JP2008145613A - Spatial phase modulation element and projector - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a spatial phase modulation element in which a sufficient resolution of a projected and displayed image is assured and to provide a new projector in which the influence of zero-order diffracted light is sophisticatedly prevented. <P>SOLUTION: The spatial phase modulation element is for performing projection display of an image by passing light from a light source and exiting phase modulated diffraction light. A plurality of sectional parts for performing phase modulation are arranged two-dimensionally, and the number of sections in each sectional part is equal to or larger than that of the pixels of the projected and displayed image. Further, the projector is composed by including a condensing optical system which condenses the light emitted from the light source and a shielding member which shields the zero-order diffracted light. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、投影装置に利用可能な新規な空間位相変調素子に関する。また、この空間位相変調素子を利用した投影装置を提供する。   The present invention relates to a novel spatial phase modulation element that can be used in a projection apparatus. In addition, a projection apparatus using the spatial phase modulation element is provided.

一般的な投影装置には、透過型液晶(Liquid Crystal:LC)や反射型液晶(Liquid Crystal On Silicon:LCOS)、またはDMD(Digtal Micro-mirror Device)などを用いたものがある。
従来のLCやLCOSを用いた投影装置では、LCやLCOSの液晶に投影したい画像を表示し、照射光で液晶を照らし、液晶からの透過光または反射光を投影レンズを介してスクリーンに拡大投影することで画像を表示していた。一方で、DMDを用いた投影装置では、投影したい画像に従ってDMDのミラー素子を構成しているマイクロミラーに対応する電極への電圧の印加をON/OFFのバイナリー制御をすることでマイクロミラーの状態を切り替え、入射光を投影光路に反射して投影レンズを介して画像をスクリーンに投影していた。
Common projection apparatuses include those using transmissive liquid crystal (Liquid Crystal: LC), reflective liquid crystal (Liquid Crystal On Silicon: LCOS), DMD (Digtal Micro-mirror Device), or the like.
Conventional projectors using LC or LCOS display images to be projected onto LC or LCOS liquid crystal, illuminate the liquid crystal with irradiation light, and project the transmitted or reflected light from the liquid crystal on the screen through the projection lens. The image was displayed by doing. On the other hand, in a projection device using DMD, the state of the micromirror is controlled by performing ON / OFF binary control of the voltage applied to the electrode corresponding to the micromirror that constitutes the mirror element of the DMD according to the image to be projected. The incident light is reflected on the projection optical path and an image is projected onto the screen via the projection lens.

上記のような液晶やDMDを用いた投影装置は、光源と、照明光学系と、投影レンズとを有しており、光源からの照明光を液晶などにいったん画像表示し、透過あるいは反射した画像光を投影レンズによって拡大表示をするという方法を採用していた。また、このような投影装置において、画像のカラー表示を行う為に色順次式を採用した場合、光源の色を切り替えるカラーフィルタを用いていた。一方で、色毎に複数の素子を用いる多板方式を採用した場合は、色分離・合成光学系が必要になる。   The projection apparatus using the liquid crystal or DMD as described above has a light source, an illumination optical system, and a projection lens. An image obtained by temporarily displaying the illumination light from the light source on a liquid crystal or the like and transmitting or reflecting the image. A method of enlarging and displaying light with a projection lens has been adopted. Further, in such a projection apparatus, when a color sequential method is used to perform color display of an image, a color filter that switches the color of the light source is used. On the other hand, when a multi-plate method using a plurality of elements for each color is adopted, a color separation / synthesis optical system is required.

また、従来の投影装置では、一般的に光源として高圧水銀ランプなどのインコヒーレント光源を用いていた。この場合、液晶等の画像表示素子に効率良く、かつ、均一に光源からの光を照明する為に複雑な照明光学系を必要としており、その結果、照明光学系が複雑かつ大型化すると言う技術的問題があった。さらに、高精細な画像を投影する場合には、より高精度の投影レンズが必要であり、投影レンズが大型化し、それにともない投影装置自体も大型化すると言う技術的問題があった。その上、高品質画像をカラー表示することに伴い、カラーフィルタを設けたり、複雑な色合成・分離光学系が必要となり、投影装置がさらに大型になると言う技術的問題があった。したがって、これら投影装置における光学構成の大型化や複雑化に伴い、生産コストも高くなってしまうという問題があった。   Further, in the conventional projection apparatus, an incoherent light source such as a high-pressure mercury lamp is generally used as a light source. In this case, a complex illumination optical system is required to efficiently and uniformly illuminate the light from the light source on the image display element such as a liquid crystal, and as a result, the technology that the illumination optical system is complicated and large-sized There was a problem. Furthermore, when a high-definition image is projected, a higher-precision projection lens is necessary, and there has been a technical problem that the projection lens is enlarged and the projection apparatus itself is enlarged accordingly. In addition, with the color display of high-quality images, there has been a technical problem that a color filter is provided and a complicated color synthesis / separation optical system is required, which further increases the size of the projection apparatus. Therefore, there has been a problem that the production cost increases as the optical configuration of these projection apparatuses increases in size and complexity.

これらの技術的問題の一つの解決手段として、例えば、特許文献1において図20に示すような空間位相変調素子(Spatial Phase Modulater:SPM)を用いた簡単な照明光学系を使用し、簡易的な投影レンズで済ますことができる小型の投影装置を開示している。   As one means for solving these technical problems, for example, a simple illumination optical system using a spatial phase modulator (SPM) as shown in FIG. A small projection device that can be done with a projection lens is disclosed.

以下において、回折光で画像を投影する投影装置の一つの従来例として、図20の投影装置200の原理を簡単に示す。
図20では、光源(レーザー)201で射出した直線偏光の光をPBS(偏光ビームスプリッタ)203に入射させ、PBS203内で反射させて空間位相変調素子としてのLCOS202に入射させる。このPBS203とLCOS202の間には図示されていないλ/4板が設けられている。ここで、投影される画像情報に従ってLCOS202で位相変調を受けた回折光204は、λ/4板を再び通過し、さらにPBS203を透過して投影レンズ205を介しスクリーン206に画像を投影して表示する。なお、図20においては、LCOS202の位相変調の有無により位相差がπのバイナリー変調を得ることができる。
Hereinafter, the principle of the projection apparatus 200 of FIG. 20 will be briefly described as one conventional example of a projection apparatus that projects an image with diffracted light.
In FIG. 20, linearly polarized light emitted from a light source (laser) 201 is incident on a PBS (polarized beam splitter) 203, reflected in the PBS 203, and incident on an LCOS 202 serving as a spatial phase modulation element. A λ / 4 plate (not shown) is provided between the PBS 203 and the LCOS 202. Here, the diffracted light 204 that has undergone phase modulation by the LCOS 202 according to the projected image information passes through the λ / 4 plate again, further passes through the PBS 203, and projects and displays an image on the screen 206 via the projection lens 205. To do. In FIG. 20, binary modulation having a phase difference of π can be obtained depending on whether or not LCOS 202 is phase-modulated.

しかし、図20のような投影装置200では、LCOS202を使用している為に光が液晶内を往復する事で光量の低下が生じ、光の利用効率が低く、表示される画像が暗くなったり、あるいは表示される画像の明るさを確保するためには光源の大型化が必要になると言う技術的問題があった。さらには、表示される画像の解像度への着目やその向上に関する記載なども全く存在していなかった。また、0次回折光207の除去も不十分である為にスクリーン206の画像内に0次回折光207が混入して影響が残ることで画像の鮮明さに欠けると言う問題もあった。   However, in the projection apparatus 200 as shown in FIG. 20, since the LCOS 202 is used, the amount of light is reduced when the light reciprocates in the liquid crystal, the light use efficiency is low, and the displayed image becomes dark. Alternatively, there has been a technical problem that it is necessary to increase the size of the light source in order to ensure the brightness of the displayed image. Furthermore, there is no description regarding the resolution of the displayed image and the improvement thereof. In addition, since the removal of the 0th-order diffracted light 207 is insufficient, there is a problem that the 0th-order diffracted light 207 is mixed in the image on the screen 206 and the influence remains and the image is not clear.

以上のように、従来の空間位相変調素子を用いた投影装置には、いくつかの技術的問題があった。
国際公開第WO/2005/059881パンフレット
As described above, the conventional projection apparatus using the spatial phase modulation element has some technical problems.
International Publication No. WO / 2005/059881 Pamphlet

本発明の目的は、上記の問題に鑑み、装置の構成が簡素でありながら、投影されて表示される画像の十分な解像度が確保できる空間位相変調素子を提供できることにある。また、0次回折光の影響をも巧みに回避できる新規な投影装置を提供することを課題とする。   In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a spatial phase modulation element capable of ensuring a sufficient resolution of an image to be projected and displayed while the configuration of the apparatus is simple. It is another object of the present invention to provide a novel projection apparatus that can skillfully avoid the influence of 0th-order diffracted light.

