JP2008203740A - 調光素子及び調光デバイス - Google Patents

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勝也 山本
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信義 越田
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Abstract

【課題】高速応答性と高耐久性を備えた調光素子と共に、このような調光素子を応用した調光デバイス、例えば調光窓、防眩ミラー、非発光型表示装置などを提供すること。
【解決手段】2枚の導電膜6,7の間に色変化膜と電解質膜2を備えた調光素子において、上記色変化膜を電圧印加によって還元されて色変化を生じる第1の膜3と、同方向の電圧印加によって酸化される第2の膜4により構成し、電解質膜2の一方側に1層以上の第1の膜3を、他方側に1層以上の第2の膜4を配置すると共に、これら第1及び第2の膜3及び4の少なくとも1つと電解質膜2との間に電荷バリア層5を形成する。
【選択図】図1

Description

本発明は、電圧印加に基づく酸化還元反応によって、その光学的特性(色、光の透過率など)が可逆的に変化するエレクトロクロミック材料を用いた素子に係わり、特に応答速度や耐久信頼性を大幅に向上させることが可能な調光素子と、表示装置など、このような調光素子を用いた調光デバイスに関するものである。
酸化タングステン(WO)に代表されるように、ある種の固体材料では、電気的励起や光励起により、格子間空隙に異種原子を挿入させることによって、光学的・電気的特性が大きく変化することが知られている。このとき、挿入させた原子を格子間空隙から電気的に引き抜き、元の状態に戻すことができれば、光学的・電気的な応用範囲が拡大することになる。
このような効果を応用した代表的な素子としては、エレクトロクロミック(Electrochromic:EC)素子が知られている。
このEC素子は、遷移金属化合物膜などの薄膜と電解質とを接触させて構成されるものであって、所定極性の電界を印加することによって、例えば着色を生じさせ、これとは逆極性の電界を印加することによって脱色を生じさせることができる。この着色及び脱色は可逆的なものであり、このような着脱色は、遷移金属化合物膜などの薄膜と電解質との接触部に、外部から光照射することによっても生じさせることができる。
図8は、従来のEC素子の構造例を示すものであって、図に示すEC素子は、エレクトロクロミック材料であるアモルファスWO(a−WO)と、酸化タンタル(Ta)から成る固体電解質を備えており、これらアモルファスWOと電解質をITO(Indium−Tin Oxide)から成る上下2層の透明電極により挟持した状態にガラス基板上に成膜されている。
ここで、WO薄膜の背面側電極(図中上方側)に負(−)、電解質の背面側電極(図中下方側)に正(+)の電圧を印加すると、電解質からWO膜へ正イオンM(Mは、例えばH,Li,Na等)が注入され、同時に図中上方側の作用極からは、電子eがWO薄膜に注入される結果、WOの主格子の空隙に元素Mが挿入され、タングステンブロンズと呼ばれる非化学量論的化合物MWOが形成される(0<x<1)。
これによって、MWOは、組成比xの値に応じて濃青色から黄金黄色を呈する。また、xの値が大きいときは金属的性質を呈し、xが小さいときは半導体ないし絶縁体の性質を示す。
この状態で、上記とは逆極性の電圧をEC素子に印加すると、正イオンMと電子eがタングステンブロンズから引き抜かれ、再び元のWO薄膜に戻り、無色の状態となる。
以上の可逆過程は次の反応式で表される。挿入された元素Mは、光学的にはカラーセンタ(着色中心)として機能し、電気的にはドナーとして機能する。
WO + xM + xe → MWO ・・・ (1)
