JP2008088309A - Cured coating film, anti-reflection hard coating film using it, polarization plate and image display device - Google Patents

Cured coating film, anti-reflection hard coating film using it, polarization plate and image display device Download PDF

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JP2008088309A
JP2008088309A JP2006271309A JP2006271309A JP2008088309A JP 2008088309 A JP2008088309 A JP 2008088309A JP 2006271309 A JP2006271309 A JP 2006271309A JP 2006271309 A JP2006271309 A JP 2006271309A JP 2008088309 A JP2008088309 A JP 2008088309A
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Yuichi Kimura
雄一 木村
Takayuki Shigematsu
崇之 重松
Seiichi Kusumoto
誠一 楠本
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an anti-reflection hard coating film having an anti-reflection layer with a high elasticity excellent in a hardness and a film strength and excellent in a manufacturing efficiency and a manufacturing cost even when it is manufactured in the presence of oxygen. <P>SOLUTION: In the anti-reflection hard coating film 4, a hard coat layer 2 is formed on a transparent plastic film base material 1 and the anti-reflection layer 3 is formed thereon. The anti-reflection layer 3 is an anti-reflection layer 3 formed by forming a coating film of an anti-reflection layer formation material containing a multi-functional polymerizable compound having at least two polymerizable functional groups, a polysiloxane compound having a radical-polymerizable functional group and an active hydrogen group and a ketone based solvent and curing the coating film. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、硬化皮膜、それを用いた反射防止ハードコートフィルム、偏光板および画像表示装置に関する。   The present invention relates to a cured film, an antireflection hard coat film using the same, a polarizing plate, and an image display device.

各種画像表示装置の一つに液晶表示装置(LCD)があるが、LCDの高視野角化、高精細化、高速応答性、色再現性などに関する技術革新に伴い、LCDを利用するアプリケーションもノートパソコンやモニターからテレビヘと変化しつつある。LCDは、二枚の透明電極を有する平板状ガラスの間に一定間隔のギャップをスペーサーにより設け、そこに、液晶材料を注入して封止し、その後に平板状ガラスの表裏面に偏光板を貼付するという構成が基本的構成である。従来は、LCD表面にガラスやプラスチックからなるカバープレートを装着し、LCD表面に貼付している偏光板への傷付き防止を図っていた。しかし、カバープレートを装着するとコスト、重量の面で不利であり、次第に偏光板表面にハードコートフィルムを貼着するようになってきた。   There is a liquid crystal display (LCD) as one of the various image display devices, but with the technological innovations related to higher viewing angles, higher definition, faster response, and color reproducibility of LCDs, applications that use LCDs are also notes. It is changing from personal computers and monitors to television. In LCD, a gap is provided between a flat glass having two transparent electrodes by a spacer, and a liquid crystal material is injected and sealed there, and then a polarizing plate is placed on the front and back surfaces of the flat glass. The configuration of attaching is the basic configuration. Conventionally, a cover plate made of glass or plastic is attached to the LCD surface to prevent damage to the polarizing plate attached to the LCD surface. However, mounting a cover plate is disadvantageous in terms of cost and weight, and a hard coat film has been gradually attached to the polarizing plate surface.

しかし、ハードコートフィルムを、例えば、LCD表面に貼着した場合、偏光板表面での光の反射により、ディスプレイの視認性が低下する。特に、明るい照明下での使用頻度の高いカーナビゲーション用モニターやビデオカメラ用モニター等では、表面反射による視認性の低下が顕著である。この問題を解決するために、ハードコートフィルムのハードコート層の上に反射防止層(低屈折率層)を形成して、反射防止が図られている。屋外使用頻度の高いほとんどのディスプレイにおいて、その表面の装着されるハードコートフィルムは、反射防止層を備えたものである。   However, when the hard coat film is attached to the LCD surface, for example, the visibility of the display is lowered due to the reflection of light on the polarizing plate surface. In particular, in car navigation monitors, video camera monitors, and the like that are frequently used under bright illumination, the reduction in visibility due to surface reflection is significant. In order to solve this problem, an antireflection layer (low refractive index layer) is formed on the hard coat layer of the hard coat film to prevent reflection. In most displays that are frequently used outdoors, the hard coat film to be mounted on the surface has an antireflection layer.

前記反射防止層は、一般的に、真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法等の乾式法により、あるいはダイやグラビアロール塗工等を用いた湿式法によって屈折率の異なる材料からなる複数の薄膜の多層積層体、または低屈折率材料からなる単層体を形成することにより設けられる。一般的には、工程を複雑にすることなく製造することができること、また、低コスト化を実現できることにより単層構成の反射防止層が工業的に多用されている。前記単層構成の反射防止層の厚みは、0.1〜0.5μmであるが、硬化処理工程での酸素阻害により、前記ハードコート層との密着性が十分でない為に界面破壊が生じたり、膜強度が十分でなかったりすることがある。LCDのアプリケーションが家庭用のテレビに移行することにより、一般的な家庭用テレビの使用者は、LCDを使用したテレビであっても従来のガラス製のCRTを利用したテレビと同様な取り扱いを行うことが容易に想定される。そのため、反射防止ハードコートフィルムにおいても、更なる硬度の向上と膜強度の向上が要求されている。   The antireflection layer is generally formed of a plurality of thin films made of materials having different refractive indexes by a dry method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, a CVD method, or a wet method using a die or gravure roll coating. It is provided by forming a multilayer laminate or a single layer made of a low refractive index material. In general, an antireflection layer having a single layer structure is widely used industrially because it can be produced without complicating the process and the cost can be reduced. The thickness of the single-layer antireflection layer is 0.1 to 0.5 μm, but due to oxygen inhibition in the curing process, interfacial damage may occur due to insufficient adhesion with the hard coat layer. The film strength may not be sufficient. With the transition of LCD applications to home TVs, general home TV users will handle TVs using LCDs in the same way as conventional TVs using glass CRTs. Is easily assumed. Therefore, even in the antireflection hard coat film, further improvement in hardness and improvement in film strength are required.

反射防止層の膜強度を向上させるための方法として、分子内に重合性官能基を有するポリシロキサン化合物15〜80重量部と、分子内に少なくとも2個の重合性官能基を有する化合物20〜85重量部とを含む組成物により形成される硬化被膜を薄膜で形成するという方法を記載した先行文献がある(特許文献1)。しかし、この先行文献では、酸素阻害の影響を受けないカチオン重合性官能基を有するポリシロキサン化合物と、同様に酸素阻害の影響を受けない多官能カチオン重合性化合物との組合せで、薄くても十分に硬化した硬化皮膜を得ることができることが開示されているが、酸素阻害の影響を受けるラジカル重合性官能基を有するポリシロキサン化合物と、同様に酸素阻害の影響を受ける多官能ラジカル重合性化合物との組合せにおいて、薄くても十分に硬化した硬化皮膜を得る技術については記載も示唆もない。   As a method for improving the film strength of the antireflection layer, 15 to 80 parts by weight of a polysiloxane compound having a polymerizable functional group in the molecule and compounds 20 to 85 having at least two polymerizable functional groups in the molecule. There is a prior document describing a method of forming a cured film formed of a composition containing parts by weight as a thin film (Patent Document 1). However, in this prior document, a combination of a polysiloxane compound having a cationic polymerizable functional group that is not affected by oxygen inhibition and a polyfunctional cationic polymerizable compound that is also not affected by oxygen inhibition is sufficient even if it is thin. A polysiloxane compound having a radical polymerizable functional group that is affected by oxygen inhibition, and a polyfunctional radical polymerizable compound that is similarly affected by oxygen inhibition. There is no description or suggestion of a technique for obtaining a cured film that is sufficiently cured even if it is thin.

また、透明支持体から最も遠くに位置する低屈折率層に、中空シリカ粒子と表面自由エネルギーを低下させる化合物を含ませた反射防止フィルムがある(特許文献2)。しかし、この反射防止フィルムでは、一般的に硬度が不十分な含フッ素ポリマーを主体とした構成であり、さらに硬化時に多量の熱や窒素パージが必要であるため、コストおよび生産性の点から望ましくない。   Further, there is an antireflection film in which a low refractive index layer located farthest from the transparent support contains hollow silica particles and a compound that reduces surface free energy (Patent Document 2). However, this antireflection film is generally composed mainly of a fluorine-containing polymer having insufficient hardness, and requires a large amount of heat and nitrogen purge during curing, which is desirable from the viewpoint of cost and productivity. Absent.

特開2004−314468号公報JP 2004-314468 A 特開2005−186568号公報JP 2005-186568 A

そこで、本発明は、酸素の存在下で製造された場合であっても弾性率が高く、硬度および膜強度に優れ、かつ低コストで効率良く製造可能な硬化皮膜、それを用いた反射防止ハードコートフィルム、偏光板および画像表示装置の提供を目的とする。   Accordingly, the present invention provides a cured film that has a high elastic modulus even when manufactured in the presence of oxygen, has excellent hardness and film strength, and can be manufactured efficiently at low cost, and an antireflection hardware using the same. An object is to provide a coat film, a polarizing plate, and an image display device.

前記目的を達成するために、本発明の硬化皮膜は、少なくとも2個の重合性官能基を有する多官能重合性化合物、ラジカル重合性官能基および活性水素基を有するポリシロキサン化合物およびケトン系溶媒を含む硬化皮膜形成材料の塗工膜を形成し、前記塗工膜を硬化させて形成される硬化皮膜である。   In order to achieve the above object, the cured film of the present invention comprises a polyfunctional polymerizable compound having at least two polymerizable functional groups, a polysiloxane compound having a radical polymerizable functional group and an active hydrogen group, and a ketone solvent. It is a cured film formed by forming a coating film of a cured film forming material, and curing the coating film.

本発明の反射防止ハードコートフィルムは、透明プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に、ハードコート層、反射防止層がこの順序で積層形成されている反射防止ハードコートフィルムであって、前記反射防止層が、前記本発明の硬化皮膜であることを特徴とする。   The antireflection hard coat film of the present invention is an antireflection hard coat film in which a hard coat layer and an antireflection layer are laminated in this order on at least one surface of a transparent plastic film substrate, The layer is a cured film of the present invention.

本発明の偏光板は、反射防止ハードコートフィルムを含む偏光板であって、前記反射防止ハードコートフィルムが、前記本発明の反射防止ハードコートフィルムであることを特徴とする。   The polarizing plate of the present invention is a polarizing plate including an antireflection hard coat film, wherein the antireflection hard coat film is the antireflection hard coat film of the present invention.

本発明の画像表示装置は、反射防止ハードコートフィルムおよび偏光板の少なくとも一方を搭載した画像表示装置であって、前記反射防止ハードコートフィルムが前記本発明の反射防止ハードコートフィルムであり、前記偏光板が前記本発明の偏光板であることを特徴とする。   The image display device of the present invention is an image display device equipped with at least one of an antireflection hard coat film and a polarizing plate, wherein the antireflection hard coat film is the antireflection hard coat film of the present invention, and the polarization The plate is the polarizing plate of the present invention.

本発明の硬化皮膜は、酸素の存在下で製造された場合であっても弾性率が高く、その結果、硬度および膜強度に優れ、かつ製造時において多量の熱や窒素パージを必要としないから、その製造は低コストで効率良く実施できる。したがって、前記硬化皮膜を反射防止層(低屈折率層)として有する本発明の反射防止ハードコートフィルムでは、前記反射防止層がハードコート層に強固に密着して剥がれ等が防止され、前記反射防止層の硬度が高く、しかもその製造は低コストかつ効率良く実施できる。なお、本発明において、前記ポリシロキサン化合物の前記重合性官能基がラジカル重合性官能基であっても、酸素の影響を受けずに硬度が高く膜強度が高い薄膜の硬化皮膜が形成できる理由は不明であるが、本発明者等は、ケトン系溶媒が酸素の拡散を防止することで、酸素の悪影響を受けないと推察している。ただし、この推察は本発明をなんら限定しない。また、本発明の硬化皮膜は、本発明の反射防止ハードコートフィルムの反射防止層に好適に用いられるが、これに限定されず、本発明の硬化皮膜は、その他の用途に使用してもよい。   The cured film of the present invention has a high elastic modulus even when produced in the presence of oxygen, and as a result, has excellent hardness and film strength, and does not require a large amount of heat or nitrogen purge during production. The production can be carried out efficiently at a low cost. Therefore, in the antireflection hard coat film of the present invention having the cured film as an antireflection layer (low refractive index layer), the antireflection layer is firmly adhered to the hard coat layer to prevent peeling and the like. The hardness of the layer is high, and its production can be carried out efficiently at low cost. In the present invention, even if the polymerizable functional group of the polysiloxane compound is a radical polymerizable functional group, the reason why a thin cured film having high hardness and high film strength can be formed without being affected by oxygen is as follows. Although it is unclear, the present inventors presume that the ketone solvent does not suffer from the adverse effects of oxygen by preventing the diffusion of oxygen. However, this inference does not limit the present invention at all. Moreover, although the cured film of this invention is used suitably for the antireflection layer of the antireflection hard coat film of this invention, it is not limited to this, The cured film of this invention may be used for another use. .

本発明の硬化皮膜において、前記ケトン系溶媒は、前記硬化皮膜形成材料100重量部に対し、3重量部以上の割合で含まれていることが好ましい。また、前記ケトン系溶媒は、例えば、アセトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)等があるが、MIBKが好ましく、より好ましくは、MIBK単独で使用することである。   In the cured film of the present invention, the ketone solvent is preferably contained in a proportion of 3 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight of the cured film forming material. Examples of the ketone solvent include acetone, diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, methyl ethyl ketone (MEK), and methyl isobutyl ketone (MIBK). MIBK is preferable, and MIBK is used alone. It is to be.

本発明の硬化皮膜の前記ポリシロキサン化合物において、前記ラジカル重合性官能基が、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基の少なくとも一方であり、前記活性水素基が、水酸基、アミノ基およびカルボキシル基の少なくとも一つの基であることが好ましい。   In the polysiloxane compound of the cured film of the present invention, the radical polymerizable functional group is at least one of an acryloyloxy group and a methacryloyloxy group, and the active hydrogen group is at least one of a hydroxyl group, an amino group, and a carboxyl group. It is preferably a group.

本発明の硬化皮膜において、前記ポリシロキサン化合物が、下記の(A)化合物、(B)化合物および(C)化合物からなる群から選択される少なくとも一つの化合物であることが好ましい。   In the cured film of the present invention, the polysiloxane compound is preferably at least one compound selected from the group consisting of the following compounds (A), (B) and (C).

(A)下記の一般式(1)で表されるジメチルシロキサン単位と、下記一般式(2)で表されるシロキサン単位および下記一般式(3)で表されるシロキサン単位の少なくとも一方のシロキサン単位とを含むポリシロキサン化合物。 (A) At least one siloxane unit of a dimethylsiloxane unit represented by the following general formula (1), a siloxane unit represented by the following general formula (2), and a siloxane unit represented by the following general formula (3) And a polysiloxane compound.

(B)下記の一般式(1)で表されるジメチルシロキサン単位、下記一般式(4)で表されるシロキサン単位および下記一般式(5)で表されるシロキサン単位を含むポリシロキサン化合物。 (B) A polysiloxane compound containing a dimethylsiloxane unit represented by the following general formula (1), a siloxane unit represented by the following general formula (4), and a siloxane unit represented by the following general formula (5).

(C)下記一般式(6)で表されるポリシロキサン化合物。 (C) A polysiloxane compound represented by the following general formula (6).

Figure 2008088309
Figure 2008088309

Figure 2008088309
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Figure 2008088309
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Figure 2008088309
前記一般式(4)において、xは1〜10の整数である。
Figure 2008088309
In the general formula (4), x is an integer of 1 to 10.

Figure 2008088309
前記一般式(5)において、xは1〜10の整数である。
Figure 2008088309
In the general formula (5), x is an integer of 1 to 10.

