JP2008219033A - Organic el element - Google Patents
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- 239000000872 buffer Substances 0.000 claims abstract description 45
- -1 porphyrin compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 28
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 claims abstract description 26
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N lithium oxide Chemical class [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 229910001947 lithium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 91
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 91
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 49
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 14
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical group [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 12
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 11
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 6
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 5
- 229910001515 alkali metal fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910001618 alkaline earth metal fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M caesium fluoride Chemical compound [F-].[Cs+] XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- AHLATJUETSFVIM-UHFFFAOYSA-M rubidium fluoride Chemical compound [F-].[Rb+] AHLATJUETSFVIM-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N strontium oxide Chemical compound [O-2].[Sr+2] IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 claims description 3
- OYLGJCQECKOTOL-UHFFFAOYSA-L barium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ba+2] OYLGJCQECKOTOL-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 229910001632 barium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- KOPBYBDAPCDYFK-UHFFFAOYSA-N caesium oxide Chemical compound [O-2].[Cs+].[Cs+] KOPBYBDAPCDYFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910001942 caesium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 claims description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 2
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical group [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical group [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 2
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 claims description 2
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 claims description 2
- CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N potassium oxide Chemical compound [O-2].[K+].[K+] CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910001950 potassium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910001952 rubidium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- CWBWCLMMHLCMAM-UHFFFAOYSA-M rubidium(1+);hydroxide Chemical compound [OH-].[Rb+].[Rb+] CWBWCLMMHLCMAM-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 claims description 2
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 claims description 2
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N sodium oxide Chemical compound [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910001948 sodium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- FVRNDBHWWSPNOM-UHFFFAOYSA-L strontium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Sr+2] FVRNDBHWWSPNOM-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 229910001637 strontium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 282
- 239000010408 film Substances 0.000 description 75
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 58
- 239000000463 material Substances 0.000 description 29
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 21
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 17
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 16
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 14
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 13
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 13
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 12
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 12
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 11
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 11
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 10
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 10
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 9
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 6
- TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K tri(quinolin-8-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1 TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 5
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 5
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 5
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 3
- LISFMEBWQUVKPJ-UHFFFAOYSA-N quinolin-2-ol Chemical compound C1=CC=C2NC(=O)C=CC2=C1 LISFMEBWQUVKPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 3
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KESRRRLHHXXBRW-UHFFFAOYSA-N C1=CC=NC2=C3C(O)=CC=CC3=CC=C21 Chemical class C1=CC=NC2=C3C(O)=CC=CC3=CC=C21 KESRRRLHHXXBRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 2
- 239000007850 fluorescent dye Substances 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N quinolin-8-ol Chemical class C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N (fluoren-9-ylideneamino) n-naphthalen-1-ylcarbamate Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=CC=CC=C2C1=NOC(=O)NC1=CC=CC2=CC=CC=C12 PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VERMWGQSKPXSPZ-BUHFOSPRSA-N 1-[(e)-2-phenylethenyl]anthracene Chemical class C=1C=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C2C=1\C=C\C1=CC=CC=C1 VERMWGQSKPXSPZ-BUHFOSPRSA-N 0.000 description 1
- BRSRUYVJULRMRQ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylanthracene Chemical class C1=CC=CC=C1C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12 BRSRUYVJULRMRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical class C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 1
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- GENZLHCFIPDZNJ-UHFFFAOYSA-N [In+3].[O-2].[Mg+2] Chemical compound [In+3].[O-2].[Mg+2] GENZLHCFIPDZNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052916 barium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- HMOQPOVBDRFNIU-UHFFFAOYSA-N barium(2+);dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ba+2].[O-][Si]([O-])=O HMOQPOVBDRFNIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001231 benzoyloxy group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O* 0.000 description 1
- 125000000051 benzyloxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- BEQNOZDXPONEMR-UHFFFAOYSA-N cadmium;oxotin Chemical compound [Cd].[Sn]=O BEQNOZDXPONEMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001669 calcium Chemical class 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 150000001788 chalcone derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 150000003997 cyclic ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000000407 epitaxy Methods 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N fluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008376 fluorenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 150000002258 gallium Chemical class 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Chemical group 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 1
- 229940083761 high-ceiling diuretics pyrazolone derivative Drugs 0.000 description 1
- 150000007857 hydrazones Chemical class 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 150000002471 indium Chemical class 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229940079865 intestinal antiinfectives imidazole derivative Drugs 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 125000002346 iodo group Chemical group I* 0.000 description 1
- 125000002510 isobutoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005921 isopentoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002680 magnesium Chemical class 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical class C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- USPVIMZDBBWXGM-UHFFFAOYSA-N nickel;oxotungsten Chemical compound [Ni].[W]=O USPVIMZDBBWXGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002903 organophosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000007978 oxazole derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N oxomolybdenum Chemical compound [Mo]=O PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 125000004115 pentoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 150000004986 phenylenediamines Chemical class 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 150000004033 porphyrin derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004742 propyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N pyrazol-3-one Chemical class O=C1C=CN=N1 JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003219 pyrazolines Chemical class 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 150000004322 quinolinols Chemical class 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N rubrene Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C1=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=C11)=C(C=CC=C2)C2=C1C1=CC=CC=C1 YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005394 sealing glass Substances 0.000 description 1
- 125000005920 sec-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003346 selenoethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical class C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Chemical group 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 229940042055 systemic antimycotics triazole derivative Drugs 0.000 description 1
- 125000004213 tert-butoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(O*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- 125000005259 triarylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000876 trifluoromethoxy group Chemical group FC(F)(F)O* 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- HTPBWAPZAJWXKY-UHFFFAOYSA-L zinc;quinolin-8-olate Chemical compound [Zn+2].C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1 HTPBWAPZAJWXKY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Abstract
Description
本発明は、電子注入効率に優れた、透明な陰極を有する有機EL(エレクトロルミネッセンス)素子に関し、特に、透明な有機EL素子およびトップエミッション方式の有機EL素子への適用に最適である。 The present invention relates to an organic EL (electroluminescence) element having a transparent cathode excellent in electron injection efficiency, and is particularly suitable for application to a transparent organic EL element and a top emission type organic EL element.
有機EL素子は自己発光のため、視認性に優れ、かつ数V〜数十Vの低電圧駆動が可能なため駆動回路を含めた軽量化が可能である。そこで、有機EL素子は、薄膜型ディスプレイ、照明、バックライトとしての活用が期待されている。 Since the organic EL element is self-luminous, it has excellent visibility and can be driven at a low voltage of several volts to several tens of volts, so that the weight including the driving circuit can be reduced. Therefore, the organic EL element is expected to be used as a thin film display, illumination, and backlight.
また、有機EL素子は色バリエーションが豊富であることも特徴である。さらに、複数の発光色を組み合わせることで、混色によってさまざまな発光が可能となることも特徴である。 The organic EL element is also characterized by abundant color variations. Furthermore, a combination of a plurality of light emission colors enables various light emission by color mixing.
このような有機EL素子は、一般に、基板の上に、下部電極である陽極、正孔輸送層、発光層、電子輸送層および上部電極である陰極を順次積層してなり、陽極から正孔を、陰極から電子をそれぞれ発光層へ注入し、発光層を発光させるようにしている。この一般的な構成では、発光層の光は下部電極側すなわち基板側から取り出される。 In general, such an organic EL element is formed by sequentially laminating an anode as a lower electrode, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and a cathode as an upper electrode on a substrate. Electrons are injected from the cathode into the light emitting layer, respectively, so that the light emitting layer emits light. In this general configuration, light of the light emitting layer is extracted from the lower electrode side, that is, the substrate side.
ここで、有機EL素子の駆動方法を大きく分けると、パッシブ方式(単純マトリクス方式)とアクティブ方式の2つの方式がある。 Here, the driving method of the organic EL element is roughly divided into a passive method (simple matrix method) and an active method.
パッシブ方式では、パネルの必要輝度にロウライン(走査線)数をかけあわせた輝度で各ロウラインを発光させる必要がある。そのため、パネルサイズが大きくなるにつれて各ロウラインを発光させる輝度が高くなるので、大型パネルには不向きである。 In the passive method, it is necessary to emit each row line with a luminance obtained by multiplying the required luminance of the panel by the number of row lines (scanning lines). For this reason, as the panel size increases, the luminance of light emitted from each row line increases, which is not suitable for a large panel.
それに対し、アクティブ方式ではTFT(薄膜トランジスタ)技術を応用し、各画素が常時パネル必要輝度で発光しているため、大型パネルに有利である。 On the other hand, in the active method, TFT (Thin Film Transistor) technology is applied, and each pixel always emits light with the necessary panel brightness, which is advantageous for a large panel.
しかしながら、このアクティブ方式では、基板部にTFTを配置するため基板方向から光を取り出す際に、開口率が制限を受ける。そのため、光の取り出し方法として、開口率の制限を受けない基板と反対方向、すなわち上部電極方向から光を取り出すトップエミッション方式が開発されている。 However, in this active method, since the TFT is disposed on the substrate portion, the aperture ratio is limited when light is extracted from the substrate direction. Therefore, as a light extraction method, a top emission method has been developed in which light is extracted from the direction opposite to the substrate that is not limited by the aperture ratio, that is, from the upper electrode direction.
このトップエミッション方式を採用する場合、上部電極を透明にすることにより、パネル全体が透明であるデバイスを形成することが可能である。そして、トップエミッション構造にすることで、アクティブ駆動で問題となる開口率の向上が見込まれ、輝度低下特性の優れたデバイスも形成可能である。 When this top emission method is adopted, it is possible to form a device in which the entire panel is transparent by making the upper electrode transparent. With the top emission structure, an improvement in aperture ratio, which is a problem in active driving, is expected, and a device with excellent luminance reduction characteristics can be formed.
この開口率の向上について具体的に述べると、アクティブ駆動では、各画素毎に下部電極の下側に画素駆動用のTFT(薄膜トランジスタ)が設けられるが、下部電極側から光の取り出しを行う場合、画素中にTFTが占める領域では光が透過せず、その領域の分、開口率が小さくなる。 Specifically speaking, in the active drive, a pixel driving TFT (thin film transistor) is provided below the lower electrode for each pixel in the active drive. When light is extracted from the lower electrode side, In the area occupied by the TFT in the pixel, light is not transmitted, and the aperture ratio is reduced by that area.
