量400mJ/cm2の照射量とした。
フィルム断面切片を透過型で電子顕微鏡にて観察すると、高屈折率層と中屈折率層の界面が存在し、高屈折率層の厚みは約110nm、中屈折率層の厚みは約60nmであった。
上述の中屈折率層と高屈折率層の塗布を実施した後に反射防止フィルム101と同一条件で低屈折率層Aを塗布、乾燥、硬化し、反射防止フィルム102を作製した。
Drying conditions were 90 ° C. and 30 seconds, and ultraviolet curing conditions were 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) while purging with nitrogen so that the atmosphere had an oxygen concentration of 1.0 volume% or less. The irradiance was 400 mW / cm 2 and the irradiation amount was 400 mJ / cm 2 .
When the cross section of the film was observed with a transmission type electron microscope, there was an interface between the high refractive index layer and the middle refractive index layer, the thickness of the high refractive index layer was about 110 nm, and the thickness of the middle refractive index layer was about 60 nm. It was.
After applying the above-described medium refractive index layer and high refractive index layer, the low refractive index layer A was applied, dried and cured under the same conditions as the antireflective film 101 to produce the antireflective film 102.

〔実施例2:反射防止フィルム103〕
比較例1に示した反射防止フィルム101の作製方法における中屈折率層および高屈折率層の塗布液を、下記中屈折率層と高屈折率層の1液2層塗布液W−1に変更して1液性とし、さらに塗布方法を下記の中屈折率層と高屈折率層の1液2層塗布液の塗布方法に変更した以外は比較例1と全く同じ作製方法により反射防止フィルム103を作製した。
[Example 2: Antireflection film 103]
The coating liquid for the medium refractive index layer and the high refractive index layer in the method for producing the antireflection film 101 shown in Comparative Example 1 was changed to the following one-liquid / two-layer coating liquid W-1 for the middle refractive index layer and the high refractive index layer. The antireflection film 103 was prepared by the same production method as in Comparative Example 1 except that the coating method was changed to the coating method of the following one-liquid / two-layer coating liquid of the medium refractive index layer and the high refractive index layer. Was made.

(中屈折率層と高屈折率層の1液2層塗布液W−1の調製)
酸化ジルコニウム微粒子分散液Z−1(酸化ジルコニウム質量濃度30%)13.6質量部とアルミニウム含有酸化亜鉛微粒子分散液(A−1)7.4質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)2.7質量部、光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.1質量部、メチルエチルケトン73.7質量部およびシクロヘキサノン2.5質量部を添加して攪拌し、中屈折率層と高屈折率層の1液2層塗布液W−1を調製した。
(Preparation of 1-liquid 2-layer coating liquid W-1 for medium refractive index layer and high refractive index layer)
Zirconium oxide fine particle dispersion Z-1 (zirconium oxide mass concentration 30%) 13.6 parts by mass and aluminum-containing zinc oxide fine particle dispersion (A-1) 7.4 parts by mass were dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol. 2.7 parts by mass of a hexaacrylate mixture (DPHA), 0.1 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), 73.7 parts by mass of methyl ethyl ketone, and 2.5 parts by mass of cyclohexanone Was added and stirred to prepare a one-liquid two-layer coating liquid W-1 having a medium refractive index layer and a high refractive index layer.

