JP2008203555A

JP2008203555A - 露光ビーム照射装置

Info

Publication number: JP2008203555A
Application number: JP2007039913A
Authority: JP
Inventors: Yasuyuki Ozawa; 靖之小沢
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 2007-02-20
Filing date: 2007-02-20
Publication date: 2008-09-04

Abstract

【課題】ピットの相対位置の精度を低下させることなくピットの絶対位置の精度を向上させることができる露光ビーム照射装置を提供する。
【解決手段】回転体１３の所定の回転角ごとに検出される位相誤差から回転体１３の任意の回転数にわたる位相誤差の平均値が差し引かれる。こうして算出される非定常誤差は回転体１３の回転に非同期の誤差に相当する。非定常誤差に基づき偏向器２４の動作は制御される。露光ビームの偏向方向は微調整される。その結果、ピットの相対位置精度の低減は回避される。その一方で、前述の位相誤差の平均値に基づき第２定常誤差が算出される。第２定常誤差は、スケール誤差を除去した真の定常誤差に相当する。第２定常誤差に基づきブランカ２３の動作は制御される。回転体１３上に正確なタイミングで露光ビームが照射される。その結果、ピット形成領域の絶対位置の精度は向上する。
【選択図】図２

Description

本発明は、例えば光ディスクやハードディスクといった記憶媒体の原盤の製造にあたって利用される露光ビーム照射装置に関する。

特許文献１および特許文献２に開示されるように回転ステージを有するいわゆるＸθ型の電子露光ビーム照射装置は広く知られる。この電子露光ビーム照射装置は例えばハードディスクの原盤の製造にあたって利用される。原盤には、ハードディスクのサーボセクタ領域に対応する複数筋のピット形成領域が形成される。ピット形成領域は原盤の中心から所定の円弧に沿って放射状に延びる。ピット形成領域では原盤の半径方向に複数のピットが配列される。ピット同士は相互に高い位置精度で隣接する。

一般に、電子露光ビーム照射装置は偏向器に基づき電子ビームの照射位置を調整することができる。照射位置の調整にあたって目標の照射位置が正確に計測される必要がある。Ｘθ型の電子露光ビーム照射装置では、スピンドルモータのターンテーブルの形状誤差やエンコーダのスケール誤差に起因して回転ステージの回転ムラや回転軸ぶれが正確に計測されないといった問題があった。

特許文献１では、回転ステージすなわちスピンドルモータの回転ムラに基づく原盤の回転角度誤差が特定される。角度誤差は所定の回転周期にわたって平均化される。平均化された角度誤差は、一定の角度ごとに特定される角度誤差から差し引かれる。こうして算出される角度誤差に基づき偏向器の動作は制御される。その結果、原盤上で径方向にピット同士の位置すなわち相対位置は高い精度で特定される。

特許文献２では、例えばスピンドルモータのターンテーブルの形状誤差が特定される。特定された形状誤差は、スピンドルモータの回転軸ぶれに基づき特定される軸変位の誤差から差し引かれる。こうして算出された誤差に基づき偏向器の動作が制御される。その結果、原盤上で周方向にピット列の位置すなわち絶対位置は高い精度で特定される。こうした考え方は回転ムラに基づく回転角度誤差の特定にも適用されることができる。

その一方で、一般に、電子露光ビーム照射装置は電子ビームのビーム電流を変化させることができない。その結果、電子ビームの照射対象の原盤を移動させるステージの移動速度は一定に設定されなければならない。Ｘθ型の電子露光ビーム照射装置では、回転ステージの回転数は電子ビームの照射スポットの半径位置に応じて変更されなければならない。例えば特許文献３には、高精度な周波数シンセサイザ技術として知られるＤＤＳ（Direct Digital Synthesizer）回路技術が開示される。
特開２０００−２０９６４号公報特開２００３−３０３４５０号公報特開２００６−１１９４８４号公報

特許文献１ではスピンドルモータの回転に非同期な成分を抽出した誤差に基づき偏向器の動作が制御される。当該誤差に基づき制御される偏向器の動作量は小さい。しかも、スピンドルモータの回転に同期する定常誤差は特定されることができない。絶対位置の精度は改善されない。その一方で、特許文献２では同期成分を加味した誤差に基づき偏向器の動作が制御される。当該誤差に基づき制御される偏向器の動作量は著しく大きい。例えばこうした２つの誤差に基づく制御は演算処理の複雑化を招く。