Figure 2008088309
前記一般式(6)において、少なくとも一つのRが、シロキサン構造を有する置換基であり、少なくとも一つのRが、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基の少なくとも一方を有する置換基であり、少なくとも一つのRが、活性水素基を有する置換基である。
Figure 2008088309
In the general formula (6), at least one R is a substituent having a siloxane structure, at least one R is a substituent having at least one of an acryloyloxy group and a methacryloyloxy group, and at least one R Is a substituent having an active hydrogen group.

本発明の硬化皮膜において、前記多官能重合性化合物の重合性官能基が、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基の少なくとも一方の基であることが好ましい。   In the cured film of the present invention, the polymerizable functional group of the polyfunctional polymerizable compound is preferably at least one of an acryloyloxy group and a methacryloyloxy group.

本発明の反射防止ハードコートフィルムにおいて、前記ハードコート層の厚みは、2〜50μmの範囲であることが好ましい。   In the antireflection hard coat film of the present invention, the thickness of the hard coat layer is preferably in the range of 2 to 50 μm.

本発明の反射防止ハードコートフィルムにおいて、前記反射防止層が、中空で球状の酸化ケイ素超微粒子を含有することが好ましい。   In the antireflection hard coat film of the present invention, the antireflection layer preferably contains hollow spherical silicon oxide ultrafine particles.

本発明の反射防止ハードコートフィルムにおいて、前記ハードコート層の表面が凹凸形状となって防眩性を有することが好ましい。   In the antireflection hard coat film of the present invention, it is preferable that the surface of the hard coat layer has an uneven shape and has an antiglare property.

本発明の硬化皮膜の製造方法は、例えば、少なくとも2個の重合性官能基を有する多官能重合性化合物、ラジカル重合性官能基および活性水素基を有するポリシロキサン化合物およびケトン系溶媒を含む硬化皮膜形成材料の塗工膜を形成し、前記塗工膜を硬化させて硬化皮膜を形成するという製造方法である。本発明の硬化皮膜の製造方法において、前記塗工膜は、乾燥した後、硬化させることが好ましい。本発明の硬化皮膜の製造方法において、その好ましい態様は、前述および後述の本発明の硬化皮膜の説明で例示したものと同様である。   The method for producing a cured film of the present invention includes, for example, a cured film containing a polyfunctional polymerizable compound having at least two polymerizable functional groups, a polysiloxane compound having a radical polymerizable functional group and an active hydrogen group, and a ketone solvent. This is a manufacturing method in which a coating film of a forming material is formed, and the coating film is cured to form a cured film. In the method for producing a cured film of the present invention, the coating film is preferably dried and then cured. In the method for producing a cured film of the present invention, preferred embodiments thereof are the same as those exemplified in the description of the cured film of the present invention described above and below.

本発明の反射防止ハードコートフィルムの製造方法は、透明プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に、ハードコート層、反射防止層がこの順序で積層形成されている反射防止ハードコートフィルムを製造する方法であって、前記反射防止層が、前記本発明の硬化皮膜であり、前記硬化皮膜が、前記本発明の硬化皮膜の製造方法により製造される。本発明の反射防止ハードコートフィルムの製造方法において、その好ましい態様は、前述および後述の本発明の反射防止ハードコートフィルムの説明で例示したものと同様である。   The method for producing an antireflection hard coat film of the present invention is a method for producing an antireflection hard coat film in which a hard coat layer and an antireflection layer are laminated in this order on at least one surface of a transparent plastic film substrate. The antireflection layer is the cured film of the present invention, and the cured film is produced by the method for producing a cured film of the present invention. In the method for producing an antireflection hard coat film of the present invention, preferred embodiments thereof are the same as those exemplified in the description of the antireflection hard coat film of the present invention described above and below.

本発明の硬化皮膜形成材料は、少なくとも2個の重合性官能基を有する多官能重合性化合物、ラジカル重合性官能基および活性水素基を有するポリシロキサン化合物およびケトン系溶媒を含むことを特徴とする。本発明の硬化皮膜形成材料において、その好ましい態様は、前述および後述の本発明の硬化皮膜の説明で例示したものと同様である。   The cured film forming material of the present invention comprises a polyfunctional polymerizable compound having at least two polymerizable functional groups, a polysiloxane compound having a radical polymerizable functional group and an active hydrogen group, and a ketone solvent. . In the cured film forming material of the present invention, preferred embodiments thereof are the same as those exemplified in the description of the cured film of the present invention described above and below.

本発明の反射防止層形成材料は、少なくとも2個の重合性官能基を有する多官能重合性化合物、ラジカル重合性官能基および活性水素基を有するポリシロキサン化合物およびケトン系溶媒を含むことを特徴とする。本発明の反射防止層形成材料において、その好ましい態様は、前述および後述の本発明の硬化皮膜の説明で例示したものと同様である。   The antireflection layer-forming material of the present invention comprises a polyfunctional polymerizable compound having at least two polymerizable functional groups, a polysiloxane compound having a radical polymerizable functional group and an active hydrogen group, and a ketone solvent. To do. In the antireflection layer-forming material of the present invention, preferred embodiments thereof are the same as those exemplified in the description of the cured film of the present invention described above and below.

つぎに、本発明について、例をあげて詳細に説明する。   Next, the present invention will be described in detail with examples.

本発明の硬化皮膜若しくは反射防止層を形成するための2個以上の重合性官能基を有する多官能重合性化合物は、熱、紫外線または電子線等により硬化する化合物であれば、特に制限されない。前記多官能重合性化合物としては、例えば、多価アルコールのアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルのような多官能性のアクリレート樹脂、ジイソシアネート、多価アルコールおよびアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシアルキルエステル等から合成されるような多官能性のウレタンアクリレート樹脂、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能アクリレートまたは多官能メタクリレートなどを挙げることがでる。さらにアクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹胎、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も必要に応じて好適に使用することができる。また、メラニン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキッド系樹脂、シリコーン系樹脂等も好ましく用いられる。これらの樹脂の中で、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の3官能以上のアクリレートまたはメタクリレートが、得られる硬化皮膜若しくは反射防止層の硬度をより優れたものにするために好ましく用いられる。   The polyfunctional polymerizable compound having two or more polymerizable functional groups for forming the cured film or the antireflection layer of the present invention is not particularly limited as long as it is a compound that is cured by heat, ultraviolet rays, electron beams, or the like. As the polyfunctional polymerizable compound, for example, synthesized from a polyfunctional acrylate resin such as an acrylic ester or methacrylic ester of a polyhydric alcohol, a diisocyanate, a polyhydric alcohol, and a hydroxyalkyl ester of acrylic acid or methacrylic acid. Polyfunctional urethane acrylate resin, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, Multifunctional acrylate or polyfunctional methacrylate such as dipentaerythritol hexaacrylate It comes out gel. Furthermore, a polyether resin having an acrylate functional group, a polyester resin, an epoxy resin, an alkyd resin, a spiroacetal resin, a polybutadiene resin, a polythiol polyene resin and the like can be suitably used as necessary. In addition, melanin resins, urethane resins, alkyd resins, silicone resins and the like are also preferably used. Among these resins, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate Tri- or higher functional acrylates or methacrylates such as dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate are preferably used in order to make the resulting cured film or antireflection layer more excellent in hardness.

前記多官能重合性化合物には、反応性希釈剤を用いることができる。前記反応希釈剤としては、例えば、エチレンオキサイド変性フェノールのアクリレートまたはメタクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノールのアクリレートまたはメタクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノールのアクリレートまたはメタクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノールのアクリレートまたはメタクリレート、
2−エチルへキシルカルビトールアクリレート、2−エチルへキシルカルビトールメタクリレート、
イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、
テトラヒドロフルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、
ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、
ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、
ヒドロキシブチルアクリレート、ヒドロキシブチルメタクリレート、
ヒドロキシへキシルアクリレート、ヒドロキシへキシルメタクリレート、
ジエチレングリコールモノアクリレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、
ジプロピレングリコールモノアクリレート、ジプロピレングリコールモノメタクリレート、
トリエチレングリコールモノアクリレート、トリエチレングリコールモノメタクリレート、
トリプロピレングリコールモノアクリレート、トリプロピレングリコールモノメタクリレート等の単官能アクリレートまたは単官能メタクリレート、
ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、
トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、
テトラエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、
ジプロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、
トリプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、
テトラプロピレングリコールジアクリレート、テトラプロピレングリコールジメタクリレート、
ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、
1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジメタクリレート、
ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、
エチレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールのジアクリレート、エチレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールのジメタクリレート、
エチレンオキサイド変性ビスフェノールAのジアクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAのジメタクリレート、
プロピレンオキサイド変性ビスフェノールAのジアクリレート、プロピレンオキサイド変性ビスフェノールAのジメタクリレート、
エチレンオキサイド変性水添ビスフェノールAのジアクリレート、エチレンオキサイド変性水添ビスフェノールAのジメタクリレート、
トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、
トリメチロールプロパンアリルエーテルジアクリレート、トリメチロールプロパンアリルエーテルジメタクリレート等を用いることができる。
A reactive diluent can be used for the polyfunctional polymerizable compound. Examples of the reaction diluent include acrylate or methacrylate of ethylene oxide modified phenol, acrylate or methacrylate of propylene oxide modified phenol, acrylate or methacrylate of ethylene oxide modified nonylphenol, acrylate or methacrylate of propylene oxide modified nonylphenol,
2-ethylhexyl carbitol acrylate, 2-ethylhexyl carbitol methacrylate,
Isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate,
Tetrahydrofurfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate,
Hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate,
Hydroxypropyl acrylate, hydroxypropyl methacrylate,
Hydroxybutyl acrylate, hydroxybutyl methacrylate,
Hydroxyhexyl acrylate, hydroxyhexyl methacrylate,
Diethylene glycol monoacrylate, diethylene glycol monomethacrylate,
Dipropylene glycol monoacrylate, dipropylene glycol monomethacrylate,
Triethylene glycol monoacrylate, triethylene glycol monomethacrylate,
Monofunctional acrylate or monofunctional methacrylate such as tripropylene glycol monoacrylate, tripropylene glycol monomethacrylate,
Diethylene glycol diacrylate, diethylene glycol dimethacrylate,
Triethylene glycol diacrylate, triethylene glycol dimethacrylate,
Tetraethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate,
Dipropylene glycol diacrylate, dipropylene glycol dimethacrylate,
Tripropylene glycol diacrylate, tripropylene glycol dimethacrylate,
Tetrapropylene glycol diacrylate, tetrapropylene glycol dimethacrylate,
Polypropylene glycol diacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate,
1,4-butanediol diacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate,
Neopentyl glycol diacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate,
Diacrylate of ethylene oxide modified neopentyl glycol, dimethacrylate of ethylene oxide modified neopentyl glycol,
Diacrylate of ethylene oxide modified bisphenol A, dimethacrylate of ethylene oxide modified bisphenol A,
Propylene oxide modified bisphenol A diacrylate, propylene oxide modified bisphenol A dimethacrylate,
Diacrylate of ethylene oxide modified hydrogenated bisphenol A, dimethacrylate of ethylene oxide modified hydrogenated bisphenol A,
Trimethylolpropane diacrylate, trimethylolpropane dimethacrylate,
Trimethylolpropane allyl ether diacrylate, trimethylolpropane allyl ether dimethacrylate, and the like can be used.

つぎに、本発明の硬化皮膜若しくは反射防止層を形成するためのラジカル重合性官能基を有するポリシロキサン化合物としては、一分子中にシロキサン結合を有する部分と、ラジカル重合性官能基と活性水素基を有する化合物であれば、特に制限されない。前記ラジカル重合性官能基としては、前述のように、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基が好ましい。前記活性水素基としては、例えば、水酸基(ヒドロキシ基)、カルボキシル基、アミノ基等があげられる。前記ポリシロキサン化合物は、直鎖状又は分岐を有するポリシロキサン化合物であることが好ましい。   Next, the polysiloxane compound having a radical polymerizable functional group for forming the cured film or the antireflection layer of the present invention includes a part having a siloxane bond in one molecule, a radical polymerizable functional group and an active hydrogen group. If it is a compound which has this, it will not restrict | limit in particular. As the radical polymerizable functional group, as described above, an acryloyloxy group and a methacryloyloxy group are preferable. Examples of the active hydrogen group include a hydroxyl group (hydroxy group), a carboxyl group, and an amino group. The polysiloxane compound is preferably a linear or branched polysiloxane compound.

シロキサン構造は、特に制限されないが、−(Si(R)(R)−O)−の繰り返し単位を有するものがあげられる。シロキサン構造は、通常、これらが繰り返すポリシロキサン単位を有する。前記R、Rは、炭素数1〜6のアルキル基、フェニル基等があげられる。シロキサン構造としては、前記一般式(1)で表されるジメチルシロキサン単位が好ましい。 The siloxane structure is not particularly limited, and examples thereof include those having a repeating unit of — (Si (R 1 ) (R 2 ) —O) —. The siloxane structure usually has polysiloxane units in which they repeat. Examples of R 1 and R 2 include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and a phenyl group. The siloxane structure is preferably a dimethylsiloxane unit represented by the general formula (1).

前記ポリシロキサン化合物において、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基および活性水素基の導入は、前記シロキサン構造のRおよびRの少なくとも一方を、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基および活性水素基の少なくとも一つの基を有する置換基とすることにより実施できる。この場合、前記ポリシロキサン化合物全体として、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基の少なくとも一方の基と、活性水素基を有していればよいので、前記置換基は、例えば、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基の少なくとも一方と、活性水素基との双方の基を有していても良いし、いずれかの基を有していてもよい。 In the polysiloxane compound, the introduction of an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, and an active hydrogen group is performed by replacing at least one of R 1 and R 2 of the siloxane structure with at least one of an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, and an active hydrogen group. It can implement by setting it as the substituent which has group. In this case, since the polysiloxane compound as a whole only needs to have an active hydrogen group and at least one of an acryloyloxy group and a methacryloyloxy group, the substituent may be, for example, an acryloyloxy group and a methacryloyloxy group. It may have both groups of at least one of these and an active hydrogen group, and may have any group.

アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基の少なくとも一方の基と、ヒドロキシ基との双方の基を有する置換基が導入されたシロキサン単位としては、例えば、前記一般式(2)で表されるシロキサン単位および前記一般式(3)で表されるシロキサン単位がある。   Examples of the siloxane unit introduced with a substituent having at least one of an acryloyloxy group and a methacryloyloxy group and a hydroxy group include, for example, the siloxane unit represented by the general formula (2) and the above There is a siloxane unit represented by the general formula (3).

前記一般式(2)で表されるシロキサン単位は、メチル、3−アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシプロピルシロキサンである。   The siloxane unit represented by the general formula (2) is methyl, 3-acryloyloxy-2-hydroxypropoxypropylsiloxane.

前記一般式(3)で表されるシロキサン単位は、メチル、2−アクリロイルオキシ−3−ヒドロキシプロポキシプロピルシロキサンである。   The siloxane unit represented by the general formula (3) is methyl, 2-acryloyloxy-3-hydroxypropoxypropylsiloxane.

アクリロイルオキシ基もしくはメタクリロイルオキシ基を有するシロキサン単位としては、例えば、前記一般式(4)で表されるシロキサン単位がある。前記一般式(4)で表されるシロキサン単位は、前記シロキサン構造において、RもしくはRの一方がメチル基であり、他方が、末端にアクリロイルオキシ基を有するポリエチレングリコールプロピルエーテル基である。前記一般式(4)において、xは1〜10の整数である。 Examples of the siloxane unit having an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group include a siloxane unit represented by the general formula (4). In the siloxane structure, the siloxane unit represented by the general formula (4) is one in which R 1 or R 2 is a methyl group and the other is a polyethylene glycol propyl ether group having an acryloyloxy group at the terminal. In the general formula (4), x is an integer of 1 to 10.