(中屈折率層と高屈折率層の1液2層塗布液の塗布方法)
ハードコート層Aの上に、中屈折率層と高屈折率層の1液2層塗布液W−1をグラビアコーターを用いて塗布した。膜厚は170nmになるように調整した。
乾燥条件は90℃、30秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量400mJ/cm2の照射量とした。
フィルム断面切片を透過型で電子顕微鏡にて観察すると、高屈折率層と中屈折率層の界面が存在し、高屈折率層の厚みは約110nm、中屈折率層の厚みは約60nmであった。
(Coating method of 1-liquid 2-layer coating liquid of medium refractive index layer and high refractive index layer)
On the hard coat layer A, the one- and two-layer coating liquid W-1 having a medium refractive index layer and a high refractive index layer was applied using a gravure coater. The film thickness was adjusted to 170 nm.
Drying conditions were 90 ° C. and 30 seconds, and ultraviolet curing conditions were 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) while purging with nitrogen so that the oxygen concentration was 1.0% by volume or less. The irradiance was 400 mW / cm 2 and the irradiation amount was 400 mJ / cm 2 .
When the cross section of the film was observed with a transmission type electron microscope, there was an interface between the high refractive index layer and the middle refractive index layer, the thickness of the high refractive index layer was about 110 nm, and the thickness of the middle refractive index layer was about 60 nm. It was.

上述の中屈折率層と高屈折率層の1液2層塗布液の塗布を実施した後に反射防止フィルム101と同一条件で低屈折率層Aを塗布、乾燥、硬化し、反射防止フィルム103を作製した。   After applying the one- and two-layer coating solution of the above-described medium refractive index layer and high refractive index layer, the low refractive index layer A is applied, dried and cured under the same conditions as the antireflection film 101, and the antireflection film 103 is formed. Produced.

〔評価方法〕
上記各反射防止フィルム(101、102,103)を以下の方法で評価した。
〔Evaluation methods〕
Each of the antireflection films (101, 102, 103) was evaluated by the following method.

(積分反射率)
フィルムの裏面をサンドペーパーで粗面化した後に黒色インクで処理し、裏面反射をなくした状態で、表面側を、分光光度計(日本分光(株)製)を用いて、380〜780nmの波長領域において、入射角5°における積分分光反射率を測定した。結果には450〜650nmの積分反射率の算術平均値を用いた。
(Integral reflectance)
The back side of the film was roughened with sandpaper, then treated with black ink, and the back side was removed, and the surface side was 380 to 780 nm using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation). In the region, the integrated spectral reflectance at an incident angle of 5 ° was measured. The arithmetic average value of the integrated reflectance of 450 to 650 nm was used for the result.

(反射光色ムラ)
各試料の反射防止フィルム1mを白色蛍光灯下で目視観察し、反射光の色ムラの発生頻度を以下の3段階に分類、評価した。
○:反射光色ムラが1mに全く認められなかったもの。
△:反射光色ムラが1mに1箇所のもの。
×:反射光色ムラが1mに2箇所以上のもの。
(Reflective color unevenness)
The antireflection film 1m 2 of each sample was visually observed under a white fluorescent lamp, and the occurrence frequency of color unevenness of reflected light was classified and evaluated in the following three stages.
○: Reflected light color unevenness was not recognized at 1 m 2 at all.
Δ: Reflected light color unevenness at one location per 1 m 2 .
X: Reflected light color unevenness is 2 or more in 1 m 2 .

(密着性)
反射防止フィルムの低屈折率層を有する側の表面にカッターナイフで碁盤目状に縦11本、横11本の切り込みを入れて合計100個の正方形の升目を刻み、日東電工(株)製のポリエステル粘着テープ(NO.31B)を圧着して密着試験を同じ場所で繰り返し5回行った。剥がれの度合いを以下の4段階で評価した。
◎:100個の升目中に剥がれが全く認められなかったもの。
○:100個の升目中に剥がれが認められたものが2升以内のもの。
△:100個の升目中に剥がれが認められたものが3〜10升のもの。
×:100個の升目中に剥がれが認められたものが10升を越えたもの。
(Adhesion)
The surface of the antireflective film having the low refractive index layer is cut with a cutter knife into a grid pattern with 11 vertical and 11 horizontal cuts, and a total of 100 square grids are engraved, made by Nitto Denko Corporation. A polyester adhesive tape (NO. 31B) was pressure-bonded and the adhesion test was repeated 5 times at the same place. The degree of peeling was evaluated according to the following four levels.
A: No peeling was observed in 100 squares.
○: Within 100 squares, peeling was observed within 2 squares.
(Triangle | delta): The thing by which peeling was recognized in 100 squares is a thing of 3-10cm.
X: A thing in which peeling was recognized in 100 squares exceeded 10 squares.