上記課題を解決するために、本発明の第1の空間位相変調素子として、光源からの光を経由させ位相変調を行った回折光を出射させることによって映像の投影表示を行わしめるための空間位相変調素子であって、この空間位相変調素子における位相変調を行うための区画部分が2次元に複数配置されていると共に、各区画部分の区画数が投影されて表示される画像の画素数に等しいか、または多い空間位相変調素子を提供する。   In order to solve the above-mentioned problem, as the first spatial phase modulation element of the present invention, a spatial phase for projecting and displaying an image by emitting diffracted light subjected to phase modulation via light from a light source. A modulation element, in which a plurality of division parts for performing phase modulation in the spatial phase modulation element are two-dimensionally arranged, and the number of divisions of each division part is equal to the number of pixels of an image displayed. Or many spatial phase modulation elements are provided.

また、本発明の第1の空間位相変調素子における第1の形態として、区画部分の縦の列数および横の列数が、表示される画像の画素の縦の列数および横の列数に等しい、または多いことが望ましい。   Further, as a first form of the first spatial phase modulation element of the present invention, the number of vertical columns and the number of horizontal columns of the partition portion are set to the number of vertical columns and the number of horizontal columns of the pixels of the displayed image. It is desirable to be equal or more.

さらに、本発明の第1の空間位相変調素子または第1の形態の空間位相変調素子は、第2の形態として、区画部分の縦の列数および横の列数が、2のべき乗であることが好ましい。   Furthermore, in the first spatial phase modulation element or the spatial phase modulation element of the first aspect of the present invention, as the second aspect, the number of vertical columns and the number of horizontal columns of the partition portion are powers of 2. Is preferred.

その上、本発明の第1の空間位相変調素子または第1の形態もしくは第2の形態における空間位相変調素子は、第3の形態として、位相変調を行うための区画部分の全てで形成される位相変調部における輪郭形状が、縦横比の等しい正方形であり、表示される画像の縦横比に依存しないとすることがさらに望ましい。   In addition, the first spatial phase modulation element of the present invention or the spatial phase modulation element in the first or second mode is formed as a third mode by all of the partition portions for performing phase modulation. It is further desirable that the contour shape in the phase modulation section is a square having the same aspect ratio and does not depend on the aspect ratio of the displayed image.

そして、本発明の第1の空間位相変調素子または第1から第3のいずれか一つの形態における空間位相変調素子は、第4の形態として、光源からの光を反射する際に位相変調を行う為のミラー面を有し、ミラー面上に設けられた位相変調を行う為の各区画部分に対応して配置された弾性部材と、弾性部材にそれぞれ対応して配置され、電圧を印加することで弾性部材の復元力に抗してミラー面を移動または変形させるための電極と、電極が配置される基板を備えるように構成してもよい。   And the 1st spatial phase modulation element of this invention or the spatial phase modulation element in any one form of 1st to 3rd performs phase modulation when reflecting the light from a light source as a 4th form. An elastic member disposed on the mirror surface corresponding to each partition portion for performing phase modulation and an elastic member disposed corresponding to each elastic member and applying a voltage. In this case, an electrode for moving or deforming the mirror surface against the restoring force of the elastic member and a substrate on which the electrode is disposed may be provided.

また、本発明の第4の形態の空間位相変調素子は、第1の態様として、ミラー面が、電極への電圧の印加に対応して移動し、その移動量または変形量に応じて位相変調量が決定されるようにしてもよい。   The spatial phase modulation element according to the fourth aspect of the present invention includes, as a first aspect, a mirror surface that moves in response to application of a voltage to an electrode, and phase modulation according to the amount of movement or deformation. The amount may be determined.

さらに、本発明の第4の形態の空間位相変調素子における第1の態様の空間位相変調素子において、第2の態様として、ミラー面の面の移動制御または変形制御が、前記電極への電圧の印加の有無のみで決定されるようにしてもよい。   Furthermore, in the spatial phase modulation element according to the first aspect of the spatial phase modulation element of the fourth aspect of the present invention, as a second aspect, the movement control or deformation control of the surface of the mirror surface is controlled by the voltage applied to the electrode. It may be determined only by the presence or absence of application.

本発明の第4の形態の空間位相変調素子における第2の態様の空間位相変調素子において、第1の制御として、ミラー面の移動量または変形量は、入射する光源の光の1/4波長相当分であり、出射する回折光において1/2波長分の位相差を形成するとしてもよい。   In the spatial phase modulation element according to the second aspect of the spatial phase modulation element of the fourth aspect of the present invention, as the first control, the movement amount or deformation amount of the mirror surface is ¼ wavelength of the light of the incident light source. The phase difference may be equivalent to a half wavelength in the outgoing diffracted light.

本発明の第4の形態の空間位相変調素子における第1の態様の空間位相変調素子において、第3の態様として、ミラー面の移動量または変形量の制御は、電極に印加される電圧値に依存して決定されると共に、印加される電圧の変化量は連続的に順次増加または減少されるべく制御されるとしてもよい。   In the spatial phase modulation element according to the first aspect of the spatial phase modulation element of the fourth aspect of the present invention, as a third aspect, the control of the movement amount or deformation amount of the mirror surface is controlled by the voltage value applied to the electrode. And the amount of change in applied voltage may be controlled to increase or decrease continuously and sequentially.

本発明の第4の形態の空間位相変調素子における第3の態様の空間位相変調素子において、第2の制御として、ミラー面の最大移動量または変形量が、入射する光源の光の1/2波長相当分以内であり、出射する回折光において形成される位相差は1波長分以内であることが好ましい。   In the spatial phase modulation element according to the third aspect of the spatial phase modulation element of the fourth aspect of the present invention, as the second control, the maximum movement amount or deformation amount of the mirror surface is 1/2 of the light of the incident light source. It is preferable that the phase difference is within one wavelength, and the phase difference formed in the outgoing diffracted light is within one wavelength.

本発明の第4の形態の空間位相変調素子または第1の態様から第3の態様のいずれか一つの空間位相変調素子または第1もしくは第2の制御ができる空間位相変調素子において、ミラー面は、一体型のミラーから形成され、一体型のミラーにおけるミラー面の位相変調を行う為の各区画部分に対応してそれぞれ弾性部材及び電極が配置されるように構成してもよい。   In the spatial phase modulation element of the fourth aspect of the present invention, the spatial phase modulation element of any one of the first to third aspects, or the spatial phase modulation element capable of the first or second control, the mirror surface is Alternatively, the elastic member and the electrode may be arranged so as to correspond to each partition portion that is formed of an integral mirror and performs phase modulation of the mirror surface of the integral mirror.

本発明の第4の形態の空間位相変調素子または第1の態様から第3の態様のいずれか一つの空間位相変調素子または第1もしくは第2の制御ができる空間位相変調素子において、ミラー面は、位相変調を行うための各区画部分において、それぞれ個別のミラーとして形成され、各ミラーに対してそれぞれ弾性部材及び電極が配置されるようにしてもよい。   In the spatial phase modulation element of the fourth aspect of the present invention, the spatial phase modulation element of any one of the first to third aspects, or the spatial phase modulation element capable of the first or second control, the mirror surface is Each partition portion for performing phase modulation may be formed as an individual mirror, and an elastic member and an electrode may be arranged for each mirror.

本発明の第4の形態の空間位相変調素子においてミラー面の面精度が、50nm以下であることが好ましい。
本発明の第4の形態の空間位相変調素子においてミラー面の面粗さが、5nm以下であることが望ましい。
In the spatial phase modulation element according to the fourth aspect of the present invention, the surface accuracy of the mirror surface is preferably 50 nm or less.
In the spatial phase modulation element according to the fourth aspect of the present invention, the surface roughness of the mirror surface is preferably 5 nm or less.

さらに、本発明の第1の投影装置は、光源と、光源から出射される光を集光する集光光学系と、光源から出射された光が集光光学系を経由して集光される集光位置までの途中位置に配置された2次元に複数配置された位相変調を行う為の各区画部分の区画数が、投影されて表示される画像の画素数に等しいか、または多い空間位相変調素子と、空間位相変調素子から回折されずに出射して集光する0次回折光をその集光位置で遮蔽する遮蔽部材と、を備える投影装置を提供する。   Furthermore, the first projection device of the present invention includes a light source, a condensing optical system that condenses the light emitted from the light source, and the light emitted from the light source is condensed via the condensing optical system. A spatial phase in which the number of sections of each section for performing phase modulation arranged two-dimensionally in the middle position to the condensing position is equal to or greater than the number of pixels of the projected image to be displayed A projection device is provided that includes a modulation element and a shielding member that shields zero-order diffracted light that is emitted and collected without being diffracted from the spatial phase modulation element at the light collection position.