ヒドロキシ基を有するシロキサン単位としては、例えば、前記一般式(5)で表されるシロキサン単位がある。前記一般式(5)で表されるシロキサン単位は、前記シロキサン構造において、RもしくはRの一方がメチル基であり、他方が末端にヒドロキシル基を有するポリエチレングリコールプロピルエーテル基である。前記一般式(5)において、xは1〜10の整数である。 Examples of the siloxane unit having a hydroxy group include a siloxane unit represented by the general formula (5). In the siloxane structure, the siloxane unit represented by the general formula (5) is a polyethylene glycol propyl ether group in which one of R 1 and R 2 is a methyl group and the other is a hydroxyl group at the terminal. In the general formula (5), x is an integer of 1 to 10.

前記一般式(1)、一般式(2)、一般式(3)、一般式(4)および一般式(5)の少なくとも一つを含む前記ポリシロキサン化合物としては、前述のように、例えば、下記の(A)化合物および(B)化合物があげられる。   As the polysiloxane compound containing at least one of the general formula (1), the general formula (2), the general formula (3), the general formula (4), and the general formula (5), as described above, for example, The following (A) compound and (B) compound are mentioned.

(A):前記一般式(1)で表されるジメチルシロキサン単位と、前記一般式(2)で表されるシロキサン単位および前記一般式(3)で表されるシロキサン単位の少なくとも一方のシロキサン単位とを含むポリシロキサン化合物。 (A): At least one siloxane unit of the dimethylsiloxane unit represented by the general formula (1), the siloxane unit represented by the general formula (2), and the siloxane unit represented by the general formula (3) And a polysiloxane compound.

前記(A)化合物において、前記一般式(1)で表されるジメチルシロキサン単位(X1)と、前記一般式(2)で表されるシロキサン単位(X2)および下記一般式(3)で表されるシロキサン単位(X3)の少なくとも一方のシロキサン単位(X2,X3)のモル比(X1:X2,X3)は、例えば、100:1〜50の範囲であり、好ましくは、100:3〜30の範囲である。前記(A)化合物において、前記一般式(2)で表されるシロキサン単位(X2)および前記一般式(3)で表されるシロキサン単位(X3)の双方が含まれている場合のモル比(X1:X2:X3)は、例えば、100:1〜50:1〜50の範囲であり、好ましくは、100:5〜40:2〜15の範囲であり、より好ましくは、100:10〜30:3〜10の範囲である。   In the compound (A), the dimethylsiloxane unit (X1) represented by the general formula (1), the siloxane unit (X2) represented by the general formula (2), and the following general formula (3) The molar ratio (X1: X2, X3) of at least one siloxane unit (X2, X3) of the siloxane unit (X3) is, for example, in the range of 100: 1 to 50, preferably 100: 3 to 30 It is a range. In the compound (A), the molar ratio when both the siloxane unit (X2) represented by the general formula (2) and the siloxane unit (X3) represented by the general formula (3) are included ( X1: X2: X3) is, for example, in the range of 100: 1 to 50: 1 to 50, preferably in the range of 100: 5 to 40: 2 to 15, and more preferably 100: 10 to 30 : It is the range of 3-10.

(B):前記一般式(1)で表されるジメチルシロキサン単位、前記一般式(4)で表されるシロキサン単位および前記一般式(5)で表されるシロキサン単位を含むポリシロキサン化合物。 (B): A polysiloxane compound containing a dimethylsiloxane unit represented by the general formula (1), a siloxane unit represented by the general formula (4), and a siloxane unit represented by the general formula (5).

前記(B)化合物において、前記一般式(1)で表されるシロキサン単位(X1)、前記一般式(4)で表されるシロキサン単位(X4)および前記一般式(5)で表されるシロキサン単位(X5)のモル比(X1:X4:X5)は、例えば、100:1〜20:1〜20の範囲であり、好ましくは、100:3〜10:3〜10の範囲である。   In the compound (B), the siloxane unit (X1) represented by the general formula (1), the siloxane unit (X4) represented by the general formula (4), and the siloxane represented by the general formula (5) The molar ratio (X1: X4: X5) of the unit (X5) is, for example, in the range of 100: 1 to 20: 1 to 20, and preferably in the range of 100: 3 to 10: 3 to 10.

前記ポリシロキサン化合物としては、例えば、ジイソシアネート化合物から得られるイソシアヌル酸に、シロキサン構造を導入するとともに、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基の少なくとも一方を導入し、さらに活性水素基を導入した化合物を用いることができる。このような化合物としては、前述のように、前記一般式(6)で表される(C)化合物があげられる。   As the polysiloxane compound, for example, a compound having a siloxane structure introduced into isocyanuric acid obtained from a diisocyanate compound, at least one of an acryloyloxy group and a methacryloyloxy group, and an active hydrogen group is further used. Can do. Examples of such a compound include the compound (C) represented by the general formula (6) as described above.

6−イソシアネートヘキシルイソシアヌル酸の骨格単位は、例えば、下記一般式(7)で表される骨格単位がある。下記一般式(7)で表される骨格単位を単位(b)とする。   Examples of the skeleton unit of 6-isocyanatohexyl isocyanuric acid include a skeleton unit represented by the following general formula (7). A skeleton unit represented by the following general formula (7) is defined as a unit (b).

Figure 2008088309
Figure 2008088309

前記一般式(6)のRにおいて、シロキサン構造を有する置換基としては、例えば、下記一般式(8)で表される置換基がある。下記一般式(8)で表される置換基において、その末端に、ポリジメチルシロキサン単位(d)を有し、前記単位(d)は、メチルヒドロキシプロピルシロキサン単位(c)と結合しており、前記単位(c)は、そのヒドロキシ基が、、前記単位(b)の一部である、6−イソシアネートへキシルイソシアヌル酸の末端イソシアネート基とウレタン結合している。前記ポリジメチルシロキサン単位(d)において、xは、1〜7の整数である。 In R of the general formula (6), examples of the substituent having a siloxane structure include a substituent represented by the following general formula (8). In the substituent represented by the following general formula (8), it has a polydimethylsiloxane unit (d) at its terminal, and the unit (d) is bonded to the methylhydroxypropylsiloxane unit (c). In the unit (c), the hydroxy group is urethane-bonded to the terminal isocyanate group of 6-isocyanatohexyl isocyanuric acid, which is a part of the unit (b). In the polydimethylsiloxane units (d), x 1 is an integer of 1 to 7.

Figure 2008088309
Figure 2008088309

前記一般式(6)のRにおいて、活性水素基を有する置換基としては、例えば、下記一般式(9)で表される置換基がある。前記一般式(9)で表される置換基において、前記単位(b)の一部である6−イソシアネートヘキシルイソシアヌル酸の末端イソシアネート基がカルボキシル基となっている。また、前記一般式(9)で表される置換基において、前記カルボキシル基が脱炭酸化してアミノ基になっていてもよい。   In R of the general formula (6), examples of the substituent having an active hydrogen group include a substituent represented by the following general formula (9). In the substituent represented by the general formula (9), the terminal isocyanate group of 6-isocyanatohexyl isocyanuric acid which is a part of the unit (b) is a carboxyl group. In the substituent represented by the general formula (9), the carboxyl group may be decarboxylated to form an amino group.

Figure 2008088309
Figure 2008088309

前記一般式(6)のRにおいて、アクリロイルオキシ基を有する置換基としては、例えば、下記一般式(10)で表される置換基がある。前記一般式(10)で表される置換基において、前記単位(b)の一部である、6−イソシアネートへキシルイソシアヌル酸の末端イソシアネート基が、脂肪族ポリエステルである単位(a)とウレタン結合し、前記単位(a)の末端にはアクリロイルオキシ基が結合している。前記一般式(10)において、m、nは、同一でもよいし、異なっていてよく、それぞれ、1〜10の整数であり、lは、1〜5の整数である。   In R of the general formula (6), examples of the substituent having an acryloyloxy group include a substituent represented by the following general formula (10). In the substituent represented by the general formula (10), the terminal isocyanate group of 6-isocyanatohexylisocyanuric acid, which is a part of the unit (b), is an aliphatic polyester unit (a) and a urethane bond And the acryloyloxy group has couple | bonded with the terminal of the said unit (a). In the general formula (10), m and n may be the same or different, and are each an integer of 1 to 10, and l is an integer of 1 to 5.

Figure 2008088309
Figure 2008088309

前記(C)化合物が、前記一般式(7)で表される骨格構造である単位(b)を含み、かつ前記一般式(8)から(10)で表される置換基を含む6−イソシアネートへキシルイソシアヌル酸の誘導体の場合、前記単位(a):単位(b):単位(c):単位(d)の成分割合(モル比)は、単位(b)を100としたとき、単位(a)は、例えば、10〜100の範囲であり、好ましくは30〜60の範囲であり、単位(c)は、例えば、5〜80の範囲であり、好ましくは、10〜60の範囲であり、単位(d)は、例えば、10〜400の範囲であり、好ましくは、100〜300の範囲である。   The 6-isocyanate in which the compound (C) includes the unit (b) which is the skeleton structure represented by the general formula (7) and the substituents represented by the general formulas (8) to (10). In the case of the hexyl isocyanuric acid derivative, the component ratio (molar ratio) of the unit (a): unit (b): unit (c): unit (d) is unit (b) when the unit (b) is 100. a) is, for example, in the range of 10-100, preferably in the range of 30-60, and the unit (c) is, for example, in the range of 5-80, preferably in the range of 10-60. The unit (d) is, for example, in the range of 10 to 400, and preferably in the range of 100 to 300.

本発明において、前記ポリシロキサン化合物の各成分の割合(モル比)は、例えば、H−NMRスペクトルの積分曲線から求めることができる。前記ポリシロキサン化合物の重量平均分子量は、例えば、500〜150000の範囲であり、好ましくは2000〜100000の範囲である。前記重量平均分子量は、例えば、GPCにより測定することができる。 In the present invention, the ratio (molar ratio) of each component of the polysiloxane compound can be determined from, for example, an integral curve of 1 H-NMR spectrum. The weight average molecular weight of the polysiloxane compound is, for example, in the range of 500 to 150,000, and preferably in the range of 2000 to 100,000. The weight average molecular weight can be measured by GPC, for example.

本発明において、前記硬化皮膜若しくは反射防止層(低屈折率層)は、前記硬化皮膜形成材料若しくは反射防止層形成材料を調製し、これを塗工して塗工膜を形成し、前記塗工膜を硬化させることにより得ることができる。前記硬化皮膜形成材料若しくは反射防止層形成材料は、前述のように、前記多官能重合性化合物、前記ポリシロキサン化合物およびケトン系溶媒を含む。前記硬化皮膜形成材料若しくは反射防止層形成材料100重量部において、前記ケトン系溶媒は、例えば、3重量部以上であり、好ましくは、4〜50重量部であり、より好ましくは、5〜40重量部である。前記ケトン系溶媒が3重量部以上であれば、硬度および膜強度をさらに向上させることが可能となる。また、前記硬化皮膜形成材料若しくは反射防止層形成材料において、前記多官能重合性化合物100重量部に対し、前記ポリシロキサン化合物(B)を2〜30重量部含むことが好ましく、5〜20重量部がさらに好ましい。前記ポリシロキサン化合物の含有量が2重量部以上であれば、形成される硬化皮膜において、表面の滑り性および汚染防止性能が付与される。また、前記ポリシロキサン化合物の含有量が30重量部以下であれば、相対的に前記多官能重合性化合物樹の含有量を十分なものとすることができ、その結果、形成される効果皮膜の弾性率がより向上し、硬度および膜強度をさらに向上させることが可能となる。   In the present invention, the cured film or the antireflection layer (low refractive index layer) is prepared by preparing the cured film forming material or the antireflection layer forming material and coating the material to form a coating film. It can be obtained by curing the film. As described above, the cured film forming material or the antireflection layer forming material contains the polyfunctional polymerizable compound, the polysiloxane compound, and a ketone solvent. In 100 parts by weight of the cured film forming material or the antireflection layer forming material, the ketone solvent is, for example, 3 parts by weight or more, preferably 4 to 50 parts by weight, and more preferably 5 to 40 parts by weight. Part. If the ketone solvent is 3 parts by weight or more, the hardness and the film strength can be further improved. In the cured film forming material or the antireflection layer forming material, it is preferable that 2 to 30 parts by weight of the polysiloxane compound (B) is contained with respect to 100 parts by weight of the polyfunctional polymerizable compound, and 5 to 20 parts by weight. Is more preferable. When the content of the polysiloxane compound is 2 parts by weight or more, surface slipperiness and antifouling performance are imparted to the formed cured film. In addition, if the content of the polysiloxane compound is 30 parts by weight or less, the content of the polyfunctional polymerizable compound tree can be relatively sufficient, and as a result, the effect film formed The elastic modulus is further improved, and the hardness and film strength can be further improved.

前記硬化皮膜形成材料若しくは反射防止層形成材料は、重合開始剤を含んでいてもよい。前記多官能重合性化合物が、光硬化性の場合、前記重合開始剤は、光重合開始剤である。前記光重合開始剤は、例えば、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、キサントン、3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、ベンゾイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、N,N,N’,N’−テトラメチル−4,4’−ジアミノベンゾフェノン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、その他チオキサント系化合物等が使用できる。その他に前記硬化皮膜形成材料若しくは反射防止層形成材料に添加できる添加剤としては、例えば、α−ヒドロキシアルキルフェノン、アシルフォスフィンオキサイド系化合物、オキシムエステル等が使用できる。   The cured film forming material or the antireflection layer forming material may contain a polymerization initiator. When the polyfunctional polymerizable compound is photocurable, the polymerization initiator is a photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerization initiator include 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, acetophenone, benzophenone, xanthone, 3-methylacetophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4′-dimethoxybenzophenone, benzoisopropyl ether, benzyldimethyl Ketal, N, N, N ′, N′-tetramethyl-4,4′-diaminobenzophenone, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, other thioxant compounds, etc. Can be used. As other additives that can be added to the cured film forming material or the antireflection layer forming material, for example, α-hydroxyalkylphenone, acylphosphine oxide compounds, oxime esters, and the like can be used.

前記反射防止層の形成材料には、中空で球状の酸化ケイ素超微粒子が含まれていることが好ましい。前記酸化ケイ素超微粒子は、平均粒子径が5〜300nm程度であることが好ましく、10〜200nmの範囲がより好ましい。前記酸化ケイ素超微粒子は、細孔を有する外殻の内部に空洞が形成されている中空球状であり、その空洞内に前記酸化ケイ素超微粒子の調製時の溶媒および気体の少なくとも一方を包含したものである。また、前記酸化ケイ素超微粒子の前記空洞を形成するための前駆体物質が前記空洞内に残存していることが好ましい。前記外殻の厚さは、1〜50nm程度の範囲であり、かつ前記酸化ケイ素超微粒子の平均粒子径の1/50〜1/5程度の範囲であることが好ましい。前記外殻は、複数の被覆層から形成されていることが好ましい。また、前記酸化ケイ素超微粒子において、前記細孔が閉塞され、前記空洞が前記外殻により密封されていることが好ましい。これは、前記反射防止層中において、前記酸化ケイ素超微粒子の多孔質または空洞が維持されており、前記反射防止層の屈折率をより低減させることが可能なためである。このような中空で球状の酸化ケイ素超微粒子の製造方法としては、例えば、特開2000−233611号公報に開示されたシリカ系微粒子の製造方法が好適に採用される。   The material for forming the antireflection layer preferably contains hollow spherical silicon oxide ultrafine particles. The silicon oxide ultrafine particles preferably have an average particle diameter of about 5 to 300 nm, and more preferably in the range of 10 to 200 nm. The silicon oxide ultrafine particles are hollow spheres in which cavities are formed inside the outer shell having pores, and the cavities include at least one of a solvent and a gas at the time of preparing the silicon oxide ultrafine particles. It is. Moreover, it is preferable that the precursor substance for forming the said cavity of the said silicon oxide ultrafine particle remains in the said cavity. The thickness of the outer shell is preferably in the range of about 1 to 50 nm and in the range of about 1/50 to 1/5 of the average particle diameter of the silicon oxide ultrafine particles. The outer shell is preferably formed from a plurality of coating layers. Further, in the silicon oxide ultrafine particles, it is preferable that the pores are closed and the cavity is sealed by the outer shell. This is because the porous or voids of the silicon oxide ultrafine particles are maintained in the antireflection layer, and the refractive index of the antireflection layer can be further reduced. As a method for producing such hollow and spherical silicon oxide ultrafine particles, for example, the method for producing silica-based fine particles disclosed in JP-A-2000-233611 is suitably employed.

