JP2008186881A - Solid electrolytic capacitor - Google Patents

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JP2008186881A JP2007017399A JP2007017399A JP2008186881A JP 2008186881 A JP2008186881 A JP 2008186881A JP 2007017399 A JP2007017399 A JP 2007017399A JP 2007017399 A JP2007017399 A JP 2007017399A JP 2008186881 A JP2008186881 A JP 2008186881A
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ion
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Tomoyuki Nunome
智之 布目
Mikio Yamazaki
幹夫 山崎
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Japan Carlit Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a solid electrolytic capacitor exhibiting excellent impedance characteristics, electrostatic capacitance and thermal durability among solid electrolytic capacitors using a conductive polymer layer as a solid electrolyte layer. <P>SOLUTION: The solid electrolytic capacitor includes the solid electrolyte layer on a dielectric oxide coat provided on a coat-formed metallic surface. The solid electrolyte layer has at least a conductive polymer layer (A) formed by chemical oxidative polymerization and a conductive polymer layer (B) formed by electrolytic polymerization using the layer (A) as an anode. The layer (B) contains anthraquinone-2-sulfonic acid as a dopant. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、導電性高分子層を固体電解質層として使用する固体電解コンデンサに関する。   The present invention relates to a solid electrolytic capacitor using a conductive polymer layer as a solid electrolyte layer.

近年、電気機器のデジタル化、パーソナルコンピュータの高速化に伴い、これらに使用されるコンデンサは小型大容量であること、高周波領域において低インピーダンスを示すこと、熱耐久性に優れること等が要求されている。
この様な要求に対応すべく、従来の電解液を使用した電解液型コンデンサとは異なり、正孔伝導性を有する導電性高分子層を固体電解質層とした固体電解コンデンサが開発されている。
かかる固体電解コンデンサは、液状電解質に比べ非常に高い導電率を有する導電性高分子層により陽極体内部の細孔内表面を覆うことができるため、小型大容量化を達成でき、高周波領域において低インピーダンスを発揮することから近年ではその使用量が大きく伸びるに至っている。
また前記固体電解コンデンサの性能は前記導電性高分子層に大きく依存するため、前記導電性高分子層に使用される導電性高分子の開発は重要な課題の一つである。
この様な導電性高分子は、例えば化学酸化重合や電解重合により得ることができるが、前記導電性高分子を前記固体電解コンデンサ用途に実際に適用するには解決しなければならない問題があった。
具体的には、前記導電性高分子を化学酸化重合により誘電体酸化被膜上に形成した場合には前記誘電体酸化被膜上に強度の高い導電性高分子層を形成することができない。
また、前記導電性高分子を電解重合により前記誘電体酸化被膜上に形成しようとしても前記誘電体酸化被膜がそもそも電気絶縁体であるが故に電流を流すことができず、結果として電解重合によっては前記誘電体酸化被膜上に導電性高分子層を形成することができないとの問題があった。
In recent years, with the digitization of electrical equipment and the speeding up of personal computers, capacitors used in these devices are required to be small and large capacity, to exhibit low impedance in a high frequency range, and to have excellent heat durability. Yes.
In order to meet such demands, solid electrolytic capacitors using a conductive polymer layer having hole conductivity as a solid electrolyte layer have been developed, unlike an electrolytic type capacitor using a conventional electrolytic solution.
Such a solid electrolytic capacitor can cover the inner surface of the pore inside the anode body with a conductive polymer layer having a very high conductivity compared to the liquid electrolyte. In recent years, the amount of its use has greatly increased since it exhibits impedance.
In addition, since the performance of the solid electrolytic capacitor greatly depends on the conductive polymer layer, the development of the conductive polymer used for the conductive polymer layer is one of important issues.
Such a conductive polymer can be obtained by, for example, chemical oxidative polymerization or electrolytic polymerization, but there is a problem that must be solved in order to actually apply the conductive polymer to the solid electrolytic capacitor application. .
Specifically, when the conductive polymer is formed on the dielectric oxide film by chemical oxidative polymerization, a conductive polymer layer having high strength cannot be formed on the dielectric oxide film.
In addition, even if the conductive polymer is formed on the dielectric oxide film by electrolytic polymerization, current cannot flow because the dielectric oxide film is an electrical insulator in the first place. There is a problem that a conductive polymer layer cannot be formed on the dielectric oxide film.

この問題を統合的に解決する手段として、誘電体酸化被膜上に化学酸化重合により導電性高分子層を形成し、更にこの導電性高分子層の上に電解重合により導電性高分子層を積層した、二重の導電性高分子層を固体電解質として用いる固体電解コンデンサが提案されている。
この提案によれば、最初に形成された化学酸化重合による導電性高分子層は電流を通すことができるため電解重合も実施可能となり、全体として強度の高い導電性高分子層を形成することができる。
そしてこの結果、静電容量が大きく、電気特性、温度特性に優れる固体電解コンデンサを提供することができるとされる(特許文献1)。
一方、誘電体酸化被膜上に硝酸マンガン水溶液を接触させ、250℃の加熱分解により熱分解二酸化マンガンを前記誘電体酸化被膜上に付着させてから電解重合を行うことにより、アントラキノン−2−スルホン酸ナトリウムがドープされたポリピロールを導電性高分子層として形成した固体電解コンデンサが提案されている(特許文献2)。
また、誘電体酸化被膜上に化学酸化重合により導電性高分子層を形成した固体電解コンデンサについても提案がなされている。前記導電性高分子層として、アントラセンスルホン酸がドープされたポリチオフェンが前記固体電解コンデンサに使用されている(特許文献3)。
特公平4−74853号公報 特開平3−34304号公報 特開2000−12394号公報
As a means to solve this problem in an integrated manner, a conductive polymer layer is formed on the dielectric oxide film by chemical oxidative polymerization, and a conductive polymer layer is laminated on the conductive polymer layer by electrolytic polymerization. A solid electrolytic capacitor using a double conductive polymer layer as a solid electrolyte has been proposed.
According to this proposal, since the conductive polymer layer formed by chemical oxidative polymerization formed first can pass an electric current, it is possible to perform electropolymerization, and it is possible to form a conductive polymer layer having high strength as a whole. it can.
As a result, a solid electrolytic capacitor having a large electrostatic capacity and excellent electrical characteristics and temperature characteristics can be provided (Patent Document 1).
On the other hand, an aqueous solution of manganese nitrate is brought into contact with the dielectric oxide film, and pyrolytic manganese dioxide is deposited on the dielectric oxide film by thermal decomposition at 250 ° C., and then electropolymerization is performed, whereby anthraquinone-2-sulfonic acid is obtained. A solid electrolytic capacitor in which polypyrrole doped with sodium is formed as a conductive polymer layer has been proposed (Patent Document 2).
A solid electrolytic capacitor in which a conductive polymer layer is formed on a dielectric oxide film by chemical oxidative polymerization has also been proposed. As the conductive polymer layer, polythiophene doped with anthracene sulfonic acid is used in the solid electrolytic capacitor (Patent Document 3).
Japanese Patent Publication No. 4-74853 JP-A-3-34304 JP 2000-12394 A

しかしながら熱分解二酸化マンガンを使用した場合には、前記熱分解二酸化マンガンの比抵抗が比較的高いことや、前記熱分解二酸化マンガンを熱分解により生成させる際に前記誘電体酸化被膜を損傷し易い等の理由により、インピーダンスが高く、漏れ電流が大きい等の問題があった。
また、誘電体酸化被膜上に化学酸化重合により導電性高分子層を形成した、前記導電性高分子層にアントラセンスルホン酸がドープされたポリチオフェン等を含む固体電解コンデンサの場合には、熱耐久性に劣る等の問題があった。
However, when pyrolytic manganese dioxide is used, the specific resistance of the pyrolytic manganese dioxide is relatively high, and the dielectric oxide film is easily damaged when the pyrolytic manganese dioxide is generated by pyrolysis. For this reason, there are problems such as high impedance and large leakage current.
Further, in the case of a solid electrolytic capacitor in which a conductive polymer layer is formed on a dielectric oxide film by chemical oxidative polymerization and the conductive polymer layer includes polythiophene doped with anthracene sulfonic acid, etc., thermal durability There were problems such as inferior.

本発明の目的は、導電性高分子層を固体電解質層として使用する固体電解コンデンサの中でも、優れたインピーダンス特性、静電容量および熱耐久性を示す固体電解コンデンサを提供することにある。   An object of the present invention is to provide a solid electrolytic capacitor exhibiting excellent impedance characteristics, capacitance and thermal durability among solid electrolytic capacitors using a conductive polymer layer as a solid electrolyte layer.

本発明者らは前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、化学酸化重合により形成されてなる導電性高分子層(A)と、電解重合により形成されてなる導電性高分子層(B)と、を固体電解質層として少なくとも有する固体電解コンデンサであって、前記導電性高分子層(B)にアントラキノン−2−スルホン酸類をドーパントとして含む固体電解コンデンサが本発明の目的に適うことを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the inventors of the present invention have a conductive polymer layer (A) formed by chemical oxidative polymerization, and a conductive polymer layer (B) formed by electrolytic polymerization. And a solid electrolytic capacitor having at least as a solid electrolyte layer, wherein the conductive polymer layer (B) includes an anthraquinone-2-sulfonic acid as a dopant and is suitable for the purpose of the present invention. The invention has been completed.

すなわち本発明は、
[1]被膜形成金属表面に設けられた誘電体酸化被膜上に固体電解質層を備えた固体電解コンデンサであって、
前記固体電解質層は、
化学酸化重合により形成されてなる導電性高分子層(A)と、
前記導電性高分子層(A)を陽極とする電解重合により形成されてなる導電性高分子層(B)と、を少なくとも有し、
前記導電性高分子層(B)が、下記一般式(1)
That is, the present invention
[1] A solid electrolytic capacitor comprising a solid electrolyte layer on a dielectric oxide film provided on a film-forming metal surface,
The solid electrolyte layer is
A conductive polymer layer (A) formed by chemical oxidative polymerization;
And at least a conductive polymer layer (B) formed by electrolytic polymerization using the conductive polymer layer (A) as an anode,
The conductive polymer layer (B) has the following general formula (1)

Figure 2008186881
(式中、Xは水素イオン、アンモニウムイオン、有機アンモニウムイオンまたは金属イオンを表す。R〜Rは、それぞれ独立して水素原子、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状アルキル基を表わす。)により表される化合物をドーパントとして含むことを特徴とする固体電解コンデンサを提供するものであり、
Figure 2008186881
(In the formula, X 1 represents a hydrogen ion, an ammonium ion, an organic ammonium ion or a metal ion. R 1 to R 7 are each independently a hydrogen atom or a linear or branched alkyl having 1 to 6 carbon atoms. A solid electrolytic capacitor comprising a compound represented by formula (1) as a dopant:

[2]前記一般式(1)により表される化合物が、アントラキノン−2−スルホン酸、アントラキノン−2−スルホン酸有機アンモニウム塩およびアントラキノン−2−スルホン酸アルカリ金属塩からなる群より選ばれる少なくとも一つであることを特徴とする、上記[1]に記載の固体電解コンデンサを提供するものであり、 [2] The compound represented by the general formula (1) is at least one selected from the group consisting of anthraquinone-2-sulfonic acid, anthraquinone-2-sulfonic acid organic ammonium salt, and an anthraquinone-2-sulfonic acid alkali metal salt. The solid electrolytic capacitor as described in [1] above, which is characterized by:

[3]前記導電性高分子層(A)が、下記一般式(2) [3] The conductive polymer layer (A) is represented by the following general formula (2)

Figure 2008186881
(式中、Xは水素原子またはハロゲン原子を表す。Xは水素イオン、アンモニウムイオン、有機アンモニウムイオンまたは金属イオンを表す。R〜R11は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状アルキル基、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状アルコキシ基、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状ハロゲン化アルキル基、炭素数6〜12アリール基、水酸基、ニトロ基またはシアノ基を表わす。)により表される化合物、
下記一般式(3)
Figure 2008186881
(In the formula, X 2 represents a hydrogen atom or a halogen atom. X 3 represents a hydrogen ion, an ammonium ion, an organic ammonium ion or a metal ion. R 8 to R 11 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, A linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a linear or branched halogenated alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, A compound having 6 to 12 carbon atoms, a hydroxyl group, a nitro group or a cyano group).
The following general formula (3)

Figure 2008186881
(式中、X、XおよびXはそれぞれ独立して水素イオン、アンモニウムイオン、有機アンモニウムイオンまたは金属イオンを表す。Rは水素原子、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状アルキル基を表わす。)により表される化合物、および
下記一般式(4)
Figure 2008186881
(In the formula, X 4 , X 5 and X 6 each independently represent a hydrogen ion, an ammonium ion, an organic ammonium ion or a metal ion. R represents a hydrogen atom, a linear or branched chain having 1 to 6 carbon atoms. A compound represented by the following formula (4):

Figure 2008186881
(式中、Xは水素イオン、アンモニウムイオン、有機アンモニウムイオンまたは金属イオンを表す。R12〜R18は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状アルキル基、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状アルコキシ基、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状ハロゲン化アルキル基、炭素数6〜12のアリール基、水酸基、ニトロ基またはシアノ基を表わす。)により表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも一つをドーパントとして含むことを特徴とする、上記[1]または[2]に記載の固体電解コンデンサを提供するものであり、
Figure 2008186881
(In the formula, X 7 represents a hydrogen ion, an ammonium ion, an organic ammonium ion or a metal ion. R 12 to R 18 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a linear or branched group having 1 to 6 carbon atoms. A linear alkyl group, a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a linear or branched halogenated alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, a hydroxyl group, The solid electrolytic capacitor according to the above [1] or [2], comprising at least one selected from the group consisting of compounds represented by the following formula: nitro group or cyano group: Is,

