JP2008153158A - 走査形電子顕微鏡 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】電子源1と、該電子源1から発生した1次電子ビーム2を観察試料5上に集束する対物レンズ4と、前記電子源1と対物レンズ4との間に配置された少なくとも1つの集束レンズ3と、前記1次電子ビーム2をXY方向に2次元走査しながら観察試料表面に照射するための走査偏向器とを有する走査形電子顕微鏡において、前記集束レンズ3は、対物レンズ4との間に1次電子ビームが1回クロスオーバを有するように動作し、かつクロスオーバ位置ないしクロスオーバ位置より観察試料5側に、第1の荷電粒子検出器11を備え、かつ前記クロスオーバ位置より電子源側に第2の荷電粒子検出器12を備えて成される。
【選択図】図3
Description
(2)請求項2記載の発明は、前記対物レンズは、磁界型対物レンズであることを特徴とする。
(3)請求項3記載の発明は、前記対物レンズは、鏡筒外壁の電位に対して試料ホルダ側に電位差を持たせたカソードレンズであることを特徴とする。
(4)請求項4記載の発明は、前記対物レンズは、磁界型対物レンズと、対物レンズ外壁の電位に対して試料ホルダに電位差を持たせたカソードレンズとの重畳レンズであることを特徴とする。
(5)請求項5記載の発明は、前記対物レンズは、磁界型対物レンズと、対物レンズ外壁の電位に対して、対物レンズ内に電位差を持たせた静電減速型対物レンズとの重畳レンズであることを特徴とする。
(6)請求項6記載の発明は、前記対物レンズは、磁界型対物レンズと、該対物レンズが接地電位かつ試料ホルダに高電圧を印加したカソードレンズとの重畳レンズであることを特徴とする。
(7)請求項7記載の発明は、前記集束レンズより上にビーム整形絞りを有することを特徴とする。
(8)請求項8記載の発明は、電子ビームを発生する電子源と、該電子源から発生した1次電子ビームを観察試料上に集束する対物レンズと、前記電子源と対物レンズとの間に配置された少なくとも1つの集束レンズと、前記1次電子ビームをXY方向に2次元走査しながら観察試料表面に照射するための走査偏向器とを有する走査形電子顕微鏡において、前記集束レンズは、対物レンズとの間に1次電子ビームが1回クロスオーバを有するように動作し、かつクロスオーバ位置ないしクロスオーバ位置より観察試料側に、第1の荷電粒子検出器を備え、かつ前記クロスオーバ位置より電子源側に第2の荷電粒子検出器を備えることを特徴とする。
(9)請求項9記載の発明は、電子ビームを発生する電子源と、該電子源から発生した1次電子ビームを観察試料上に集束する対物レンズと、前記電子源と対物レンズとの間に配置された少なくとも1つの集束レンズと、前記1次電子ビームをXY方向に2次元走査しながら観察試料表面に照射するための走査偏向器とを有する走査形電子顕微鏡において、前記集束レンズは、対物レンズとの間に1次電子ビームが1回クロスオーバを有するように動作し、かつクロスオーバ位置乃至クロスオーバ位置より観察試料側に、荷電粒子検出器を備えることを特徴とする。
(2)請求項2記載の発明によれば、対物レンズとして磁界型対物レンズを用い、試料上に細かく絞った電子ビームを照射することができる。
(3)請求項3記載の発明によれば、対物レンズとしてカソードレンズを用いることで、収差の少ない画像を得ることができる。
(4)請求項4記載の発明によれば、対物レンズとして磁界型対物レンズとカソードレンズの重畳レンズを用いることで、より収差の少ない画像を得ることができる。
(5)請求項5記載の発明によれば、対物レンズとして磁界型対物レンズと静電減速型対物レンズとの重畳レンズを用いることで、収差の少ない画像を得ることができる。
(6)請求項6記載の発明によれば、対物レンズとして磁界型対物レンズとカソードレンズとの重畳レンズを用いることで、収差の少ない画像を得ることができる。
(7)請求項7記載の発明によれば、集束レンズより上にビーム整形絞りを有することで、1次電子ビームを真円にすることができ、1次電子ビーム電流制限を行ない、正確な画像を得ることができる。
(8)請求項8記載の発明によれば、反射電子と2次電子を別々にかつ同時に検出することができる。
(9)請求項9記載の発明によれば、この荷電粒子検出器により2次電子を効率よく検出することができる。
(第1の実施の形態)
本発明の第1の実施の形態を図1,図2に示す。図1は本発明の第1の実施の形態における反射電子の軌道を示す図、図2は本発明の第2の実施の形態における2次電子の軌道を示す図である。図6,図7と同一のものは、同一の符号を付して示す。なお、ここでは、走査光学系は省略されている。図1において、1は電子ビーム2を発生する電子源、4は該電子源1から発生した1次電子ビーム2を観察試料5上に集束する対物レンズ、3は前記電子源1と対物レンズ4との間に配置された少なくとも1つの集束レンズ、7は1次電子ビーム2を真円に整形すると共に1次電子ビーム電流の制限を行なうビーム整形絞りである。
(第2の実施の形態)
図3は本発明の第2の実施の形態における反射電子と2次電子の同時検出の説明図である。図1,図2と同一のものは、同一の符号を付して示す。なお、ここでも走査光学系は省略している。図3において、1は電子ビーム2を発生する電子源、4は該電子源1から発生した1次電子ビーム2を観察試料5上に集束する対物レンズ、3は前記電子源1と対物レンズ4との間に配置された少なくとも1つの集束レンズ、7は1次電子ビーム2を真円に整形し、1次電子ビーム電流の制限を行なうビーム整形絞りである。