上記のようなEC素子における着色現象は、ドナー元素が水素(H)の場合を例として説明すると、次の二つの過程によって生じる。
(1)電解質中のプロトン(H)が直接WO薄膜側にドリフトしていき、注入された電 子eと中和することにより、WOがMWOへと変化する。
(2)電解質中の正孔hがWO薄膜側に拡散して、WO薄膜と電解質との界面で水分 子(HO)を酸化させプロトン(H)を生成する。そして、このプロトン(H) がWO内に拡散して主格子内空隙に到達し、注入された電子eで中和することにより 、WOがMWOへと変化する。
この着色過程を律速する因子は、(1)のドリフトの場合には、電解質中のプロトン移動度であり、(2)の拡散の場合には、正孔hによる水分子の酸化反応速度とプロトン(H+)の拡散係数である。
しかし、(1)のドリフトによる反応は低速であり、また、(2)の拡散による反応も低速であるため、EC素子の応答速度は非常に低速である。
そこで、EC素子における応答性の改善を目的に、図9に示すように、WO膜と電解質の間に電荷を遮断するためのバリア層を設けることによりリーク電流を減少させ、もって上記式(1)の反応速度を向上させることが提案されている(特許文献1参照)。
国際公開第2006/101224号パンフレット
しかしながら、上記特許文献1に記載されているようなバリア層の効果は、EC素子の応答速度の向上を図ることはできるものの、素子内の電荷やイオンのバランスが崩れることによって、十分な耐久性が得られなかったりするため、自動車など耐久信頼性を厳しく要求される用途に対しては、実用化が難しいという問題があった。
本発明は、従来のEC素子における上記課題を解決するためになされたものであって、その目的とするところは、高速応答性と高耐久性を備えた調光素子と共に、このような調光素子の応用としての調光デバイス、例えば調光窓、防眩ミラー、非発光型表示装置などを提供することにある。
本発明者らは、上記課題の解決に向けて、EC素子におけるエレクトロクロミック材料の種類や積層構造などについて、鋭意検討した結果、種類の異なるエレクトロクロミック材料、すなわち電圧印加によって酸化される材料と還元される材料を電解質を挟んで対向させると共に、電解質とエレクトロクロミック材料の間に電荷バリア層を介在させることによって、上記目的が達成できることを見出し、本発明を完成するに到った。
本発明は上記知見に基づくものであって、本発明の調光素子は、2枚の導電膜の間に色変化膜と電解質膜を備え、電圧印加に応じて上記色変化膜の色調が可逆的に変化する調光素子において、電圧印加によって還元される材料から成る第1の膜と、酸化される材料から成る第2の膜が電解質膜を隔てて対向配置されており、第1の膜が電圧印加に応じて色調が可逆変化する色変化膜であると共に、これら第1及び第2の膜の少なくとも1つと電解質膜の間に電荷バリア層を有していることを特徴とする。
このとき、必要に応じて、上記第2の膜を電圧印加に応じて色調が可逆変化する色変化膜とすることもできる。
また、本発明の調光デバイスは、本発明の上記調光素子を備えたことを特徴としている。
本発明によれば、導電膜と色変化膜と電解質膜を備え、電圧印加に応じて上記色変化膜の色調が可逆的に変化する調光素子において、電圧印加によって酸化されて色変化する材料から成る第1の膜と、同方向の電圧印加によって還元される材料から成る第2の膜を電解質を挟んで対向させ、さらにこれら第1及び/又は第2の膜と電解質膜の間に電荷バリア層を設けることにより耐久性に優れ、高速応答が可能な調光素子を得ることができる。
以下、本発明の調光素子について、使用する材料や構造など、具体的な実施形態について詳細に説明する。
