JP2008216521A - Method of manufacturing electrooptical device and electrooptical device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置に関し、特に、2枚の基板を含ん
で構成される電気光学装置の製造方法及び電気光学装置に関する。
The present invention relates to an electro-optical device manufacturing method and an electro-optical device, and more particularly, to an electro-optical device manufacturing method and an electro-optical device including two substrates.
従来より、電気光学装置として、液晶表示装置等の表示装置が知られている。例えば、
液晶表示装置は、2枚の基板を貼り合わせて構成されている。液晶表示装置等の表示装置
は、携帯電話等の電子機器に搭載されて広く使用されている。
Conventionally, a display device such as a liquid crystal display device is known as an electro-optical device. For example,
The liquid crystal display device is configured by bonding two substrates. Display devices such as liquid crystal display devices are widely used by being mounted on electronic devices such as mobile phones.
そして、特に近年は、電子機器の小型化、あるいは薄型化に伴い、表示装置の薄型化が
要求されている。薄型化が進むと、薄い基板を、製造工程内で割れないように流動させな
ければならない。薄い基板は、割れ易く、かつ撓んだりするため、製造工程において取り
扱いには十分な注意が必要となり、その流動性は低いものとなる。そこで、液晶表示装置
の場合、薄い基板を保持するための治具を用いて、基板をその治具の平面部に粘着材によ
り貼り付けるようにして、製造工程における流動性を向上させる提案がある(例えば、特
許文献1参照)。
しかし、その提案にかかる製造方法では、治具の平面部全面に粘着材を付着させ、粘着
材を付着した部分に薄い基板を貼り付ける工程を設け、そして所定の工程が終わった後に
、薄い基板を治具の平面部全面から剥がすための工程があるため、それらの処理の過程で
基板表面にキズが付く可能性が高くなるという問題がある。また、粘着材を平面部全面に
付けるために、その薄い基板表面に、粘着材の残渣が残ってしまったりする可能性も高い
という問題もある。
However, in the manufacturing method according to the proposal, an adhesive material is attached to the entire flat portion of the jig, a thin substrate is attached to the adhesive material-attached portion, and the thin substrate is formed after the predetermined process is completed. Since there is a step for peeling the substrate from the entire plane portion of the jig, there is a problem that there is a high possibility that the substrate surface is scratched during the process. In addition, since the adhesive material is applied to the entire surface of the flat portion, there is a high possibility that a residue of the adhesive material remains on the surface of the thin substrate.
本発明は、以上のような問題に鑑みてなされたものであり、電気光学装置の製造工程に
おいて基板にキズが付く可能性を減少し、かつ粘着材等の残渣の残る可能性を低く抑える
ことができる電気光学装置の製造方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and reduces the possibility of scratching the substrate in the manufacturing process of the electro-optical device, and suppresses the possibility of residual residues such as adhesives remaining low. An object of the present invention is to provide a method of manufacturing an electro-optical device capable of performing
本発明の電気光学装置の製造方法は、電気光学装置用の第1の基板の表面と、第1の支
持体の表面とを貼り合わせる第1の貼り合わせ工程と、貼り合わせた前記第1の基板と前
記第1の支持体のそれぞれの端面において、貼り合わせ面の端部に、第1の接着剤を設け
る第1の接着工程と、前記電気光学装置用の第2の基板の表面と、第2の支持体の表面と
を貼り合わせる第2の貼り合わせ工程と、貼り合わせた前記第2の基板と前記第2の支持
体のそれぞれの端面において、貼り合わせ面の端部に、第2の接着剤とを設ける第2の接
着工程と、前記第1の基板の前記表面とは反対側の表面と、前記第2の基板の前記表面と
は反対側の表面とを貼り合わせる第3の貼り合わせ工程と、前記それぞれの端面に設けら
れた前記第1及び前記第2の接着剤を除去する除去工程と、を有する。
The electro-optical device manufacturing method of the present invention includes a first bonding step of bonding the surface of the first substrate for the electro-optical device and the surface of the first support, and the first bonding to the first substrate. A first bonding step in which a first adhesive is provided at an end of the bonding surface on each of the end surfaces of the substrate and the first support; and a surface of the second substrate for the electro-optical device; In the second bonding step of bonding the surface of the second support to the end surface of the bonding surface, each of the second substrate and the second support bonded to the end surface of the bonding surface A second bonding step of providing an adhesive, a surface of the first substrate opposite to the surface, and a surface of the second substrate opposite to the surface are bonded together. A bonding step and the first and second contacts provided on the respective end faces; Having a removal step of removing the agent.
