JP2008224925A - 液晶パネル、その製造方法及びその製造装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】液晶層の厚み(セルギャップ)の均一性を向上させて画像品質を大幅に向上させることが可能な液晶パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】複数の画素電極22及びこれを駆動する駆動回路24を備えた駆動基板4と、駆動基板と所定の間隙を有して対向配置されて画素電極と対向する光透過性電極32を備えた光透過性基板6と、所定の間隙に充填された液晶8と、を有する液晶パネルを製造する、液晶パネルの製造方法において、駆動基板と光透過性基板とが間隙を有して接合された接合体における当該間隙に液晶を充填する液晶充填工程と、液晶充填工程後に、駆動基板と光透過性基板との間の静電容量を測定しつつ、静電容量の測定値に基づいて駆動基板と光透過性基板との距離を調整する静電容量測定工程とを有する。
【選択図】図5
【解決手段】複数の画素電極22及びこれを駆動する駆動回路24を備えた駆動基板4と、駆動基板と所定の間隙を有して対向配置されて画素電極と対向する光透過性電極32を備えた光透過性基板6と、所定の間隙に充填された液晶8と、を有する液晶パネルを製造する、液晶パネルの製造方法において、駆動基板と光透過性基板とが間隙を有して接合された接合体における当該間隙に液晶を充填する液晶充填工程と、液晶充填工程後に、駆動基板と光透過性基板との間の静電容量を測定しつつ、静電容量の測定値に基づいて駆動基板と光透過性基板との距離を調整する静電容量測定工程とを有する。
【選択図】図5
Description
本発明は、画像品質を向上させるようにした液晶パネル、その製造方法及びその製造装置に関する。
近年、プレゼンテーション用途としてコンピュータ映像を拡大表示したり、ホームシアターの用途として迫力ある大画面のビデオ映像を楽しむ目的から投射型液晶プロジェクタが用いられる機会が増えている。この液晶プロジェクタでは、画像信号に応答させて画像を表示する液晶パネルを有しており、この液晶パネルに表示された画像を強力な光で大型のスクリーンへ投影して、投影画像を見るようになっている。
この液晶プロジェクタとしては、装置の小型化と共に表示画像の高精細化、高輝度化が求められると共に応答速度の速さ、高いコントラストが望まれている。そして、これらの特性を達成するためのキーデバイスとして、液晶プロジェクタに用いられる上記液晶パネルが重要である。
従来の液晶パネルの製造方法は以下のようであった。例えば、特許文献1、2に開示されている液晶パネルの製造方法をもとに説明する。
まず、表面をラビング処理した配向膜がその表面に形成されたシリコン基板等よりなる駆動基板を用意する一方、表面に透明な光透過性電極及び配向膜が形成された透明な光透過性基板を用意する。
まず、表面をラビング処理した配向膜がその表面に形成されたシリコン基板等よりなる駆動基板を用意する一方、表面に透明な光透過性電極及び配向膜が形成された透明な光透過性基板を用意する。
上記駆動基板の端部には、外部接続用のパッド電極が形成されており、またその表示領域には多数の画素電極が縦横に整然とマトリクス状に配列されている。そして、上記パッド電極を除き、画素電極の形成された表示領域の周辺部に沿って、スペーサが混入されたシール接着剤を形成すると共に、このシール接着剤の一部に液晶注入口を形成する。次に、上記駆動基板上に上記シール接着剤を介して光透過性基板を貼り合せて接合体を形成する。次に、真空チャンバ内に液晶を収納した液晶溜と上記接合体とを導入し、その内部を真空排気する。
次に、上記接合体を移動して、その液晶注入口を上記液晶溜の液晶に接触させて、毛細管現象により液晶を接合体の内部(セルギャップ)に注入する。そして、注入を進めるに従って、真空チャンバ内に例えば窒素ガスを導入して徐々に圧力を高めて、液晶を接合体の内部に完全に充填する。この後、真空チャンバから接合体を取り出し、上記液晶注入口を樹脂等よりなる封止材で封止することによって液晶パネルを作製する。上記両基板間の隙間、すなわち液晶層の厚みは数μm程度に設定されている。