本発明の第1の投影装置は、第1の形態として、空間位相変調素子の各区画部分は、投影されて表示される画像情報に対応して生成される空間位相情報に基づいて変調する位相が制御され、投影されて表示される画像の各画素はそれぞれ空間位相変調素子のすべての区画部分から出射される回折光によって形成されるようにすることが好ましい。   According to a first aspect of the present invention, as a first form, each partition portion of the spatial phase modulation element modulates a phase based on spatial phase information generated corresponding to image information displayed by projection. It is preferable that each pixel of the image to be projected and displayed is formed by diffracted light emitted from all the partition portions of the spatial phase modulation element.

本発明の第1の投影装置は、第2の形態として、光源は集光光学系の光軸上から離間した位置に配置されており、且つ、遮蔽部材は空間位相変調素子から出射されて投影される画像を形成する回折光の光束外に配置されることが望ましい。   As a second form of the first projection device of the present invention, the light source is disposed at a position spaced from the optical axis of the condensing optical system, and the shielding member is emitted from the spatial phase modulation element and projected. It is desirable to dispose the light beam outside the diffracted light beam that forms the image to be formed.

本発明の第1の投影装置または第1の形態もしくは第2の形態における投影装置は、第1の態様として、空間位相変調素子における区画部分の縦の列数および横の列数が、投影されて表示される画像の画素の縦の列数および横の列数に等しいか、または多くするとよい。   In the first projection device or the projection device according to the first aspect or the second aspect of the present invention, as the first aspect, the number of vertical columns and the number of horizontal columns of the partition portion in the spatial phase modulation element are projected. The number of vertical columns and horizontal columns of pixels of an image displayed in this manner may be equal to or larger.

本発明の第1の投影装置または第1の形態もしくは第2の形態の投影装置または第1の態様における投影装置は、第2の態様として、空間位相変調素子における区画部分の縦の列数および横の列数が、2のべき乗であるとすることが好ましい。   The first projection device of the present invention or the projection device of the first or second form or the projection device of the first aspect includes, as the second aspect, the number of vertical columns of the partition portion in the spatial phase modulation element and The number of horizontal columns is preferably a power of 2.

本発明の第1の投影装置または第1の形態もしくは第2の形態の投影装置または第1の態様または第2の態様における投影装置は、第3の形態として、空間位相変調素子の位相変調を行う為の区画部分の全てで形成される位相変調部における輪郭形状が、縦横比の等しい正方形であり、表示される画像の縦横比に依存しないようにしても構わない。   The first projection apparatus or the projection apparatus according to the first or second aspect of the present invention or the projection apparatus according to the first aspect or the second aspect performs phase modulation of a spatial phase modulation element as a third aspect. The contour shape in the phase modulation section formed by all of the partition portions to be performed may be a square having the same aspect ratio, and may not depend on the aspect ratio of the displayed image.

本発明の第1の投影装置または第1の形態もしくは第2の形態の投影装置または第1の態様から第3の態様におけるいずれか一つの投影装置は、第4の態様として、空間位相変調素子を、光源からの光を反射する際に位相変調を行う為のミラー面を有し、ミラー面上に設けられた位相変調を行う為の各区画部分に対応して配置された弾性部材と、弾性部材にそれぞれ対応して配置され、電圧を印加することで弾性部材の復元力に抗してミラー面を移動または変形させるための電極と、電極が配置される基板と、で構成するとしてもよい。   According to a first aspect of the present invention, the projection apparatus according to the first aspect or the second aspect, or any one of the first aspect to the third aspect, the spatial phase modulation element as a fourth aspect A mirror surface for performing phase modulation when reflecting light from the light source, and an elastic member disposed corresponding to each partition portion for performing phase modulation provided on the mirror surface; Even if it is arranged corresponding to each elastic member, and it is constituted by an electrode for moving or deforming the mirror surface against the restoring force of the elastic member by applying a voltage, and a substrate on which the electrode is arranged Good.

本発明の第4の態様の投影装置において、第1の様態として、空間位相変調素子におけるミラー面が、電極への電圧の印加に対応して移動し、その移動量または変形量に応じて位相変調量が決定されることが好ましい。   In the projection device according to the fourth aspect of the present invention, as a first aspect, the mirror surface in the spatial phase modulation element moves in response to the application of a voltage to the electrode, and the phase varies depending on the amount of movement or deformation. Preferably, the modulation amount is determined.

本発明の第4の態様の投影装置の第1の様態における、第2の様態として、空間位相変調素子におけるミラー面の移動制御または変形制御が、電極への電圧の印加の有無のみで決定されるとしてもよい。   As a second aspect of the first aspect of the projection apparatus of the fourth aspect of the present invention, movement control or deformation control of the mirror surface in the spatial phase modulation element is determined only by whether or not voltage is applied to the electrodes. It may be.

本発明の第4の態様の投影装置の第2の様態における、第1の制御として、空間位相変調素子におけるミラー面の移動量または変形量が、入射する光源の光の1/4波長相当分であり、出射する回折光において1/2波長分の位相差を形成するとしてもよい。   As the first control in the second aspect of the projection apparatus of the fourth aspect of the present invention, the amount of movement or deformation of the mirror surface in the spatial phase modulation element is equivalent to a quarter wavelength of the light of the incident light source. It is also possible to form a phase difference of ½ wavelength in the emitted diffracted light.

本発明の第4の態様の投影装置の第3の様態として、前記空間位相変調素子におけるミラー面の移動量または変形量の制御が、前記電極に印加される電圧値に依存して決定されると共に、印加される電圧の変化量は連続的に順次増加または減少されるべく制御されるとしてもよい。   As a third aspect of the projection apparatus of the fourth aspect of the present invention, the control of the movement amount or deformation amount of the mirror surface in the spatial phase modulation element is determined depending on the voltage value applied to the electrode. At the same time, the amount of change in the applied voltage may be controlled so as to increase or decrease continuously and sequentially.

本発明の第4の態様の投影装置の第3の様態における、第2の制御として、空間位相変調素子におけるミラー面の最大移動量または変形量が、入射する光源の光の1/2波長相当分以内であり、出射する回折光において形成される位相差は1波長分以内であることが好ましい。   As the second control in the third mode of the projection apparatus of the fourth aspect of the present invention, the maximum movement amount or deformation amount of the mirror surface in the spatial phase modulation element corresponds to ½ wavelength of the light of the incident light source. The phase difference formed in the emitted diffracted light is preferably within one wavelength.

本発明の第4の態様の投影装置または第1から第3の様態のいずれか一つの投影装置または第1または第2の制御のできる投影装置において、空間位相変調素子におけるミラー面は、一体型のミラーから形成され、一体型のミラーにおけるミラー面の位相変調を行う為の各区画部分に対応してそれぞれ弾性部材及び電極が配置されることが望ましい。   In the projection device according to the fourth aspect of the present invention, the projection device according to any one of the first to third aspects, or the projection device capable of the first or second control, the mirror surface in the spatial phase modulation element is integrated. It is desirable that an elastic member and an electrode are arranged corresponding to each partition portion for performing phase modulation of the mirror surface of the integrated mirror.

本発明の第4の態様の投影装置または第1から第3の様態のいずれか一つの投影装置または第1または第2の制御のできる投影装置において、空間位相変調素子におけるミラー面は、位相変調を行うための各区画部分において、それぞれ個別のミラーとして形成され、各ミラーに対してそれぞれ弾性部材及び電極が配置されることが望ましい。   In the projection device according to the fourth aspect of the present invention, the projection device according to any one of the first to third aspects, or the projection device capable of the first or second control, the mirror surface in the spatial phase modulation element is phase-modulated. It is desirable that each partition portion for performing the above is formed as an individual mirror, and an elastic member and an electrode are arranged for each mirror.

本発明の第4の態様の投影装置において、空間位相変調素子におけるミラー面の面精度が、50nm以下であることが望ましい。
本発明の第4の態様の投影装置において、空間位相変調素子におけるミラー面の面粗さが、5nm以下であることが望ましい。
In the projection device according to the fourth aspect of the present invention, it is desirable that the surface accuracy of the mirror surface in the spatial phase modulation element be 50 nm or less.
In the projection device according to the fourth aspect of the present invention, the surface roughness of the mirror surface in the spatial phase modulation element is preferably 5 nm or less.