しかし、上部電極側から光の取り出しを行う場合、TFTの領域に関係なく光を取り出すことができ、開口率低下の問題は回避される。 However, when light is extracted from the upper electrode side, light can be extracted regardless of the TFT region, and the problem of a decrease in aperture ratio is avoided.
このように、トップエミッション方式では、上部電極である陰極を透明にする必要があるが、陰極は、一般にはMgAgやAlのような不透明な金属層が用いられるため、従来より、透明な陰極の開発が行われている。 As described above, in the top emission method, the upper electrode cathode needs to be transparent. However, since an opaque metal layer such as MgAg or Al is generally used for the cathode, a transparent cathode is conventionally used. Development is underway.
たとえば、そのような透明な陰極として、MgAg層を薄くし、その上に厚膜のITO膜を成膜した2層構造の陰極構造を有する有機EL素子が提案されている(非特許文献1参照)。 For example, as such a transparent cathode, an organic EL element having a two-layer cathode structure in which a MgAg layer is thinned and a thick ITO film is formed thereon has been proposed (see Non-Patent Document 1). ).
さらに、そのような透明な陰極として、上記非特許文献1に記載の陰極において、MgAg薄膜層の代わりに銅フタロシアニン(CuPc)の薄膜層を用い、その上にITO膜をスパッタにて成膜した2層構造の陰極が提案されている(非特許文献1および非特許文献2参照)。 Further, as such a transparent cathode, a thin film layer of copper phthalocyanine (CuPc) was used instead of the MgAg thin film layer in the cathode described in Non-Patent Document 1, and an ITO film was formed thereon by sputtering. A two-layer cathode has been proposed (see Non-Patent Document 1 and Non-Patent Document 2).
また、そのような透明な陰極としては、たとえばLiなどからなる電子インジェクタ薄膜の上に、たとえばAlなどからなる金属薄膜層、および1.2以上の屈折率を有する透明層(たとえばMgO)からなる陰極構造を有する有機EL素子が提案されている(特許文献1参照)。
しかしながら、上記非特許文献1に記載されている陰極を有する有機EL素子では、ITO膜の成膜による下地の有機層のダメージによって、電極の短絡すなわち下部電極である陽極と上部電極である陰極との間の短絡が発生した。 However, in the organic EL element having a cathode described in Non-Patent Document 1, an electrode is short-circuited, that is, an anode as a lower electrode and a cathode as an upper electrode due to damage of an underlying organic layer due to the formation of an ITO film. A short circuit occurred between.
この対策として、下地の有機層ITO膜のダメージを抑えるために、ITO膜の成膜時にスパッタリング電力をたとえば5Wと低くすることが考えられるが、そのようにした場合、当該スパッタリング速度が極めて遅くなり(たとえば約0.3nm/分)、実用的ではなかった。 As a countermeasure, in order to suppress the damage of the underlying organic layer ITO film, it is conceivable to reduce the sputtering power to, for example, 5 W at the time of forming the ITO film, but in that case, the sputtering speed becomes extremely slow. (For example, about 0.3 nm / min), it was not practical.
また、上記非特許文献2および非特許文献3に記載されている陰極を有する有機EL素子では、CuPc薄膜層は、明らかにその上のITO膜のスパッタリングプロセスによって起きる短絡の問題を小さくするバッファー層として作用する。これは、上記非特許文献1に記載の陰極におけるMgAg薄膜層に比べて、CuPcが透明性が大きいため比較的厚くできることによると考えられる。 Further, in the organic EL device having the cathode described in Non-Patent Document 2 and Non-Patent Document 3, the CuPc thin film layer is a buffer layer that obviously reduces the short-circuit problem caused by the sputtering process of the ITO film thereon. Acts as This is presumably because CuPc is relatively thick compared to the MgAg thin film layer in the cathode described in Non-Patent Document 1 and can be made relatively thick.
しかし、このCuPc薄膜層は、Alq3などからなる電子輸送層との界面における電子注入障壁が大きいため、非発光であるCuPc薄膜層中にて電子と正孔との再結合が起こり、電流効率の実質的な低下を生じる。 However, since this CuPc thin film layer has a large electron injection barrier at the interface with the electron transport layer made of Alq3 or the like, recombination of electrons and holes occurs in the non-luminous CuPc thin film layer, and current efficiency is improved. A substantial decrease occurs.
そこで、上記界面のところの電子注入障壁を減少させ、電流効率を向上させるためには電子輸送層とCuPc薄膜層との界面のところにLiなどからなる電子注入層を導入することが必要であった。 Therefore, in order to reduce the electron injection barrier at the interface and improve the current efficiency, it is necessary to introduce an electron injection layer made of Li or the like at the interface between the electron transport layer and the CuPc thin film layer. It was.
しかしながら、本発明者が行った実験検討によれば、このような陰極構造とした有機EL素子においては、通常の金属陰極を用いる有機EL素子と比較した場合、十分な電流効率は得られなかった。 However, according to an experimental study conducted by the present inventor, the organic EL device having such a cathode structure did not have sufficient current efficiency when compared with an organic EL device using a normal metal cathode. .
つまり、この上記非特許文献2および非特許文献3に記載されている陰極において、電子輸送層とCuPc薄膜層との界面のところにLiなどからなる電子注入層を導入した構成としても、当該陰極は、電子注入電極として充分に機能しない。 That is, in the cathodes described in Non-Patent Document 2 and Non-Patent Document 3, the cathode can be configured by introducing an electron injection layer made of Li or the like at the interface between the electron transport layer and the CuPc thin film layer. Does not function sufficiently as an electron injection electrode.
また、上記特許文献1に記載されている陰極を有する有機EL素子では、上記した陰極構造とすることにより、陰極の全ての膜を熱蒸着により成膜できるため、スパッタ成膜を用いる場合と比較して下地の有機層へのダメージが少ない。 In addition, in the organic EL element having a cathode described in Patent Document 1, all the cathode films can be formed by thermal evaporation by using the above-described cathode structure. And less damage to the underlying organic layer.
しかしながら、この場合、反射率が高い金属薄膜層を用いているため、1.2以上の屈折率を有する透明層により反射を抑えた場合でも、透過率は60%ほどしか得られない。
そのため、通常の有機EL素子と比較して、電流効率は低下する。つまり、この場合、陰極の透過性が不十分なものである。
However, in this case, since a metal thin film layer having a high reflectance is used, even when the reflection is suppressed by a transparent layer having a refractive index of 1.2 or more, a transmittance of only about 60% can be obtained.
Therefore, current efficiency is reduced as compared with a normal organic EL element. That is, in this case, the permeability of the cathode is insufficient.
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、陽極、正孔輸送層、発光層、電子輸送層および陰極を順次積層してなる有機EL素子において、透過性が高くかつ有効な電子注入電極として働く陰極を実現することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and in an organic EL device in which an anode, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and a cathode are sequentially laminated, a highly transmissive and effective electron injection. The object is to realize a cathode that works as an electrode.
上記目的を達成するため、本発明者は鋭意検討を行った結果、2層の電子注入層を用いる透明陰極構造が電流効率に優れており、有効であることを見出した。 In order to achieve the above object, the present inventor has conducted intensive studies and found that a transparent cathode structure using two electron injection layers has excellent current efficiency and is effective.
すなわち、請求項1に記載の発明では、陽極(20)、正孔輸送層(40)、発光層(50)、電子輸送層(60)および陰極(70)を順次積層してなる有機EL素子において、陰極(70)は、電子輸送層(60)側から第1の電子注入層(71)、バッファー層(72)、第2の電子注入層(73)および透明な導電膜層(74)を順次積層してなる透明な膜であることを特徴としている。 That is, in the invention according to claim 1, an organic EL element comprising an anode (20), a hole transport layer (40), a light emitting layer (50), an electron transport layer (60) and a cathode (70) laminated in order. The cathode (70) includes a first electron injection layer (71), a buffer layer (72), a second electron injection layer (73), and a transparent conductive film layer (74) from the electron transport layer (60) side. It is characterized by being a transparent film formed by sequentially laminating.
本発明は実験的に見出されたものであり、それによれば、陰極(70)を上記構成とすることにより、トップエミッション方式を採用した場合においても、90%以上の高い透過性を実現できる。 The present invention has been found experimentally. According to this, the cathode (70) having the above-described configuration can realize high transmittance of 90% or more even when the top emission method is adopted. .
また、バッファー層(72)を有することにより、透明な導電膜層(74)をスパッタなどにて成膜する際のエネルギーを吸収し、下地の有機層のダメージを緩和することができるので、電極の短絡すなわち陽極(20)と陰極(70)との短絡を防止することができる。 In addition, the buffer layer (72) can absorb energy when the transparent conductive film layer (74) is formed by sputtering or the like, and can reduce damage to the underlying organic layer. , That is, the short circuit between the anode (20) and the cathode (70) can be prevented.
また、電子輸送層(60)とバッファー層(72)との間およびバッファー層(72)と導電膜層(74)との間に、それぞれ第1の電子注入層(71)、第2の電子注入層(73)を介在させているため、電流効率を従来の有機EL素子よりも大幅に向上させることができる。 Further, a first electron injection layer (71) and a second electron are interposed between the electron transport layer (60) and the buffer layer (72) and between the buffer layer (72) and the conductive film layer (74), respectively. Since the injection layer (73) is interposed, the current efficiency can be significantly improved as compared with the conventional organic EL element.
第1の電子注入層(71)は、成膜時において電子輸送層(60)およびバッファー層(72)中に拡散することで、電子輸送層(60)とバッファー層(72)との電子エネルギー障壁を小さくすると考えられる。 The first electron injection layer (71) diffuses into the electron transport layer (60) and the buffer layer (72) during film formation, so that the electron energy between the electron transport layer (60) and the buffer layer (72) is obtained. It is thought to reduce the barrier.
また、第2の電子注入層(73)は、成膜時において、バッファー層(72)に拡散するとともに、導電膜層(74)と電気2重層を形成するために導電膜層(74)の仕事関数を、より第2の電子注入層(73)に近づけて小さくする。そのために、導電膜層(74)からの電子の注入効率を高めることができる。 Further, the second electron injection layer (73) diffuses into the buffer layer (72) at the time of film formation, and is formed on the conductive film layer (74) to form an electric double layer with the conductive film layer (74). The work function is reduced closer to the second electron injection layer (73). Therefore, the electron injection efficiency from the conductive film layer (74) can be increased.