しかも、偏向器の動作量の増大は電子ビームのスポットの位置精度を低下させる。特に、回転ムラの絶対量は回転軸ぶれに比べて大きく、特許文献３で採用される考え方が回転ムラの補正に採用されても十分な精度が確保されない。その結果、絶対位置の精度が追求されると、相対位置の精度が悪化してしまう。

本発明は、上記実状に鑑みてなされたもので、ピットの相対位置の精度を低下させることなくピットの絶対位置の精度を向上させることができる露光ビーム照射装置を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明によれば、所定の回転軸回りで回転体を回転させる駆動モータと、所定の第１クロック信号に応じて任意の回転速度で駆動モータを動作させるモータ制御回路と、駆動モータに関連付けられて、駆動モータの駆動軸の回転角度位置に基づきエンコーダ信号を出力するエンコーダと、回転体に向かって露光ビームを照射する照射源と、露光ビームの偏向方向を調整する偏向器と、回転体の所定の回転角度ごとに第１クロック信号およびエンコーダ信号の位相誤差を検出する位相誤差検出回路と、位相誤差を平均化して回転体の回転角度位置に依存する定常回転ムラを検出する第１定常誤差検出回路と、位相誤差から定常回転ムラを差し引いて非定常回転ムラを算出し、算出した非定常回転ムラを偏向器に出力する非定常誤差検出回路と、露光ビームの遮蔽に基づき露光ビームの照射と非照射とを切り替えるブランカと、所定の第２クロック信号に応じてブランカを制御するブランカ制御回路と、定常回転ムラから予め算出しておいたエンコーダのスケール誤差を差し引いて真の定常回転ムラを算出して、算出した真の定常回転ムラをブランカ制御回路に出力する第２定常誤差検出回路とを備えることを特徴とする露光ビーム照射装置が提供される。

こういった露光ビーム照射装置では、回転体の所定の回転角度ごとに検出される位相誤差から回転体の位相誤差の平均値すなわち定常回転ムラが差し引かれる。こうして非定常回転ムラが算出される。この非定常回転ムラに基づき偏向器の動作は制御される。露光ビームの偏向方向が微調整される。その結果、隣接ピットとの相対位置に関して対応する規定の位置に正確に露光ビームのスポットが位置決めされる。ピットの相対位置の精度低下は回避される。

その一方で、回転体の位相誤差の平均値すなわち定常回転ムラにはエンコーダのスケール誤差が含まれる。定常回転ムラからスケール誤差が差し引かれると、真の定常回転ムラが算出される。この真の定常回転ムラはブランカ制御回路に出力される。ブランカ制御回路はブランカの動作を制御する。露光ビームの照射のタイミングを回転ムラに同期させることができる。その結果、露光ビームは正確なタイミングで回転体上に照射されることができる。ピット列の絶対位置の精度は向上することができる。

こういった露光ビーム照射装置は、第１および第２クロック信号の周波数の変更を制御するクロック制御回路と、第１クロック信号に基づき、位相誤差に基づき算出される回転ムラのない場合の第１クロック信号の周波数、および、回転ムラに応じて修正すべき第１クロック信号の周波数の比率を算出してクロック制御回路に出力する演算回路とを備えてもよい。こうした露光ビーム照射装置では、算出された第１クロック信号の周波数に、演算回路から入力される周波数比が掛け合わせられると、簡単に修正すべき第１クロック信号の周波数が算出される。演算処理の負担は著しく軽減される。

以上のような露光ビーム照射装置は、演算回路に接続されて、所定のカットオフ周波数を有するローパスフィルタをさらに備えてもよい。カットオフ周波数は例えば回転体の回転数の１０倍程度以下に設定されればよい。