本発明の投影装置は、λ板を不要とできるような簡単な光学系で構成でき、投影装置自体の構成を簡素化しながら、投影されて表示される画像に十分な解像度を確保できる空間位相変調素子を提供できる。また、集光レンズなどの集光光学系を用いて0次回折光を遮蔽部材で遮蔽する構成とする事でスクリーンに投影される画像への0次回折光の混入もなく、画像コントラストの低下を防ぐことができる。また、本発明の投影装置は、従来の投影装置よりも簡素な構成ですむことで廉価とすることが可能である。   The projection apparatus of the present invention can be configured with a simple optical system that can eliminate the λ plate, and can simplify the configuration of the projection apparatus itself, while ensuring sufficient resolution for the projected and displayed image. An element can be provided. In addition, by using a condensing optical system such as a condensing lens, the 0th-order diffracted light is shielded by a shielding member, so that the 0th-order diffracted light is not mixed in the image projected on the screen, thereby preventing a decrease in image contrast. be able to. In addition, the projection apparatus of the present invention can be made inexpensive because it has a simpler configuration than the conventional projection apparatus.

一方で、本発明の新規の反射型の空間位相変調素子は、簡単な構成であり、生産コストが廉価で、且つ、ミラーを備えており光量損失がほとんどない為に光の利用効率が良い。さらに、弾性部材と電極を用いてミラー面の移動または変形量を電極に印加される電圧値に依存して、連続的に制御することで不要な回折次数を抑えることができ回折効率を向上させることができる。   On the other hand, the novel reflective spatial phase modulation element of the present invention has a simple configuration, is inexpensive in production cost, has a mirror, and has little light loss, so that the light use efficiency is good. Furthermore, unnecessary diffraction orders can be suppressed and diffraction efficiency can be improved by continuously controlling the amount of movement or deformation of the mirror surface depending on the voltage value applied to the electrodes using elastic members and electrodes. be able to.

本発明では、装置の構成を簡素化すると共に投影されて表示される画像に十分な解像度を確保できる空間位相変調素子を提供できる。投影画像への0次回折光の影響をも回避できる空間位相変調素子を備えた投影装置を提供する。また、本発明の投影装置に用いられる新規な空間位相変調素子の一つとして、簡易的な構成で光の利用効率および回折効率を高め、最適な回折パターンを得ることのできる反射型の空間位相変調素子(SPM)であるMMD(Magic Mirror Device)素子を提供する。   According to the present invention, it is possible to provide a spatial phase modulation element capable of simplifying the configuration of the apparatus and ensuring sufficient resolution for an image to be projected and displayed. Provided is a projection device including a spatial phase modulation element that can avoid the influence of zero-order diffracted light on a projected image. In addition, as one of the new spatial phase modulation elements used in the projection apparatus of the present invention, a reflective spatial phase that can improve the light utilization efficiency and diffraction efficiency with a simple configuration and obtain an optimal diffraction pattern. An MMD (Magic Mirror Device) element which is a modulation element (SPM) is provided.

以下では、図面を参照しながら本発明の実施形態の例について説明する。
[実施形態1]
Hereinafter, an example of an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
[Embodiment 1]

実施形態1では、本発明の投影装置およびこの投影装置に使用される新規な空間位相変調素子の詳細を明らかにする。光源から出射される光を集光する集光光学系と、光源から出射された光が集光光学系を経由して集光される集光位置までの途中の位置に配置された
空間位相変調素子と、空間位相変調素子から回折されずに出射して集光する0次回折光をその集光位置で遮蔽する遮蔽部材とを備えている。
In the first embodiment, details of the projection apparatus of the present invention and a novel spatial phase modulation element used in the projection apparatus will be clarified. A condensing optical system that condenses the light emitted from the light source, and a spatial phase modulation arranged at a position midway to the condensing position where the light emitted from the light source is collected via the condensing optical system And a shielding member that shields zero-order diffracted light that is emitted and collected without being diffracted from the spatial phase modulation element at the condensing position.

本明細書においては、空間位相変調素子上に複数の区画部分を設けている。この区画部分は空間位相変調素子上の領域を細かな多数の区画に区切ったもので、そのそれぞれの区画部分の物理的な状態を独立に制御することによって、そのそれぞれが所望の位相を持った回折光を出射することができる。この区画部分はCCD等の光電変換素子や液晶等の画像表示素子で言えば画素に相当するような概念ではあるが、CCDや液晶の画素がそれ単独で可視画像の一部となりその画素情報はそのまま1対1で投影画像の画素になるのに対し、それぞれの区画と実際に表示される画像との関係はCCDや液晶のそれとは全く異なっている。即ち、本願においては、投影表示されている画像はスクリーン上において可視画像に変換されている状態であり、この時にスクリーン上に再現されている表示画像の画素に着目してみると、この各画素のそれぞれは空間位相変調素子上のすべての区画から出射された回折光の総和で形成されている。即ち、表示される画素1つを形成するのにすべての区画からの回折光が必要ということである。同様に、表示されているすべての個々の画素はそのそれぞれがすべての区画から出射された回折光の総和で形成されている。また、本願に言う位相変調部はこの区画が設けられている全体の輪郭を意味している。   In the present specification, a plurality of partition portions are provided on the spatial phase modulation element. This partition part is obtained by dividing the area on the spatial phase modulation element into a large number of fine sections. Each of the partition parts has a desired phase by independently controlling the physical state of each partition part. Diffracted light can be emitted. This partition part is a concept that corresponds to a pixel in terms of a photoelectric conversion element such as a CCD or an image display element such as a liquid crystal, but the pixel of the CCD or liquid crystal alone becomes a part of the visible image and its pixel information is While the pixels of the projected image are directly one-to-one, the relationship between each section and the actually displayed image is completely different from that of a CCD or liquid crystal. That is, in the present application, the projected image is converted to a visible image on the screen. At this time, when attention is paid to the pixels of the display image reproduced on the screen, each pixel is displayed. Are formed by the sum of diffracted light emitted from all sections on the spatial phase modulation element. That is, diffracted light from all sections is required to form one pixel to be displayed. Similarly, all displayed individual pixels are each formed by the sum of diffracted light emitted from all sections. Moreover, the phase modulation part said to this application means the whole outline in which this division is provided.

なお、実施形態1では、光源から出射される光を集光する集光光学系として集光レンズを用い、さらに空間位相変調素子として透過型の空間位相変調素子を用いるとする。
図1は、集光レンズと透過型の空間位相変調素子、遮蔽部材を備えた本発明の投影装置の一つの実施形態を示している。
In the first embodiment, it is assumed that a condensing lens is used as a condensing optical system for condensing light emitted from a light source, and a transmissive spatial phase modulation element is used as a spatial phase modulation element.
FIG. 1 shows an embodiment of a projection apparatus of the present invention including a condensing lens, a transmissive spatial phase modulation element, and a shielding member.

図1では、不図示の光源から発した照明光の照明光束15を集光レンズ11によって集光した上で透過型の空間位相変調素子12に入射させている。透過型の空間位相変調素子12において位相変調かつ回折された回折光17をスクリーン14に投影する投影装置10を示している。図1中のθは回折角をあらわしている。   In FIG. 1, an illumination light beam 15 of illumination light emitted from a light source (not shown) is collected by a condenser lens 11 and then incident on a transmissive spatial phase modulation element 12. 1 shows a projection apparatus 10 that projects diffracted light 17 phase-modulated and diffracted by a transmissive spatial phase modulation element 12 onto a screen 14. 1 in FIG. 1 represents the diffraction angle.

本発明の投影装置では、空間位相変調素子から出射される回折光をスクリーンに投影表示することによって画像を形成するようにしている。空間位相変調素子の各区画部分では、投影表示される画像情報に対応して生成される空間位相情報に基づいてその位相が制御される。また、本発明の投影装置における光源は、集光光学系の光軸上から離間した位置に配置されており、且つ、遮蔽部材を空間位相変調素子から出射されて投影される画像を形成する回折光の光束外に配置するような構成としている。   In the projection apparatus of the present invention, an image is formed by projecting and displaying the diffracted light emitted from the spatial phase modulation element on a screen. In each section of the spatial phase modulation element, the phase is controlled based on the spatial phase information generated corresponding to the image information to be projected and displayed. In addition, the light source in the projection apparatus of the present invention is disposed at a position spaced from the optical axis of the condensing optical system, and the diffraction that forms the image projected from the spatial phase modulation element is projected from the shielding member. The configuration is such that it is placed outside the light beam.