ここで上記シール接着剤の目的は、このシール接着剤に混入されるスペーサによってセルギャップ、すなわち液晶層の厚みを均一に保ち、また外部からの水分等の浸入を遮断し、信頼性を維持することにある。ところで、近年、液晶パネルの画像品質が厳しくなり、セルギャップの不均一が原因となる表示画像のシェーディングの改善要求が強まっている。特に、液晶プロジェクタに用いられる液晶パネルは数十mm角の大きさであり、この画像を数100倍に投射拡大して表示することからセルギャップの高い均一性が求められる。
上記セルギャップは、先に説明したように基板の周辺部に設けたシール接着剤で保持されるが、液晶パネルの中央部は液晶があるのみでセルギャップが液晶パネルの平面方向において不均一となり易い。この解決策として、液晶パネルの中央部の表示領域にもスペーサを散布する事が行われている(例えば特許文献3)。
また、他の方法としては、セルギャップの均一性の向上のため、基板の周辺部のシール接着剤を2重に設け、これに混入されるスペーサの径を内外のシール接着剤間で変えるなどの工夫がなされていた(例えば特許文献4、5)。
しかしながら、上記特許文献3に開示されたように表示領域にスペーサを散布して配置する方法では、セルギャップの均一化を達成することはできるが、液晶層内にスペーサという異物が存在することになるため、特に画素サイズの微細化が進んだ現在にあっては、画像品質を低下させてしまう、といった問題があった。特に、前述したように投射型の液晶プロジェクタに用いる場合には異物の像が拡大されるので、より目立ってしまう、といった問題があった。
また、上記特許文献4、5に開示されたように基板周辺部にシール接着剤を2重に設ける方法では、基板周辺部のセルギャップは均一化させることはできるが、表示領域の中央部のセルギャップの調整は不十分になる場合があった。
本発明は、以上のような問題点に着目し、これを有効に解決すべく創案されたものである。本発明の目的は、液晶層の厚み(セルギャップ)の均一性を向上させて画像品質を大幅に向上させることが可能な液晶パネル、その製造方法及びその製造装置を提供することにある。
本発明は、以上のような問題点に着目し、これを有効に解決すべく創案されたものである。本発明の目的は、液晶層の厚み(セルギャップ)の均一性を向上させて画像品質を大幅に向上させることが可能な液晶パネル、その製造方法及びその製造装置を提供することにある。
請求項1に係る発明は、複数の画素電極及び該画素電極を駆動する駆動回路を備えた駆動基板と、該駆動基板と所定の間隙を有して対向配置されて前記画素電極と対向する光透過性電極を備えた光透過性基板と、前記所定の間隙に充填された液晶と、を有する液晶パネルを製造する、液晶パネルの製造方法において、前記駆動基板と前記光透過性基板とが間隙を有して接合された接合体における当該間隙に液晶を充填する液晶充填工程と、前記液晶充填工程後に、前記駆動基板と前記光透過性基板との間の静電容量を測定しつつ、該静電容量の測定値に基づいて前記駆動基板と前記光透過性基板との距離を調整する静電容量測定工程と、を有することを特徴とする液晶パネルの製造方法である。
この場合、例えば請求項2に記載するように、前記静電容量測定工程では、前記駆動基板及び/又は光透過性基板の表面に押圧力を付与することにより前記距離を調整する。
また、例えば請求項3に記載するように、前記駆動基板は、前記画素電極と前記駆動回路との間に、隣り合う前記画素電極間からの漏れ光を遮断するための遮光層を有すると共に、該遮光層は複数のブロックに分割されており、前記静電容量測定工程では、前記遮光層のブロック毎に前記押圧力を付与することにより前記距離を調整する。
また、例えば請求項3に記載するように、前記駆動基板は、前記画素電極と前記駆動回路との間に、隣り合う前記画素電極間からの漏れ光を遮断するための遮光層を有すると共に、該遮光層は複数のブロックに分割されており、前記静電容量測定工程では、前記遮光層のブロック毎に前記押圧力を付与することにより前記距離を調整する。
請求項4に係る発明は、複数の画素電極及び該画素電極を駆動する駆動回路を備えた駆動基板と、該駆動基板と所定の間隙を有して対向配置されて前記画素電極と対向する光透過性電極を備えた光透過性基板と、前記所定の間隙に充填された液晶と、を有する液晶パネルを製造する、液晶パネルの製造装置において、前記駆動基板と前記光透過性基板とが間隙を有して接合され当該間隙に液晶が充填された接合体における、当該駆動基板と当該光透過性基板との間の静電容量を測定する静電容量測定手段と、前記駆動基板と前記光透過性基板との距離を調整する調整手段と、前記静電容量測定手段で測定された静電容量の値に基づいて前記駆動基板と前記光透過性基板との距離を算出する演算部と、前記演算部で算出した算出距離に基づいて前記駆動基板と前記光透過性基板との距離を調整するよう前記調整手段を制御する制御部と、を備えた液晶パネルの製造装置である。
