JP2008176204A - Manufacturing method of liquid crystal display device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、液晶表示装置の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device.
従来から2枚の基板の間にシール部材によって液晶層が封止された液晶表示装置が広く知られており、液晶表示装置は、携帯電話、ゲーム機及びオーディオプレイヤー等のディスプレイに広く使用されている。 Conventionally, a liquid crystal display device in which a liquid crystal layer is sealed between two substrates by a sealing member is widely known, and the liquid crystal display device is widely used in displays of mobile phones, game machines, audio players, and the like. Yes.
液晶表示装置は、TFT等が形成されたTFT基板と、TFT基板に対向して配置されてカラーフィルタ及び共通電極等が形成された対向基板と、TFT基板と対向基板との間に配置されると共にシール部材により封止された液晶層とを備え、液晶層に対して電圧を印加することによって液晶分子の配向を制御して所望の表示を行うようになっている。 A liquid crystal display device is disposed between a TFT substrate on which a TFT or the like is formed, a counter substrate that is disposed opposite to the TFT substrate and on which a color filter, a common electrode, or the like is formed, and the TFT substrate and the counter substrate. And a liquid crystal layer sealed by a sealing member, and applying a voltage to the liquid crystal layer controls the orientation of the liquid crystal molecules to perform a desired display.
液晶表示装置の製造については、一般に、生産性を向上させるため、貼り合わせ基板母材を分断して複数の貼り合わせ基板を形成する方法が知られている。ここで、貼り合わせ基板母材とは、複数の貼り合わせ基板がマトリクス状に配置して一体形成された母材である。貼り合わせ基板母材は、TFT基板を形成する領域(以下、TFT基板領域ともいう)を複数有するTFT基板母材と、対向基板を形成する領域(以下、対向基板領域ともいう)を複数有する対向基板母材とが枠状のシール部材を複数介して貼り合わされて形成されている。 Regarding the manufacture of a liquid crystal display device, in general, a method is known in which a plurality of bonded substrates are formed by dividing a bonded substrate base material in order to improve productivity. Here, the bonded substrate base material is a base material formed by integrally forming a plurality of bonded substrates in a matrix. The bonded substrate base material includes a TFT substrate base material having a plurality of regions for forming TFT substrates (hereinafter also referred to as TFT substrate regions) and a counter member having a plurality of regions for forming counter substrates (hereinafter also referred to as counter substrate regions). The substrate base material is formed by bonding a plurality of frame-shaped seal members.
この液晶表示装置の製造方法では、まず、一方の大判ガラス基板に対してTFT基板領域毎にTFT等を形成することによりTFT基板母材を形成し、他方の大判ガラス基板に対して対向基板領域毎にカラーフィルタ及び共通電極等を形成することにより対向基板母材を形成する。 In this method of manufacturing a liquid crystal display device, first, a TFT substrate base material is formed by forming a TFT or the like for each TFT substrate region on one large glass substrate, and a counter substrate region on the other large glass substrate. A counter substrate base material is formed by forming a color filter, a common electrode, and the like every time.
次に、TFT基板領域と対向基板領域とがそれぞれシール部材を介して対向するように、TFT基板母材と対向基板母材とを貼り合わせて貼り合わせ基板母材を形成する。その結果、貼り合わせ基板母材は、TFT基板領域と対向基板領域とがシール部材を介して貼り合わされた貼り合わせ基板領域を複数有することとなる。その後、貼り合わせ基板母材を各貼り合わせ基板領域毎に分断することによって複数の貼り合わせ基板を形成する。 Next, the TFT substrate base material and the counter substrate base material are bonded together so that the TFT substrate region and the counter substrate region face each other through the seal member, thereby forming a bonded substrate base material. As a result, the bonded substrate base material has a plurality of bonded substrate regions in which the TFT substrate region and the counter substrate region are bonded through the seal member. Thereafter, the bonded substrate base material is divided into each bonded substrate region to form a plurality of bonded substrates.
貼り合わせ基板母材を分断する方法としては、一般に、いわゆるスクライブブレイク法が知られている。スクライブブレイク法では、まず、カッターホイールを用いて一方の基板母材(TFT基板母材又は対向基板母材)の分断領域にスクライブ溝を形成する。次に、貼り合わせ基板母材の分断領域に圧力を加えることによって上記スクライブ溝を起点として亀裂を発生させると共にこの亀裂を成長させて一方の基板母材を分断する。その後、他方の基板母材も同様にして分断することにより貼り合わせ基板母材を分断する。 As a method for dividing the bonded substrate base material, a so-called scribe break method is generally known. In the scribe break method, first, a scribe groove is formed in a dividing region of one substrate base material (TFT substrate base material or counter substrate base material) using a cutter wheel. Next, by applying pressure to the divided region of the bonded substrate base material, a crack is generated starting from the scribe groove, and the crack is grown to divide one substrate base material. Thereafter, the other substrate base material is divided in the same manner to divide the bonded substrate base material.
ところで、液晶表示装置の非表示領域を低減する点で、貼り合わせ基板における額縁領域は比較的小さいことが好ましい。ここで、額縁領域とは、貼り合わせ基板におけるシール部材が形成された領域とシール部材よりも外側の領域とからなる領域である。 By the way, it is preferable that the frame area in the bonded substrate is relatively small in terms of reducing the non-display area of the liquid crystal display device. Here, the frame region is a region composed of a region where the seal member is formed on the bonded substrate and a region outside the seal member.