このことにより、本発明によれば、電流効率を高めることができていると考えられる。 Thus, according to the present invention, it is considered that the current efficiency can be improved.
したがって、本発明によれば、有機EL素子において、透過性が高くかつ有効な電子注入電極として働く陰極(70)を実現することができる。 Therefore, according to the present invention, in the organic EL element, it is possible to realize a cathode (70) that functions as a highly transmissive and effective electron injection electrode.
そして、このような優れた陰極(70)を有する本発明の有機EL素子は、陰極(70)側から発光層(50)の光を取り出すトップエミッション方式の有機EL素子として好適に使用することができる。 The organic EL device of the present invention having such an excellent cathode (70) can be suitably used as a top emission type organic EL device that extracts light from the light emitting layer (50) from the cathode (70) side. it can.
請求項2に記載の発明では、請求項1に記載の有機EL素子において、透明な導電膜層(74)は、ITO、IZOまたはZnOであることを特徴としている。 The invention according to claim 2 is characterized in that in the organic EL element according to claim 1, the transparent conductive film layer (74) is made of ITO, IZO or ZnO.
それによれば、透明な導電膜層(74)として、陽極としても用いることができる一般的なITO(インジウム−錫オキシド)、IZO(インジウム−亜鉛オキシド)またはZnOを(亜鉛オキシド)用いることができる。それゆえ、陽極(20)と同じ材料を陰極(70)に用いることができる。 According to this, general ITO (indium-tin oxide), IZO (indium-zinc oxide), or ZnO (zinc oxide) that can also be used as an anode can be used as the transparent conductive film layer (74). . Therefore, the same material as the anode (20) can be used for the cathode (70).
請求項3に記載の発明では、請求項1または請求項2に記載の有機EL素子において、バッファー層(72)は、ポルフィリン化合物からなることを特徴としている。 The invention according to claim 3 is the organic EL element according to claim 1 or 2, wherein the buffer layer (72) is made of a porphyrin compound.
請求項4に記載の発明では、請求項3に記載の有機EL素子において、ポルフィリン化合物は、銅フタロシアニンであることを特徴としている。 The invention according to claim 4 is the organic EL device according to claim 3, wherein the porphyrin compound is copper phthalocyanine.
このように、バッファー層(72)としては通常ホール注入層として用いられる、ポルフィリン化合物を用いることができる。その中でも、特に銅フタロシアニン(以下、「CuPc」と略記する)を用いた場合は、スパッタの衝撃にも安定でありバッファー層にも最適である。 Thus, as the buffer layer (72), a porphyrin compound usually used as a hole injection layer can be used. Among these, in particular, when copper phthalocyanine (hereinafter abbreviated as “CuPc”) is used, it is stable against the impact of sputtering and is optimal for the buffer layer.
請求項5に記載の発明では、請求項1〜請求項4に記載の有機EL素子において、第1の電子注入層(71)および第2の電子注入層(73)の少なくとも一方は、酸化リチウム層であることを特徴としている。 According to a fifth aspect of the present invention, in the organic EL device according to the first to fourth aspects, at least one of the first electron injection layer (71) and the second electron injection layer (73) is lithium oxide. It is characterized by being a layer.
このように、第1の電子注入層(71)および第2の電子注入層(73)のいずれか一方もしくは両方としては、通常の有機EL素子で使用される安価な酸化リチウム層を用いることができる。 As described above, as one or both of the first electron injection layer (71) and the second electron injection layer (73), an inexpensive lithium oxide layer used in a normal organic EL element is used. it can.
また、請求項1に記載の発明では、正孔輸送層(40)、発光層(50)および電子輸送層(60)の3層のガラス転移温度が、120℃以上であることを特徴としている。それによれば、高温での耐久性向上のためには好ましい。 The invention according to claim 1 is characterized in that the glass transition temperature of the three layers of the hole transport layer (40), the light emitting layer (50) and the electron transport layer (60) is 120 ° C. or higher. . Accordingly, it is preferable for improving durability at high temperatures.
ところで、請求項10に記載の発明のように、陽極(20)と正孔輸送層(40)との間に正孔注入層(30)を設ける場合、CuPcからなるものが好ましい。このCuPcは分子内の分極が大きいため、陽極(20)との密着性が高いためである。
By the way, when providing a positive hole injection layer (30) between an anode (20) and a positive hole transport layer (40) like invention of
高温下での安定性を向上させるには、陽極(20)との界面の密着性を向上させることは重要である。そこで、陽極(20)と接する正孔注入層(30)としては、形態変化の小さいポルフィリン系化合物層を設けることが好ましい。 In order to improve the stability at high temperatures, it is important to improve the adhesion at the interface with the anode (20). Therefore, it is preferable to provide a porphyrin-based compound layer having a small shape change as the hole injection layer (30) in contact with the anode (20).
本発明者は、陽極(20)と接する正孔注入層(30)としてポルフィリン系化合物であるCuPcを採用した場合について、そのCuPc膜の結晶状態の変化に着目した。 The present inventor paid attention to the change in the crystalline state of the CuPc film when CuPc, which is a porphyrin-based compound, is employed as the hole injection layer (30) in contact with the anode (20).
その結果、高温環境下の放置前後で、このCuPc膜の結晶状態が大きく異なることを見出した。このCuPc膜の結晶状態の変化について、具体的に調べた結果を示す。 As a result, the present inventors have found that the crystalline state of this CuPc film is greatly different before and after being left in a high temperature environment. The results of a specific investigation on the change in the crystalline state of this CuPc film are shown.
この結晶状態における変化の確認は効率良く行うため、放置環境温度を120℃と高くして加速し、放置時間は2時間で評価することとした。以下、この条件における放置を加速高温放置という。 In order to check the change in the crystalline state efficiently, the standing environment temperature was increased to 120 ° C. to accelerate, and the standing time was evaluated as 2 hours. Hereinafter, the leaving under this condition is referred to as accelerated high temperature leaving.
ガラス基板上に、ITO(インジウム−スズの酸化物)からなる陽極を形成し、アルゴンと酸素混合のプラズマによる表面処理を陽極表面に施した後、陽極上にCuPcを成膜した。この場合におけるCuPc膜の結晶の状態を、上記加速高温放置の前と後でX線回折によって分析した結果を図2に示す。 An anode made of ITO (indium-tin oxide) was formed on a glass substrate, surface treatment was performed on the anode surface with a plasma of a mixture of argon and oxygen, and CuPc was formed on the anode. FIG. 2 shows the result of analyzing the crystal state of the CuPc film in this case by X-ray diffraction before and after the accelerated high temperature exposure.
図2に示すように、回折ピークにおいて、2θ=6.68°に発生しているピークがCuPcの結晶構造に由来している。図2では、このピークにおいて実線で図示するものが加速高温放置の前のピークすなわち初期のピークであり、破線で図示するものが加速高温放置の後のピークすなわち120℃、2時間放置後のピークである。 As shown in FIG. 2, the diffraction peak at 2θ = 6.68 ° is derived from the crystal structure of CuPc. In FIG. 2, the peak indicated by the solid line in this peak is the peak before the accelerated high temperature exposure, that is, the initial peak, and the peak indicated by the broken line is the peak after the accelerated high temperature exposure, that is, the peak after standing at 120 ° C. for 2 hours It is.
そして、このピーク値の積分値が大きい、すなわちピーク値が高いほど、CuPc膜の結晶性が高いことを示している。図2では、120℃、2時間の加速高温放置によって、当該ピーク値(積分値)が加速高温放置前の1.5倍に変化している。 The larger the integrated value of the peak value, that is, the higher the peak value, the higher the crystallinity of the CuPc film. In FIG. 2, the peak value (integrated value) changes to 1.5 times that at 120 ° C. for 2 hours after accelerating high temperature exposure before the acceleration high temperature exposure.
このことから、本発明者らは、結晶性正孔注入層であるCuPc膜上に正孔輸送層、発光層、電子輸送層、陰極等が成膜された後、つまり、発光素子形態になってから、CuPc膜がこのような結晶状態の変化を起こすことが、CuPc膜の密着性の低下を引き起こす原因であると考えた。 From this, the present inventors have formed a light emitting device after a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, a cathode, etc. are formed on a CuPc film which is a crystalline hole injection layer. Later, it was considered that such a change in the crystal state of the CuPc film was a cause of a decrease in adhesion of the CuPc film.
つまり、CuPc膜の結晶性ができるだけ高くなるように成膜すれば、CuPc膜の密着性、特に、陽極との界面の密着性を向上させることができると考えた。 That is, it was considered that the adhesion of the CuPc film, particularly the interface with the anode, can be improved by forming the film so that the crystallinity of the CuPc film is as high as possible.
そして、鋭意検討の結果、請求項10に記載の発明のように、陽極(20)と正孔輸送層(40)との間に、CuPcからなる正孔注入層(30)を設けた場合、CuPcのX線回折法により現れる回折ピークの値において、有機EL素子の使用温度内の加熱による回折ピークの変化量が、前記加熱前の回折ピークの±25%以内となっているものであれば、よいことがわかった。
And as a result of intensive studies, as in the invention according to
このように、正孔注入層(30)としてのCuPc膜の高温環境下における結晶状態の変化を小さくすれば、CuPc膜の密着性を向上できる。その結果、高温での耐久性向上に有利となる。また、温度変化により生じるCuPc膜の凹凸を極力低減し、ショートやリークの発生を抑制できる。 Thus, if the change of the crystal state of the CuPc film as the hole injection layer (30) in a high temperature environment is reduced, the adhesion of the CuPc film can be improved. As a result, it is advantageous for improving durability at high temperatures. Further, the unevenness of the CuPc film caused by the temperature change can be reduced as much as possible, and the occurrence of short circuit and leakage can be suppressed.
なお、上記各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示す一例である。 In addition, the code | symbol in the bracket | parenthesis of each said means is an example which shows a corresponding relationship with the specific means as described in embodiment mentioned later.
本実施形態における有機EL素子は、陽極、正孔輸送層、発光層、電子輸送層および陰極を備えるものであり、必要に応じて、陽極と正孔輸送層との間に正孔注入層を設けてもよい。 The organic EL element in the present embodiment includes an anode, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and a cathode, and a hole injection layer is provided between the anode and the hole transport layer as necessary. It may be provided.
