JP2008227494A - 光放射装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光を放射する少なくとも2つの半導体チップ(12,14,16)と1つの基板(66)とからなり、少なくとも1つの第1の半導体チップ(12)が前記基板(66)上に設置され、その第1の半導体チップ(12)上に少なくとも1つの別の半導体チップ(14)が設置されている光放射装置において、上下に積み重ねられた各半導体チップ(12,14;14,16)を互いにずれるように回転させて、いずれも下側の半導体チップが実質的に三角形状の露出した放射面を備えるようにする。
【選択図】図1
Description
Claims (25)
- 光を放射する少なくとも2つの半導体チップ(12,14,16)と1つの基板(66)とからなり、少なくとも1つの第1の半導体チップ(12)が前記基板(66)上に設置され、その第1の半導体チップ(12)上に少なくとも1つの別の半導体チップ(14)が設置されている光放射装置であって、
上下に積み重ねられた各半導体チップ(12,14;14,16)を互いにずれるように回転させ、従っていずれも下側の半導体チップが実質的に三角形状の露出した放射面を備えることを特徴とする光放射装置。 - 前記別の半導体チップ(12,14;14,16)の面積が基板(66)から離間するに従って縮小することを特徴とする請求項1記載の光放射装置。
- 相対的に上側の前記別の半導体チップ(14)が相対的に下側あるいはさらに下に位置している半導体チップ(12)の上向きの面を露出させ、少なくともその下側あるいはさらに下の半導体チップ(12)の露出した面と上側の半導体チップ(16)の面の少なくとも一部が光を放射し、前記下側の半導体チップ(12)が前記基板(66)上に装着されていることを特徴とする請求項1または2記載の光放射装置。
- 側方の光放射面(50,52,56,58)が互い違いとなったチップの側部上に延在していることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の光放射装置。
- 前記別の半導体チップ(14)の側方の光放射面(50,52)が下側あるいはさらに下の半導体チップ(12)の側方の光放射面(56,58)に対して半導体チップ(14)の中央に向かってずれるように延在することを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の光放射装置。
- 半導体チップ(12,14,160が互いに実質的にピラミッド構造を成すように構成されていることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の光放射装置。
- 半導体チップ(12,14,16)が放射された光線に対して少なくとも部分的に透過性であることを特徴とする請求項1ないし6のいずれかに記載の光放射装置。
- 光放射装置が下側の半導体チップ(12)の下方に設置された反射器を備えており、下側、中間、および上側の半導体チップ(16)の間には反射器を備えていないことを特徴とする請求項1ないし7のいずれかに記載の光放射装置。
- 光放射装置が複数の半導体チップ(12,14,16)を備えていて最下部の半導体チップ(12)の下方に反射器が設置され、それが特に半導体チップの側方に突出して延在していることを特徴とする請求項1ないし8のいずれかに記載の光放射装置。
- 半導体チップ(12,14,16)の熱伝導性と略同じ大きさの熱伝導性を有する無反射の接着剤層を介して半導体チップ(12,14,16)が互いに結合され、ここで接着剤層の厚みが特に100μm未満、より好適には50μm未満となることを特徴とする請求項1ないし9のいずれかに記載の光放射装置。
- それぞれ異なったスペクトル波長の光を放射する複数の半導体チップ(12,14,16)が上下に配置されていることを特徴とする請求項1ないし10のいずれかに記載の光放射装置。
- 半導体チップ(12,14,16)が少なくとも部分的に互いに直列に電気的に接続されていることを特徴とする請求項1ないし11のいずれかに記載の光放射装置。
- 半導体チップ(12,14,16)が少なくとも部分的に互いに並列に電気的に接続されていることを特徴とする請求項1ないし12のいずれかに記載の光放射装置。
- 半導体チップ(12,14,16)はその上面の露出面の領域に少なくとも1つの接続部を備えていることを特徴とする請求項1ないし13のいずれかに記載の光放射装置。
- 基板(66)は電気的に絶縁されていて、反射層を備えていることを特徴とする請求項1ないし14のいずれかに記載の光放射装置。
- 最下部の半導体チップ(12)が電気的に少なくとも半導性の基板(66)上に設置され、前記最下部の半導体チップ(12)の接続面が前記基板によって形成されていることを特徴とする請求項1ないし13のいずれかに記載の光放射装置。
- 上側の半導体チップ(16)が下側あるいはさらに下の半導体チップ(12)に比べて小さく、特にその大きさの相違が各半導体チップ(12,14,16)の厚みの約2倍に相当することを特徴とする請求項1ないし16のいずれかに記載の光放射装置。
- 上下に積み重ねられた半導体チップ(12,14,16)が特に45°の角度をもって互いにずれるように回転させられることを特徴とする請求項1ないし17のいずれかに記載の光放射装置。
- 基板が実質的に下側の半導体チップ(12)の寸法に相当する寸法を有する隆起部を備えていて、その上に前記下側の半導体チップ(12)が装着されることを特徴とする請求項1ないし18のいずれかに記載の光放射装置。
- 積み重ねて装着された半導体チップ(12,14,16)を包囲していてその方向性が既知の方式で斜めあるいはパラボラ状になっていて前記半導体チップ(12,14,16)の側方の光放射を前方に反射する追加的反射器、特に環状反射器(80)を備えていることを特徴とする請求項1ないし19のいずれかに記載の光放射装置。
- 半導体チップ(12,14,16)の手前に集光レンズが設置され、特にそれが反射器(80)上に支承されていることを特徴とする請求項1ないし20のいずれかに記載の光放射装置。
- 半導体チップ(12,14,16)と集光レンズの下面との間の空間に透明あるいは半透明の液体状あるいはゲル状の光透過材料、特にシリコンゲルが充填されていることを特徴とする請求項20記載の光放射装置。
- 前記電気的な接続面(26,28,30)がプリント回路基板の露出面(20,22,24)に隣接していて結合線を介してそれらと結合されていることを特徴とする請求項1ないし22のいずれかに記載の光放射装置。
- プリント回路基板が少なくとも部分的に半導体チップ(12,14,16)を包囲するように側方に延在しており、特に導電トラックが環状反射器(80)の下側を延在していることを特徴とする請求項1ないし23のいずれかに記載の光放射装置。
- 請求項1ないし24のいずれかに記載の光放射装置を少なくとも1つ備えている、特に光重合性歯科材料を硬化させるためのものである光硬化装置。
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