(表面抵抗値)
反射防止フィルムの低屈折率層を有する側の面について、25℃60%RH環境下に2時間置いた後に同条件下で表面抵抗値(SR)を円電極法で測定した。測定結果は、表面抵抗値の対数(logSR)で表した。
logSR値は11以下であれば、充分な帯電防止効果がある。
以上の評価方法に従った評価結果を下記表3に示した。
(Surface resistance value)
The surface of the antireflection film having the low refractive index layer was placed in an environment of 25 ° C. and 60% RH for 2 hours, and then the surface resistance value (SR) was measured by the circular electrode method under the same conditions. The measurement result was expressed as a logarithm of the surface resistance value (log SR).
If the log SR value is 11 or less, there is a sufficient antistatic effect.
The evaluation results according to the above evaluation method are shown in Table 3 below.

Figure 2008310119
Figure 2008310119

表3から分るように、比較例1では中屈折率層、高屈折率層が層別に逐次塗布されたため、反射光色ムラがあり、密着性がやや劣る。それに対し、本発明の実施例1では、中屈折率層、高屈折率層を1度の塗布で形成しており、生産効率が高く、密着性に優れた結果が得られた。実施例1の反射防止フィルム102が密着性に優れているのは、1度の塗布で同時重層塗布を行ったため、層の界面結合が良好であったためだと考えられる。
一方、実施例2では、中屈折率層、高屈折率層を1層塗布で2層分離させているので、
比較例1の反射防止フィルム101で実施された層別の逐次塗布に対して膜厚の変動が少ない。そのために実施例2の反射防止フィルム103は反射光色ムラが少なくなっていると考えられる。また、実施例2では1層塗布で2層分離させているので層の界面結合が良好であり、良好な密着性が得られたと考えられる。
これらの比較から、本発明によれば、高屈折率層と中屈折率層を1度の塗布工程で形成することができ、従来技術に比して優れた特性が得られることが分った。
As can be seen from Table 3, in Comparative Example 1, since the medium refractive index layer and the high refractive index layer were sequentially applied layer by layer, there was reflected light color unevenness and adhesion was slightly inferior. On the other hand, in Example 1 of the present invention, the medium refractive index layer and the high refractive index layer were formed by a single application, and the production efficiency was high and the result of excellent adhesion was obtained. The reason why the antireflection film 102 of Example 1 is excellent in adhesiveness is considered to be that the interfacial bonding of the layers was good because the simultaneous multilayer coating was performed by one coating.
On the other hand, in Example 2, since the medium refractive index layer and the high refractive index layer are separated into two layers by one-layer coating,
The variation in film thickness is small with respect to the sequential application by layer performed by the antireflection film 101 of Comparative Example 1. Therefore, it is considered that the antireflection film 103 of Example 2 has less reflected light color unevenness. Moreover, in Example 2, since two layers were separated by one-layer coating, the interface bonding of the layers was good, and it is considered that good adhesion was obtained.
From these comparisons, it was found that according to the present invention, the high refractive index layer and the medium refractive index layer can be formed by a single coating process, and excellent characteristics can be obtained as compared with the prior art. .

〔実施例3:反射防止フィルム201〕
実施例1(反射防止フィルム102)の高屈折率層塗布液Bを下記高屈折率層塗布液Cに変更した以外は、実施例1と同様にして反射防止フィルム201を作製した。
[Example 3: Antireflection film 201]
An antireflection film 201 was produced in the same manner as in Example 1 except that the high refractive index layer coating solution B of Example 1 (antireflection film 102) was changed to the following high refractive index layer coating solution C.