[4]前記導電性高分子層(A)および前記導電性高分子層(B)が、それぞれポリピロールを含むことを特徴とする、上記[1]〜[3]のいずれかに記載の固体電解コンデンサを提供するものであり、 [4] The solid electrolysis according to any one of [1] to [3], wherein the conductive polymer layer (A) and the conductive polymer layer (B) each contain polypyrrole. Providing a capacitor,

[5]被膜形成金属表面に誘電体酸化被膜を形成する工程と、
前記誘電体酸化被膜上に導電性高分子層(A)を化学酸化重合により形成する工程と、 前記導電性高分子層(A)上に導電性高分子層(B)を電解重合により形成する工程と、
を有する固体電解コンデンサの製造方法であって、
前記電解重合が、下記一般式(1)
[5] A step of forming a dielectric oxide film on the film-forming metal surface;
Forming a conductive polymer layer (A) on the dielectric oxide film by chemical oxidative polymerization; and forming a conductive polymer layer (B) on the conductive polymer layer (A) by electrolytic polymerization. Process,
A method for producing a solid electrolytic capacitor having
The electrolytic polymerization is represented by the following general formula (1)

Figure 2008186881
(式中、Xは水素イオン、アンモニウムイオン、有機アンモニウムイオンまたは金属イオンを表す。R〜Rは、それぞれ独立して水素原子、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状アルキル基を表わす。)により表される化合物の存在下に実施されることを特徴とする固体電解コンデンサの製造方法を提供するものであり、
Figure 2008186881
(In the formula, X 1 represents a hydrogen ion, an ammonium ion, an organic ammonium ion or a metal ion. R 1 to R 7 are each independently a hydrogen atom or a linear or branched alkyl having 1 to 6 carbon atoms. The present invention provides a method for producing a solid electrolytic capacitor, which is carried out in the presence of a compound represented by:

[6]前記一般式(1)により表される化合物が、アントラキノン−2−スルホン酸、アントラキノン−2−スルホン酸有機アンモニウム塩およびアントラキノン−2−スルホン酸アルカリ金属塩からなる群より選ばれる少なくとも一つであることを特徴とする、上記[5]に記載の固体電解コンデンサの製造方法を提供するものであり、 [6] The compound represented by the general formula (1) is at least one selected from the group consisting of anthraquinone-2-sulfonic acid, anthraquinone-2-sulfonic acid organic ammonium salt, and an anthraquinone-2-sulfonic acid alkali metal salt. The method for producing a solid electrolytic capacitor as described in [5] above, characterized in that

[7]前記化学酸化重合が、下記一般式(2) [7] The chemical oxidative polymerization is represented by the following general formula (2)

Figure 2008186881
(式中、Xは水素原子またはハロゲン原子を表す。Xは水素イオン、アンモニウムイオン、有機アンモニウムイオンまたは金属イオンを表す。R〜R11は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状アルキル基、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状アルコキシ基、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状ハロゲン化アルキル基、炭素数6〜12アリール基、水酸基、ニトロ基またはシアノ基を表わす。)により表される化合物、
下記一般式(3)、
Figure 2008186881
(In the formula, X 2 represents a hydrogen atom or a halogen atom. X 3 represents a hydrogen ion, an ammonium ion, an organic ammonium ion or a metal ion. R 8 to R 11 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, A linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a linear or branched halogenated alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, A compound having 6 to 12 carbon atoms, a hydroxyl group, a nitro group or a cyano group).
The following general formula (3),

Figure 2008186881
(式中、X、XおよびXはそれぞれ独立して水素イオン、アンモニウムイオン、有機アンモニウムイオンまたは金属イオンを表す。Rは水素原子、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状アルキル基を表わす。)により表される化合物、および
下記一般式(4)
Figure 2008186881
(In the formula, X 4 , X 5 and X 6 each independently represent a hydrogen ion, an ammonium ion, an organic ammonium ion or a metal ion. R represents a hydrogen atom, a linear or branched chain having 1 to 6 carbon atoms. A compound represented by the following formula (4):

Figure 2008186881
(式中、Xは水素イオン、アンモニウムイオン、有機アンモニウムイオンまたは金属イオンを表す。R12〜R18は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状アルキル基、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状アルコキシ基、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状ハロゲン化アルキル基、炭素数6〜12のアリール基、水酸基、ニトロ基またはシアノ基を表わす。)により表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも一つの存在下に実施されることを特徴とする、上記[5]または[6]に記載の固体電解コンデンサの製造方法を提供するものであり、
Figure 2008186881
(In the formula, X 7 represents a hydrogen ion, an ammonium ion, an organic ammonium ion or a metal ion. R 12 to R 18 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a linear or branched group having 1 to 6 carbon atoms. A linear alkyl group, a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a linear or branched halogenated alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, a hydroxyl group, The solid electrolytic capacitor according to the above [5] or [6], which is carried out in the presence of at least one selected from the group consisting of compounds represented by the following formula: Providing a manufacturing method,

[8]上記[1]〜[4]のいずれかに記載の固体電解コンデンサを備えた電子機器を提供するものである。 [8] An electronic device including the solid electrolytic capacitor according to any one of [1] to [4] is provided.

本発明によれば、導電性高分子層を固体電解質層として使用する固体電解コンデンサの中でも、優れたインピーダンス特性、静電容量および熱耐久性を示す固体電解コンデンサを提供することができる。   According to the present invention, among solid electrolytic capacitors using a conductive polymer layer as a solid electrolyte layer, a solid electrolytic capacitor exhibiting excellent impedance characteristics, capacitance, and thermal durability can be provided.

最初に本発明の固体電解コンデンサについて説明する。
本発明の固体電解コンデンサは、被膜形成金属表面に設けられた誘電体酸化被膜を有するものである。
本発明に使用する被膜形成金属としては、例えば、アルミニウム、タンタル、チタン、ニオブ、ジルコニウム、マグネシウム、ケイ素、またはこれらの合金の一種もしくは二種以上が挙げられる。
First, the solid electrolytic capacitor of the present invention will be described.
The solid electrolytic capacitor of the present invention has a dielectric oxide film provided on the surface of a film-forming metal.
Examples of the film-forming metal used in the present invention include aluminum, tantalum, titanium, niobium, zirconium, magnesium, silicon, or one or more of these alloys.

前記被膜形成金属の形態は金属箔、棒あるいはこれらを主成分とする焼結体等のものが好ましい。前記被膜形成金属の表面に対し、比表面積を大きくする目的でエッチング処理することがさらに好ましい。
前記被膜形成金属は弁作用金属として機能するものであり、電解酸化、酸化剤酸化、空気酸化等によりその表面に誘電体酸化被膜を形成することができる。
前記被膜形成金属に対しエッチング処理を行うことにより前記被膜形成金属表面に微細孔を設けることができ、この微細孔内部を含む前記被膜形成金属表面に誘電体酸化被膜が形成される。
The form of the film-forming metal is preferably a metal foil, a rod, or a sintered body mainly composed of these. More preferably, the surface of the film-forming metal is etched for the purpose of increasing the specific surface area.
The film-forming metal functions as a valve action metal, and a dielectric oxide film can be formed on the surface thereof by electrolytic oxidation, oxidizing agent oxidation, air oxidation or the like.
By performing an etching process on the film-forming metal, fine holes can be formed on the surface of the film-forming metal, and a dielectric oxide film is formed on the surface of the film-forming metal including the inside of the fine holes.

本発明の固体電解コンデンサは固体電解質層を備えるものであるが、この固体電解質層は化学酸化重合により形成されてなる導電性高分子層(A)と、前記導電性高分子層(A)を陽極とする電解重合により形成されてなる導電性高分子層(B)とを少なくとも有するものである。   The solid electrolytic capacitor of the present invention includes a solid electrolyte layer. The solid electrolyte layer includes a conductive polymer layer (A) formed by chemical oxidative polymerization and the conductive polymer layer (A). It has at least a conductive polymer layer (B) formed by electrolytic polymerization as an anode.

前記導電性高分子層(A)および(B)に使用する導電性高分子としては、例えば、ポリピロール、ポリ−3−アルキルピロール、ポリ−3,4−アルキレンジオキシピロール等のポリピロール類、ポリアニリン、ポリアルキルアニリン等のポリアニリン類、ポリフラン、ポリアルキルフラン等のポリフラン類、ポリチオフェン、ポリ−3−アルキルチオフェン、ポリ−3,4−アルキレンジオキシチオフェン等のポリチオフェン類等を挙げることができる。
これらの中でも価格面及び特性面からポリピロール類が好ましく、ポリピロールであればさらに好ましい。
前記導電性高分子は一種もしくは二種以上を使用することができる。
Examples of the conductive polymer used in the conductive polymer layers (A) and (B) include polypyrroles such as polypyrrole, poly-3-alkylpyrrole, poly-3,4-alkylenedioxypyrrole, and polyaniline. And polyanilines such as polyalkylaniline, polyfurans such as polyfuran and polyalkylfuran, polythiophenes such as polythiophene, poly-3-alkylthiophene, and poly-3,4-alkylenedioxythiophene.
Among these, polypyrroles are preferable from the viewpoint of price and characteristics, and polypyrrole is more preferable.
The said conductive polymer can use 1 type, or 2 or more types.

本発明に使用する前記導電性高分子層(A)は誘電体酸化被膜上に化学酸化重合により形成されるものである。
具体的には、前記導電性高分子層(A)は、先に説明した導電性高分子を構成するモノマーと酸化剤等とを前記誘電体酸化被膜上で接触させることにより形成することができる。
The conductive polymer layer (A) used in the present invention is formed by chemical oxidative polymerization on a dielectric oxide film.
Specifically, the conductive polymer layer (A) can be formed by bringing the monomer constituting the conductive polymer described above into contact with an oxidizing agent or the like on the dielectric oxide film. .

通常は前記モノマーを溶媒に溶解したモノマー溶液を調製しておき、前記被膜形成金属表面に形成された前記誘電体酸化被膜に対して前記モノマー溶液を含浸した後、別途調製しておいた酸化剤液を含浸させる等の方法により前記導電性高分子層(A)を誘電体酸化被膜上に形成することができる。   Usually, a monomer solution in which the monomer is dissolved in a solvent is prepared, and the dielectric oxide film formed on the surface of the film-forming metal is impregnated with the monomer solution and then separately prepared. The conductive polymer layer (A) can be formed on the dielectric oxide film by a method such as impregnation with a liquid.

前記被膜形成金属表面に形成された前記誘電体酸化被膜に対して前記モノマー溶液を含浸する方法としては、例えば、前記誘電体酸化被膜が形成された前記被膜形成金属そのものを前記モノマー溶液に含浸する方法、前記誘電体酸化被膜に対して前記モノマー溶液を噴霧する方法、前記誘電体酸化被膜に対して前記モノマー溶液を塗布する方法等が挙げられる。   Examples of the method of impregnating the monomer solution with respect to the dielectric oxide film formed on the surface of the film-forming metal include, for example, impregnating the monomer solution with the film-forming metal itself on which the dielectric oxide film is formed. Examples thereof include a method, a method of spraying the monomer solution onto the dielectric oxide film, and a method of applying the monomer solution onto the dielectric oxide film.

また前記モノマー溶液を含浸した後に別途調製しておいた酸化剤液を含浸させる方法としては、例えば、前記モノマー溶液が含浸された前記誘電体酸化被膜を有する前記被膜形成金属そのものを前記酸化剤溶液に含浸する方法、前記モノマー溶液が含浸された前記誘電体酸化被膜に対して前記酸化剤溶液を噴霧する方法、前記モノマー溶液が含浸された前記誘電体酸化被膜に対して前記酸化剤溶液を塗布する方法等が挙げられる。   Further, as a method of impregnating an oxidant solution prepared separately after impregnating the monomer solution, for example, the film-forming metal itself having the dielectric oxide film impregnated with the monomer solution is used as the oxidant solution. Impregnating the dielectric oxide film impregnated with the monomer solution, spraying the oxidant solution onto the dielectric oxide film impregnated with the monomer solution, and applying the oxidant solution to the dielectric oxide film impregnated with the monomer solution. And the like.

これらの方法は一種もしくは二種以上を実施することができる。   These methods can be carried out singly or in combination of two or more.

前記酸化剤としては、例えば、ヨウ素、臭素、ヨウ化臭素、二酸化塩素、ヨウ素酸、過ヨウ素酸、亜塩素酸等のハロゲン化物、5フッ化アンチモン、5塩化リン、5フッ化リン、塩化アルミニウム、塩化モリブデン等の金属ハロゲン化物、過マンガン酸塩、重クロム酸塩、無水クロム酸、第二鉄塩、第二銅塩等の高原子価状態金属イオンの塩、硫酸、硝酸、トリフルオロメタン硫酸等のプロトン酸、三酸化硫黄、二酸化窒素等の酸素化合物、過酸化水素、過硫酸アンモニム、過ホウ酸ナトリウム等のペルオキソ酸、前記ペルオキソ酸の塩、モリブドリン酸、タングストリン酸、タングストモリブドリン酸等のヘテロポリ酸、前記ヘテロポリ酸の塩等が挙げられる。
これらの中でも、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、ペルオキソ酸、ペルオキソ酸塩、第二鉄塩、第二銅塩などの高原子価状態の金属塩(有機金属塩、無機金属塩)を用いることが好ましい。
前記酸化剤は一種もしくは二種以上を使用することができる。
Examples of the oxidizing agent include halides such as iodine, bromine, bromine iodide, chlorine dioxide, iodic acid, periodic acid, and chlorous acid, antimony pentafluoride, phosphorus pentachloride, phosphorus pentafluoride, and aluminum chloride. , Metal halides such as molybdenum chloride, permanganate, dichromate, chromic anhydride, ferric salts, cupric salts and other high-valent metal ion salts, sulfuric acid, nitric acid, trifluoromethane sulfuric acid Protonic acids such as oxygen compounds such as sulfur trioxide and nitrogen dioxide, hydrogen peroxide, ammonium persulfate, peroxo acids such as sodium perborate, salts of the peroxo acids, molybdophosphoric acid, tungstophosphoric acid, tungstomolybdoline Examples include heteropolyacids such as acids, salts of the heteropolyacids, and the like.
Among these, it is preferable to use a metal salt (organic metal salt or inorganic metal salt) in a high valence state such as hydrogen peroxide, ammonium persulfate, peroxo acid, peroxo acid salt, ferric salt, or cupric salt. .
The oxidizing agent can be used alone or in combination of two or more.