このような構成によれば、電気光学装置の製造工程において基板にキズが付く可能性を
減少し、かつ粘着材等の残渣の残る可能性を低く抑えることができる電気光学装置の製造
方法を提供することができる。
According to such a configuration, there is provided a method for manufacturing an electro-optical device that can reduce the possibility of scratching the substrate in the manufacturing process of the electro-optical device, and can suppress the possibility that a residue such as an adhesive remains. can do.
また、本発明の電気光学装置の製造方法において、前記前記第3の貼り合わせ工程の前
に、前記第1の基板の前記反対側の表面、及び前記第2の基板の前記反対側の表面に、所
定のパターニングを行うパターニング工程を有することが望ましい。
このような構成によれば、所望のパターニングを行うことができる。
In the method of manufacturing the electro-optical device according to the aspect of the invention, before the third bonding step, the surface on the opposite side of the first substrate and the surface on the opposite side of the second substrate It is desirable to have a patterning process for performing predetermined patterning.
According to such a configuration, desired patterning can be performed.
また、本発明の電気光学装置の製造方法において、前記第1及び前記第2の接着剤の除
去は、前記第3の貼り合わせ工程によって貼り合わされた、前記第1の基板、前記第2の
基板、前記第1の支持体及び前記第2の支持体の端面部を切断することにより行うことが
望ましい。
このような構成によれば、接着剤の除去が容易であり、かつ生産性もよい。
In the method of manufacturing an electro-optical device according to the aspect of the invention, the first and second substrates may be removed by removing the first and second adhesives by the third bonding step. It is desirable to cut the end surface portions of the first support and the second support.
According to such a configuration, it is easy to remove the adhesive and the productivity is good.
また、本発明の電気光学装置の製造方法において、前記第1及び前記第2の接着剤の除
去は、前記接着剤の接着破壊により行うことが望ましい。
このような構成によれば、容易に接着剤を剥離することができる。
In the method of manufacturing the electro-optical device according to the aspect of the invention, it is preferable that the first and second adhesives be removed by adhesive breakage of the adhesive.
According to such a configuration, the adhesive can be easily peeled off.
また、本発明の電気光学装置の製造方法において、前記第1及び前記第2の接着剤の除
去は、前記接着剤をケミカルエッチングにより行うことが望ましい。
このような構成によれば、接着剤を容易に除去することができる。
In the method of manufacturing the electro-optical device according to the aspect of the invention, it is preferable that the first and second adhesives are removed by chemical etching.
According to such a configuration, the adhesive can be easily removed.
また、本発明の電気光学装置は、本発明の方法により製造された電気光学装置製造方法
である。
このような構成によれば、支持体に基板を固定するために塗布等される接着剤の接着面
積が小さいため、基板表面にキズが発生する可能性も低くなり、接着剤の残渣の量も少な
くなるので、品質の高い電気光学装置を製造することができる。
The electro-optical device of the present invention is an electro-optical device manufacturing method manufactured by the method of the present invention.
According to such a configuration, since the adhesion area of the adhesive applied to fix the substrate to the support is small, the possibility of scratches on the substrate surface is reduced, and the amount of adhesive residue is also reduced. Therefore, a high quality electro-optical device can be manufactured.
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を、電気光学装置の一つである液晶表示装置
を例にして説明する。
まず図1から図8を用いて、本実施の形態に係わる電気光学装置の製造方法を説明する
。図1から図3は、基板と支持体とを貼り合わせる工程を説明するための模式的断面図で
ある。図4は、後述する積層体の構成を説明するための模式的断面図である。図5は、後
述する積層体を作成する方法を説明するための図である。図6は、複数の液晶表示装置を
含む大板の液晶表示装置から個々の液晶表示装置を取り出すために分断する方法を説明す
るための図である。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings, taking a liquid crystal display device which is one of electro-optical devices as an example.
