JP2008216723A - Liquid crystal device and electronic equipment - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、反射型表示と透過型表示の両方を選択的に行うことができる液晶装置に関す
る。また、本発明は、その液晶装置を用いて構成される電子機器に関する。
The present invention relates to a liquid crystal device capable of selectively performing both reflective display and transmissive display. The present invention also relates to an electronic device configured using the liquid crystal device.
現在、携帯電話機、PDA(Personal Digital Assistant:携帯情報端末機)、カーナ
ビゲーションシステム等といった電子機器に液晶装置が広く用いられている。例えば、電
子機器に関する各種の情報を画像として表示するための表示部として液晶装置が用いられ
ている。この液晶装置として、反射型と透過型の表示方式を兼ね備えた半透過反射型のも
のが知られている。透過型は、液晶層を1回透過した光によって表示を行う表示形態であ
る。また、反射型は、液晶層を1回透過した後に光反射膜で反射して再度液晶層を透過し
た光によって表示を行う表示形態である。半透過反射型は、上記の透過型表示及び上記の
反射型表示の一方を選択的に行う表示形態である。この半透過反射型の液晶装置は、1つ
のサブ画素内に反射表示領域と透過表示領域とを備え、周囲の明るさに応じて反射モード
又は透過モードのいずれかの表示方式に切替えることにより、消費電力を低減しつつ周囲
が暗い場合でも明瞭な表示を行うことができるものである(例えば、特許文献1参照)。
Currently, liquid crystal devices are widely used in electronic devices such as mobile phones, PDAs (Personal Digital Assistants), car navigation systems, and the like. For example, a liquid crystal device is used as a display unit for displaying various types of information regarding electronic devices as images. As this liquid crystal device, a transflective type having both a reflective type and a transmissive type is known. The transmission type is a display form in which display is performed by light that has passed through the liquid crystal layer once. The reflection type is a display form in which display is performed by light that has been transmitted through the liquid crystal layer once, then reflected by the light reflection film, and transmitted through the liquid crystal layer again. The transflective type is a display form in which one of the transmissive display and the reflective display is selectively performed. This transflective liquid crystal device includes a reflective display area and a transmissive display area in one sub-pixel, and by switching to either the reflective mode or the transmissive mode according to the surrounding brightness, A clear display can be performed even when the surroundings are dark while reducing power consumption (see, for example, Patent Document 1).
このような半透過反射型の液晶装置では、反射表示領域と透過表示領域とで最適となる
リタデーション値が異なるため、液晶層の層厚を反射表示領域と透過表示領域との間で異
ならせている。特許文献1に開示された液晶装置では、一方の基板の反射表示領域内に液
晶層側に層厚調整膜を設けて段差を形成し、他方の基板にはオーバーコート層を設けて液
晶層側の基板表面を平坦に形成している。こうして反射表示領域内の液晶層の層厚を透過
表示領域内の液晶層の層厚より薄くしている。
In such a transflective liquid crystal device, since the optimum retardation value is different between the reflective display area and the transmissive display area, the thickness of the liquid crystal layer is made different between the reflective display area and the transmissive display area. Yes. In the liquid crystal device disclosed in
一方の基板に設けられた層厚調整膜の端辺、すなわち反射表示領域と透過表示領域との
境界部分の層厚調整膜には段差面が形成されている。この段差面に対向する他方の基板の
表面は略平坦である。そのため、段差面の近傍において、一方の基板と他方の基板とで配
向膜に対するラビング処理の状態に違いが生じ、配向膜上の配向状態に違いが生じること
がある。この配向状態の違いが原因となり、段差面近傍で配向不良が生じるおそれがある
。
A step surface is formed on the edge of the layer thickness adjusting film provided on one substrate, that is, the layer thickness adjusting film at the boundary between the reflective display region and the transmissive display region. The surface of the other substrate facing the step surface is substantially flat. Therefore, in the vicinity of the step surface, there is a difference in the state of rubbing treatment for the alignment film between the one substrate and the other substrate, and a difference may occur in the alignment state on the alignment film. Due to this difference in alignment state, there is a possibility that alignment failure may occur near the step surface.
また、液晶装置には、いわゆる縦電界型の液晶装置と横電界型の液晶装置とがある。縦
電界型の液晶装置は、TN(Twisted Nematic)型液晶装置に代表されるように、液晶層
を挟んで互いに対向する一対の基板のそれぞれに電極を設け、それらの電極に電圧を印加
することによりそれらの基板に対して垂直方向の電界、いわゆる縦電界を発生させ、液晶
層内の液晶分子の配向をその縦電界によって制御することにより、その液晶層を通過する
光を変調する。
Liquid crystal devices include so-called vertical electric field type liquid crystal devices and horizontal electric field type liquid crystal devices. As represented by a TN (Twisted Nematic) type liquid crystal device, a vertical electric field type liquid crystal device is provided with electrodes on each of a pair of substrates facing each other across a liquid crystal layer, and a voltage is applied to these electrodes. Thus, a vertical electric field, that is, a so-called vertical electric field is generated with respect to those substrates, and the alignment of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer is controlled by the vertical electric field, thereby modulating the light passing through the liquid crystal layer.
一方、横電界型の液晶装置は、液晶層を挟んで互いに対向する一対の基板の一方に共通
電極及び画素電極の2つの電極を設け、それらの電極に電圧を印加することによりそれら
の基板に対して平行方向又は斜め方向の電界、いわゆる横電界を発生させ、液晶層内の液
晶分子の配向をその横電界によって制御することにより、その液晶層を通過する光を変調
する。
On the other hand, in a horizontal electric field type liquid crystal device, a common electrode and a pixel electrode are provided on one of a pair of substrates opposed to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween, and a voltage is applied to these electrodes to the substrates. On the other hand, an electric field in a parallel direction or an oblique direction, that is, a so-called lateral electric field is generated, and the orientation of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer is controlled by the lateral electric field, thereby modulating light passing through the liquid crystal layer.
上記の横電界型及び縦電界型の液晶装置のうち、特に、横電界型の液晶装置では、一方
の基板側のラビング方向と他方の基板のラビング方向とがアンチパラレル(逆平行)とな
っているので、配向状態の違いが表示に影響を及ぼす可能性が高くなる。
Among the horizontal electric field type and vertical electric field type liquid crystal devices described above, in particular, in the horizontal electric field type liquid crystal device, the rubbing direction on one substrate side and the rubbing direction on the other substrate are antiparallel (antiparallel). Therefore, there is a high possibility that the difference in the orientation state affects the display.
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、半透過反射型である液晶装置
及びそれを用いた電子機器において、互いに対向する基板同士の配向状態を揃えることに
より、反射表示領域と透過表示領域の境界における液晶分子の配向不良を防止し、表示の
コントラストが低下するのを防止することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above-described problems, and in a liquid crystal device that is a transflective type and an electronic apparatus using the same, reflection is achieved by aligning the alignment states of substrates facing each other. An object of the present invention is to prevent alignment failure of liquid crystal molecules at the boundary between the display area and the transmissive display area, and to prevent a decrease in display contrast.
本発明に係る液晶装置は、第1基板と第2基板との間に設けられた液晶層と、前記第1
基板の前記液晶層側に設けられた光反射膜と、前記第1基板及び前記第2基板の面内に配
列された複数のサブ画素とを有し、前記サブ画素は、前記光反射膜によって反射された光
を用いて表示を行う反射表示領域と、前記光反射膜が設けられていない領域を透過する光
を用いて表示を行う透過表示領域とを有し、前記反射表示領域における前記液晶層の層厚
は前記透過表示領域における前記液晶層の層厚よりも薄く、前記反射表示領域における前
記第1基板から前記液晶層までの高さは前記透過表示領域における前記第1基板から前記
液晶層までの高さよりも低く、前記反射表示領域における前記第2基板から前記液晶層ま
での高さは前記透過表示領域における前記第2基板から前記液晶層までの高さよりも高い
ことを特徴とする。
The liquid crystal device according to the present invention includes a liquid crystal layer provided between a first substrate and a second substrate, and the first substrate.
A light reflection film provided on the liquid crystal layer side of the substrate, and a plurality of subpixels arranged in a plane of the first substrate and the second substrate, wherein the subpixels are formed by the light reflection film. A reflective display region that performs display using reflected light; and a transmissive display region that performs display using light that is transmitted through a region where the light reflecting film is not provided, and the liquid crystal in the reflective display region. The thickness of the layer is thinner than the thickness of the liquid crystal layer in the transmissive display region, and the height from the first substrate to the liquid crystal layer in the reflective display region is from the first substrate to the liquid crystal in the transmissive display region. The height from the second substrate to the liquid crystal layer in the reflective display region is lower than the height from the second substrate to the liquid crystal layer in the transmissive display region. .
この液晶装置は、いわゆる半透過反射型の液晶装置である。この半透過反射型の液晶装
置は、サブ画素内に透過表示領域と反射表示領域とを有する。反射表示領域は、光反射膜
が設けられその光反射膜によって反射した光を用いて、いわゆる反射型表示を行う。一方
、透過表示領域は、光反射膜が設けられずに一方の基板から他方の基板へと透過する光を
用いて、いわゆる透過型表示を行う。本発明の液晶装置では、反射表示領域と透過表示領
域のいずれかを用いて透過型表示と反射型表示を選択的に行うことができる。
This liquid crystal device is a so-called transflective liquid crystal device. This transflective liquid crystal device has a transmissive display area and a reflective display area in a sub-pixel. In the reflective display region, a light reflective film is provided, and so-called reflective display is performed using light reflected by the light reflective film. On the other hand, in the transmissive display region, so-called transmissive display is performed using light that is transmitted from one substrate to the other substrate without providing a light reflection film. In the liquid crystal device of the present invention, transmissive display and reflective display can be selectively performed using either the reflective display region or the transmissive display region.
また、上記の液晶装置では、反射表示領域内の液晶層厚を透過表示領域内の液晶層厚よ
りも薄くした構造、いわゆるマルチギャップ構造を有している。この液晶層厚の調整は、
例えば、第1基板又は第2基板上に液晶層厚調整膜を設けることにより行うことができる
。このように液晶層厚を異ならせることにより、液晶層のリタデーション値を、反射表示
領域と透過表示領域とで最適化している。
In addition, the liquid crystal device has a so-called multi-gap structure in which the liquid crystal layer thickness in the reflective display region is thinner than the liquid crystal layer thickness in the transmissive display region. This adjustment of the liquid crystal layer thickness
For example, it can be performed by providing a liquid crystal layer thickness adjusting film on the first substrate or the second substrate. Thus, by varying the liquid crystal layer thickness, the retardation value of the liquid crystal layer is optimized between the reflective display region and the transmissive display region.
また、上記の液晶装置において、第1基板上に設けられる複数の要素、又は第2基板上
に設けられる複数の要素としては、液晶装置を構成するために必要な要素、例えば、電極
、絶縁膜、光反射膜、配向膜等が考えられる。例えば、これらの要素を選択的に形成した
り又は選択的に除去することにより、基板から液晶層までの高さを反射表示領域と透過表
示領域とで異ならせることができる。
In the above liquid crystal device, the plurality of elements provided on the first substrate or the plurality of elements provided on the second substrate include elements necessary for configuring the liquid crystal device, such as electrodes and insulating films. A light reflection film, an alignment film, and the like are conceivable. For example, by selectively forming or selectively removing these elements, the height from the substrate to the liquid crystal layer can be made different between the reflective display region and the transmissive display region.
本発明の液晶装置では、反射表示領域における第1基板から液晶層までの高さを透過表
示領域における第1基板から液晶層までの高さよりも低くしたので、反射表示領域と透過
表示領域との境界に段差が形成される。一方、反射表示領域における第2基板から液晶層
までの高さを透過表示領域における第2基板から液晶層までの高さよりも高くしたので、
反射表示領域と透過表示領域との境界に段差が形成される。このように、第1基板上の液
晶層側の表面と第2基板上の液晶層側の表面との両方に段差を設ければ、その段差の部分
において液晶の配向を第1基板上と第2基板上とで揃えることができる。特に、反射表示
領域と透過表示領域の境界において揃えることができる。その結果、液晶の配向不良に起
因して、表示のコントラストが低下することを防止できる。
In the liquid crystal device of the present invention, the height from the first substrate to the liquid crystal layer in the reflective display region is lower than the height from the first substrate to the liquid crystal layer in the transmissive display region. A step is formed at the boundary. On the other hand, since the height from the second substrate to the liquid crystal layer in the reflective display region is higher than the height from the second substrate to the liquid crystal layer in the transmissive display region,
A step is formed at the boundary between the reflective display area and the transmissive display area. In this way, if a step is provided on both the surface on the liquid crystal layer side on the first substrate and the surface on the liquid crystal layer side on the second substrate, the alignment of the liquid crystal is changed between that on the first substrate and that on the first substrate. It can be aligned on two substrates. In particular, they can be aligned at the boundary between the reflective display area and the transmissive display area. As a result, it is possible to prevent display contrast from being lowered due to poor alignment of the liquid crystal.