また前記酸化剤は酸化剤溶液として使用することができる。前記溶液に使用する溶媒としては、例えば、水、アルコール等を挙げることができる。   The oxidizing agent can be used as an oxidizing agent solution. Examples of the solvent used in the solution include water and alcohol.

前記化学酸化重合に使用する溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン(THF)、ジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル系化合物類、アセトン、メチルエチルケトン系化合物等のケトン系化合物類、ジメチルホルムアミド(DMF)、アセトニトリル、ベンゾニトリル、N−メチルピロリドン(NMP)、ジメチルスルホキシド(DMSO)等の非プロトン性極性溶媒類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系化合物類、クロロホルム、塩化メチレン等の非芳香族性の塩素系化合物類、ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロベンゼン等のニトロ系化合物類、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール系化合物類、ギ酸、酢酸、プロピオン酸等の有機酸系化合物類、前記有機酸の酸無水物(無水酢酸等)、水等を挙げることができる。
前記溶媒は、水、アルコール系化合物類、ケトン系化合物類であれば好ましい。
前記溶媒は一種もしくは二種以上を使用することができる。
Examples of the solvent used for the chemical oxidative polymerization include ether compounds such as tetrahydrofuran (THF), dioxane and diethyl ether, ketone compounds such as acetone and methyl ethyl ketone compounds, dimethylformamide (DMF), acetonitrile and benzonitrile. , N-methylpyrrolidone (NMP), aprotic polar solvents such as dimethyl sulfoxide (DMSO), ester compounds such as ethyl acetate and butyl acetate, non-aromatic chlorine compounds such as chloroform and methylene chloride Nitro compounds such as nitromethane, nitroethane and nitrobenzene, alcohol compounds such as methanol, ethanol and propanol, organic acid compounds such as formic acid, acetic acid and propionic acid, acid anhydrides of the above organic acids (such as acetic anhydride) ), Water, etc. Door can be.
The solvent is preferably water, alcohol compounds, or ketone compounds.
The said solvent can use 1 type, or 2 or more types.

前記化学酸化重合を行う際にはドーパントとなる化合物を使用することが好ましい。酸化剤と共に下記の化合物を共存させて化学酸化重合することにより、所望のドーパントを含有した導電性高分子層(A)を得ることができる。   When the chemical oxidative polymerization is performed, it is preferable to use a compound serving as a dopant. A conductive polymer layer (A) containing a desired dopant can be obtained by chemical oxidative polymerization in the presence of the following compound together with an oxidizing agent.

前記ドーパントとなる化合物としては、例えば、ヨウ素、臭素、塩素等のハロゲンイオ
ン類、ヘキサフロロリン、ヘキサフロロヒ素、ヘキサフロロアンチモン、テトラフロロホウ素、過塩素酸等のハロゲン化物イオン類、メタンスルホン酸、ドデシルスルホン酸等のアルキル置換有機スルホン酸イオン類、カンファースルホン酸イオン等の環状スルホン酸イオン類、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ベンゼンジスルホン酸等のアルキル置換もしくは無置換のベンゼンモノスルホン酸イオン類、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ベンゼンジスルホン酸等のアルキル置換もしくは無置換のベンゼンジスルホン酸イオン類、2−ナフタレンスルホン酸、1,7−ナフタレンジスルホン酸等のスルホン酸基を1〜4個置換したナフタレンスルホン酸のアルキル置換イオン類もしくは無置換イオン類、アントラセンスルホン酸イオン、アントラキノンスルホン酸イオン、アルキルビフェニルスルホン酸、ビフェニルジスルホン酸等のアルキル置換もしくは無置換のビフェニルスルホン酸イオン類、ポリスチレンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合体等の高分子スルホン酸イオン等の置換または無置換の芳香族スルホン酸イオン類、ビスサルチレートホウ素、ビスカテコレートホウ素等のホウ素化合物イオン類、モリブドリン酸、タングストリン酸、タングストモリブドリン酸等のヘテロポリ酸イオン類が挙げられる。
前記ドーパントとなる化合物は一種もしくは二種以上を使用することができる。
Examples of the compound serving as the dopant include halogen ions such as iodine, bromine and chlorine, hexafluoroline, hexafluoroarsenic, hexafluoroantimony, tetrafluoroboron, halide ions such as perchloric acid, methanesulfonic acid, Alkyl-substituted organic sulfonate ions such as dodecyl sulfonic acid, cyclic sulfonate ions such as camphor sulfonate ion, alkyl-substituted or unsubstituted such as benzene sulfonic acid, para-toluene sulfonic acid, dodecyl benzene sulfonic acid, benzene disulfonic acid Benzene monosulfonic acid ions, benzenesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, alkyl-substituted or unsubstituted benzenedisulfonic acid ions such as benzenedisulfonic acid, 2-naphthalenesulfonic acid, 1 7-Naphthalenedisulfonic acid or the like substituted with 1 to 4 sulfonic acid groups, alkyl-substituted or unsubstituted ions of naphthalene sulfonic acid, anthracene sulfonic acid ion, anthraquinone sulfonic acid ion, alkylbiphenyl sulfonic acid, biphenyl disulfonic acid, etc. Substituted or unsubstituted aromatic sulfonate ions such as alkyl-substituted or unsubstituted biphenyl sulfonate ions, polymer sulfonate ions such as polystyrene sulfonate and naphthalene sulfonate formalin condensate, bis-sulcylate boron, Examples thereof include boron compound ions such as biscatecholate boron, and heteropolyacid ions such as molybdophosphoric acid, tungstophosphoric acid, and tungstomolybdophosphoric acid.
The compound used as the dopant can be used alone or in combination of two or more.

前記ドーパントとなる化合物として好ましいものとしては、下記一般式(2)   As a preferable compound as the dopant, the following general formula (2)

Figure 2008186881
(式中、Xは水素原子またはハロゲン原子を表す。Xは水素イオン、アンモニウムイオン、有機アンモニウムイオンまたは金属イオンを表す。R〜R11は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状アルキル基、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状アルコキシ基、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状ハロゲン化アルキル基、炭素数6〜12アリール基、水酸基、ニトロ基またはシアノ基を表わす。)により表される化合物、
下記一般式(3)
Figure 2008186881
(In the formula, X 2 represents a hydrogen atom or a halogen atom. X 3 represents a hydrogen ion, an ammonium ion, an organic ammonium ion or a metal ion. R 8 to R 11 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, A linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a linear or branched halogenated alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, A compound having 6 to 12 carbon atoms, a hydroxyl group, a nitro group or a cyano group).
The following general formula (3)

Figure 2008186881
(式中、X、XおよびXはそれぞれ独立して水素イオン、アンモニウムイオン、有機アンモニウムイオンまたは金属イオンを表す。Rは水素原子、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状アルキル基を表わす。)により表される化合物、
下記一般式(4)
Figure 2008186881
(In the formula, X 4 , X 5 and X 6 each independently represent a hydrogen ion, an ammonium ion, an organic ammonium ion or a metal ion. R represents a hydrogen atom, a linear or branched chain having 1 to 6 carbon atoms. A compound represented by the following formula:
The following general formula (4)

Figure 2008186881
(式中、Xは水素イオン、アンモニウムイオン、有機アンモニウムイオンまたは金属イオンを表す。R12〜R18は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状アルキル基、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状アルコキシ基、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状ハロゲン化アルキル基、炭素数6〜12のアリール基、水酸基、ニトロ基またはシアノ基を表わす。)により表される化合物等の一種もしくは二種以上が挙げられる。
Figure 2008186881
(In the formula, X 7 represents a hydrogen ion, an ammonium ion, an organic ammonium ion or a metal ion. R 12 to R 18 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a linear or branched group having 1 to 6 carbon atoms. A linear alkyl group, a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a linear or branched halogenated alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, a hydroxyl group, A nitro group or a cyano group.) Or a compound of two or more.

前記有機アンモニウムイオンとしては、例えば、テトラメチルアンモニウムイオン、テトラエチルアンモニウムイオン、テトラプロピルアンモニウムイオン、テトラブチルアンモニウムイオン、テトラペンチルアンモニウムイオン、テトラヘキシルアンモニウムイオン、テトラフェニルアンモニウムイオン等(各種異性体を含む)の一種もしくは二種以上を挙げることができる。   Examples of the organic ammonium ion include tetramethylammonium ion, tetraethylammonium ion, tetrapropylammonium ion, tetrabutylammonium ion, tetrapentylammonium ion, tetrahexylammonium ion, and tetraphenylammonium ion (including various isomers). 1 type or 2 types or more can be mentioned.

前記金属イオンとしては、例えば、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属類、マグネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属類等の一種もしくは二種以上を挙げることができる。   As said metal ion, 1 type, or 2 or more types, such as alkali metals, such as sodium and potassium, alkaline earth metals, such as magnesium and calcium, can be mentioned, for example.

前記炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基(各種異性体を含む)の一種もしくは二種以上を挙げることができる。   Examples of the linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include one or two of a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, and a hexyl group (including various isomers). The above can be mentioned.

前記炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状アルコキシ基としては、例えば、メチルオキシ基、エチルオキシ基、プロピルオキシ基、ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基(各種異性体を含む)の一種もしくは二種以上を挙げることができる。   Examples of the linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms include a methyloxy group, an ethyloxy group, a propyloxy group, a butyloxy group, a pentyloxy group, and a hexyloxy group (including various isomers). One type or two or more types can be mentioned.

前記炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状ハロゲン化アルキル基としては、例えば、前記炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状アルキル基のフッ化化合物、前記炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状アルキル基の塩素化化合物等(各種異性体を含む)の一種もしくは二種以上を挙げることができる。   Examples of the linear or branched alkyl halide group having 1 to 6 carbon atoms include, for example, a fluorinated compound of the linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and the above 1 to 6 carbon atoms. Or a chlorinated compound of a linear or branched alkyl group (including various isomers).

前記炭素数6〜12のアリール基としては、例えば、フェニル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ペンチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、シクロヘキシルフェニル基、ジメチルフェニル基、ジプロピルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基等(各種異性体を含む)の一種もしくは二種以上を挙げることができる。   Examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include phenyl, methylphenyl, ethylphenyl, propylphenyl, butylphenyl, pentylphenyl, hexylphenyl, cyclohexylphenyl, dimethylphenyl, di- One or more of propylphenyl group, naphthyl group, biphenyl group and the like (including various isomers) can be mentioned.

前記一般式(2)の具体例としては、例えばm−キシレン−4−スルホン酸、メシチレンスルホン酸、3−ヘキシルトルエン−4−スルホン酸、3,5−ジヘキシルトルエン−4−スルホン酸、p−トルエンスルホン酸、p−トリフルオロメチルベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類、
前記有機スルホン酸類のリチウム塩、前記有機スルホン酸類のナトリウム塩、前記有機スルホン酸のカリウム塩等の前記有機スルホン酸類のアルカリ金属塩類、
前記有機スルホン酸類のアンモニウム塩類等の一種もしくは二種以上を挙げることができる。
前記有機スルホン酸類のアンモニウム塩類としては、例えば、前記有機スルホン酸類のアンモニウム塩、前記有機スルホン酸類のテトラメチルアンモニウム塩、前記有機スルホン酸類のテトラエチルアンモニウム塩、前記有機スルホン酸類のテトラプロピルアンモニウム塩、前記有機スルホン酸類のテトラブチルアンモニウム塩、前記有機スルホン酸類のテトラフェニルアンモニウム塩等を挙げることができる。
前記一般式(2)は、前記有機スルホン酸類のアンモニウム塩類、前記有機スルホン酸のアルカリ金属塩等が好ましく、p−トルエンスルホン酸テトラエチルアンモニウム、p−トリフルオロメチルベンゼンスルホン酸カリウムであればさらに好ましい。
Specific examples of the general formula (2) include m-xylene-4-sulfonic acid, mesitylenesulfonic acid, 3-hexyltoluene-4-sulfonic acid, 3,5-dihexyltoluene-4-sulfonic acid, p- Organic sulfonic acids such as toluenesulfonic acid and p-trifluoromethylbenzenesulfonic acid,
An alkali metal salt of the organic sulfonic acid such as a lithium salt of the organic sulfonic acid, a sodium salt of the organic sulfonic acid, or a potassium salt of the organic sulfonic acid;
One or more of the ammonium salts of the organic sulfonic acids can be mentioned.
Examples of the ammonium salts of the organic sulfonic acids include, for example, ammonium salts of the organic sulfonic acids, tetramethylammonium salts of the organic sulfonic acids, tetraethylammonium salts of the organic sulfonic acids, tetrapropylammonium salts of the organic sulfonic acids, Examples thereof include tetrabutylammonium salts of organic sulfonic acids and tetraphenylammonium salts of the organic sulfonic acids.
The general formula (2) is preferably an ammonium salt of the organic sulfonic acid, an alkali metal salt of the organic sulfonic acid, or the like, more preferably tetraethylammonium p-toluenesulfonate or potassium p-trifluoromethylbenzenesulfonate. .