前記硬化皮膜形成材料若しくは前記反射防止層形成材料には、形成される皮膜もしくは層の膜強度を向上させることを目的として、無機の超微粒子を添加することが好ましい。無機の超微粒子の平均粒径は、例えば、2〜50nmの範囲であり、好ましくは、5〜30nmの範囲の範囲である。無機の超微粒子としては、シリカ、アルミナ、フッ化マグネシウム等の超微粒子があげられ、このなかで、シリカの超微粒子が特に好ましい。前記無機の超微粒子の添加量は、前記硬化皮膜形成材料若しくは反射防止層形成材料の全固形分100重量部に対し、例えば、10〜80重量部の範囲である。   It is preferable to add inorganic ultrafine particles to the cured film forming material or the antireflection layer forming material for the purpose of improving the film strength of the formed film or layer. The average particle diameter of the inorganic ultrafine particles is, for example, in the range of 2 to 50 nm, and preferably in the range of 5 to 30 nm. Examples of the inorganic ultrafine particles include ultrafine particles such as silica, alumina, and magnesium fluoride. Among these, ultrafine particles of silica are particularly preferable. The addition amount of the inorganic ultrafine particles is, for example, in the range of 10 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total solid content of the cured film forming material or the antireflection layer forming material.

前記硬化皮膜形成材料若しくは前記反射防止層形成材料の塗工方法は、特に制限されず、例えば、ファンテンコート、ダイコート、スピンコート、スプレーコート、グラビアコート、ロールコート、バーコート等があげられる。前記塗工による塗工膜の形成は、前記硬化皮膜の場合は、所定の基材表面に前記硬化皮膜形成材料を塗工することにより実施でき、前記反射防止層の場合は、前記ハードコート層の上に反射防止層形成材料を塗工することにより実施できる。前記塗工膜は、硬化に先立ち、加熱乾燥処理することが好ましい。前記乾燥処理は、温度が、例えば、60〜150℃の範囲、好ましくは70〜130℃であり、処理時間は、例えば、1分〜30分の範囲、好ましくは、1分〜10分の範囲である。前記塗工膜の加熱は、例えば、ホットプレート、オーブン、ベルト炉等を用いて実施できる。前記塗工膜の硬化処理は、前記多官能重合性化合物および前記ポリシロキサン化合物の種類等により適宜選択され、例えば、熱による硬化処理、光若しくは電子線照射による硬化処理があげられる。前記光若しくは電子線照射に用いられるエネルギー線源としては、例えば、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、窒素レーザー、電子線加速装置、放射性元素などのエネルギー線源が使用される。エネルギー線源の照射量は、紫外線波長365nmでの積算露光量として、例えば、50〜5000mJ/cmの範囲である。前記塗工膜の硬化処理により、前記硬化皮膜若しくは前記反射防止層が形成される。前記硬化皮膜若しくは反射防止層に対し、さらに硬度を向上させるために、加熱処理することが好ましい。硬化処理後の加熱処理の条件は、前記乾燥処理と同様の条件を採用できる。 The coating method of the cured film forming material or the antireflection layer forming material is not particularly limited, and examples thereof include phanten coating, die coating, spin coating, spray coating, gravure coating, roll coating, and bar coating. In the case of the cured film, the coating film can be formed by coating the cured film forming material on the surface of a predetermined substrate. In the case of the antireflection layer, the hard coat layer can be formed. It can be carried out by coating an antireflection layer forming material on the substrate. The coating film is preferably heat-dried prior to curing. In the drying treatment, the temperature is, for example, in the range of 60 to 150 ° C., preferably 70 to 130 ° C., and the treatment time is, for example, in the range of 1 minute to 30 minutes, preferably in the range of 1 minute to 10 minutes. It is. The coating film can be heated using, for example, a hot plate, an oven, a belt furnace, or the like. The curing treatment of the coating film is appropriately selected depending on the types of the polyfunctional polymerizable compound and the polysiloxane compound, and examples thereof include a curing treatment by heat and a curing treatment by light or electron beam irradiation. As the energy beam source used for the light or electron beam irradiation, for example, an energy beam source such as a high-pressure mercury lamp, a halogen lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a nitrogen laser, an electron beam accelerator, or a radioactive element is used. The irradiation amount of the energy ray source is, for example, in the range of 50 to 5000 mJ / cm 2 as an integrated exposure amount at an ultraviolet wavelength of 365 nm. The cured film or the antireflection layer is formed by curing the coating film. It is preferable to heat-treat the cured film or the antireflection layer in order to further improve the hardness. The conditions for the heat treatment after the curing treatment can be the same as those for the drying treatment.

本発明において、前記硬化皮膜若しくは前記反射防止層の厚みは、例えば、60〜130nmの範囲、好ましくは、70〜120nmの範囲、より好ましくは、80〜110nmの範囲である。前記反射防止層の厚み精度は、例えば、設計厚みに対し±10%の範囲であることが好ましい。例えば、反射防止層の設計厚みが95nmの場合は、86nm〜105nmの範囲が好ましい。   In the present invention, the thickness of the cured film or the antireflection layer is, for example, in the range of 60 to 130 nm, preferably in the range of 70 to 120 nm, and more preferably in the range of 80 to 110 nm. The thickness accuracy of the antireflection layer is preferably in the range of ± 10% with respect to the design thickness, for example. For example, when the design thickness of the antireflection layer is 95 nm, the range of 86 nm to 105 nm is preferable.

反射防止層の反射防止機能のメカニズムについて、説明する。光は物体に当たるとその界面での反射、内部での吸収、散乱といった現象を繰り返して物体の背面に透過していく。画像表示装置にハードコートフィルムを装着した際、画像の視認性を低下させる要因の一つに、空気とハードコート層界面での光の反射が挙げられる。その表面反射を低減させる方法として、厚みおよび屈折率を厳密に制御した反射防止層をハードコート層表面に積層し、光の干渉効果を利用し入射光と反射光の逆転した位相を互いに打ち消し合わせることで反射防止機能を発現させる。   The mechanism of the antireflection function of the antireflection layer will be described. When light strikes an object, it repeats phenomena such as reflection at the interface, absorption inside, and scattering, and passes through the back of the object. When a hard coat film is attached to an image display device, one of the factors that lower the image visibility is light reflection at the interface between air and the hard coat layer. As a method to reduce the surface reflection, an antireflection layer with strictly controlled thickness and refractive index is laminated on the surface of the hard coat layer, and the reversed phases of incident light and reflected light cancel each other using the light interference effect. The antireflection function is expressed.

光の干渉効果に基づく反射防止層の設計において、その干渉効果を上げるには、反射防止層とハードコート層の屈折率差を大きくすればよい。単層の反射防止層の設計において、反射防止機能を最大限引き出すためには、反射防止層の屈折率をn、ハードコート層の屈折率をnとすると、n=(n1/2を満たすように屈折率nを設定すればよい。この式を無反射条件における振幅条件という。仮にn=1.52とするとn=1.233となり、反射防止層の屈折率を1.233に近づける事で反射率を低減する事ができる。また可視光線の波長領域(380nm〜780nm)のうち、特に視感度が高い波長領域は450〜650nmの範囲であり、この中心波長である550nmの反射率を低減することで目に感じられる反射率を効果的に低減する事ができる。そのためには、反射防止層の膜厚をd、入射光の波長をλとした時に、nd=λ/4を満たすように膜厚(層厚)を設定すればよい。この式を無反射条件における位相条件といい、例えば、λ=550nm、n=1.45の時、反射防止層の厚みdは95nmとなる。 In the design of the antireflection layer based on the light interference effect, the refractive index difference between the antireflection layer and the hard coat layer may be increased in order to increase the interference effect. In designing a single-layer antireflection layer, in order to maximize the antireflection function, n = (n m ) 1 / , where n is the refractive index of the antireflection layer and n m is the refractive index of the hard coat layer. The refractive index n may be set to satisfy 2 . This equation is referred to as an amplitude condition in a non-reflection condition. If n m = 1.52, then n = 1.233, and the reflectance can be reduced by making the refractive index of the antireflection layer close to 1.233. Further, among the visible light wavelength range (380 nm to 780 nm), the wavelength range having particularly high visibility is in the range of 450 to 650 nm, and the reflectance that can be felt by reducing the reflectance at 550 nm, which is the central wavelength. Can be effectively reduced. For this purpose, the film thickness (layer thickness) may be set so as to satisfy nd = λ / 4, where d is the thickness of the antireflection layer and λ is the wavelength of incident light. This equation is referred to as a phase condition in a non-reflection condition. For example, when λ = 550 nm and n = 1.45, the thickness d of the antireflection layer is 95 nm.

つぎに、本発明の反射防止ハードコートフィルムは、前記透明プラスチックフィルムの少なくとも一方の面に、ハードコート層および反射防止層が、この順序で積層されているという構成である。   Next, the antireflection hard coat film of the present invention has a configuration in which a hard coat layer and an antireflection layer are laminated in this order on at least one surface of the transparent plastic film.

本発明の反射防止ハードコートフィルムにおいて、前記透明プラスチックフィルム基材は、特に制限されないが、可視光の光線透過率に優れ(好ましくは光線透過率90%以上)、透明性に優れるもの(好ましくはヘイズ値1%以下)のものが好ましい。前記透明プラスチックフィルム基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース(TAC)等のセルロース系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー等の透明ポリマーから形成されたフィルムが挙げられる。また、前記透明プラスチックフィルム基材としては、例えば、ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン系ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ないしノルボルネン構造を有するポリオレフイン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミドなどのアミド系ポリマー等の透明ポリマーから形成されたフィルムも挙げられる。さらに、前記透明プラスチックフィルム基材としては、例えば、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマーや前記ポリマーのブレンド物などの透明ポリマーから形成されたフィルム等も挙げられる。前記透明プラスチックフィルム基材としては、特に光学的に複屈折の少ない透明フィルムが好適に用いられる。前記透明プラスチックフィルム基材を偏光板の保護フィルムとして兼用する場合は、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、アクリル系ポリマー、環状ないしノルボルネン構造を有するポリオレフイン等が好ましい。透明プラスチックフィルム基材の厚さは、特に制限されないが、強度や取り扱い性などの作業性、薄層性等の点より、10〜500μmの範囲が好ましく、好ましくは20〜300μmの範囲であり、より好ましくは30〜200μmの範囲である。透明プラスチックフィルム基材フィルムの屈折率は、特に制限されず、例えば、1.30〜1.80の範囲、好ましくは1.40〜1.70の範囲である。   In the antireflection hard coat film of the present invention, the transparent plastic film substrate is not particularly limited, but has excellent visible light transmittance (preferably light transmittance of 90% or more) and excellent transparency (preferably Those having a haze value of 1% or less are preferred. Examples of the transparent plastic film substrate include polyester polymers such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, cellulose polymers such as diacetyl cellulose and triacetyl cellulose (TAC), acrylic polymers such as polycarbonate polymers and polymethyl methacrylate. And a film formed from a transparent polymer. Examples of the transparent plastic film substrate include styrene polymers such as polystyrene and acrylonitrile / styrene copolymers, polyethylene, polypropylene, polyolefins having a cyclic or norbornene structure, and olefin polymers such as ethylene / propylene copolymers. And a film formed from a transparent polymer such as vinyl chloride polymer, amide polymer such as nylon or aromatic polyamide. Further, examples of the transparent plastic film substrate include imide polymers, sulfone polymers, polyether sulfone polymers, polyether ether ketone polymers, polyphenylene sulfide polymers, vinyl alcohol polymers, vinylidene chloride polymers, vinyls. Examples thereof include a film formed from a transparent polymer such as a butyral polymer, an arylate polymer, a polyoxymethylene polymer, an epoxy polymer, and a blend of the aforementioned polymers. As the transparent plastic film substrate, a transparent film with little optical birefringence is particularly preferably used. When the transparent plastic film substrate is also used as a protective film for a polarizing plate, triacetyl cellulose, polycarbonate, an acrylic polymer, polyolefin having a cyclic or norbornene structure, and the like are preferable. The thickness of the transparent plastic film substrate is not particularly limited, but is preferably in the range of 10 to 500 μm, preferably in the range of 20 to 300 μm, from the viewpoints of workability such as strength and handleability, and thin layer properties. More preferably, it is the range of 30-200 micrometers. The refractive index of the transparent plastic film base film is not particularly limited, and is, for example, in the range of 1.30 to 1.80, preferably in the range of 1.40 to 1.70.

前述のように、前記ハードコート層の表面は、微細凹凸構造にして防眩牲を付与してもよい。前記ハードコート層表面に微細凹凸構造を形成する方法は、特に制限されず、適宜な方式を採用することができる。例えば、前記透明プラスチックフィルム基材の表面を、予め、サンドブラストやエンボスロール、化学エッチング等の適宜な方式で粗面化処理して微細凹凸構造にすることで、この上に形成される前記ハードコート層表面を微細凹凸構造にする方法があげられる。また、前記ハードコート層上に、さらにハードコート層を積層し、金型による転写方式等により微細凹凸構造を付与する方法が挙げられる。また、前記ハードコート層に微粒子を分散含有させて微細凹凸構造を付与する方法などが挙げられる。これら微細凹凸構造の形成方法は、二種以上の方法を組み合わせ、異なる状態の微細凹凸構造表面を複合させた層として形成してもよい。前記ハードコート層の微細凹凸構造の形成方法のなかでも、微粒子を分散含有させて微細凹凸構造を形成する方法が好ましい。   As described above, the surface of the hard coat layer may have a fine uneven structure to impart antiglare properties. The method for forming the fine concavo-convex structure on the hard coat layer surface is not particularly limited, and an appropriate method can be adopted. For example, the hard coat formed on the surface of the transparent plastic film base by roughening the surface in advance by an appropriate method such as sandblasting, embossing roll, chemical etching, etc. to form a fine uneven structure There is a method of making the surface of the layer a fine uneven structure. Further, a method of further laminating a hard coat layer on the hard coat layer and imparting a fine concavo-convex structure by a transfer method using a mold or the like can be mentioned. In addition, a method of imparting a fine concavo-convex structure by dispersing fine particles in the hard coat layer may be used. These fine concavo-convex structure forming methods may be formed as a layer in which two or more methods are combined to combine the fine concavo-convex structure surfaces in different states. Among the methods for forming the fine concavo-convex structure of the hard coat layer, a method of forming a fine concavo-convex structure by dispersing fine particles is preferable.