この場合、例えば請求項5に記載するように、前記調整手段は、前記駆動基板と前記光透過性基板の内の少なくともいずれか一方の基板の表面に押圧力を付与する押圧部と、該押圧部を駆動する押圧駆動部とを有する。
また、例えば請求項6に記載するように、前記駆動基板は、前記画素電極と前記駆動回路との間に、隣り合う前記画素電極間からの漏れ光を遮断するための遮光層を有すると共に、該遮光層は複数のブロックに分割されており、前記押圧部は前記遮光層のブロック毎に前記距離を調整するようになされている。
また、例えば請求項6に記載するように、前記駆動基板は、前記画素電極と前記駆動回路との間に、隣り合う前記画素電極間からの漏れ光を遮断するための遮光層を有すると共に、該遮光層は複数のブロックに分割されており、前記押圧部は前記遮光層のブロック毎に前記距離を調整するようになされている。
請求項7に係る発明は、表面に設けられた複数の画素電極と、内部に設けられて前記画素電極を駆動する駆動回路と、前記画素電極と前記駆動回路との間に設けられた導電性を有する遮光層と、を備えた駆動基板と、前記駆動基板と所定の間隙を有して対向配置されて、前記画素電極と対向する光透過性電極を備えた光透過性基板と前記所定の間隙に充填された液晶と、を有し、前記遮光層は、複数のブロックに分割されてなることを特徴とする液晶パネルである。
本発明に係る液晶パネル、その製造方法及びその製造装置によれば、光透過性基板と駆動基板との間の隙間に過剰気味に液晶が注入された状態で光透過性基板と駆動基板との間の静電容量を測定しつつ液晶層が所定の厚みとなるように押圧調整し、この状態で液晶注入口を封止するようにしたので、液晶層の厚み(セルギャップ)の均一性を向上させて画像品質を大幅に向上させることができる。
以下に、本発明に係る液晶パネル、その製造方法及びその製造装置の好適な一実施例を添付図面に基づいて詳述する。
図1は本発明に係る液晶パネルを示す平面図、図2は本発明に係る液晶パネルを示す断面図、図3は液晶パネルの一部の断面の概略を示す部分概略断面図、図4は遮光層の分割状態を示す平面図、図5は液晶パネルの製造装置を示す概略模式図である。
図1は本発明に係る液晶パネルを示す平面図、図2は本発明に係る液晶パネルを示す断面図、図3は液晶パネルの一部の断面の概略を示す部分概略断面図、図4は遮光層の分割状態を示す平面図、図5は液晶パネルの製造装置を示す概略模式図である。
まず、図1乃至図4を参照して液晶パネルの構造について説明する。図1においては、光透過性の光透過性基板を透過した状態が示されている。図1及び図2に示すように、この液晶パネル2は、例えばシリコン基板等よりなる駆動基板4と、ガラス板等よりなる光透過性の光透過性基板6とを有している。そして、両基板4、6の周辺部に沿ってシール接着剤10を介在させて接着すると共に、両基板4、6間の隙間に液晶を注入することにより液晶層8を形成し、この液晶層8を密閉状態で封止している。
上記両基板4、6の周辺部の一部には、上記シール接着剤10を設けないで開口された液晶注入口12が設けられており、後述するように、液晶の注入後に上記液晶注入口12は封止材14により封止される。上記シール接着剤10中には、例えばSiO2 よりなる球状のスペーサ16が混入されており、上記液晶層8の厚みH1、すなわちセルギャップの面内方向において可能な限り均一に保つようにしている。このスペーサ16の直径は例えば3μm程度であり、この大きさによってセルギャップH1が規定されることになる。また上記駆動基板4の一側には、外部との間で電気信号等の送受を行うための複数のパッド電極18が設けられている。この液晶パネル2の大きさは、例えば縦横がそれぞれ数cm程度である。