前記一般式(3)の具体例としては、例えば、4−スルホフタル酸、3−メチル−4−スルホフタル酸、3−ヘキシル−4−スルホフタル酸等のスルホフタル酸類、
5−スルホイソフタル酸、2−メチル−5−スルホイソフタル酸、2−ヘキシル−5−スルホイソフタル酸等のスルホイソフタル酸類、
前記スルホフタル酸類のリチウム塩、前記スルホフタル酸類のナトリウム塩、前記スルホフタル酸類のカリウム塩等の前記スルホフタル酸類のアルカリ金属塩類、
前記イソスルホフタル酸類のリチウム塩、前記イソスルホフタル酸類のナトリウム塩、前記イソスルホフタル酸類のカリウム塩等の前記イソスルホフタル酸類のアルカリ金属塩類、
前記スルホフタル酸類のアンモニウム塩類、前記イソスルホフタル酸類のアンモニウム塩類等の一種もしくは二種以上を挙げることができる。
前記一般式(3)は前記スルホフタル酸類、前記スルホフタル酸類のアンモニウム塩類等が好ましく、4−スルホフタル酸、4−スルホフタル酸トリアンモニウムであればさらに好ましい。
Specific examples of the general formula (3) include sulfophthalic acids such as 4-sulfophthalic acid, 3-methyl-4-sulfophthalic acid, and 3-hexyl-4-sulfophthalic acid,
Sulfoisophthalic acids such as 5-sulfoisophthalic acid, 2-methyl-5-sulfoisophthalic acid, 2-hexyl-5-sulfoisophthalic acid,
Alkali metal salts of the sulfophthalic acids such as lithium salts of the sulfophthalic acids, sodium salts of the sulfophthalic acids, potassium salts of the sulfophthalic acids,
Alkali metal salts of the isosulfophthalic acids such as lithium salts of the isosulfophthalic acids, sodium salts of the isosulfophthalic acids, potassium salts of the isosulfophthalic acids,
One or more of the ammonium salts of the sulfophthalic acids and the ammonium salts of the isosulfophthalic acids can be used.
In the general formula (3), the sulfophthalic acids and ammonium salts of the sulfophthalic acids are preferable, and 4-sulfophthalic acid and triammonium 4-sulfophthalate are more preferable.

前記一般式(4)の具体例としては、例えば、アントラキノン−2−スルホン酸、3−メチルアントラキノン−2−スルホン酸、6−メチルアントラキノン−2−スルホン酸、7−メチルアントラキノン−2−スルホン酸、3−ヘキシルアントラキノン−2−スルホン酸、6−ヘキシルアントラキノン−2−スルホン酸、7−ヘキシルアントラキノン−2−スルホン酸等のアントラキノン−2−スルホン酸類、
前記アントラキノン−2−スルホン酸類のリチウム塩、前記アントラキノン−2−スルホン酸類のナトリウム塩、前記アントラキノン−2−スルホン酸類のカリウム塩等の前記アントラキノン−2−スルホン酸類のアルカリ金属塩類、
前記アントラキノン−2−スルホン酸類のアンモニウム塩類等の一種もしくは二種以上を挙げることができる。
前記一般式(4)は、前記アントラキノン−2−スルホン酸類、前記アントラキノン−2−スルホン酸類のアルカリ金属塩類、前記アントラキノン−2−スルホン酸類のアンモニウム塩類等が好ましく、アントラキノン−2−スルホン酸、アントラキノン−2−スルホン酸ナトリウム、アントラキノン−2−スルホン酸テトラエチルアンモニウムであればさらに好ましい。
Specific examples of the general formula (4) include anthraquinone-2-sulfonic acid, 3-methylanthraquinone-2-sulfonic acid, 6-methylanthraquinone-2-sulfonic acid, and 7-methylanthraquinone-2-sulfonic acid. Anthraquinone-2-sulfonic acids such as 3-hexylanthraquinone-2-sulfonic acid, 6-hexylanthraquinone-2-sulfonic acid, 7-hexylanthraquinone-2-sulfonic acid,
Alkali metal salts of the anthraquinone-2-sulfonic acids such as a lithium salt of the anthraquinone-2-sulfonic acids, a sodium salt of the anthraquinone-2-sulfonic acids, and a potassium salt of the anthraquinone-2-sulfonic acids,
One kind or two or more kinds of ammonium salts of the anthraquinone-2-sulfonic acids can be exemplified.
In the general formula (4), the anthraquinone-2-sulfonic acids, the alkali metal salts of the anthraquinone-2-sulfonic acids, the ammonium salts of the anthraquinone-2-sulfonic acids, and the like are preferable. Anthraquinone-2-sulfonic acid, anthraquinone More preferred are sodium 2-sulfonate and tetraethylammonium anthraquinone-2-sulfonate.

前記化学酸化重合により形成されてなる導電性高分子層(A)が形成された誘電体酸化被膜に対し、必要に応じて化成溶液中で再化成処理を施すことができる。   The dielectric oxide film on which the conductive polymer layer (A) formed by the chemical oxidative polymerization is formed can be subjected to a re-chemical conversion treatment in a chemical conversion solution as necessary.

次に導電性高分子層(B)について説明する。
本発明に使用する導電性高分子層(B)は前記導電性高分子層(A)を陽極とする電解重合により形成されるものである。
具体的には前記導電性高分子層(B)は、先に説明した導電性高分子を構成するモノマー、支持電解質、溶媒等を含む電解液中で、前記導電性高分子層(A)を陽極として電解重合を実施することにより形成することができる。
Next, the conductive polymer layer (B) will be described.
The conductive polymer layer (B) used in the present invention is formed by electrolytic polymerization using the conductive polymer layer (A) as an anode.
Specifically, the conductive polymer layer (B) is formed of the conductive polymer layer (A) in an electrolytic solution containing the monomer, the supporting electrolyte, the solvent, and the like constituting the conductive polymer described above. It can form by implementing electropolymerization as an anode.

前記電解重合に使用する、前記導電性高分子を構成するモノマー、溶媒は先に説明した前記導電性高分子層(A)の場合とそれぞれ同様である。
なお、前記導電性高分子層(A)に使用する前記モノマーと、前記導電性高分子層(B)に使用するモノマーとはそれぞれ同じであってもよいし、異なるものであってもよい。
The monomer and solvent constituting the conductive polymer used in the electrolytic polymerization are the same as those of the conductive polymer layer (A) described above.
The monomer used for the conductive polymer layer (A) and the monomer used for the conductive polymer layer (B) may be the same or different.

本発明に使用する支持電解質は、下記一般式(1)   The supporting electrolyte used in the present invention has the following general formula (1)

Figure 2008186881
(式中、Xは水素イオン、アンモニウムイオン、有機アンモニウムイオンまたは金属イオンを表す。R〜Rは、それぞれ独立して水素原子、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状アルキル基を表わす。)により表されるドーパントとして含むものである。
Figure 2008186881
(In the formula, X 1 represents a hydrogen ion, an ammonium ion, an organic ammonium ion or a metal ion. R 1 to R 7 are each independently a hydrogen atom or a linear or branched alkyl having 1 to 6 carbon atoms. It represents as a dopant represented by.

前記一般式(1)により表される化合物の具体例としては、例えば、メチルアントラキノン−2−スルホン酸、ジメチルアントラキノン−2−スルホン酸、トリメチルアントラキノン−2−スルホン酸、テトラメチルアントラキノン−2−スルホン酸、ペンタメチルアントラキノン−2−スルホン酸、ヘキサメチルアントラキノン−2−スルホン酸、ヘプタメチルアントラキノン−2−スルホン酸、
エチルアントラキノン−2−スルホン酸、ジエチルアントラキノン−2−スルホン酸、トリエチルアントラキノン−2−スルホン酸、テトラエチルアントラキノン−2−スルホン酸、ペンタエチルアントラキノン−2−スルホン酸、ヘキサエチルアントラキノン−2−スルホン酸、ヘプタエチルアントラキノン−2−スルホン酸、
ブチルアントラキノン−2−スルホン酸、ジブチルアントラキノン−2−スルホン酸、トリブチルアントラキノン−2−スルホン酸、テトラブチルアントラキノン−2−スルホン酸、ペンタブチルアントラキノン−2−スルホン酸、ヘキサブチルアントラキノン−2−スルホン酸、ヘプタブチルアントラキノン−2−スルホン酸、
メチルエチルアントラキノン−2−スルホン酸、メチルブチルアントラキノン−2−スルホン酸等のアルキル置換アントラキノン−2−スルホン酸類(各種異性体を含む)、
アントラキノン−2−スルホン酸、
前記アルキル置換アントラキノン−2−スルホン酸類のアンモニウム塩、
前記アルキル置換アントラキノン−2−スルホン酸類のテトラメチルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニウム塩、テトラプロピルアンモニウム塩、テトラブチルアンモニウム塩、テトラフェニルアンモニウム塩等のアルキル置換アントラキノン−2−スルホン酸類の有機アンモニウム塩、
前記アントラキノン−2−スルホン酸のアンモニウム塩、
前記アントラキノン−2−スルホン酸のテトラメチルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニウム塩、テトラプロピルアンモニウム塩、テトラブチルアンモニウム塩、テトラフェニルアンモニウム塩等のアントラキノン−2−スルホン酸類の有機アンモニウム塩、
前記アルキル置換アントラキノン−2−スルホン酸類のナトリウム塩、カリウム塩等のアルキル置換アントラキノン−2−スルホン酸アルカリ金属塩、
前記アルキル置換アントラキノン−2−スルホン酸類のマグネシウム塩、カルシウム塩等のアルキル置換アントラキノン−2−スルホン酸アルカリ土類金属塩、
前記アントラキノン−2−スルホン酸のナトリウム塩、カリウム塩等のアントラキノン−2−スルホン酸アルカリ金属塩、
前記アントラキノン−2−スルホン酸のマグネシウム塩、カルシウム塩等のアントラキノン−2−スルホン酸アルカリ土類金属塩等を挙げることができる。
Specific examples of the compound represented by the general formula (1) include, for example, methylanthraquinone-2-sulfonic acid, dimethylanthraquinone-2-sulfonic acid, trimethylanthraquinone-2-sulfonic acid, tetramethylanthraquinone-2-sulfone Acid, pentamethylanthraquinone-2-sulfonic acid, hexamethylanthraquinone-2-sulfonic acid, heptamethylanthraquinone-2-sulfonic acid,
Ethyl anthraquinone-2-sulfonic acid, diethyl anthraquinone-2-sulfonic acid, triethylanthraquinone-2-sulfonic acid, tetraethylanthraquinone-2-sulfonic acid, pentaethylanthraquinone-2-sulfonic acid, hexaethylanthraquinone-2-sulfonic acid, Heptaethylanthraquinone-2-sulfonic acid,
Butylanthraquinone-2-sulfonic acid, dibutylanthraquinone-2-sulfonic acid, tributylanthraquinone-2-sulfonic acid, tetrabutylanthraquinone-2-sulfonic acid, pentabutylanthraquinone-2-sulfonic acid, hexabutylanthraquinone-2-sulfonic acid Heptabutylanthraquinone-2-sulfonic acid,
Alkyl-substituted anthraquinone-2-sulfonic acids (including various isomers) such as methylethylanthraquinone-2-sulfonic acid and methylbutylanthraquinone-2-sulfonic acid;
Anthraquinone-2-sulfonic acid,
An ammonium salt of the alkyl-substituted anthraquinone-2-sulfonic acids,
Organic ammonium salts of alkyl-substituted anthraquinone-2-sulfonic acids such as tetramethylammonium salts, tetraethylammonium salts, tetrapropylammonium salts, tetrabutylammonium salts, tetraphenylammonium salts of the alkyl-substituted anthraquinone-2-sulfonic acids,
An ammonium salt of the anthraquinone-2-sulfonic acid,
Organic ammonium salts of anthraquinone-2-sulfonic acids such as tetramethylammonium salt, tetraethylammonium salt, tetrapropylammonium salt, tetrabutylammonium salt, tetraphenylammonium salt of the anthraquinone-2-sulfonic acid,
Alkyl-substituted anthraquinone-2-sulfonic acid alkali metal salts such as sodium salts and potassium salts of the alkyl-substituted anthraquinone-2-sulfonic acids,
Alkyl-substituted anthraquinone-2-sulfonic acid alkaline earth metal salts such as magnesium salts and calcium salts of the alkyl-substituted anthraquinone-2-sulfonic acids,
Anthraquinone-2-sulfonic acid alkali metal salts such as sodium salt and potassium salt of the anthraquinone-2-sulfonic acid,
Anthraquinone-2-sulfonic acid alkaline earth metal salts such as magnesium salt and calcium salt of anthraquinone-2-sulfonic acid can be exemplified.

前記一般式(1)により表される化合物は一種もしくは二種以上を使用することができる。   The compound represented by the general formula (1) can be used alone or in combination of two or more.

前記一般式(1)により表される化合物は、R〜Rがそれぞれ水素原子であることが好ましく、アントラキノン−2−スルホン酸、アントラキノン−2−スルホン酸有機アンモニウム塩およびアントラキノン−2−スルホン酸金属塩からなる群より選ばれる少なくとも一つであればより好ましい。
前記アントラキノン−2−スルホン酸有機アンモニウム塩は、テトラアルキルアンモニウム塩であればさらに好ましい。
前記アントラキノン−2−スルホン酸金属塩はアルカリ金属塩であればさらに好ましい。
In the compound represented by the general formula (1), R 1 to R 7 are preferably each a hydrogen atom, and anthraquinone-2-sulfonic acid, anthraquinone-2-sulfonic acid organic ammonium salt, and anthraquinone-2-sulfone It is more preferable if it is at least one selected from the group consisting of acid metal salts.
The anthraquinone-2-sulfonic acid organic ammonium salt is more preferably a tetraalkylammonium salt.
The anthraquinone-2-sulfonic acid metal salt is more preferably an alkali metal salt.