First, the manufacturing method of the electro-optical device according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 3 are schematic cross-sectional views for explaining a process of bonding a substrate and a support. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view for explaining the configuration of a laminate described later. FIG. 5 is a diagram for explaining a method of creating a laminated body to be described later. FIG. 6 is a diagram for explaining a method of dividing an individual liquid crystal display device from a large liquid crystal display device including a plurality of liquid crystal display devices.
液晶表示装置は、2枚の基板が貼り合わされ、その2枚の基板間に液晶が封入されるこ
とによって構成されている。本実施の形態では、1つの液晶表示装置を製造するにあたり
、複数の液晶表示装置を大型の基板の状態で作成して、最後に分断することによって、個
々の液晶表示装置を製造する方法を用いている。
The liquid crystal display device is configured by bonding two substrates and enclosing liquid crystal between the two substrates. In the present embodiment, in manufacturing one liquid crystal display device, a method of manufacturing individual liquid crystal display devices by creating a plurality of liquid crystal display devices in a state of a large substrate and finally dividing them is used. ing.
図1において、基板11は、液晶表示装置用の2枚の基板の内の一方となるものであり
、基板11は、複数の液晶表示装置のそれぞれの一方の基板となる大板の基板(いわゆる
マザー基板ともいうことがある)である。基板11は、例えば、液晶表示装置の、いわゆ
るTFT基板等の素子基板となるガラス基板である。
In FIG. 1, a
その基板11は、平面視したとき、すなわち、基板の表面に対して直交する方向から見
たとき、矩形、あるいは円形の形状を有している。以下、基板11が、矩形である場合で
説明する。
The
図1において、支持体12は、ここでは、ガラス基板であり、平面視したときに、基板
11の形状と同一形状を有する部材である。まず、支持体12の表面と、基板11の素子
が形成される面とは反対側の表面とが密着するように、基板11と支持体12を貼り合わ
せる、貼り合わせ工程が実施される。ここでは、基板11と支持体12は、共に、同じ熱
膨張率を有し、かつ透明な部材である。これは、製造工程において、熱膨張率の違いによ
る基板11と支持体12の剥がれを防止し、かつ基板11と支持体12の貼り合わせの位
置決めを容易にするためである。
In FIG. 1, the
例えば、基板11と支持体12は、それぞれ平面視したときに、一辺が70cmの板状
部材である。さらに、例えば、基板11は、0.2mmの厚さを有し、支持体12は、0
.5mmから0.6mmの厚さを有する。
For example, the
. It has a thickness of 5 mm to 0.6 mm.
次に、貼り合わせた基板11と支持体12のそれぞれの端面において、貼り合わせ面に
沿って、接着剤13を、塗布等により設けることによって、接着工程が実施される。図2
に示すように、基板11の表面と支持体12の表面が密着するように貼り合わされて、接
着剤13は、貼り合わされた2枚の板状部材の端面と、2枚の板状部材の貼り合わせ面と
の交差する線に沿って、接着剤13が塗布される。接着剤13は、例えば、エポキシ樹脂
系の接着剤である。
なお、接着剤13は、その線に沿って全て塗布しなくてもよく、2枚の板状部材が離れ
ないように互いに固定されるならば、貼り合わせ面の端部に部分的に塗布等されていても
よい。
Next, the bonding step is performed by applying the
As shown in FIG. 4, the
Note that the
貼り合わされて、端面において接着剤13によって互いに密着して一体となった基板1
1と支持体12の厚さは、0.7mmから0.8mmの厚さとなる。貼り合わされた基板
11と支持体12の2つの板状部材が、0.7mmから0.8mm以上の厚さを有するの
で、製造工程において、流動性を低下させるような大きな撓みが生じない。
The substrates 1 bonded together and adhered to each other by an
1 and the
次に、基板11の表面に、すなわち支持体12と密着する表面とは反対側の表面に、必
要なパターニング処理を行うパターニング工程が実施される。その結果、図3に示すよう
に、各種回路を含むパターニング層14が形成された、素子基板側の大板15が作成され
る。パターニング処理は、成膜処理、フォトレジスト処理等である。パターニング処理に
より、TFT基板としての各種機能を実現する回路等が、基板11上に形成される。