そして、図3にも示すように、上記駆動基板4の表面には、例えばSiO2 等よりなる絶縁層20を介して複数の反射型の画素電極22が設けられる。この画素電極22は例えばアルミニウム合金等よりなり、互いに所定の間隙を隔てて縦横にマトリクス状に整然と配列されている。各画素電極22の下方には、シリコン基板上に形成された例えばスイッチングトランジスタ等を含む駆動回路24が形成されており、この駆動回路24は上方に位置する画素電極22にコンタクト26により接続されている。そして、上記駆動回路24は上記パッド電極18(図2参照)に接続されている。この駆動回路24は、周知のように縦横に配線されたデータラインと制御ラインに信号を加えることによって個別にオン・オフ制御が可能になされている。
そして、上記画素電極22と駆動回路24との間の絶縁層20中には、上記画素電極22間の間隙からの漏れ光を遮断するための、例えばアルミニウム合金等よりなる遮光層28が形成されている。この遮光層28は、上記コンタクト26が上下に通る部分は、コンタクト26に対して非接触となるように穴が形成されている。従来の液晶パネルでは、この遮光層は、画素電極が形成されている表示領域の全面に亘って一体的に形成されていたが、本発明では、図2及び図4にも示すように、上記遮光層28は画素電極22が形成されている表示領域27内で複数のブロックに分割されている。ここでは、上記遮光層28は略均等の大きさで9個の領域に分割されて、9個の遮光層ブロック28A〜28Iとなっている。従って、隣り合う上記遮光層ブロック28A〜28I間は隙間30となっている。
図3では遮光層ブロック28Aと遮光層ブロック28Bとの境界部分が拡大して示されている。そして、上記各遮光層ブロック28A〜28Iは、上記パッド電極18の特定の位置に図示しない配線を介して個別に接続されている。各遮光層ブロック28A〜28Iは、後述するように、液晶封止の際のセルギャップの調整のために光透過性電極(後述する)との間の静電容量を測定する時に使用される。そして、上記画素電極22の上面全体を覆うようにして配向膜(図示せず)が形成される。
一方、光透過性の光透過性基板6の表面には、全面に亘って透明な光透過性電極32が形成されており、この光透過性電極32の表面にも配向膜(図示せず)が形成されている。そして、上記画素電極22と光透過性電極32とを対向させて、間に液晶層8を封入するように上記両基板4、6が接合される。
次に、上述のように形成される液晶パネル2の製造途中で用いられる液晶パネルの製造装置について図5を参照して説明する。尚、図5中の液晶パネルは、液晶封止前の状態を示しており、液晶注入口12が下方に向けられている状態を示している。
図5に示すように、この液晶パネルの製造装置33は、液晶封入前の上記液晶パネル2の駆動基板4と光透過性基板6との間の静電容量を測定する静電容量測定手段34と、この静電容量測定手段34の測定値に基づいて上記両基板4、6間の距離、すなわちセルギャップを求める演算部36と、上記両基板4、6間の距離を調整する調整手段38と、上記演算部36で求めた算出距離が予め定められた所定値となるように上記調整手段38を制御する例えばマイクロコンピュータ等よりなる制御部40とを主に有している。また、この製造装置33は付属的に、上記液晶注入口12から押し出された過剰の液晶を拭き取る拭き取り手段42と、上記液晶注入口12に封止材14を塗布する封止材塗布手段44と、上記封止材14を硬化させる封止材硬化手段46とを有している。
そして、この装置全体の動作は、例えばコンピュータよりなる装置制御部48により制御されることになる。具体的には、上記静電容量測定手段34は、上記パッド電極18に接続されたライン50を介して上記各遮光層ブロック28A〜28Iへ個別に電気的に接続されると共に、ライン52を介して光透過性電極32にも電気的に接続されており、上記各遮光層28A〜28Iと光透過性電極32との間の静電容量を個別にそれぞれ測定できるようになっている。
例えば、静電容量を”C”、液晶の比誘電率を”εr”、1枚の遮光層ブロックの面積を”S”、セルギャップを”H1”とすると、以下の関係式が成り立つ。
C=εo・εr・S/H1(εoは真空の誘電率)
ここで液晶の比誘電率εr、遮光層ブロックの面積Sはそれぞれ一定であるので、静電容量Cの変化はセルギャップH1の変化を表している。
すなわち、静電容量Cを測定することによりセルギャップH1を求めることができる。従って、この静電容量測定手段34で求めた静電容量に基づいて、演算部36では上記セルギャップH1が求められる。
C=εo・εr・S/H1(εoは真空の誘電率)
