JP2008153522A - パーティクル除去装置、パーティクル除去用補助具およびパーティクル除去方法 - Google Patents
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Abstract
【目的】本発明は、複数のカソードを備えた荷電粒子銃を収容するチャンバー内に存在するパーティクルを除去することができるパーティクル除去装置、パーティクル除去用補助具およびパーティクル除去方法を提供する。
【構成】本発明は、複数のカソードを備えたタレット電子銃を収容するチャンバー101の開口部107aに、吸気部109を有するアダプタ108を取り付け、チャンバー101の開口部107bには、排気部を有し、この排気部111に真空掃除機115を接続したアダプタ110を取り付け、チャンバー101内に吸気部109から排気部111に流れる気流112を形成することで、チャンバー101内に存在するパーティクルを除去する。これによりチャンバー101内において、パーティクルの存在に起因する放電を防止することができる。
【選択図】図1
【構成】本発明は、複数のカソードを備えたタレット電子銃を収容するチャンバー101の開口部107aに、吸気部109を有するアダプタ108を取り付け、チャンバー101の開口部107bには、排気部を有し、この排気部111に真空掃除機115を接続したアダプタ110を取り付け、チャンバー101内に吸気部109から排気部111に流れる気流112を形成することで、チャンバー101内に存在するパーティクルを除去する。これによりチャンバー101内において、パーティクルの存在に起因する放電を防止することができる。
【選択図】図1
Description
本発明は、パーティクル除去装置、パーティクル除去用補助具およびパーティクル除去方法に関する。特に複数のカソードを備えた荷電粒子銃のチャンバー内に存在するパーティクルを除去する際に用いられるパーティクル除去装置およびパーティクル除去方法に関する。
半導体デバイスの微細化の進展を担うリソグラフィ技術は半導体製造プロセスのなかでも唯一パターンを生成する極めて重要なプロセスである。近年、LSIの高集積化に伴い、半導体デバイスに要求される回路線幅は年々微細化されてきている。これらの半導体デバイスへ所望の回路パターンを形成するためには、高精度の原画パターン(レチクル或いはマスクともいう。)が必要となる。ここで、電子線(電子ビーム)描画技術は本質的に優れた解像性を有しており、高精度の原画パターンの生産に用いられる。従来の電子銃が搭載された電子ビーム描画装置の動作について、図7に示した概念図に基づいて説明する。電子銃301から射出された電子ビーム302は、この電子ビーム302を成形するための矩形の開口304が設けられている第1のアパーチャ303に照射される。第1のアパーチャ303の開口304を通過した電子ビーム302は、偏向器(図示せず)により偏向された後、この電子ビーム302を所望の矩形形状に成形する可変成形開口307が設けられた第2のアパーチャ306に照射される。第2のアパーチャ306の可変成形開口307の一部を通過した電子ビーム302は、所定の一方向、例えばX方向に連続的に移動するステージ上に載置された試料309に照射される。すなわち、第1のアパーチャ303の開口304と、第2のアパーチャ306の可変成形開口307との双方を通過できる矩形形状が、X方向に連続的に移動するステージ上に載置された試料309の描画領域に描画される。 (例えば、特許文献1参照)。
ここで、電子ビームは、電子銃内のカソードから射出されるが、上述した電子銃にカソードが1個しか搭載されていないと、このカソードに異常、寿命などの問題が発生した場合、電子銃は電子ビームの射出ができなくなくなり、必然的に電子ビーム描画装置の稼動を停止せざるを得なくなる。
そうなると、電子ビーム描画装置の稼動を再開できるまでに、カソードの交換作業およびその交換に伴う装置の稼動立上げのために、メンテナンス作業が長時間必要になり、電子ビーム描画装置の操業効率は大幅に低下する。
そうなると、電子ビーム描画装置の稼動を再開できるまでに、カソードの交換作業およびその交換に伴う装置の稼動立上げのために、メンテナンス作業が長時間必要になり、電子ビーム描画装置の操業効率は大幅に低下する。
そのため、複数のカソードを搭載したタレット電子銃が用いられる。このタレット電子銃では、カソードが回転タレット上に複数設けられている。異常、寿命等により現在使用しているカソードを交換する場合には、回転タレットを回転させることで、未使用のカソードをアノードに対向配置させることができる(例えば、特許文献2参照)。これにより、個々のカソードの異常発生頻度や寿命が従来のものと変わらなくても、回転タレットに設けられた複数のカソードの全てを使い切るまで、長期間にわたって電子銃およびこれを搭載した装置を稼動でき、1個のカソードを搭載する電子銃に比べて、異常、寿命などに起因する装置の操業効率の低下を改善することができる。すなわち、装置の操業効率を向上させることができる。