このように構成することで、図1における投影装置では、照明光束15を集光レンズ11で集束光とすることにより、0次回折光16を遮蔽部材13で補足でき、スクリーン14に0次回折光が投影されないようにすることで画像のコントラストを低下させるのを防ぐことができる。図1においてスクリーン14は、透過型の空間位相変調素子12の近辺に描かれているが、実際は、透過型の空間位相変調素子12の十分遠方にある。   With this configuration, the projection apparatus in FIG. 1 can capture the 0th-order diffracted light 16 with the shielding member 13 by converting the illumination light beam 15 into the focused light by the condenser lens 11, and the 0th-order diffracted light is applied to the screen 14. By preventing projection, it is possible to prevent the contrast of the image from being lowered. In FIG. 1, the screen 14 is drawn in the vicinity of the transmissive spatial phase modulation element 12, but is actually far enough from the transmissive spatial phase modulation element 12.

また、図1のように投影装置を構成した際には、基本的には投影レンズを必要としないが、スクリーン14との距離を調節する場合や回折光17の広がり角を変えたい場合には、投影レンズを設けてもよい。投影レンズを設ける場合でも、表示素子に描かれた画像を投影する従来の投影装置とは違い、位相変調された回折光を投影する構成であるため、簡易的な投影レンズで済ます事ができる。   In addition, when the projection apparatus is configured as shown in FIG. 1, basically no projection lens is required, but when adjusting the distance to the screen 14 or changing the spread angle of the diffracted light 17 A projection lens may be provided. Even when a projection lens is provided, unlike a conventional projection apparatus that projects an image drawn on a display element, it is configured to project phase-modulated diffracted light, so a simple projection lens can be used.

図2は、本発明の投影装置における空間位相変調素子に入力される信号の信号処理のフローチャート図を示している。
以下に、信号の種類と信号が空間位相変調素子に入力されるまでの処理の流れを詳述する。
FIG. 2 shows a flowchart of signal processing of signals input to the spatial phase modulation element in the projection apparatus of the present invention.
Hereinafter, the type of signal and the flow of processing until the signal is input to the spatial phase modulation element will be described in detail.

始めに、投影したい画像の画像データ21を取得する。画像データ(画像)21は、フーリエ変換されて空間位相分布の情報となるが、しかし、このままでは空間位相分布とともに強度分布が生じるので、予め画像データ21にランダムな位相情報22を重畳しておく。そして、ランダムな位相情報を画像データに重畳した後にフーリエ変換23を行う。このランダム位相情報を重畳する方法は、キノフォームとして知られている技術であり、例えば、W. H. Lee : "Computer-generated holograms: techniques and applications," in Progress in Optics, E. Wolf, ed., (North-Holland, Amsterdam, 1978),Vol.16, pp.119-232 などに詳しく述べらている。このようにランダム位相情報を画像データ21に重畳することで空間位相分布上の強度が平均化され、位相情報だけで画像情報を満たす空間分布を得ることができる。このようにランダム位相を重畳され、フーリエ変換された画像データは、位相だけの空間位相情報となる。そして、この位相だけの空間位相情報に対して光学配置に基づく補正処理24を施した後に、SPMドライバ25に入力する。この時の画像情報は、通常の画像情報と同様に2次元マトリックスデータとなっている。SPMドライバ25では、空間位相変調素子(SPM)を駆動させる駆動信号を作成する。次いで、この駆動信号を空間位相変調素子に与えて空間位相変調素子(SPM)上に投影したい画像に対応した空間位相情報を位相分布として出現させる事ができる。   First, image data 21 of an image to be projected is acquired. The image data (image) 21 is Fourier-transformed to become spatial phase distribution information. However, since the intensity distribution is generated together with the spatial phase distribution in this state, random phase information 22 is superimposed on the image data 21 in advance. . Then, Fourier transform 23 is performed after random phase information is superimposed on the image data. This method of superimposing random phase information is a technique known as kinoform, such as WH Lee: "Computer-generated holograms: techniques and applications," in Progress in Optics, E. Wolf, ed., ( North-Holland, Amsterdam, 1978), Vol.16, pp.119-232. By superimposing the random phase information on the image data 21 in this way, the intensity on the spatial phase distribution is averaged, and a spatial distribution satisfying the image information can be obtained with only the phase information. Thus, the image data on which the random phase is superimposed and Fourier-transformed becomes spatial phase information of only the phase. Then, the spatial phase information of only this phase is subjected to the correction process 24 based on the optical arrangement, and then input to the SPM driver 25. The image information at this time is two-dimensional matrix data as with normal image information. The SPM driver 25 creates a drive signal for driving the spatial phase modulation element (SPM). Next, the spatial phase information corresponding to the image desired to be projected onto the spatial phase modulation element (SPM) can be made to appear as a phase distribution by applying this drive signal to the spatial phase modulation element.

ここで信号処理の一例として、光源からの光を反射する際に位相変調を行う為のミラーと、ミラーのミラー面における位相変調を行う為の各区画部分に対応して配置された弾性部材と、弾性部材にそれぞれ対応して配置され、電圧を印加することで弾性部材の復元力に抗してミラー面を移動するための電極と、電極が配置される基板とで構成される後述する本発明の反射型の空間位相変調素子の区画が3×3であると仮定し、信号の入力による空間位相変調素子の動作を簡単に説明する。なお、図3では、3×3の区画の空間位相変調素子に対応して基板に設けられたスイッチ回路30であるトランジスタ回路を2×2だけを示した。図3において、空間位相変調素子の駆動回路では、各区画の信号線31のY1からY3まで順次、駆動信号を送り、一方で各区画の走査線32のX1からX3まで順次、走査信号を送るような通常のX−Y走査を行うものとする。ここで、信号線Y1から駆動信号を送り、走査線X1からONの走査信号を送ると、区画(X1、Y1)のトランジスタ33がONとなり、信号線Y1の信号に従い電極34に電圧が印加される。この時、空間位相変調素子の弾性部材36と電極34の間には、キャパシター35となっている事で電荷が蓄積され、電荷に応じてクーロン力が生じる。この電荷は、次の信号が来るまで維持される。次に、信号線Y2から駆動信号が送られ、走査線X1からONの走査信号を送られると区画(X1、Y2)の電極34に電圧が印加される。同様に、区画(X1、Y3)に信号線Y3から駆動信号が送られ走査線X1で走査された後に、区画(X2、Y1)に信号線Y1から駆動信号が送られ、次いで走査線X2からONの走査信号が送られることで次々駆動信号の情報を空間位相変調素子に反映してゆく。このようにして随時、空間位相変調素子全体に空間位相情報が表現されることで光の位相変調をできるようになる。以上のような動作を制御する事で空間位相変調素子(SPM)上に投影したい画像の空間位相分布情報を表現する事ができる。なお、ここでの弾性部材36は、スイッチ回路に接続されている電極34に電圧が印加されて電荷がキャパシター35に蓄積される事で生じるクーロン力が解放された場合にミラーを元の状態に復帰するために設けられている。   Here, as an example of signal processing, a mirror for performing phase modulation when reflecting light from a light source, and an elastic member disposed corresponding to each partition portion for performing phase modulation on the mirror surface of the mirror, A book, which will be described later, is composed of an electrode that is arranged corresponding to each elastic member and that moves a mirror surface against the restoring force of the elastic member by applying a voltage, and a substrate on which the electrode is arranged. Assuming that the section of the reflective spatial phase modulation element of the invention is 3 × 3, the operation of the spatial phase modulation element by signal input will be briefly described. In FIG. 3, only 2 × 2 transistor circuits, which are the switch circuits 30 provided on the substrate in correspondence with the spatial phase modulation elements of 3 × 3 sections, are shown. In FIG. 3, in the drive circuit of the spatial phase modulation element, the drive signal is sequentially sent from Y1 to Y3 of the signal line 31 of each section, while the scan signal is sequentially sent from X1 to X3 of the scan line 32 of each section. It is assumed that such normal XY scanning is performed. Here, when a driving signal is sent from the signal line Y1 and an ON scanning signal is sent from the scanning line X1, the transistor 33 in the section (X1, Y1) is turned ON, and a voltage is applied to the electrode 34 according to the signal of the signal line Y1. The At this time, electric charge is accumulated between the elastic member 36 of the spatial phase modulation element and the electrode 34 due to the capacitor 35, and Coulomb force is generated according to the electric charge. This charge is maintained until the next signal comes. Next, when a driving signal is sent from the signal line Y2 and an ON scanning signal is sent from the scanning line X1, a voltage is applied to the electrode 34 in the section (X1, Y2). Similarly, after the drive signal is sent from the signal line Y3 to the section (X1, Y3) and scanned by the scanning line X1, the drive signal is sent from the signal line Y1 to the section (X2, Y1), and then from the scanning line X2. By sending the ON scanning signal, the information of the driving signal is reflected in the spatial phase modulation element one after another. In this manner, the phase modulation of light can be performed by expressing the spatial phase information in the entire spatial phase modulation element as needed. By controlling the operation as described above, it is possible to express spatial phase distribution information of an image desired to be projected onto the spatial phase modulation element (SPM). Here, the elastic member 36 returns the mirror to the original state when the voltage is applied to the electrode 34 connected to the switch circuit and the Coulomb force generated by the accumulation of electric charge in the capacitor 35 is released. It is provided to return.