Next, a patterning process for performing a necessary patterning process is performed on the surface of the
同様に、液晶表示装置において2枚の基板の内の他方の基板である対向基板側について
も、図1から図3の同様の貼り合わせ工程、接着工程、そしてパターニング工程が実施さ
れ、液晶表示装置の、カラーフィルタ等を有する、いわゆる対向基板側の大板25が作成
される。
Similarly, in the liquid crystal display device, the same bonding process, bonding process, and patterning process in FIGS. 1 to 3 are also performed on the counter substrate side, which is the other of the two substrates. Thus, a
以上のようにして形成された2枚の大板の基板を、それぞれが大板の状態で、素子基板
のパターニング層14の面と対向基板のパターニング層24の面とが対向するように貼り
合わせて積層することによって、積層体31を作成する。図4は、2枚の大板の基板が貼
り合わされた積層体の模式的断面図である。
The two large substrates formed as described above are bonded so that the surface of the
図4に示すように、積層体31の対向基板側は、支持体22に基板21が貼り合わされ
、貼り合わせ面に沿って、基板21と支持体22のそれぞれの端面に接着剤23が塗布等
によって、設けられている。なお、接着剤23は、基板11と支持体12とを固定するた
めの接着剤13と同じでも、異なっていてもよい。
基板21の表面は、パターニングされ、パターニング層24が形成されることによって
、対向基板側の大板25が作成されている。そして、それぞれが図3のような2枚の大板
15と25を、それぞれのパターニング層14と24が対向するように、貼り合わせるこ
とによって、図4に示すように、支持体12と支持体22が、基板11と基板21を間に
挟む積層体31となる。
As shown in FIG. 4, on the opposite substrate side of the laminate 31, the
The surface of the
図5は、素子基板側の大板15と、対向基板側の大板25とを貼り合わせる、貼り合わ
せ工程を説明するための図である。図5に示すように、素子基板側の大板15のパターニ
ング層14と、対向基板側の大板25のパターニング層24とが対向するように、2枚の
大板15と25は貼り合わされる、貼り合わせ工程が実施される。この貼り合わせ工程で
は、一方の大板の対向面において、個々の液晶表示装置の形成領域に対応して設けられた
液晶層を取り囲む枠状のシール材(図示省略)と、複数の液晶表示装置の形成領域を取り
囲み、後のケミカルエッチングにおけるフッ酸等のエッチング溶液の大板間への浸入を防
止するために大板外周に設けられたシール材(図示省略)によって、2枚の大板15と2
5は貼り合わされている。
FIG. 5 is a diagram for explaining a bonding process in which the
5 is bonded.
次に、図4の点線L1で示すように、積層体31の接着剤14が設けられた端面に平行な
方向に、積層体31の周囲を、スクライブ装置等を用いて、切断すなわちスクライブブレ
イクすることによって、積層体31から接着剤13,23を除去する除去工程が実施され
る。
Next, as shown by a dotted line L1 in FIG. 4, the periphery of the laminate 31 is cut, that is, scribe-broken using a scribing device or the like in a direction parallel to the end surface of the laminate 31 provided with the adhesive 14. Thereby, the removal process which removes the
ここでは、積層体31は、平面視すると、矩形を有しているので、4つの端面に沿って
、積層体31の周囲部が切断されて切り落とされる。積層体31の接着剤14が設けられ
た端面のみを切断するので、接着剤の除去が容易であり、かつ生産性もよい。
Here, since the
積層体31の周囲部が切断されることによって、基板11と支持体12、及び基板21
と支持体22とを固定していた接着剤13と23が除去されるので、それぞれの基板から
支持体12と22が剥離可能となる。
By cutting the periphery of the laminate 31, the
Since the
そして、支持体12と22がそれぞれ基板11と21から剥離された後、複数の液晶表
示装置を含む大板の液晶表示装置が、個々の液晶表示装置の大きさに切断されることによ
って、個々の液晶表示措置を取り出す取り出し工程が実施される。
Then, after the
図6は、大板の液晶表示装置から個々の液晶表示装置を取り出す方法を説明するための
図である。図6に示すように、それぞれが液晶表示装置になるように、基板11,21及
び支持体12,22が積層された大板を、所定の方向の線L2,L3に沿って、いわゆるマト
リックス状に、スクライブ装置等によって切断する。線L2,L3は、複数の液晶表示装置を
含む大板の液晶表示装置から、個々の液晶表示装置を取り出すための位置を示す仮想的な
線である。その結果、個々の液晶表示装置が得られる。