しかし、基板母材とシール部材とは互いに異なる部材であることから、上記スクライブブレイク法では、亀裂を基板母材からシール部材に連続して成長させることができない。したがって、貼り合わせ基板母材をシール部材と共に分断することができないため、通常、貼り合わせ基板母材はシール部材よりも外側で分断される。そうすると、貼り合わせ基板には、シール部材よりも外側に両基板母材の一部が残るため、貼り合わせ基板の額縁領域が比較的大きくなってしまう。 However, since the substrate base material and the seal member are different from each other, cracks cannot be continuously grown from the substrate base material to the seal member by the scribe break method. Therefore, since the bonded substrate base material cannot be divided together with the seal member, the bonded substrate base material is usually divided outside the seal member. If it does so, since a part of both board | substrate base materials will remain outside a sealing member in a bonded substrate, the frame area | region of a bonded substrate will become comparatively large.
これに対し、特許文献1及び特許文献2に開示されているように貼り合わせ基板母材をシール部材と共に分断することが知られている。 On the other hand, as disclosed in Patent Document 1 and Patent Document 2, it is known to divide a bonded substrate base material together with a seal member.
特許文献1では、まず、貼り合わせ基板母材に対して、貼り合わせ基板母材の表面の法線方向から見て、シール部材に重なる分断領域にレーザーを照射して加熱する。続いて、レーザーが照射された分断領域を局所的に冷却することによって、基板母材の分断領域に内部応力を発生させる。この内部応力により基板母材に亀裂を発生させて基板母材を分断し、シール部材をレーザー切断することによって貼り合わせ基板母材を分断しようとしている。 In Patent Document 1, first, the bonded substrate base material is heated by irradiating a laser to a divided region overlapping with the seal member when viewed from the normal direction of the surface of the bonded substrate base material. Subsequently, an internal stress is generated in the divided region of the substrate base material by locally cooling the divided region irradiated with the laser. A crack is generated in the substrate base material by the internal stress to divide the substrate base material, and an attempt is made to divide the bonded substrate base material by laser cutting the sealing member.
特許文献2では、紫外線を照射してシール部材を硬化させるときに、貼り合わせ基板母材の表面の法線方向から見て、分断領域のシール部材に重なる遮光マスクを設けることにより、分断領域のシール部材を未硬化状態にしている。そうして、分断領域における未硬化状態のシール部材を介して対向する基板母材をそれぞれ分断することによって貼り合わせ基板母材を分断しようとしている。
しかし、特許文献1では、シール部材をレーザー切断する具体的な方法について詳しく示されていない。シール部材をレーザー切断する方法として、基板母材を分断した後に、基板母材の分断面間の隙間からシール部材にレーザーを照射する場合を想定すると、上記分断面間の隙間がレーザースポットよりも小さいため、シール部材に対してレーザーを十分に照射できない。したがって、実際には、レーザーのみによってシール部材を精度良く分断することは難しい。 However, Patent Document 1 does not show in detail a specific method for laser cutting the seal member. As a method of laser cutting the sealing member, assuming that the sealing member is irradiated with laser from the gap between the divided surfaces of the substrate base material after dividing the substrate base material, the gap between the divided surfaces is larger than the laser spot. Since it is small, the laser cannot be sufficiently irradiated to the seal member. Therefore, in practice, it is difficult to divide the seal member with high accuracy only by the laser.
さらに、特許文献2でも、分断領域において分断されていないシール部材が残ってしまう。すなわち、一般に、紫外線の照射による硬化だけではシール部材を完全に硬化させることができないため、シール部材は、通常、紫外線硬化性及び熱硬化性の両方の性質を有している。つまり、シール部材は、紫外線照射により仮硬化された後、加熱処理により本硬化されるため、分断領域のシール部材上に遮光マスクと設けたとしても、加熱処理により分断領域のシール部材も硬化する。そうすると、両基板母材を分断したとしてもシール部材が分断され難くなり、貼り合わせ基板母材を精度良く分断することができない。 Furthermore, even in Patent Document 2, a seal member that is not divided in the divided region remains. That is, generally, since the sealing member cannot be completely cured only by curing by irradiation with ultraviolet rays, the sealing member usually has both ultraviolet curing properties and thermosetting properties. In other words, since the seal member is temporarily cured by ultraviolet irradiation and then cured by heat treatment, even if a light shielding mask is provided on the seal member in the divided region, the seal member in the divided region is also cured by the heat treatment. . If it does so, even if both board | substrate base materials are parted, it will become difficult to part | separate a sealing member, and a bonded substrate base material cannot be parted accurately.
また、貼り合わせ基板母材に対して比較的大きな圧力を加えることによってシール部材を貼り合わせ基板母材と共に分断することも考えられるが、基板母材に対して比較的大きな圧力が加わるため、貼り合わせ基板が一部欠ける等して傷つきやすい。傷ついた貼り合わせ基板は小さな衝撃によっても割れやすくなるため、液晶表示装置の強度が低下してしまう。 In addition, it is conceivable to divide the seal member together with the bonded substrate base material by applying a relatively large pressure to the bonded substrate base material. A part of the laminated substrate is easily damaged. Since the damaged bonded substrate is easily broken even by a small impact, the strength of the liquid crystal display device is lowered.