図1は本発明の実施形態に係る有機EL素子S1の概略断面構成を示す図である。本例の有機EL素子S1は、陽極20と正孔輸送層40との間に正孔注入層30を設けたものである。
FIG. 1 is a diagram showing a schematic cross-sectional configuration of an organic EL element S1 according to an embodiment of the present invention. The organic EL element S <b> 1 of this example has a
図1中、基板10は、通常、ソーダガラス、バリウムシリケートガラス、アルミノシリケートガラスなどのガラスか、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピレン、ポリエチレンなどのプラスチック、石英、陶器などのセラミックをはじめとする汎用の基板材料を板状、シート状またはフィルム状に形成して用いられ、必要に応じて、これらは適宜積層して用いられる。
In FIG. 1, the
望ましい基板材料は透明なガラスおよびプラスチックであり、シリコンなどの不透明なセラミックは、透明な電極と組合せて用いられる。発光の色度を調節する。必要があるときには、基板10の適所に、たとえば、フィルター膜、色度変換膜、誘電体反射膜などの色度調節手段を設ける。
Desirable substrate materials are transparent glass and plastic, and opaque ceramics such as silicon are used in combination with transparent electrodes. Adjust the chromaticity of the light emission. When necessary, chromaticity adjusting means such as a filter film, a chromaticity conversion film, and a dielectric reflection film is provided at an appropriate position on the
陽極20は、電気的に低抵抗率であって、しかも、全可視領域にわたって光透過率の大きい金属若しくは電導性化合物の1または複数を、たとえば、真空蒸着、スパッタリング、化学蒸着(CVD)、原子層エピタクシー(ALE)、塗布、浸漬などの方法により、基板10の一側に密着させてなる。
The
ここで、陽極20は、この陽極20における抵抗率が1kΩ/□以下、望ましくは、5〜50Ω/□になるように、厚さ10〜1000nm、望ましくは、50〜500nmの単層または多層に成膜することによって形成される。
Here, the
陽極20における電導性材料としては、たとえば、金、白金、銀、銅、コバルト、ニッケル、パラジウム、バナジウム、タングステン、アルミニウムなどの金属、酸化亜鉛、酸化錫、酸化インジウム、酸化錫と酸化インジウムとの混合系(つまりインジウム−錫オキシド、これを以下、「ITO」と略記する)などの金属酸化物、さらには、アニリン、チオフェン、ピロールなどを反復単位とする電導性オリゴマーおよび電導性ポリマーが挙げられる。
Examples of the conductive material for the
このうち、ITOは、低抵抗率のものが容易に得られるうえに、酸などを用いてエッチングすることにより、微細パターンを容易に形成できる特徴がある。 Among these, ITO is characterized in that a low resistivity can be easily obtained and a fine pattern can be easily formed by etching using an acid or the like.
正孔注入層30は、通常、陽極20におけると同様の方法により、陽極20に密着させて、正孔注入性物質を厚さ1〜100nmに成膜することによって形成される。
The
正孔注入性物質としては、陽極20からの正孔注入と輸送を容易ならしめるべく、イオン化電位が小さく、かつ、たとえば、104〜106V/cmの電界下において、少なくとも、10-6cm2/V・秒の正孔移動度を発揮するものが望ましい。
As the hole injecting material, so makes it easier to transport and hole injection from the
個々の正孔注入性物質としては、有機EL素子において汎用される、たとえば、ポルフィリン誘導体、フタロシアニン誘導体、特に銅フタロシアニンが最も好ましい。 As individual hole injecting substances, for example, porphyrin derivatives, phthalocyanine derivatives, particularly copper phthalocyanine, which are widely used in organic EL devices, are most preferable.
正孔輸送層40は、通常、陽極20におけると同様の方法により、正孔注入層30に密着させて、正孔輸送性物質を、たとえば厚さ1〜100nmに成膜することによって形成される。
The
個々の正孔輸送性物質としては、有機EL素子において汎用される、たとえば、アリールアミン誘導体、イミダゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、トリアゾール誘導体、カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、スチルベン誘導体、テトラアリールエテン誘導体、トリアリールアミン誘導体、トリアリールエテン誘導体、トリアリールメタン誘導体、フタロシアニン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、N−ビニルカルバゾール誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニルアントラセン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリフェニレンビニレン誘導体などが挙げられ、必要に応じて、これらは適宜組合せて用いられる。 Examples of the individual hole-transporting substances that are widely used in organic EL devices include, for example, arylamine derivatives, imidazole derivatives, oxadiazole derivatives, oxazole derivatives, triazole derivatives, chalcone derivatives, styrylanthracene derivatives, stilbene derivatives, tetraaryls. Ethene derivatives, triarylamine derivatives, triarylethene derivatives, triarylmethane derivatives, phthalocyanine derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, N-vinylcarbazole derivatives, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, phenylanthracene derivatives, phenylenediamine derivatives, polyarylalkanes Derivatives, polysilane derivatives, polyphenylene vinylene derivatives and the like can be mentioned, and these are used in combination as appropriate.
また、分子内の分極が大きく、陽極20すなわちITO等との密着性が高い化合物は、正孔注入性物質あるいは、正孔注入/輸送層性物質としても用いることができる。
A compound having a large intramolecular polarization and high adhesion to the
発光層50は、通常正孔輸送層40に密着させて、ホスト化合物を蒸着させるかまたはホスト化合物とドーパントを共蒸着させることにより得られる。また、必要に応じて、発光層は単層または多層に分離してそれぞれ厚さ10〜100nmに成膜することによって形成される。
The
この発光層50の領域では、電子−正孔の再結合が起こり、その結果として発光が観測される。
In the region of the
発光層の好ましい態様は、1種以上の蛍光色素成分がドープされたホスト材料からなる複合構成材料を含んでなる。この方法を用いると、非常に効率のよい有機EL素子を構成することができる。異なる発光波長を発生する発光層を積層することで、発光色の調整をすることができる。 A preferred embodiment of the light emitting layer comprises a composite material composed of a host material doped with one or more fluorescent dye components. When this method is used, a highly efficient organic EL element can be configured. The emission color can be adjusted by laminating light emitting layers that generate different emission wavelengths.
発光層50におけるドーパントとしては、有機EL素子において汎用される蛍光色素材料を用いることができる。そのような蛍光色素材料としては、たとえば、青色系の発光を行うペリレン、黄色系の発光を行うルブレン、緑色系の発光を行うクマリン等が挙げられる。
As a dopant in the
また、発光層50におけるホスト材料としては、正孔輸送性と電子輸送性の両方の特性を持ったものが好ましい。このようなホスト材料はたとえば、トリス(8−キノリノラート)アルミニウム(以下、「Alq3」という)のような1つの化合物から形成してもよいし、または正孔輸送性物質と電子輸送性物質を混合しても良い。
Moreover, as a host material in the
混合する場合、ホスト材料中の正孔輸送性物質としては、上記正孔輸送層40に用いられる正孔輸送性物質から選択された物質を用いることができる。また、ホスト材料中の電子輸送性物質としては、後述の電子輸送層60に用いられる電子輸送性物質から選択された物質を用いることができる。
In the case of mixing, a substance selected from the hole transporting substances used for the
また、発光層50におけるドーパントは、ホスト材料全体に対して、0.05〜50重量%、望ましくは、0.1〜30重量%の割合とすることができる。
Moreover, the dopant in the
次に、図1において、発光層50の上に位置する電子輸送層60は、通常、発光層50に密着させて、電子親和力の大きい有機化合物を1つまたは複数を厚さ10〜100nmに成膜することによって形成される。
Next, in FIG. 1, the
複数の電子輸送性物質を用いる場合には、その複数の電子輸送性物質を均一に混合して単層に形成しても、混合することなく、電子輸送性物質ごとに隣接する複数の層に形成してもよい。 In the case of using a plurality of electron transporting substances, even if the plurality of electron transporting substances are uniformly mixed to form a single layer, they are not mixed but are mixed in a plurality of adjacent layers for each electron transporting substance. It may be formed.
好ましい電子輸送性物質はキノリノール金属錯体、ベンゾキノン、アントラキノン、フルオレノンなどの環状ケトンまたはその誘導体、シラザン誘導体であり、この中でもキノリノール金属錯体が最も好ましい。 Preferred electron transporting substances are quinolinol metal complexes, cyclic ketones such as benzoquinone, anthraquinone, and fluorenone, derivatives thereof, and silazane derivatives. Among these, quinolinol metal complexes are most preferred.
ここでいうキノリノール金属錯体とは、分子内にピリジン残基とヒドロキシ基とを有する、たとえば、8−キノリノール類、ベンゾキノリン−10−オール類などの配位子としてのキノリノール類と、そのピリジン残基における窒素原子から電子対の供与を受けて配位子と配位結合を形成する、中心原子としての、たとえば、リチウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、亜鉛、アルミニウム、ガリウム、インジウムなどの周期律表における第1族、第2族、第12族または第13族に属する金属若しくはその酸化物からなる錯体一般を意味する。 The quinolinol metal complex here has a pyridine residue and a hydroxy group in the molecule, for example, quinolinols as ligands such as 8-quinolinols and benzoquinolin-10-ols, and the pyridine residue. Periodic table of lithium, beryllium, magnesium, calcium, zinc, aluminum, gallium, indium, etc. as a central atom that forms a coordination bond with a ligand by receiving an electron pair from a nitrogen atom in the group In general, it means a complex made of a metal belonging to Group 1, Group 2, Group 12 or Group 13 or an oxide thereof.
配位子が8−キノリノール類またはベンゾキノリン−10−オールのいずれかである場合、それらは置換基を1または複数有していてもよく、ヒドロキシ基が結合する8位または10位の炭素以外の炭素へ、たとえば、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基などのハロゲン基、メチル基、トリフルオロメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基などの脂肪族炭化水素基、メトキシ基、トリフルオロメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基などのエーテル基、アセトキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、メトキシカルボニル基、トリフルオロメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基などのエステル基、さらには、シアノ基、ニトロ基、スルホ基などの置換基が1つまたは複数結合することを妨げない。キノリノール金属錯体が分子内に2以上の配位子を有する場合、それらの配位子は互いに同じものであっても異なるものであってもよい。 When the ligand is either 8-quinolinols or benzoquinolin-10-ol, they may have one or more substituents, other than the 8th or 10th carbon to which the hydroxy group is attached. For example, halogen groups such as fluoro group, chloro group, bromo group, iodo group, methyl group, trifluoromethyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, aliphatic hydrocarbon group such as tert-pentyl group, methoxy group, trifluoromethoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, butoxy group, isobutoxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group, pentyloxy group, isopentyloxy group, Ether groups such as noxy group and benzyloxy group, acetoxy group, trifluoroacetoxy group, benzoyloxy group, methoxycarbonyl group, trifluoromethoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, propoxycarbonyl group and other ester groups, and cyano group It does not prevent one or more substituents such as nitro group and sulfo group from being bonded. When the quinolinol metal complex has two or more ligands in the molecule, these ligands may be the same as or different from each other.