本発明の調光素子は、上記したように、電解質膜と、エレクトロクロミック材料から成る色変化膜と、電荷バリア層と、これらに電圧を印加するための導電膜を有しており、上記電解質膜の片側に一方向の電圧印加によって還元される材料から成る色変化膜(第1の膜)を備える一方、同方向の電圧印加によって酸化される材料から成る第2の膜を電解質膜の反対側に備え、これら第1の膜(色変化膜)及び第2の膜の少なくとも1つと上記電解質膜の間に電荷バリア層を備え、これらを導電膜によって挟持したものであって、電荷バリア層における第1の膜側界面や、第2の膜側界面に電荷が蓄積されることから、エレクトロクロミック反応の速度が向上すると共に、素子内の電荷やイオンのバランスをとることにより耐久性が向上し、素子の応答速度と共に耐久信頼性が改善されることになる。
なお、本発明において、「色変化」あるいは「変色」とは、ある色から他の色に変化することを意味することは言うまでもないが、これだけではなく、無色の状態からある色に変化する(着色)ことや、ある色から無色の状態に変化する(脱色)ことをも意味するものとする。言い換えれば、本発明においては、便宜的に無色透明も「色」の1種と見なしていることになる。
すなわち、本発明の調光素子において、色変化膜としては、酸化によって発色し還元によって脱色される酸化着色性材料や、還元によって発色し酸化によって脱色される還元着色性材料、さらには酸化及び還元によってそれぞれ異なった色に変化する双方向変色性材料を使用することができ、これらの組合せに応じて、種々の色調変化を生じさせることができる。
図1は、本発明の調光素子の代表的な実施形態を示すものであって、図に示す調光素子1は、酸化タンタル(Ta)から成る固体電解質膜2と、この電解質膜2を隔てて配置された還元着色性材料である酸化タングステン(WO)から成る第1の膜(色変化膜)3及び酸化着色性材料である酸化イリジウム(IrO)から成る第2の膜(色変化膜)4と、これら第1及び第2の膜3,4と固体電解質2の間にそれぞれ形成されたシリカ(SiO)から成る電荷バリア層5,5と、ITOから成る上下2枚の導電膜6及び7から成り、ガラス基板8の上に、図示した順序、すなわち導電膜7、第2の膜4、電荷バリア層5、電解質膜2、電荷バリア層5、第1の膜3、導電膜6の順に積層されている。
このような積層構造を有する調光素子1において、図中上方側の導電膜6に負(−)、下方側の導電膜7に正(+)の電圧を印加すると、電解質膜2から第1の色変化膜3へプロトン(H)が注入され、同時に導電膜6から電子eが第1の色変化膜3に注入される結果、第1の色変化膜3のWOがHWOに変化し、その結果第1の色変化膜3は、無色から青色に変色する。
一方、第2の色変化膜4から電解質膜2へプロトン(H)が放出され、同時に電子eが導電膜7に移行する結果、第2の色変化膜4のIr(OH)がIrO・HOに変化し、当該色変化膜4は、無色(透明)から青色に発色し、全体として無色から青色に変色する。
そして、導電膜6及び導電膜7に、上記とは逆の極性の電圧を印加すると、第1及び第2の色変化膜3,4がそれぞれ元のWO及びIr(OH)に戻り、青色から無色に変色する。
このとき、上記構造の調光素子1においては、第1及び第2の各色変化膜3,4と電解質膜2との間にそれぞれバリア層5を配置したことから、電荷がバリア層5の変化膜3や4の側の側接合界面に蓄積され、上記エレクトロクロミック反応が促進されることから、電圧印加時の変色に対する応答速度が向上すると共に、色変化膜として反応形態の異なる第1の色変化膜3と第2の色変化膜4を備えていることから、素子内の電荷やイオンのバランスをとることができ、素子の応答速度と共に耐久信頼性が改善されることになる。
本発明の調光素子1においては、電解質膜2と第1の色変化膜3及び第2の色変化膜4の両方の間に電荷バリア層5を設けることは必ずしも必要ではなく、図2及び図3に示すように、第1の色変化膜3及び第2の色変化膜4のいずれか一方と電解質膜2の間に形成するようにしてもよく、各種材料の発色性に応じて積層数を減じることができる。