本発明は、斯かる諸点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、貼り合わせ基板母材をシール部材と共に精度良く分断すると共に、貼り合わせ基板が傷つくことを抑制しようとすることにある。 The present invention has been made in view of such various points, and an object of the present invention is to sever the bonded substrate base material together with the sealing member with high accuracy and to prevent the bonded substrate from being damaged. It is in.
上記の目的を達成するために、この発明では、第1基板母材及び第2基板母材の少なくとも一方に対して、貼り合わせ基板母材の外部からシール部材へ連通する分断溝を形成した後、分断溝からシール部材側へエッチング溶液を浸入させてシール部材の一部を除去するようにした。 In order to achieve the above object, in the present invention, after forming a dividing groove that communicates from the outside of the bonded substrate base material to the seal member in at least one of the first substrate base material and the second substrate base material. The etching solution was allowed to enter the sealing member side from the dividing groove to remove a part of the sealing member.
具体的に、本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、第1基板母材と、上記第1基板母材に対向して配置された第2基板母材と、上記第1基板母材と上記第2基板母材との間に配置された枠状のシール部材とを備えた貼り合わせ基板母材を分断して、複数の液晶表示装置を製造する方法であって、上記貼り合わせ基板母材を上記シール部材と共に分断して複数の貼り合わせ基板を形成する分断工程を有し、上記分断工程は、上記第1基板母材及び上記第2基板母材の少なくとも一方に対して、上記貼り合わせ基板母材の外部から上記シール部材側へ連通すると共に上記シール部材に沿って延びる分断溝を形成する第1工程と、上記分断溝から上記シール部材側へエッチング溶液を浸入させることにより、上記シール部材の一部を除去する第2工程とを含む。 Specifically, the method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention includes a first substrate base material, a second substrate base material disposed opposite to the first substrate base material, and the first substrate base material. A method of manufacturing a plurality of liquid crystal display devices by dividing a bonded substrate matrix provided with a frame-shaped sealing member disposed between the second substrate matrix and the bonded substrate matrix A dividing step of dividing the material together with the sealing member to form a plurality of bonded substrates, wherein the dividing step is performed by applying the bonding to at least one of the first substrate base material and the second substrate base material. A first step of forming a dividing groove that communicates with the sealing member side from the outside of the laminated substrate base material and extends along the sealing member; and an etching solution is introduced from the dividing groove to the sealing member side, Second to remove a part of the seal member And a degree.
上記貼り合わせ基板は、上記シール部材が形成された領域と該シール部材に囲まれた領域とからなるセル領域と、上記シール部材よりも外側に設けられた端子領域とを有し、上記セル領域の上記シール部材は、該セル領域に上記端子領域を介さずに隣接する他の上記セル領域における上記シール部材と一体に形成されていることが好ましい。 The bonded substrate board includes a cell region including a region where the seal member is formed and a region surrounded by the seal member, and a terminal region provided outside the seal member, and the cell region. It is preferable that the sealing member is integrally formed with the sealing member in the other cell region adjacent to the cell region without the terminal region interposed therebetween.
上記シール部材は、エポキシ系樹脂又はアクリル系樹脂であってもよい。 The seal member may be an epoxy resin or an acrylic resin.
上記第1基板母材及び上記第2基板母材は、ガラス基板であり、上記エッチング溶液は、硝酸と硫酸と硝酸及び硫酸の混合液とのいずれか1つであることが好ましい。 Preferably, the first substrate base material and the second substrate base material are glass substrates, and the etching solution is any one of nitric acid, sulfuric acid, a mixed solution of nitric acid and sulfuric acid.
上記第1工程では、カッターホイールにより上記分断溝を形成してもよい。 In the first step, the dividing groove may be formed by a cutter wheel.
上記第1工程では、レーザーにより上記分断溝を形成してもよい。 In the first step, the dividing groove may be formed by a laser.
−作用−
次に、本発明の作用について説明する。
-Action-
Next, the operation of the present invention will be described.
分断工程が、第1基板母材及び第2基板母材の少なくとも一方に対して、貼り合わせ基板母材の外部からシール部材側へ連通すると共にシール部材に沿って延びる分断溝を形成する第1工程と、分断溝からシール部材側へエッチング溶液を浸入させることによりシール部材の一部を除去する第2工程とを含むため、第1基板母材及び第2基板母材に比較的大きな圧力を加えることなく、シール部材を精度良く分断することが可能になる。したがって、貼り合わせ基板母材をシール部材と共に精度良く分断すると共に、貼り合わせ基板が傷つくことを抑制することが可能になる。 The dividing step forms a dividing groove that communicates from the outside of the bonded substrate base material to the seal member side and extends along the seal member with respect to at least one of the first substrate base material and the second substrate base material. And a second step of removing a part of the sealing member by allowing the etching solution to enter the sealing member side from the dividing groove, and thus applying a relatively large pressure to the first substrate base material and the second substrate base material. Without adding, the sealing member can be accurately divided. Therefore, it is possible to cut the bonded substrate base material together with the sealing member with high accuracy and to prevent the bonded substrate from being damaged.
さらに、セル領域のシール部材が、そのセル領域に端子領域を介さずに隣接する他のセル領域におけるシール部材と一体に形成されている場合には、貼り合わせ基板母材において端子領域を介さずに隣り合うセル領域におけるシール部材の間に余分な領域が形成されないため、1枚の貼り合わせ基板母材から形成可能な貼り合わせ基板の枚数を増やすことが可能になる。 Furthermore, when the seal member in the cell region is formed integrally with the seal member in another cell region adjacent to the cell region without the terminal region, the terminal region is not interposed in the bonded substrate base material. Since no extra region is formed between the sealing members in the cell regions adjacent to each other, the number of bonded substrates that can be formed from one bonded substrate base material can be increased.