以上のように本発明によれば、ピットの相対位置の精度を低下させることなくピットの絶対位置の精度を向上させることができる露光ビーム照射装置が提供される。

以下、添付図面を参照しつつ本発明の一実施形態を説明する。

図１は本発明に係る露光ビーム照射装置１１の構造を概略的に示す。この露光ビーム照射装置１１は真空チャンバ１２を備える。真空チャンバ１２内は真空状態に保たれる。真空チャンバ１２内には円盤状の回転体すなわち原盤１３が配置される。原盤１３は例えばＳｉから形成される。後述されるように、原盤１３の表面にはレジスト膜が塗布される。原盤１３は駆動モータすなわちスピンドルモータ１４に装着される。スピンドルモータ１４は例えば水平面に直交する垂直軸回りで原盤１３を回転させる。原盤１３の表面および裏面は例えば水平面に沿って広がる。

スピンドルモータ１４はステージ１５に支持される。ステージ１５にはボールねじ１６を介して駆動モータすなわち直動モータ１７が連結される。直動モータ１７はボールねじ１６を回転させる。ボールねじ１６の回転に基づきステージ１５は水平面に沿って原盤１３の半径方向に直線移動することができる。ステージ１５にはレーザ測長器１８が関連付けられる。レーザ測長器１８は、ステージ１５上の反射ミラー１９で反射するレーザに基づきレーザ測長器１８および反射ミラー１９の距離を特定する。こうしてステージ１５の位置が特定される。

真空チャンバ１２上には電子ビーム鏡筒２１が連結される。電子ビーム鏡筒２１には照射源すなわち電子銃２２が取り付けられる。電子銃２２は原盤１３上の所定のスポットに露光ビームすなわち電子ビームを照射する。電子ビーム鏡筒２１内には電子銃２２および原盤１３の間でブランカ２３および偏向器２４が配置される。ブランカ２３は電子ビームの遮蔽に基づき電子ビームの照射と非照射とを切り替える。偏向器２４は電子ビームの偏向方向を調整する。電子ビームのスポット位置は調整される。電子ビームは、原盤１３の表面に形成されるレジスト膜を露光する。こうして露光ビーム照射装置１１は、スピンドルモータ１４に装着される原盤１３の加工にあたって用いられる。

図２に示されるように、露光ビーム照射装置１１は第１ＤＤＳ（ダイレクトデジタルシンセサイザ）３２ａおよび第２ＤＤＳ３２ｂを備える。第１ＤＤＳ３２ａは、共通クロック３３から出力される基準クロック信号に基づき所定の周波数の第１クロック信号すなわちスピンドルクロック信号を生成する。第１ＤＤＳ３２ａは第１周波数レジスタ３６ａに接続される。第１周波数レジスタ３６ａは所定のタイミングで第１ＤＤＳ３２ａに周波数データを入力する。第１ＤＤＳ３２ａでは周波数データに基づきスピンドルクロック信号の周波数が設定される。

その一方で、第２ＤＤＳ３２ｂは、共通クロック３３から出力される基準クロック信号に基づき所定の周波数の第２クロック信号すなわちライトクロック信号を生成する。第２ＤＤＳ３２ｂは第２周波数レジスタ３６ｂに接続される。第２周波数レジスタ３６ｂは所定のタイミングで第２ＤＤＳ３２ｂに周波数データを入力する。第２ＤＤＳ３２ｂでは周波数データに基づきライトクロック信号の周波数が設定される。周波数データはデジタルデータから構成される。

第１ＤＤＳ３２ａおよび第２ＤＤＳ３２ｂはクロック制御回路すなわち制御プロセッサ３７に接続される。制御プロセッサ３７は所定の描画条件から目標周波数を算出する。制御プロセッサ３７は後述の周波数比に基づき周波数データを生成する。生成された周波数データは第１周波数レジスタ３６ａおよび第２周波数レジスタ３６ｂに出力される。周波数比データはデジタルデータから構成される。

ライトクロック信号は第２ＤＤＳ３２ｂからパターンジェネレータ３４に供給される。パターンジェネレータ３４はライトクロック信号に基づきブランカ２３に駆動信号を供給する。駆動信号に基づきブランカ２３は電子ビームの照射と非照射とを切り替える。