具体的なキノリノール金属錯体としては、たとえば、上記Alq3、トリス(3,4−ジメチル−8−キノリノラート)アルミニウム、トリス(4−メチル−8−キノリノラート)アルミニウム、トリス(4−メトキシ−8−キノリノラート)アルミニウム、トリス(4,5−ジメチル−8−キノリノラート)アルミニウム、トリス(4,6−ジメチル−8−キノリノラート)アルミニウム、トリス(5−クロロ−8−キノリノラート)アルミニウム、トリス(5−ブロモ−8−キノリノラート)アルミニウム、トリス(5,7−ジクロロ−8−キノリノラート)アルミニウム、トリス(5−シアノ−8−キノリノラート)アルミニウム、トリス(5−スルホニル−8−キノリノラート)アルミニウム、トリス(5−プロピル−8−キノリノラート)アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラート)アルミニウムオキシドなどのアルミニウム錯体が挙げられる。 Specific examples of the quinolinol metal complex include Alq3, tris (3,4-dimethyl-8-quinolinolato) aluminum, tris (4-methyl-8-quinolinolato) aluminum, and tris (4-methoxy-8-quinolinolato). Aluminum, Tris (4,5-dimethyl-8-quinolinolato) aluminum, Tris (4,6-dimethyl-8-quinolinolato) aluminum, Tris (5-chloro-8-quinolinolato) aluminum, Tris (5-bromo-8- Quinolinolato) aluminum, tris (5,7-dichloro-8-quinolinolato) aluminum, tris (5-cyano-8-quinolinolato) aluminum, tris (5-sulfonyl-8-quinolinolato) aluminum, tris (5-propyl-8- Quinolino Over G) aluminum, aluminum complexes such as bis (2-methyl-8-quinolinolato) aluminum oxide.
また、亜鉛錯体としては、たとえば、ビス(8−キノリノラート)亜鉛、ビス(2−メチル−8−キノリノラート)亜鉛、ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラート)亜鉛、ビス(2−メチル−5−クロロ−8−キノリノラート)亜鉛、ビス(2−メチル−5−シアノ−8−キノリノラート)亜鉛、ビス(3,4−ジメチル−8−キノリノラート)亜鉛、ビス(4,6−ジメチル−8−キノリノラート)亜鉛、ビス(5−クロロ−8−キノリノラート)亜鉛、ビス(5,7−ジクロロ−8−キノリノラート)亜鉛などが挙げられる。 Examples of the zinc complex include bis (8-quinolinolato) zinc, bis (2-methyl-8-quinolinolato) zinc, bis (2,4-dimethyl-8-quinolinolato) zinc, and bis (2-methyl-5). -Chloro-8-quinolinolato) zinc, bis (2-methyl-5-cyano-8-quinolinolato) zinc, bis (3,4-dimethyl-8-quinolinolato) zinc, bis (4,6-dimethyl-8-quinolinolato) ) Zinc, bis (5-chloro-8-quinolinolato) zinc, bis (5,7-dichloro-8-quinolinolato) zinc and the like.
さらに、ベリリウム錯体としては、たとえば、ビス(8−キノリノラート)ベリリウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラート)ベリリウム、ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラート)ベリリウム、ビス(2−メチル−5−クロロ−8−キノリノラート)ベリリウム、ビス(2−メチル−5−シアノ−8−キノリノラート)ベリリウム、ビス(3,4−ジメチル−8−キノリノラート)ベリリウム、ビス(4,6−ジメチル−8−キノリノラート)ベリリウム、ビス(5−クロロ−8−キノリノラート)ベリリウム、ビス(5,7−ジクロロ−8−キノリノラート)ベリリウム、ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリノラート)ベリリウムなどが挙げられる。 Furthermore, examples of the beryllium complex include bis (8-quinolinolato) beryllium, bis (2-methyl-8-quinolinolato) beryllium, bis (2,4-dimethyl-8-quinolinolato) beryllium, and bis (2-methyl-5). -Chloro-8-quinolinolato) beryllium, bis (2-methyl-5-cyano-8-quinolinolato) beryllium, bis (3,4-dimethyl-8-quinolinolato) beryllium, bis (4,6-dimethyl-8-quinolinolato) ) Beryllium, bis (5-chloro-8-quinolinolato) beryllium, bis (5,7-dichloro-8-quinolinolato) beryllium, bis (10-hydroxybenzo [h] quinolinolato) beryllium and the like.
上記以外のキノリノール金属錯体としては、たとえば、ビス(8−キノリノラート)マグネシウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラート)マグネシウム、ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラート)マグネシウム、ビス(2−メチル−5−クロロ−8−キノリノラート)マグネシウム、ビス(2−メチル−5−シアノ−8−キノリノラート)マグネシウム、ビス(3,4−ジメチル−8−キノリノラート)マグネシウム、ビス(4,6−ジメチル−8−キノリノラート)マグネシウム、ビス(5−クロロ−8−キノリノラート)マグネシウム、ビス(5,7−ジクロロ−8−キノリノラート)マグネシウムなどのマグネシウム錯体、トリス(8−キノリノラート)インジウムなどのインジウム錯体、トリス(5−クロロ−8−キノリノラート)ガリウムなどのガリウム錯体、ビス(5−クロロ−8−キノリノラート)カルシウムなどのカルシウム錯体などが挙げられる。なお、上記したキノリノール金属錯体は、必要に応じて、適宜組合せて用いられる。 Examples of quinolinol metal complexes other than the above include bis (8-quinolinolato) magnesium, bis (2-methyl-8-quinolinolato) magnesium, bis (2,4-dimethyl-8-quinolinolato) magnesium, and bis (2-methyl). -5-chloro-8-quinolinolato) magnesium, bis (2-methyl-5-cyano-8-quinolinolato) magnesium, bis (3,4-dimethyl-8-quinolinolato) magnesium, bis (4,6-dimethyl-8) -Quinolinolato) magnesium, bis (5-chloro-8-quinolinolato) magnesium, magnesium complexes such as bis (5,7-dichloro-8-quinolinolato) magnesium, indium complexes such as tris (8-quinolinolato) indium, tris (5 -Chloro-8-quinori Acrylate) gallium complexes such as gallium, calcium complexes such as bis (5-chloro-8-quinolinolato) calcium can be cited. In addition, the above-described quinolinol metal complex is used in appropriate combination as necessary.
また、上記した電子輸送性物質は単なる例示であって、本実施形態で用いる電子輸送性物質は決してこれらに限定されてはならない。 The above-described electron transporting materials are merely examples, and the electron transporting materials used in the present embodiment should never be limited to these.
ここで、本実施形態では、正孔輸送層40、発光層50、電子輸送層60は、高温での耐久性向上のために、ガラス転移温度が、120℃以上であることが好ましい。
Here, in this embodiment, the
また、本実施形態では、図1に示されるように、電子輸送層60の上の陰極70は、電子輸送層60側から第1の電子注入層71、バッファー層72、第2の電子注入層73および透明な導電膜層74を順次積層してなる透明な膜である。
In the present embodiment, as shown in FIG. 1, the
第1および第2の電子注入層71および73は、金属フッ化物または金属酸化物からなる。ここで、金属フッ化物層は、アルカリ金属フッ化物またはアルカリ土類金属フッ化物から選択することができる。金属酸化物層は、アルカリ金属酸化物またはアルカリ土類金属酸化物から選択することができる。 The first and second electron injection layers 71 and 73 are made of metal fluoride or metal oxide. Here, the metal fluoride layer can be selected from alkali metal fluorides or alkaline earth metal fluorides. The metal oxide layer can be selected from alkali metal oxides or alkaline earth metal oxides.
このアルカリ金属フッ化物には、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化ルビジウム、またはフッ化セシウムが含まれる。また、上記のアルカリ金属酸化物には、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化ルビジウム、または酸化セシウムが含まれる。 The alkali metal fluoride includes lithium fluoride, sodium fluoride, potassium fluoride, rubidium fluoride, or cesium fluoride. The alkali metal oxide includes lithium oxide, sodium oxide, potassium oxide, rubidium oxide, or cesium oxide.
また、上記のアルカリ土類金属フッ化物には、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化ストロンチウム、またはフッ化バリウムが含まれ、上記のアルカリ土類金属酸化物には、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、または酸化バリウムが含まれる。 The alkaline earth metal fluoride includes magnesium fluoride, calcium fluoride, strontium fluoride, or barium fluoride, and the alkaline earth metal oxide includes magnesium oxide, calcium oxide, Strontium oxide or barium oxide is included.
この金属フッ化物層または金属酸化物層からなる第1および第2の電子注入層71、73は、蒸着法により形成することができるものであり、その厚みは、たとえば0.2nm〜2.0nmの範囲である。 The first and second electron injection layers 71 and 73 made of the metal fluoride layer or the metal oxide layer can be formed by an evaporation method, and the thickness thereof is, for example, 0.2 nm to 2.0 nm. Range.
バッファー層72は、ポルフィリン化合物からなる。ポルフィリン化合物はポルフィリン自身を含んでいるものか、またはポルフィリン構造から誘導されるものを含む天然または合成のいずれかの化合物である。好ましいポルフィリン化合物は次の化学式(1)で表される。
The
また、別の好ましい形態においては、ポルフィリン化合物は、次の化学式(2)で表される。 Moreover, in another preferable form, a porphyrin compound is represented by following Chemical formula (2).
また、本実施形態では、上記ポルフィリン化合物の中でも、フタロシアニン化合物が最も好ましい。さらに中心に+2価の価数を有する金属を含む化合物が好ましい。具体的には銅フタロシアニン、亜鉛フタロシアニン、カルシウムフタロシアニンをあげることができる。 Moreover, in this embodiment, a phthalocyanine compound is the most preferable among the said porphyrin compounds. Further, a compound containing a metal having a valence of +2 at the center is preferable. Specific examples include copper phthalocyanine, zinc phthalocyanine, and calcium phthalocyanine.