次に、本発明に係る液晶装置において、前記第1基板の前記液晶層側の表面であって前
記反射表示領域と前記透過表示領域との境界に形成される第1の段差面と、前記第2基板
の前記液晶層側の表面であって前記反射表示領域と前記透過表示領域との境界に形成され
る第2の段差面は平面視で互いに重なっていることが望ましい。こうすれば、互いに対向
する第1基板上の配向状態と第2基板上の配向状態とを、第1段差面と第2段差面が重な
る部分、すなわち反射表示領域と透過表示領域の境界においてより確実に揃えることがで
きる。その結果、液晶の配向不良に起因して、表示のコントラストが低下することを防止
できる。
Next, in the liquid crystal device according to the present invention, a first step surface formed on a boundary between the reflective display region and the transmissive display region on the surface of the first substrate on the liquid crystal layer side, and the first substrate It is desirable that the second step surfaces formed on the surface of the two substrates on the liquid crystal layer side and at the boundary between the reflective display region and the transmissive display region overlap each other in plan view. In this way, the alignment state on the first substrate and the alignment state on the second substrate that are opposed to each other are more determined at the portion where the first step surface and the second step surface overlap, that is, at the boundary between the reflective display region and the transmissive display region. It can be surely aligned. As a result, it is possible to prevent display contrast from being lowered due to poor alignment of the liquid crystal.
なお、第1段差面は、第1基板と光反射膜との間に設けられた絶縁膜を部分的に薄く形
成することによって設けることができる。具体的には、絶縁膜の薄膜部分の端部に段差を
形成し、その段差部分が第1段差面を形成することができる。また、絶縁層の光反射膜側
の表面には、当該光反射膜表面に複数の凹凸を付与する凹凸が設けられており、前記絶縁
膜に形成された段差は絶縁膜の凹凸を形成した領域の端部に配置することができる。この
凹凸は、光反射膜36において反射する光を散乱させる機能を有する。この凹凸を形成し
た領域の端部に段差を配置することにすれば、絶縁膜の段差を凹凸をパターニングにより
形成する際に容易に形成できる。
The first step surface can be provided by partially forming an insulating film provided between the first substrate and the light reflecting film. Specifically, a step can be formed at the end of the thin film portion of the insulating film, and the step portion can form the first step surface. The surface of the insulating layer on the side of the light reflecting film is provided with unevenness that gives the surface of the light reflecting film a plurality of unevenness, and the step formed in the insulating film is a region where the unevenness of the insulating film is formed. It can be arranged at the end of the. The unevenness has a function of scattering light reflected by the
また、第2段差面は、例えば第2基板と前記第2配向膜との間であって反射表示領域内
に液晶層厚調整膜を形成することによって設けることができる。具体的には、液晶層厚調
整膜の端部に段差を形成し、その段差部分が第2段差面を形成することができる。これら
の絶縁膜の薄膜部分及び液晶層厚調整膜は、例えばフォトリソグラフィ処理等を用いてパ
ターニングすることによって形成できる。
Further, the second step surface can be provided, for example, by forming a liquid crystal layer thickness adjusting film in the reflective display region between the second substrate and the second alignment film. Specifically, a step can be formed at the end of the liquid crystal layer thickness adjusting film, and the step portion can form a second step surface. The thin film portion of these insulating films and the liquid crystal layer thickness adjusting film can be formed by patterning using, for example, photolithography.
絶縁膜に形成される段差及び液晶層厚調整膜の段差は、前記第1基板上及び第2基板上
から厚み方向に厚さが連続的に変化する傾斜面とすることができる。この傾斜面は、絶縁
膜又は液晶層厚調整膜をパターニングする際に、必然的に傾斜面に形成されることがある
。この場合、絶縁膜又は液晶層厚調整膜の傾斜面に従って、第1段差面及び第2段差面も
傾斜面に形成される。
The step formed in the insulating film and the step in the liquid crystal layer thickness adjusting film can be inclined surfaces whose thickness continuously changes in the thickness direction from the first substrate and the second substrate. This inclined surface is inevitably formed on the inclined surface when the insulating film or the liquid crystal layer thickness adjusting film is patterned. In this case, according to the inclined surface of the insulating film or the liquid crystal layer thickness adjusting film, the first step surface and the second step surface are also formed on the inclined surface.
次に、本発明に係る液晶装置において、前記第1基板の前記液晶層に接する表面には第
1配向膜が設けられ、該第1配向膜は前記第1段差面に対向する側から当該第1段差面に
向かう方向にラビングされ、前記第2基板の前記液晶層に接する表面には第2配向膜が設
けられ、該第2配向膜は前記第2段差面に対向する側から当該第2段差面に向かう方向に
ラビングされることが望ましい。
Next, in the liquid crystal device according to the present invention, a first alignment film is provided on a surface of the first substrate that is in contact with the liquid crystal layer, and the first alignment film is formed from the side facing the first step surface. A second alignment film is provided on a surface of the second substrate that is rubbed in a direction toward the step surface and is in contact with the liquid crystal layer of the second substrate, and the second alignment film is formed from the side facing the second step surface. It is desirable to be rubbed in the direction toward the step surface.
ラビングは、一般に、ラビング布を巻き付けた円筒状のローラを用いて行われる。具体
的には、ローラを回転させながらそのローラを配向膜面の面内の所定方向へ移動させるこ
とにより、ローラ表面に巻き付けたラビング布を配向膜の表面に擦りつけることにより行
われる。このラビングにより、液晶層に含まれる液晶分子が配向される。また、配向膜に
ラビングを施すことにより、液晶分子は、電界が印加されていない状態(すなわち、初期
配向の状態)で、配向膜の表面から所定角度傾斜した状態に配向されることがある。この
配向状態が、いわゆるプレチルト状態である。
The rubbing is generally performed using a cylindrical roller around which a rubbing cloth is wound. Specifically, it is performed by rubbing the rubbing cloth wound around the roller surface against the surface of the alignment film by moving the roller in a predetermined direction within the surface of the alignment film while rotating the roller. By this rubbing, the liquid crystal molecules contained in the liquid crystal layer are aligned. In addition, by rubbing the alignment film, the liquid crystal molecules may be aligned in a state inclined by a predetermined angle from the surface of the alignment film in a state where an electric field is not applied (that is, in an initial alignment state). This alignment state is a so-called pretilt state.
本発明に係る液晶装置によれば、第1配向膜は第1段差面に対向する側から当該第1段
差面に向かう方向にラビングされ、第2配向膜は第2段差面に対向する側から当該第2段
差面に向かう方向にラビングされるので、第1段差面と第2段差面の両方に対して強いラ
ビング強度を付与でき、配向力を強くでき、配向ムラを防止できる。その結果、第1段差
面及び第2段差面の位置、すなわち反射表示領域と透過表示領域との境界において配向不
良を防止し、高いコントラストを確保できる。ラビングが、本発明とは逆に、段差面の山
部から谷部へ向かって行われると、当該段差面に付与されるラビング強度が弱くなって表
示不良を生じるおそれがある。これに対し本発明によれば、段差面に対して強いラビング
強度を付与できるので、ラビング不良に起因する表示不良の発生を防止できる。
According to the liquid crystal device of the present invention, the first alignment film is rubbed in the direction from the side facing the first step surface toward the first step surface, and the second alignment film is from the side facing the second step surface. Since the rubbing is performed in the direction toward the second step surface, strong rubbing strength can be imparted to both the first step surface and the second step surface, the alignment force can be increased, and alignment unevenness can be prevented. As a result, alignment failure is prevented at the positions of the first step surface and the second step surface, that is, the boundary between the reflective display region and the transmissive display region, and high contrast can be secured. Contrary to the present invention, when rubbing is performed from the peak portion to the valley portion of the step surface, the rubbing strength applied to the step surface is weakened, which may cause a display defect. On the other hand, according to the present invention, since a strong rubbing strength can be imparted to the stepped surface, it is possible to prevent the occurrence of a display defect due to a rubbing defect.
次に、段差面に向かう方向にラビングを行うことにした液晶装置において、前記第1配
向膜に対するラビング方向と前記第2配向膜に対するラビング方向は逆平行(アンチパラ
レル)の関係にあることが望ましい。本発明態様では、第1段差面と第2段差面が互いに
対向している。すなわち、段差面に向かう方向が、第1基板と第2基板とで対向する方向
となっている。この構成の液晶装置に対して、第1配向膜に対するラビング方向と第2配
向膜に対するラビング方向とを逆平行の関係とすれば、第1配向膜と第2配向膜、特に第
1段差面と第2段差面とで配向状態を揃えることができる。の結果、液晶の配向不良に起
因して、表示のコントラストが低下することを防止できる。
Next, in the liquid crystal device in which rubbing is performed in a direction toward the step surface, it is desirable that the rubbing direction with respect to the first alignment film and the rubbing direction with respect to the second alignment film have an antiparallel relationship. . In the aspect of the present invention, the first step surface and the second step surface face each other. That is, the direction toward the step surface is a direction in which the first substrate and the second substrate are opposed to each other. If the rubbing direction with respect to the first alignment film and the rubbing direction with respect to the second alignment film are antiparallel to the liquid crystal device having this configuration, the first alignment film and the second alignment film, particularly the first step surface, The alignment state can be made uniform with the second step surface. As a result, it is possible to prevent display contrast from deteriorating due to poor alignment of the liquid crystal.
次に、本発明に係る液晶装置において、前記第1基板の前記液晶層の側には、第1電極
と、該第1電極との間で電界を生じさせる第2電極とが設けられ、前記第2電極は間隙を
有して平行に配列した複数の電極線状部を備えることが望ましい。また、本発明に係る液
晶装置においては、前記ラビング方向は前記第2電極の間隙の延在方向に対して5°〜2
0°傾いていることが望ましい。
Next, in the liquid crystal device according to the present invention, a first electrode and a second electrode for generating an electric field between the first electrode are provided on the liquid crystal layer side of the first substrate, The second electrode preferably includes a plurality of electrode linear portions arranged in parallel with a gap. In the liquid crystal device according to the present invention, the rubbing direction is 5 ° to 2 ° with respect to the extending direction of the gap between the second electrodes.
It is desirable to tilt by 0 °.
この構成の液晶装置は、第1電極と第2電極との間の液晶層に、基板面に対して略平行
方向に形成される電界を印加することにより液晶を駆動する、いわゆる横電界型の液晶装
置である。このような横電界型の液晶装置の動作モードとしては、例えばIPS(In-Pla
ne Switching)モードやFFS(Fringe Field Switching)モードが知られている。IP
Sモードは、第1電極と第2電極とが平面視で重ならない位置に配設された構成を有する
。一方、FFSモードは、第1電極と第2電極とが平面視で重なる位置に配設された構成
を有する。このFFSモードは、基板に平行な横電界に加えて液晶層の層厚方向にも電界
を生じさせることができる。また、第1電極と第2電極との間に電気的な保持容量を形成
することができる。これらの作用により、IPSモードに比べて、広視角、高コントラス
ト、低電圧の液晶装置を構成できる。なお、本発明態様は、液晶として正の誘電率異方性
を有する液晶を用いて構成されている。
The liquid crystal device having this configuration is a so-called lateral electric field type in which liquid crystal is driven by applying an electric field formed in a direction substantially parallel to the substrate surface to the liquid crystal layer between the first electrode and the second electrode. It is a liquid crystal device. As an operation mode of such a horizontal electric field type liquid crystal device, for example, IPS (In-Pla
ne Switching) mode and FFS (Fringe Field Switching) mode are known. IP
The S mode has a configuration in which the first electrode and the second electrode are arranged at positions where they do not overlap in plan view. On the other hand, the FFS mode has a configuration in which the first electrode and the second electrode are arranged at a position where they overlap in a plan view. This FFS mode can generate an electric field in the thickness direction of the liquid crystal layer in addition to a lateral electric field parallel to the substrate. In addition, an electrical storage capacitor can be formed between the first electrode and the second electrode. With these functions, a liquid crystal device with a wide viewing angle, high contrast, and low voltage can be configured as compared with the IPS mode. Note that the aspect of the present invention is configured using a liquid crystal having positive dielectric anisotropy as the liquid crystal.
本発明に係る液晶装置の構成は、横電界モードの液晶装置に好適に用いることができる
。こうすれば、反射表示領域と透過表示領域の境界における液晶分子の配向状態を、第1
基板と第2基板とで揃えることをより確実にできるので、表示のコントラストが低下する
ことをより確実に防止できる。
The configuration of the liquid crystal device according to the present invention can be suitably used for a lateral electric field mode liquid crystal device. In this way, the alignment state of the liquid crystal molecules at the boundary between the reflective display region and the transmissive display region is changed to the first state.
Since it is possible to reliably align the substrate and the second substrate, it is possible to more reliably prevent the display contrast from being lowered.
次に、本発明に係る液晶装置において、前記液晶層厚調整膜は位相差膜を含んで形成さ
れ、前記位相差膜のリタデーション(Δnd)は2分の1波長であることが望ましい。本
発明において、液晶層厚調整膜は反射表示領域に対応して第2基板上に設けられる。液晶
層厚調整膜は、反射表示領域と透過表示領域とで異なる最適リタデーション値を実現する
ために用いられる。
Next, in the liquid crystal device according to the present invention, it is preferable that the liquid crystal layer thickness adjusting film is formed including a retardation film, and retardation (Δnd) of the retardation film is a half wavelength. In the present invention, the liquid crystal layer thickness adjusting film is provided on the second substrate corresponding to the reflective display region. The liquid crystal layer thickness adjusting film is used to realize different optimum retardation values in the reflective display area and the transmissive display area.