(酸化ジルコニウム分散液Z−2の調製)
ポリジアルキルシロキサン基を有するポリマーとして、一般式[II]の例II−1を用いて表面を修飾した金属酸化物微粒子分散液を以下の方法で調製した。
酸化ジルコニウム微粒子ゾル(メチルエチルケトン酸化ジルコニウムゾル、住友大阪セメント(株)製 平均粒子径10nm、酸化ジルコニウム濃度30%)333部に、一般
式[II]の例II−1を40部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート1.5部加え混合した後に、イオン交換水9部を加えた。80℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、ポリジアルキルシロキサン基を有するポリマーで表面修飾した酸化ジルコニウム微粒子分散液Z−2を得た。
酸化ジルコニウム分散液Z−2の酸化ジルコニウムの質量濃度は30%に調節した。
(Preparation of zirconium oxide dispersion Z-2)
As a polymer having a polydialkylsiloxane group, a metal oxide fine particle dispersion whose surface was modified using Example II-1 of the general formula [II] was prepared by the following method.
Zirconium oxide fine particle sol (methyl ethyl ketone zirconium oxide sol, manufactured by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd., average particle size 10 nm, zirconium oxide concentration 30%), 333 parts, 40 parts of Example II-1 of general formula [II], and diisopropoxy After adding 1.5 parts of aluminum ethyl acetoacetate and mixing, 9 parts of ion-exchanged water was added. After reacting at 80 ° C. for 8 hours, the mixture was cooled to room temperature to obtain zirconium oxide fine particle dispersion Z-2 whose surface was modified with a polymer having a polydialkylsiloxane group.
The mass concentration of zirconium oxide in the zirconium oxide dispersion Z-2 was adjusted to 30%.

(高屈折率層用塗布液Cの調製)
上記酸化ジルコニウム微粒子分散液Z−2(酸化ジルコニウム質量濃度30%)21.0質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)2.7質量部、光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.1質量部、メチルエチルケトン73.7質量部およびシクロヘキサノン2.5質量部を添加して攪拌し、高屈折率層用塗布液Cを調製した。
(Preparation of coating liquid C for high refractive index layer)
Zirconium oxide fine particle dispersion Z-2 (zirconium oxide mass concentration 30%) 21.0 parts by mass, dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate mixture (DPHA) 2.7 parts by mass, photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 0.1 parts by mass, 73.7 parts by mass of methyl ethyl ketone and 2.5 parts by mass of cyclohexanone were added and stirred to prepare a coating solution C for a high refractive index layer. did.

〔実施例4:反射防止フィルム202〕
比較例1に示した反射防止フィルム101の作製方法における中屈折率層および高屈折率層の塗布液を、下記中屈折率層と高屈折率層の1液2層塗布液W−2に変更して1液性とし、さらに塗布方法を下記の中屈折率層と高屈折率層の1液2層塗布液の塗布方法に変更した以外は比較例1と全く同じ作製方法により反射防止フィルム202を作製した。
[Example 4: Antireflection film 202]
The coating liquid for the medium refractive index layer and the high refractive index layer in the method for producing the antireflection film 101 shown in Comparative Example 1 was changed to the following one-liquid two-layer coating liquid W-2 for the middle refractive index layer and the high refractive index layer. The antireflection film 202 was prepared by exactly the same production method as in Comparative Example 1 except that the coating method was changed to the coating method of the following one-liquid / two-layer coating liquid of medium refractive index layer and high refractive index layer. Was made.