また、他のバッファー層72としては、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム等を挙げることができる。
Examples of the
このバッファー層72は、蒸着法により形成することができるものであり、その厚みは、たとえば数nm〜数十nmの範囲である。
The
透明な導電膜層74としては、金属酸化物、窒化物(たとえば、窒化ガリウム)、セレン化物(たとえば、セレン化亜鉛)、および硫化物(たとえば、硫化亜鉛)からなる群より選ばれる化合物がある。
The transparent
好適な金属酸化物には、インジウム−錫オキシド(ITO)、インジウム−亜鉛オキシド(IZO)、亜鉛オキシド(ZnO)、アルミニウムドープまたはインジウムドープ酸化亜鉛、酸化スズ、マグネシウム−インジウムオキシド、ニッケルタングステンオキシド、またはカドミウム−錫オキシドを挙げることができる。 Suitable metal oxides include indium-tin oxide (ITO), indium-zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), aluminum-doped or indium-doped zinc oxide, tin oxide, magnesium-indium oxide, nickel tungsten oxide, Or cadmium-tin oxide can be mentioned.
この導電膜層74は、スパッタ法により形成することができるものであり、その厚みは、たとえば100nm〜数百nmの範囲である。
This
なお、本実施形態において、陰極70と、有機化合物を含有する電子輸送層60との間の密着性を高めるために、必要に応じて、たとえば、芳香族ジアミン化合物、キナクリドン化合物、ナフタセン化合物、有機シリコン化合物または有機燐化合物を含んでなる界面層を設けてもよい。
In addition, in this embodiment, in order to improve the adhesiveness between the
上記有機EL素子S1における各層20〜70を形成するにあたっては、有機化合物の酸化や分解、さらには、酸素や水分の吸着などを最小限に抑えるべく、高真空下、詳細には、10-5Torr以下で一貫作業するのが望ましい。
In forming the
また、発光層50において、あらかじめ、ホストとドーパントとを所定の割合で混合しておくか、あるいは、真空蒸着における両者の加熱速度を互いに独立して制御することによって、発光層50における両者の配合比を調節する。
In addition, in the
このようにして形成された有機EL素子S1は、使用環境における劣化を最小限に抑えるべく、素子の一部または全体を、たとえば、不活性ガス雰囲気下で封止ガラスや金属キャップにより封止するか、あるいは、紫外線硬化樹脂などによる保護層で覆うことが望ましい。 In the organic EL element S1 formed in this way, a part or the whole of the element is sealed with, for example, sealing glass or a metal cap in an inert gas atmosphere in order to minimize deterioration in the use environment. Alternatively, it is desirable to cover with a protective layer made of an ultraviolet curable resin or the like.
本実施形態の有機EL素子S1の使用方法について説明すると、この有機EL素子S1は、用途に応じて、比較的高電圧のパルス性電圧を間欠的に印加するか、あるいは、比較的低電圧の直流電圧(通常、3〜50V)を連続的に印加して駆動する。 The method of using the organic EL element S1 of the present embodiment will be described. The organic EL element S1 applies a relatively high voltage pulsed voltage intermittently or has a relatively low voltage depending on the application. A DC voltage (usually 3 to 50 V) is applied continuously to drive.
この有機EL素子S1は、陽極20の電位が陰極70の電位より高いときにのみ発光する。したがって、この有機EL素子S1へ印加する電圧は直流であっても交流であってもよく、印加する電圧の波形、周期も適宜のものとすればよい。
The organic EL element S1 emits light only when the potential of the
交流を印加すると、この有機EL素子S1は、原理上、印加する交流の波形および周期に応じて輝度が増減したり点滅を繰返す。図1に示す有機EL素子S1の場合、陽極20と陰極70との間に電圧を印加すると、陽極20から注入された正孔が正孔注入層30、正孔輸送層40を経て発光層50へ、また、陰極70から注入された電子が電子輸送層60を経て発光層50へそれぞれ到達する。
When alternating current is applied, in principle, the organic EL element S1 increases or decreases in luminance or blinks repeatedly according to the waveform and cycle of the applied alternating current. In the case of the organic EL element S <b> 1 shown in FIG. 1, when a voltage is applied between the
その結果、発光層50において、正孔と電子の再結合が起こり、それにより生じた励起状態のドーパントから目的とする色の発光が、陽極20および基板10を透過して放出されるとともに、透明な陰極70を透過して放出されることとなる。
As a result, recombination of holes and electrons occurs in the
ところで、本実施形態によれば、図1に示されるように、陽極20、正孔輸送層40、発光層50、電子輸送層60および陰極70を順次積層してなる有機EL素子S1において、陰極70は、電子輸送層60側から第1の電子注入層71、バッファー層72、第2の電子注入層73および透明な導電膜層74を順次積層してなる透明な膜であることを特徴する有機EL素子S1が提供される。
By the way, according to the present embodiment, as shown in FIG. 1, in the organic EL element S1 in which the
それによれば、陰極70を上記した構成とすることにより、本実施形態の有機EL素子S1をトップエミッション方式として採用した場合においても、90%以上の高い透過性を実現できる。
According to this, by setting the
また、バッファー層72を有することにより、透明な導電膜層74をスパッタなどにて成膜する際のエネルギーを吸収し、下地の有機層30〜60のダメージを緩和することができる。そのため、電極の短絡すなわち陽極20と陰極70との短絡を防止することができる。
Moreover, by having the
また、電子輸送層60とバッファー層72との間およびバッファー層72と導電膜層74との間に、それぞれ第1の電子注入層71、第2の電子注入層73を介在させているため、電流効率を従来の有機EL素子よりも大幅に向上させることができる。
In addition, since the first
第1の電子注入層71は、成膜時において電子輸送層60およびバッファー層72中に拡散することで、電子輸送層60とバッファー層72との電子エネルギー障壁を小さくする。
The first
また、第2の電子注入層73は、成膜時において、バッファー層72に拡散するとともに、導電膜層74と電気2重層を形成するために導電膜層74の仕事関数を、より第2の電子注入層73に近づけて小さくする。そのために、導電膜層74からの電子の注入効率を高めることができる。
In addition, the second
このことにより、本実施形態の有機EL素子S1によれば、電流効率を高めることができていると考えられる。 Thereby, according to the organic EL element S1 of this embodiment, it is thought that current efficiency can be improved.
したがって、本実施形態によれば、有機EL素子において、透過性が高くかつ有効な電子注入電極として働く陰極70を実現することができる。なお、この効果の具体的な例については、後述する実施例に記してある。
Therefore, according to the present embodiment, in the organic EL element, it is possible to realize the
そして、このような優れた陰極70を有する本実施形態の有機EL素子S1は、陰極70側から発光層50の光を取り出すトップエミッション方式の有機EL素子として好適に使用することができる。
The organic EL element S1 of this embodiment having such an
また、本実施形態の有機EL素子S1においては、透明な導電膜層74としては、ITO、IZOまたはZnOを採用することが好ましい。
Further, in the organic EL element S1 of the present embodiment, it is preferable to employ ITO, IZO or ZnO as the transparent
それによれば、透明な導電膜層74として、陽極としても用いることができる一般的なITO(インジウム−錫オキシド)、IZO(インジウム−亜鉛オキシド)またはZnOを(亜鉛オキシド)用いることができる。それゆえ、陽極20と同じ材料を陰極70に用いることができ、簡素化が図れる。
According to this, general ITO (indium-tin oxide), IZO (indium-zinc oxide), or ZnO (zinc oxide) that can also be used as an anode can be used as the transparent
また、本実施形態の有機EL素子S1では、バッファー層72として、ポルフィリン化合物を採用することができるが、その中でも、特にCuPcを用いた場合は、スパッタの衝撃にも安定でありバッファー層にも最適である。
Further, in the organic EL element S1 of the present embodiment, a porphyrin compound can be adopted as the
また、本実施形態の有機EL素子S1では、第1の電子注入層71および第2の電子注入層73の少なくとも一方に、安価な酸化リチウムを採用することが好ましく、それにより、安価な有機EL素子を提供することができる。
Further, in the organic EL element S1 of the present embodiment, it is preferable to employ inexpensive lithium oxide for at least one of the first
さらに、上述したように、本実施形態の有機EL素子S1においては、正孔輸送層40、発光層50および電子輸送層60の3層のガラス転移温度が、120℃以上であることが好ましい。それによれば、高温での耐久性向上のためには好ましい。
Furthermore, as described above, in the organic EL element S1 of the present embodiment, the three layers of the
このように、本実施形態の有機EL素子S1は、電流効率が高く、その結果として、輝度が大きいので、発光体や、情報を視覚的に表示する情報表示機器において多種多様の用途を有する。 As described above, the organic EL element S1 of the present embodiment has high current efficiency and, as a result, has high luminance. Therefore, the organic EL element S1 has a wide variety of uses in light emitters and information display devices that visually display information.
この有機EL素子S1を光源とする発光体は、消費電力が小さいうえに、軽量なパネル状に構成することができるので、一般照明の光源に加えて、たとえば、液晶素子、複写装置、印字装置、電子写真装置、コンピューターおよびその応用機器、工業制御機器、電子計測器、分析機器、計器一般、通信機器、医療用電子計測機器、自動車を含む車輌、船舶、航空機、宇宙船などに搭載する機器、航空機の管制機器、インテリア、看板、標識などにおける省エネルギーにして省スペースな光源として有用である。 The light emitter using the organic EL element S1 as a light source has low power consumption and can be configured in a light panel shape. Therefore, in addition to the light source for general illumination, for example, a liquid crystal element, a copying apparatus, and a printing apparatus. , Electrophotographic equipment, computers and their application equipment, industrial control equipment, electronic measuring instruments, analytical equipment, instruments in general, communication equipment, medical electronic measuring equipment, vehicles including automobiles, ships, aircraft, spacecrafts, etc. It is useful as an energy-saving and space-saving light source for aircraft control equipment, interiors, signboards, signs, etc.