スピンドルクロック信号はモータ制御回路すなわち回転制御回路４１に供給される。スピンドルクロック信号に基づき回転制御回路４１はスピンドルモータ１４に駆動信号を出力する。駆動信号に基づきスピンドルモータ１４の駆動は制御される。こうしてスピンドルモータ１４は所定の回転速度で回転する。スピンドルクロック信号の周波数が増大すると、スピンドルモータ１４の回転速度は増大する。反対に、スピンドルクロック信号の周波数が減少すると、スピンドルモータ１４の回転速度は減少する。

回転制御回路４１にはエンコーダ４２が接続される。エンコーダ４２は、スピンドルモータ１４の駆動軸１４ａに取り付けられる例えば円盤状の回転板４３を備える。回転板４３にはＰＤ（フォトダイオード）４４が連結される。ＰＤ４４は、回転板４３に形成される放射状のスリット（図示されず）に基づき駆動軸１４ａの回転角度位置を検出する。回転角度位置を特定するエンコーダ信号は回転制御回路４１に出力される。回転制御回路４１はスピンドルモータ１４の回転速度の制御に基づきスピンドルクロック信号の位相およびエンコーダ信号の位相を一致させる。こうして回転制御回路４１ではいわゆるフィードバック制御が実現される。

スピンドルクロック信号およびエンコーダ信号は位相誤差検出回路すなわち位相比較器４５に出力される。位相比較器４５はエンコーダ信号およびスピンドルクロック信号の位相誤差を検出する。検出は例えば原盤１３の所定の回転角度ごとに実行される。回転角度は例えば数十分の１〜数千分の１程度に設定される。位相比較器４５には第１定常誤差検出回路４６、非定常誤差検出回路すなわち第１減算器４７およびスケール誤差計測回路４８が接続される。第１定常誤差検出回路４６では、原盤１３の任意の回転数にわたる位相誤差の平均値すなわち第１定常誤差が検出される。第１減算器４７では、位相誤差から第１定常誤差が差し引かれて非定常誤差が算出される。第１減算器４７は偏向器２４に接続される。

その一方で、スケール誤差計測回路４８は位相誤差に基づきエンコーダ４２のスケール誤差を予め算出する。エンコーダ４２のスケール誤差は、例えば回転板４３に形成されるスリットの角度ムラや、駆動軸１４ａに対する回転板４３の偏心に基づき生成される。こうしたスケール誤差は例えばマルチヘッド法や等分割平均法といった周知の方法に基づき予め算出される。スケール誤差計測回路４８は第２定常誤差検出回路すなわち第２減算器４９に接続される。第２減算器４９では第１定常誤差およびスケール誤差に基づき真の定常誤差すなわち第２定常誤差を算出する。

第２減算器４９には演算回路５１が接続される。演算回路５１には周波数測定回路５２が接続される。周波数測定回路５２は、第１ＤＤＳ３２ａから出力されるスピンドルクロック信号の周波数が測定される。演算回路５１では、周波数測定回路５２で測定されたスピンドルクロック信号の現在の周波数に基づき、第２定常誤差に基づき算出された回転ムラのない場合のスピンドルモータ１４の回転数と、回転ムラを生じている実際のスピンドルモータ１４の回転数との周波数比を算出する。この周波数比は、回転ムラのない場合のライトクロック信号の周波数と、回転ムラに応じて修正すべきライトクロック信号の周波数との周波数比に一致する。

算出された周波数比はローパスフィルタ５３に出力される。ローパスフィルタ５３はデジタルフィルタで構成される。周波数比はデジタルデータから構成される。ローパスフィルタ５３では所定のカットオフ周波数が設定される。カットオフ周波数は例えば原盤１３の回転数の１０倍以下に設定されればよい。ローパスフィルタ５３は前述の制御プロセッサ３７に接続される。ローパスフィルタ５３を通過した周波数比は制御プロセッサ３７に出力される。制御プロセッサ３７は第２周波数レジスタ３６ｂに基づきライトクロック信号の周波数を補正する。