ここで液晶の比誘電率εr、遮光層ブロックの面積Sはそれぞれ一定であるので、静電容量Cの変化はセルギャップH1の変化を表している。
すなわち、静電容量Cを測定することによりセルギャップH1を求めることができる。従って、この静電容量測定手段34で求めた静電容量に基づいて、演算部36では上記セルギャップH1が求められる。
上記したような静電容量測定手段34としては、例えばアシレント・テクノロジー社製のLCRメータである4284A、4278A等を用いることができる。また上記調整手段38は、ここでは上記9つの各遮光層ブロック28A〜28Iに対して位置的に対応させて配置した押圧部としての9つのエアノズル54(54A〜54I)と、このエアノズル54を駆動する押圧駆動部56とよりなり、エアノズル54から噴射する加圧エアーを圧力調整しつつ液晶パネル2の光透過性基板6の表面に吹き付けることにより、局部的に光透過性基板6のへこみ量を制御できるようになっている。尚、図示例では、エアノズル54としては代表として3つのエアノズル54A、54B、54Cを記載してある。
また上記拭き取り手段42、封止材塗布手段44及び封止材硬化手段46は、必要に応じてそれぞれ個別に上記液晶注入口12へ接近及び離間できるようになっている。上記拭き取り手段42は、例えば拭き取りローラ60を有し、この拭き取りローラ60により上記液晶注入口12の過剰な液晶を拭き取るようになっている。
また封止材塗布手段44は、封止材14を吐出するディスペンサ62を有しており、このディスペンサ62により封止材14を液晶注入口12に塗布するようになっている。この封止材14は、例えば紫外線硬化樹脂よりなる。尚、この紫外線硬化樹脂に代えて熱硬化樹脂等を用いてもよい。また上記封止材硬化手段46は紫外線ランプ64を有しており、上記紫外線硬化樹脂よりなる封止材14を硬化させるようになっている。
次に上述したように構成された液晶パネルの製造装置33を用いて行う液晶パネルの封止方法について図6及び図7も参照して説明する。
図6は液晶パネルのセルギャップの調整の前後の状態を示す断面図、図7は液晶パネルの封止方法を説明するためのフローチャートである。
図6は液晶パネルのセルギャップの調整の前後の状態を示す断面図、図7は液晶パネルの封止方法を説明するためのフローチャートである。
まず、図示しない液晶注入装置の真空チャンバ内へ上記液晶注入前の液晶パネル、すなわち駆動基板4と光透過性基板6との接合体を搬入し、液晶槽中の液晶中に上記接合体の液晶注入口12を浸漬し、毛細管現象により両基板4、6間の隙間に液晶を注入する(S1)。そして、この真空チャンバ内にN2 ガス等を供給することにより、上記基板4、6間の隙間に液晶を十分に且つ少し過剰気味に注入する。この状態では、図6(A)に示すように、光透過性基板6は少し外側へ膨らんだ状態となっており、従って、セルギャップH1も予め定められた所定値(所定の厚み)よりも全体的に大きくなっている。
そして、このような状態の接合体、すなわち液晶封止前の液晶パネルを真空チャンバから搬出し、これを図5に示すように液晶パネルの製造装置33に取り付ける。この状態では、前述したように、液晶注入口12はまだ開放されており、封止されていない状態となっている。
まず、ライン50、52を上記パッド電極18と光透過性電極32にそれぞれ接続して、各遮光層ブロック28A〜28Iと光透過性電極32との間のそれぞれのブロック毎に静電容量を静電容量測定手段34で測定し、この測定値により各遮光層ブロック28A〜28Iにおけるセルギャップを演算部36にて求める。
まず、ライン50、52を上記パッド電極18と光透過性電極32にそれぞれ接続して、各遮光層ブロック28A〜28Iと光透過性電極32との間のそれぞれのブロック毎に静電容量を静電容量測定手段34で測定し、この測定値により各遮光層ブロック28A〜28Iにおけるセルギャップを演算部36にて求める。
制御部40は、上記求めたセルギャップに基づいて、上記調整手段38の押圧駆動部56を駆動し、各エアノズル54A〜54Iから加圧エアを噴射して押圧することにより、対応部分の光透過性基板6を凹ませ、この時、各エアノズル54A〜54I毎に個別に加圧エアの圧力等を調整することによりそれぞれの凹み量を調節し、上記各遮光層ブロック28A〜28Iにおけるセルギャップが予め定められた所定値になるように調整し、このセルギャップを面内に亘って均一化させる(S2)。