前記ハードコート層の表面構造を凹凸構造にするための前記微粒子としては、例えば、無機微粒子と有機微粒子とがある。前記無機微粒子は、特に制限されず、例えば、酸化ケイ素微粒子、酸化チタン微粒子、酸化アルミニウム微粒子、酸化亜鉛微粒子、酸化錫微粒子、炭酸カルシウム微粒子、硫酸バリウム微粒子、タルク微粒子、カオリン微粒子、硫酸カルシウム微粒子等があげられる。また、有機微粒子は、特に制限されず、例えば、ポリメタクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末(PMMA微粒子)、シリコーン樹脂粉末、ポリスチレン樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、アクリルスチレン樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン樹脂粉末、ポリオレフィン樹脂粉末、ポリエステル樹脂粉末、ポリアミド樹脂粉末、ポリイミド樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂粉末、共重合体からなる有機微粒子等があげられる。これらの無機微粒子および有機微粒子は、一種類を単独で使用してもよいし、二種類以上を併用してもよい。   Examples of the fine particles for making the surface structure of the hard coat layer have an uneven structure include inorganic fine particles and organic fine particles. The inorganic fine particles are not particularly limited, and examples thereof include silicon oxide fine particles, titanium oxide fine particles, aluminum oxide fine particles, zinc oxide fine particles, tin oxide fine particles, calcium carbonate fine particles, barium sulfate fine particles, talc fine particles, kaolin fine particles, calcium sulfate fine particles and the like. Can be given. The organic fine particles are not particularly limited, and examples thereof include polymethyl methacrylate acrylate resin powder (PMMA fine particles), silicone resin powder, polystyrene resin powder, polycarbonate resin powder, acrylic styrene resin powder, benzoguanamine resin powder, melamine resin powder, Examples thereof include polyolefin resin powder, polyester resin powder, polyamide resin powder, polyimide resin powder, polyfluorinated ethylene resin powder, and organic fine particles made of a copolymer. These inorganic fine particles and organic fine particles may be used alone or in combination of two or more.

前記微粒子の形状は特に制限されず、例えば、ビーズ状の略球形であってもよく、粉末等の不定形のものであってもよい。前記微粒子の重量平均粒径は、例えば、1〜30μmの範囲であり、好ましくは2〜20μmの範囲である。前記微粒子としては、略球形のものが好ましく、より好ましくは、アスペクト比が1.5以下の略球形の微粒子である。   The shape of the fine particles is not particularly limited, and may be, for example, a bead-like substantially spherical shape or an irregular shape such as a powder. The weight average particle diameter of the fine particles is, for example, in the range of 1 to 30 μm, and preferably in the range of 2 to 20 μm. The fine particles are preferably substantially spherical, more preferably substantially spherical fine particles having an aspect ratio of 1.5 or less.

前記微粒子の配合割合は、特に制限されず、適宜設定できる。前記微粒子の配合割合は、前記ハードコート層形成材料100重量部に対し、例えば、2〜60重量部の範囲であり、好ましくは5〜50重量部の範囲である。   The mixing ratio of the fine particles is not particularly limited and can be set as appropriate. The blending ratio of the fine particles is, for example, in the range of 2 to 60 parts by weight, and preferably in the range of 5 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the hard coat layer forming material.

前記ハードコート層の厚みは、例えば、2〜50μmの範囲が好ましい。前記厚みが前記所定の範囲であれば、前記ハードコート層の硬度も十分なものとなり(例えば、鉛筆硬度で4H以上)、またカールおよびクラックの発生がより効果的に防止可能である。前記ハードコート層の厚みは、好ましくは、5〜30μmの範囲であり、より好ましくは、15〜25μmの範囲である。   The thickness of the hard coat layer is preferably in the range of 2 to 50 μm, for example. When the thickness is in the predetermined range, the hardness of the hard coat layer is sufficient (for example, pencil hardness of 4H or more), and curling and cracking can be more effectively prevented. The thickness of the hard coat layer is preferably in the range of 5 to 30 μm, more preferably in the range of 15 to 25 μm.

前記ハードコート層は、例えば、ハードコート層形成用樹脂を溶剤に溶解若しくは分散させたハードコート層形成材料を準備し、前記ハードコート層形成材料を前記透明プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に塗工して塗膜を形成し、前記塗膜を硬化させて形成することができる。   The hard coat layer is prepared, for example, by preparing a hard coat layer forming material in which a hard coat layer forming resin is dissolved or dispersed in a solvent, and the hard coat layer forming material is provided on at least one surface of the transparent plastic film substrate. It can be formed by coating to form a coating film and curing the coating film.

前記ハードコート層形成用樹脂は、例えば、熱、光または電子線により硬化する樹脂が使用できる。前記ハードコート層形成用樹脂としては、特に制限されないが、例えば、電離放射線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂等が挙げられる。これらの中で、加工速度の速さ、透明プラスチックフィルム基材への熱のダメージの少なさから、電離放射線硬化型樹脂を用いることが特に好ましい。前記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、多価アルコールのアクリル酸又はメタクリル酸エステルのような多官能性のアクリレート樹脂、ジイソシアネート、多価アルコール及びアクリル酸又はメタクリル酸のヒドロキシアルキルエステル等から合成されるような多官能性のウレタンアクリレート樹脂などを挙げることができる。さらにアクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も必要に応じて好適に使用することができる。また、メラニン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、シリコーン系樹脂等も好ましく用いられる。   As the hard coat layer forming resin, for example, a resin curable by heat, light, or electron beam can be used. The hard coat layer forming resin is not particularly limited, and examples thereof include an ionizing radiation curable resin, a thermosetting resin, and a thermoplastic resin. Among these, it is particularly preferable to use an ionizing radiation curable resin because of its high processing speed and low heat damage to the transparent plastic film substrate. Examples of the ionizing radiation curable resin are synthesized from polyfunctional acrylate resins such as polyhydric alcohol acrylic acid or methacrylic acid ester, diisocyanate, polyhydric alcohol, and hydroxyalkyl ester of acrylic acid or methacrylic acid. Examples of such polyfunctional urethane acrylate resins. Furthermore, polyether resins having an acrylate functional group, polyester resins, epoxy resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins and the like can be suitably used as necessary. In addition, melanin resins, urethane resins, alkyd resins, silicone resins and the like are also preferably used.

前記溶媒は、特に制限されず、種々の溶媒を使用可能であり、例えば、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、1,3,5−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸n−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸n−ペンチル、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、1−ペンタノール、2−メチル−2−ブタノール、シクロヘキサノール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン(MIBK)、2−オクタノン、2−ペンタノン、2−ヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル等があげられる。これらは、一種類を単独で使用してもよいし、二種類以上を併用してもよい。また、前記溶剤は、前記透明プラスチックフィルム基材と前記ハードコート層の密着性を向上させるという観点から、全体の20重量%以上の割合で酢酸エチルを含有することが好ましく、より好ましくは全体の25重量%以上の割合で酢酸エチルを含有することであり、最適には全体の30〜70重量%の割合で酢酸エチルを含有することである。70重量%以下であれば、溶媒の揮発速度を適当なものにすることができ、塗工ムラや乾燥ムラを効果的に防止することが可能となる。酢酸エチルと併用する溶剤の種類は、特に制限されず、例えば、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルがあげられる。   The solvent is not particularly limited, and various solvents can be used. For example, dibutyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, 1, 3,5-trioxane, tetrahydrofuran, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, ethyl formate, propyl formate, n-pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propionic acid Methyl, ethyl propionate, n-pentyl acetate, acetylacetone, diacetone alcohol, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, -Butanol, 1-pentanol, 2-methyl-2-butanol, cyclohexanol, isobutyl acetate, methyl isobutyl ketone (MIBK), 2-octanone, 2-pentanone, 2-hexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, ethylene Examples include glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, and propylene glycol monomethyl ether. These may be used alone or in combination of two or more. The solvent preferably contains ethyl acetate in a proportion of 20% by weight or more of the whole, more preferably from the viewpoint of improving the adhesion between the transparent plastic film substrate and the hard coat layer. It is to contain ethyl acetate in a proportion of 25% by weight or more, and optimally to contain ethyl acetate in a proportion of 30 to 70% by weight of the whole. If it is 70% by weight or less, the volatilization rate of the solvent can be made appropriate, and coating unevenness and drying unevenness can be effectively prevented. The type of solvent used in combination with ethyl acetate is not particularly limited, and examples thereof include butyl acetate, methyl ethyl ketone, ethylene glycol monobutyl ether, and propylene glycol monomethyl ether.

前記ハードコート層形成材料において、前記ハードコート層形成用樹脂が、光硬化性樹脂の場合、従来公知の光重合開始剤を用いることができる。前記光重合開始剤としては、例えば、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、キサントン、3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、N,N,N’,N’−テトラメチル−4,4’−ジアミノベンゾフェノン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン等があげられ、その他、チオキサント系化合物等が使用できる。   In the hard coat layer forming material, when the hard coat layer forming resin is a photocurable resin, a conventionally known photopolymerization initiator can be used. Examples of the photopolymerization initiator include 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, acetophenone, benzophenone, xanthone, 3-methylacetophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4′-dimethoxybenzophenone, benzoinpropyl ether, benzyl Dimethyl ketal, N, N, N ′, N′-tetramethyl-4,4′-diaminobenzophenone, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, etc. In addition, thioxant compounds can be used.

前記ハードコート層形成材料中には、粒径が100nm以下の金属酸化物の超微粒子を添加することができる。粒径が100nm以下の金属酸化物の超微粒子としては、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム、酸化力ルシウム、酸化インジウム、酸化アンチモン等が挙げられ、これらの複合物も使用することができる。前記金属酸化物の超微粒子として、粒径を100nmを超えるものを使用すると、光の散乱が発生し、透過率の低下や前記ハードコート層の着色が発生し、透明性が低下するため、好ましくない。   Metal oxide ultrafine particles having a particle size of 100 nm or less can be added to the hard coat layer forming material. Examples of ultrafine particles of metal oxide having a particle size of 100 nm or less include titanium oxide, silicon oxide, aluminum oxide, zinc oxide, tin oxide, zirconium oxide, oxidative power lucium, indium oxide, and antimony oxide. Things can also be used. As the ultrafine particles of the metal oxide, those having a particle size exceeding 100 nm are used because light scattering occurs, the transmittance is reduced and the hard coat layer is colored, and the transparency is lowered. Absent.

また、粒径が100nm以下の金属酸化物の超微粒子は、その配合量に応じハードコート層の見かけの屈折率を調整する機能を有する。前記透明プラスチックフィルム基材の屈折率とハードコート層の屈折率は近似していることが好ましい。前記透明プラスチックフィルム基材の屈折率と前記ハードコート層の屈折率差が大きいと、反射防止ハードコートフィルムに入射した外光の反射光が虹色の色相を呈する干渉縞と呼ばれる現象が発生し、表示品位を落としてしまう。特に、一般のオフィス等で汎用されている三波長蛍光灯の下では、干渉縞が顕著に現れる。   The ultrafine particles of metal oxide having a particle size of 100 nm or less have a function of adjusting the apparent refractive index of the hard coat layer in accordance with the amount of the metal oxide. The refractive index of the transparent plastic film substrate and the refractive index of the hard coat layer are preferably approximated. When the refractive index difference between the transparent plastic film substrate and the hard coat layer is large, a phenomenon called interference fringes in which reflected light of external light incident on the antireflection hard coat film exhibits a rainbow hue occurs. The display quality is degraded. In particular, interference fringes appear conspicuously under a three-wavelength fluorescent lamp that is widely used in general offices and the like.

透明プラスチックフィルム基材の屈折率と前記ハードコート層の屈折率差をdとすると、dは0.04以下が好ましい。更に好ましくは、0.02以下である。前記透明プラスチックフィルム基材として、ポリエチレンテレフタレートフイルムを用いる場合、粒径が100nm以下の金属酸化物の超微粒子として酸化チタンを、前記ハードコート層形成材料の全樹脂成分に対し、例えば、30〜40%程度配合することで、ポリエチレンテレフタレートフイルムの屈折率約1.64に対しdを0.02以下に制御することができ、干渉縞の発生を抑制することができる。また、前記透明プラスチックフイルム基材として、トリアセチルセルロースフイルムを用いる場合、粒径が100nm以下の金属酸化物の超微粒子として酸化ケイ素を、前記ハードコート層形成材料の全樹脂成分に対し、例えば、35%〜45%程度配合することで、トリアセチルセルロースフイルムの屈折率約1.48に対しdを上記同様に0.02以下に制御することができ、干渉縞の発生を抑制することができる。   When the difference in refractive index between the transparent plastic film substrate and the hard coat layer is d, d is preferably 0.04 or less. More preferably, it is 0.02 or less. When a polyethylene terephthalate film is used as the transparent plastic film substrate, titanium oxide is used as ultrafine particles of metal oxide having a particle size of 100 nm or less, for example, 30 to 40 with respect to all resin components of the hard coat layer forming material. By blending about%, d can be controlled to 0.02 or less with respect to the refractive index of about 1.64 of the polyethylene terephthalate film, and the generation of interference fringes can be suppressed. Further, when a triacetyl cellulose film is used as the transparent plastic film substrate, silicon oxide is used as ultrafine particles of a metal oxide having a particle size of 100 nm or less, for all resin components of the hard coat layer forming material, for example, By blending about 35% to 45%, d can be controlled to 0.02 or less with respect to the refractive index of about 1.48 of the triacetyl cellulose film, and the occurrence of interference fringes can be suppressed. .

前記ハードコート層形成材料には、各種レベリング剤を添加することができる。レベリング剤としては、フッ素系又はシリコーン系のレベリング剤を適宜使用することができるが、より好ましくはフッ素系のレベリング剤である。レベリング剤として、フッ素系のものを選択した場合、前記ハードコート層の上に形成する反射防止層を弾いたりする影響が少ない。フッ素系のレベリング剤としては、例えば、パーフルオロブチルスルホン酸塩等のパーフルオロアルキル基含有スルホン酸塩、パーフルオロアルキル基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基含有カルボン酸塩、パーフルオロアルキル基含有リン酸エステル、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物等があげられる。前記ハードコート層形成材料に、フッ素系またはシリコーン系のレベリング剤を添加すれば、前記ハードコート層の形成における予備乾燥及び溶媒乾燥時に、フッ素系またはシリコーン系のレベリング剤が空気界面にブリードしてくるので、酸素による前記ハードコート層形成用樹脂の硬化阻害を防ぐことができ、この結果、前記ハードコート層の最表面においても十分な硬度を有することができる。フッ素系又はシリコーン系のレベリング剤の配合量は、前記ハードコート層形成材料の全樹脂成分100重量部に対し、例えば、5重量部以下、好ましくは0.01〜5重量部の範囲である。   Various leveling agents can be added to the hard coat layer forming material. As the leveling agent, a fluorine-based or silicone-based leveling agent can be used as appropriate, but a fluorine-based leveling agent is more preferable. When a fluorine-based one is selected as the leveling agent, there is little influence of repelling the antireflection layer formed on the hard coat layer. Examples of the fluorine leveling agent include perfluoroalkyl group-containing sulfonates such as perfluorobutyl sulfonate, perfluoroalkyl group-containing oligomers, perfluoroalkyl group-containing carboxylates, and perfluoroalkyl group-containing phosphoric acid. Examples thereof include esters and perfluoroalkylethylene oxide adducts. If a fluorine-based or silicone-based leveling agent is added to the hard coat layer forming material, the fluorine-based or silicone-based leveling agent bleeds to the air interface during preliminary drying and solvent drying in the formation of the hard coat layer. Therefore, it is possible to prevent the hard coat layer forming resin from being inhibited from curing by oxygen, and as a result, the outermost surface of the hard coat layer can have sufficient hardness. The compounding amount of the fluorine-based or silicone-based leveling agent is, for example, 5 parts by weight or less, preferably 0.01 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total resin components of the hard coat layer forming material.

前記ハードコート層形成材料には、必要に応じて、性能を損なわない範囲で、顔料、充填剤、分散剤、可塑剤、紫外線吸収剤、界面活性剤、酸化防止剤、チクソトロピー化剤等が添加されてもよい。これらの添加剤は一種類を単独で使用してもよく、また二種類以上併用してもよい。   In the hard coat layer forming material, pigments, fillers, dispersants, plasticizers, UV absorbers, surfactants, antioxidants, thixotropic agents, etc. are added as necessary, as long as the performance is not impaired. May be. These additives may be used alone or in combination of two or more.