ここで、第１ＤＤＳ３２ａ、第２ＤＤＳ３２ｂ、共通クロック３３、パターンジェネレータ３４、第１周波数レジスタ３６ａ、第２周波数レジスタ３６ｂおよび制御プロセッサ３７は露光ビーム照射装置１１のブランカ制御回路すなわちフォーマッタを構成する。その一方で、第１定常誤差検出回路４６、第１減算器４７、第２減算器４９、スケール誤差計測回路４８、演算回路５１およびローパスフィルタ５３は偏向器２４の制御プロセッサを構成する。前述されるように、演算回路５１および制御プロセッサ３７の間ではデジタルデータがやり取りされる。

なお、フォーマッタには第３ＤＤＳ（図示されず）が組み込まれる。第３ＤＤＳは第３クロック信号すなわちステージクロック信号を生成する。ステージクロック信号は直動制御回路５４に入力される。直動制御回路５４は直動モータ１７およびレーザ測長器１８に接続される。直動制御回路５４には、レーザ測長器１８からレーザ測長器１８および反射ミラー１９の距離を特定する距離信号が出力される。直動制御回路５４は、ステージクロック信号および距離信号に基づき直動モータ１７に駆動信号を出力する。駆動信号に基づき直動モータ１７の駆動は制御される。その結果、ステージ１５は原盤１３の半径方向に移動する。

図３は磁気ディスク６１の構造を概略的に示す。磁気ディスク６１の表裏面には磁気ディスク６１の周方向に沿って複数筋の記録トラック６２、６２…が延びる。記録トラック６２は同心円状に形成される。磁気ディスク６１の表裏面には磁気ディスク６１の半径方向に沿って湾曲しつつ延びる複数筋のサーボセクタ領域６３が規定される。サーボセクタ領域６３の湾曲はハードディスク駆動装置（ＨＤＤ）の浮上ヘッドスライダの移動経路に基づき設定される。隣接するサーボセクタ領域６３の間にはデータ領域６４が確保される。データ領域６４内で記録トラック６２に磁気情報すなわち２値情報は書き込まれる。図４に示されるように、各サーボセクタ領域６３には複数筋のサーボパターン６５が確立される。サーボパターン６５は磁気ディスク６１の半径線上で延びる。

図５は原盤１３の構造を概略的に示す。原盤１３は磁気ディスク６１の製造にあたって利用される。原盤１３には、磁気ディスク６１の記録トラック６２に対応するトラック７２が規定される。同様に、原盤１３には磁気ディスク６１のサーボセクタ領域６３に対応するピット形成領域７３が確立される。ピット形成領域７３は原盤１３の半径線上で延びる。原盤１３が磁気ディスク６１に重ね合わせられると、ピット形成領域７３はサーボセクタ領域６３に一致する。図６に示されるように、各ピット形成領域７３ではサーボパターン６５に対応するピット７４が配列される。各ピット７４はトラック７２上で所定の間隔で配置される。隣接するトラック７２同士の間でピット７４同士は隣接する。

次に、原盤１３の製造方法を簡単に説明する。まず、スピンドルモータ１４の駆動軸１４ａには原盤１３が装着される。原盤１３の表面にはレジスト膜が一様な膜厚で塗布される。第１ＤＤＳ３２ａは共通クロック３３に基づきスピンドルクロック信号を生成する。第２ＤＤＳ３２ｂは共通クロック３３に基づきライトクロック信号を生成する。共通クロック３３の働きでスピンドルクロック信号およびライトクロック信号は同期化される。スピンドルクロック信号およびライトクロック信号の周波数比は所定の周波数比に設定される。

スピンドルクロック信号は回転制御回路４１に出力される。回転制御回路４１は駆動信号に基づき原盤１３を所定の回転速度で回転させる。エンコーダ４２からエンコーダ信号が出力される。スピンドルクロック信号およびエンコーダ信号に基づき回転制御回路４１はフィードバック制御を実施する。

その一方で、ライトクロック信号はパターンジェネレータ３４に出力される。パターンジェネレータ３４ではライトクロック信号に基づきブランカ２３に駆動信号を供給する。ブランカ２３は駆動信号に基づき電子ビームの照射と非照射とを切り替える。電子ビームのビーム電流は一定に設定される。ステージ１５の移動に応じてスピンドルモータ１４の回転数は調整される。その結果、原盤１３に照射される単位面積あたりの電子ビームのビームエネルギは一定に保たれる。