次に、本発明に係る電子機器は、以上に記載した構成の液晶装置を有することを特徴と
する。本発明に係る液晶装置は、反射表示領域における第1基板から液晶層までの高さを
透過表示領域内における第1基板から液晶層までの高さよりも低くし、反射表示領域にお
ける第2基板から液晶層までの高さを透過表示領域内における第2基板から液晶層までの
高さよりも高くすることで、第1基板の液晶層側の表面と第2基板側の液晶層側の表面と
の両方に段差を設けている。これにより、その段差の部分において液晶の配向を第1基板
上と第2基板上とで揃えることができるので、液晶の配向不良に起因して、表示のコント
ラストが低下することを防止できる。従って、この液晶装置を用いて構成される電子機器
においても、表示のコントラストが低下することを防止できる。
Next, an electronic apparatus according to the present invention includes the liquid crystal device having the above-described configuration. In the liquid crystal device according to the present invention, the height from the first substrate to the liquid crystal layer in the reflective display region is set lower than the height from the first substrate to the liquid crystal layer in the transmissive display region, and from the second substrate in the reflective display region. By making the height to the liquid crystal layer higher than the height from the second substrate to the liquid crystal layer in the transmissive display region, the liquid crystal layer side surface of the first substrate and the liquid crystal layer side surface of the second substrate side Steps are provided on both. Thereby, since the alignment of the liquid crystal can be made uniform on the first substrate and the second substrate at the stepped portion, it is possible to prevent the display contrast from being lowered due to the alignment failure of the liquid crystal. Accordingly, it is possible to prevent the display contrast from being lowered even in an electronic apparatus configured using the liquid crystal device.
(液晶装置の第1実施形態)
以下、液晶装置の一例として、半透過反射型でカラー表示が可能なアクティブマトリク
ス方式の液晶装置に本発明を適用した場合を例に挙げて本発明の実施形態を説明する。ま
た、本実施形態では、チャネルエッチ型でシングルゲート構造のポリシリコンTFT素子
をスイッチング素子として用いた液晶装置に本発明を適用する。また、本実施形態におけ
る液晶装置では、動作モードとしてFFS(Fringe Field Switching)モードを採用する
ものとする。なお、本発明がこの実施形態に限定されないことはもちろんである。また、
以下の説明で用いる図面では、特徴部分を分かり易く示すために、複数の構成要素の寸法
を実際とは異なった比率で示す場合がある。
(First Embodiment of Liquid Crystal Device)
Hereinafter, as an example of a liquid crystal device, an embodiment of the present invention will be described by taking as an example a case where the present invention is applied to an active matrix liquid crystal device capable of transflective color display. In the present embodiment, the present invention is applied to a liquid crystal device using a channel-etched type single-gate polysilicon TFT element as a switching element. In the liquid crystal device according to the present embodiment, an FFS (Fringe Field Switching) mode is adopted as an operation mode. Of course, the present invention is not limited to this embodiment. Also,
In the drawings used in the following description, the dimensions of a plurality of constituent elements may be shown in proportions different from actual ones in order to easily show the characteristic portions.
図1は本発明に係る液晶装置の一実施形態を示している。図1において、液晶装置1は
、液晶パネル2と照明装置3とを有する。この液晶装置1に関しては、矢印Aが描かれた
側が観察側であり、上記の照明装置3は液晶パネル2に関して観察側と反対側に配置され
てバックライトとして機能する。照明装置3は、光源としてのLED(Light Emitting D
iode:発光ダイオード)4と、透光性の樹脂によって形成された導光体5とを有する。L
ED4から出射した光は導光体5の光入射面5aから導光体5の内部へ取り込まれ、光出
射面5bから面状の光となって液晶パネル2へ供給される。照明装置3は、LED4のよ
うな点状光源を用いたものでなく、冷陰極管のような線状光源を用いたものでも良い。
FIG. 1 shows an embodiment of a liquid crystal device according to the present invention. In FIG. 1, the
iode: a light emitting diode) 4 and a
The light emitted from the
液晶パネル2は、矢印A方向から見て長方形又は正方形で環状(すなわち枠状)のシー
ル材7によって互いに貼り合わされた基板8及び基板9を有する。基板8はスイッチング
素子が形成される素子基板である。基板9はカラーフィルタが形成されるカラーフィルタ
基板である。本実施形態では、観察側にカラーフィルタ基板9が配置され、観察側から見
て背面に素子基板8が配置される。シール材7は、例えば熱硬化性又は紫外線硬化性の樹
脂、例えばエポキシ系樹脂によって形成されており、例えばスクリーン印刷によって所望
の環状に形成されている。
The
液晶パネル2の内部であってシール材7に囲まれた領域内において、複数の互いに平行
な走査線11が行方向X(後述するサブ画素の短手方向)へ延びて設けられている。また
、走査線11(行方向X)と交差した方向で複数の互いに平行な信号線12が列方向Y(
サブ画素の長手方向)へ延びて設けられている。複数の走査線11と複数の信号線12と
によって囲まれる複数のドット状(すなわち島状)の領域が基板8の法線方向(矢印A方
向)から見て行列状(いわゆるマトリクス状)に並んでいる。そして、これらの各領域内
にサブ画素Pが設けられる。これらのサブ画素Pが行列状に並ぶことによって表示領域V
が形成されている。なお、図1ではサブ画素Pを実際のものよりも拡大して模式的に示し
ている。また、表示が観察されるのは液晶パネル2の最も外側の面であり、表示領域Vは
その平面内に形成された領域である。行方向X及び列方向Yは、それぞれ、観察者が液晶
パネル2の画像表示を見たときに横方向及び縦方向となる方向である。
A plurality of
It extends in the longitudinal direction of the sub-pixel. A plurality of dot-shaped (that is, island-shaped) regions surrounded by the plurality of
Is formed. In FIG. 1, the sub-pixel P is schematically shown in an enlarged manner than the actual one. Further, the display is observed on the outermost surface of the
サブ画素Pは明表示(白表示)及び暗表示(黒表示)のスイッチングの単位となる領域
であり、このサブ画素Pが複数集まって表示の単位となる1画素が形成される。例えば、
R(赤色)、G(緑色)、B(青色)の各1色に対応してサブ画素Pが形成され、R、G
、B3色の個々に対応する3つのサブ画素Pが集まって1画素が形成される。また、R、
G、Bの3色に他の1色(例えば、青緑)を加えた4色のサブ画素Pが集まって1画素が
形成されることもある。本実施形態では、R,G,Bの3色のサブ画素によって1画素が
形成されるものとする。
The sub-pixel P is a region serving as a switching unit for bright display (white display) and dark display (black display), and a plurality of sub-pixels P are gathered to form one pixel serving as a display unit. For example,
Sub-pixels P are formed corresponding to each of R (red), G (green), and B (blue), and R, G
, B 3 colors corresponding to each of the three sub-pixels P are gathered to form one pixel. R,
There may be a case where four sub-pixels P obtained by adding one color (for example, blue-green) to the three colors G and B gather to form one pixel. In the present embodiment, it is assumed that one pixel is formed by R, G, and B subpixels.
素子基板8はカラーフィルタ基板9の外側に張り出した張出し部を有しており、その張
出し部上に駆動用IC13がACF(Anisotropic Conductive Film:異方性導電膜)を
用いたCOG(Chip On Glass)技術によって実装されている。駆動用IC13は外部の
制御回路から制御信号を入力し、走査線11へ走査信号を供給し、信号線12へデータ信
号を供給する。駆動用IC13はCOG技術によって液晶パネル2に接続されることに限
られず、FPC(Flexible Printed Circuit:可撓性配線)基板を介して液晶パネル2へ
接続することもできる。
The
図2は、図1の素子基板8上の1画素近傍の平面構造を液晶層側の基板法線方向から見
た状態を示している。図3は、図1に示すカラーフィルタ基板9の1画素近傍の平面構造
を観察側(すなわち液晶層と反対側)の基板法線方向から見た状態を示している。つまり
、図3は図2と同じ側からカラーフィルタ基板9を見た状態を示している。図4は、図2
におけるZD−ZD線に従った1つのサブ画素Pの行方向Yに沿った断面構造を示してい
る。図5は、図2におけるZE−ZE線に従った1つのサブ画素Pの行方向Xに沿った断
面構造を示している。
FIG. 2 shows a state in which the planar structure in the vicinity of one pixel on the
2 shows a cross-sectional structure along the row direction Y of one sub-pixel P according to the Z D -Z D line in FIG. FIG. 5 shows a cross-sectional structure along the row direction X of one sub-pixel P according to the Z E -Z E line in FIG.
図1において、素子基板8とカラーフィルタ基板9との間には所定厚さの間隙、いわゆ
るセルギャップが形成されている。このセルギャップの厚さは、シール材7の中に含まれ
ているギャップ材と、素子基板8又はカラーフィルタ基板9の表面に置かれたスペーサ1
0(図2参照)とによって維持される。本実施形態において、スペーサ10はフォトリソ
グラフィ処理によって基板8又は基板9上に、例えば柱状に形成されている。なお、スペ
ーサは球状部材を基板8又は基板9上に分散して形成しても良い。このようにして形成さ
れるセルギャップが図4において符号Gで示されている。このセルギャップGの中に液晶
が注入されて液晶層14が形成されている。
In FIG. 1, a gap having a predetermined thickness, that is, a so-called cell gap is formed between the
0 (see FIG. 2). In the present embodiment, the
本実施形態では、液晶として正の誘電率異方性(Δε>0)を持つネマティック液晶(
いわゆる、ポジ液晶)を用いるものとする。符号19は液晶内に含まれる液晶分子を模式
的に示している。本実施形態では、液晶分子19の初期配向はラビングによりホモジニア
ス配向、すなわち素子基板8及びカラーフィルタ基板9に対して平行配向に設定されてい
る。なお、ここでいう平行配向とは、液晶分子が基板に対して所定のプレチルト角を持っ
ている場合を含む意味である。液晶層厚は5μmとする。
In this embodiment, a nematic liquid crystal having a positive dielectric anisotropy (Δε> 0) as a liquid crystal (
A so-called positive liquid crystal is used.
素子基板8は矢印A方向から見て長方形又は正方形の第1基板としての第1透光性基板
15を有する。この第1透光性基板15は、例えば透光性のガラス、透光性のプラスチッ
ク等によって形成されている。第1透光性基板15の外側表面には第1偏光板16が貼り
付けられている。一方、カラーフィルタ基板9は基板の法線方向から見て長方形又は正方
形の第2基板としての第2の透光性基板17を有する。この第2透光性基板17は、例え
ば透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成されている。第2透光性基板1
7の外側表面には第2偏光板18が貼り付けられている。
The
A second
第1透光性基板15の内側表面(すなわち液晶側表面)に、ゲート線20及び共通線2
1が設けられている。ゲート線20は、図2に示すように、複数本が互いに平行に行方向
Xに延びて形成されている。共通線21は、複数本がゲート線20と平行に行方向Xに延
びて形成されている。ゲート線20は、図1の走査線11として機能する。
The
1 is provided. As shown in FIG. 2, a plurality of
図4において、ゲート線20及び共通線21の上に、これらを被覆する面状の樹脂膜で
あるゲート絶縁膜23が形成され、その上にソース線24が列方向Yに延びて形成されて
いる。ソース線24は、図1の信号線12として機能する。図2において、ゲート線20
とソース線24とによって囲まれる長方形状の領域がサブ画素Pの領域である。本実施形
態ではR(赤色)、G(緑色)、B(青色)の3色によってカラー表示を行うものとして
おり、サブ画素Pは個々の色に対応した単位画素であり、行方向に並ぶそれら3つの色に
対応する3つのサブ画素Pの集まりによって表示の単位である1画素Pxが構成される。
符号(R)、(G)、(B)はそれぞれ赤色のサブ画素P(R)、緑色のサブ画素P(G
)、青色のサブ画素P(B)が列方向に一列に並べられることを示している。
In FIG. 4, a
A rectangular region surrounded by the
Reference numerals (R), (G), and (B) denote a red sub-pixel P (R) and a green sub-pixel P (G), respectively.
), Blue sub-pixels P (B) are arranged in a line in the column direction.