前記ハードコート層形成材料を透明プラスチックフィルム基材上に塗工する方法としては、例えば、ファンテンコート法、ダイコート法、スピンコート法、スプレーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、バーコート法等の塗工法を用いることができる。   Examples of the method for coating the hard coat layer forming material on a transparent plastic film substrate include, for example, a phanten coating method, a die coating method, a spin coating method, a spray coating method, a gravure coating method, a roll coating method, and a bar coating method. Etc. can be used.

前記ハードコート層形成材料を塗工して前記透明プラスチックフィルム基材の上に塗膜を形成し、前記塗膜を硬化させる。前記硬化に先立ち、前記塗膜を乾燥させることが好ましい。前記乾燥は、例えば、自然乾燥でもよいし、風を吹きつけての風乾であってもよいし、加熱乾燥であってもよいし、これらを組み合わせた方法であってもよい。   The hard coat layer forming material is applied to form a coating film on the transparent plastic film substrate, and the coating film is cured. Prior to the curing, the coating film is preferably dried. The drying may be, for example, natural drying, air drying by blowing air, heat drying, or a combination of these.

前記ハードコート層形成材料の塗膜の硬化手段は、特に制限されないが、電離放射線硬化が好ましい。その手段には各種活性エネルギー線を用いることができるが、紫外線が好ましい。エネルギー線源としては、例えば、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、窒素レーザー、電子線加速装置、放射性元素などの線源が好ましい。エネルギー線源の照射量は、紫外線波長365nmでの積算露光量として、50〜5000mJ/cmが好ましい。照射量が、50mJ/cm以上であれば、硬化がより十分となり、形成されるハードコート層の硬度もより十分なものとなる。また、5000mJ/cmを以下であれば、形成されるハードコート層の着色を防止でき、透明性を向上させることができる。 The means for curing the coating film of the hard coat layer forming material is not particularly limited, but ionizing radiation curing is preferable. Various active energy rays can be used as the means, but ultraviolet rays are preferable. As the energy ray source, for example, a high pressure mercury lamp, a halogen lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a nitrogen laser, an electron beam accelerator, a radioactive element, or the like is preferable. The irradiation amount of the energy ray source is preferably 50 to 5000 mJ / cm 2 as an integrated exposure amount at an ultraviolet wavelength of 365 nm. When the irradiation amount is 50 mJ / cm 2 or more, the curing becomes more sufficient and the hardness of the formed hard coat layer becomes more sufficient. Moreover, if it is 5000 mJ / cm < 2 > or less, coloring of the hard-coat layer formed can be prevented and transparency can be improved.

そして、前記ハードコート層の上に、反射防止層を前述の方法により形成すれば、本発明の反射防止ハードコートフィルムが製造できる。   And if the antireflection layer is formed on the hard coat layer by the above-mentioned method, the antireflection hard coat film of the present invention can be produced.

本発明の反射防止ハードコートフィルの構成の一例を図1の構成図に示す。図示のように、この例の反射防止ハードコートフィルム4は、透明プラスチックフィルム基材1の片面にハードコート層2および反射防止層(低屈折率層)3が、この順序に積層されているという構成である。この例では、透明プラスチックフィルム基材1の片面に、ハードコート層2および反射防止層3が形成されているが、本発明は、これに限定されず、前記透明プラスチックフィルム基材1の両面に、ハードコート層2および反射防止層3が形成されていてもよい。また、前記ハードコート層2および反射防止層3は、単層でもよいし、複数層が積層された多層構造であってもよい。   An example of the configuration of the antireflection hard coat fill of the present invention is shown in the configuration diagram of FIG. As shown in the figure, the antireflection hard coat film 4 of this example has a hard coat layer 2 and an antireflection layer (low refractive index layer) 3 laminated in this order on one side of a transparent plastic film substrate 1. It is a configuration. In this example, the hard coat layer 2 and the antireflection layer 3 are formed on one side of the transparent plastic film substrate 1, but the present invention is not limited to this, and on both sides of the transparent plastic film substrate 1. The hard coat layer 2 and the antireflection layer 3 may be formed. The hard coat layer 2 and the antireflection layer 3 may be a single layer or a multilayer structure in which a plurality of layers are laminated.

本発明の反射防止ハードコートフィルムのその他の例を図2に示す。図2において、図1と同一部分には同一符号を付している。図示のように、この例の反射防止ハードコートフィルムは、ハードコート層2の中に、微粒子5が含まれており、これによって、ハードコート層2表面および反射防止層3表面が凹凸構造になっている。このように、ハードコート層2および反射防止層3の表面が凹凸構造であれば、防眩性を発揮することができる。   Another example of the antireflection hard coat film of the present invention is shown in FIG. In FIG. 2, the same parts as those in FIG. As shown in the figure, the antireflection hard coat film of this example includes fine particles 5 in the hard coat layer 2, whereby the hard coat layer 2 surface and the antireflection layer 3 surface have an uneven structure. ing. Thus, if the surface of the hard coat layer 2 and the antireflection layer 3 is an uneven structure, the antiglare property can be exhibited.

本発明の反射防止ハードコートフィルムにおいて、前記透明プラスチックフィルム基材またはハードコート層の各表面に対し、各種表面処理を行うことが好ましい。これにより、前記透明プラスチックフィルム基材と前記ハードコート層、前記透明プラスチックフィルム基材と偏光子、又は前記ハードコート層と反射防止層の各界面における接着性を向上させることができる。前記表面処理としては、例えば、低圧プラズマ処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸又はアルカリ処理を用いることができる。また、TACフィルムを前記透明プラスチックフィルム基材として用いた場合の表面処理としては、アルカリ鹸化処理が好ましい。前記アルカリ鹸化処理は、TACフィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、水洗して乾燥するサという一連の作業を数回繰り返して行うことが好ましい。前記アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液があげられ、水酸化イオンの規定濃度は、0.1〜3.0Nであることが好ましく、0.5〜2.0Nであることがさらに好ましい。前記アルカリ溶液温度は、25〜90℃の範囲が好ましく、40〜70℃がさらに好ましい。前記鹸化処理後、水洗処理、乾燥処理を行い、表面処理を施したTACフィルムを得ることができる。   In the antireflection hard coat film of the present invention, various surface treatments are preferably performed on each surface of the transparent plastic film substrate or the hard coat layer. Thereby, the adhesiveness in each interface of the said transparent plastic film base material and the said hard-coat layer, the said transparent plastic film base material and a polarizer, or the said hard-coat layer and an antireflection layer can be improved. As the surface treatment, for example, low-pressure plasma treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona treatment, flame treatment, acid or alkali treatment can be used. Moreover, as a surface treatment when a TAC film is used as the transparent plastic film substrate, an alkali saponification treatment is preferable. The alkali saponification treatment is preferably performed by repeating a series of operations of immersing the TAC film surface in an alkali solution, washing with water and drying, several times. Examples of the alkaline solution include potassium hydroxide solution and sodium hydroxide solution, and the prescribed concentration of hydroxide ions is preferably 0.1 to 3.0N, and preferably 0.5 to 2.0N. Is more preferable. The alkaline solution temperature is preferably in the range of 25 to 90 ° C, more preferably 40 to 70 ° C. After the saponification treatment, a TAC film subjected to a surface treatment can be obtained by performing a water washing treatment and a drying treatment.

つぎに、本発明の反射防止ハードコートフィルムを積層した偏光板について説明する。本発明の反射防止ハードコートフィルムを、接着剤や粘着剤などを用いて偏光子又は偏光板と積層することによって、本発明の機能を有した偏光板を得ることができる。前記偏光板は、通常、液晶セルの両側に配置される。通常、2つの前記偏光板は、吸収軸が互いに略直交するように配置される。前記偏光板は、通常、偏光子は、その片側又は両側に透明保護フィルムを有する。偏光子の両面に透明保護フィルムを設ける場合、表裏の透明保護フィルムは、同じ材料であっても良いし、異なる材料であってもよい。   Below, the polarizing plate which laminated | stacked the antireflection hard coat film of this invention is demonstrated. A polarizing plate having the function of the present invention can be obtained by laminating the antireflection hard coat film of the present invention with a polarizer or a polarizing plate using an adhesive or a pressure-sensitive adhesive. The polarizing plate is usually disposed on both sides of the liquid crystal cell. Usually, two said polarizing plates are arrange | positioned so that an absorption axis may mutually cross substantially orthogonally. The polarizer usually has a transparent protective film on one side or both sides of the polarizer. When providing a transparent protective film on both surfaces of a polarizer, the same material may be sufficient as the transparent protective film of front and back, and a different material may be sufficient as it.

前記偏光子としては、特に制限されず、例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸して製造された偏光子、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルムの偏光子等が挙げられる。これらのなかでも、ポリビニルアルコール系フィルムとヨウ素などの二色性物質からなる偏光子が、偏光二色比が高く、特に好ましい。これら偏光子の厚みは、特に制限されないが、例えば、5〜80μm程度である。   The polarizer is not particularly limited, and examples thereof include hydrophilic polymer films such as polyvinyl alcohol films, partially formalized polyvinyl alcohol films, ethylene / vinyl acetate copolymer partially saponified films, iodine and dichromatic Examples include polarizers produced by adsorbing a dichroic substance such as a neutral dye and uniaxially stretching, polarizers of polyene-based oriented films such as dehydrated polyvinyl alcohol and dehydrochlorinated polyvinyl chloride. Among these, a polarizer composed of a polyvinyl alcohol film and a dichroic substance such as iodine is particularly preferable because of its high polarization dichroic ratio. The thickness of these polarizers is not particularly limited, but is, for example, about 5 to 80 μm.

ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸した偏光子は、例えば、ポリビニルアルコールをヨウ素水溶液に浸潰することによって染色し、元長の3〜7倍に延伸することで作製することができる。前記ヨウ素水溶液は、必要に応じてホウ酸や硫酸亜鉛、塩化亜鉛等を含んでいてもよい。また、前記浸漬は、ヨウ化カリウムなどの水溶液を使用してもよい。さらに必要に応じて、染色の前に、前記ポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗することが好ましい。ポリビニルアルコール系フィルムを水洗することで、ポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができることに加えて、ポリビニルアルコ−ル系フィルムを膨潤させることで染色のムラなどの不均一を防止する効果もある。延伸はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら延伸してもよいし、また延伸してからヨウ素で染色してもよい。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中でも延伸することができる。   A polarizer obtained by dyeing a polyvinyl alcohol film with iodine and uniaxially stretching it can be produced, for example, by dyeing polyvinyl alcohol by immersing it in an iodine aqueous solution and stretching it 3 to 7 times the original length. The iodine aqueous solution may contain boric acid, zinc sulfate, zinc chloride and the like as necessary. The immersion may use an aqueous solution such as potassium iodide. Further, if necessary, before the dyeing, the polyvinyl alcohol film is preferably immersed in water and washed with water. By washing the polyvinyl alcohol film with water, it is possible to clean the surface of the polyvinyl alcohol film and the anti-blocking agent, and by swelling the polyvinyl alcohol film, unevenness such as uneven dyeing can be obtained. There is also an effect to prevent. Stretching may be performed after dyeing with iodine, or may be performed while dyeing, or may be performed with dyeing after iodine. The film can be stretched in an aqueous solution of boric acid or potassium iodide or in a water bath.

前記偏光子の片面又は両面に設けられる透明保護フィルムとしては、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、位相差値の安定性等に優れるものが好ましい。前記透明保護フィルムを形成する材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロース(TAC)等のセルロース系樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体、スチレン樹脂、アクリロニトリル・スチレン樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン樹脂、アクリロニトリル・エチレン・スチレン樹脂、スチレン・マレイミド共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体等のスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等があげられる。また、シクロオレフィン系樹脂、ノルボルネン系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフイン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系樹脂、芳香族ポリイミドやポリイミドアミド等のイミド系樹脂、スルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、ビニルアルコール系樹脂、塩化ビニリデン系樹脂、ビニルプチラール系樹脂、アリレート系樹脂、ポリオキシメチレン系樹脂、エポキシ系樹脂または前記樹脂のブレンド物等からなる高分子フィルムなども前記透明保護フィルムの例としてあげられる。また、前記透明保護フィルムは、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型、紫外線硬化型の樹脂の硬化フィルムであってもよい。   As the transparent protective film provided on one side or both sides of the polarizer, those having excellent transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture shielding property, retardation value stability and the like are preferable. Examples of the material for forming the transparent protective film include polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, cellulose resins such as diacetyl cellulose and triacetyl cellulose (TAC), acrylic resins such as polymethyl methacrylate, and polystyrene. Styrene resins such as acrylonitrile / styrene copolymer, styrene resin, acrylonitrile / styrene resin, acrylonitrile / butadiene / styrene resin, acrylonitrile / ethylene / styrene resin, styrene / maleimide copolymer, styrene / maleic anhydride copolymer, etc. And polycarbonate resins. Also, cycloolefin resins, norbornene resins, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, ethylene / propylene copolymers, vinyl chloride resins, amide resins such as nylon and aromatic polyamide, aromatic polyimides, polyimide amides, etc. Imide resins, sulfone resins, polyether sulfone resins, polyether ether ketone resins, polyphenylene sulfide resins, vinyl alcohol resins, vinylidene chloride resins, vinyl propylar resins, arylate resins, polyoxymethylenes Examples of the transparent protective film include a polymer film made of a resin, an epoxy resin, or a blend of the resins. Further, the transparent protective film may be a cured film of thermosetting or ultraviolet curable resin such as acrylic, urethane, acrylic urethane, epoxy, or silicone.

また、前記透明保護フィルムとしては、特開2001−343529号公報(WO01/37007)に記載の高分子フィルム、たとえば、(A)側鎖に置換及び/又は非置換イミド基を有する熱可塑性樹脂と、(B)側鎖に置換及び/非置換フェニルならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物から形成されたフィルムがあげられる。その具体例としては、イソブチレンとN−メチルマレイミドからなる交互共重合体とアクリロニトリル・スチレン共重合体とを含有する樹脂組成物の高分子フィルムがあげられる。   Examples of the transparent protective film include a polymer film described in JP-A-2001-343529 (WO01 / 37007), for example, (A) a thermoplastic resin having a substituted and / or unsubstituted imide group in the side chain; (B) A film formed from a resin composition containing a thermoplastic resin having a substituted and / or unsubstituted phenyl and nitrile group in the side chain. Specific examples thereof include a polymer film of a resin composition containing an alternating copolymer composed of isobutylene and N-methylmaleimide and an acrylonitrile / styrene copolymer.

前記透明保護フィルムとしては、偏光特性や耐久性などの点より、TAC等のセルロース系樹脂及び、ノルボルネン系樹脂が、好ましい。好ましい透明保護フィルムの具体例としては、富士写真フィルム(株)製の製品名「フジタック」や、日本ゼオン(株)製の製品名「ゼオノア」、JSR(珠)製の製品名「アートン」などがあげられる。   As the transparent protective film, cellulose-based resins such as TAC and norbornene-based resins are preferable from the viewpoints of polarization characteristics and durability. Specific examples of preferable transparent protective films include the product name “Fujitac” manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., the product name “Zeonoa” manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., and the product name “Arton” manufactured by JSR. Can be given.