また、ここでの光学配置に基づく補正処理24とは、例えば、図1に示している光学配置の場合において、集光レンズ11によって透過型の空間位相変調素子12上に照射される光が、スクリーン14に向けて回折角θで回折されるように空間位相変調素子上に出現される空間位相情報を補正することを意味する。   Further, the correction processing 24 based on the optical arrangement here is, for example, in the case of the optical arrangement shown in FIG. 1, the light irradiated on the transmissive spatial phase modulation element 12 by the condenser lens 11 is This means that the spatial phase information appearing on the spatial phase modulation element is corrected so as to be diffracted at the diffraction angle θ toward the screen 14.

なお、この一連のデータ処理は、画像が実時間で表示できるように投影装置内に設けられた回路上で高速で実行される。回路としては、例えば、FPGAやASICが用いられる。   This series of data processing is executed at high speed on a circuit provided in the projection apparatus so that an image can be displayed in real time. As the circuit, for example, FPGA or ASIC is used.

次に、集光光学系と、空間位相変調素子と、遮蔽部材とを備えた本発明の投影装置で色順次の光源制御をして画像をカラー表示する為の手順を記載する。
図4は、本発明の投影装置において色順次の光源制御をして画像をカラー表示する際における空間位相変調素子の動作と赤色光源、緑色光源、青色光源の発光動作との関係を同一時間軸tとして表しているタイミングチャートである。以下、実施形態の一つとして図4を参照して、時間tの進行に基づく赤色光源、緑色光源、青色光源と空間位相変調素子の動作を示す。
Next, a procedure for displaying an image in color by performing color sequential light source control with the projection apparatus of the present invention including a condensing optical system, a spatial phase modulation element, and a shielding member will be described.
FIG. 4 shows the relationship between the operation of the spatial phase modulation element and the light emission operations of the red light source, the green light source, and the blue light source when the color sequential light source control is performed in the projection apparatus of the present invention to display the image on the same time axis. It is a timing chart represented as t. Hereinafter, referring to FIG. 4 as one embodiment, operations of a red light source, a green light source, a blue light source, and a spatial phase modulation element based on the progress of time t will be described.

初めに、時間t0からt1まで赤色光源をON状態として空間位相変調素子に入射させているものとする。この時に、空間位相変調素子は、素子上に再現されている空間位相情報に基づいて赤色光源を回折させ、適切な画像を得る為の赤色光源に対応した赤色の回折光を生じている。このようにして、投影したい画像の赤色部分を表示する事ができる。 First , it is assumed that the red light source is turned on from time t 0 to t 1 and is incident on the spatial phase modulation element. At this time, the spatial phase modulation element diffracts the red light source based on the spatial phase information reproduced on the element, and generates red diffracted light corresponding to the red light source for obtaining an appropriate image. In this way, the red portion of the image to be projected can be displayed.

次に、時間t1からt2において、空間位相変調素子は、赤色光源に対応した空間位相情報から緑色光源に対応した空間位相情報への書き換えを行う。この時、本実施形態のように1つの空間位相変調素子を用いて色順次方式で画像を投影する場合、各色の光源に対して空間位相情報が異なる為に空間位相変調素子の空間位相情報の書き換え時間幅41では、投影したい画像情報とは全く異なる回折パターンが得られ、この書き換え途中の回折パターンに対して光が入射すると一般の拡大投影とは異なり表示される表示画面すべてがカラーノイズ画面となってしまい表示画像品位を著しく低下させることになる。従って、このタイミングでは光の入射を避ける必要がある。したがって、空間位相変調素子が空間位相情報の書き換えを行っている時間幅41では、全ての光源をOFF状態とする必要がある。このようにする事でノイズ画面を表示する瞬間がなく、表示画像が動画であればコントラストの高い画像を表示することができる。 Next, from time t 1 to t 2 , the spatial phase modulation element rewrites the spatial phase information corresponding to the red light source to the spatial phase information corresponding to the green light source. At this time, when an image is projected by a color sequential method using one spatial phase modulation element as in this embodiment, the spatial phase information of the spatial phase modulation element is different because the spatial phase information is different for each color light source. In the rewrite time width 41, a diffraction pattern that is completely different from the image information to be projected is obtained, and when the light enters the diffraction pattern that is being rewritten, the display screen that is displayed differs from the general enlargement projection in the color noise screen. As a result, the displayed image quality is significantly reduced. Therefore, it is necessary to avoid the incidence of light at this timing. Therefore, in the time width 41 during which the spatial phase modulation element is rewriting the spatial phase information, it is necessary to turn off all the light sources. By doing so, there is no moment to display the noise screen, and if the display image is a moving image, an image with high contrast can be displayed.

そして、空間位相変調素子が、完全に緑色光源に対応した空間位相情報への書き換えを終えた後に、時間t2からt3まで緑色光源をON状態にする。このようにして緑色の回折光を生成し、投影したい画像の緑色部分を表示する事ができる。 Then, after the spatial phase modulation element has completely rewritten the spatial phase information corresponding to the green light source, the green light source is turned on from time t 2 to t 3 . In this way, green diffracted light can be generated and the green portion of the image to be projected can be displayed.

また、同様に、時間t3からt4において、空間位相変調素子は、緑色光源に対応した空間位相情報から青色光源に対応した空間位相情報への書き換えを行う。赤色光源に対応した空間位相情報から緑色光源に対応した空間位相情報への書き換えの時と同様に、この時間幅においても全ての光源をOFF状態にする。そして、空間位相変調素子が、完全に青色光源に対応した空間位相情報への書き換えを終えた後に、時間t4からt5まで青色光源をON状態にする。このようにして青色の回折光を生成し、投影したい画像の青色部分を表示する事ができる。 Similarly, from time t 3 to t 4 , the spatial phase modulation element rewrites the spatial phase information corresponding to the green light source to the spatial phase information corresponding to the blue light source. As in the case of rewriting from the spatial phase information corresponding to the red light source to the spatial phase information corresponding to the green light source, all the light sources are also turned off in this time width. Then, after the spatial phase modulation element has completely rewritten the spatial phase information corresponding to the blue light source, the blue light source is turned on from time t 4 to t 5 . In this way, blue diffracted light can be generated and the blue portion of the image to be projected can be displayed.

以上の動作を短時間で順次、繰り返し行う事で1つの空間位相変調素子を用いて投影したい画像のカラー表示を高い品位で行う事ができる。
なお、本実施形態における光源としては、レーザーダイオード(LD)が好ましい。
By repeatedly performing the above operations in a short time, color display of an image to be projected using one spatial phase modulation element can be performed with high quality.
In addition, as a light source in this embodiment, a laser diode (LD) is preferable.

また、図4においては、各色の光源においてON期間を示しているが、レーザーダイオード(LD)においては、このON期間にパルス発光させるとしても良い。
次に、一つの実施形態として図5に示されている透過型の空間位相変調素子に表示された空間位相情報に読み出し光を入射することで回折光を生成して画像をスクリーンに投影する方法について述べる。
In FIG. 4, the ON period is shown for each color light source. However, in the laser diode (LD), pulse light emission may be performed during this ON period.
Next, as one embodiment, a method of projecting an image on a screen by generating diffracted light by making readout light incident on spatial phase information displayed on a transmissive spatial phase modulation element shown in FIG. Is described.

図5は、透過型の空間位相変調素子で読み出し光が回折される様子を示している。
図5においては、簡単のために空間位相変調素子に回折格子51が表示されている場合を考える。ここでの空間位相変調素子には、投影したい画像の空間位相情報、例えばフーリエ変換情報、を表示している。この空間位相変調素子に表示されている回折格子51に読み出し光(reference light)、すなわち照明光束52を入射させると、信号光、すなわち回折光(diffraction light)53が射出される。この回折光53を適切な距離に配置したスクリーン54に投影することで画像を得ることができる。
FIG. 5 shows how the readout light is diffracted by the transmissive spatial phase modulation element.
In FIG. 5, a case where a diffraction grating 51 is displayed on the spatial phase modulation element is considered for the sake of simplicity. The spatial phase modulation element here displays spatial phase information of an image to be projected, for example, Fourier transform information. When reading light (reference light), that is, illumination light beam 52 is incident on the diffraction grating 51 displayed on the spatial phase modulation element, signal light, that is, diffracted light (diffraction light) 53 is emitted. An image can be obtained by projecting the diffracted light 53 onto a screen 54 arranged at an appropriate distance.