しかし、このように複数のカソードを搭載したとしても、タレット電子銃内の複数のカソードが配置される環境にパーティクルが存在すれば、パーティクルに起因する放電が発生してしまう。そのため、タレット電子銃内の環境をクリーンに保つことが望まれている。
特開2000−58424号公報
特開平5−258703号公報
しかし、このように複数のカソードを搭載したとしても、タレット電子銃内の複数のカソードが配置される環境にパーティクルが存在すれば、パーティクルに起因する放電が発生してしまう。そのため、タレット電子銃内の環境をクリーンに保つことが望まれている。
上述したように、タレット電子銃内の環境をクリーンに保つことが望まれているが、パーティクルを充分に除去できるパーティクル除去装置、パーティクル除去用補助具およびパーティクル除去方法が未だ確立されていないといった問題があった。
例えば、タレット電子銃のチャンバー内に高圧空気を吹き付けることでパーティクルを除去する手法がある。しかし、これでは吹き付けにより舞い上がったパーティクルの一部がチャンバー内に残留しまう。そして、この残留したパーティクルに起因する放電を防止することができない。その結果、この放電の発生により電子銃は、電子ビームの射出ができなくなってしまう。そして、電子銃を搭載した装置は稼働を停止せざるを得なくなる。また、停止した装置を再稼働させるには、再度、チャンバー内に高圧空気を吹き付けてパーティクルを除去することになるが、そうしたところで、舞い上がったパーティクルが十分に除去できるとは限らない。仮に、パーティクルが十分に除去できたとしても、その後、電子ビームの電流値の設定、電子ビームの軸調整や寸法較正をするなどの面倒な作業が必要となる。そのため、再稼動できる状態にするまでに長時間を必要とし、装置の操業効率を大幅に低下させてしまう。
本発明は、上述した問題点を解消し、荷電粒子銃の、特に複数のカソードを備えた荷電粒子銃のチャンバー内に存在するパーティクルを除去するパーティクル除去装置、パーティクル除去用補助具およびパーティクル除去方法を提供することを目的とする。
本発明のパーティクル除去装置は、荷電粒子銃の複数のカソードを備えた回転体を回転自在に収容するチャンバー内のパーティクルを除去するパーティクル除去装置であって、前記チャンバーの内外部を連通する開口部に取り付けられ、吸気部および排気部を有するアダプタと、前記アダプタの排気部に接続され、前記チャンバー内に前記吸気部から前記排気部に流れる気流を形成する排気手段と、を備えることを特徴とする。
また、上記アダプタは回転体に対向して設けられることが望ましい。
また、本発明のパーティクル除去用補助具は、第1と第2の開口部が形成されたチャンバーと、チャンバー内に配置された複数のカソードとを備えた荷電粒子銃におけるチャンバー内のパーティクルを排気手段を用いて除去するためのパーティクル除去用補助具であって、
第1の開口部に取り付けられ、取り付られた後にチャンバー内に外気を吸入する第1の流路を有する第1の取付部材と、
第2の開口部に取り付けられ、取り付けられた後にチャンバー内から排気手段に気体を排気する第2の流路を有する第2の取付部材と、
を備えたことを特徴とする。
第1の開口部に取り付けられ、取り付られた後にチャンバー内に外気を吸入する第1の流路を有する第1の取付部材と、
第2の開口部に取り付けられ、取り付けられた後にチャンバー内から排気手段に気体を排気する第2の流路を有する第2の取付部材と、
を備えたことを特徴とする。
本発明のパーティクル除去方法は、荷電粒子銃の複数のカソードを備えた回転体を回転自在に収容するチャンバー内のパーティクルを除去するパーティクル除去方法であって、吸気部および排気部を有し、かつ前記排気部に排気手段を接続したアダプタを、前記チャンバーの内外部を連通する開口部に取り付けるアダプタ取り付け工程と、前記排気手段を駆動して前記チャンバー内に前記吸気部から前記排気部に流れる気流を形成し、前記チャンバー内のパーティクルを除去するパーティクル除去工程と、を備えることを特徴とする。
また、上記パーティクル除去工程は、さらに、回転体を回転させることが望ましい。
本発明によれば、複数のカソードを備えた荷電粒子銃のチャンバー内に存在するパーティクルを除去し、パーティクルに起因する放電を防止することができる。これによって、荷電粒子銃が電子ビームの射出を停止することで生じる装置の不必要な稼働停止時間を削減することができる。