この間、上記各遮光層ブロック28A〜28I毎の容量の測定及び各ブロックにおけるセルギャップの算出は、連続的に行われている。このように各遮光層ブロック28A〜28I毎にセルギャップが調整された後の液晶パネルの状態が図6(B)に示される。
このように、上記遮光層28が凹まされると、この液晶パネル中に注入されていた過剰量の液晶は、下部の液晶注入口12から外へ押し出されるので、次に、上記拭き取り手段62の拭き取りローラ60を駆動して、上記押し出された過剰の液晶を拭き取る(S3)。
このように、上記遮光層28が凹まされると、この液晶パネル中に注入されていた過剰量の液晶は、下部の液晶注入口12から外へ押し出されるので、次に、上記拭き取り手段62の拭き取りローラ60を駆動して、上記押し出された過剰の液晶を拭き取る(S3)。
次に、液晶の拭き取りが完了したならば、封止材塗布手段46のディスペンサ62を駆動して上記液晶注入口12に封止材14を塗布する(S4)。次に、上記封止材の塗布が終了したならば、上記各エアノズル54A〜54Iから噴射していた加圧エアの圧力を、僅かに下げる。これにより、光透過性基板6はその復元力により僅かに膨らんで隙間の容量が増えるので、その分だけ液晶注入口12に塗布されていた封止材14が内部に引き込まれる(S5)。尚、この時の光透過性基板6の復元量は非常に僅かであり、先に調整されたセルギャップに悪影響を与えない程度の量である。
このように封止材14の引き込みが完了したならば、次に封止材硬化手段46の紫外線ランプ64を駆動して、上記封止材14に紫外線を照射してこれを硬化させる(S6)。これにより、液晶の封止が完了することになり、液晶パネル2が完成されることになる。
このように、上記光透過性基板6と上記駆動基板4との間の隙間に過剰気味に液晶を注入する工程と、この液晶が注入された状態で上記光透過性基板6と上記駆動基板4との間の静電容量を測定しつつ上記液晶層8が所定の厚み(距離)となるように押圧する静電容量測定工程とを有するようにしたので、液晶層8の厚み(セルギャップ)H1の均一性を向上させて画像品質を大幅に向上させることができる。より詳しくは、上記隙間に液晶を注入する液晶注入口12から押し出された過剰の液晶を拭き取る拭き取り工程と、上記液晶注入口12に封止材14を塗布する塗布工程と、上記封止材14を硬化させる硬化工程とがその後に行われる。
尚、上記実施例では調整手段38としてエアノズル54を用いたが、これに限定されず、例えば押圧力調整可能な例えばエアバックを用いてもよい。また、押圧力は光透過性基板6側からではなく、駆動基板4側から付与してもよいし、或いは両基板4、6側から付与するようにしてもよい。
次に、上述のようにして液晶を封止して作製した液晶パネル2の評価結果を以下に説明する。液晶パネル2は対角1.3インチ、スペーサ径が3μm、液晶の比誘電率が3.5である。この場合、理想的なセルギャップである3μmでの静電容量は7.2(nF)である。また、画素電極22を有する駆動基板4側の遮光層28を図4に示すように9つの遮光層ブロック28A〜28Iに分割することにより、表示領域27のエリアを縦横それぞれ3分割して、計9個のエリアに分割して測定した場合、各エリアの静電容量はそれぞれ0.8(nF)である。
図8に静電容量(セルギャップ)の調整前後の測定結果を示す。図8では各エリアの静電容量と、その分布模様を等容量線で示している。液晶注入直後、図8(A)に示すように、各エリアの静電容量を測定すると、最大0.89(nF)、最小0.73(nF)であった。この状態のまま液晶注入口を封止し、作製した液晶パネルを投影評価した結果、画像のシェーディングは静電容量の分布に対応して発生し、画像品質は満足できるものではなかった。
他方、液晶注入直後、上記と同等の静電容量の分布があるパネルに対し、静電容量をモニタ(測定)しながらセルギャップの調整を行い、その後、液晶注入口を封止した場合、図8(B)に示すように、静電容量は最大0.83(nF)、最小0.78(nF)まで均一化された。この液晶パネルの投影画像は、画像のシェーディングが少なく、画像品質を大きく改善できることが確認できた。
以上のように、エリア毎の静電容量を測定し、これを均一化するように、セルギャップを調整し、その後、液晶注入口を封止する事で、セルギャップが均一化され、投影画像のシェーディングを大きく改善できることが可能となった。