また、本発明の調光素子1においては、電解質膜2の一方の側に電圧印加によって還元される材料から成る第1の膜3(色変化膜)を少なくとも1層備え、もう一方の側に、同方向の電圧印加によって酸化される材料から成る第2の膜4を少なくとも1層備えてさえいれば、それぞれの側に同種あるいは異種の色変化膜を複数層形成することもでき、各種エレクトロクロミック材料の組み合わせによって種々の色変化を発揮させることができる。
図4は、このような形態例として、IrOから成る第2の色変化膜4の側に、還元着色性材料WOから成るもう1層の色変化膜9を形成した例を示すものであって、このような構成を備えた調光素子1においては、図中上方側の導電膜6に負(−)、下方側の導電膜7に正(+)の電圧を印加すると、HWO及びIrOの形成によって青色に発色し、これとは逆の極性電圧の印加によって、WO及びIr(OH)の生成によって、無色に変色することになる。
さらに、本発明の調光素子1においては、例えば図5に示すように、第2の膜として、上記のような酸化着色性材料IrOに替えて、セリア(CeO)等から成る電荷貯蔵膜10を形成することもできる。セリアは、電圧の印加によって色を変えるエレクトロクロミック材料ではないが、同様に還元機能を有することから、上記同様の効果を備えた調光素子とすることができる。
図5に示した調光素子1においては、導電膜6に負(−)、導電膜7に正(+)の電圧を印加することによって、HWOの生成に基づく青色に発色すると共に、逆極性電圧の印加によって無色に変色する挙動を示す。
そして、本発明の調光素子1においては、色変化膜を構成するエレクトロクロミック材料として、上記したIrOのような酸化によって発色し還元によって脱色される酸化着色性材料及び、WOのような還元によって発色し酸化によって脱色される還元着色性材料の他に、酸化及び還元によってそれぞれ異なった色に変化する双方向変色性材料を使用することもできる。
すなわち、図6は、還元着色性材料であるWOと共に、このような双方向変色性材料であるInNを使用した形態例を示すものであって、図示するように、Taから成る固体電解質膜2の導電膜6の側には、WOから成る第1の色変化膜3が形成されると共に、上記電解質膜2の導電膜7の側には、IrNから成る第2の膜(色変化膜)11が配置されている。
図6に示した調光素子1においては、導電膜6に負(−)、導電膜7に正(+)の電圧を印加すると、上記同様に第1の色変化膜3が青色に発色し、第2の色変化膜11が灰色から黄色ないし褐色に変化し、これによって灰色から、緑色を帯びた青色に変色する。
一方、上記導電膜6及び7に、上とは逆の極性の電圧を印加すると、第1の色変化膜3及び第2の色変化膜11がそれぞれ元の無色及び灰色に戻り、全体として上記青色から灰色に変化する。
このとき、上記調光素子1においては、同様に第1及び第2の色変化膜3及び11と電解質膜2との間にそれぞれバリア層5が形成されており、色変化膜として第1及び第2の色変化膜3及び11を備えていることから、同様に調光素子1としての応答速度が向上すると共に、耐久信頼性が向上することになる。
本発明の調光素子において使用するエレクトロクロミック材料として、還元発色タイプ(還元着色性材料)としては、上記したWOの他には、MoO、Nb、TiO、プルシアンブルーなどを用いることができ、酸化発色タイプ(酸化着色性材料)としては、上記したIrOに代表されるIrOに加えて、NiO、CoOOH、ビオロゲン化合物などをもちいることができる。また、酸化・還元によって色変化するタイプ(双方向変色性材料)としては、V、Rh、ZrNCl、InN、SnNx、希土類ジフタロシアニン錯体などが挙げられるが、これらのみに限定されるものではない。
また、これら材料は自由に組み合せることができ、成膜方法としては、スパッタリング、蒸着、さらにゾル−ゲル法や印刷などによるウエットコーティングなどを適用することができ、特に限定されない。
そして、電荷貯蔵膜材料としては、例えば上記したCeOやCeOTiO等を用いることができるが、イオン又はイオン性の分子を蓄えることが可能な材料であれば、特に限定されるものではない。