以下、本発明の実施をするための最良の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
(実施形態1)
まず、第1の実施形態のパーティクル除去装置について、図1および図2に基づいて説明する。
まず、第1の実施形態のパーティクル除去装置について、図1および図2に基づいて説明する。
図1は、パーティクル除去装置の正面を一部断面して示す概念図であり、タレット電子銃のチャンバー101を電子ビーム描画装置の電子光学鏡筒(図示せず)に取り付ける前に、チャンバー101内のパーティクルを除去する場合を示す。図2は同パーティクル除去装置の側面を一部断面して示す概念図である。
タレット電子銃のチャンバー101内には円筒形状の回転体であるバレル102が回転自在に収容され、かつ動力部104に接続された回転軸105と、支持部106によって支持される。バレル102の外周面には、カソード103が円周上に略等間隔に複数個設けられる。カソード103の交換が必要となったときには、動力部104および回転軸105を介してバレル102を回転させ、未使用のカソード103をアノード(図示せず)に対向配置させることで、使用済みのカソード103と交換することができる。
このように、バレル102を回転させるだけの簡単な操作により、バレル102に設けた未使用のカソード103と次々に交換することができるので、個々のカソード103の異常発生頻度や寿命が従来のものと変わらなくても、バレル102に設けられた複数のカソード103を全てを使い切るまで、長期間にわたって電子銃および電子銃を搭載した装置を稼動でき、装置の操業効率を向上させることができる。また、カソード103を交換する際、真空度を高めたチャンバー101を分解する必要がないので、チャンバー101内が外気汚染を受ける機会を低減し、チャンバー101内にパーティクルを存在させにくい装置にすることができる。
チャンバー101の上部には開口部107aが設けられており、開口部107aを介しチャンバー101の内外を連通する。この開口部107aにはバレル102に対向してアダプタ108が取り付けられる。またチャンバー101の下部にも開口部107bが設けられており、開口部107bを介しチャンバー101の内外を連通する。この開口部107bにはアダプタ110が取り付けられる。チャンバー101に取り付けられている一方のアダプタ108には吸気部109が、他方のアダプタ110には排気部111がそれぞれ設けられる。また、アダプタ110に設けられた排気部111には真空掃除機115が接続される。このアダプタ108(第1の取付部材)とアダプタ110(第2の取付部材)の組み合わせが、パーティクル除去用補助具の一例となる。また、真空掃除機115が排気手段の一例となる。
実施の形態1におけるアダプタ108は、板状部材に吸気部109となる複数の通気穴が形成された形状で構成される。そして、この複数の通気穴が流路となって外気をチャンバー101内に吸入する。そして、外気をチャンバー101内に吸入する場合に、バレル102に満遍なく気流112が当たるようにその通気穴の数および方向を設定することが好適である。他方、アダプタ110は、板状部材に開口部が形成され、この開口部に排気部111となる筒状部材が接続された形状で構成される。そして、この筒状部材が流路となって、チャンバー101内の気体を排気する。ここでの板状部材と筒状部材は、一体で形成されてもよいし、別ピースのものが接続されても構わない。また、吸気部109となる各通気穴の断面は、排気部111となる筒状部材の開口断面よりも小さい面積で形成されることが望ましい。これにより、チャンバー101内に吸入される外気の流速を速めることができる。
さらにまた、アダプタ108、110がチャンバー101に取り付けられるとき、接合部はOリングやフランジパッキンなどのシール材を用いた真空シール113、114で密封され、パーティクル除去に求められる機密性を保つ。
上述の状態で、真空掃除機115が駆動されると、真空掃除機115はアダプタ110を介し、チャンバー101内の気体を吸引する。これによりチャンバー101内が減圧され、チャンバー101外の気体が吸気部109から吸引され、吸気部109からバレル102、回転軸105や支持部106などの周囲を経て排気部111を通じ真空掃除機115へと至る気流112が形成される。その際、吸気部109から吸引される気体の流量は、5〜70L/min(大気圧時)程度が望ましい。また、チャンバー101内の圧力は20kPa程度が好適である。
以上のように構成することで、吸入した空気がバレル102等に衝突し、付着していたパーティクルを剥離することができる。そして、剥離されたパーティクルは、チャンバー101内を吸気部109から排気部111に流れる気流112に乗って、排気部111を通じて外部に排除される。このように、吸気部109と気流112と排気部111との構成により、チャンバー101内に存在しているパーティクルは外部に除去され、真空掃除機115に集塵される。