(中屈折率層と高屈折率層の1液2層塗布液W−2の調製)
酸化ジルコニウム微粒子分散液Z−2(酸化ジルコニウム質量濃度30%)13.6質量部とアルミニウム含有酸化亜鉛微粒子分散液(A−1)7.4質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)2.7質量部、光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.1質量部、メチルエチルケトン73.7質量部およびシクロヘキサノン2.5質量部を添加して攪拌し、中屈折率層と高屈折率層の1液2層塗布液W−2を調製した。
(Preparation of 1-liquid 2-layer coating liquid W-2 for medium refractive index layer and high refractive index layer)
Zirconium oxide fine particle dispersion Z-2 (zirconium oxide mass concentration 30%) 13.6 parts by mass, aluminum-containing zinc oxide fine particle dispersion (A-1) 7.4 parts by mass, dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol 2.7 parts by mass of a hexaacrylate mixture (DPHA), 0.1 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), 73.7 parts by mass of methyl ethyl ketone, and 2.5 parts by mass of cyclohexanone Was added and stirred to prepare a one-liquid / two-layer coating liquid W-2 having a medium refractive index layer and a high refractive index layer.

(中屈折率層と高屈折率層の1液2層塗布液の塗布方法)
ハードコート層Aの上に、中屈折率層と高屈折率層の1液2層塗布液W−2をグラビアコーターを用いて塗布した。膜厚は170nmになるように調整した。
乾燥条件は90℃、30秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量400mJ/cm2の照射量とした。
フィルム断面切片を透過型で電子顕微鏡にて観察すると、高屈折率層と中屈折率層の界面が存在し、高屈折率層の厚みは約110nm、中屈折率層の厚みは約60nmであった。
(Coating method of 1-liquid 2-layer coating liquid of medium refractive index layer and high refractive index layer)
On the hard coat layer A, the one- and two-layer coating liquid W-2 of the medium refractive index layer and the high refractive index layer was coated using a gravure coater. The film thickness was adjusted to 170 nm.
Drying conditions are 90 ° C. and 30 seconds, and UV curing conditions are 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) while purging with nitrogen so that the oxygen concentration is 1.0 volume% or less. The irradiance was 400 mW / cm 2 and the irradiation amount was 400 mJ / cm 2 .
When the cross section of the film was observed with a transmission type electron microscope, there was an interface between the high refractive index layer and the middle refractive index layer, the thickness of the high refractive index layer was about 110 nm, and the thickness of the middle refractive index layer was about 60 nm. It was.

上述の中屈折率層と高屈折率層の1液2層塗布液の塗布を実施した後に反射防止フィルム101と同一条件で低屈折率層Aを塗布、乾燥、硬化し、反射防止フィルム202を作製した。   After applying the one- and two-layer coating solution of the above-described medium refractive index layer and high refractive index layer, the low refractive index layer A is applied, dried and cured under the same conditions as the antireflection film 101, and the antireflection film 202 is formed. Produced.

上記実施例3及び4で得られた反射防止フィルム201、202を前記反射防止フィルム101〜103と同様の方法で評価した。
評価結果を下記表4に示した。
The antireflection films 201 and 202 obtained in Examples 3 and 4 were evaluated in the same manner as the antireflection films 101 to 103.
The evaluation results are shown in Table 4 below.

Figure 2008310119
Figure 2008310119

実施例3及び4で示した反射防止フィルム(201及び202)も実施例1及び2と同様、高屈折率層と中屈折率層を1度の塗布工程で形成することができ、優れた性能を示した。   As with Examples 1 and 2, the antireflective films (201 and 202) shown in Examples 3 and 4 can also form a high refractive index layer and a medium refractive index layer in a single coating process, and have excellent performance. showed that.

〔実施例5:反射防止フィルム301〕
比較例1に示した反射防止フィルム101の作製方法における中屈折率層および高屈折率層の塗布液を、下記中屈折率層と高屈折率層の1液2層塗布液W−3に変更して1液性とし、さらに塗布方法を下記の中屈折率層と高屈折率層の1液2層塗布液の塗布方法に変更した以外は比較例1と全く同じ作製方法により反射防止フィルム301を作製した。
[Example 5: Antireflection film 301]
The coating liquid for the medium refractive index layer and the high refractive index layer in the method for producing the antireflection film 101 shown in Comparative Example 1 was changed to the following one-liquid / two-layer coating liquid W-3 for the middle refractive index layer and the high refractive index layer. The antireflection film 301 was prepared by exactly the same production method as in Comparative Example 1, except that the coating method was changed to the coating method of the following one-liquid / two-layer coating liquid of the medium refractive index layer and the high refractive index layer. Was made.