尚、上記実施例では、遮光層28を9つのブロックに分割した場合を例にとって説明したが、この分割数には限定されない。また遮光層28を分割しないで、これを一体的に設け、表示領域の中央部を押圧してセルギャップを調整するようにしてもよい。
尚、上記実施例では、遮光層28を9つのブロックに分割した場合を例にとって説明したが、この分割数には限定されない。また遮光層28を分割しないで、これを一体的に設け、表示領域の中央部を押圧してセルギャップを調整するようにしてもよい。
また、ここでは静電容量を測定するために遮光層28を用いたが、これに限定されず、画素電極を用いて、これと光透過性電極との間の静電容量を測定するようにしてもよい。
この場合には、例えば上記各遮光層ブロック28A〜28Iに対応する画素電極群毎に順次オン状態としてサイクリックに静電容量を求めるようにすればよい。
また、上記実施例ではライン52を光透過性電極32に接続する構成としたが、これに限定されるものではなく、例えば光透過性電極32に導通する接続パッドを駆動基板4側に、上記パッド電極18とは別々に設け、この接続パッドとライン52とを接続するようにしてもよい。
更に、ここでは反射型の液晶パネルについて説明したが、透過型の液晶パネルにも本発明を適用することができる。
この場合には、例えば上記各遮光層ブロック28A〜28Iに対応する画素電極群毎に順次オン状態としてサイクリックに静電容量を求めるようにすればよい。
また、上記実施例ではライン52を光透過性電極32に接続する構成としたが、これに限定されるものではなく、例えば光透過性電極32に導通する接続パッドを駆動基板4側に、上記パッド電極18とは別々に設け、この接続パッドとライン52とを接続するようにしてもよい。
更に、ここでは反射型の液晶パネルについて説明したが、透過型の液晶パネルにも本発明を適用することができる。
2…液晶パネル、4…駆動基板、6…光透過性基板、8…液晶層、10…シール接着剤、12…液晶注入口、14…封止材、16…スペーサ、18…パッド電極、22…画素電極、24…駆動回路、27…表示領域、28…遮光層、28A〜28I…遮光層ブロック、32…光透過性電極、33…液晶パネルの製造装置、34…静電容量測定手段、36…演算部、38…調整手段、40…制御部、42…拭き取り手段、44…封止材塗布手段、46…封止材硬化手段、48…装置制御部、54…エアノズル(押圧部)、56…押圧駆動部、60…拭き取りローラ、62…ディスペンサ、64…紫外線ランプ。
Claims (7)
- 複数の画素電極及び該画素電極を駆動する駆動回路を備えた駆動基板と、該駆動基板と所定の間隙を有して対向配置されて前記画素電極と対向する光透過性電極を備えた光透過性基板と、前記所定の間隙に充填された液晶と、を有する液晶パネルを製造する、液晶パネルの製造方法において、
前記駆動基板と前記光透過性基板とが間隙を有して接合された接合体における当該間隙に液晶を充填する液晶充填工程と、
前記液晶充填工程後に、前記駆動基板と前記光透過性基板との間の静電容量を測定しつつ、該静電容量の測定値に基づいて前記駆動基板と前記光透過性基板との距離を調整する静電容量測定工程と、
を有することを特徴とする液晶パネルの製造方法。 - 前記静電容量測定工程では、前記駆動基板及び/又は光透過性基板の表面に押圧力を付与することにより前記距離を調整することを特徴とする請求項1記載の液晶パネルの製造方法。
- 前記駆動基板は、前記画素電極と前記駆動回路との間に、隣り合う前記画素電極間からの漏れ光を遮断するための遮光層を有すると共に、
該遮光層は複数のブロックに分割されており、前記静電容量測定工程では、前記遮光層のブロック毎に前記押圧力を付与することにより前記距離を調整することを特徴とする請求項2記載の液晶パネルの製造方法。 - 複数の画素電極及び該画素電極を駆動する駆動回路を備えた駆動基板と、該駆動基板と所定の間隙を有して対向配置されて前記画素電極と対向する光透過性電極を備えた光透過性基板と、前記所定の間隙に充填された液晶と、を有する液晶パネルを製造する、液晶パネルの製造装置において、
前記駆動基板と前記光透過性基板とが間隙を有して接合され当該間隙に液晶が充填された接合体における、当該駆動基板と当該光透過性基板との間の静電容量を測定する静電容量測定手段と、