(第3の実施の形態)
上述した発明において、対物レンズ4としては通常の対物レンズを用いることができるが、更に高画質の画像を得るために対物レンズ4の構成に工夫が施される。図4は本発明に用いられる対物レンズであるカソードレンズの構成例を示す図である。図において、4は対物レンズ、41は対物レンズ4に励磁電流を流すためのコイルである。対物レンズ4の表面の電位に対して、観察試料5には負電位が印加されている。この結果、対物レンズ4の先端と観察試料5との間に形成される減速場で1次電子ビームが収束されることにより、観察試料5の反射電子像又は2次電子像について収差の少ない画像を得ることができる。
なお、図5に2次電子軌道と反射電子軌道のシミュレーション結果を示す。横軸はXY方向を縦軸はZ方向を示す。単位は何れもmmである。観察試料5から160mm上に、反射電子9がクロスオーバを持つ。1次電子ビーム2は、観察試料5から210mm上にクロスオーバを結ぶようにした。50mmの違いは、反射電子9に対する対物レンズ4の球面収差による。この時、210mm〜160mmのどこかに、絞り又は2次電子検出器を置き、更に上方に反射電子検出器を置けばよい。
電子源と、該電子源から発生した1次電子ビームを観察試料上に集束する対物レンズと、前記電子源と対物レンズとの間に配置された少なくとも一つの集束レンズと、前記1次電子ビームをXY方向に2次元走査しながら観察試料表面に照射するため走査偏向器とを有する走査形電子顕微鏡において、前記集束レンズは、対物レンズとの間に1次電子ビームが1回クロスオーバを有するように動作し、かつクロスオーバ位置より電子源側に荷電粒子検出器を備え、かつクロスオーバ位置ないしクロスオーバ位置より観察試料側に1次電子ビーム径より大きい径の絞りを備えることにより、低エネルギーの反射電子を検出できるようになった。
前記集束レンズは、対物レンズとの間に1次電子ビームが1回クロスオーバを有するように動作し、かつクロスオーバ位置ないしクロスオーバ位置より観察試料側に、第1の荷電粒子検出器を備え、かつ前記クロスオーバ位置より電子源側に第2の荷電粒子検出器を備えることにより、反射電子と2次電子を別々にかつ同時に検出できるようになった。
3 集束レンズ
4 対物レンズ
5 観察試料
7 ビーム成形絞り
9 反射電子
10 2次電子
11 2次電子検出器
12 反射電子検出器
C クロスオーバ
Claims (9)
- 電子ビームを発生する電子源と、該電子源から発生した1次電子ビームを観察試料上に集束する対物レンズと、前記電子源と対物レンズとの間に配置された少なくとも1つの集束レンズと、前記1次電子ビームをXY方向に2次元走査しながら観察試料表面に照射するための走査偏向器とを有する走査形電子顕微鏡において、
前記集束レンズは、対物レンズとの間に1次電子ビームが1回クロスオーバを有するように動作し、かつクロスオーバ位置より電子源側に荷電粒子検出器を備え、かつクロスオーバ位置乃至クロスオーバ位置より観察試料側に1次電子ビーム径より大きい開口の絞りを備えることを特徴とする走査形電子顕微鏡。 - 前記対物レンズは、磁界型対物レンズであることを特徴とする請求項1記載の走査形電子顕微鏡。
- 前記対物レンズは、鏡筒外壁の電位に対して試料ホルダ側に電位差を持たせたカソードレンズであることを特徴とする請求項1記載の走査形電子顕微鏡。
- 前記対物レンズは、磁界型対物レンズと、対物レンズ外壁の電位に対して試料ホルダに電位差を持たせたカソードレンズとの重畳レンズであることを特徴とする請求項1記載の走査形電子顕微鏡。
- 前記対物レンズは、磁界型対物レンズと、対物レンズ外壁の電位に対して、対物レンズ内に電位差を持たせた静電減速型対物レンズとの重畳レンズであることを特徴とする請求項1記載の走査形電子顕微鏡。
- 前記対物レンズは、磁界型対物レンズと、該対物レンズが接地電位かつ試料ホルダに高電圧を印加したカソードレンズとの重畳レンズであることを特徴とする請求項1記載の走査形電子顕微鏡。
- 前記集束レンズより上にビーム整形絞りを有することを特徴とする請求項1乃至6の何れかに記載の走査形電子顕微鏡。
- 電子ビームを発生する電子源と、該電子源から発生した1次電子ビームを観察試料上に集束する対物レンズと、前記電子源と対物レンズとの間に配置された少なくとも1つの集束レンズと、前記1次電子ビームをXY方向に2次元走査しながら観察試料表面に照射するための走査偏向器とを有する走査形電子顕微鏡において、
前記集束レンズは、対物レンズとの間に1次電子ビームが1回クロスオーバを有するように動作し、かつクロスオーバ位置ないしクロスオーバ位置より観察試料側に、第1の荷電粒子検出器を備え、かつ前記クロスオーバ位置より電子源側に第2の荷電粒子検出器を備えることを特徴とする走査形電子顕微鏡。 - 電子ビームを発生する電子源と、該電子源から発生した1次電子ビームを観察試料上に集束する対物レンズと、前記電子源と対物レンズとの間に配置された少なくとも1つの集束レンズと、前記1次電子ビームをXY方向に2次元走査しながら観察試料表面に照射するための走査偏向器とを有する走査形電子顕微鏡において、
前記集束レンズは、対物レンズとの間に1次電子ビームが1回クロスオーバを有するように動作し、かつクロスオーバ位置乃至クロスオーバ位置より観察試料側に、荷電粒子検出器を備えることを特徴とする走査形電子顕微鏡。
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