前記支持電解質を選択することによって、高温に曝露された際に特定の安定構造をとる導電性高分子が得られ、前記導電性高分子を固体電解質とすることにより従来よりも格段に優れた熱耐久性を有する固体電解コンデンサが得られる。   By selecting the supporting electrolyte, a conductive polymer having a specific stable structure is obtained when exposed to a high temperature, and by using the conductive polymer as a solid electrolyte, a heat that is significantly superior to conventional ones is obtained. A solid electrolytic capacitor having durability can be obtained.

上記のものに加えて支持電解質としてはLiPF、LiAsF、LiClO、LiBF等のリチウム塩、NaI、NaPF、NaClO等のナトリウム塩、KI、KPF、KAsF、KClO等のカリウム塩、トルエンスルホン酸ナトリウム、トルエンスルホン酸テトラブチルアンモニウム等の有機塩等の一種もしくは二種以上を併用することができる。 In addition to the above, the supporting electrolyte includes lithium salts such as LiPF 6 , LiAsF 6 , LiClO 4 , LiBF 4 , sodium salts such as NaI, NaPF 6 , NaClO 4 , KI, KPF 6 , KAsF 6 , KClO 4, etc. One kind or two or more kinds of organic salts such as potassium salt, sodium toluenesulfonate, and tetrabutylammonium toluenesulfonate can be used in combination.

前記電解重合の方法としては、例えば、先に説明した化学酸化重合により形成されてなる導電性高分子層(A)を前記電解液中に浸漬させ、補助電極を前記導電性高分子層(A)に接触または近傍に配置し、補助電極を陽極として外部陰極との間で電解重合させる方法等を挙げることができる。   As the method for the electrolytic polymerization, for example, the conductive polymer layer (A) formed by the chemical oxidation polymerization described above is immersed in the electrolytic solution, and the auxiliary electrode is connected to the conductive polymer layer (A And the like, and a method of performing electropolymerization with an external cathode using the auxiliary electrode as an anode.

前記電解重合に使用する電解液は、前記導電性高分子を構成するモノマー、ドーパントとなる支持電解質、溶媒等を含むものであるが、前記電解液は、前記導電性高分子を構成するモノマーを0.01〜5mol/Lの濃度で含有するものが好ましい。また前記ドーパントとなる支持電解質を0.01〜2mol/Lの濃度で含有するものが好ましい。   The electrolytic solution used for the electropolymerization includes a monomer that constitutes the conductive polymer, a supporting electrolyte that serves as a dopant, a solvent, and the like. What is contained at a concentration of 01 to 5 mol / L is preferable. Moreover, what contains the supporting electrolyte used as the said dopant by the density | concentration of 0.01-2 mol / L is preferable.

本発明の固体電解コンデンサは公知の方法により組み立てることができる。
すなわち、前記誘電体酸化被膜上に導電性高分子層(A)を化学酸化重合により形成しておき、次に前記導電性高分子層(A)上に導電性高分子層(B)を電解重合により形成することにより固体電解質層を形成した後、前記固体電解質層にカーボンペースト、銀ペースト等の導電ペーストを塗布乾燥することによって陰極層を形成する。
The solid electrolytic capacitor of the present invention can be assembled by a known method.
That is, a conductive polymer layer (A) is formed on the dielectric oxide film by chemical oxidative polymerization, and then the conductive polymer layer (B) is electrolyzed on the conductive polymer layer (A). After forming a solid electrolyte layer by polymerization, a cathode layer is formed by applying and drying a conductive paste such as carbon paste and silver paste on the solid electrolyte layer.

次に前記被膜形成金属から陽極リード端子、前記陰極層から陰極リード端子を接続して電極を取り出して素子を形成し、この素子全体をエポキシ樹脂等の絶縁性樹脂等、セラミック製、金属製等の外装ケース等により封止して固体電解コンデンサを得ることができる。
この様にして得られた本発明の固体電解コンデンサは、電子・電機分野のコンピュータ、制御機器、通信機器、家電製品等の電子機器に好適に使用することができる。
Next, an anode lead terminal is connected from the film forming metal, and a cathode lead terminal is connected from the cathode layer to take out an electrode to form an element. The entire element is made of an insulating resin such as epoxy resin, ceramic, metal, etc. A solid electrolytic capacitor can be obtained by sealing with an outer case or the like.
The solid electrolytic capacitor of the present invention thus obtained can be suitably used for electronic devices such as computers, control devices, communication devices, and home appliances in the electronic / electrical field.

以下に本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものでない。   EXAMPLES The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

表面に誘電体酸化皮膜が形成された3mm×5mmサイズのエッチドアルミニウム化成箔を105℃乾燥機中で10分間乾燥させた。これを、18℃サーモプレート上に10分間静置した。
次に18℃に冷却したモノマー液(ピロール3g、エタノール5gおよび水18.4gの混合液)4μlを前記エッチドアルミニウム化成箔に滴下し、1分間静置した。
さらに、酸化剤液[パラトルエンスルホン酸テトラエチルアンモニウム(PTS−TEA)5.6mmol、ペルオキソ二硫酸アンモニウム1.56gおよび水10.63gの混合液]12μlを箔上に滴下し、10分間静置することにより、化学酸化重合により形成されてなる導電性高分子層(A)を形成した。これを純水にて洗浄し、乾燥機中で105℃、10分間の条件により乾燥させた。
A 3 mm × 5 mm size etched aluminum formed foil having a dielectric oxide film formed on the surface was dried in a 105 ° C. dryer for 10 minutes. This was left to stand on an 18 ° C. thermoplate for 10 minutes.
Next, 4 μl of a monomer solution (mixture of 3 g of pyrrole, 5 g of ethanol and 18.4 g of water) cooled to 18 ° C. was dropped onto the etched aluminum formed foil, and allowed to stand for 1 minute.
Furthermore, 12 [mu] l of an oxidizing agent solution [mixed solution of 5.6 mmol of paraethylammonium tetraethylammonium (PTS-TEA), 1.56 g of ammonium peroxodisulfate and 10.63 g of water] is dropped on the foil and left to stand for 10 minutes. Thus, a conductive polymer layer (A) formed by chemical oxidative polymerization was formed. This was washed with pure water and dried in a dryer at 105 ° C. for 10 minutes.

次に、電解液(アントラキノン−2−スルホン酸4.67mmol、ピロール0.6gおよび水45.8gの混合液)中に前記導電性高分子層(A)を浸漬し、前記エッチドアルミニウム化成箔を陽極として、電流値を0.4mAに固定して電解重合を行い、導電性高分子層(B)を形成することにより、エッチドアルミニウム化成箔表面に設けられた誘電体酸化被膜上に固体電解質層を形成した。   Next, the conductive polymer layer (A) is immersed in an electrolytic solution (mixed solution of 4.67 mmol of anthraquinone-2-sulfonic acid, 0.6 g of pyrrole and 45.8 g of water), and the etched aluminum formed foil Is used as an anode, the current value is fixed at 0.4 mA, and electropolymerization is performed to form a conductive polymer layer (B), whereby a solid is formed on the dielectric oxide film provided on the surface of the etched aluminum formed foil. An electrolyte layer was formed.

次に、前記導電性高分子層(B)に対し、カーボンペーストと銀ペーストを順に塗布し、乾燥させて、合計20個のコンデンサ素子を完成させた。
これらの20個のコンデンサ素子について、初期特性として120Hzにおける静電容量(Cs)、損失係数(tanδ×100)、100kHzにおける静電容量(Cs)および等価直列抵抗(ESR)を測定した。
また、155℃大気中放置による熱耐久性試験を行い、所定時間経過後に前記特性を評価した。結果を表1、2および4ならびに図1および4に示した。
なお、熱耐久性試験に使用したコンデンサ素子に対しては絶縁性樹脂等による封止は行わなかった。
Next, a carbon paste and a silver paste were sequentially applied to the conductive polymer layer (B) and dried to complete a total of 20 capacitor elements.
For these 20 capacitor elements, capacitance (Cs) at 120 Hz, loss factor (tan δ × 100), capacitance (Cs) at 100 kHz, and equivalent series resistance (ESR) were measured as initial characteristics.
In addition, a thermal durability test was performed by leaving in the atmosphere at 155 ° C., and the characteristics were evaluated after a predetermined time. The results are shown in Tables 1, 2 and 4 and FIGS.
The capacitor element used in the thermal durability test was not sealed with an insulating resin or the like.

前記導電性高分子層(B)の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1の場合と同様にして20個のコンデンサ素子を得た。
すなわち、電解液にアントラキノン−2−スルホン酸ナトリウム4.67mmol、ピロール0.6gおよび水45.8gの混合液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層(B)を形成した。
コンデンサ素子の特性評価を実施例1の場合と同様に行い、その結果を表1、2および4ならびに図1および4に示した。
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer layer (B) was changed to the following method.
That is, electropolymerization was performed using a mixed solution of 4.67 mmol of sodium anthraquinone-2-sulfonate, 0.6 g of pyrrole, and 45.8 g of water as the electrolytic solution to form a conductive polymer layer (B).
The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Tables 1, 2 and 4 and FIGS.

前記導電性高分子層(B)の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1の場合と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。
すなわち、電解液にアントラキノン−2−スルホン酸テトラエチルアンモニウム4.67mmol、ピロール0.6gおよび水45.8gの混合液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層(B)を形成した。
コンデンサ素子の特性評価を実施例1の場合と同様に行い、結果を表1、2および4ならびに図1および4に示した。
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer layer (B) was changed to the following method.
That is, electropolymerization was performed using a mixed solution of 4.67 mmol of tetraethylammonium anthraquinone-2-sulfonate, 0.6 g of pyrrole, and 45.8 g of water as the electrolytic solution to form a conductive polymer layer (B).
The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Tables 1, 2 and 4 and FIGS.

前記導電性高分子層(A)の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例2の場合と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。
すなわち、酸化剤液として4−スルホフタル酸5.6mmol、ペルオキソ二硫酸アンモニウム1.56gおよび水10.63gの混合液を用いて化学酸化重合を行い、前記導電性高分子層(A)を形成した。
コンデンサ素子の特性評価を実施例1の場合と同様に行い、その結果を結果を表1、2および4ならびに図1および4に示した。
実施例1〜3に比べて、ESRが著しく小さい値を示した。
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 2 except that the method for producing the conductive polymer layer (A) was changed to the following method.
That is, chemical oxidation polymerization was performed using a mixed solution of 5.6 mmol of 4-sulfophthalic acid, 1.56 g of ammonium peroxodisulfate, and 10.63 g of water as an oxidant solution to form the conductive polymer layer (A).
The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Tables 1, 2 and 4 and FIGS.
Compared with Examples 1 to 3, ESR showed a remarkably small value.

前記導電性高分子層(A)の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例2の場合と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。
すなわち、酸化剤液として4−スルホフタル酸トリアンモニウム5.6mmol、ペルオキソ二硫酸アンモニウム1.56g、水10.63gおよびエタノール3.42gの混合液を用いて化学酸化重合を行い、前記導電性高分子層(A)を形成した。
コンデンサ素子の特性評価を実施例1の場合と同様に行い、その結果を結果を表1、2および4ならびに図1および4に示した。
実施例1〜3に比べて、ESRが著しく小さい値を示した。
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 2 except that the method for producing the conductive polymer layer (A) was changed to the following method.
That is, chemical oxidative polymerization is performed using 5.6 mmol triammonium 4-sulfophthalate, 1.56 g ammonium peroxodisulfate, 10.63 g water and 3.42 g ethanol as an oxidant solution, and the conductive polymer layer (A) was formed.
The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Tables 1, 2 and 4 and FIGS.
Compared with Examples 1 to 3, ESR showed a remarkably small value.

前記導電性高分子層(A)の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例2の場合と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。
すなわち、酸化剤液としてトリフルオロメチルベンゼンスルホン酸カリウム5.6mmol、ペルオキソ二硫酸アンモニウム1.56gおよび水10.63gの混合液を用いて化学酸化重合を行い、前記導電性高分子層(A)を形成した。
コンデンサ素子の特性評価を実施例1の場合と同様に行い、結果を表1、2および4ならびに図1および4に示した。
実施例1〜3に比べて、静電容量Csが増加することを確認した。
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 2 except that the method for producing the conductive polymer layer (A) was changed to the following method.
That is, chemical oxidative polymerization was performed using a mixed liquid of 5.6 mmol potassium trifluoromethylbenzenesulfonate, 1.56 g ammonium peroxodisulfate and 10.63 g water as an oxidant liquid, and the conductive polymer layer (A) was formed. Formed.
The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Tables 1, 2 and 4 and FIGS.
Compared with Examples 1-3, it confirmed that the electrostatic capacitance Cs increased.

前記導電性高分子層(A)の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例2の場合と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。
すなわち、酸化剤液としてアントラキノン−2−スルホン酸ナトリウム5.6mmol、ペルオキソ二硫酸アンモニウム1.56gおよび水10.63gの混合液を用いて化学酸化重合を行い、、前記導電性高分子層(A)を形成した。
コンデンサ素子の特性評価を実施例1の場合と同様に行い、結果を表1、2および4ならびに図1および4に示した。
実施例1〜3に比べて、静電容量Csが増加することを確認した。
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 2 except that the method for producing the conductive polymer layer (A) was changed to the following method.
That is, chemical oxidation polymerization was performed using a mixed solution of sodium anthraquinone-2-sulfonate 5.6 mmol, ammonium peroxodisulfate 1.56 g and water 10.63 g as an oxidant solution, and the conductive polymer layer (A) Formed.
The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Tables 1, 2 and 4 and FIGS.
Compared with Examples 1-3, it confirmed that the electrostatic capacitance Cs increased.