(酸化チタン分散液T−1の調製)
含フッ素アルキル基を有するポリマーとして、一般式[I]の例I−2を用いて表面を修飾した金属酸化物微粒子分散液を以下の方法で調製した。
酸化チタン微粒子ゾル(TTO−51(A)のメチルエチルケトン分散液、石原産業(
株)製 平均粒子径30nm、二酸化チタン濃度30%)333部に、一般式[I]の例I−
2を40部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート1.5部加え混合した後に、イオン交換水9部を加えた。80℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、含フッ素アルキル基を有するポリマーで表面修飾した酸化チタン分散液T−1を得た。
酸化チタン分散液T−1の二酸化チタンの質量濃度は30%に調節した。
(Preparation of titanium oxide dispersion T-1)
As a polymer having a fluorine-containing alkyl group, a metal oxide fine particle dispersion whose surface was modified using Example I-2 of the general formula [I] was prepared by the following method.
Titanium oxide fine particle sol (Methyl ethyl ketone dispersion of TTO-51 (A), Ishihara Sangyo (
Co., Ltd., average particle size 30 nm, titanium dioxide concentration 30%)
2 and 40 parts of diisopropoxyaluminum ethyl acetoacetate were added and mixed, and then 9 parts of ion-exchanged water was added. After reacting at 80 ° C. for 8 hours, the mixture was cooled to room temperature to obtain a titanium oxide dispersion T-1 whose surface was modified with a polymer having a fluorine-containing alkyl group.
The mass concentration of titanium dioxide in the titanium oxide dispersion T-1 was adjusted to 30%.

(中屈折率層と高屈折率層の1液2層塗布液W−3の調製)
酸化チタン分散液T−1(二酸化チタン質量濃度30%)10.5質量部とアルミニウム含有酸化亜鉛微粒子分散液(A−1)10.5質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)2.7質量部、光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.1質量部、メチルエチルケトン73.7質量部およびシクロヘキサノン2.5質量部を添加して攪拌し、中屈折率層と高屈折率層の1液2層塗布液W−3を調製した。
(Preparation of 1-liquid 2-layer coating liquid W-3 of medium refractive index layer and high refractive index layer)
To 10.5 parts by mass of titanium oxide dispersion T-1 (titanium dioxide mass concentration 30%) and 10.5 parts by mass of aluminum-containing zinc oxide fine particle dispersion (A-1), dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexa 2.7 parts by mass of an acrylate mixture (DPHA), 0.1 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), 73.7 parts by mass of methyl ethyl ketone and 2.5 parts by mass of cyclohexanone The mixture was added and stirred to prepare a one-liquid / two-layer coating liquid W-3 having a medium refractive index layer and a high refractive index layer.

(中屈折率層と高屈折率層の1液2層塗布液の塗布方法)
ハードコート層Aの上に、中屈折率層と高屈折率層の1液2層塗布液W−3をグラビアコーターを用いて塗布した。膜厚は160nmになるように調整した。
乾燥条件は90℃、30秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量400mJ/cm2の照射量とした。
フィルム断面切片を透過型で電子顕微鏡にて観察すると、高屈折率層と中屈折率層の界面が存在し、高屈折率層の厚みは約80nm、中屈折率層の厚みは約80nmであった。
(Coating method of 1-liquid 2-layer coating liquid of medium refractive index layer and high refractive index layer)
On the hard coat layer A, a one- and two-layer coating liquid W-3 of a medium refractive index layer and a high refractive index layer was coated using a gravure coater. The film thickness was adjusted to 160 nm.
Drying conditions are 90 ° C. and 30 seconds, and UV curing conditions are 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) while purging with nitrogen so that the oxygen concentration is 1.0 volume% or less. The irradiance was 400 mW / cm 2 and the irradiation amount was 400 mJ / cm 2 .
When the cross section of the film is observed with a transmission type electron microscope, there is an interface between the high refractive index layer and the middle refractive index layer, the thickness of the high refractive index layer is about 80 nm, and the thickness of the middle refractive index layer is about 80 nm. It was.