電子ビームは原盤１３上の所定のスポットに照射される。原盤１３の回転に基づきスポットはトラック７２上を辿る。電子ビームの照射および非照射の切り替えに基づき所定のタイミングでピット７４の位置でレジスト膜の露光が実施される。ステージ１５の移動に基づきスポットは隣接するトラック７２に移動する。こうして例えば内周側のトラック７２から外周側のトラック７２に向かってレジスト膜の露光が実施される。

位相比較器４５はスピンドルクロック信号およびエンコーダ信号の位相誤差を検出する。検出は例えば原盤１３の所定の回転角度ごとに実施される。位相誤差は第１定常誤差検出回路４６、第１減算器４７およびスケール誤差計測回路４８に出力される。第１定常誤差検出回路４６では所定の回転数にわたる位相誤差の平均値すなわち第１定常誤差が算出される。第１定常誤差は第１減算器４７および第２減算器４９に出力される。第１減算器４７では位相誤差から第２定常誤差が差し引かれる。こうして非定常誤差が算出される。偏向器２４には非定常誤差が出力される。非定常誤差に基づき偏向器２４では電子ビームの偏向方向が調整される。

スケール誤差計測回路４８では位相誤差に基づきエンコーダ４２のスケール誤差が予め算出される。スケール誤差は第２減算器４９に出力される。第２減算器４９では第１定常誤差からスケール誤差が差し引かれる。こうして真の定常誤差すなわち第２定常誤差が算出される。第２定常誤差は演算回路５１に出力される。演算回路５１では第２定常誤差と、周波数測定回路５２で測定されたスピンドルクロック信号の周波数とに基づき、回転ムラのない場合のライトクロック信号の周波数と、回転ムラに応じて修正すべきライトクロック信号の周波数との周波数比を特定する。周波数比はローパスフィルタ５３に出力される。ローパスフィルタ５３を通過した周波数比は制御プロセッサ３７に出力される。

制御プロセッサ３７では周波数比に基づき補正後の周波数を特定する周波数データを生成する。生成にあたって回転ムラを考慮しない周波数に周波数比が掛け合わせられる。こうして生成された周波数データは第２周波数レジスタ３６ｂに出力される。第２周波数レジスタ３６ｂは第２ＤＤＳ３２ｂに所定のタイミングで周波数データを入力する。ライトクロック信号の周波数は補正後の周波数に変更される。変更されたライトクロック信号はパターンジェネレータ３４に出力される。当該ライトクロック信号に基づきパターンジェネレータ３４はブランカ２３に所定の駆動信号を出力する。駆動信号に基づきブランカ２３の動作は制御される。

同様に、制御プロセッサ３７ではスピンドルクロック信号の周波数データを生成する。生成された周波数データは第１周波数レジスタ３６ａに出力される。第１周波数レジスタ３６ａは第１ＤＤＳ３２ａに所定のタイミングで周波数データを入力する。スピンドルクロック信号の周波数は補正後の周波数に変更される。変更されたスピンドルクロック信号は回転制御回路４１および周波数測定回路５２に出力される。原盤１３の回転中、非定常誤差および第２定常誤差の検出は常時実施される。こうして原盤１３上でレジスト膜は所定のパターンで露光される。

その後、原盤１３は露光ビーム照射装置１１から取り外される。原盤１３には現像処理が施される。残存するレジスト膜の外側で原盤１３の表面にエッチング処理が施される。エッチング処理後、原盤１３上には等間隔でピット形成領域７３が形成される。ピット形成領域７３でピット７４が配列される。例えばピット７４の外側で原盤１３の表面に例えば磁性体が形成される。こうして原盤１３が製造される。製造された原盤１３は磁気ディスク６１の製造にあたって用いられる。

一般に、露光ビーム照射装置１１ではスピンドルモータ１４に回転ムラが生じてしまう。さらにエンコーダ３７の回転板４３にはスケール誤差が生じる。エンコーダ信号は回転ムラおよびスケール誤差の影響を反映する。位相比較器４５で検出される位相誤差は回転ムラおよびスケール誤差を反映する。第１減算器４７では、当該位相誤差から第１定常誤差が差し引かれる。こうして非定常誤差が算出される。非定常誤差は回転に非同期の誤差に相当する。この非定常誤差に基づき偏向器２４の偏向方向が微調整される。その結果、ピット７４に対応する規定の位置に正確に電子ビームのスポットが位置決めされる。電子ビームは原盤１３上の規定の位置に高い精度で照射される。ピット形成領域７３内でピット７４の相対位置の精度の低減は回避される。