[比較例1]
前記導電性高分子層(B)の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1の場合と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。
すなわち、電解液にアントラキノン−2,7−ジスルホン酸二ナトリウム4.67mmol、ピロール0.6gおよび水45.8gの混合液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層(B)を形成した。
コンデンサ素子の特性評価を実施例1の場合と同様に行い、その結果を表1、3および5ならびに図2および5に示した。
実施例1〜7に比べて、熱耐久性に大きく劣る結果を示した。
[Comparative Example 1]
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer layer (B) was changed to the following method.
That is, electrolytic polymerization was performed using a mixed solution of 4.67 mmol of disodium anthraquinone-2,7-disulfonate, 0.6 g of pyrrole, and 45.8 g of water as an electrolytic solution to form a conductive polymer layer (B). .
The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Tables 1, 3 and 5 and FIGS.
Compared with Examples 1-7, the result which is largely inferior to thermal durability was shown.

[比較例2]
前記導電性高分子層(B)の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1の場合と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。
すなわち、電解液にナフタレン−2,7−ジスルホン酸二ナトリウム4.67mmol、ピロール0.6gおよび水45.8gの混合液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層(B)を形成した。
コンデンサ素子の特性評価を実施例1の場合と同様に行い、その結果を表1、3および5ならびに図2および5に示した。
実施例1〜7に比べて、熱耐久性に大きく劣る結果を示した。
[Comparative Example 2]
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer layer (B) was changed to the following method.
That is, electrolytic polymerization was performed using a mixed solution of 4.67 mmol of naphthalene-2,7-disulfonic acid disodium, 0.6 g of pyrrole and 45.8 g of water as an electrolytic solution to form a conductive polymer layer (B). .
The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Tables 1, 3 and 5 and FIGS.
Compared with Examples 1-7, the result which is largely inferior to thermal durability was shown.

[比較例3]
前記導電性高分子層(B)の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1の場合と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。
すなわち、電解重合液に4,4−ビフェニルジスルホン酸4.67mmol、ピロール0.6gおよび水45.8gの混合液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層(B)を形成した。
コンデンサ素子の特性評価を実施例1の場合と同様に行い、その結果を表1、3および5ならびに図2および5に示した。
実施例1〜7に比べて、熱耐久性に大きく劣る結果を示した。
[Comparative Example 3]
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer layer (B) was changed to the following method.
That is, electropolymerization was performed using a mixed solution of 4.67 mmol of 4,4-biphenyldisulfonic acid, 0.6 g of pyrrole, and 45.8 g of water in the electrolytic polymerization solution to form a conductive polymer layer (B).
The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Tables 1, 3 and 5 and FIGS.
Compared with Examples 1-7, the result which is largely inferior to thermal durability was shown.

[比較例4]
前記導電性高分子層(B)の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1の場合と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。
すなわち、電解液にアルキルナフタレンスルホン酸Na4.67mmol、ピロール0.6gおよび水45.8gの混合液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層を形成した。
コンデンサ素子の特性評価を実施例1と同様に行い、その結果を表1、3および5ならびに図2および5に示した。
実施例1〜7に比べて、熱耐久性に大きく劣る結果を示した。
[Comparative Example 4]
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer layer (B) was changed to the following method.
That is, electropolymerization was performed using a mixed solution of 4.67 mmol of alkylnaphthalenesulfonic acid Na, 0.6 g of pyrrole and 45.8 g of water as an electrolytic solution to form a conductive polymer layer.
The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Tables 1, 3 and 5 and FIGS.
Compared with Examples 1-7, the result which is largely inferior to thermal durability was shown.

[比較例5]
前記導電性高分子層(B)の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1の場合と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。
すなわち、電解液に4−スルホフタル酸4.67(mmol)、ピロール0.9gおよび水45.8gの混合液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層を形成した。
コンデンサ素子の特性評価を実施例1と同様に行い、その結果を表1、3および5ならびに図2および5に示した。
実施例1〜7に比べて、熱耐久性に大きく劣る結果を示した。
[Comparative Example 5]
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer layer (B) was changed to the following method.
That is, electrolytic polymerization was performed using a mixed solution of 4.67 (mmol) of 4-sulfophthalic acid, 0.9 g of pyrrole, and 45.8 g of water as an electrolytic solution, thereby forming a conductive polymer layer.
The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Tables 1, 3 and 5 and FIGS.
Compared with Examples 1-7, the result which is largely inferior to thermal durability was shown.

[比較例6]
前記導電性高分子層(B)の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1の場合と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。
すなわち、電解液にアントラキノン−1−スルホン酸ナトリウム4.67mmol、ピロール0.6gおよび水45.8gの混合液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層を形成した。
コンデンサ素子の特性評価を実施例1と同様に行い、その結果を表1、3および5ならびに図2および5に示した。
実施例1〜7に比べて、コンデンサの初期特性および熱耐久性が大きく劣る結果を示した。
[Comparative Example 6]
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer layer (B) was changed to the following method.
That is, electropolymerization was performed using a mixed solution of 4.67 mmol of sodium anthraquinone-1-sulfonate, 0.6 g of pyrrole, and 45.8 g of water as the electrolytic solution to form a conductive polymer layer.
The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Tables 1, 3 and 5 and FIGS.
Compared to Examples 1 to 7, the initial characteristics and thermal durability of the capacitors were greatly inferior.

[比較例7]
前記導電性高分子層(B)の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1の場合と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。
すなわち、電解液にアントラキノン−2,6−ジスルホン酸二ナトリウム4.67mmol、ピロール0.6gおよび水45.8gの混合液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層(B)を形成した。
コンデンサ素子の特性評価を実施例1の場合と同様に行い、その結果を表1、3および5ならびに図2および5に示した。
実施例1〜7に比べて、熱耐久性に大きく劣る結果を示した。
[Comparative Example 7]
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer layer (B) was changed to the following method.
That is, electropolymerization was performed using a mixed solution of 4.67 mmol of disodium anthraquinone-2,6-disulfonate, 0.6 g of pyrrole and 45.8 g of water as an electrolytic solution to form a conductive polymer layer (B). .
The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Tables 1, 3 and 5 and FIGS.
Compared with Examples 1-7, the result which is largely inferior to thermal durability was shown.

[比較例8]
前記導電性高分子層(B)の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1の場合と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。
すなわち、電解液にn−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム4.67mmol、ピロール0.6gおよび水45.8gの混合液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層(B)を形成した。
コンデンサ素子の特性評価を実施例1の場合と同様に行い、その結果を表1、3および5ならびに図2および5に示した。
実施例1〜7に比べて、熱耐久性に大きく劣る結果を示した。
[Comparative Example 8]
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer layer (B) was changed to the following method.
That is, electrolytic polymerization was performed using a mixed solution of 4.67 mmol of sodium n-dodecylbenzenesulfonate, 0.6 g of pyrrole, and 45.8 g of water as the electrolytic solution to form a conductive polymer layer (B).
The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Tables 1, 3 and 5 and FIGS.
Compared with Examples 1-7, the result which is largely inferior to thermal durability was shown.

[比較例9]
前記導電性高分子層(B)の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1の場合と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。
すなわち、電解液に1,4−ナフトキノン−2−スルホン酸ナトリウム4.67mmol、ピロール0.6gおよび水45.8gの混合液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層(B)を形成した。
コンデンサ素子の特性評価を実施例1の場合と同様に行い、その結果を表1、3および5ならびに図2および5に示した。
実施例1〜7に比べて、熱耐久性に大きく劣る結果を示した。
[Comparative Example 9]
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer layer (B) was changed to the following method.
That is, electrolytic polymerization is performed using a mixed solution of 4.67 mmol of sodium 1,4-naphthoquinone-2-sulfonate, 0.6 g of pyrrole, and 45.8 g of water in the electrolytic solution to form a conductive polymer layer (B). did.
The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Tables 1, 3 and 5 and FIGS.
Compared with Examples 1-7, the result which is largely inferior to thermal durability was shown.

[比較例10]
前記導電性高分子層(B)の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1の場合と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。
すなわち、電解液に3,4−ジヒドロキシアントラキノン−2−スルホン酸4.67mmol、ピロール0.6gおよび水45.8gの混合液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層(B)を形成した。
コンデンサ素子の特性評価を実施例1の場合と同様に行い、その結果を表1、3および5ならびに図2および5に示した。
実施例1〜7に比べて、熱耐久性に大きく劣る結果を示した。
[Comparative Example 10]
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer layer (B) was changed to the following method.
That is, electrolytic polymerization is performed using a mixed solution of 3.67 mmol of 3,4-dihydroxyanthraquinone-2-sulfonic acid, 0.6 g of pyrrole and 45.8 g of water in the electrolytic solution to form a conductive polymer layer (B). did.
The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Tables 1, 3 and 5 and FIGS.
Compared with Examples 1-7, the result which is largely inferior to thermal durability was shown.

[比較例11]
前記導電性高分子層(B)の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1の場合と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。
すなわち、電解液に9,10−ジメトキシアントラセン−2−スルホン酸ナトリウム4.67mmol、ピロール0.6gおよび水45.8gの混合液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層(B)を形成した。
コンデンサ素子の特性評価を実施例1の場合と同様に行い、その結果を表1、3および5ならびに図3および6に示した。
実施例1〜7と比較して、特にESRの変化率が大きく熱耐久性に大きく劣る結果となった。
[Comparative Example 11]
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer layer (B) was changed to the following method.
That is, electrolytic polymerization was performed using a mixed solution of 4.67 mmol of sodium 9,10-dimethoxyanthracene-2-sulfonate, 0.6 g of pyrrole, and 45.8 g of water as the electrolytic solution, and the conductive polymer layer (B) was formed. Formed.
The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Tables 1, 3 and 5 and FIGS.
Compared with Examples 1-7, the rate of change of ESR was particularly large and the results were greatly inferior in thermal durability.

[比較例12]
前記導電性高分子層(B)の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1の場合と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。
すなわち、電解液に1−ナフタレンスルホン酸ナトリウム4.67mmol、ピロール0.6gおよび水45.8gの混合液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層(B)を形成した。
コンデンサ素子の特性評価を実施例1の場合と同様に行い、その結果を表1、3および5ならびに図3および6に示した。
実施例1〜7と比較して、特にESRの変化率が大きく熱耐久性に大きく劣る結果となった。
[Comparative Example 12]
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer layer (B) was changed to the following method.
That is, electrolytic polymerization was performed using a mixed solution of 4.67 mmol of sodium 1-naphthalenesulfonate, 0.6 g of pyrrole, and 45.8 g of water as an electrolytic solution, thereby forming a conductive polymer layer (B).
The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Tables 1, 3 and 5 and FIGS.
Compared with Examples 1-7, the rate of change of ESR was particularly large and the results were greatly inferior in thermal durability.

[比較例13]
前記導電性高分子層(B)の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1の場合と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。
すなわち、電解液に1−アミノ−4−ブロモアントラキノン−2−スルホン酸ナトリウム4.67mmol、ピロール0.6gおよび水45.8gの混合液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層(B)を形成した。
コンデンサ素子の特性評価を実施例1の場合と同様に行い、その結果を表1、3および5ならびに図3および6に示した。
実施例1〜7と比較して、特にESRの変化率が大きく熱耐久性に大きく劣る結果となった。
[Comparative Example 13]
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer layer (B) was changed to the following method.
That is, electrolytic polymerization was carried out using a mixed solution of 4.67 mmol of sodium 1-amino-4-bromoanthraquinone-2-sulfonate, 0.6 g of pyrrole and 45.8 g of water as the electrolytic solution, and the conductive polymer layer (B ) Was formed.
The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Tables 1, 3 and 5 and FIGS.
Compared with Examples 1-7, the rate of change of ESR was particularly large and the results were greatly inferior in thermal durability.

[比較例14]
前記導電性高分子層(B)の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1の場合と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。
すなわち、電解液に4,8−ジアミノ−1,5−ジヒドロキシアントラキノン−2−スルホン酸ナトリウム4.67mmol、ピロール0.6gおよび水45.8gの混合液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層(B)を形成した。
コンデンサ素子の特性評価を実施例1の場合と同様に行い、その結果を表1、3および5ならびに図3および6に示した。
実施例1〜7と比較して、熱耐久性に大きく劣る結果となった。
[Comparative Example 14]
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer layer (B) was changed to the following method.
That is, electrolytic polymerization was performed using a mixed solution of 4.67 mmol of sodium 4,8-diamino-1,5-dihydroxyanthraquinone-2-sulfonate, 0.6 g of pyrrole and 45.8 g of water as the electrolytic solution. A molecular layer (B) was formed.
The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Tables 1, 3 and 5 and FIGS.
Compared with Examples 1 to 7, the results were greatly inferior in thermal durability.

[比較例15]
前記導電性高分子層(B)の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1の場合と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。
すなわち、電解液にアントラキノン−1,5−ジスルホン酸二ナトリウム4.67mmol、ピロール0.6gおよび水45.8gの混合液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層(B)を形成した。
コンデンサ素子の特性評価を実施例1の場合と同様に行い、その結果を表1、3および5ならびに図3および6に示した。
実施例1〜7と比較して、熱耐久性に大きく劣る結果となった。
[Comparative Example 15]
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer layer (B) was changed to the following method.
That is, electropolymerization was performed using a mixed solution of 4.67 mmol of anthraquinone-1,5-disulfonic acid disodium salt, 0.6 g of pyrrole and 45.8 g of water as an electrolytic solution to form a conductive polymer layer (B). .
The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Tables 1, 3 and 5 and FIGS.
Compared with Examples 1 to 7, the results were greatly inferior in thermal durability.

[比較例16]
前記導電性高分子層(B)の製造方法を以下の方法に代えたこと以外は実施例1の場合と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。
すなわち、電解液にアントラキノン−1,8−ジスルホン酸二ナトリウム4.67mmol、ピロール0.6gおよび水45.8gの混合液を用いて電解重合を行い、導電性高分子層(B)を形成した。
コンデンサ素子の特性評価を実施例1の場合と同様に行い、その結果を表1、3および5ならびに図3および6に示した。
実施例1〜7と比較して、熱耐久性に大きく劣る結果となった。
[Comparative Example 16]
Twenty capacitor elements were obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the conductive polymer layer (B) was changed to the following method.
That is, electrolytic polymerization was performed using a mixed solution of 4.67 mmol of disodium anthraquinone-1,8-disulfonate, 0.6 g of pyrrole, and 45.8 g of water as an electrolytic solution to form a conductive polymer layer (B). .
The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Tables 1, 3 and 5 and FIGS.
Compared with Examples 1 to 7, the results were greatly inferior in thermal durability.