前記駆動基板と前記光透過性基板との距離を調整する調整手段と、
前記静電容量測定手段で測定された静電容量の値に基づいて前記駆動基板と前記光透過性基板との距離を算出する演算部と、
前記演算部で算出した算出距離に基づいて前記駆動基板と前記光透過性基板との距離を調整するよう前記調整手段を制御する制御部と、
を備えた液晶パネルの製造装置。 - 前記調整手段は、前記駆動基板と前記光透過性基板の内の少なくともいずれか一方の基板の表面に押圧力を付与する押圧部と、該押圧部を駆動する押圧駆動部とを有することを特徴とする請求項4記載の液晶パネルの製造装置。
- 前記駆動基板は、前記画素電極と前記駆動回路との間に、隣り合う前記画素電極間からの漏れ光を遮断するための遮光層を有すると共に、
該遮光層は複数のブロックに分割されており、
前記押圧部は前記遮光層のブロック毎に前記距離を調整するようになされていることを特徴とする請求項5記載の液晶パネルの製造装置。 - 表面に設けられた複数の画素電極と、内部に設けられて前記画素電極を駆動する駆動回路と、前記画素電極と前記駆動回路との間に設けられた導電性を有する遮光層と、を備えた駆動基板と、
前記駆動基板と所定の間隙を有して対向配置されて、前記画素電極と対向する光透過性電極を備えた光透過性基板と
前記所定の間隙に充填された液晶と、
を有し、
前記遮光層は、複数のブロックに分割されてなることを特徴とする液晶パネル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007061365A JP2008224925A (ja) | 2007-03-12 | 2007-03-12 | 液晶パネル、その製造方法及びその製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2007061365A JP2008224925A (ja) | 2007-03-12 | 2007-03-12 | 液晶パネル、その製造方法及びその製造装置 |
Publications (1)
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JP2008224925A true JP2008224925A (ja) | 2008-09-25 |
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ID=39843640
Family Applications (1)
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JP2007061365A Pending JP2008224925A (ja) | 2007-03-12 | 2007-03-12 | 液晶パネル、その製造方法及びその製造装置 |
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JP (1) | JP2008224925A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105988234A (zh) * | 2015-02-16 | 2016-10-05 | 南京瀚宇彩欣科技有限责任公司 | 液晶显示面板及其检测方法 |
CN106094292A (zh) * | 2016-08-17 | 2016-11-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种液晶盒的检测装置、检测方法及显示面板的制备方法 |
CN106601159A (zh) * | 2016-10-26 | 2017-04-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 阵列基板检测装置及检测方法 |
JP2017078686A (ja) * | 2015-10-22 | 2017-04-27 | Dic株式会社 | 液晶組成物の弾性定数測定装置、及び液晶組成物の弾性定数測定方法 |
-
2007
- 2007-03-12 JP JP2007061365A patent/JP2008224925A/ja active Pending
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