また、この有機EL素子S1を、たとえば、コンピューター、テレビジョン、ビデオ、ゲーム、時計、電話、カーナビゲーション、車載用マルチメーター、オシロスコープ、レーダー、ソナーなどの情報表示機器に用いる場合には、単独で用いるか、あるいは、緑色域、青色域、および赤色域で発光する有機EL素子の組合せとしてフルカラー用のディスプレイなどに使用できる。 In addition, when this organic EL element S1 is used for information display devices such as computers, televisions, videos, games, watches, telephones, car navigation systems, in-vehicle multimeters, oscilloscopes, radars, sonars, etc. Or a combination of organic EL elements that emit light in the green, blue, and red regions can be used for a full color display.
この中でも、特に耐久性が要求される車載用途のディスプレイに使用した場合が最も本実施形態の有機EL素子S1の特徴を生かすことができる。駆動方式としては、汎用の単純マトリックス方式(パッシブ方式)やアクティブマトリックス方式を適用できる。特に、トップエミッション方式を採用してアクティブ方式に適用すれば、輝度の高い有機EL素子が得られる。 Among these, the characteristics of the organic EL element S1 of the present embodiment can be best utilized when used for a display for in-vehicle use that requires particularly durability. As a driving method, a general-purpose simple matrix method (passive method) or an active matrix method can be applied. In particular, when the top emission method is adopted and applied to the active method, an organic EL element with high luminance can be obtained.
また、本実施形態の有機EL素子S1を自動車や車輌に搭載して使用する場合、高温環境(たとえば70〜80℃程度)となることは避けられない。有機層のうちアモルファス性の有機層はガラス転移温度(Tg)以上になると結晶化して膜表面の凹凸が増大し、電流のリークが生じやすくなる。 In addition, when the organic EL element S1 of the present embodiment is used by being mounted on an automobile or a vehicle, it is inevitable that the environment becomes a high temperature environment (for example, about 70 to 80 ° C.). Among the organic layers, an amorphous organic layer is crystallized when the glass transition temperature (Tg) or higher is reached, and unevenness on the surface of the film is increased, and current leakage tends to occur.
そこで、車載用とする場合には、上述したように、有機EL素子S1における有機層全てのTgが120℃以上であることが好ましい。 Therefore, when it is used for in-vehicle use, as described above, it is preferable that Tg of all the organic layers in the organic EL element S1 is 120 ° C. or more.
また、本実施形態の有機EL素子S1を、たとえば、車載用のディスプレイ等に採用した場合においては、その使用温度は−40℃〜120℃程度のものである。 In addition, when the organic EL element S1 of the present embodiment is employed in, for example, an in-vehicle display, the use temperature is about −40 ° C. to 120 ° C.
このような使用温度において、高温環境下での安定性を向上させるには、正孔注入層30の密着性、特に、陽極20との界面の密着性を向上させる必要がある。これは、両者の線膨張係数の差が大きいためと考えられる。
In order to improve the stability under a high temperature environment at such a use temperature, it is necessary to improve the adhesion of the
そこで、陽極20と接する正孔注入層30としては、形態変化の小さいポルフィリン系化合物層を設けることが好ましい。
Therefore, as the
具体的には、ポルフィリン系化合物としてCuPcを用いた場合、CuPcのX線回折法により現れる回折ピークの値において、有機EL素子S1の使用温度内の加熱による回折ピーク変化量が、加熱前の回折ピークの±25%以内になっているものが好ましい。使用温度は、本例では−40〜120℃である。 Specifically, when CuPc is used as the porphyrin-based compound, the diffraction peak change amount due to heating within the use temperature of the organic EL element S1 is the diffraction before heating in the value of the diffraction peak that appears by the X-ray diffraction method of CuPc. Those within ± 25% of the peak are preferred. The operating temperature is −40 to 120 ° C. in this example.
ここで、CuPcの回折ピークはCuPcの結晶性を示すもので、CuPcからなる正孔注入層30すなわちCuPc膜30をX線回折法により測定したとき、基板10と平行なCuPc膜30の(200)面の回折ピークである。具体的には、上記図2に示した2θ=6.68°に発生しているピークに相当するものであり、これを、以下、CuPc結晶性ピークという。
Here, the diffraction peak of CuPc indicates the crystallinity of CuPc. When the
そして、本実施形態では、このCuPc結晶性ピーク(2θ=6.68°)の値つまりピークの積分値において、有機EL素子S1の使用温度(−40℃〜120℃)内の加熱による当該CuPc結晶性ピークの変化量が、加熱前の当該CuPc結晶性ピークの値の±25%以内とすることが好ましい。 In the present embodiment, the CuPc crystallinity peak (2θ = 6.68 °), that is, the integrated value of the peak, the CuPc by heating within the use temperature (−40 ° C. to 120 ° C.) of the organic EL element S1. It is preferable that the amount of change in the crystalline peak is within ± 25% of the value of the CuPc crystalline peak before heating.
このCuPc結晶性ピークの値の加熱前後における変化量を±25%以内に小さく抑えることにより、CuPc膜の密着性を向上させることができる。そして、高温環境下で使用しても、ショートやリークが発生しない程度にまで、有機材料の結晶状態の変化を小さくすることができる。 By suppressing the amount of change of the CuPc crystallinity peak value before and after heating to within ± 25%, the adhesion of the CuPc film can be improved. And even if it uses in a high temperature environment, the change of the crystal state of an organic material can be made small to such an extent that a short circuit and a leak do not generate | occur | produce.
ちなみに、上記図2に示したデータでは、加熱前のCuPc結晶性ピークの値に比べ、加熱後のCuPc結晶性ピークの値は1.5倍と大きく変化しており、ショートおよびリークが発生しやすくなっている。 Incidentally, in the data shown in FIG. 2 above, the value of the CuPc crystallinity peak after heating is greatly changed by 1.5 times compared to the value of the CuPc crystallinity peak before heating, and short circuit and leakage occur. It has become easier.
このような、CuPc結晶性ピークの値の加熱前後における変化量を±25%以内に小さく抑えたCuPc膜30は、たとえば、下地である陽極20の表面を150℃で紫外線オゾン処理し、続いて、520℃の材料加熱温度にてCuPcを蒸着して成膜することにより実現可能である。
Such a
そして、本実施形態において、正孔注入層30をこのようなCuPc膜30とすれば、正孔注入層30の密着性を向上させ、より高温環境に適した有機EL素子S1を提供することができる。
And in this embodiment, if the
また、上述したように、素子を形成した後、高温環境下において、正孔注入層30の結晶性が変化しがたい特性を有することが重要である。
In addition, as described above, it is important that the crystallinity of the
そのため、図1において、陽極20の直上の結晶性材料を結晶性が高い安定した膜に成膜するためには、陽極20の表面粗度が重要となる。つまり、より平坦な方が結晶性の高い安定した膜が形成できる。
Therefore, in FIG. 1, the surface roughness of the
本実施形態では、陽極20としてITOを使用した場合、具体的には、その平均表面粗さRaが2nm以下であり、10点平均表面粗さRzが20nm以下であることが望ましい。図1の実施形態において、たとえば、ガラス基板10上に形成した陽極20としてのITOの表面を研磨することによって、Raを約1nm以下、Rzを約10nmとすることができる。
In the present embodiment, when ITO is used as the
次に、本実施形態について、限定するものではないが、以下の実施例および比較例を参照して、より具体的に述べる。 Next, the present embodiment will be described more specifically with reference to the following examples and comparative examples, although not limited thereto.
ガラス基板10上に150nmの厚さのITOである陽極20をスパッタリング法により形成した。パターニング後、ITO表面を研磨し、表面を平坦にする。
An
具体的には、その平均表面粗さRaが2nm以下であり、10点平均表面粗さRzが20nm以下であることが望ましい。本例では、ITOの表面を研磨してRaを約1nm以下、Rzを約10nmとしたものを使用した。 Specifically, the average surface roughness Ra is desirably 2 nm or less, and the 10-point average surface roughness Rz is desirably 20 nm or less. In this example, the surface of ITO was polished so that Ra was about 1 nm or less and Rz was about 10 nm.
その陽極20の上に正孔注入層30として、CuPc(銅フタロシアニン)を真空蒸着法により10nm形成した。さらに正孔輸送層40としてトリフェニルアミン4量体を真空蒸着法により40nm形成した。
On the
そして、発光層50として、ホスト材料にAlq3を用い、ドープ材料としてジメチルキナクリドンを1%添加した層を真空蒸着法により40nm形成した。さらに、電子輸送層60としてAlq3を真空蒸着法により20nm形成した。
Then, as the
これら有機層を形成した後、陰極70として、電子輸送層60側からLi2O(酸化リチウム)からなる第1の電子注入層71を真空蒸着法により0.5nm、CuPcからなるバッファー層72を真空蒸着法により10nm、Li2Oからなる第2の電子注入層73を真空蒸着法により0.5nm、およびIZOからなる導電膜層74をスパッタ法により150nm形成した。このように、本例では、電子輸送層60の上に、4層71〜74よりなる陰極70を形成した。
After these organic layers are formed, a first
本例の有機EL素子では、緑色発光であり、トップエミッション方式として透過率は90%以上であった。また、その電流効率(1/16Duty駆動)は、2.5cd/Aであり、透明有機ELとしては非常に高効率であった。 The organic EL element of this example emitted green light and had a transmittance of 90% or more as a top emission method. Moreover, the current efficiency (1/16 duty drive) is 2.5 cd / A, which is very high as a transparent organic EL.
(比較例1)
陰極70として、電子輸送層60側からLi2Oからなる電子注入層を真空蒸着法により0.5nm、CuPcからなるバッファー層を真空蒸着法により10nm、およびIZOからなる導電膜層をスパッタ法により150nm形成する以外は、上記実施例1と同様に有機EL素子を作製した。
(Comparative Example 1)
As a
つまり、本例の有機EL素子は、上記図1に示される有機EL素子において、陰極70が第2の電子注入層73を持たず、第1の電子注入層71、バッファー層72、導電膜層74の3層からなるものとした。
That is, in the organic EL element of this example, in the organic EL element shown in FIG. 1, the
なお、この構成は、上記非特許文献2および非特許文献3に記載されている陰極において、電子輸送層とCuPc薄膜層との界面のところにLiなどからなる電子注入層を導入した構成に相当するものである。 This configuration corresponds to a configuration in which an electron injection layer made of Li or the like is introduced at the interface between the electron transport layer and the CuPc thin film layer in the cathode described in Non-Patent Document 2 and Non-Patent Document 3. To do.