さらに、シール部材が、エポキシ樹脂又はアクリル樹脂であると共に、第1基板母材及び第2基板母材がガラス基板であり、エッチング溶液が硝酸と硫酸と硝酸及び硫酸の混合液とのいずれか1つである場合には、第1基板母材及び第2基板母材をほとんど除去することなくシール部材を除去することが可能になるため、貼り合わせ基板の強度が低下することを抑制することが可能になる。 Further, the sealing member is an epoxy resin or an acrylic resin, the first substrate base material and the second substrate base material are glass substrates, and the etching solution is any one of nitric acid, sulfuric acid, nitric acid and sulfuric acid mixed liquid. In this case, it is possible to remove the sealing member with almost no removal of the first substrate base material and the second substrate base material, so that it is possible to suppress the strength of the bonded substrate from being lowered. It becomes possible.
本発明によれば、分断工程が、第1基板母材及び第2基板母材の少なくとも一方に対して貼り合わせ基板母材の外部からシール部材側へ連通する分断溝を形成する第1工程と、分断溝からシール部材側へエッチング溶液を浸入させることによりシール部材の一部を除去する第2工程とを含むため、第1基板母材及び第2基板母材に比較的大きな圧力を加えることなく、シール部材を精度良く分断することが可能になる。その結果、貼り合わせ基板母材をシール部材と共に精度良く分断できると共に、貼り合わせ基板が傷つくことを抑制できる。 According to the present invention, the dividing step includes a first step of forming a dividing groove communicating with at least one of the first substrate base material and the second substrate base material from the outside of the bonded substrate base material to the seal member side. And a second step of removing a part of the seal member by allowing an etching solution to enter the seal member side from the dividing groove, and applying a relatively large pressure to the first substrate base material and the second substrate base material. Therefore, the seal member can be accurately divided. As a result, the bonded substrate base material can be accurately divided together with the seal member, and the bonded substrate can be prevented from being damaged.
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited to the following embodiment.
《発明の実施形態1》
図1〜図9は、本発明の実施形態1を示している。図1は、貼り合わせ基板母材Aを概略的に示す正面図である。図2は、TFT基板母材15を概略的に示す正面図である。図3は、対向基板母材16を概略的に示す正面図である。図4〜図7は、分断工程を説明するための図である。図8は、液晶表示装置Sを概略的に示す正面図である。図9は、図8のIX−IX線断面を概略的に示す図である。
Embodiment 1 of the Invention
1 to 9 show Embodiment 1 of the present invention. FIG. 1 is a front view schematically showing a bonded substrate matrix A. FIG. FIG. 2 is a front view schematically showing the TFT
本実施形態1の液晶表示装置Sは、図8及び図9に示すように、第1基板であるTFT基板10と、TFT基板10に対向して配置された第2基板である対向基板11と、これらTFT基板10と対向基板11との間に形成された液晶層12とを有した貼り合わせ基板を備えている。貼り合わせ基板は、セル領域17及び端子領域13を有している。
As shown in FIGS. 8 and 9, the liquid crystal display device S of Embodiment 1 includes a
上記TFT基板10は、例えば矩形状のガラス基板等である。TFT基板10には、図示は省略するが、液晶層12側の表面に複数の画素が設けられており、各画素にはTFT(薄膜トランジスタ)及び画素電極が形成されている。また、TFT基板10は、液晶層12側の表面にTFT及び画素電極を覆う配向膜(図示省略)が設けられている。
The
上記対向基板11は、例えば矩形状のガラス基板等である。対向基板11には、図示は省略するが、液晶層12側の表面にカラーフィルタ及びITO(透明電極)からなる共通電極等が形成されている。また、対向基板11は、液晶層12側の表面にカラーフィルタ及び共通電極を覆う配向膜(図示省略)が設けられている。
The
上記液晶層12は、TFT基板10と対向基板11との間に形成された、例えば矩形枠状等のシール部材14により封止されている。このシール部材14が形成された領域とシール部材14に囲まれた領域とからなる貼り合わせ基板における領域がセル領域17である。シール部材14は、例えばエポキシ系樹脂又はアクリル系樹脂等であり、対向基板11の外縁部の全周とTFT基板10との間に形成されている。
The
TFT基板10の一辺側の一部は、貼り合わせ基板における対向基板11側の表面の法線方向から見て、対向基板11から貼り合わせ基板の外部に露出しており、シール部材14よりも外側に延出している。ここで、外側とは、シール部材14の枠内中央からシール部材14の枠外へ向かう方向をいう。
A part of one side of the
このシール部材14よりも外側に延出したTFT基板10の領域は、液晶層12に電圧を印加するための端子部(図示省略)が形成された端子領域13である。つまり、端子領域13はシール部材14よりも外側に設けられて貼り合わせ基板の外部に露出しており、端子領域13に形成された端子部は配線(図示省略)を介して画素電極に接続されている。
The region of the
シール部材14は、端子領域13側の1辺を除く3辺における外側端部が、貼り合わせ基板の表面の法線方向から見て、TFT基板10及び対向基板11の外側端部とほぼ同じ位置に形成されている。すなわち、シール部材14の上記3辺よりも外側にはほとんどTFT基板10及び対向基板11が形成されていない。このように、貼り合わせ基板は、TFT基板10と対向基板11との間に液晶層12を封止するシール部材14を有している。
The
さらに、液晶表示装置Sは、貼り合わせ基板の表面に偏光板(図示省略)を有している。つまり、TFT基板10及び対向基板11の液晶層12とは反対側の表面には、それぞれ偏光板が配置されている。また、図示は省略するが、貼り合わせ基板にはバックライトユニット及び液晶駆動用IC等が装着されている。そうして、液晶表示装置Sは、TFTにより液晶層12における液晶分子の配向状態を制御することにより、所望の表示を行うようになっている。
Furthermore, the liquid crystal display device S has a polarizing plate (not shown) on the surface of the bonded substrate. That is, the polarizing plates are disposed on the surfaces of the
−製造方法−
上記液晶表示装置Sの製造方法は、貼り合わせ基板母材形成工程と、分断工程とを有している。
-Manufacturing method-
The manufacturing method of the liquid crystal display device S includes a bonded substrate base material forming step and a dividing step.