このようにして、チャンバー101内のパーティクルが充分に除去されるので、パーティクルの存在に起因するチャンバー101内における放電を防止することができる。
このようにして、チャンバー101内のパーティクルが充分に除去されるので、パーティクルの存在に起因するチャンバー101内における放電を防止することができる。
さらに、チャンバー101内に気流112が形成され、パーティクルの除去が行われている間に、本来はカソード103の配置交換時に使用する動力部104を駆動させ、回転軸105を介してバレル102を回転させることもできる。バレル102が回転することにより、バレル102の外周面全体を気流112が向かってくる方向に向けることができる。その結果、バレル102の外周面全体を気流112に当てることができ、バレル102に付着したパーティクルを剥離することができる。そのため、バレル102の外周面全体のパーティクルをチャンバー101内から除去することができる。
図3は上述の第1の実施形態に係るパーティクル除去装置を駆動したときの経過時間とチャンバー101内に残留するパーティクル数の関係を示す。これによれば、同装置を駆動開始してから75秒以上経過するとチャンバー101内のパーティクルは、ほぼ0にまで低減されていることが分かる。
(実施形態2)
次に、第2の実施形態のパーティクル除去装置について、図4および図5に基づいて説明する。
次に、第2の実施形態のパーティクル除去装置について、図4および図5に基づいて説明する。
図4は、パーティクル除去装置の正面を一部断面して示す概念図であり、タレット電子銃のチャンバー201を電子ビーム描画装置の電子光学鏡筒216に搭載された状態で、チャンバー201内のパーティクルを除去する場合を示す。図5は同パーティクル除去装置の側面を一部断面して示す概念図である。
チャンバー201には実施形態1と同じようにタレット電子銃のカソード103が設けられ、電子ビームを射出する。なお、タレット電子銃の構造とその作用は実施形態1と同一であるため、実施形態2においては同一部分に同一符号を付して、その説明を省略する。
電子光学鏡筒216に搭載されたチャンバー201の上部には開口部207が設けられており、開口部207を介してチャンバー201の内外を連通する。また、この開口部207には、チャンバー201内のバレル102に対向してアダプタ210が取り付けられる。このアダプタ210には吸気部209および排気部211が設けられ、この排気部211には真空掃除機115が接続される。実施の形態2では、このアダプタ210(取付部材)が、パーティクル除去用補助具の一例となる。
実施の形態2におけるアダプタ210は、板状部材の外周部の領域に吸気部209となる複数の通気穴が形成され、板状部材の中央部の領域に形成された開口部に排気部211となる筒状部材が接続された形状で構成される。そして、この複数の通気穴が流路となって外気をチャンバー201内に吸入する。そして、吸入した場合に、バレル102に満遍なく気流212が当たるように、その通気穴の数および方向を設定することが望ましい。また、排気部211の筒状部材が流路となって、チャンバー201内部の気体を排気する。実施の形態2でも実施の形態1と同様、板状部材と排気部211となる筒状部材は、一体で形成されてもよいし、別ピースのものが接続されても構わない。また、吸気部209となる各通気穴の断面は、排気部211となる筒状部材の開口断面よりも小さい面積で形成されることが望ましい。これにより、チャンバー201内に吸入される外気の流速を速めることができる。
さらにまた、アダプタ210がチャンバー201に取り付けられるとき、接合部はOリングやフランジパッキンなどのシール材を用いた真空シール213で密封され、パーティクル除去に求められる機密性を保つ。
上述の状態で、真空掃除機115が駆動されることにより、真空掃除機115はアダプタ210の排気部211を介し、チャンバー201内の気体を吸引する。これによりチャンバー201内が減圧され、チャンバー201外の気体が吸気部209から吸引され、吸気部209からバレル102、回転軸105や支持部106などの周囲を経て排気部211を通じ、真空掃除機115へと至る気流212が形成される。
その際に吸気部209から吸引される気体の所望の流量と、チャンバー201内の所望の圧力については、実施形態1と同じであることが望ましい。
その際に吸気部209から吸引される気体の所望の流量と、チャンバー201内の所望の圧力については、実施形態1と同じであることが望ましい。