以下では、この回折光をスクリーンに投影する為の数学的な原理を簡単に説明するために、例として透過型の空間位相変調素子51に一定の格子間隔dを有する単純な回折格子が表示された場合において図5を参照しながら説明してゆく。   In the following, in order to briefly explain the mathematical principle for projecting the diffracted light onto the screen, a simple diffraction grating having a constant grating distance d is displayed on the transmissive spatial phase modulation element 51 as an example. The case will be described with reference to FIG.

表示される回折格子の間隔をdとした場合には、図5における読み出し光の照明光束52の入射角θRと回折光53の射出角θSとの間には、 When the interval of the displayed diffraction grating is d, between the incident angle θ R of the reading light illumination beam 52 and the exit angle θ S of the diffracted light 53 in FIG.

の関係がある。例えば、ここで簡単の為にθR=0度とすると、 There is a relationship. For example, for the sake of simplicity, if θ R = 0 degrees,

と表すことができる。この場合、射出角θSは、入射角がθR=0°の場合であるので回折角と同義になる。ここで読み出し光52の波長λを0.5μmとした場合、回折格子51の間隔dと回折光53の射出角即ち回折角θSの間には、図6のような対応関係が得られる。 It can be expressed as. In this case, the exit angle θ S is synonymous with the diffraction angle because the incident angle is θ R = 0 °. Here, when the wavelength λ of the readout light 52 is 0.5 μm, a correspondence relationship as shown in FIG. 6 is obtained between the distance d of the diffraction grating 51 and the emission angle of the diffracted light 53, that is, the diffraction angle θ S.

図6は、透過型の空間位相変調素子に表示された格子間隔dを有する回折格子51への読み出し光52の入射角θR=0°および波長λ=0.5μmとした時の回折光53の射出角即ち回折角θSと回折格子51の間隔dとの対応関係を表した図である。 FIG. 6 shows the diffracted light 53 when the incident angle θ R = 0 ° and the wavelength λ = 0.5 μm of the readout light 52 to the diffraction grating 51 having the grating interval d displayed on the transmissive spatial phase modulation element. 6 is a diagram showing a correspondence relationship between the emission angle, that is, the diffraction angle θ S and the distance d of the diffraction grating 51.

図6からも明らかであるように、回折格子51の格子間隔dを小さくすると回折光53の射出角即ち回折角θSを大きくすることができる。この関係を好適に用いる事により、画像を投影する回折光53と画像表示に不必要な空間位相変調素子によって回折されない0次回折光とを分離する事が可能となる。 As is clear from FIG. 6, the emission angle of the diffracted light 53, that is, the diffraction angle θ S can be increased by reducing the grating interval d of the diffraction grating 51. By suitably using this relationship, it is possible to separate the diffracted light 53 for projecting an image from the 0th-order diffracted light that is not diffracted by the spatial phase modulation element unnecessary for image display.

次に、実際に画像データ、すなわち画像をスクリーン54に投影表示する場合を考える。空間位相変調素子の位相情報再現面、すなわち空間位相変調素子の位相変調を行う為の区画部分の全てで形成される位相変調部の幅をDとすると、波長λの照明光束52を空間位相変調素子の回折格子51に照射した時の、回折光53による広がり角θδは、 Next, consider a case where image data, that is, an image is actually projected and displayed on the screen 54. Spatial phase modulation of the illumination light beam 52 of wavelength λ, where D is the width of the phase modulation section formed on the phase information reproduction surface of the spatial phase modulation element, that is, all the sections for performing phase modulation of the spatial phase modulation element The spread angle θ δ due to the diffracted light 53 when irradiating the diffraction grating 51 of the element is

で表される。これは、位相変調部の幅がDである空間位相変調素子が、スクリーン53に投影できる画像の精細度を表している。ここで例として、位相変調部の幅D=0.6inchであり、各区画部分の縦横比が4/5である空間位相変調素子を考える。この時の空間位相変調素子における位相変調部の幅Dは、0.6×4/5×25.4=12.2mmであり、読み出し光の波長λを0.5μmとして、その回折による広がり角θδは、2.35×10-3度となる。すなわち、この位相変調部の幅D=0.6inchの透過型の空間位相変調素子で表示できる画像の精細度は、角度分解能で、2.35×10-3度であることを意味している。 It is represented by This represents the definition of an image that can be projected onto the screen 53 by the spatial phase modulation element whose width of the phase modulation unit is D. Here, as an example, consider a spatial phase modulation element in which the width D of the phase modulation section is 0.6 inches and the aspect ratio of each section is 4/5. At this time, the width D of the phase modulation section in the spatial phase modulation element is 0.6 × 4/5 × 25.4 = 12.2 mm, and the wavelength λ of the readout light is 0.5 μm, and the spread angle due to diffraction thereof θ δ is 2.35 × 10 −3 degrees. That is, the definition of the image that can be displayed by the transmission type spatial phase modulation element having the width D = 0.6 inch of the phase modulation section means 2.35 × 10 −3 degrees in angular resolution. .

次に、投影する画像の画素数を表現するために必要な空間位相変調素子に課される条件を検討する。ここで、投影したい画像がNTSC(National Television Standard Committee)の場合、すなわち投影したい画像の画素の横方向の列数を720とすると、回折光の回折角の変化は、最低2.35×10-3×720=1.7度必要となる。HDTV(High Definition Television)の場合、すなわち投影したい画像の画素の横方向の列数が1920とすると、最低4.5度の回折角の変化が必要となる。スーパーハイビジョンの場合は、投影したい画像の画素の横方向の列数は7680であり、必要な回折角の変化は18度に達する。これらの画像を投影するには、(2)式より、空間位相変調素子においてそれぞれ間隔d=17、6.4、1.6μmの回折格子を表示することが必要になる。したがって、空間位相変調素子には、それだけ細かい格子間隔dの空間位相情報を表示する能力が必要となる。 Next, the conditions imposed on the spatial phase modulation element necessary for expressing the number of pixels of the image to be projected are examined. Here, when the image to be projected is NTSC (National Television Standard Committee), that is, when the number of horizontal columns of pixels of the image to be projected is 720, the change in the diffraction angle of the diffracted light is at least 2.35 × 10 −. 3 × 720 = 1.7 degrees is required. In the case of HDTV (High Definition Television), that is, assuming that the number of pixels in the horizontal direction of an image to be projected is 1920, a change in diffraction angle of at least 4.5 degrees is required. In the case of Super Hi-Vision, the number of pixels in the horizontal direction of the image to be projected is 7680, and the required change in diffraction angle reaches 18 degrees. In order to project these images, it is necessary to display diffraction gratings with intervals d = 17, 6.4, and 1.6 μm in the spatial phase modulation element, respectively, from the equation (2). Therefore, the spatial phase modulation element needs to have the ability to display spatial phase information with a finer lattice spacing d.

ここで、格子間隔dの回折格子の空間位相情報を表示するには、空間位相変調素子を構成する各区画部分間のピッチをPとして、   Here, in order to display the spatial phase information of the diffraction grating having the grating interval d, P is the pitch between the partition portions constituting the spatial phase modulation element,

を満たす空間位相変調素子が必要となる。ここで、NTSC、HDTV、スーパーハイビジョンのそれぞれに対応する空間位相変調素子の一つの区画部分の幅は、8.5μm、3.2μm、0.8μm程度が好ましい。 A spatial phase modulation element that satisfies the above is required. Here, the width of one section of the spatial phase modulation element corresponding to each of NTSC, HDTV, and Super Hi-Vision is preferably about 8.5 μm, 3.2 μm, and 0.8 μm.