ゲート線20とソース線24との交差部分の近傍に、スイッチング素子として機能する
アクティブ素子であるTFT(Thin Film Transistor:薄膜トランジスタ)素子25が設
けられている。TFT素子25は、ボトムゲート構造及びシングルゲート構造のチャネル
エッチ型のポリシリコンTFTとして形成されている。このTFT素子25は、図4にお
いて、ゲート線20の一部分であるゲート電極20aと、ゲート絶縁膜23と、ポリシリ
コンを用いて形成された半導体膜26と、ソース電極27と、そしてドレイン電極28と
を有する。ソース電極27及びドレイン電極28は、スイッチング素子であるTFT素子
25の電極端子である。ソース電極27は、図2に示すように、ソース線24から分岐し
て形成されている。本実施形態のTFT素子25はボトムゲート構造であるが、これをト
ップゲート構造とすることもできる。
In the vicinity of the intersection of the
図4において、TFT素子25及びソース線24を被覆するための面状の樹脂膜である
パッシベーション膜(保護膜)29がゲート絶縁膜23の上に設けられている。パッシベ
ーション膜29の上には樹脂膜であるオーバーレイヤ30が設けられ、その上に光反射膜
36が設けられ、その上に第1電極としての共通電極22が設けられている。共通線21
の上部領域においてゲート絶縁膜23、パッシベーション膜29及びオーバーレイヤ30
を貫通するスルーホール33aが形成され、このスルーホール33aを介して共通電極2
2と共通線21とが導電接続されている。
In FIG. 4, a passivation film (protective film) 29 which is a planar resin film for covering the
The
A through
2 and the
共通電極22の上には容量絶縁膜34が設けられ、その上に第2電極としての画素電極
31が設けられている。容量絶縁膜34は、共通電極22と画素電極31との間に介在す
る絶縁膜である。画素電極31及び容量絶縁膜34の上には素子基板8の面内全域にわた
って配向膜32が設けられている。配向膜32の表面には配向処理、例えばラビングが施
される。図2では配向膜32の図示を省略している。図4において、TFT素子25のド
レイン電極28の上部領域においてパッシベーション膜29、オーバーレイヤ30及び容
量絶縁膜34を貫通するスルーホール33bが形成され、このスルーホール33bを介し
て画素電極31とドレイン電極28とが導電接続されている。
A capacitive insulating
本実施形態では、図2においてソース線24が信号線であってその信号線からTFT素
子25のソース電極27が延びており、TFT素子25のドレイン電極28が画素電極3
1に接続される構成となっている。これに代えて、信号線24につながる電極がドレイン
電極28であり、画素電極31につながる電極がソース電極29であるとすることもでき
る。
In this embodiment, the
1 is connected. Alternatively, the electrode connected to the
オーバーレイヤ30は、図4に示すように、光反射膜36が設けられる部分の膜厚を他
の部分に比べて薄く形成している。このように膜厚が薄い部分は、例えばオーバーレイヤ
30の表面をフォトリソグラフィ処理によってパターニングすることにより形成できる。
膜厚が厚い部分と膜厚が薄い部分の境界には段差面30aが形成されている。この段差面
30aは、フォトリソグラフィ処理によってパターニングする際に傾斜面となって形成さ
れる。以下、段差面30aのことを傾斜面という場合がある。
As shown in FIG. 4, the
A
また、オーバーレイヤ30の膜厚が薄い部分の表面には、複数の凹部又は凸部から成る
凹凸形状パターン37が形成されている。この凹凸形状パターン37は、例えば、オーバ
ーレイヤ30の表面をフォトリソグラフィ処理によってパターニングすることにより形成
される。このパターニングは、上記のオーバーレイヤ30の膜厚を薄くする際のパターニ
ングと同時に行うことができる。
In addition, a concavo-
光反射膜36は、例えばCr(クロム)、Al(アルミニウム)等をフォトエッチング
処理することによって形成されている。この光反射膜36は、オーバーレイヤ30に形成
された凹凸形状パターン37上に形成される。これにより、光反射膜36の表面にも凹凸
形状パターンが形成される。このように光反射膜36の表面に凹凸形状パターン37を形
成することにより、光反射膜36において反射する光を散乱させることができる。
The
共通電極22及び画素電極31は、ITO(Indium Tin Oxide:インジウム・スズ酸化
物)等といった透光性の金属酸化物をフォトエッチング処理することによって形成されて
いる。ゲート絶縁膜23、パッシベーション膜29、オーバーレイヤ30、容量絶縁膜3
4は、例えば、アクリル系樹脂、SiN(窒化シリコン)、又はSiO2(酸化シリコン
)等によって形成されている。配向膜32は、例えばポリイミドによって形成されている
。この配向膜32の液晶層側の表面には、オーバーレイヤ30の段差面30aに従って第
1段差面38aが形成されている。本実施形態において、オーバーレイヤ30の膜厚が薄
い部分は、行方向Xに延びる帯状に形成されており、複数のサブ画素Pにわたって連続し
て設けられている。なお、オーバーレイヤ30の膜厚が薄い部分は、素子基板8の光反射
膜36に対応した領域に部分的に設けることもできる。
The
4 is formed of, for example, acrylic resin, SiN (silicon nitride), SiO 2 (silicon oxide), or the like. The
本実施形態において、光反射膜36に対応する領域が反射表示領域Rであり、反射表示
領域R以外で共通電極22と画素電極31とが平面視で重なり合う領域が透過表示領域T
である。図4において基板の法線方向から入射した外部光L0は反射表示領域Rにおいて
光反射膜36で反射する。一方、図1の照明装置3から出射した図4の光L1は、透過表
示領域Tを透過する。
In the present embodiment, the region corresponding to the
It is. In FIG. 4, the external light L 0 incident from the normal direction of the substrate is reflected by the
画素電極31は、図2に示すように、サブ画素Pに対応して長方形状の平面形状に形成
されており、その内部に複数の間隙であるスリット35を有している。スリット35は画
素電極31を貫通する溝状の開口であり、当該スリット35を通して画素電極31の下層
である容量絶縁膜34を見ることができる。また、複数のスリット35は、サブ画素Pの
短手方向(行方向X)に平行に延在し、長手方向(列方向Y)に沿って互いに間隔を空け
て設けられている。これらのスリット35の間に帯状の電極線状部31aが形成されてい
る。なお、本明細書の図面に示すスリット35及び電極線状部31aは模式的に描かれて
おり、それらの実際の数は図示のものと異なることもある。
As shown in FIG. 2, the
本実施形態ではスリット35の両短辺が閉じた状態となっているが、スリット35の両
短辺の一方は開放状態とすることができる。この開放状態の場合には、複数の電極線状部
31aのそれぞれは片持ち梁の状態となり、全体的には櫛歯形状となる。また、スリット
35の両短辺を開放状態とすることもできる。以上のように本実施形態では、サブ画素P
において1つの基板である素子基板8上に一対の電極である共通電極22及び画素電極3
1の両電極が設けられており、両電極間に所定の電圧を印加することにより素子基板8の
表面に略平行な電界、いわゆる横電界が形成され、この横電界によって液晶層14内の液
晶分子19の配向が基板8と略平行な面内で制御される。
In the present embodiment, both short sides of the
The
1 is provided, and by applying a predetermined voltage between the two electrodes, an electric field substantially parallel to the surface of the
図4において第2透光性基板17の内側表面(すなわち液晶側表面)には、カラーフィ
ルタを構成する着色膜41が形成され、その周囲に遮光膜42が形成されている。個々の
着色膜41は基板17の法線方向から見て図3に示すように、サブ画素Pに対応する長方
形又は正方形のドット状(すなわち島状)に形成されている。また、着色膜41は複数個
が行方向X及び列方向Yにマトリクス状に配列されている。遮光膜42はそれらの着色膜
41を囲む格子状に形成されている。
In FIG. 4, a
着色膜41の個々はR(赤色)、G(緑色)、B(青色)の1つを通過させる光学的特
性に設定され、それらR,G,Bの着色膜41がストライプ配列で並べられている。本明
細書において符号41に添えられた(R)、(G)、(B)の符号は、それぞれ、着色膜
の色が赤色、緑色、青色であることを示している。ストライプ配列は、列方向YにR,G
,Bの同色が並び、行方向XにR,G,Bが1色ずつ順々に交互に並ぶ配列である。スト
ライプ配列に代えてその他の配列、例えばモザイク配列、デルタ配列で各色の着色膜41
を並べることもできる。なお、着色膜41の光学的特性は、R,G,Bの3色に限られず
、C(シアン)、M(マゼンタ)、Y(イエロー)の3色とすることもでき、あるいは、
その他の4色以上とすることもできる。遮光膜42は、遮光性を有した樹脂、例えばカー
ボン等を含んだ黒色の樹脂によって形成されている。なお、遮光膜42は異なる色の着色
膜41を2色又は3色重ねることによって樹脂膜として形成することもできる。また、遮
光膜42はCr(クロム)等といった金属膜によって形成することもできる。
Each of the
, B in the same color, and R, G, B in the row direction X are alternately arranged one by one in order. The
Can also be arranged. The optical characteristics of the
Other four colors or more can also be used. The
なお、R,G,Bの着色領域は、波長に応じて色相が変化する可視光領域(380〜7
80nm)のうち、赤系の色相の着色領域、緑系の色相の着色領域、青系の色相の着色領
域から成る領域である。例えば、「B」は波長のピークが415〜500nm、「G」は
波長のピークが485〜535nm、「R」は波長のピークが600nm以上、のそれぞ
れの領域にある着色領域である。もちろん、本発明は着色領域を限定するものではないの
で、必要に応じて、その他の任意の波長領域を選定できる。
The R, G, and B colored regions are visible light regions (380 to 7) whose hue changes according to the wavelength.
80 nm), a region composed of a colored region of a red hue, a colored region of a green hue, and a colored region of a blue hue. For example, “B” is a colored region having a wavelength peak of 415 to 500 nm, “G” is a colored region in a wavelength peak of 485 to 535 nm, and “R” is a colored region of 600 nm or more. Of course, since the present invention does not limit the colored region, any other wavelength region can be selected as necessary.
図4及び図5において、着色膜41及び遮光膜42の上にオーバーコート層43が形成
され、その上に液晶層厚調整膜が形成され、その上に配向膜44が形成されている。オー
バーコート層43は、着色膜41及び遮光膜42を覆って面状(ベタ状)に設けられる層
である。着色膜41は、例えば、感光性樹脂材料に顔料や染料を混合することによって形
成されている。オーバーコート層43は、例えばアクリル系樹脂によって形成されている
。このオーバーコート層43は、カラーフィルタの構成材料が液晶に混入することを防止
する保護膜及びカラーフィルタの表面を平坦化する平坦化膜として機能する。また、配向
膜44はポリイミドによって形成されてその表面にラビング、すなわち配向処理が施され
る。
4 and 5, an
本実施形態において液晶層厚調整膜45は、位相差膜として形成されている。この位相
差膜は、例えば、液晶高分子を厚さ2〜3μmで一様に形成した後にフォトリソグラフィ
法に基づいたパターニング手法によって反射表示領域Rに対応した部分が残るように形成
する。液晶層厚調整膜45の両端は段差面45aであり、この段差面45aはフォトリソ
グラフィ法に基づいたパターニング処理の際に傾斜面となって形成される。以下、段差面
45aのことを傾斜面と呼ぶことがある。段差面45aはオーバーコート層43の面から
90°以下の角度で行方向X(紙面垂直方向)に帯状に延びている。つまり、段差面45
aは、液晶層厚調整膜45の層厚が連続的に変化する傾斜面となっている。この段差面4
5aによって、カラーフィルタ基板9の液晶層側の表面、すなわち配向膜44の表面に第
2段差面38bが形成されている。
In the present embodiment, the liquid crystal layer
a is an inclined surface on which the layer thickness of the liquid crystal layer
Due to 5a, a
液晶層厚調整膜45は、図4に示すように、オーバーコート層43上であって、素子基
板8上の光反射膜36に対向した位置に設けられている。また、液晶層厚調整膜45は、
図3に示すように、行方向Xに延びる帯状に形成されており、複数のサブ画素Pにわたっ
て連続して設けられている。なお、液晶層厚調整膜45は、素子基板8の光反射膜36に
対応した領域に島状に設けることもできる。この層厚調整膜(位相差膜)45のリタデー
ション(Δnd)は2分の1波長に設定されている。図2では段差面45aと光反射膜3
6の端辺とがわずかにずれて描かれているが、実際には、段差面45aと光反射膜36の
端辺は略重なっている。
As shown in FIG. 4, the liquid crystal layer
As shown in FIG. 3, it is formed in a strip shape extending in the row direction X, and is provided continuously over a plurality of subpixels P. The liquid crystal layer
6 is depicted with a slight deviation from the end side, but in actuality, the stepped
液晶層厚調整膜は、一般に、半透過反射型液晶装置において反射表示領域と透過表示領
域とで液晶層の層厚を異ならせる構造、いわゆるマルチギャップ構造を形成するための膜
である。このマルチギャップ構造では、液晶層厚調整膜を用いて液晶層厚を調整すること
によって反射表示領域と透過表示領域とで異なる最適リタデーション値を実現するために
用いられる。
The liquid crystal layer thickness adjusting film is generally a film for forming a so-called multi-gap structure in which a liquid crystal layer has a different thickness in a reflective display region and a transmissive display region in a transflective liquid crystal device. This multi-gap structure is used to realize different optimum retardation values in the reflective display area and the transmissive display area by adjusting the liquid crystal layer thickness using the liquid crystal layer thickness adjusting film.