上述のチャンバー201内に吸気部209から排気部211に流れる気流212が形成されることにより、チャンバー201内に存在しているパーティクルは除去され、真空掃除機115に集塵される。
さらに、チャンバー201内に気流212が形成されている間に、本来はカソード103の配置交換時に使用する動力部104を駆動させ、回転軸105を介しバレル102を回転させる。これによりバレル102が静止した状態では、気流212が行き渡りにくいバレル102の外周下部などにも気流212を行き渡らせることができる。
よって、バレル102を回転させることでチャンバー201に取り付けるアダプタ210は1基のみで、チャンバー201内に存在するパーティクルを除去することが可能となり、パーティクルの存在に起因する放電を防止できる。
また、この実施形態においては、電子光学鏡筒216にチャンバー201が搭載された状態で、チャンバー201内のパーティクルの除去作業を行えるので、チャンバー201を電子光学鏡筒216に搭載する作業中に発生するパーティクルをも除去することができる。
さらに、チャンバー201と電子光学鏡筒216が接続される部分に、たとえば遮断弁のような、双方の空間を遮断する機構(図示せず)を設けることが望ましい。これによって、電子光学鏡筒216の真空度に影響を与えずにパーティクルの除去作業を行うことができる。
(実施形態3)
次に、第3の実施形態としてのパーティクル除去方法の手順を図6に基づいて説明する。
次に、第3の実施形態としてのパーティクル除去方法の手順を図6に基づいて説明する。
図6は実施形態1および実施形態2におけるパーティクル除去方法のフローチャートを示す。
このパーティクル除去方法においては、チャンバー101、201に設けた開口部107、207に、アダプタ108および排気手段115を接続したアダプタ110、210を取り付けるアダプタ取り付け工程(S101)と、排気手段115を駆動してチャンバー101、201内に気流112、212を形成し、チャンバー101、201内のパーティクルを除去するパーティクル除去工程(S102)を実施する。さらにパーティクル除去工程(S102)において、動力部104を駆動させることにより回転軸105を介してバレル102を回転させる。
この方法によれば、タレット電子銃を設けたチャンバー101、201内に存在するパーティクルは除去され、真空掃除機115に集塵される。
これにより、パーティクルの存在に起因するチャンバー101、201内の放電を防止でき、タレット電子銃が電子ビームの射出を停止することで生じる装置の稼働停止時間を削減することができる。
このパーティクル除去方法においては、チャンバー101、201に設けた開口部107、207に、アダプタ108および排気手段115を接続したアダプタ110、210を取り付けるアダプタ取り付け工程(S101)と、排気手段115を駆動してチャンバー101、201内に気流112、212を形成し、チャンバー101、201内のパーティクルを除去するパーティクル除去工程(S102)を実施する。さらにパーティクル除去工程(S102)において、動力部104を駆動させることにより回転軸105を介してバレル102を回転させる。
この方法によれば、タレット電子銃を設けたチャンバー101、201内に存在するパーティクルは除去され、真空掃除機115に集塵される。
これにより、パーティクルの存在に起因するチャンバー101、201内の放電を防止でき、タレット電子銃が電子ビームの射出を停止することで生じる装置の稼働停止時間を削減することができる。
なお、実施形態1および実施形態2におけるチャンバー101、201に設けた開口部107a、107b、207のそれぞれは、電子ビーム描画装置の稼働環境において、たとえば蓋体(図示せず)や電子光学鏡筒216によって密封される。
本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、要旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することが可能である。
たとえば上述した実施形態1では、吸気部109を有するアダプタ108と排気部111を有するアダプタ110をチャンバー101の上部と下部の開口部107a、107bに取り付けるとし、また実施形態2ではアダプタ210をチャンバー201の上部の開口部210に取り付けるとしたが、これらをチャンバー101、201の側面に形成された開口部(図示せず)に取り付けることもでき、同様の効果を得ることができる。
また、上述した実施形態1および実施形態2では、吸気部109、209からチャンバー101、201の外部の気体を吸引するとしたが、これを空気のほか、クリーン度が高く不活性な性質を持つ窒素ガス、アルゴンガスなどを供給する形に置き換えても同様の効果を得ることができる。