また、本発明の調光素子に使用する電解質材料としては、上記のTaの他、例えばCrなどの酸化物、イオン伝導性の高いCaF、AgI、β−アルミナ、イオン導電性高分子やイオン導電性ゲルなどを使用することができる。
さらに、電荷バリア層を形成する材料としては、上記したSiO2のほか、LiO、LiN、NaO、KO、RbO、CsO、BeO、MgO、MgN、CaO、CaN、SrO、BaO、ScO、YO、YN、LaO、LaN、CeO、PrO、NdO、SmO、EuO、GdO、TbO、DyO、HoO、ErO、TmO、YbO、LuO、TiO、TiN、ZrO、ZrN、HfO、HfN、ThO、VO、VN、NbO、NbN、TaO、TaN、CrO、CrN、MoO、MoN、WO、WN、MoO、MnO、ReO、FeO、FeN、RuO、OsO、CoO、RhO、IrO、NiO、PdO、PtO、CuO、CuN、AgO、AuO、ZnO、CdO、HgO、BO、BN、AlO、AlN、GaO、GaN、InO、SiN、GeO、SnO、PbO、PO、PN、AsO、SbO、SeO、TeO、LiAlO、LiSiO、LiTiO、NaAl22x4、NaFeO、NaSiO、KSiO、KTiO、KWO、RbCrO、CsCrO、MgAl、MgFeO、MgTiO、CaTiO、CaWO、CaZrO、SrFe1219、SrTiO、SrZrO、BaAl、BaFe1219、BaTiO、YAl12、YFe12、LaFeO、LaFe12、LaTi、CeSnO、CeTiO、SmFe12、EuFeO、EuFe5O12、GdFeO、GdFe12、DyFeO、DyFe12、HoFeO、HoFeO12、ErFeO、ErFe12、TmFe12、LuFeO、LuFe12、NiTiO、AlTiO、FeTiO、BaZrO、LiZrO、MgZrO、HfTiO、NHVO、AgVO、LiVO、BaNb、NaNbO、SrNb、KTaO、NaTaO、SrTa、CuCr、AgCrO、BaCrO、KMoO、 NaMoO、NiMoO、BaWO、NaWO、SrWO、MnCr、MnFe、MiTiO、MnWO、CoFe、ZnFe、FeWO、CoMoO、CoTiO、CoWO、NiFe、NiWO、CuFe、CuMoO、CuTiO、CuWO、AgMoO、AgWO、ZnAl、ZnMoO、ZnWO、CdSnO、CdTiO、CdMoO、CdWO、NaAlO、MaAl、SrAl、GdGa12、InFeO、MgIn、AlTiO、FeTiO、MgTiO、NaSiO、CaSiO、ZrSiO、KGeO、LiGeO、NaGeO、BiSn、MgSnO、SrSnO、PbSiO、PbMoO、PbTiO、SnO−Sb、CuSeO、NaSeO、ZnSeO、KTeO、KTeO、NaTeO、NaTeO等の酸化金属化合物を使用することもできる。
なお、当該バリア層の膜厚は、バリアとして機能する膜厚の層を工業的に安定して形成する観点から、5nm以上であることが好ましい。
本発明の調光素子において、電極として使用される導電膜としては、透明部材として使用する場合には、ITO、ZnO、SnO、TiO、さらには、導電性高分子材料や、Au、Ag、Alなどの金属薄膜などといった透明導電性材料を挙げらることができ、ミラーのような非透明部材に使用する場合には、導電性を備えた材料である限り、特に限定されることはない。
また、本発明の調光素子は、一般に基材上に成膜されるが、このような基材には、ガラス、プラスチック、半導体基板、金属などを使用することができ、特に限定されない。
なお、エレクトロクロミック材料として上記したWOを使用する場合、印加電圧として、1.5V以下で駆動するのが一般的であるが、本発明で用いるバリア膜の膜厚を最適化することにより、駆動電圧を1.5V以上に調整することも可能となる。
例えば、自動車で使用する場合は12V、家庭用で使用する場合は100Vの電源が使用されることが多く、これに合わせた膜厚調整を行うことよって、インバーターなどによる電圧調整が必要なくなるメリットがある。