FIG. 6 is a diagram for explaining a method of taking out individual liquid crystal display devices from a large liquid crystal display device. As shown in FIG. 6, a large plate on which
なお、電気光学物質である液晶は、図6に示すような複数の液晶表示装置の状態におい
て、あるいは線L2あるいはL3に沿って分断されて複数の液晶表示装置が一列に並んだ状態
において、各液晶表示装置の液晶の封入口から封入して封入口を封止材で封止することに
よって、液晶表示装置内に封入される。あるいは、液晶は、個々の液晶表示装置に分断さ
れた後に、各液晶表示装置の液晶の封入口から封入して封入口を封止材で封止することに
よって、液晶表示装置内に封入するようにしてもよい。
Note that the liquid crystal that is an electro-optical material is in a state of a plurality of liquid crystal display devices as shown in FIG. 6 or in a state where a plurality of liquid crystal display devices are arranged along a line L2 or L3. The liquid crystal display device is sealed in the liquid crystal display device by sealing from the liquid crystal sealing port and sealing the sealing port with a sealing material. Alternatively, after the liquid crystal is divided into individual liquid crystal display devices, the liquid crystal is sealed in the liquid crystal display device by sealing from the liquid crystal sealing port of each liquid crystal display device and sealing the sealing port with a sealing material. It may be.
さらになお、液晶を対向基板側の表面に枠状のシール材を設け、シール材の内側に液晶
を滴下して対向基板側と素子基板側を貼り合わせる滴下貼り合わせ方式の場合は、図5の
ような大板の状態で、液晶の滴下が行われることによって、液晶は、各液晶表示装置内に
封入される。
Furthermore, in the case of the drop bonding method in which the liquid crystal is provided with a frame-shaped sealing material on the surface on the counter substrate side, the liquid crystal is dropped inside the sealing material and the counter substrate side and the element substrate side are bonded, FIG. By dropping the liquid crystal in such a large plate state, the liquid crystal is sealed in each liquid crystal display device.
以上のようにして、液晶表示装置を製造するようにすれば、製造工程において流動性を
低下させることなく、厚さの薄い液晶表示装置を製造することができる。そして、支持体
と基板を固定する接着剤は、大板の端面にのみ設けられるので、接着剤の付着工程は簡素
化でき、結果として、基板表面にキズが付く可能性が低くなる。さらに加えて接着剤を除
去する場合も、大板の積層体の端面部のみを切断するので、接着剤の残渣が基板表面に残
る可能性も低く抑えることができる。よって、液晶表示装置の製造工程における歩留まり
、及び生産性の向上が図ることができるものである。
If the liquid crystal display device is manufactured as described above, a thin liquid crystal display device can be manufactured without reducing fluidity in the manufacturing process. And since the adhesive which fixes a support body and a board | substrate is provided only in the end surface of a large board, the adhesion process of an adhesive agent can be simplified, As a result, possibility that a substrate surface will be damaged will become low. In addition, when removing the adhesive, only the end face of the laminate of large plates is cut, so that the possibility that an adhesive residue remains on the substrate surface can be kept low. Therefore, the yield and productivity in the manufacturing process of the liquid crystal display device can be improved.