さらに、パーティクルを除去する環境は、クリーンルームなどパーティクルが存在しない、あるいは通常の環境よりパーティクルが非常に少ない環境で行うことが望ましい。但し、上述のような良好な環境下におくことができない場合においては、吸気する気体中に含まれるパーティクルを集塵し、かつ充分な気体流量を通気できるフィルタをアダプタの吸気部に設けることで上述のクリーンルームなどと同じ良好な環境とすることが可能である。
また、上述した実施形態1および実施形態2ではバレル102を円筒形状としたが、これをカソード103の数に応じて多角形状にしてもよい。
さらに、上述の実施形態では、タレット電子銃を搭載した電子ビーム描画装置および方法としたが、これをタレット電子銃を搭載した電子ビーム検査装置および方法にしてもよい。
101、201…チャンバー
102…バレル
103…カソード
105…回転軸
107a、107b、207…開口部
108、110、210…アダプタ
109、209…吸気部
111、211…排気部
112、212…気流
115…真空掃除機
216…電子光学鏡筒
102…バレル
103…カソード
105…回転軸
107a、107b、207…開口部
108、110、210…アダプタ
109、209…吸気部
111、211…排気部
112、212…気流
115…真空掃除機
216…電子光学鏡筒
Claims (5)
- 荷電粒子銃の複数のカソードを備えた回転体を回転自在に収容するチャンバー内のパーティクルを除去するパーティクル除去装置であって、前記チャンバーの内外部を連通する開口部に取り付けられ、吸気部および排気部を有するアダプタと、前記アダプタの排気部に接続され、前記チャンバー内に前記吸気部から前記排気部に流れる気流を形成する排気手段と、を備えることを特徴とするパーティクル除去装置。
- 前記アダプタは前記回転体に対向して設けられることを特徴とする請求項1記載のパーティクル除去装置。
- 第1と第2の開口部が形成されたチャンバーと、前記チャンバー内に配置された複数のカソードとを備えた荷電粒子銃における前記チャンバー内のパーティクルを、排気手段を用いて除去するためのパーティクル除去用補助具であって、
前記第1の開口部に取り付けられ、取り付られた後に前記チャンバー内に外気を吸入する第1の流路を有する第1の取付部材と、
前記第2の開口部に取り付けられ、取り付けられた後に前記チャンバー内から前記排気手段に気体を排気する第2の流路を有する第2の取付部材と、
を備えたことを特徴とするパーティクル除去用補助具。 - 荷電粒子銃の複数のカソードを備えた回転体を回転自在に収容するチャンバー内のパーティクルを除去するパーティクル除去方法であって、吸気部および排気部を有し、かつ前記排気部に排気手段を接続したアダプタを、前記チャンバーの内外部を連通する開口部に取り付けるアダプタ取り付け工程と、
前記排気手段を駆動して前記チャンバー内に前記吸気部から前記排気部に流れる気流を形成し、前記チャンバー内のパーティクルを除去するパーティクル除去工程と、を備えることを特徴とするパーティクル除去方法。 - 前記パーティクル除去工程は、さらに、回転体を回転させることを特徴とする請求項4記載のパーティクル除去方法。
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2006341489A Pending JP2008153522A (ja) | 2006-12-19 | 2006-12-19 | パーティクル除去装置、パーティクル除去用補助具およびパーティクル除去方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008153522A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010073878A (ja) * | 2008-09-18 | 2010-04-02 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画装置 |
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2006
- 2006-12-19 JP JP2006341489A patent/JP2008153522A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2010073878A (ja) * | 2008-09-18 | 2010-04-02 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画装置 |
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