上記貼り合わせ基板母材形成工程では、図1に示すように、貼り合わせ基板がマトリクス状に配置して一体形成された貼り合わせ基板母材Aを形成する。貼り合わせ基板母材形成工程には、TFT基板母材形成工程と、対向基板母材形成工程と、貼り合わせ工程とが含まれる。 In the bonded substrate matrix forming step, as shown in FIG. 1, a bonded substrate matrix A is formed in which the bonded substrates are arranged in a matrix and are integrally formed. The bonded substrate base material forming step includes a TFT substrate base material forming step, a counter substrate base material forming step, and a bonding step.
上記TFT基板母材形成工程では、図2に示すように、TFT基板10がマトリクス状に配置して一体形成されたTFT基板母材15を形成する。すなわち、例えば矩形状等のTFT基板10を形成する領域20(以下、TFT基板領域ともいう)を複数有する大判ガラス基板の一方の表面に対して、TFT基板領域20毎にTFT及び画素電極を形成すると共に配線及び端子部を形成した後に配向膜を設けることによって、各TFT基板領域20をそれぞれTFT基板10の構造にしてTFT基板母材15を形成する。このTFT基板母材15における各TFT基板領域20は、隣り合うTFT基板領域20の間に間隔を設けることなく隣接している。
In the TFT substrate base material forming step, as shown in FIG. 2, the TFT
上記対向基板母材形成工程では、図3に示すように、対向基板11がマトリクス状に配置して一体形成された対向基板母材16を形成する。すなわち、例えば矩形状等の対向基板11を形成する領域21(以下、対向基板領域ともいう)を複数有する大判ガラス基板の一方の表面に対して、対向基板領域21毎にカラーフィルタ及び共通電極を形成した後に配向膜を設けることによって、各対向基板領域21をそれぞれ対向基板11の構造にして対向基板母材16を形成する。
In the counter substrate base material forming step, as shown in FIG. 3, the counter
この対向基板母材16における複数の対向基板領域21は、後に貼り合わせ基板母材Aを形成したときに、貼り合わせ基板母材Aの表面の法線方向から見て、露出端子領域を除く各TFT基板領域20に重なるように配置されている。つまり、対向基板母材16において、各対向基板領域21における1辺よりも外側には、それぞれ露出端子領域に対向する領域が設けられている。ここで、露出端子領域とは、後に貼り合わせ基板を形成したときに、貼り合わせ基板の表面の法線方向から見て、対向基板11から貼り合わせ基板の外部に露出する端子領域13である。
The plurality of
複数の対向基板領域21は、それぞれ露出端子領域に対向する対向基板母材16の領域を介さずに隣り合う対向基板領域21の間に間隔を設けることなく隣接して一列に配置されており、対向基板領域21全体として短冊状に設けられている。
The plurality of
次に行う貼り合わせ工程では、TFT基板母材15及び対向基板母材16を枠状のシール部材14を複数介して貼り合わせる。まず、対向基板母材16に対して、対向基板領域21毎に、例えばエポキシ系樹脂又はアクリル系樹脂である未硬化のシール部材14を供給する。シール部材14は、各対向基板領域21の外縁部に、例えば矩形枠状等に供給する。このとき、対向基板領域21のシール部材14を、その対向基板領域21に間隔を設けずに隣接する他の対向基板領域21のシール部材14と一辺を共有させて一体に供給する。
In the subsequent bonding step, the TFT
次に、対向基板母材16の各シール部材14の内側に液晶材料を所定量滴下する。この液晶材料の滴下は、例えば、液晶材料を滴下する機能を有した滴下装置が対向基板母材16の全体に亘って移動しながら液晶材料を滴下することにより行われる。この滴下装置は、例えば、液晶材料が充填されたシリンダと、シリンダ内の液晶材料を押し出すピストンと、シリンダの先端に形成された滴下ノズルを備え、ピストンによりシリンダ内の液晶材料を押し出して滴下ノズルから液晶材料を滴下する。
Next, a predetermined amount of liquid crystal material is dropped inside each sealing
続いて、TFT基板領域20と対向基板領域21とがそれぞれシール部材14を介して対向するように、TFT基板母材15と対向基板母材16とを貼り合わせて貼り合わせ基板母材Aを形成する。
Subsequently, the TFT
まず、TFT基板母材15及び対向基板母材16の配向膜が設けられた面を対向させる。次に、予め第1基板母材15及び第2基板母材16の対角に設けられた位置合わせを行うための位置合わせマークにより両基板15,16の位置を合わせる。すなわち、非接触状態で粗合わせを行った後、両基板15,16の対向面がほぼ接触する状態で微細な位置を合わせることによって、TFT基板母材15と対向基板母材16とを複数のシール部材14を介して貼り合わせる。このようなTFT基板母材15及び対向基板母材16の貼り合わせは、例えば真空室内等の真空環境下において行う。
First, the surfaces of the TFT
その後、シール部材14を硬化させる。まず、貼り合わせ基板母材Aに対して紫外線を照射することによりシール部材14を仮硬化させる。次に、貼り合わせ基板母材Aに加熱処理を施すことによりシール部材14を本硬化させる。このとき、TFT基板領域20と対向基板領域21との間にシール部材14によって囲まれた領域が液晶層12となる。
Thereafter, the
このようにして、TFT基板領域20と対向基板領域21とをシール部材14を介して貼り合わせ、シール部材14が形成された領域とそのシール部材14に囲まれた領域からなるセル領域17と、シール部材14の一辺よりも外側に設けられた端子領域13とを有する貼り合わせ基板領域22を複数備えた貼り合わせ基板母材Aを形成する。この貼り合わせ基板母材Aにおけるセル領域17のシール部材14は、図4に示すように、そのシール部材14が形成されたセル領域17に端子領域13を介さずに隣接する他のセル領域17におけるシール部材14と一体に形成されている。