前記透明保護フィルムの厚さは、適宜決定できるが、一般には強度や取扱性等の作業性、薄層性などの点より、例えば、1〜500μm程度である。この範囲であれば、偏光子を機械的に保護し、高温高湿下に曝されても偏光子が収縮せず、安定した光学特性を保つことができる。前記透明保護フィルムの厚みは、好ましくは、5〜200μmの範囲であり、より好ましくは、10〜150μmの範囲である。   Although the thickness of the said transparent protective film can be determined suitably, generally it is about 1-500 micrometers from points, such as workability | operativity, such as intensity | strength and a handleability, and thin layer property. Within this range, the polarizer is mechanically protected, and the polarizer does not contract even when exposed to high temperature and high humidity, and stable optical characteristics can be maintained. The thickness of the transparent protective film is preferably in the range of 5 to 200 μm, and more preferably in the range of 10 to 150 μm.

前記透明保護フィルムは、フィルム面内の位相差値および厚み方向の位相差値が、液晶表示装置の視野角特性に影響を及ぼす場合があるので、位相差値が最適化されたものを用いることが好ましい。ただし、位相差値の最適化が望まれる透明保護フィルムとは、液晶セルに近い側の偏光子の表面に積層される透明保護フィルムであり、液晶セルに遠い側の偏光子の表面に積層される透明保護フィルムは、液晶表示装置の光学特性を変化させることはないので、この限りではない。   As the transparent protective film, since the retardation value in the film plane and the retardation value in the thickness direction may affect the viewing angle characteristics of the liquid crystal display device, the one having the optimized retardation value should be used. Is preferred. However, the transparent protective film for which optimization of the retardation value is desired is a transparent protective film laminated on the surface of the polarizer on the side close to the liquid crystal cell, and is laminated on the surface of the polarizer on the side far from the liquid crystal cell. This is not the case because the transparent protective film does not change the optical characteristics of the liquid crystal display device.

前記液晶セルに近い側の偏光子の表面に積層される透明保護フィルムにおいて、フィルム面内の位相差値(Re)は、例えば、0〜5nmの範囲であり、好ましくは、0〜3nmの範囲であり、より好ましくは、0〜1nmの範囲であり、厚み方向の位相差値(Rth)は、例えば、0〜15nmの範囲であり、好ましくは0〜12nmの範囲であり、より好ましくは、0〜10nmの範囲であり、さらにより好ましくは0〜5nmの範囲であり、最も好ましくは、0〜3nmの範囲である。   In the transparent protective film laminated on the surface of the polarizer close to the liquid crystal cell, the in-plane retardation value (Re) is, for example, in the range of 0 to 5 nm, preferably in the range of 0 to 3 nm. More preferably, it is in the range of 0 to 1 nm, and the thickness direction retardation value (Rth) is, for example, in the range of 0 to 15 nm, preferably in the range of 0 to 12 nm, and more preferably, It is in the range of 0 to 10 nm, more preferably in the range of 0 to 5 nm, and most preferably in the range of 0 to 3 nm.

本発明の反射防止ハードコートフィルムおよび偏光板等は、液晶表示装置等の各種画像表示装置に好ましく用いることができる。本発明の反射防止ハードコートフィルムや偏光板等は、液晶表示装置の製造過程で順次別個に積層することよって製造することもできるが、予め積層して製造しておくほうが、品質の安定性や積層作業性等に優れ、液晶表示装置等の製造効率を向上させることができるため、好ましい。液晶表示装置の形成は、従来公知の方法に準じて行うことができる。すなわち、液晶表示装置は、一般に、液晶セルと光学素子、及び必要に応じての照明システム等の構成部品を適宜に組立て、駆動回路を組込むこと等により形成されるが、本発明においては、本発明による反射防止ハードコートフィルム等を用いる点を除いて特に限定はなく、従来に準じて形成することができる。液晶セルについても、例えば、TN型、STN型およびTC型等の任意のタイプのものを用いることができる。   The antireflection hard coat film and the polarizing plate of the present invention can be preferably used for various image display devices such as a liquid crystal display device. The antireflection hard coat film and the polarizing plate of the present invention can be produced by sequentially laminating them sequentially in the production process of the liquid crystal display device. It is preferable because it is excellent in laminating workability and the like and can improve the manufacturing efficiency of a liquid crystal display device or the like. The liquid crystal display device can be formed according to a conventionally known method. In other words, a liquid crystal display device is generally formed by appropriately assembling components such as a liquid crystal cell, an optical element, and an illumination system as necessary, and incorporating a drive circuit. There is no particular limitation except that an antireflection hard coat film or the like according to the invention is used, and it can be formed according to the conventional art. As the liquid crystal cell, any type such as a TN type, an STN type, and a TC type can be used.

つぎに、本発明の実施例について比較例と併せて説明する。   Next, examples of the present invention will be described together with comparative examples.

(実施例1)
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)80重量部、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート20重量部および光重合開始剤(商品名イルガキュア184、チバ・スペシャリティケミカルズ社製)5重量部を酢酸エチルに溶解し、不揮発成分が50%になるよう調整してハードコート層形成材料を調製した。前記ハードコート層形成材料を、TACフィルムの片面に8番手のワイヤバーで塗工して塗工膜を形成し、80℃で1分乾燥後、照射量300mJ/cmの紫外線を照射して硬化させ、厚み6μmのハードコート層を形成し、ハードコートフィルムを得た。つぎに、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート100重量部、下記ポリシロキサン化合物(A化合物)5重量部、光重合開始剤(商品名イルガキュア184、チバ・スペシャリティケミカルズ社製)5重量部およびMIBK3512重量部を混合して反射防止層形成材料を調製した。前記反射防止層形成材料を、前記ハードコート層の上に3番手のワイヤバーで塗工して塗工膜を形成し、80℃で3分乾燥後、照射量900mJ/cmの紫外線を照射して硬化させ、厚み0.1μmの反射防止層(低屈折率層)を形成して、目的とする反射防止ハードコートフィルムを製造した。
(Example 1)
80 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), 20 parts by weight of 1,6-hexanediol diacrylate and 5 parts by weight of a photopolymerization initiator (trade name Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) were dissolved in ethyl acetate. The hard coat layer forming material was prepared by adjusting the nonvolatile component to 50%. The hard coat layer forming material is applied to one side of the TAC film with an 8th wire bar to form a coating film, dried at 80 ° C. for 1 minute, and then cured by irradiating with an ultraviolet ray of 300 mJ / cm 2. And a hard coat layer having a thickness of 6 μm was formed to obtain a hard coat film. Next, 100 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, 5 parts by weight of the following polysiloxane compound (compound A), 5 parts by weight of a photopolymerization initiator (trade name Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) and 3512 parts by weight of MIBK are mixed. Thus, an antireflection layer forming material was prepared. The antireflection layer forming material is coated on the hard coat layer with a third wire bar to form a coating film, dried at 80 ° C. for 3 minutes, and then irradiated with ultraviolet rays having an irradiation amount of 900 mJ / cm 2. Then, an antireflection layer (low refractive index layer) having a thickness of 0.1 μm was formed to produce a desired antireflection hard coat film.

前記ポリシロキサン化合物(A化合物)は、前記一般式(1)のジメチルシロキサン単位(X1)と、前記一般式(2)のメチル,3−アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシプロピルシロキサン単位(X2)と、前記一般式(3)のメチル,2−アクリロイルオキシ−3−ヒドロキシプロポキシプロピルシロキサン単位(X3)とを、モル比(X1:X2:X3)=100:20:5の共重合割合で有する化合物である。このA化合物のGPCによる重量平均分子量は、14800であった。 The polysiloxane compound (A compound) includes a dimethylsiloxane unit (X1) of the general formula (1), a methyl, 3-acryloyloxy-2-hydroxypropoxypropylsiloxane unit (X2) of the general formula (2), and , A compound having a molar ratio (X1: X2: X3) = 100: 20: 5 with the methyl, 2-acryloyloxy-3-hydroxypropoxypropylsiloxane unit (X3) of the general formula (3) It is. The weight average molecular weight of this A compound by GPC was 14800.

(実施例2)
前記反射防止層形成材料において、前記ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート100重量部、前記ポリシロキサン化合物(A化合物)10重量部および前記光重合開始剤5重量、MIBK3630重量部の比率で配合したこと以外は、前記実施例1と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルム製造した。
(Example 2)
In the antireflection layer forming material, except that 100 parts by weight of the dipentaerythritol hexaacrylate, 10 parts by weight of the polysiloxane compound (A compound), 5 parts by weight of the photopolymerization initiator, and 3630 parts by weight of MIBK, An antireflection hard coat film was produced in the same manner as in Example 1.

(実施例3)
前記反射防止層形成材料において、前記ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート100重量部、前記ポリシロキサン化合物(A化合物)20重量部、前記光重合開始剤5重量部、MIBK3862重量部の比率で配合したこと以外は、前記実施例1と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
(Example 3)
In the antireflection layer forming material, except that 100 parts by weight of the dipentaerythritol hexaacrylate, 20 parts by weight of the polysiloxane compound (A compound), 5 parts by weight of the photopolymerization initiator, and 3862 parts by weight of MIBK are mixed. An antireflection hard coat film was produced in the same manner as in Example 1.

(実施例4)
前記ポリシロキサン化合物(A化合物)を、下記のポリシロキサン化合物(C化合物)に変更したこと以外は、実施例1と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
Example 4
An antireflection hard coat film was produced in the same manner as in Example 1 except that the polysiloxane compound (A compound) was changed to the following polysiloxane compound (C compound).

前記ポリシロキサン化合物(C化合物)は、前記一般式(7)のジメチルシロキサン単位(X7)と、前記一般式(8)の置換基(X8)と、前記一般式(9)の置換基(X9)と、前記一般式(10)の置換基(X10)とを、モル比(X7:X8:X9:X10)=286:45:100:45の割合で有する化合物である。   The polysiloxane compound (C compound) includes a dimethylsiloxane unit (X7) of the general formula (7), a substituent (X8) of the general formula (8), and a substituent (X9) of the general formula (9). ) And the substituent (X10) of the general formula (10) in a molar ratio (X7: X8: X9: X10) = 286: 45: 100: 45.

(実施例5)
前記ポリシロキサン化合物(A化合物)を前記ポリシロキサン化合物(C化合物)に変更したこと以外は、前記実施例2と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
(Example 5)
An antireflection hard coat film was produced in the same manner as in Example 2 except that the polysiloxane compound (A compound) was changed to the polysiloxane compound (C compound).

(実施例6)
前記ポリシロキサン化合物(A化合物)を前記ポリシロキサン化合物(C化合物)に変更したこと以外は、前記実施例3と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
(Example 6)
An antireflection hard coat film was produced in the same manner as in Example 3 except that the polysiloxane compound (A compound) was changed to the polysiloxane compound (C compound).

(実施例7)
前記ポリシロキサン化合物(A化合物)を、下記のポリシロキサン化合物(B化合物)に変更したこと以外は、前記実施例1と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
(Example 7)
An antireflection hard coat film was produced in the same manner as in Example 1 except that the polysiloxane compound (A compound) was changed to the following polysiloxane compound (B compound).

前記ポリシロキサン化合物(B化合物)は、前記一般式(1)のジメチルシロキサン単位(X1)と、前記一般式(4)のシロキサン単位(X4)と、前記一般式(5)のシロキサン単位(X5)を,モル比(X1:X4:X5)=100:8:6の割合で有する共重合物である。このB化合物のGPCによる重量平均分子量は、4320であった。   The polysiloxane compound (B compound) includes a dimethylsiloxane unit (X1) of the general formula (1), a siloxane unit (X4) of the general formula (4), and a siloxane unit (X5) of the general formula (5). ) In a molar ratio (X1: X4: X5) = 100: 8: 6. The weight average molecular weight of this B compound by GPC was 4320.

(実施例8)
前記ポリシロキサン化合物(A化合物)を前記ポリシロキサン化合物(B化合物)に変更したこと以外は、前記実施例2と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
(Example 8)
An antireflection hard coat film was produced in the same manner as in Example 2 except that the polysiloxane compound (A compound) was changed to the polysiloxane compound (B compound).

(実施例9)
前記ポリシロキサン化合物(A化合物)を前記ポリシロキサン化合物(B化合物)に変更したこと以外は、前記実施例3と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
Example 9
An antireflection hard coat film was produced in the same manner as in Example 3 except that the polysiloxane compound (A compound) was changed to the polysiloxane compound (B compound).

(比較例1)
前記反射防止層形成材料として、前記ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート100重量部、前記光重合開始剤5重量部、およびMIBK3396重量部を混合して調製したものを用いたこと以外は、前記実施例1と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
(Comparative Example 1)
Example 1 except that the antireflection layer forming material was prepared by mixing 100 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, 5 parts by weight of the photopolymerization initiator, and 3396 parts by weight of MIBK. An antireflection hard coat film was produced in the same manner.

(比較例2)
前記反射防止層形成材料として、前記ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート100重量部、前記光重合開始剤5重量部、IPA3056.4重量部、BuOH339.6重量部を混合して調製したものを用いたこと以外は、前記実施例1と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
(Comparative Example 2)
Other than the use of a material prepared by mixing 100 parts by weight of the dipentaerythritol hexaacrylate, 5 parts by weight of the photopolymerization initiator, IPA3056.4 parts by weight, and 339.6 parts by weight of BuOH as the antireflection layer forming material. Produced an antireflection hard coat film in the same manner as in Example 1.

(比較例3)
前記反射防止層形成材料として、前記ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート100重量部、前記ポリシロキサン化合物(A化合物)5重量部、前記光重合開始剤5重量部、IPA3160.8重量部、BuOH351.2重量部を混合して調製したものを用いたこと以外は、前記実施例1と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
(Comparative Example 3)
As the antireflection layer forming material, 100 parts by weight of the dipentaerythritol hexaacrylate, 5 parts by weight of the polysiloxane compound (A compound), 5 parts by weight of the photopolymerization initiator, 3160.8 parts by weight of IPA, 351.2 parts by weight of BuOH An antireflective hard coat film was produced in the same manner as in Example 1 except that a mixture prepared by mixing was used.

(比較例4)
前記反射防止層形成材料として、前記ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート100重量部、前記ポリシロキサン化合物(A化合物)10重量部、前記光重合開始剤5重量部、IPA3267重量部、BuOH363重量部を混合して調製したものを用いたこと以外は、前記実施例1と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
(Comparative Example 4)
As the antireflection layer forming material, 100 parts by weight of the dipentaerythritol hexaacrylate, 10 parts by weight of the polysiloxane compound (A compound), 5 parts by weight of the photopolymerization initiator, 3267 parts by weight of IPA, and 363 parts by weight of BuOH are mixed. An antireflection hard coat film was produced in the same manner as in Example 1 except that the prepared one was used.

(比較例5)
前記反射防止層形成材料として、前記ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート100重量部、前記ポリシロキサン化合物(A化合物)20重量部、前記光重合開始剤5重量部、IPA3475.8重量部、BuOH386.2重量部を混合して調製したものを用いたこと以外は、前記実施例1と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
(Comparative Example 5)
As the antireflection layer forming material, 100 parts by weight of the dipentaerythritol hexaacrylate, 20 parts by weight of the polysiloxane compound (A compound), 5 parts by weight of the photopolymerization initiator, 3475.8 parts by weight of IPA, 386.2 parts by weight of BuOH An antireflective hard coat film was produced in the same manner as in Example 1 except that a mixture prepared by mixing was used.

(比較例6)
前記反射防止層形成材料として、前記ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート100重量部、前記ポリシロキサン化合物(C化合物)5重量部、前記光重合開始剤5重量部、IPA3160.8重量部、BuOH351.2重量部を混合して調製したものを用いたこと以外は、前記実施例1と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
(Comparative Example 6)
As the antireflection layer forming material, 100 parts by weight of the dipentaerythritol hexaacrylate, 5 parts by weight of the polysiloxane compound (C compound), 5 parts by weight of the photopolymerization initiator, 3160.8 parts by weight of IPA, 351.2 parts by weight of BuOH An antireflective hard coat film was produced in the same manner as in Example 1 except that a mixture prepared by mixing was used.