具体的には、図4において、液晶層厚調整膜45は反射表示領域Rに対応して設けられ
ており、透過表示領域Tに対応する領域には設けられていない。このため、反射表示領域
R内の液晶層14の層厚d0は、透過表示領域T内の液晶層14の層厚d1よりも薄くな
っている。このように液晶層14の層厚の調整をすることにより、反射表示領域R内で光
L0が液晶層14を2回通過する反射表示の場合と、透過表示領域T内で光L1が液晶層
14を1回しか通過しない透過表示の場合とで、各々を最適なリタデーション(Δnd)
にすることができる。但し、“Δn”は屈折率異方性、“d”は液晶層厚を示している。
Specifically, in FIG. 4, the liquid crystal layer
Can be. However, “Δn” indicates the refractive index anisotropy, and “d” indicates the liquid crystal layer thickness.
また、本実施形態の液晶装置では、反射表示領域Rに対応する領域に設けられた液晶層
厚調整膜45を位相差膜を用いて形成している。このとき位相差膜45のリタデーション
(Δnd)は2分の1波長に、反射領域Rの液晶層のリタデーション(Δnd)は4分の1波
長に設定されている。このことにより反射表示領域Rにおいて位相差膜46と液晶層によ
り反射表示領域Rのリタデーション(Δnd)を反射表示に最適な広帯域の4分の1波長と
することができる。
In the liquid crystal device of the present embodiment, the liquid crystal layer
(Δnd) is set to ½ wavelength, and retardation (Δnd) of the liquid crystal layer in the reflection region R is set to ¼ wavelength. Thus, in the reflective display region R, the retardation (Δnd) of the reflective display region R can be set to a quarter wavelength of a broadband that is optimal for reflective display by the retardation film 46 and the liquid crystal layer.
位相差膜45と液晶層厚調整膜45は、兼用ではなく、別々に設けることもできる。例
えば、カラーフィルタ基板9の液晶側の表面に液晶層厚調整膜45を設け、カラーフィル
タ基板9の外側表面に位相差膜45を設けることができる。カラーフィルタ基板9の外側
に設ける位相差膜45は、フォトリソグラフィ法に従ったパターニングによって形成する
のではなく、フィルム状の位相差膜を貼着することによって形成しても良い。
The
次に、配向膜32,44に施されるラビングについて説明する。ラビングは、一般に、
回転する円筒形のローラに巻き付けたラビング布(例えば、植毛布)で配向膜の表面を擦
ることにより行われる。具体的には、ラビング布を巻き付けたローラを配向膜の表面に接
触させた状態で回転させながら配向膜面に沿って一定方向に移動させることにより、所定
の方向にラビングがなされる。液晶分子は、このラビングの方向に配向する。
Next, rubbing applied to the
This is performed by rubbing the surface of the alignment film with a rubbing cloth (for example, a flocking cloth) wound around a rotating cylindrical roller. Specifically, rubbing is performed in a predetermined direction by moving a roller around which the rubbing cloth is wound in a predetermined direction along the alignment film surface while rotating the roller while being in contact with the surface of the alignment film. Liquid crystal molecules are aligned in the rubbing direction.
図8(a)は軸配置の関係を示している。符号135は、図2の画素電極31のスリッ
ト(間隙)35の延在方向(従って電極線状部31aの延在方向)を示している。符号R
1は、図2の素子基板8側のラビング方向を示している。符号R2は、図3のカラーフィ
ルタ基板9側のラビング方向を示している。符号138は図2の第1段差面38aの延在
方向を示している。なお、符号138は図3の第2段差面38bの延在方向も示している
。符号116は図4のバックライト側の第1偏光板16の透過軸の方向を示している。符
号118は図4の観察側の第2偏光板18の透過軸の方向を示している。
FIG. 8A shows the relationship of the shaft arrangement. Reference numeral 135 indicates the extending direction of the slit (gap) 35 of the
図8(a)を参照して軸配置の関係を説明すれば、図2の画素電極31のスリット35
はサブ画素Pの短手方向(図2の左右方向)に延びている(図8(a)の方向135)。
スリット35に対する素子基板8側のラビング方向R1の角度βはβ=5°に規定されて
いる(図8(a)の方向R1)。図3のカラーフィルタ基板9側のラビング方向R2は、
素子基板8側のラビング方向R1に対して逆平行(アンチパラレル)である(図8(a)
の方向R2)。図2の段差面38a及び図3の38bは行方向Xに延びており(図8(a
)の138方向参照)、図2の画素電極31のスリット35(すなわち電極線状部31a
)の延在方向と平行方向に延在している。従って、図2の素子基板側のラビング方向R1
と第1段差面38a及び図3のカラーフィルタ基板側のラビング方向R2と第2段差面3
8bとの成す角度αはα=5°を成している。
The relationship of the axial arrangement will be described with reference to FIG. 8A. The
Extends in the short direction of the sub-pixel P (the horizontal direction in FIG. 2) (direction 135 in FIG. 8A).
An angle β in the rubbing direction R1 on the
It is antiparallel to the rubbing direction R1 on the
Direction R2). The
138)), the
) In the direction parallel to the extending direction. Therefore, the rubbing direction R1 on the element substrate side in FIG.
And the
The angle α formed with 8b is α = 5 °.
図4において、素子基板8側(バックライト側)の第1偏光板16及びカラーフィルタ
基板9側(観察側)の第2偏光板18の各透過軸は互いに直角であり(図8(a)の方向
116及び方向118)、観察側の第2偏光板18の透過軸(118)は、ラビング方向
R1,R2と直角であり、バックライト側の第1偏光板16の透過軸(116)はラビン
グ方向R1,R2と平行である。
In FIG. 4, the transmission axes of the first
本実施形態の液晶装置1において透過表示が行われる場合、図1の照明装置3の導光体
5の光出射面5bから出射された面状の光が図4の透過表示領域T内へ供給される。供給
された光L1は第1偏光板16によって直線偏光とされて液晶層14へ入射する。オフ電
圧印加時、当該偏光の振動方向は液晶配向方向に平行なため(図8(a)の符号116、
R1、R2参照)、液晶層14によって位相差を与えられない。この直線偏光は第2偏光
板18によって吸収されて外部へは出射しない。これにより、低透過率の暗表示を実現で
きる。オン電圧印加時、液晶層14へ入射した偏光は液晶層14によってその位相が変調
され、第2偏光板18を透過して外部へ出射して明表示となる。本実施形態では液晶分子
がオン電圧印加時に基板平行面内で配向制御されるので、縦方向に配向制御される縦電界
制御の場合に比べて広視角の明表示が実現される。また、透過表示領域Tには位相差膜4
5が存在しないので、視角方向に余分な位相差が発生せず、広視角の暗表示を実現できる
。
When transmissive display is performed in the
The phase difference is not given by the
Since 5 does not exist, an excessive phase difference does not occur in the viewing angle direction, and dark display with a wide viewing angle can be realized.
一方、反射表示が行われる場合、外部からカラーフィルタ基板9へ光L0が供給される
。この光は、第2偏光板18によって直線偏光に変換され、液晶層14を通過して光反射
膜36で反射された後、再び第2偏光板18を通過して観察者側へ向かう。この光路は上
記の透過表示の場合と異なっており、反射表示領域と透過表示領域とでは光の位相差が異
なっている。このままでは、反射表示領域と透過表示領域とに同じ電圧を印加したときに
表示状態が均等でなくなるおそれがある。例えば、暗表示と明表示とが逆になるおそれが
ある。
On the other hand, when reflective display is performed, the light L 0 is supplied from the outside to the
このことに関し、本実施形態では、反射表示領域Rに対応して位相差膜である液晶層厚
調整膜45のリタデーション(Δnd)を2分の1波長に、反射領域Rの液晶層のリタデー
ション(Δnd)を4分の1波長に設定されている。このことにより反射表示領域Rにおい
て位相差膜45と液晶層により反射表示領域Rのリタデーション(Δnd)を反射表示に最
適な広帯域の4分の1波長とすることができる。しかも、本実施形態では、位相差膜45
が設けられているのは反射表示領域R内だけであって、透過表示領域T内には設けられて
いないので、透過表示領域Tにおいて暗表示の視角特性が低下することがない。
In this regard, in the present embodiment, the retardation (Δnd) of the liquid crystal layer
Is provided only in the reflective display region R and not in the transmissive display region T, and thus the viewing angle characteristics of dark display in the transmissive display region T are not deteriorated.
反射表示領域Rにおいて、オフ電圧印加時、第2偏光板18、位相差膜45、液晶層1
4を通過した光は円偏光になって光反射膜36に入射する。反射後に再び第2偏光板18
に入射した偏光はその第2偏光板18によって吸収されて外部へは出射しない。これによ
り、低透過率の暗表示を実現できる。オン電圧印加時、液晶層14へ入射した偏光は液晶
層14によってその位相が変調され、第2偏光板18を透過して外部へ出射して明表示と
なる。
In the reflective display region R, when the off-voltage is applied, the second
The light that has passed through 4 becomes circularly polarized light and enters the
The polarized light incident on is absorbed by the second
図6は、図4の反射表示領域Rと透過表示領域Tの境界近傍を拡大して示している。以
下の説明において、第1透光性基板15上に設けられた複数の要素、すなわち、オーバー
レイヤ30、光反射膜36、画素電極31、配向膜32等をまとめて第1基板要素8aと
する。また、第2透光性基板17上に設けられた複数の要素、すなわち、着色膜41、液
晶層厚調整膜45、配向膜44等をまとめて第2基板要素9aとする。
FIG. 6 shows an enlarged view of the vicinity of the boundary between the reflective display region R and the transmissive display region T in FIG. In the following description, a plurality of elements provided on the first
図6において、反射表示領域Rにおける第1透光性基板15から液晶層14までの高さ
(すなわち、第1透光性基板15上に設けられた第1基板要素8aの液晶層14までの高
さ)H1Rは透過表示領域T内における第1透光性基板15から液晶層14までの高さH
1Tよりも低くなっている(H1R<H1T)。従って、反射表示領域Rと透過表示領域
Tの境界に第1段差面38aが形成されることになる。この第1段差面38aは、その表
面が反射表示領域R側へ向いた傾斜面に形成されている。この第1段差面38aは、図2
に示すように、サブ画素Pの短手方向Xに平行の方向に延在している(図8(a)の13
8方向参照)。
In FIG. 6, the height from the first
It is lower than 1T (H 1R <H 1T ). Accordingly, the
As shown in FIG. 8, it extends in the direction parallel to the short direction X of the sub-pixel P (see 13 in FIG. 8A).
(See 8 directions).
一方、反射表示領域Rにおける第2透光性基板17から液晶層14までの高さ(すなわ
ち、第2透光性基板17上の第2基板要素9aの液晶層14までの高さ)H2Rは透過表
示領域Tにおける第2透光性基板17から液晶層14までの高さH2Tよりも高くなって
いる(H2R>H2T)。従って、反射表示領域Rと透過表示領域Tの境界に第2段差面
38bが形成されることになる。この第2段差面38bは、その表面が透過表示領域T側
へ向いた傾斜面に形成されている。この第2段差面38bは、図3に示すように、サブ画
素Pの短手方向Xに平行の方向に延在している(図8(a)の138方向参照)。
On the other hand, the height from the second
第1段差面38aと第2段差面38bは、どちらも反射表示領域Rと透過表示領域Tと
の境界に、サブ画素Pの短手方向Xに平行の方向に延在している。従って、第1段差面3
8aと第2段差面38bとは、平面視で互いに重なっている。本実施形態において、素子
基板8側のラビング方向R1とカラーフィルタ基板9側のラビング方向R2とは逆平行(
アンチパラレル)である。図6においては、素子基板8側のラビング方向R1は、紙面手
前側から奥側の方向であり、カラーフィルタ基板9側のラビング方向R2は、紙面奥側か
ら手前側の方向である。
Both the
8a and the
Anti-parallel). In FIG. 6, the rubbing direction R1 on the
ところで、半透過反射型であってマルチギャップ構造を有した従来の液晶装置は、一般
に、一方の基板の液晶層側表面には液晶層厚調整膜の端辺によって段差面が形成され、対
向する他方の基板の液晶層側表面は略平坦となっている。段差面にラビングを施した場合
と、平坦面にラビングを施した場合とでは配向状態が異なるため、段差面の近傍において
、一方の基板と他方の基板とで配向膜に対するラビング処理の状態に違いが生じ、配向膜
上の配向状態に違いが生じることがある。この配向状態の違いが原因となり、段差面近傍
で配向不良が生じるおそれがある。特に、横電界型の液晶装置では、一方の基板側のラビ
ング方向と他方の基板のラビング方向とが逆平行(アンチパラレル)となっているので、
配向状態の違いが表示に影響を及ぼす可能性が高くなる。
By the way, a conventional liquid crystal device of a transflective type and having a multi-gap structure generally has a stepped surface formed on the liquid crystal layer side surface of one substrate by the edge of the liquid crystal layer thickness adjusting film. The liquid crystal layer side surface of the other substrate is substantially flat. Since the alignment state differs between when the step surface is rubbed and when the flat surface is rubbed, there is a difference in the state of the rubbing treatment on the alignment film between one substrate and the other substrate in the vicinity of the step surface. May occur and a difference may occur in the alignment state on the alignment film. Due to this difference in alignment state, there is a possibility that alignment failure may occur near the step surface. In particular, in a horizontal electric field type liquid crystal device, the rubbing direction on one substrate side and the rubbing direction on the other substrate are antiparallel (anti-parallel).