上述の中屈折率層と高屈折率層の1液2層塗布液W−3を塗布した後に比較例1と同一条件で低屈折率層Aを塗布、乾燥、硬化し、反射防止フィルム301を作製した。   After applying the one- and two-layer coating liquid W-3 for the medium refractive index layer and the high refractive index layer, the low refractive index layer A is applied, dried and cured under the same conditions as in Comparative Example 1, and the antireflection film 301 is formed. Produced.

上記実施例5の反射防止フィルム301を前記反射防止フィルム101〜103と同様の方法で評価した。
評価結果を下記表5に示した。
The antireflection film 301 of Example 5 was evaluated in the same manner as the antireflection films 101 to 103.
The evaluation results are shown in Table 5 below.

Figure 2008310119
Figure 2008310119

実施例5の反射防止フィルム301も実施例1〜4と同様、高屈折率層と中屈折率層を1度の塗布工程で形成することができ、優れた性能を示した。   Similarly to Examples 1 to 4, the antireflection film 301 of Example 5 was able to form a high refractive index layer and a medium refractive index layer in a single coating step, and showed excellent performance.

Claims (6)

フィルム基材上またはハードコート層を有するフィルム基材上に、各層の膜厚が150nm以下である中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層をこの順に積層した反射防止フィルムであって、
高屈折率層は平均粒径が50nm以下である第一の金属酸化物微粒子を含有し、含フッ素アルキル基を有するユニットと金属酸化物微粒子を表面修飾する反応基を有するユニットを持つポリマーによって該第一の金属酸化物微粒子は表面修飾されており、
中屈折率層は第一の金属酸化物微粒子とは異なる平均粒径が50nm以下である第二の金属酸化物微粒子を含有し、
さらに前記中屈折率層と前記高屈折率層が1の塗布膜から分離した2層であるか、または前記中屈折率層と前記高屈折率層が同時重層塗布された2層である反射防止フィルム。
An antireflective film in which a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer each having a film thickness of 150 nm or less are laminated in this order on a film substrate or a film substrate having a hard coat layer. ,
The high refractive index layer contains first metal oxide fine particles having an average particle diameter of 50 nm or less, and the polymer has a unit having a fluorine-containing alkyl group and a unit having a reactive group for modifying the surface of the metal oxide fine particles. The first metal oxide fine particles are surface-modified,
The middle refractive index layer contains second metal oxide fine particles having an average particle size different from the first metal oxide fine particles of 50 nm or less,
Further, the medium refractive index layer and the high refractive index layer are two layers separated from one coating film, or the middle refractive index layer and the high refractive index layer are two layers coated simultaneously by multilayer coating. the film.
フィルム基材上またはハードコート層を有するフィルム基材上に、各層の膜厚が150nm以下である中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層をこの順に積層した反射防止フィルムであって、
高屈折率層は平均粒径が50nm以下である第一の金属酸化物微粒子を含有し、ポリジアルキルシロキサン基を有するユニットと金属酸化物微粒子を表面修飾する反応基を有するユニットを持つポリマーによって該第一の金属酸化物微粒子は表面修飾されており、
中屈折率層は第一の金属酸化物微粒子とは異なる平均粒径が50nm以下である第二の金属酸化物微粒子を含有し、
さらに前記中屈折率層と前記高屈折率層が1の塗布膜から分離した2層であるか、または前記中屈折率層と前記高屈折率層が同時重層塗布された2層である反射防止フィルム。
An antireflective film in which a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer each having a film thickness of 150 nm or less are laminated in this order on a film substrate or a film substrate having a hard coat layer. ,
The high refractive index layer contains first metal oxide fine particles having an average particle diameter of 50 nm or less, and the polymer has a unit having a polydialkylsiloxane group and a unit having a reactive group for modifying the surface of the metal oxide fine particles. The first metal oxide fine particles are surface-modified,
The middle refractive index layer contains second metal oxide fine particles having an average particle size different from the first metal oxide fine particles of 50 nm or less,
Further, the medium refractive index layer and the high refractive index layer are two layers separated from one coating film, or the middle refractive index layer and the high refractive index layer are two layers coated simultaneously by multilayer coating. the film.
含フッ素アルキル基を有するユニットと金属酸化物微粒子を表面修飾する反応基を有するユニットを持つポリマーが下記一般式[I]で表される構造を有する請求項1に記載の反射防止フィルム。
Figure 2008310119