In this way, the
次に行う分断工程では、貼り合わせ基板母材Aをシール部材14と共に分断することにより複数の貼り合わせ基板を形成する。この分断工程は、TFT基板母材15に対して、貼り合わせ基板母材Aの外部からシール部材14側へ連通すると共にシール部材14に沿って延びる分断溝18を形成する第1工程と、その分断溝18からシール部材14側へエッチング溶液を浸入させることによりシール部材14の一部を除去する第2工程とを含む。
In the next dividing step, a plurality of bonded substrates are formed by dividing the bonded substrate base material A together with the
第1工程では、まず、図5に示すように、例えばカッターホイール等によりTFT基板母材15に分断溝18を形成する。すなわち、まず、貼り合わせ基板母材Aの表面の法線方向から見て、シール部材14に沿うと共にシール部材14に重なるTFT基板母材15の分断領域に対して、カッターホイールによりスクライブ溝を形成する。次に、そのスクライブ溝が形成された分断領域に対して、貼り合わせ基板母材Aにおける対向基板母材16側の表面から圧力を加えることによって、スクライブ溝を起点として亀裂と発生させると共にその亀裂を成長させて、TFT基板母材15に分断溝18を形成する。
In the first step, first, as shown in FIG. 5, a dividing
その後に行う第2工程では、図6に示すように、TFT基板母材15に形成された分断溝18に対して、例えば硝酸と硫酸と硝酸及び硫酸の混合液とのいずれか1つ等であるエッチング溶液を所定量塗布又は滴下する。そうして、毛細管現象を利用してエッチング溶液を分断溝18からシール部材14側へ浸入させることにより、シール部材14の一部を除去する。図6の25は、エッチング溶液を浸入させる方向を示している。このようにして、シール部材14が分断されるまで、シール部材14の一部に対してエッチングを施した後、貼り合わせ基板母材Aを水洗することによりエッチングの反応を止める。
In the second step performed thereafter, as shown in FIG. 6, for example, any one of nitric acid, sulfuric acid, nitric acid, and a mixed solution of sulfuric acid is used for the dividing
次に、図7に示すように、TFT基板母材15に分断溝18を形成した方法と同様の方法により、対向基板母材16におけるシール部材14が分断された分断領域に対して、対向基板母材16を貫通する溝23を形成することによって、貼り合わせ基板母材Aをシール部材14と共に分断する。このようにして、貼り合わせ基板母材Aをセル領域17毎に分断すると共に露出端子領域に対向する対向基板母材16の領域を分断して端子領域13を対向基板11から貼り合わせ基板の外部に露出させることによって、複数の貼り合わせ基板を形成する。
Next, as shown in FIG. 7, the counter substrate is separated from the divided region where the
その後、各貼り合わせ基板に対して、TFT基板10及び対向基板11の液晶層12とは反対側の表面にそれぞれ偏光板を配置させ、バックライトユニット及び液晶駆動用IC等を装着させる。以上のようにして、TFT基板母材15と、TFT基板母材15に対向して配置された対向基板母材16と、TFT基板母材15と対向基板母材16との間に配置された枠状のシール部材14とを備えた貼り合わせ基板母材Aを分断することにより、複数の液晶表示装置Sを製造する。
Thereafter, with respect to each bonded substrate, a polarizing plate is disposed on the surface of the
−実施形態1の効果−
したがって、この実施形態1によると、分断工程が、TFT基板母材15に対して貼り合わせ基板母材Aの外部からシール部材14側へ連通すると共にシール部材14に沿って延びる分断溝18を形成する第1工程と、分断溝18からシール部材14側へエッチング溶液を浸入させることによりシール部材14の一部を除去する第2工程とを含むため、TFT基板母材15及び対向基板母材16に比較的大きな圧力を加えることなくシール部材14を精度良く分断することが可能になる。その結果、貼り合わせ基板母材Aをシール部材14と共に精度良く分断できると共に、貼り合わせ基板が傷つくことを抑制できる。
-Effect of Embodiment 1-
Therefore, according to the first embodiment, the dividing step forms the dividing
さらに、セル領域17のシール部材14が、そのセル領域17に端子領域13を介さずに隣接する他のセル領域17におけるシール部材14と一体に形成されているため、貼り合わせ基板母材Aにおいて端子領域13を介さずに隣り合うセル領域17におけるシール部材14の間には余分な領域が形成されない。したがって、貼り合わせ基板母材Aにおける貼り合わせ基板領域22を形成することが可能な領域が拡大する。その結果、1枚の貼り合わせ基板母材Aから形成可能な貼り合わせ基板の枚数を増やすことができる。
Further, since the
さらに、シール部材14がエポキシ樹脂又はアクリル樹脂であると共に、TFT基板母材15及び対向基板母材16がガラス基板であり、エッチング溶液が硝酸と硫酸と硝酸及び硫酸の混合液とのいずれか1つであるため、TFT基板母材15及び対向基板母材16をほとんど除去することなくシール部材14を除去することができる。その結果、貼り合わせ基板の強度が低下することを抑制できる。
Further, the
《発明の実施形態2》
図10及び図11は、本発明の実施形態2を示している。尚、以降の各実施形態では、図1〜図9と同じ部分については同じ符号を付して、その詳細な説明を省略する。
<< Embodiment 2 of the Invention >>
10 and 11 show Embodiment 2 of the present invention. In the following embodiments, the same portions as those in FIGS. 1 to 9 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.