There is a high possibility that the difference in the orientation state affects the display.
これに対し本実施形態では、図6に示すように、反射表示領域Rにおける第1透光性基
板15から液晶層14までの高さH1Rを透過表示領域Tにおける第1透光性基板15か
ら液晶層14までの高さH1Tよりも低くしたことにより、反射表示領域Rと透過表示領
域Tとの境界に第1段差面38aを形成した。また、反射表示領域Rにおける第2透光性
基板17から液晶層14までの高さH2Rを透過表示領域Tにおける第2透光性基板17
から液晶層14までの高さH2Tよりも高くしたことにより、反射表示領域Rと透過表示
領域Tとの境界に第2段差面38bを形成した。このように、素子基板8の液晶層側の表
面と、それに対向するカラーフィルタ基板9の液晶層側の表面との両方に段差面を設けれ
ば、液晶の配向状態を素子基板8上とカラーフィルタ基板9上とで揃えることができる。
On the other hand, in the present embodiment, as shown in FIG. 6, the height H 1R from the first
By the higher than the height H 2T to the
また、本実施形態では、第1段差面38aと第2段差面38bとが平面視で重なり、液
晶層14を挟んで互いに向き合う構成としている。そして、配向膜32のラビング方向と
配向膜44のラビング方向とが逆平行であるので、液晶層14側から見て、配向膜32と
配向膜44とはどちらも同じ状態にラビングされる。こうすれば、互いに対向する素子基
板8とカラーフィルタ基板9とで同じ条件でラビングが施されるので、基板8と基板9と
で配向状態を揃えることができる。
In the present embodiment, the
以上のように、互いに対向する素子基板8とカラーフィルタ基板9との配向状態を揃え
ることにより、液晶の配向不良に起因して、表示のコントラストが低下することを防止で
きる。
As described above, by aligning the alignment states of the
(液晶装置の第2実施形態)
図7は本発明に係る液晶装置の第2実施形態を示している。本第2実施形態に係る液晶
装置の全体的な構成は図1に示した第1実施形態の場合と同じである。また、図7におけ
るZD−ZD線に従った1つのサブ画素Pの列方向Yに沿った断面構造は、第1実施形態
において図4に示した断面構造と同じである。また、図7におけるZE−ZE線に従った
1つのサブ画素の行方向Xに沿った断面構造は、第1実施形態において図5に示した断面
構造と同じである。
(Second Embodiment of Liquid Crystal Device)
FIG. 7 shows a second embodiment of the liquid crystal device according to the present invention. The overall configuration of the liquid crystal device according to the second embodiment is the same as that of the first embodiment shown in FIG. The cross-sectional structure along the column direction Y of Z D -Z D line one sub-pixel P in accordance with in FIG. 7 is the same as the sectional structure shown in FIG. 4 in the first embodiment. Further, the cross-sectional structure along the row direction X of one sub-pixel according to the Z E -Z E line in FIG. 7 is the same as the cross-sectional structure shown in FIG. 5 in the first embodiment.
この実施形態が図2及び図3に示した第1実施形態と異なる点は、素子基板8上の画素
電極のスリットの形状とラビング方向に改変を加えたことである。本実施形態において図
2及び図3と同じ部材は同じ符号を付すことにしてその説明は省略する。
The difference between this embodiment and the first embodiment shown in FIGS. 2 and 3 is that the slit shape of the pixel electrode on the
本実施形態において、カラーフィルタ基板9の構成に関しては、ラビング方向を除いて
図3に示したものと同じである。なお、ラビング方向R2は、説明の便宜上、素子基板8
側のラビング方向R1と逆平行の方向に図7に示している。図7において、画素電極51
内に設けられた間隙としてのスリット55(すなわち電極線状部51a)はサブ画素Pの
短手方向(行方向)Xに対して傾いて直線状に延在している。
In the present embodiment, the configuration of the
FIG. 7 shows a direction parallel to the rubbing direction R1 on the side. In FIG. 7, the
The slit 55 (that is, the electrode
図8(b)は、本実施形態の液晶装置における光学軸の軸配置関係を示している。符号
155は、図7の画素電極51のスリット(間隙)55(すなわち電極線状部51a)の
延在方向を示している。符号R1は、図7の素子基板8側のラビング方向を示している。
符号R2は、図3のカラーフィルタ基板9側のラビング方向を示している。
FIG. 8B shows the axial arrangement relationship of the optical axes in the liquid crystal device of this embodiment. Reference numeral 155 indicates the extending direction of the slit (gap) 55 (that is, the electrode
Reference numeral R2 indicates the rubbing direction on the
図8(b)に示すように、図7の画素電極51のスリット55はサブ画素Pの短手方向
(図7の左右方向)に対して5°傾いて延在している(図8(b)の方向155)。スリ
ット55に対する素子基板8側のラビング方向R1の角度βはβ=5°に規定されている
(図8(b)の方向R1)。図3のカラーフィルタ基板9側のラビング方向R2は、素子
基板8側のラビング方向R1に対して逆平行(アンチパラレル)であり(図8(b)の方
向R2)、第1段差面38a及び第2段差面38bと平行の方向である(図8(b)の1
38方向参照)。段差面38a,38bはサブ画素Pの短手向Xに延びており、図7の画
素電極51のスリット55(すなわち電極線状部51a)の延在方向に対して5°傾いた
方向に延在している。従って、図7の素子基板側のラビング方向R1と第1段差面38a
及び図3のカラーフィルタ基板側のラビング方向R2と第2段差面38bとは平行(α=
0°)である。
As shown in FIG. 8B, the
38 directions). The step surfaces 38a and 38b extend in the short direction X of the sub-pixel P and extend in a direction inclined by 5 ° with respect to the extending direction of the slit 55 (that is, the electrode
3 and the rubbing direction R2 on the color filter substrate side and the
0 °).
図4において、素子基板8側(バックライト側)の第1偏光板16及びカラーフィルタ
基板9側(観察側)の第2偏光板18の各透過軸は互いに直角であり(図8(b)の方向
116及び方向118)、観察側の第2偏光板18の透過軸(118)は、ラビング方向
R1,R2と直角であり、バックライト側の第1偏光板16の透過軸(116)はラビン
グ方向R1,R2と平行である。
In FIG. 4, the transmission axes of the first
本実施形態においても、図6に示すように、反射表示領域Rにおける第1透光性基板1
5から液晶層14までの高さ(すなわち、第1透光性基板15上の第1基板要素8aの液
晶層14までの高さ)H1Rを透過表示領域Tにおける第1透光性基板15から液晶層1
4までの高さH1Tよりも低くしたことにより、反射表示領域Rと透過表示領域Tとの境
界に第1段差面38aを形成した。また、反射表示領域Rにおける第2透光性基板17か
ら液晶層14までの高さ(すなわち、第2透光性基板17上の第2基板要素9aの液晶層
14までの高さ)H2Rを透過表示領域Tにおける第2透光性基板17から液晶層14ま
での高さH2Tよりも高くしたことにより、反射表示領域Rと透過表示領域Tとの境界に
第2段差面38bを形成した。このように、素子基板8の液晶層側の表面と、それに対向
するカラーフィルタ基板9の液晶層側の表面との両方に段差面を設ければ、液晶の配向状
態を素子基板8上とカラーフィルタ基板9上とで揃えることができる。
Also in the present embodiment, as shown in FIG. 6, the first
5 to the liquid crystal layer 14 (that is, the height from the
By the lower than the height H 1T to 4, to form a first stepped
また、本実施形態では、第1段差面38aと第2段差面38bとが平面視で重なり、液
晶層14を挟んで互いに向き合う構成としている。こうすれば、互いに対向する素子基板
8とカラーフィルタ基板9とで同じ条件でラビングが施されるので、基板8と基板9とで
配向状態を揃えることができる。
In the present embodiment, the
(液晶装置の第3実施形態)
図9は本発明に係る液晶装置の第3実施形態を示している。本第3実施形態に係る液晶
装置の全体的な構成は図1に示した第1実施形態の場合と同じである。また、図9におけ
るZD−ZD線に従った1つのサブ画素Pの列方向Yに沿った断面構造は、第1実施形態
において図4に示した断面構造と同じである。また、図9におけるZE−ZE線に従った
1つのサブ画素の行方向Xに沿った断面構造は、第1実施形態において図5に示した断面
構造と同じである。また、カラーフィルタ基板9の構成に関しては、ラビング方向を除い
て図3に示したものと同じである。なお、ラビング方向R2は、説明の便宜上、素子基板
8側のラビング方向R1と逆平行の方向に図9に示している。
(Third embodiment of liquid crystal device)
FIG. 9 shows a third embodiment of the liquid crystal device according to the present invention. The overall configuration of the liquid crystal device according to the third embodiment is the same as that of the first embodiment shown in FIG. The cross-sectional structure along the column direction Y of Z D -Z D line 1 in accordance with the sub-pixel P in FIG. 9 is the same as the sectional structure shown in FIG. 4 in the first embodiment. Further, the cross-sectional structure along the row direction X of one sub-pixel according to the Z E -Z E line in FIG. 9 is the same as the cross-sectional structure shown in FIG. 5 in the first embodiment. The configuration of the
この実施形態が図2及び図3に示した第1実施形態と異なる点は、素子基板8上の画素
電極のスリットの形状とラビング方向に改変を加えたことにより、スリットの延在方向が
異なっている2つのドメインを画素電極内に設けている。以下、本実施形態の液晶装置に
ついて詳しく説明する。
This embodiment is different from the first embodiment shown in FIGS. 2 and 3 in that the slit extending direction is different by changing the slit shape and rubbing direction of the pixel electrode on the
図9において、画素電極61内の上部領域には、スリット65a(すなわち電極線状部
61a)が左下がりの方向に延在して形成されている。また、画素電極61の下部領域に
は、スリット65b(すなわち電極線状部61b)が右下がりの方向に延在して形成され
ている。
In FIG. 9, a
図12(a)は、本実施形態の液晶装置における光学軸の軸配置関係を示している。符
号165aは、図9の画素電極61の上部領域内のスリット(間隙)65a(すなわち電
極線状部61a)の延在方向を示している。また、符号165bは、図9の画素電極61
の下部領域内のスリット(間隙)65b(すなわち電極線状部61b)の延在方向を示し
ている。符号R1は、図9の素子基板8側のラビング方向を示している。符号R2は、図
3のカラーフィルタ基板9側のラビング方向を示している。
FIG. 12A shows the axial arrangement relationship of the optical axes in the liquid crystal device of the present embodiment.