以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明する。なお、本発明は、これらの実施例によって何ら限定されるものではない。
(実施例1)
図1に示したように、シート抵抗が10Ω/□のITO薄膜(導電膜7)が成膜されたガラス基板8の上に、IrOから成る第2の膜4(色変化膜)、SiOから成る電荷バリア層5、Taから成る電解質膜2、SiOから成る電荷バリア層5、WOから成る第1の膜3(色変化膜)、及びITOから成る導電膜6がこの順序で積層された調光素子1を作製した。
なお、上記第2の色変化膜4は、RFスパッタリング法により、400℃の基板に対して、スパッタ雰囲気をOのみとし、投入電力50W、成膜中真空度5mTorrの条件の下に、30nm厚のIrO膜を形成した。
また、電荷バリア層5については、RFスパッタリング法により、室温の基板上に、スパッタ雰囲気を1:1のAr/O混合気体とし、投入電力50W、成膜中真空度15mTorrの条件の下に、それぞれ7nm厚のSiO膜を形成した。
さらに、電解質膜2については、EB蒸着法により、60℃以下の温度基板に対して、0.07nm/sの蒸着速度で、Ta膜を400nmの厚さに成膜した。
なお、酸化タンタルTaは誘電体であるが、膜中に微量に吸着している水分子から水素イオン(H)が生じることから、固体電解質として機能する。
そして、第1の色変化膜3は、RFスパッタリング法により、室温の基板に対して、スパッタ雰囲気を1:1のAr/O混合気体とし、投入電力50W、成膜中真空度15mTorrの条件の下に、WO膜を400nmの厚さに成膜した。
このようにして作製した調光素子1においては、図中上方の導電膜6が負、下方の導電膜7が正となる極性の電圧(3V)を印加すると、青色に発色する一方、上記とは逆の極性の電圧を印可することによって、無色に戻ることが確認された。
また、上記調光素子1の導電膜6に、上記のような3Vの負電圧を印可し、当該調光素子1に対するHe−Neレーザ光(波長:632.8nm)の透過光の強度変化を測定し、レーザ光の透過率が初期の値の70%まで低下する時間をもって、応答速度の指標とした。
この結果、この実施例により得られた調光素子1における70%低下時間は100msであった。
さらに、上記素子1に、プラスとマイナスの電圧を反転させて印加し、着色−消色を繰り返し、当該素子1が実質的に作動しなくなる回数(10万回以上)をカウントした結果、耐久寿命に優れていることが確認された。
(実施例2)
上記実施例1と同様の材料及び成膜条件によって、図2に示したように、ITO薄膜(導電膜7)が成膜されたガラス基板8の上に、IrOから成る第2の色変化膜4、Taから成る電解質膜2、SiOから成る電荷バリア層5、WOから成る第1の色変化膜3、及びITOから成る導電膜6がこの順序で積層された調光素子1を作製した。
そして、上記同様の条件によって、得られた調光素子1の応答速度及び耐久性能を調査した結果、70%低下時間は140ms、耐久性能は、上記実施例と同等であった。
(実施例3)
ITO薄膜(導電膜7)が成膜された実施例1と同様のガラス基板8の上に、WOから成る第1の色変化膜3、SiOから成る電荷バリア層5、Taから成る電解質膜2、SiOから成る電荷バリア層5、NiOから成る第2の色変化膜4、及びITOから成る導電膜6をこの順序で積層し、図7に示すような調光素子1を作製した。
当該実施例においては、RFスパッタリング法により、室温の基板に対して、スパッタ雰囲気をArのみとし、投入電力50W、成膜中真空度5mTorrの条件の下に、NiO膜を400nmの厚さに成膜して、酸化色変化膜4としたこと以外は、上記実施例1と同様の材料及び成膜条件を適用した。