上記実施形態1では、分断工程において、TFT基板母材15に対して分断溝18を形成した後にシール部材14の一部を除去するとしたが、本実施形態2では、TFT基板母材15及び対向基板母材16の両基板15,16に対して分断溝18を形成した後にシール部材14の一部を除去する。
In Embodiment 1 described above, in the dividing step, a part of the
すなわち、まず、図10に示すように、TFT基板母材15に対して分断領域に分断溝18を形成する。続いて、対向基板母材16に対して、TFT基板母材15に分断溝18を形成した方法と同様の方法により、貼り合わせ基板母材Aの表面の法線方向から見て、TFT基板母材15に形成した分断溝18に重なる分断溝19を形成する。尚、対向基板母材16に分断溝19を形成した後に、TFT基板母材15に分断溝18を形成してもよい。
That is, first, as shown in FIG. 10, the dividing
その後、図11に示すように、エッチング溶液をTFT基板母材15及び対向基板母材16の両基板15,16に形成された分断溝18,19に塗布又は滴下して分断溝18,19からシール部材14側へエッチング溶液を浸入させることにより、シール部材14の一部を除去してシール部材14を分断する。そうして、貼り合わせ基板母材Aを貼り合わせ基板領域22毎に分断する。
Thereafter, as shown in FIG. 11, an etching solution is applied or dropped onto the dividing
−実施形態2の効果−
したがって、この実施形態2によっても、TFT基板母材15及び対向基板母材16に対して比較的大きな圧力を加えることなく貼り合わせ基板をシール部材14と共に分断することができるため、上記実施形態1と同様の効果を得ることができる。
-Effect of Embodiment 2-
Therefore, also in the second embodiment, the bonded substrate can be divided together with the
《その他の実施形態》
上記実施形態1では、カッターホイールによりスクライブ溝を形成した後、スクライブ溝を起点として発生させた亀裂を成長させることにより分断溝18を形成するとしたが、本発明はこれに限られず、カッターホイールにより貼り合わせ基板母材Aの外部からシール部材14側へ連通するスクライブ溝を形成し、このスクライブ溝自体を分断溝18としてもよい。また、例えばCO2レーザー等のレーザーにより分断溝18を形成してもよく、分断溝18は公知の方法により形成することが可能である。
<< Other Embodiments >>
In Embodiment 1 described above, the slicing groove is formed by the cutter wheel, and then the
上記実施形態1では、対向基板母材16にシール部材14を供給するとしたが、本発明はこれに限られず、TFT基板母材15にシール部材14を供給してもよい。
In the first embodiment, the
上記実施形態1では、対向基板領域21におけるシール部材14の内側に液晶材料を滴下した後にTFT基板母材15と対向基板母材16とを貼り合わせて液晶層12を形成する、いわゆる滴下注入法により液晶層12を形成するとしたが、本発明はこれに限られず、液晶層12は、TFT基板母材15と対向基板母材16とを貼り合わせた後に、シール部材14の内側へ液晶材料を注入することにより液晶層12を形成する真空注入法により形成してもよい。
In the first embodiment, a so-called dropping injection method in which the
上記実施形態1では、TFT基板母材15のみに分断溝18を形成した後、シール部材14の一部を除去するとした。また、上記実施形態2では、TFT基板母材15及び対向基板母材16の両基板15,16に分断溝18,19を形成した後、シール部材14の一部を除去するとしたが、本発明はこれに限られず、対向基板母材16のみに分断溝19を形成した後、分断溝19からシール部材14側へエッチング溶液を浸入させることにより、シール部材14の一部を除去してシール部材14を分断してもよい。
In the first embodiment, after the dividing
上記実施形態1では、セル領域17のシール部材14が、そのセル領域17に端子領域13を介さずに隣接する他のセル領域17におけるシール部材14と一体に形成されているとしたが、本発明はこれに限られず、セル領域17のシール部材14は、そのセル領域17に端子領域13を介さずに隣接する他のセル領域17におけるシール部材14と別個に形成されていてもよい。
In the first embodiment, the
上記実施形態1では、TFT基板母材15及び対向基板母材16をシール部材14を複数介して貼り合わせるとしたが、本発明はこれに限られず、TFT基板母材15及び対向基板母材16を複数の枠状のシール部材14が一体形成された1つのシール部材14を介することにより貼り合わせていてもよい。
In the first embodiment, the TFT
以上説明したように、本発明は、液晶表示装置の製造方法について有用であり、特に、貼り合わせ基板母材をシール部材と共に精度良く分断すると共に、貼り合わせ基板が傷つくことを抑制する場合に適している。 As described above, the present invention is useful for a method of manufacturing a liquid crystal display device, and particularly suitable for the case where the bonded substrate base material is divided with the sealing member with high accuracy and the bonded substrate is prevented from being damaged. ing.