The extending direction of the slit (gap) 65b (that is, the electrode
図12(a)に示すように、図9の画素電極61の上部スリット65a及び下部スリッ
ト65bはサブ画素Pの短手方向(図の左右方向)に対して5°傾いて延在している(図
12(a)の方向165a及び165b)。このように、2つのスリット65aと65b
の相互の傾き方向を異ならせることにより、液晶層に電界を印加した際のサブ画素P内に
おける液晶分子19の配向方向(すなわち、液晶分子19が面内で動く方向)を2つの異
なる方向に分けることができる。この配向方向の違いにより、サブ画素P内において2つ
のドメインにおけるそれぞれの視角特性の方位角依存性が相殺されて、視角特性を向上さ
せることができる。
As shown in FIG. 12A, the
The orientation directions of the
図12(a)において、上部スリット65aに対する素子基板8側のラビング方向R1
の角度βaはβa=5°に規定されている。一方、下部スリット65bに対する素子基板
8側のラビング方向R1の角度βbはβb=5°に規定されている(図12(a)の方向
R1)。図3のカラーフィルタ基板9側のラビング方向R2は、素子基板8側のラビング
方向R1に対して逆平行(アンチパラレル)であり(図12(a)の方向R2)、第1段
差面38a及び第2段差面38bと平行の方向である(図12(a)の138方向参照)
。段差面38a,38bはサブ画素Pの短手向Xに延びており、図9の画素電極61の上
部スリット65a及び下部スリット65bの延在方向に対して5°傾いた方向に延在して
いる。従って、図9の素子基板側のラビング方向R1と第1段差面38a及び図3のカラ
ーフィルタ基板側のラビング方向R2と第2段差面38bとは平行(α=0°)である。
In FIG. 12A, the rubbing direction R1 on the
Is defined as βa = 5 °. On the other hand, the angle βb in the rubbing direction R1 on the
. The step surfaces 38a and 38b extend in the short direction X of the sub-pixel P, and extend in a direction inclined by 5 ° with respect to the extending direction of the
図4において、素子基板8側(バックライト側)の第1偏光板16及びカラーフィルタ
基板9側(観察側)の第2偏光板18の各透過軸は互いに直角であり(図12(a)の方
向116及び方向118)、観察側の第2偏光板18の透過軸(118)は、ラビング方
向R1,R2と直角であり、バックライト側の第1偏光板16の透過軸(116)はラビ
ング方向R1,R2と平行である。
In FIG. 4, the transmission axes of the first
本実施形態においても、図6に示すように、反射表示領域Rにおける第1透光性基板1
5から液晶層14までの高さ(すなわち、第1透光性基板15上の第1基板要素8aの液
晶層14までの高さ)H1Rを透過表示領域Tにおける第1透光性基板15から液晶層1
4までの高さH1Tよりも低くしたことにより、反射表示領域Rと透過表示領域Tとの境
界に第1段差面38aを形成した。また、反射表示領域Rにおける第2透光性基板17か
ら液晶層14までの高さ(すなわち、第2透光性基板17上の第2基板要素9aの液晶層
14までの高さ)H2Rを透過表示領域Tにおける第2透光性基板17から液晶層14ま
での高さH2Tよりも高くしたことにより、反射表示領域Rと透過表示領域Tとの境界に
第2段差面38bを形成した。このように、素子基板8の液晶層側の表面と、それに対向
するカラーフィルタ基板9の液晶層側の表面との両方に段差面を設ければ、液晶の配向状
態を素子基板8上とカラーフィルタ基板9上とで揃えることができる。
Also in the present embodiment, as shown in FIG. 6, the first
5 to the liquid crystal layer 14 (that is, the height from the
By the lower than the height H 1T to 4, to form a first stepped
また、本実施形態では、第1段差面38aと第2段差面38bとが平面視で重なり、液
晶層14を挟んで互いに向き合う構成としている。こうすれば、互いに対向する素子基板
8とカラーフィルタ基板9とで同じ条件でラビングが施されるので、基板8と基板9とで
配向状態を揃えることができる。
In the present embodiment, the
(液晶装置の第4実施形態)
図10は本発明に係る液晶装置の第4実施形態を示している。本第4実施形態に係る液
晶装置の全体的な構成は図1に示した第1実施形態の場合と同じである。この実施形態が
図2及び図3に示した第1実施形態と異なる点は、素子基板8上の画素電極のスリットの
形状とラビング方向に改変を加えたことである。本実施形態において図2及び図3と同じ
部材は同じ符号を付すことにしてその説明は省略する。
(Fourth Embodiment of Liquid Crystal Device)
FIG. 10 shows a fourth embodiment of a liquid crystal device according to the present invention. The overall configuration of the liquid crystal device according to the fourth embodiment is the same as that of the first embodiment shown in FIG. The difference between this embodiment and the first embodiment shown in FIGS. 2 and 3 is that the slit shape of the pixel electrode on the
本実施形態において、カラーフィルタ基板9の構成に関しては、ラビング方向を除いて
図3に示したものと同じである。なお、ラビング方向R2は、説明の便宜上、素子基板8
側のラビング方向R1と逆平行の方向に図10に示している。図11は、図10のZN−
ZN断面、すなわち、反射表示領域Rと透過表示領域Tとの境界部分の断面を示している
。図10において、画素電極71内に設けられた間隙としてのスリット75(すなわち電
極線状部71a)はサブ画素Pの長手方向(列方向)Yに対して平行な直線状に延在して
いる。なお、図11の断面図では、画素電極71の電極線状部71a上の断面を示してお
り、スリット75は図示されていない。
In the present embodiment, the configuration of the
FIG. 10 shows a direction opposite to the rubbing direction R1 on the side. FIG. 11 shows Z N − of FIG.
Z N section, i.e., shows a cross section of a boundary portion between the reflective display region R and the transmissive display region T. In FIG. 10, a slit 75 (that is, electrode
図12(b)は、本実施形態の液晶装置における光学軸の軸配置関係を示している。符
号175は、図10の画素電極71のスリット(間隙)75(すなわち電極線状部71a
)の延在方向を示している。符号R1は、図10の素子基板8側のラビング方向を示して
いる。符号R2は、図3のカラーフィルタ基板9側のラビング方向を示している。
FIG. 12B shows an axial arrangement relationship of the optical axes in the liquid crystal device of the present embodiment. Reference numeral 175 denotes a slit (gap) 75 (that is, the electrode
) Indicates the extending direction. Symbol R1 indicates the rubbing direction on the
図12(b)に示すように、図10の画素電極71のスリット75はサブ画素Pの長手
方向(図10の上下方向)に対して平行方向に延在している(図12(b)の方向175
)。スリット75に対する素子基板8側のラビング方向R1の角度βはβ=5°に規定さ
れている(図12(b)の方向R1)。図3のカラーフィルタ基板9側のラビング方向R
2は、素子基板8側のラビング方向R1に対して逆平行(アンチパラレル)であり(図1
2(b)の方向R2)、第1段差面38a及び第2段差面38bに対して85°傾いた方
向である(図12(b)の138方向参照)。図11において、素子基板8側のラビング
方向R1は、矢印R1で示すように右側から左側の方向である。一方、カラーフィルタ基
板9側のラビング方向R2は、矢印R2で示すように左側から右側の方向である。
As shown in FIG. 12B, the
). An angle β in the rubbing direction R1 on the
2 is antiparallel to the rubbing direction R1 on the
2 (b) direction R2), which is a direction inclined by 85 ° with respect to the
段差面38a,38bはサブ画素Pの短手向Xに延びており、図10の画素電極71の
スリット75(すなわち電極線状部71a)の延在方向に対して90°傾いた方向に延在
している。従って、図10の素子基板側のラビング方向R1と第1段差面38a及び図3
のカラーフィルタ基板側のラビング方向R2と第2段差面38bとが成す角度αはα=8
5°である。
The step surfaces 38a and 38b extend in the short direction X of the sub-pixel P and extend in a direction inclined by 90 ° with respect to the extending direction of the slit 75 (that is, the electrode
The angle α formed by the rubbing direction R2 on the color filter substrate side and the
5 °.
図4において、素子基板8側(バックライト側)の第1偏光板16及びカラーフィルタ
基板9側(観察側)の第2偏光板18の各透過軸は互いに直角であり(図8(b)の方向
116及び方向118)、観察側の第2偏光板18の透過軸(118)は、ラビング方向
R1,R2と直角であり、バックライト側の第1偏光板16の透過軸(116)はラビン
グ方向R1,R2と平行である。
In FIG. 4, the transmission axes of the first
本実施形態においても、図11に示すように、反射表示領域Rにおける第1透光性基板
15から液晶層14までの高さ(すなわち、第1透光性基板15上の第1基板要素8aの
液晶層14までの高さ)H1Rを透過表示領域Tにおける第1透光性基板15から液晶層
14までの高さH1Tよりも低くしたことにより、反射表示領域Rと透過表示領域Tとの
境界に第1段差面38aを形成した。また、反射表示領域Rにおける第2透光性基板17
から液晶層14までの高さ(すなわち、第2透光性基板17上の第2基板要素9aの液晶
層14までの高さ)H2Rを透過表示領域Tにおける第2透光性基板17から液晶層14
までの高さH2Tよりも高くしたことにより、反射表示領域Rと透過表示領域Tとの境界
に第2段差面38bを形成した。このように、素子基板8の液晶層側の表面と、それに対
向するカラーフィルタ基板9の液晶層側の表面との両方に段差面を設ければ、液晶の配向
状態を素子基板8上とカラーフィルタ基板9上とで揃えることができる。
Also in the present embodiment, as shown in FIG. 11, the height from the first
From the second light-
By making the height higher than the height H2T , the
また、本実施形態では、第1段差面38aと第2段差面38bとが平面視で重なり、液
晶層14を挟んで互いに向き合う構成としている。こうすれば、互いに対向する素子基板
8とカラーフィルタ基板9とで同じ条件でラビングが施されるので、基板8と基板9とで
配向状態を揃えることができる。
In the present embodiment, the
また、本実施形態の液晶装置では、図11に示すように、配向膜32は第1段差面38
aに対向する位置から第1段差面38aに向かう方向(すなわち、図11の矢印R1方向
)にラビングされ、配向膜44は第2段差面38bに対向する位置から第2段差面38b
に向かう方向(すなわち、図11の矢印R2方向)にラビングされる。こうすれば、第1
段差面38a及び第2段差面38bにおいて強いラビング力を付与でき、液晶分子の配向
不良の発生を確実に防止できる。
Further, in the liquid crystal device of the present embodiment, as shown in FIG.
The
Is rubbed in the direction toward (ie, the direction of arrow R2 in FIG. 11). This way, the first
A strong rubbing force can be applied to the stepped
(その他の実施形態)
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明の液晶装置を説明したが、本発明はその実施形
態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
例えば、以上の実施形態ではスイッチング素子としてTFT素子を用いたが、TFT素
子以外の3端子型スイッチング素子を用いることもできる。また、TFD(Thin Film Di
ode:薄膜ダイオード)等といった2端子型のスイッチング素子を用いることもできる。
上記実施形態では、画素電極の電極線状部と共通電極とが平面視で互いに重なり合う電
極構造を有するFFSモードを例示した。しなしながら、本発明はIPSモード、すなわ
ち画素電極の電極線状部と共通電極の電極線状部とが平面視で重なり合うことなく、基板
平行方向においてそれらの電極線状部間に間隔が設けられる電極構造を有する表示モード
にも適用できる。
(Other embodiments)
The liquid crystal device according to the present invention has been described with reference to the preferred embodiments. However, the present invention is not limited to the embodiments, and various modifications can be made within the scope of the invention described in the claims.
For example, although the TFT element is used as the switching element in the above embodiment, a three-terminal switching element other than the TFT element can also be used. Also, TFD (Thin Film Di
A two-terminal switching element such as ode (thin film diode) can also be used.
In the above embodiment, the FFS mode having an electrode structure in which the electrode linear portion of the pixel electrode and the common electrode overlap each other in plan view is illustrated. However, in the present invention, the IPS mode, that is, the electrode linear portions of the pixel electrode and the electrode linear portions of the common electrode do not overlap in plan view, and a space is provided between the electrode linear portions in the substrate parallel direction. The present invention can also be applied to a display mode having an electrode structure.
また、上記の各実施形態では、液晶として正の誘電率異方性を有する液晶、いわゆるポ
ジ液晶を用いているが、これに代えて負の誘電率異方性を有する液晶、いわゆるネガ液晶
を用いることもできる。このネガ液晶を用いる場合は、ポジ液晶を用いた場合に対してラ
ビング方向が90°変わることになる。
In each of the above embodiments, a liquid crystal having positive dielectric anisotropy, that is, a so-called positive liquid crystal is used as the liquid crystal. Instead, a liquid crystal having negative dielectric anisotropy, that is, a so-called negative liquid crystal is used. It can also be used. When this negative liquid crystal is used, the rubbing direction changes by 90 ° compared to the case where the positive liquid crystal is used.
また、上記の各実施形態は、FFSモードやIPSモードといった横電界型の液晶装置
に本発明を適用しているが、これらに限られず、TN液晶等を用いた縦電界型の液晶装置
に本発明を適用することもできる。
In each of the above embodiments, the present invention is applied to a horizontal electric field type liquid crystal device such as an FFS mode or an IPS mode. However, the present invention is not limited to this, and the present invention is applied to a vertical electric field type liquid crystal device using TN liquid crystal. The invention can also be applied.