なお、接着剤の除去方法は、大板の積層体31の端面部を切断する方法以外の方法でも
よい。図7は、接着剤13と23の種類によっては、紫外線により接着破壊を生じさせる
ことができる接着剤があるので、そのような接着剤を用いた場合に、紫外線照射によって
接着剤を除去する方法を説明するための図である。
Note that the method of removing the adhesive may be a method other than the method of cutting the end surface portion of the
図7に示すように、例えば、紫外線(以下、UVという)を照射するために、矩形の端面
が上になるように、所定の台の上に載置し、その状態で、積層体31の端面の全面に、上
面からUVを、矢印LLで示すように照射する。他の3面についても、同様にUVを照射するこ
とによって、積層体31の端面の接着剤の接着破壊を生じさせることができる。その結果
、積層体31の端面にUVを照射すると、接着剤と被着材との界面において接着破壊が起こ
るので、容易に接着剤を剥離することができる。
As shown in FIG. 7, for example, in order to irradiate ultraviolet rays (hereinafter referred to as UV), it is placed on a predetermined table so that the end face of the rectangle is on top. The entire end face is irradiated with UV from the top as shown by arrow LL. The other three surfaces can be similarly irradiated with UV to cause adhesive breakage of the adhesive on the end surface of the laminate 31. As a result, when UV is applied to the end face of the
さらに、他の方法として、ケミカルエッチングによって接着剤を除去するようにしても
よい。図8は、ケミカルエッチングにより基板と支持体を溶かすことによって、接着剤を
除去する方法を説明するための図である。
Furthermore, as another method, the adhesive may be removed by chemical etching. FIG. 8 is a diagram for explaining a method of removing the adhesive by melting the substrate and the support by chemical etching.
図8に示すように、フッ酸の溶液51で満たした槽52の中に、積層体31を浸漬する
ことによって、ガラス材料である基板及び支持体が溶かされる。そのとき、ガラス材料が
溶けることによって、接着剤と基板及び接着剤と支持体の間にフッ酸が入り込み、接着剤
を容易に剥離することができる。フッ酸は、基板にも影響を与えるので、接着剤が剥離す
るのに必要な時間だけ、積層体31は、溶液51に浸される。
As shown in FIG. 8, by immersing the laminate 31 in a
以上の説明では、接着剤の除去は、スクライブブレイク、接着破壊、ケミカルエッチン
グにより行う例を説明したが、これら以外の方法、例えば、加熱等により行うようにして
もよい。
以上のように、本実施の形態によれば、液晶表示装置の製造工程において流動性を低下
させることなく、厚さの薄い液晶表示装置を製造することができる。そして、支持体と基
板を固定する接着剤は、大板の端面にのみ設けられるので、接着剤の付着工程は簡素化す
ることができる。
In the above description, the example of performing the removal of the adhesive by scribe breaking, adhesion breaking, and chemical etching has been described. However, other methods such as heating may be used.
As described above, according to the present embodiment, a thin liquid crystal display device can be manufactured without reducing fluidity in the manufacturing process of the liquid crystal display device. And since the adhesive which fixes a support body and a board | substrate is provided only in the end surface of a large board, the adhesion process of an adhesive agent can be simplified.
また、結果として、支持体に基板を固定するために塗布等される接着剤の接着面積が小
さいため、基板表面にキズが発生する可能性も低くなり、接着剤の残渣の量も少なくなる
ので、品質の高い電気光学装置を製造することができる。
特に、UV照射、加熱等により接着剤を除去する場合に、UV照射、加熱等のエネルギーも
少なくて済む。
なお、上述した製造方法は、大板の基板を分断して複数の液晶表示装置を得る場合だけ
でなく、1つの液晶表示装置を製造する場合にも、適用可能である。
As a result, since the adhesive area of the adhesive applied to fix the substrate to the support is small, the possibility of scratches on the substrate surface is reduced, and the amount of adhesive residue is also reduced. A high quality electro-optical device can be manufactured.
In particular, when the adhesive is removed by UV irradiation, heating, etc., less energy is required for UV irradiation, heating, etc.
Note that the manufacturing method described above is applicable not only when a large substrate is divided to obtain a plurality of liquid crystal display devices, but also when a single liquid crystal display device is manufactured.