S 液晶表示装置
A 貼り合わせ基板母材
12 液晶層
13 端子領域
14 シール部材
15 TFT基板母材(第1基板母材)
16 対向基板母材(第2基板母材)
17 セル領域
18,19 分断溝
S Liquid Crystal Display Device A Bonded
16 Counter substrate base material (second substrate base material)
17
Claims (6)
上記貼り合わせ基板母材を上記シール部材と共に分断して複数の貼り合わせ基板を形成する分断工程を有し、
上記分断工程は、上記第1基板母材及び上記第2基板母材の少なくとも一方に対して、上記貼り合わせ基板母材の外部から上記シール部材側へ連通すると共に上記シール部材に沿って延びる分断溝を形成する第1工程と、
上記分断溝から上記シール部材側へエッチング溶液を浸入させることにより、上記シール部材の一部を除去する第2工程とを含む
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 A first substrate base material, a second substrate base material disposed opposite to the first substrate base material, and a frame-like shape disposed between the first substrate base material and the second substrate base material A method of manufacturing a plurality of liquid crystal display devices by dividing a bonded substrate base material provided with a seal member,
A dividing step of dividing the bonded substrate base material together with the sealing member to form a plurality of bonded substrates;
In the dividing step, at least one of the first substrate base material and the second substrate base material communicates from the outside of the bonded substrate base material to the seal member side and extends along the seal member. A first step of forming a groove;
And a second step of removing a part of the sealing member by allowing an etching solution to enter the sealing member from the dividing groove.
上記貼り合わせ基板は、上記シール部材が形成された領域と該シール部材に囲まれた領域とからなるセル領域と、上記シール部材よりも外側に設けられた端子領域とを有し、
上記セル領域の上記シール部材は、該セル領域に上記端子領域を介さずに隣接する他の上記セル領域における上記シール部材と一体に形成されている
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 In claim 1,
The bonded substrate has a cell region composed of a region where the seal member is formed and a region surrounded by the seal member, and a terminal region provided outside the seal member,
The method for manufacturing a liquid crystal display device, wherein the seal member in the cell region is formed integrally with the seal member in another cell region adjacent to the cell region without the terminal region interposed therebetween.
上記シール部材は、エポキシ系樹脂又はアクリル系樹脂である
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 In claim 1,
The said sealing member is an epoxy resin or an acrylic resin, The manufacturing method of the liquid crystal display device characterized by the above-mentioned.
上記第1基板母材及び上記第2基板母材は、ガラス基板であり、
上記エッチング溶液は、硝酸と硫酸と硝酸及び硫酸の混合液とのいずれか1つである
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 In claim 3,
The first substrate base material and the second substrate base material are glass substrates,
The method of manufacturing a liquid crystal display device, wherein the etching solution is any one of nitric acid, sulfuric acid, and a mixed liquid of nitric acid and sulfuric acid.
上記第1工程では、カッターホイールにより上記分断溝を形成する
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 In claim 1,
In the first step, the dividing groove is formed by a cutter wheel.
上記第1工程では、レーザーにより上記分断溝を形成する
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 In claim 1,
In the first step, the dividing groove is formed by a laser.
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WO2011040117A1 (en) * | 2009-10-02 | 2011-04-07 | シャープ株式会社 | Liquid crystal display panel manufacturing method and liquid crystal display panel |
JP2011123150A (en) * | 2009-12-09 | 2011-06-23 | Seiko Epson Corp | Method of fabricating electro-optical apparatus |
WO2012144433A1 (en) * | 2011-04-20 | 2012-10-26 | シャープ株式会社 | Method for manufacturing display device, method for manufacturing liquid crystal display device, and liquid crystal display device |
-
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011040117A1 (en) * | 2009-10-02 | 2011-04-07 | シャープ株式会社 | Liquid crystal display panel manufacturing method and liquid crystal display panel |
JP5431489B2 (en) * | 2009-10-02 | 2014-03-05 | シャープ株式会社 | Liquid crystal display panel manufacturing method and liquid crystal display panel |
US8749751B2 (en) | 2009-10-02 | 2014-06-10 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method for producing liquid crystal display panel, and liquid crystal display panel |
JP2011123150A (en) * | 2009-12-09 | 2011-06-23 | Seiko Epson Corp | Method of fabricating electro-optical apparatus |
WO2012144433A1 (en) * | 2011-04-20 | 2012-10-26 | シャープ株式会社 | Method for manufacturing display device, method for manufacturing liquid crystal display device, and liquid crystal display device |
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