(電子機器の第1実施形態)
以下、本発明に係る電子機器の一実施形態を説明する。なお、この実施形態は本発明の
一例を示すものであり、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。図13は、本
発明に係る電子機器の一実施形態を示している。ここに示す電子機器は、液晶装置101
と、これを制御する制御回路102とを有する。液晶装置101は液晶パネル103及び
駆動回路104を有する。また、制御回路102は、表示情報出力源105、表示情報処
理回路106、電源回路107及びタイミングジェネレータ108によって構成される。
(First Embodiment of Electronic Device)
Hereinafter, an embodiment of an electronic apparatus according to the invention will be described. In addition, this embodiment shows an example of this invention and this invention is not limited to this embodiment. FIG. 13 shows an embodiment of an electronic apparatus according to the invention. The electronic apparatus shown here is a
And a
表示情報出力源105は、RAM(Random Access Memory)等といったメモリや、各種
ディスク等といったストレージユニットや、ディジタル画像信号を同調出力する同調回路
等を備え、タイミングジェネレータ108により生成される各種のクロック信号に基づい
て、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路106に供給す
る。
The display
表示情報処理回路106は、増幅・反転回路や、ローテーション回路や、ガンマ補正回
路や、クランプ回路等といった周知の回路を多数備え、入力した表示情報の処理を実行し
て、画像信号をクロック信号CLKと共に駆動回路104へ供給する。ここで、駆動回路
104は、走査線駆動回路やデータ線駆動回路と共に、検査回路等を総称したものである
。また、電源回路107は、上記の各構成要素に所定の電源電圧を供給する。
The display
液晶装置101は、例えば、図1に示した液晶装置1を用いて構成できる。この液晶装
置1によれば、図6に示すように、反射表示領域Rにおける第1透光性基板15から液晶
層14までの高さH1Rを透過表示領域Tにおける第1透光性基板15から液晶層14ま
での高さH1Tよりも低くし、反射表示領域Rにおける第2透光性基板17から液晶層1
4までの高さH2Rを透過表示領域Tにおける第2透光性基板17から液晶層14までの
高さH2Tよりも高くすることで、素子基板8の液晶層側の表面とカラーフィルタ基板9
の液晶層側の表面との両方に段差面38a,38bを設けている。これにより、その段差
面38a,38bの部分において、液晶の配向を素子基板8上とカラーフィルタ基板9上
とで揃えることができるので、液晶の配向不良に起因して、表示のコントラストが低下す
ることを防止できる。従って、この液晶装置1を用いて構成された本実施形態の電子機器
においても、表示のコントラストが低下することを防止して、高品質の画像表示を行うこ
とができる。
The
By making the height H 2R up to 4 higher than the height H 2T from the second
Step surfaces 38a and 38b are provided on both the liquid crystal layer side surface. As a result, the alignment of the liquid crystal can be made uniform on the
(電子機器の第2実施形態)
図14は、本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示している。ここ
に示す携帯電話機110は、本体部111と、この本体部111に対して開閉可能に設け
られた表示体部112とを有する。表示体部112には表示装置113及び受話部114
が設けられる。電話通信に関する各種表示は、表示装置113の表示画面115に表示さ
れる。表示装置113の動作を制御するための制御部は、携帯電話機の全体の制御を司る
制御部の一部として、又はその制御部とは別に、本体部111又は表示体部112の内部
に格納される。本体部111には操作ボタン116及び送話部117が設けられる。
(Second Embodiment of Electronic Device)
FIG. 14 shows a mobile phone which is another embodiment of the electronic apparatus according to the invention. A
Is provided. Various displays relating to telephone communication are displayed on the
表示装置113は、例えば、図1に示した液晶装置1を用いて構成できる。この液晶装
置1によれば、図6に示すように、反射表示領域Rにおける第1透光性基板15から液晶
層14までの高さH1Rを透過表示領域Tにおける第1透光性基板15から液晶層14ま
での高さH1Tよりも低くし、反射表示領域Rにおける第2透光性基板17から液晶層1
4までの高さH2Rを透過表示領域Tにおける第2透光性基板17から液晶層14までの
高さH2Tよりも高くすることで、素子基板8の液晶層側の表面とカラーフィルタ基板9
の液晶層側の表面との両方に段差面38a,38bを設けている。これにより、その段差
面38a,38bの部分において、液晶の配向を素子基板8上とカラーフィルタ基板9上
とで揃えることができるので、液晶の配向不良に起因して、表示のコントラストが低下す
ることを防止できる。従って、この液晶装置1を用いて構成された本実施形態の電子機器
においても、表示のコントラストが低下することを防止して、高品質の画像表示を行うこ
とができる。
The
By making the height H 2R up to 4 higher than the height H 2T from the second
Step surfaces 38a and 38b are provided on both the liquid crystal layer side surface. As a result, the alignment of the liquid crystal can be made uniform on the
(その他の実施形態)
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明の電子機器を説明したが、本発明はその実施形
態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。例
えば、本発明は、携帯電話機に限られず、パーソナルコンピュータ、液晶テレビ、ビュー
ファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ペー
ジャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話装置、PO
S端末、デジタルスチルカメラ、電子ブック、等といった各種の電子機器に適用できる。
(Other embodiments)
The electronic device of the present invention has been described with reference to the preferred embodiment. However, the present invention is not limited to the embodiment, and various modifications can be made within the scope of the invention described in the claims. For example, the present invention is not limited to a mobile phone, but a personal computer, a liquid crystal television, a viewfinder type or a monitor direct-view type video tape recorder, a car navigation device, a pager, an electronic notebook, a calculator, a word processor, a workstation, a videophone device, PO
The present invention can be applied to various electronic devices such as an S terminal, a digital still camera, and an electronic book.
1.液晶装置、 2.液晶パネル、 3.照明装置、 4.LED、 5.導光体、
5a.光入射面、 5b.光出射面、 7.シール材、 8.素子基板、
8a.第1基板要素、 9.カラーフィルタ基板、 9a.第2基板要素、
10.スペーサ、 11.走査線、 12.信号線、 13.駆動用IC、
14.液晶層、 15.第1透光性基板(第1基板)、 16.第1偏光板、
17.第2透光性基板(第2基板)、 18.第2偏光板、 19.液晶分子、
20.ゲート線、 21.共通線、 22.共通電極(第1電極)、
23.ゲート絶縁膜、 24.ソース線、 25.TFT素子、 26.半導体膜、
27.ソース電極、 28.ドレイン電極、 29.パッシベーション膜、
30.オーバーレイヤ、 30a.段差面、
31,51,61,71.画素電極(第2電極)、
31a,61a,61b,71a.電極線状部、 32.第1配向膜、
33a,33b.スルーホール、 34.容量絶縁膜、
35,55,65a,65b.スリット(間隙)、 36.光反射膜、
37.凹凸形状パターン、 38a.第1段差面、 38b.第2段差面、
41.着色膜、 42.遮光膜、 43.オーバーコート層、 44.第2配向膜、
45,85.層厚調整膜(位相差膜)、 45a,85a.段差面、
101.液晶装置、 102.制御回路、 103.液晶パネル、 104.駆動回路、
110.携帯電話機(電子機器)、 D0.電極間隔、 G.セルギャップ、
H1R.反射表示領域内の第1基板要素の高さ、
H1T.透過表示領域内の第1基板要素の高さ、
H2R.反射表示領域内の第2基板要素の高さ、
H2T.透過表示領域内の第2基板要素の高さ、 P.サブ画素、
R1,R2.ラビング方向、 X.行方向(サブ画素の短手方向)、
Y.列方向(サブ画素の長手方向)、 V.表示領域
1. 1.
5a. Light incident surface, 5b. 6. light exit surface; Seal material, 8. Element substrate,
8a. 8. first substrate element; A color filter substrate, 9a. A second substrate element,
10. Spacer, 11. 11. scanning line; 12. signal line; Driving IC,
14 Liquid crystal layer, 15. First translucent substrate (first substrate), 16. First polarizing plate,
17. Second light-transmitting substrate (second substrate), 18. Second polarizing plate, 19. Liquid crystal molecules,
20. Gate line, 21. Common line, 22. Common electrode (first electrode),
23. Gate insulating film, 24. Source line, 25. TFT element, 26. Semiconductor film,
27. Source electrode, 28. Drain electrode, 29. Passivation film,
30. Overlayer, 30a. Step surface,
31, 51, 61, 71. Pixel electrode (second electrode),
31a, 61a, 61b, 71a. Electrode linear part, 32. A first alignment film,
33a, 33b. Through hole, 34. Capacitive insulating film,
35, 55, 65a, 65b. Slit (gap), 36. Light reflecting film,
37. Uneven shape pattern, 38a. First step surface, 38b. Second step surface,
41. Colored film, 42. Light shielding film, 43. Overcoat layer, 44. A second alignment film,
45, 85. Layer thickness adjusting film (retardation film), 45a, 85a. Step surface,
101. Liquid crystal device, 102. Control circuit, 103. Liquid crystal panel, 104. Drive circuit,
110. Mobile phones (electronic devices), D0. Electrode spacing, G. Cell gap,
H 1R . The height of the first substrate element in the reflective display area;
H 1T . The height of the first substrate element in the transmissive display area;
H 2R . The height of the second substrate element in the reflective display area,
H 2T . The height of the second substrate element in the transmissive display area; Sub-pixel,
R1, R2. Rubbing direction, X. Row direction (short direction of sub-pixel),
Y. Column direction (longitudinal direction of sub-pixel); Indicated Area
Claims (12)
前記第1基板の前記液晶層側に設けられた光反射膜と、
前記第1基板及び前記第2基板の面内に配列された複数のサブ画素と、を有し、
前記サブ画素は、前記光反射膜によって反射された光を用いて表示を行う反射表示領域
と、前記光反射膜が設けられていない領域を透過する光を用いて表示を行う透過表示領域
とを有し、
前記反射表示領域における前記液晶層の層厚は、前記透過表示領域における前記液晶層
の層厚よりも薄く、
前記反射表示領域における前記第1基板から前記液晶層までの高さは前記透過表示領域
における前記第1基板から前記液晶層までの高さよりも低く、
前記反射表示領域における前記第2基板から前記液晶層までの高さは前記透過表示領域
における前記第2基板から前記液晶層までの高さよりも高い
ことを特徴とする液晶装置。 A liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate;
A light reflecting film provided on the liquid crystal layer side of the first substrate;
A plurality of sub-pixels arranged in a plane of the first substrate and the second substrate,
The sub-pixel includes a reflective display region that performs display using light reflected by the light reflective film, and a transmissive display region that performs display using light transmitted through a region where the light reflective film is not provided. Have
The layer thickness of the liquid crystal layer in the reflective display region is smaller than the layer thickness of the liquid crystal layer in the transmissive display region,
The height from the first substrate to the liquid crystal layer in the reflective display region is lower than the height from the first substrate to the liquid crystal layer in the transmissive display region,
A liquid crystal device, wherein a height from the second substrate to the liquid crystal layer in the reflective display region is higher than a height from the second substrate to the liquid crystal layer in the transmissive display region.
射表示領域と前記透過表示領域との境界に形成される第1の段差面と、前記第2基板の前
記液晶層側の表面であって前記反射表示領域と前記透過表示領域との境界に形成される第
2の段差面は平面視で互いに重なっていることを特徴とする液晶装置。 2. The liquid crystal device according to claim 1, wherein a first step surface formed on a boundary between the reflective display area and the transmissive display area on the liquid crystal layer side surface of the first substrate, and the second substrate. A second step surface formed on the surface of the liquid crystal layer at the boundary between the reflective display region and the transmissive display region overlaps each other in a plan view.
前記第1基板の前記液晶層に接する表面には第1配向膜が設けられ、該第1配向膜は前
記第1段差面に対向する側から当該第1段差面に向かう方向にラビングされ、
前記第2基板の前記液晶層に接する表面には第2配向膜が設けられ、該第2配向膜は前
記第2段差面に対向する側から当該第2段差面に向かう方向にラビングされる
ことを特徴とする液晶装置。 The liquid crystal device according to claim 2.
A first alignment film is provided on a surface of the first substrate that is in contact with the liquid crystal layer, and the first alignment film is rubbed in a direction from the side facing the first step surface to the first step surface,
A second alignment film is provided on a surface of the second substrate in contact with the liquid crystal layer, and the second alignment film is rubbed in a direction from the side facing the second step surface toward the second step surface. A liquid crystal device characterized by the above.
向膜に対するラビング方向は逆平行の関係にあることを特徴とする液晶装置。 4. The liquid crystal device according to claim 3, wherein the rubbing direction with respect to the first alignment film and the rubbing direction with respect to the second alignment film are in an antiparallel relationship.
液晶層の側には、第1電極と、該第1電極との間で電界を生じさせる第2電極とが設けら
れ、前記第2電極は間隙を有して平行に配列した複数の電極線状部を備えることを特徴と
する液晶装置。 5. The liquid crystal device according to claim 1, wherein an electric field is generated between the first electrode and the first electrode on the liquid crystal layer side of the first substrate. 6. 2. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the second electrode includes a plurality of electrode linear portions arranged in parallel with a gap.
に対して5°〜20°傾いていることを特徴とする液晶装置。 6. The liquid crystal device according to claim 5, wherein the rubbing direction is inclined by 5 to 20 degrees with respect to the extending direction of the gap between the second electrodes.
厚調整膜が前記反射表示領域内に設けられ、前記第2段差面は前記液晶層厚調整膜の端辺
に形成された段差によって形成されることを特徴とする液晶装置。 4. The liquid crystal device according to claim 3, wherein a liquid crystal layer thickness adjusting film is provided in the reflective display region between the second substrate and the second alignment film, and the second step surface has the liquid crystal layer thickness. A liquid crystal device formed by a step formed on an end side of an adjustment film.
前記位相差膜のリタデーション(Δnd)は2分の1波長であることを特徴とする液晶装
置。 The liquid crystal device according to claim 7, wherein the liquid crystal layer thickness adjusting film includes a retardation film,
The retardation of the retardation film (Δnd) is a half wavelength, and the liquid crystal device.
光反射膜の間には絶縁膜が設けられ、前記第1段差面は前記絶縁膜に形成された段差によ
って形成されることを特徴とする液晶装置。 9. The liquid crystal device according to claim 1, wherein an insulating film is provided between the first substrate and the light reflecting film, and the first step surface is formed on the insulating film. A liquid crystal device characterized by being formed by a step.
膜表面に複数の凹凸を付与する凹凸が設けれらており、前記段差は前記絶縁膜の凹凸を形
成した領域の端部に配置されていることを特徴とする液晶装置。 10. The liquid crystal device according to claim 9, wherein the surface of the insulating film on the light reflecting film side is provided with unevenness that gives the surface of the light reflecting film a plurality of unevenness, and the step is formed on the insulating film. A liquid crystal device, wherein the liquid crystal device is disposed at an end portion of a region where unevenness is formed.
び前記第2段差面は、前記第1基板上及び前記第2基板上からの厚み方向に厚さが連続的
に変化する傾斜面であることを特徴とする液晶装置。 11. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the first step surface and the second step surface have a thickness in a thickness direction from the first substrate and the second substrate. A liquid crystal device characterized in that is an inclined surface that continuously changes.
子機器。 An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to any one of claims 1 to 11.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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