このようにして作製した調光素子1においては、図中上方の導電膜6が正、下方の導電膜7が負となる極性の電圧(3V)の電圧を印加すると、青色ないしグレーに発色する(HWO及びNiOOHの生成による)一方、これとは逆の極性の電圧を印加することによって、無色に戻ることが確認された。
そして、得られた調光素子1について、上記同様の条件によって、応答速度及び耐久性能を調査した結果(繰り返し数10万回以上)、70%低下時間は300ms、耐久性能は、上記実施例1よりも劣るものの、後述する比較例よりも向上していた。
(比較例1)
上記実施例1と同様の材料及び成膜条件によって、図9に示したように、ITO薄膜が成膜されたガラス基板の上に、Taから成る電解質膜と、SiOから成る電荷バリア層と、WOから成る色変化膜と、ITOから成る導電膜とがこの順序で積層され、酸化色変化膜のない調光素子を作製した。
そして、上記同様の条件によって、得られた調光素子の応答速度及び耐久性能を調査した結果、70%低下時間が200msであると共に、耐久性能については、上記実施例1の耐久時間の半分にも満たない時間で、作動しなくなることが判明した。
(比較例2)
上記実施例1と同様の材料及び成膜条件によって、図8に示したように、ITO薄膜が成膜されたガラス基板の上に、Taから成る電解質膜と、WOから成る色変化膜と、ITOから成る導電膜がこの順序で積層され、電荷バリヤ層も酸化色変化膜もない調光素子を作製した。
そして、上記同様の条件によって、得られた調光素子の応答速度及び耐久性能を調査した結果、70%低下時間が1000msであって、耐久性能については、上記比較例1と同等であることが確認された。
以上のように、電荷バリヤ層と共に、電圧印加によって還元される材料から成る第1の色変化膜と、酸化される材料から成る第2の膜を備えた実施例の調光素子においては、耐久性能、応答性共に優れているのに対して、第1の色変化膜のみを備え第2の膜のない比較例1の調光素子においては、応答性にはさほど劣らないものの、耐久性において劣り、第1の色変化膜のみを備え、第2の変化膜も電荷バリア層も備えていない比較例2においては、耐久性能、応答性共に劣っていることが確認された。
本発明の調光素子の代表的実施形態を示す断面図である。 本発明の調光素子の第2の実施形態として電荷バリア層を電解質膜の一方側にのみ備えた例を示す断面図である。 本発明の調光素子の第3の実施形態として電荷バリア層を電解質膜の他方側にのみ備えた例を示す断面図である。 本発明の調光素子の第4の実施形態として複数層の色変化膜を備えた例を示す断面図である。 本発明の調光素子の第5の実施形態として第2の膜を電荷貯蔵膜に替えた例を示す断面図である。 本発明の調光素子の第6の実施形態として色変化膜として双方向変色材料を用いた例を示す断面図である。 本発明の調光素子の実施例3の積層構造を示す断面図である。 従来の調光素子の構造を示す断面図である。 従来技術として特許文献1に記載された調光素子の構造を示す断面図である。
符号の説明
1 調光素子
2 電解質膜
3 第1の膜(色変化膜)
4 第2の膜(色変化膜)
5 電荷バリア層
6,7 導電膜
10 第2の膜(電荷貯蔵膜)
11 第2の膜(色変化膜)

Claims (3)

  1. 2枚の導電膜の間に色変化膜と電解質膜を備え、電圧印加に応じて上記色変化膜の色調が可逆的に変化する調光素子において、電圧印加によって還元される材料から成る第1の膜と、酸化される材料から成る第2の膜が電解質膜を隔てて対向配置され、上記第1の膜が色変化膜であると共に、これら第1及び第2の膜の少なくとも1つと上記電解質膜の間に電荷バリア層を有していることを特徴とする調光素子。
  2. 上記第2の膜が電圧印加に応じて色調が可逆変化する色変化膜であることを特徴とする請求項1に記載の調光素子。
  3. 請求項1又は2に記載の調光素子を備えたことを特徴とする調光デバイス。
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