[比較例17]
実施例7の場合で、前記導電性高分子層(A)だけを形成し、前記導電性高分子層(B)を形成しなかった他は実施例7の場合と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。
コンデンサ素子の特性評価を実施例1の場合と同様に行い、その結果を表1、3および5ならびに図3および6に示した。
実施例1〜7と比較して、熱耐久性に大きく劣る結果となった。
[Comparative Example 17]
In the case of Example 7, only the conductive polymer layer (A) was formed, and the conductive polymer layer (B) was not formed. A capacitor element was obtained.
The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Tables 1, 3 and 5 and FIGS.
Compared with Examples 1 to 7, the results were greatly inferior in thermal durability.

[比較例18]
実施例4の場合で、前記導電性高分子層(A)だけを形成し、前記導電性高分子層(B)を形成しなかった他は実施例4の場合と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。
コンデンサ素子の特性評価を実施例1の場合と同様に行い、その結果を表1、3および5ならびに図3および6に示した。
実施例1〜7と比較して、熱耐久性に大きく劣る結果となった。
[Comparative Example 18]
In the case of Example 4, only the conductive polymer layer (A) was formed, and the conductive polymer layer (B) was not formed. A capacitor element was obtained.
The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Tables 1, 3 and 5 and FIGS.
Compared with Examples 1 to 7, the results were greatly inferior in thermal durability.

[比較例19]
実施例1の場合で、前記導電性高分子層(A)だけを形成し、前記導電性高分子層(B)を形成しなかった他は実施例1の場合と同様にして、20個のコンデンサ素子を得た。
コンデンサ素子の特性評価を実施例1の場合と同様に行い、その結果を表1、3および5ならびに図3および6に示した。
実施例1〜7と比較して、熱耐久性に大きく劣る結果となった。
[Comparative Example 19]
In the case of Example 1, only the conductive polymer layer (A) was formed, and the conductive polymer layer (B) was not formed. A capacitor element was obtained.
The characteristics of the capacitor element were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Tables 1, 3 and 5 and FIGS.
Compared with Examples 1 to 7, the results were greatly inferior in thermal durability.

前記導電性高分子層(B)に一般式(1)により表される化合物を含む固体電解コンデンサは、前記導電性高分子層(A)に使用するドーパントの種類に関わらず、固体電解コンデンサの熱耐久性等を大幅に向上させることが確認された。   The solid electrolytic capacitor containing the compound represented by the general formula (1) in the conductive polymer layer (B) is a solid electrolytic capacitor regardless of the type of dopant used in the conductive polymer layer (A). It was confirmed that the heat durability and the like were greatly improved.

Figure 2008186881
Figure 2008186881

Figure 2008186881
上記表2は、実施例におけるコンデンサ素子の耐熱試験において、試験時間に対するCs(120Hz)の変化を示したものである。
Figure 2008186881
Table 2 shows the change in Cs (120 Hz) with respect to the test time in the heat resistance test of the capacitor element in the example.

Figure 2008186881
上記表3は、比較例におけるコンデンサ素子の耐熱試験において、試験時間に対するCs(120Hz)の変化を示したものである。
Figure 2008186881
Table 3 shows the change in Cs (120 Hz) with respect to the test time in the heat resistance test of the capacitor element in the comparative example.

Figure 2008186881
上記表4は、実施例におけるコンデンサ素子の耐熱試験において、試験時間に対するESR(100kHz)の変化を示したものである。
Figure 2008186881
Table 4 shows the change in ESR (100 kHz) with respect to the test time in the heat resistance test of the capacitor element in the example.

Figure 2008186881
上記表5は、比較例におけるコンデンサ素子の耐熱試験において、試験時間に
対するESR(100kHz)の変化を示したものである。
Figure 2008186881
Table 5 shows the change in ESR (100 kHz) with respect to the test time in the heat resistance test of the capacitor element in the comparative example.

実施例2、4、5ならびに比較例1、4、6の作製したコンデンサ素子に関しては、熱耐久性試験前後でX線光電子分光法分析を行い、その結果を、N1sXPSスペクトルとして図7〜18に示し、N1sの各化学状態比を表6に、窒素と硫黄元素の存在比[窒素を1とした場合の硫黄元素の存在比(相対値)]を表7にそれぞれ示した。   The capacitor elements produced in Examples 2, 4, 5 and Comparative Examples 1, 4, 6 were subjected to X-ray photoelectron spectroscopy analysis before and after the thermal durability test, and the results are shown in FIGS. 7 to 18 as N1sXPS spectra. The chemical state ratios of N1s are shown in Table 6, and the abundance ratio of nitrogen and sulfur element [the abundance ratio of sulfur element when nitrogen is 1 (relative value)] is shown in Table 7, respectively.

Figure 2008186881
Figure 2008186881

Figure 2008186881
Figure 2008186881

110時間の熱耐久性試験後において、比較例1、4および6ではN1sスペクトルにおいて−NH−に帰属される401.5eV付近のピーク強度比が減少する一方、実施例2、4および5ではそのような変化が無いことが分かる。
前記導電性高分子層(B)である電解重合ポリピロール膜に対してアントラキノン−2−スルホン酸Naがドープされた状態はアントラキノン−2,7−ジスルホン酸Naおよびアルキルナフタレンスルホン酸Naがドープされた状態に比べて、著しく熱的に安定である。
つまり熱耐久性に優れた導電性高分子が形成されている。
After 110 hours of thermal durability test, in Comparative Examples 1, 4 and 6, the peak intensity ratio near 401.5 eV attributed to —NH + X — in the N1s spectrum decreases, while Examples 2, 4 and 6 5 shows that there is no such change.
The electropolymerized polypyrrole film, which is the conductive polymer layer (B), is doped with anthraquinone-2-sulfonic acid Na and doped with anthraquinone-2,7-disulfonic acid Na and alkylnaphthalenesulfonic acid Na. Compared to the state, it is extremely thermally stable.
That is, a conductive polymer having excellent heat durability is formed.

また表7より、本発明に使用される電解重合時のドーパントとしてのアントラキノン−2−スルホン酸ナトリウムは、スルホン基の位置のみが異なる電解重合時のドーパントであるアントラキノン−1−スルホン酸ナトリウムに比べてポリピロール膜中へのドープ率が高い点で優れている。   Also, from Table 7, sodium anthraquinone-2-sulfonate as a dopant at the time of electrolytic polymerization used in the present invention is different from sodium anthraquinone-1-sulfonate, which is a dopant at the time of electrolytic polymerization that is different only in the position of the sulfone group. This is excellent in that the doping rate into the polypyrrole film is high.

ところで導電性高分子中のドーパント分子の存在状態(化学状態、存在量)については、X線光電子分光法分析による解析手法が報告されている(参考文献 Conductive Polymers Vol.3 p.134)。
X線光電子分光法とは、超高真空中で試料にX線を照射し、試料を構成する原子の内殻から放出されてくる光電子の運動エネルギーとその数をエネルギーアナライザーで測定する分析法である。
By the way, about the presence state (chemical state, abundance) of the dopant molecule in the conductive polymer, an analysis method by X-ray photoelectron spectroscopy analysis has been reported (reference document Conductive Polymers Vol. 3 p. 134).
X-ray photoelectron spectroscopy is an analytical method in which a sample is irradiated with X-rays in an ultra-high vacuum and the kinetic energy and number of photoelectrons emitted from the inner shell of the atoms constituting the sample are measured with an energy analyzer. is there.

通常、原子を構成している電子は原子核から一定の強さの束縛を受けているので、X線を当てたときに放出される光電子の運動エネルギーは、
(励起光のエネルギー)−(束縛エネルギー)
となる。
しかしながら、特に原子が化合物や結晶格子を形成しているような別の束縛を受けている状態においては、自由な状態と比較するとその運動エネルギー値に僅かな変化(化学シフト)が確認できる。
Usually, the electrons that make up an atom are bound to a certain intensity from the nucleus, so the kinetic energy of the photoelectrons emitted when struck with X-rays is
(Excitation light energy)-(Binding energy)
It becomes.
However, a slight change (chemical shift) in the kinetic energy value can be confirmed in comparison with the free state, particularly in a state where the atoms are subjected to other constraints such as forming a compound or a crystal lattice.

X線光電子分光法では、原子が置かれている束縛状態によってこの化学シフト量が異なるため、この現象を利用して各元素の化学状態の知見が得られ、また発生する光電子数により試料表面近傍の各種元素存在比を特定することができる。   In X-ray photoelectron spectroscopy, the amount of this chemical shift differs depending on the state of the atom where it is placed, so this phenomenon can be used to obtain information on the chemical state of each element. The abundance ratio of various elements can be specified.

固体電解コンデンサの固体電解質にポリピロールを用いた場合、前記固体電解質の化学状態−NH−に帰属されるX線光電子分光法のピーク強度は、そのコンデンサの耐久性と強い相関を示す。
すなわち、155℃大気中、110時間放置した耐熱試験前後で、下式(4)で定義される固体電解質における化学状態−NH−の減少速度Vが0.2(%/h)以下である固体電解コンデンサは著しく優れた熱耐久性を示すことを見出した。
When polypyrrole is used as the solid electrolyte of the solid electrolytic capacitor, the peak intensity of the X-ray photoelectron spectroscopy attributed to the chemical state of the solid electrolyte —NH + X — shows a strong correlation with the durability of the capacitor.
That is, before and after the heat resistance test that was left in the atmosphere at 155 ° C. for 110 hours, the decrease rate V of the chemical state —NH + X — in the solid electrolyte defined by the following formula (4) was 0.2 (% / h) or less. It has been found that the solid electrolytic capacitor is extremely excellent in thermal durability.

Figure 2008186881
実際に実施例2、4および5ならびに比較例1および4に関して、耐熱試験前後での化学状態−NH−に帰属される401.5eV付近のピーク強度減少速度、耐熱試験前後での静電容量Cs(120Hz)減少速度およびESR(100kHz)増加速度について表8に結果をまとめた。
Figure 2008186881
Actually, with respect to Examples 2, 4, and 5 and Comparative Examples 1 and 4, the peak intensity decrease rate near 401.5 eV attributed to the chemical state -NH + X -- before and after the heat test, The results are summarized in Table 8 for the rate of decrease in capacitance Cs (120 Hz) and the rate of increase in ESR (100 kHz).

Figure 2008186881
Figure 2008186881

ここで化学状態−NH−減少速度、静電容量Cs(120Hz)減少速度、ESR(100kHz)増加速度はそれぞれ下式で定義される。 Here, the chemical state -NH + X -- decrease rate, capacitance Cs (120 Hz) decrease rate, and ESR (100 kHz) increase rate are defined by the following equations, respectively.

Figure 2008186881
Figure 2008186881

Figure 2008186881
Figure 2008186881

Figure 2008186881
Figure 2008186881

表8より、耐熱試験前後における化学状態−NH−の減少速度と、静電容量Cs(120Hz)減少速度およびESR(100kHz)増加速度は、比例関係にあることが示唆された。 From Table 8, it was suggested that the decrease rate of the chemical state -NH + X -- before and after the heat resistance test, the capacitance Cs (120 Hz) decrease rate, and the ESR (100 kHz) increase rate are in a proportional relationship.

また表8において、特にアントラキノン−2−スルホン酸ナトリウムを電解重合ドーパントに使用した実施例2、4および5においては、155℃大気中110時間の耐熱試験前後で、化学状態−NH−の減少速度が0.2(%/h)以下となるとき、静電容量Cs(120Hz)減少速度が0.17(%/h)以下、ESR(100kHz)増加速度が4.0(%/h)以下という優れた熱耐久性を示した。 Further, in Table 8, in Examples 2, 4 and 5 in which sodium anthraquinone-2-sulfonate was used as an electrolytic polymerization dopant, in particular, before and after a heat test at 155 ° C. in the atmosphere for 110 hours, the chemical state —NH + X — When the decrease rate of the capacitance is 0.2 (% / h) or less, the decrease rate of the capacitance Cs (120 Hz) is 0.17 (% / h) or less, and the increase rate of ESR (100 kHz) is 4.0 (% / h). h) The following excellent thermal durability was exhibited.