その一方で、第２減算器４９では第１定常誤差からスケール誤差が差し引かれる。こうして算出される第２定常誤差は真の定常誤差に相当する。この第２定常誤差に基づき、回転ムラのない場合のスピンドルモータ１４の回転数と、回転ムラを生じている実際のスピンドルモータ１４の回転数との周波数比が算出される。フォーマッタでは周波数比に基づき回転ムラのない場合のライトクロック信号の周波数から回転ムラのある場合の周波数に補正される。原盤１３上に正確なタイミングで電子ビームが照射される。その結果、ピット形成領域７３に対応する規定の位置に正確にスポットが位置決めされる。電子ビームは原盤１３上の規定の位置に高い精度で照射される。原盤１３上でピット形成領域７３の絶対位置の精度は向上する。

本発明の一具体例に係る露光ビーム照射装置の構造を概略的に示す図である。本発明に係る露光ビーム照射装置の構造を概略的に示すブロック図である。磁気ディスクの構造を概略的に示す平面図である。サーボセクタ領域の構造を概略的に示す磁気ディスクの部分拡大平面図である。原盤の構造を概略的に示す平面図である。ピット形成領域の構造を概略的に示す磁気ディスクの部分拡大平面図である。

符号の説明

１１露光ビーム照射装置、１３回転体（原盤）、１４駆動モータ（スピンドルモータ）、１４ａ駆動軸、２２照射源（電子銃）、２３ブランカ、２４偏向器、３４パターンジェネレータ、３７クロック制御回路（制御プロセッサ）、４１モータ制御回路（回転制御回路）、４２エンコーダ、４５位相誤差検出回路（位相比較器）、４６第１定常誤差検出回路、４７非定常誤差検出回路（第１減算器）、４９第２定常誤差検出回路（第２減算器）、５１演算回路、５３ローパスフィルタ。

Claims

所定の回転軸回りで回転体を回転させる駆動モータと、所定の第１クロック信号に応じて任意の回転速度で駆動モータを動作させるモータ制御回路と、駆動モータに関連付けられて、駆動モータの駆動軸の回転角度位置に基づきエンコーダ信号を出力するエンコーダと、回転体に向かって露光ビームを照射する照射源と、露光ビームの偏向方向を調整する偏向器と、回転体の所定の回転角度ごとに第１クロック信号およびエンコーダ信号の位相誤差を検出する位相誤差検出回路と、位相誤差を平均化して回転体の回転角度位置に依存する定常回転ムラを検出する第１定常誤差検出回路と、位相誤差から定常回転ムラを差し引いて非定常回転ムラを算出し、算出した非定常回転ムラを偏向器に出力する非定常誤差検出回路と、露光ビームの遮蔽に基づき露光ビームの照射と非照射とを切り替えるブランカと、所定の第２クロック信号に応じてブランカを制御するブランカ制御回路と、定常回転ムラから予め算出しておいたエンコーダのスケール誤差を差し引いて真の定常回転ムラを算出して、算出した真の定常回転ムラをブランカ制御回路に出力する第２定常誤差検出回路とを備えることを特徴とする露光ビーム照射装置。
請求項１に記載の露光ビーム照射装置において、前記第１および第２クロック信号の周波数の変更を制御するクロック制御回路と、前記第１クロック周波数に基づき、前記位相誤差に基づき算出される回転ムラのない場合の第１クロック信号の周波数、および、回転ムラに応じて修正すべき第１クロック信号の周波数の比率を算出してクロック制御回路に出力する演算回路とを備えることを特徴とする露光ビーム照射装置。
請求項２に記載の露光ビーム照射装置において、前記演算回路に接続されて、所定のカットオフ周波数を有するローパスフィルタをさらに備えることを特徴とする露光ビーム照射装置。