(式中、R1、R2は水素原子またはアルキル基を表す。L1は炭素数10以下の2価の連結基を表し、n1は0または1を表し、Rfは−CFまたは−CFHを表し、pは1〜10の整数であり、Lは炭素数10以下の2価の連結基を表し、mは0または1を表し、Aは水酸基または加水分解可能な基を表し、xはモル%を表す。)
The antireflection film according to claim 1, wherein the polymer having a unit having a fluorine-containing alkyl group and a unit having a reactive group for modifying the surface of the metal oxide fine particles has a structure represented by the following general formula [I].
Figure 2008310119

(In the formula, R 1 and R 2 represent a hydrogen atom or an alkyl group. L 1 represents a divalent linking group having 10 or less carbon atoms, n 1 represents 0 or 1, and R f represents —CF 3 or —CF 2 H. P represents an integer of 1 to 10, L represents a divalent linking group having 10 or less carbon atoms, m represents 0 or 1, A represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group, x represents a mole %.)
前記ポリジアルキルシロキサン基を有するユニットと金属酸化物微粒子を表面修飾する反応基を有するユニットを持つポリマーが下記一般式[II]で表される構造を有する請求項2に記載の反射防止フィルム。
Figure 2008310119

(式中、R1、R2は水素原子またはアルキル基を表す。L2は炭素数10以下の2価の連結基を表し、n2は0または1を表し、R11〜R15は同一であっても異なってもよく、それぞれ水素原子または炭素数1〜5のアルキル基またはアリール基を表し、qは10〜500の整数であり、Lは炭素数10以下の2価の連結基を表し、mは0または1を表し、Aは水酸基または加水分解可能な基を表し、yはモル%を表す。)
The antireflection film according to claim 2, wherein the polymer having a unit having the polydialkylsiloxane group and a unit having a reactive group for modifying the surface of the metal oxide fine particles has a structure represented by the following general formula [II].
Figure 2008310119

(In the formula, R 1 and R 2 represent a hydrogen atom or an alkyl group. L 2 represents a divalent linking group having 10 or less carbon atoms, n 2 represents 0 or 1, and R 11 to R 15 are the same or different. Each represents a hydrogen atom or an alkyl or aryl group having 1 to 5 carbon atoms, q is an integer of 10 to 500, L represents a divalent linking group having 10 or less carbon atoms, and m is 0 or 1 represents A, A represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group, and y represents mol%.)
前記第一の金属酸化物微粒子が酸化チタンまたは酸化ジルコニウムの微粒子である請求項1〜4のいずれかに記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 1, wherein the first metal oxide fine particles are fine particles of titanium oxide or zirconium oxide. 前記第二の金属酸化物微粒子が導電性の酸化亜鉛系微粒子である請求項1〜5のいずれかに記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 1, wherein the second metal oxide fine particles are conductive zinc oxide-based fine particles.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN114514445A (en) * 2020-03-16 2022-05-17 株式会社Lg化学 Anti-reflection film

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