(比較例7)
前記反射防止層形成材料として、前記ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート100重量部、前記ポリシロキサン化合物(C化合物)10重量部、前記光重合開始剤5重量部、IPA3267重量部およびBuOH363重量部を混合して調製したものを用いたこと以外は、前記実施例1と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
(Comparative Example 7)
As the antireflection layer forming material, 100 parts by weight of the dipentaerythritol hexaacrylate, 10 parts by weight of the polysiloxane compound (C compound), 5 parts by weight of the photopolymerization initiator, 3267 parts by weight of IPA and 363 parts by weight of BuOH are mixed. An antireflection hard coat film was produced in the same manner as in Example 1 except that the prepared one was used.

(比較例8)
前記反射防止層形成材料として、前記ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート100重量部、前記ポリシロキサン化合物(C化合物)20重量部、前記光重合開始剤5重量部、IPA3475.8重量部およびBuOH386.2重量部を混合して調製したものを用いたこと以外は、前記実施例1と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
(Comparative Example 8)
As the antireflection layer forming material, 100 parts by weight of the dipentaerythritol hexaacrylate, 20 parts by weight of the polysiloxane compound (C compound), 5 parts by weight of the photopolymerization initiator, 3475.8 parts by weight of IPA, and 386.2 parts by weight of BuOH An antireflective hard coat film was produced in the same manner as in Example 1 except that a mixture prepared by mixing was used.

(比較例9)
前記反射防止層形成材料として、前記ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート100重量部、前記ポリシロキサン化合物(B化合物)5重量部、前記光重合開始剤5重量部、IPA3160.8重量部およびBuOH351.2重量部を混合して調製したものを用いたこと以外は、前記実施例1と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
(Comparative Example 9)
As the antireflection layer forming material, 100 parts by weight of the dipentaerythritol hexaacrylate, 5 parts by weight of the polysiloxane compound (B compound), 5 parts by weight of the photopolymerization initiator, 3160.8 parts by weight of IPA and 351.2 parts by weight of BuOH An antireflective hard coat film was produced in the same manner as in Example 1 except that a mixture prepared by mixing was used.

(比較例10)
前記反射防止層形成材料として、前記ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート100重量部、前記ポリシロキサン化合物(B化合物)10重量部、前記光重合開始剤5重量部、IPA3267重量部およびBuOH363重量部を混合して調製したものを用いたこと以外は、前記実施例1と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
(Comparative Example 10)
As the antireflection layer forming material, 100 parts by weight of the dipentaerythritol hexaacrylate, 10 parts by weight of the polysiloxane compound (B compound), 5 parts by weight of the photopolymerization initiator, 3267 parts by weight of IPA and 363 parts by weight of BuOH are mixed. An antireflection hard coat film was produced in the same manner as in Example 1 except that the prepared one was used.

(比較例11)
前記反射防止層形成材料として、前記ペンタエリスリトールヘキサアクリレート100重量部、前記ポリシロキサン化合物(B化合物)20重量部、前記光重合開始剤5重量部、IPA3475.8重量部およびBuOH386.2重量部を混合して調製したものを用いたこと以外は、前記実施例1と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
(Comparative Example 11)
As the antireflection layer forming material, 100 parts by weight of the pentaerythritol hexaacrylate, 20 parts by weight of the polysiloxane compound (B compound), 5 parts by weight of the photopolymerization initiator, 3475.8 parts by weight of IPA, and 386.2 parts by weight of BuOH An antireflection hard coat film was produced in the same manner as in Example 1 except that a mixture prepared was used.

以上のようにして得られた実施例1〜9および比較例1〜11の各反射防止ハードコートフィルムについて、下記の方法により、各種特性を測定した。これらの結果を、前記反射防止層形成材料の組成と共に、下記表1に示す。   Various characteristics of the antireflection hard coat films of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 11 obtained as described above were measured by the following methods. These results are shown in Table 1 below together with the composition of the antireflection layer forming material.

(前記ハードコート層の厚み)
前記ハードコート層の厚みは、ミツトヨ社製のマイクロゲージ式厚み計にて測定を行った。すなわち、まず、透明プラスチックフィルム基材にハードコート層を設けた積層体全体の厚みを測定し、前記基材の厚みを差し引くことでハードコート層の厚みを算出した。
(Thickness of the hard coat layer)
The thickness of the hard coat layer was measured with a micro gauge thickness gauge manufactured by Mitutoyo Corporation. That is, first, the thickness of the entire laminate in which a hard coat layer was provided on a transparent plastic film substrate was measured, and the thickness of the hard coat layer was calculated by subtracting the thickness of the substrate.

(反射防止層の厚み)
前記反射防止層の厚みは、大塚電子社製の瞬間マルチ測光システム(商品名:MCPD2000)を用い、干渉スペクトルの波形より算出した。
(Thickness of antireflection layer)
The thickness of the antireflection layer was calculated from the waveform of the interference spectrum using an instantaneous multi-photometry system (trade name: MCPD2000) manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.

(弾性率)
前記反射防止層の弾性率の評価は、MTSシステムズ社製ナノインデンター(型式:DCM−SA2)を用い、下記の条件、かつ歪み速度=0.05s−1、押込み深さ8nmでのヤング率を測定して行った。
圧子:バーコピッチ型 Ψ=65.3°、s/h=7.5315、A(h)=24.56h^2、V(h)=8.1873h^3、V(A)=0.0673A^3/2、A/Af=0.908、換算角度=70.32°(Ψ:圧子頂点から引いた垂線と面のなす角度、s/h:側線と深さの比、A(h):射影断面積、V(h):体積と押込み深さの関係、V(A):体積と射影断面積の関係、A/Af:射影断面積と接触面積の比、換算角度:等価な円錐体の角度)
(Elastic modulus)
The elastic modulus of the antireflection layer was evaluated by using a nano indenter (model: DCM-SA2) manufactured by MTS Systems, under the following conditions, and at a strain rate of 0.05 s −1 and an indentation depth of 8 nm. Was measured.
Indenter: Barco pitch type Ψ = 65.3 °, s / h = 7.5315, A (h) = 24.56h ^ 2, V (h) = 8.1873h ^ 3, V (A) = 0.0673A ^ 3/2, A / Af = 0.908, conversion angle = 70.32 ° (Ψ: angle formed between the perpendicular line drawn from the top of the indenter and the surface, s / h: ratio of side line to depth, A (h): Projected cross-sectional area, V (h): relationship between volume and indentation depth, V (A): relationship between volume and projected cross-sectional area, A / Af: ratio of projected cross-sectional area to contact area, conversion angle: equivalent cone Angle)

(重量平均分子量)
重量平均分子量は、測定機器:東ソー社製の商品名HLC−8120GPC、カラム:東ソー社製 G4000HXL+G2000HXL+G1000HXL(各7.8mmφ×30cm,計90cm)、カラム温度:40℃、溶離液:テトラヒドロフラン、流速:0.8ml/分、入り口圧:6.6MPa、標準試料:ポリスチレンの条件のGPCにより測定した。
(Weight average molecular weight)
The weight-average molecular weight is as follows: Measuring instrument: trade name HLC-8120GPC manufactured by Tosoh Corporation, column: G4000H XL + G2000H XL + G1000H XL (7.8 mmφ × 30 cm each, 90 cm in total) manufactured by Tosoh Corporation, column temperature: 40 ° C., eluent: Measured by GPC under conditions of tetrahydrofuran, flow rate: 0.8 ml / min, inlet pressure: 6.6 MPa, standard sample: polystyrene.

Figure 2008088309
Figure 2008088309

前記表1に示すように、全実施例のハードコートフィルムの反射防止層の弾性率は、高い値を示し、硬度および膜強度に優れていた。これに対し、ケトン系溶媒を使用しなかった全比較例のハードコートフィルムの反射防止層は、弾性率が低く、硬度および膜強度が不十分であった。   As shown in Table 1, the elastic modulus of the antireflection layer of the hard coat film of all the examples showed a high value and was excellent in hardness and film strength. On the other hand, the antireflection layers of the hard coat films of all comparative examples in which no ketone solvent was used had a low elastic modulus and insufficient hardness and film strength.

以上のように、本発明の硬化皮膜は、酸素存在下で製造した場合であっても、弾性率が高く、硬度および膜強度に優れ、しかも製造効率に優れ、かつ製造コストが低い。本発明の硬化皮膜は、例えば、反射防止ハードコートフィルムの反射防止層に適用できる。本発明の反射防止ハードコートフィルムは、偏光板、CRT、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)及びELディスプレイ(ELD)等の各種画像表示装置に好適に用いられる。   As described above, even when the cured film of the present invention is produced in the presence of oxygen, the elastic modulus is high, the hardness and the film strength are excellent, the production efficiency is excellent, and the production cost is low. The cured film of the present invention can be applied to, for example, an antireflection layer of an antireflection hard coat film. The antireflection hard coat film of the present invention is suitably used for various image display devices such as a polarizing plate, a CRT, a liquid crystal display (LCD), a plasma display (PDP), and an EL display (ELD).

図1は、本発明の反射防止ハードコートフィルムの一例を示す構成図である。FIG. 1 is a block diagram showing an example of the antireflection hard coat film of the present invention. 図2は、本発明の反射防止ハードコートフィルムのその他の例を示す構成図である。FIG. 2 is a block diagram showing another example of the antireflection hard coat film of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 透明プラスチックフィルム基材
2 ハードコート層
3 反射防止層
4、6 反射防止ハードコートフィルム
5 微粒子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent plastic film base material 2 Hard coat layer 3 Antireflection layer 4, 6 Antireflection hard coat film 5 Fine particle

Claims (12)

少なくとも2個の重合性官能基を有する多官能重合性化合物、ラジカル重合性官能基および活性水素基を有するポリシロキサン化合物およびケトン系溶媒を含む硬化皮膜形成材料の塗工膜を形成し、前記塗工膜を硬化させて形成される硬化皮膜。 Forming a coating film of a cured film forming material comprising a polyfunctional polymerizable compound having at least two polymerizable functional groups, a polysiloxane compound having a radical polymerizable functional group and an active hydrogen group, and a ketone solvent; A cured film formed by curing a film. 前記ケトン系溶媒が、前記硬化皮膜形成材料100重量部に対し、3重量部以上の割合で含まれている請求項1記載の硬化皮膜。 The cured film according to claim 1, wherein the ketone solvent is contained in a proportion of 3 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight of the cured film forming material. 前記ケトン系溶媒が、メチルイソブチルケトン(MIBK)である請求項1または2記載の硬化皮膜。 The cured film according to claim 1 or 2, wherein the ketone solvent is methyl isobutyl ketone (MIBK). 前記ポリシロキサン化合物において、前記ラジカル重合性官能基が、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基の少なくとも一方であり、前記活性水素基が、水酸基、アミノ基およびカルボキシル基の少なくとも一つの基である請求項1から3のいずれか一項に記載の硬化皮膜。 2. The polysiloxane compound, wherein the radical polymerizable functional group is at least one of an acryloyloxy group and a methacryloyloxy group, and the active hydrogen group is at least one group of a hydroxyl group, an amino group, and a carboxyl group. The cured film as described in any one of 3 to 3. 前記ポリシロキサン化合物が、下記の(A)化合物、(B)化合物および(C)化合物からなる群から選択される少なくとも一つの化合物である請求項1から4のいずれか一項に記載の硬化皮膜。
(A)下記一般式(1)で表されるジメチルシロキサン単位と、下記一般式(2)で表されるシロキサン単位および下記一般式(3)で表されるシロキサン単位の少なくとも一方のシロキサン単位とを含むポリシロキサン化合物。
(B)下記一般式(1)で表されるジメチルシロキサン単位、下記一般式(4)で表されるシロキサン単位および下記一般式(5)で表されるシロキサン単位を含むポリシロキサン化合物。
(C)下記一般式(6)で表されるポリシロキサン化合物。
Figure 2008088309
Figure 2008088309
Figure 2008088309
Figure 2008088309
前記一般式(4)において、xは1〜10の整数である。
Figure 2008088309
前記一般式(5)において、xは1〜10の整数である。
Figure 2008088309
前記一般式(6)において、少なくとも一つのRが、シロキサン構造を有する置換基であり、少なくとも一つのRが、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基の少なくとも一方を有する置換基であり、少なくとも一つのRが、活性水素基を有する置換基である。
The cured film according to any one of claims 1 to 4, wherein the polysiloxane compound is at least one compound selected from the group consisting of the following compounds (A), (B), and (C). .
(A) a dimethylsiloxane unit represented by the following general formula (1), a siloxane unit represented by the following general formula (2) and at least one siloxane unit represented by the following general formula (3): A polysiloxane compound containing
(B) A polysiloxane compound containing a dimethylsiloxane unit represented by the following general formula (1), a siloxane unit represented by the following general formula (4), and a siloxane unit represented by the following general formula (5).
(C) A polysiloxane compound represented by the following general formula (6).
Figure 2008088309
Figure 2008088309
Figure 2008088309
Figure 2008088309
In the general formula (4), x is an integer of 1 to 10.
Figure 2008088309
In the general formula (5), x is an integer of 1 to 10.
Figure 2008088309
In the general formula (6), at least one R is a substituent having a siloxane structure, at least one R is a substituent having at least one of an acryloyloxy group and a methacryloyloxy group, and at least one R Is a substituent having an active hydrogen group.
前記多官能重合性化合物の重合性官能基が、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基の少なくとも一方の基である請求項1から5のいずれか一項に記載の硬化皮膜。 The cured film according to any one of claims 1 to 5, wherein the polymerizable functional group of the polyfunctional polymerizable compound is at least one of an acryloyloxy group and a methacryloyloxy group. 透明プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に、ハードコート層、反射防止層がこの順序で積層形成されている反射防止ハードコートフィルムであって、前記反射防止層が、請求項1から6のいずれか一項に記載の硬化皮膜であることを特徴とする反射防止ハードコートフィルム。 7. An antireflection hard coat film in which a hard coat layer and an antireflection layer are laminated in this order on at least one surface of a transparent plastic film substrate, wherein the antireflection layer is any one of claims 1 to 6. An antireflection hard coat film, which is the cured film according to claim 1. 前記ハードコート層の厚みが、2〜50μmの範囲である請求項7記載の反射防止ハードコートフィルム。 The antireflection hard coat film according to claim 7, wherein the hard coat layer has a thickness in the range of 2 to 50 μm. 前記反射防止層が、中空で球状の酸化ケイ素超微粒子を含有する請求項7または8記載の反射防止ハードコートフィルム。 The antireflection hard coat film according to claim 7 or 8, wherein the antireflection layer contains hollow and spherical silicon oxide ultrafine particles. 前記ハードコート層の表面が凹凸形状となって防眩性を有する請求項7から9のいずれか一項に記載の反射防止ハードコートフィルム。 The antireflection hard coat film according to any one of claims 7 to 9, wherein the surface of the hard coat layer has an uneven shape and has an antiglare property. 反射防止ハードコートフィルムを含む偏光板であって、前記反射防止ハードコートフィルムが、請求項7から10のいずれか一項に記載の反射防止ハードコートフィルムであることを特徴とする偏光板。 A polarizing plate comprising an antireflection hard coat film, wherein the antireflection hard coat film is the antireflection hard coat film according to any one of claims 7 to 10. 反射防止ハードコートフィルムおよび偏光板の少なくとも一方を搭載した画像表示装置であって、前記反射防止ハードコートフィルムが請求項7から10のいずれか一項に記載の反射防止ハードコートフィルムであり、前記偏光板が請求項11記載の偏光板であることを特徴とする画像表示装置。 An image display device equipped with at least one of an antireflection hard coat film and a polarizing plate, wherein the antireflection hard coat film is the antireflection hard coat film according to any one of claims 7 to 10, An image display device, wherein the polarizing plate is the polarizing plate according to claim 11.
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