また、本発明の電気光学装置は、アクティブマトリクス型の液晶表示装置(例えば、T
FT(薄膜トランジスタ)やTFD(薄膜ダイオード)をスイッチング素子として備えた
液晶表示パネル)だけでなく、パッシブマトリクス型の液晶表示装置にも同様に適用する
ことが可能である。また、液晶表示パネルだけでなく、エレクトロルミネッセンス装置、
有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ
装置、電気放出素子を用いた装置(Field Emission Display 及びSurface-Conduction El
ectron-Emission Display等)等の各種の電気光学装置においても本発明を同様に適用す
ることが可能である。
本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変えない範
囲において、種々の変更、改変等が可能である。
Further, the electro-optical device of the present invention is an active matrix type liquid crystal display device (for example, T
The present invention can be similarly applied not only to a liquid crystal display panel provided with FT (thin film transistor) and TFD (thin film diode) as a switching element) but also to a passive matrix liquid crystal display device. In addition to liquid crystal display panels, electroluminescence devices,
Organic electroluminescence devices, plasma display devices, electrophoretic display devices, devices using electroluminescent elements (Field Emission Display and Surface-Conduction El
The present invention can be similarly applied to various electro-optical devices such as an ectron-emission display.
The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various changes and modifications can be made without departing from the scope of the present invention.
11、21 基板、12、22 支持体、13、23 接着剤、14、24 パターニン
グ層、31 積層体
11, 21 Substrate, 12, 22 Support, 13, 23 Adhesive, 14, 24 Patterning layer, 31 Laminate
Claims (6)
り合わせ工程と、
貼り合わせた前記第1の基板と前記第1の支持体のそれぞれの端面において、貼り合わ
せ面の端部に、第1の接着剤を設ける第1の接着工程と、
前記電気光学装置用の第2の基板の表面と、第2の支持体の表面とを貼り合わせる第2
の貼り合わせ工程と、
貼り合わせた前記第2の基板と前記第2の支持体のそれぞれの端面において、貼り合わ
せ面の端部に、第2の接着剤とを設ける第2の接着工程と、
前記第1の基板の前記表面とは反対側の表面と、前記第2の基板の前記表面とは反対側
の表面とを貼り合わせる第3の貼り合わせ工程と、
前記それぞれの端面に設けられた前記第1及び前記第2の接着剤を除去する除去工程と
、
を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。 A first bonding step of bonding the surface of the first substrate for the electro-optic device and the surface of the first support;
A first bonding step in which a first adhesive is provided at an end of the bonding surface at each end surface of the bonded first substrate and the first support;
Secondly, the surface of the second substrate for the electro-optical device is bonded to the surface of the second support.
Bonding process of
A second bonding step in which a second adhesive is provided at an end of the bonded surface at each end surface of the bonded second substrate and the second support;
A third bonding step of bonding the surface of the first substrate opposite to the surface and the surface of the second substrate opposite to the surface;
A removing step of removing the first and second adhesives provided on the respective end faces;
A method for manufacturing an electro-optical device.
第2の基板の前記反対側の表面に、所定のパターニングを行うパターニング工程を有する
ことを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置の製造方法。 Before the third bonding step, a patterning step of performing predetermined patterning on the opposite surface of the first substrate and the opposite surface of the second substrate is provided. The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 1.
された、前記第1の基板、前記第2の基板、前記第1の支持体及び前記第2の支持体の端
面部を切断することにより行うことを特徴とする請求項1又は2に記載の電気光学装置の
製造方法。 The removal of the first and second adhesives includes the first substrate, the second substrate, the first support, and the second support that are bonded together by the third bonding step. The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 1, wherein the method is performed by cutting an end surface portion of the body.
とする請求項1又は2に記載の電気光学装置の製造方法。 3. The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 1, wherein the first and second adhesives are removed by adhesive breakage of the adhesive.
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の電気光学装置の製造方法。 3. The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 1, wherein the first and second adhesives are removed by chemical etching of the adhesives.
学装置。 An electro-optical device manufactured by the method according to claim 1.
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WO2011001946A1 (en) * | 2009-07-03 | 2011-01-06 | 日本電気硝子株式会社 | Glass film laminate |
JP2011183792A (en) * | 2009-07-03 | 2011-09-22 | Nippon Electric Glass Co Ltd | Glass film laminate |
US8697241B2 (en) | 2009-07-03 | 2014-04-15 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Glass film laminate |
TWI454438B (en) * | 2009-07-03 | 2014-10-01 | Nippon Electric Glass Co | Glass film laminated body |
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