実施例におけるコンデンサ素子の耐熱試験において、試験時間に対するCs(120Hz)をプロットしたグラフである。It is the graph which plotted Cs (120 Hz) with respect to test time in the heat resistance test of the capacitor | condenser element in an Example. 比較例におけるコンデンサ素子の耐熱試験において、試験時間に対するCs(120Hz)をプロットしたグラフである。It is the graph which plotted Cs (120 Hz) with respect to test time in the heat resistance test of the capacitor | condenser element in a comparative example. 比較例におけるコンデンサ素子の耐熱試験において、試験時間に対するCs(120Hz)をプロットしたグラフである。It is the graph which plotted Cs (120 Hz) with respect to test time in the heat resistance test of the capacitor | condenser element in a comparative example. 実施例におけるコンデンサ素子の耐熱試験において、試験時間に対するESR(100kHz)をプロットしたグラフである。It is the graph which plotted ESR (100 kHz) with respect to test time in the heat resistance test of the capacitor | condenser element in an Example. 比較例におけるコンデンサ素子の耐熱試験において、試験時間に対するESR(100kHz)をプロットしたグラフである。It is the graph which plotted ESR (100 kHz) with respect to test time in the heat resistance test of the capacitor | condenser element in a comparative example. 比較例におけるコンデンサ素子の耐熱試験において、試験時間に対するESR(100kHz)をプロットしたグラフである。It is the graph which plotted ESR (100 kHz) with respect to test time in the heat resistance test of the capacitor | condenser element in a comparative example. 実施例2のコンデンサ素子の耐熱試験前のX線光電子分光法分析によるN1sXPSスペクトル図である。It is a N1sXPS spectrum figure by the X-ray photoelectron spectroscopy analysis before the heat test of the capacitor | condenser element of Example 2. FIG. 実施例2のコンデンサ素子の耐熱試験後のX線光電子分光法分析によるN1sXPSスペクトル図である。It is a N1sXPS spectrum figure by the X-ray photoelectron spectroscopy analysis after the heat test of the capacitor | condenser element of Example 2. FIG. 実施例4のコンデンサ素子の耐熱試験前のX線光電子分光法分析によるN1sXPSスペクトル図である。It is a N1sXPS spectrum figure by the X-ray photoelectron spectroscopy analysis before the heat test of the capacitor | condenser element of Example 4. FIG. 実施例4のコンデンサ素子の耐熱試験後のX線光電子分光法分析によるN1sXPSスペクトル図である。It is a N1sXPS spectrum figure by the X-ray photoelectron spectroscopy analysis after the heat test of the capacitor | condenser element of Example 4. FIG. 実施例5のコンデンサ素子の耐熱試験前のX線光電子分光法分析によるN1sXPSスペクトル図である。It is a N1sXPS spectrum figure by the X-ray photoelectron spectroscopy analysis before the heat test of the capacitor | condenser element of Example 5. FIG. 実施例5のコンデンサ素子の耐熱試験後のX線光電子分光法分析によるN1sXPSスペクトル図である。It is a N1sXPS spectrum figure by the X-ray photoelectron spectroscopy analysis after the heat resistance test of the capacitor | condenser element of Example 5. FIG. 比較例1のコンデンサ素子の耐熱試験前のX線光電子分光法分析によるN1sXPSスペクトル図である。It is a N1sXPS spectrum figure by the X-ray photoelectron spectroscopy analysis before the heat test of the capacitor | condenser element of the comparative example 1. 比較例1のコンデンサ素子の耐熱試験後のX線光電子分光法分析によるN1sXPSスペクトル図である。It is a N1sXPS spectrum figure by the X-ray photoelectron spectroscopy analysis after the heat test of the capacitor | condenser element of the comparative example 1. 比較例4のコンデンサ素子の耐熱試験前のX線光電子分光法分析によるN1sXPSスペクトル図である。It is a N1sXPS spectrum figure by the X-ray photoelectron spectroscopy analysis before the heat test of the capacitor | condenser element of the comparative example 4. 比較例4のコンデンサ素子の耐熱試験後のX線光電子分光法分析によるN1sXPSスペクトル図である。It is a N1sXPS spectrum figure by the X-ray photoelectron spectroscopy analysis after the heat test of the capacitor | condenser element of the comparative example 4. 比較例6のコンデンサ素子の耐熱試験前のX線光電子分光法分析によるN1sXPSスペクトル図である。It is a N1sXPS spectrum figure by the X-ray photoelectron spectroscopy analysis before the heat test of the capacitor | condenser element of the comparative example 6. 比較例6のコンデンサ素子の耐熱試験後のX線光電子分光法分析によるN1sXPSスペクトル図である。It is a N1sXPS spectrum figure by the X-ray photoelectron spectroscopy analysis after the heat test of the capacitor | condenser element of the comparative example 6.

符号の説明Explanation of symbols

1 N1sに対応するピーク
2 ドーパントの影響によるピーク1
3 ドーパントの影響によるピーク2
4 ドーパントの影響によるピーク3
5 ドーパントの影響によるピーク4
1 Peak corresponding to N1s 2 Peak 1 due to influence of dopant
3 Peak 2 due to dopant effects
4 Peak 3 due to dopant effect
5 Peak 4 due to dopant effect

Claims (8)

被膜形成金属表面に設けられた誘電体酸化被膜上に固体電解質層を備えた固体電解コンデンサであって、
前記固体電解質層は、
化学酸化重合により形成されてなる導電性高分子層(A)と、
前記導電性高分子層(A)を陽極とする電解重合により形成されてなる導電性高分子層
(B)と、を少なくとも有し、
前記導電性高分子層(B)が、下記一般式(1)
Figure 2008186881
(式中、Xは水素イオン、アンモニウムイオン、有機アンモニウムイオンまたは金属イオンを表す。R〜Rは、それぞれ独立して水素原子、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状アルキル基を表わす。)により表される化合物をドーパントとして含むことを特徴とする固体電解コンデンサ。
A solid electrolytic capacitor comprising a solid electrolyte layer on a dielectric oxide film provided on a film-forming metal surface,
The solid electrolyte layer is
A conductive polymer layer (A) formed by chemical oxidative polymerization;
And at least a conductive polymer layer (B) formed by electrolytic polymerization using the conductive polymer layer (A) as an anode,
The conductive polymer layer (B) has the following general formula (1)
Figure 2008186881
(In the formula, X 1 represents a hydrogen ion, an ammonium ion, an organic ammonium ion or a metal ion. R 1 to R 7 are each independently a hydrogen atom or a linear or branched alkyl having 1 to 6 carbon atoms. A solid electrolytic capacitor comprising a compound represented by the formula:
前記一般式(1)により表される化合物が、アントラキノン−2−スルホン酸、アントラキノン−2−スルホン酸有機アンモニウム塩およびアントラキノン−2−スルホン酸アルカリ金属塩からなる群より選ばれる少なくとも一つであることを特徴とする、請求項1に記載の固体電解コンデンサ。   The compound represented by the general formula (1) is at least one selected from the group consisting of anthraquinone-2-sulfonic acid, anthraquinone-2-sulfonic acid organic ammonium salt, and an anthraquinone-2-sulfonic acid alkali metal salt. The solid electrolytic capacitor according to claim 1, wherein: 前記導電性高分子層(A)が、下記一般式(2)
Figure 2008186881
(式中、Xは水素原子またはハロゲン原子を表す。Xは水素イオン、アンモニウムイ
オン、有機アンモニウムイオンまたは金属イオンを表す。R〜R11は、それぞれ独立
して水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状アルキル基、炭素数
1〜6の直鎖状または分岐鎖状アルコキシ基、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状ハロ
ゲン化アルキル基、炭素数6〜12のアリール基、水酸基、ニトロ基またはシアノ基を表
わす。)により表される化合物、
下記一般式(3)
Figure 2008186881
(式中、X、XおよびXはそれぞれ独立して水素イオン、アンモニウムイオン、有
機アンモニウムイオンまたは金属イオンを表す。Rは水素原子、炭素数1〜6の直鎖状ま
たは分岐鎖状アルキル基を表わす。)により表される化合物、および
下記一般式(4)
Figure 2008186881
(式中、Xは水素イオン、アンモニウムイオン、有機アンモニウムイオンまたは金属イ
オンを表す。R12〜R18は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜
6の直鎖状または分岐鎖状アルキル基、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状アルコキシ
基、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状ハロゲン化アルキル基、炭素数6〜12のアリ
ール基、水酸基、ニトロ基またはシアノ基を表わす。)により表される化合物からなる群
より選ばれる少なくとも一つをドーパントとして含むことを特徴とする、請求項1または
2に記載の固体電解コンデンサ。
The conductive polymer layer (A) has the following general formula (2)
Figure 2008186881
(In the formula, X 2 represents a hydrogen atom or a halogen atom. X 3 represents a hydrogen ion, an ammonium ion, an organic ammonium ion or a metal ion. R 8 to R 11 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, A linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a linear or branched halogenated alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, An aryl group having 6 to 12 carbon atoms, a hydroxyl group, a nitro group or a cyano group).
The following general formula (3)
Figure 2008186881
(In the formula, X 4 , X 5 and X 6 each independently represent a hydrogen ion, an ammonium ion, an organic ammonium ion or a metal ion. R represents a hydrogen atom, a linear or branched chain having 1 to 6 carbon atoms. A compound represented by the following formula (4):
Figure 2008186881
(In the formula, X 7 represents a hydrogen ion, an ammonium ion, an organic ammonium ion or a metal ion. R 12 to R 18 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom,
6 linear or branched alkyl groups, linear or branched alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms, linear or branched alkyl halide groups having 1 to 6 carbon atoms, and 6 to 6 carbon atoms 12 aryl groups, a hydroxyl group, a nitro group or a cyano group is represented. The solid electrolytic capacitor according to claim 1, comprising at least one selected from the group consisting of compounds represented by (2) as a dopant.
前記導電性高分子層(A)および前記導電性高分子層(B)が、それぞれポリピロール
を含むことを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の固体電解コンデンサ。
The solid electrolytic capacitor according to claim 1, wherein the conductive polymer layer (A) and the conductive polymer layer (B) each contain polypyrrole.
被膜形成金属表面に誘電体酸化被膜を形成する工程と、
前記誘電体酸化被膜上に導電性高分子層(A)を化学酸化重合により形成する工程と、
前記導電性高分子層(A)上に導電性高分子層(B)を電解重合により形成する工程と

を有する固体電解コンデンサの製造方法であって、
前記電解重合が、下記一般式(1)
Figure 2008186881
(式中、Xは水素イオン、アンモニウムイオン、有機アンモニウムイオンまたは金属イ
オンを表す。R〜Rは、それぞれ独立して水素原子、炭素数1〜6の直鎖状または分
岐鎖状アルキル基を表わす。)により表される化合物の存在下に実施されることを特徴と
する固体電解コンデンサの製造方法。
Forming a dielectric oxide film on the film-forming metal surface;
Forming a conductive polymer layer (A) on the dielectric oxide film by chemical oxidative polymerization;
Forming a conductive polymer layer (B) on the conductive polymer layer (A) by electrolytic polymerization;
A method for producing a solid electrolytic capacitor having
The electrolytic polymerization is represented by the following general formula (1)
Figure 2008186881
(In the formula, X 1 represents a hydrogen ion, an ammonium ion, an organic ammonium ion or a metal ion. R 1 to R 7 are each independently a hydrogen atom or a linear or branched alkyl having 1 to 6 carbon atoms. The method for producing a solid electrolytic capacitor is carried out in the presence of a compound represented by:
前記一般式(1)により表される化合物が、アントラキノン−2−スルホン酸、アントラキノン−2−スルホン酸有機アンモニウム塩およびアントラキノン−2−スルホン酸アルカリ金属塩からなる群より選ばれる少なくとも一つであることを特徴とする、請求項5に記載の固体電解コンデンサの製造方法。   The compound represented by the general formula (1) is at least one selected from the group consisting of anthraquinone-2-sulfonic acid, anthraquinone-2-sulfonic acid organic ammonium salt, and an anthraquinone-2-sulfonic acid alkali metal salt. The manufacturing method of the solid electrolytic capacitor of Claim 5 characterized by the above-mentioned. 前記化学酸化重合が、下記一般式(2)
Figure 2008186881
(式中、Xは水素原子またはハロゲン原子を表す。Xは水素イオン、アンモニウムイ
オン、有機アンモニウムイオンまたは金属イオンを表す。R〜R11は、それぞれ独立
して水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状アルキル基、炭素数
1〜6の直鎖状または分岐鎖状アルコキシ基、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状ハロ
ゲン化アルキル基、炭素数6〜12アリール基、水酸基、ニトロ基またはシアノ基を表わ
す。)により表される化合物、
下記一般式(3)
Figure 2008186881
(式中、X、XおよびXはそれぞれ独立して水素イオン、アンモニウムイオン、有
機アンモニウムイオンまたは金属イオンを表す。Rは水素原子、炭素数1〜6の直鎖状ま
たは分岐鎖状アルキル基を表わす。)により表される化合物、および
下記一般式(4)
Figure 2008186881
(式中、Xは水素イオン、アンモニウムイオン、有機アンモニウムイオンまたは金属イ
オンを表す。R12〜R18は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜
6の直鎖状または分岐鎖状アルキル基、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状アルコキシ
基、炭素数1〜6の直鎖状または分岐鎖状ハロゲン化アルキル基、炭素数6〜12のアリ
ール基、水酸基、ニトロ基またはシアノ基を表わす。)により表される化合物からなる群
より選ばれる少なくとも一つの存在下に実施されることを特徴とする、請求項5または6
に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
The chemical oxidative polymerization is represented by the following general formula (2)
Figure 2008186881
(In the formula, X 2 represents a hydrogen atom or a halogen atom. X 3 represents a hydrogen ion, an ammonium ion, an organic ammonium ion or a metal ion. R 8 to R 11 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, A linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a linear or branched halogenated alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, A compound having 6 to 12 carbon atoms, a hydroxyl group, a nitro group or a cyano group).
The following general formula (3)
Figure 2008186881
(In the formula, X 4 , X 5 and X 6 each independently represent a hydrogen ion, an ammonium ion, an organic ammonium ion or a metal ion. R represents a hydrogen atom, a linear or branched chain having 1 to 6 carbon atoms. A compound represented by the following formula (4):
Figure 2008186881
(In the formula, X 7 represents a hydrogen ion, an ammonium ion, an organic ammonium ion or a metal ion. R 12 to R 18 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom,
6 linear or branched alkyl groups, linear or branched alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms, linear or branched alkyl halide groups having 1 to 6 carbon atoms, and 6 to 6 carbon atoms 12 aryl groups, a hydroxyl group, a nitro group or a cyano group is represented. The method is carried out in the presence of at least one selected from the group consisting of compounds represented by:
The manufacturing method of the solid electrolytic capacitor of description.
請求項1〜4のいずれかに記載の固体電解コンデンサを備えた電子機器。   The electronic device provided with the solid electrolytic capacitor in any one of Claims 1-4.
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