本例の有機EL素子では、緑色発光であり、トップエミッション方式として透過率は90%以上であったが、その電流効率(1/16Duty駆動)は、0.4cd/Aであり、実施例1の透明有機ELと比べると低効率であった。 The organic EL element of this example emits green light and has a transmittance of 90% or more as a top emission method, but its current efficiency (1/16 duty drive) is 0.4 cd / A. Compared with transparent organic EL, the efficiency was low.
(比較例2)
陰極70として、電子輸送層60側からCuPcからなるバッファー層を真空蒸着法により10nm、Li2Oからなる電子注入層を真空蒸着法により0.5nm、およびIZOからなる導電膜層をスパッタ法により150nm形成する以外は、上記実施例1と同様に有機EL素子を作製した。
(Comparative Example 2)
As the
つまり、本例の有機EL素子は、上記図1に示される有機EL素子において、陰極70が第1の電子注入層71を持たず、バッファー層72、第2の電子注入層73、導電膜層74の3層からなるものとした。
That is, in the organic EL element of this example, in the organic EL element shown in FIG. 1, the
本例の有機EL素子では、緑色発光であり、トップエミッション方式として透過率は90%以上であったが、その電流効率(1/16Duty駆動)は、0.5cd/Aであり、実施例1の透明有機ELと比べると低効率であった。 The organic EL element of this example emits green light and has a transmittance of 90% or more as a top emission method, but its current efficiency (1/16 duty drive) is 0.5 cd / A. Compared with transparent organic EL, the efficiency was low.
陰極70として、電子輸送層60側からLiF(フッ化リチウム)からなる第1の電子注入層71を真空蒸着法により0.5nm、CuPcからなるバッファー層72を真空蒸着法により10nm、LiFからなる第2の電子注入層73を真空蒸着法により0.5nm、およびIZOからなる導電膜層74をスパッタ法により150nm形成した。
As the
それ以外は、上記実施例1と同様に有機EL素子を作製した。本例の有機EL素子S1は、上記実施例1と比較して、第1および第2の電子注入層71、73の材質をLi2OからLiFに変えたものである。 Other than that produced the organic EL element similarly to the said Example 1. FIG. The organic EL element S1 of this example is obtained by changing the material of the first and second electron injection layers 71 and 73 from Li 2 O to LiF as compared with the first example.
本例の有機EL素子では、緑色発光であり、トップエミッション方式として透過率は90%以上であった。また、その電流効率(1/16Duty駆動)は2.0cd/Aであり、透明有機ELとしては非常に高効率であった。 The organic EL element of this example emitted green light and had a transmittance of 90% or more as a top emission method. Moreover, the current efficiency (1/16 duty drive) was 2.0 cd / A, and it was very high efficiency as transparent organic EL.
陰極70として、電子輸送層60側からLi2Oからなる第1の電子注入層71を真空蒸着法により0.5nm、CuPcからなるバッファー層72を真空蒸着法により10nm、Li2Oからなる第2の電子注入層73を真空蒸着法により0.5nm、およびITOからなる導電膜層74をスパッタ法により150nm形成した。
As the
それ以外は、上記実施例1と同様に有機EL素子を作製した。本例の有機EL素子S1は、上記実施例1と比較して、導電膜層74の材質をIZOからITOに変えたものである。
Other than that produced the organic EL element similarly to the said Example 1. FIG. In the organic EL element S1 of this example, the material of the
本例の有機EL素子では、緑色発光であり、トップエミッション方式として透過率は90%以上であった。また、その電流効率(1/16Duty駆動)は2.3cd/Aであり、透明有機ELとしては非常に高効率であった。 The organic EL element of this example emitted green light and had a transmittance of 90% or more as a top emission method. In addition, the current efficiency (1/16 duty drive) was 2.3 cd / A, which was very high as a transparent organic EL.
陰極70として、電子輸送層60側からLi2Oからなる第1の電子注入層71を真空蒸着法により0.5nm、CuPcからなるバッファー層72を真空蒸着法により10nm、Li2Oからなる第2の電子注入層73を真空蒸着法により0.5nm、およびZnOからなる導電膜層74をスパッタ法により150nm形成した。
As the
それ以外は、上記実施例1と同様に有機EL素子を作製した。本例の有機EL素子S1は、上記実施例1と比較して、導電膜層74の材質をIZOからZnOに変えたものである。
Other than that produced the organic EL element similarly to the said Example 1. FIG. The organic EL element S1 of this example is obtained by changing the material of the
本例の有機EL素子では、緑色発光であり、トップエミッション方式として透過率は90%以上であった。また、その電流効率(1/16Duty駆動)は2.0cd/Aであり、透明有機ELとしては非常に高効率であった。 The organic EL element of this example emitted green light, and the transmittance was 90% or more as a top emission method. Moreover, the current efficiency (1/16 duty drive) was 2.0 cd / A, and it was very high efficiency as transparent organic EL.
陰極70として、電子輸送層60側からLi2Oからなる第1の電子注入層71を真空蒸着法により0.5nm、VOx(酸化バナジウム)からなるバッファー層72を真空蒸着法により10nm、Li2Oからなる第2の電子注入層73を真空蒸着法により0.5nm、およびIZOからなる導電膜層74をスパッタ法により150nm形成した。
As the
それ以外は、上記実施例1と同様に有機EL素子を作製した。本例の有機EL素子S1は、上記実施例1と比較して、バッファー層72の材質をCuPcからVOxに変えたものである。
Other than that produced the organic EL element similarly to the said Example 1. FIG. The organic EL element S1 of this example is obtained by changing the material of the
本例の有機EL素子では、緑色発光であり、トップエミッション方式として透過率は90%以上であった。また、その電流効率(1/16Duty駆動)は2.5cd/Aであり、透明有機ELとしては非常に高効率であった。 The organic EL element of this example emitted green light, and the transmittance was 90% or more as a top emission method. Moreover, the current efficiency (1/16 duty drive) was 2.5 cd / A, which was very high as a transparent organic EL.
以上述べてきたように、上記実施形態は、陽極20、正孔輸送層40、発光層50、電子輸送層60および陰極70を順次積層してなる有機EL素子において、陰極70は、電子輸送層60側から第1の電子注入層71、バッファー層72、第2の電子注入層73および透明な導電膜層74を順次積層してなる透明な膜であることを特徴する有機EL素子を提供するものである。
As described above, in the embodiment described above, in the organic EL element in which the
この特徴点について言い換えるならば、上記有機EL素子S1は、自身の上に形成される膜が成膜される際のエネルギーを吸収し下地膜へのダメージを緩和するためのバッファー層72とその上に形成される膜としての導電膜層74とを有している陰極70において、バッファー層72と電子輸送層60との間およびバッファー層72と導電膜層74との間に電子注入層71、73を介在させたものである。
In other words, the organic EL element S1 absorbs energy when a film formed on the organic EL element S1 is formed, and a
そして、このように、バッファー層の上下に2層の電子注入層を用いる透明陰極構成とすることにより、透過性を十分に確保しつつ、電柱効率に優れた電子注入電極としての陰極70を実現できているのである。
In this way, the transparent cathode structure using two electron injection layers above and below the buffer layer realizes the
そして、陽極20、正孔輸送層40、発光層50、電子輸送層60については、上記実施形態に示したもの以外にも、通常の有機EL素子に使用されるかまたは使用される可能性のある材質や構成を適宜用いてもよい。
And about the
10…基板、20…陽極、30…正孔注入層、40…正孔輸送層、
50…発光層、60…電子輸送層、70…陰極、
71…陰極における第1の電子注入層、72…陰極におけるバッファー層、
73…陰極における第2の電子注入層、74…陰極における導電膜層。
DESCRIPTION OF
50 ... Light emitting layer, 60 ... Electron transport layer, 70 ... Cathode,
71: a first electron injection layer in the cathode; 72: a buffer layer in the cathode;
73: a second electron injection layer in the cathode; 74: a conductive film layer in the cathode.
Claims (10)
前記陰極(70)は、前記電子輸送層(60)側から第1の電子注入層(71)、バッファー層(72)、第2の電子注入層(73)および透明な導電膜層(74)を順次積層してなる透明な膜であり、
前記電子輸送層(60)中および前記バッファー層(72)中には前記第1の電子注入層(71)の成分が拡散されており、
前記第2の電子注入層(73)は、アルカリ金属フッ化物、アルカリ土類金属フッ化物、アルカリ金属酸化物、またはアルカリ土類金属酸化物であり、
前記正孔輸送層(40)、前記発光層(50)および前記電子輸送層(60)のガラス転移温度が、120℃以上であることを特徴とする有機EL素子。 In an organic EL device in which an anode (20), a hole transport layer (40), a light emitting layer (50), an electron transport layer (60) and a cathode (70) are sequentially laminated,
The cathode (70) includes a first electron injection layer (71), a buffer layer (72), a second electron injection layer (73), and a transparent conductive film layer (74) from the electron transport layer (60) side. Is a transparent film formed by sequentially laminating
In the electron transport layer (60) and the buffer layer (72), the components of the first electron injection layer (71) are diffused,
The second electron injection layer (73) is an alkali metal fluoride, an alkaline earth metal fluoride, an alkali metal oxide, or an alkaline earth metal oxide,
The organic EL element, wherein the hole transport layer (40), the light emitting layer (50), and the electron transport layer (60) have a glass transition temperature of 120 ° C. or higher.
前記銅フタロシアニンのX線回折法により現れる回折ピークの値において、前記有機EL素子の使用温度内の加熱による前記回折ピークの変化量が、前記加熱前の回折ピークの±25%以内となっていることを特徴とする請求項1ないし9のいずれか1つに記載の有機EL素子。 Between the anode (20) and the hole transport layer (40), a hole injection layer (30) made of copper phthalocyanine is provided,
In the value of the diffraction peak that appears by the X-ray diffraction method of the copper phthalocyanine, the amount of change in the diffraction peak due to heating within the operating temperature of the organic EL element is within ± 25% of the diffraction peak before the heating. The organic EL device according to claim 1, wherein the organic EL device is a liquid crystal display device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008104687A JP2008219033A (en) | 2008-04-14 | 2008-04-14 | Organic el element |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003422064A Division JP2005183168A (en) | 2003-12-19 | 2003-12-19 | Organic el device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008219033A true JP2008219033A (en) | 2008-09-18 |
Family
ID=39838621
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008104687A Pending JP2008219033A (en) | 2008-04-14 | 2008-04-14 | Organic el element |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008219033A (en) |
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