各区画部分間のピッチがPである空間位相変調素子は、(4)式よりも小さな格子間隔dの回折格子を表示できないので、(2)式で表される回折角が、画像を投影できる最も大きな回折角となる。簡単のため、回折光の回折角がそれほど大きくないと仮定すると、(2)式は、   Since the spatial phase modulation element having a pitch P between the divided portions cannot display a diffraction grating having a grating interval d smaller than that in the expression (4), the diffraction angle represented by the expression (2) can project an image. The largest diffraction angle. For simplicity, assuming that the diffraction angle of the diffracted light is not so large, equation (2) is

と、近似することができる。さらに、ここで投影表示したい画像の画素の横方向の列数をNとして、0次回折光を避けて画像を表示するためには、投影したい画像の画素の横方向の列数Nを表示するのに必要な回折光の広がり角N・θδが回折角θSより小さいことが必要である。従って、0次回折光を避けて画像を投影表示するためには、 And can be approximated. Further, in order to display the image while avoiding the 0th-order diffracted light, where N is the number of horizontal columns of pixels of the image to be projected and displayed, the number of horizontal columns N of the pixels of the image to be projected is displayed. It is necessary that the diffracted light spreading angle N · θ δ required for the above is smaller than the diffraction angle θ S. Therefore, in order to project and display an image while avoiding the 0th-order diffracted light,

の条件を満たすことが必要となる。この条件式に、(3)〜(5)式を代入すると、 It is necessary to satisfy the following conditions. Substituting the expressions (3) to (5) into this conditional expression,

が得られる。ここでのD/Pは、投影表示したい画像に対応する空間位相変調素子の区画部分の横方向の列数Mであり、その投影表示したい画像に対応する空間位相変調素子の区画部分の横方向の列数M=D/Pとすると、 Is obtained. Here, D / P is the number M of columns in the horizontal direction of the partition portion of the spatial phase modulation element corresponding to the image to be projected and displayed, and the horizontal direction of the partition portion of the spatial phase modulation element corresponding to the image to be projected and displayed. If the number of columns M = D / P,

となる。これが投影表示したい画像の画素の横方向の列数Nに対応した空間位相変調素子の区画部分の横方向に必要な列数Mであり、空間位相変調素子において空間位相情報を表示する為の必要な条件となる。 It becomes. This is the number of columns M required in the horizontal direction of the partition portion of the spatial phase modulation element corresponding to the number N of horizontal columns of pixels of the image to be projected and displayed, and is necessary for displaying the spatial phase information in the spatial phase modulation element. It becomes a condition.

また、空間位相変調素子を構成する各区画部分間のピッチPは、(7)より   Further, the pitch P between the respective partition parts constituting the spatial phase modulation element is obtained from (7).

と表すこともできる。
以上より、空間位相変調素子の区画部分の横方向の列数Mを、投影表示したい画像の画素の横方向の列数Nに対して、
It can also be expressed as
From the above, the horizontal column number M of the partition portion of the spatial phase modulation element is compared with the horizontal column number N of the pixels of the image to be projected and displayed.

とすることにより、高精細、高画質の優れた投影装置を提供できる。
さらに、空間位相変調素子の位相変調部の幅D、投影表示したい画像の画素の横方向の列数Nとして、空間位相変調素子を構成する各区画部分間のピッチPを
By doing so, it is possible to provide a projection device with high definition and high image quality.
Further, the width P of the phase modulation section of the spatial phase modulation element and the number of horizontal columns N of the pixels of the image to be projected and displayed are set to the pitch P between the partition portions constituting the spatial phase modulation element.

とした空間位相変調素子を用いることにより、高精細、高画質の画像表示を最適に行うことができる。
次に、集光光学系と上述した空間位相情報を具現化する為の必要な条件を満たした空間位相変調素子と遮蔽部材を備えた投影装置について述べる。
By using the spatial phase modulation element described above, high-definition and high-quality image display can be optimally performed.
Next, a projection apparatus including a condensing optical system, a spatial phase modulation element that satisfies the necessary conditions for realizing the above-described spatial phase information, and a shielding member will be described.

図7は、光源からの照明光を集光して空間位相変調素子に入射させる集光光学系と、上述した空間位相情報を位相分布として具現化する為の必要な条件を満たした透過型の空間位相変調素子と、空間位相変調素子から回折されずに出射して集光する0次回折光を遮蔽する遮蔽部材とを備えた投影装置の平面図を示している。   FIG. 7 shows a condensing optical system that collects illumination light from a light source and makes it incident on a spatial phase modulation element, and a transmission type that satisfies the necessary conditions for realizing the spatial phase information described above as a phase distribution. FIG. 2 is a plan view of a projection apparatus that includes a spatial phase modulation element and a shielding member that shields zero-order diffracted light that is emitted and collected without being diffracted from the spatial phase modulation element.

図7における透過型の空間位相変調素子を備えた投影装置70は、光源71と、照明光のノイズを除く為の空間フィルタ72、そしてコリメータ73、集光レンズ74と、透過型の空間位相変調素子75と、遮蔽部材76とを含んで構成される。このような構成は、λ板やPBSなどを省いた構成を行えることで簡単な光学構成で済み、投影レンズも不要である。   7 includes a light source 71, a spatial filter 72 for removing illumination light noise, a collimator 73, a condensing lens 74, and a transmissive spatial phase modulation. An element 75 and a shielding member 76 are included. In such a configuration, a configuration without a λ plate and PBS can be performed, so that a simple optical configuration is required, and a projection lens is unnecessary.

図7において、光源71、例えばレーザー、からの照明光は、空間フィルタ72およびコリメータ73を通り、照明光束となり、集光レンズ74によって集光された後に透過型の空間位相変調素子75に入射する。そして、透過型の空間位相変調素子75に入射した照明光は、位相変調がなされ、回折光79を射出する。空間位相変調素子75は、画像データに基づいて生成された空間位相情報を位相分布として素子上に具現化して位相変調を行う。透過型の空間位相変調素子75からの回折光79は、スクリーン77に投影され、スクリーン77上に所望の画像を表示する事ができる。本投影装置では、集光レンズ74を通り空間位相変調素子75から回折されずに出射して集光する0次回折光を集光して集光位置における遮蔽部材76で遮蔽することで投影表示される画像に悪影響を及ぼさない工夫をしている。また、図7では、空間位相変調素子75から出射される回折光79の光束内に遮蔽部材76が配置されているが、実際には、スクリーン77は遮蔽部材76の位置から十分遠方にあるので、スクリーン上に表示される画像にほとんど悪影響を及ぼさない。   In FIG. 7, illumination light from a light source 71, for example, a laser, passes through a spatial filter 72 and a collimator 73, becomes an illumination light beam, is collected by a condenser lens 74, and then enters a transmissive spatial phase modulation element 75. . The illumination light incident on the transmissive spatial phase modulation element 75 is phase-modulated and emits diffracted light 79. The spatial phase modulation element 75 implements phase modulation by embodying spatial phase information generated based on image data as a phase distribution on the element. Diffracted light 79 from the transmissive spatial phase modulation element 75 is projected onto a screen 77, and a desired image can be displayed on the screen 77. In this projection apparatus, the zero-order diffracted light that passes through the condensing lens 74 and is emitted from the spatial phase modulation element 75 without being diffracted and condensed is condensed and shielded by the shielding member 76 at the condensing position. The device is designed not to adversely affect the image. In FIG. 7, the shielding member 76 is disposed in the light beam of the diffracted light 79 emitted from the spatial phase modulation element 75. However, in practice, the screen 77 is sufficiently far from the position of the shielding member 76. The image displayed on the screen has almost no adverse effect.

スクリーン77上には、空間位相変調素子75から出射された回折光79が投影される。この一連の動作処理中で行われる図2に示した補正処理94は、各光学要素の配置位置に対応して行われるものであり、空間位相変調素子上に具現化される空間位相分布が、スクリーン77に向かって回折するようにフーリエ変換で得られる空間位相分布を補正することを意味する。   On the screen 77, the diffracted light 79 emitted from the spatial phase modulation element 75 is projected. The correction processing 94 shown in FIG. 2 performed during this series of operation processing is performed corresponding to the arrangement position of each optical element, and the spatial phase distribution embodied on the spatial phase modulation element is: This means that the spatial phase distribution obtained by the Fourier transform is corrected so as to be diffracted toward the screen 77.

次いで、図7の構成において所望の画像を得る為の透過型の空間位相変調素子75に課される条件を以下で検討する。
図7のような構成の場合は、回折光79が0次回折光を挟んで生じていることでプラス1次だけでなく、マイナス1次の回折光も考慮した条件が必要となる。
Next, the conditions imposed on the transmissive spatial phase modulation element 75 for obtaining a desired image in the configuration of FIG. 7 will be examined below.
In the case of the configuration as shown in FIG. 7, since the diffracted light 79 is generated with the 0th-order diffracted light sandwiched therebetween, a condition that considers not only the plus 1st order but also the minus 1st order diffracted light is required.

実施形態1における図1の実施形態では、プラス1次またはマイナス1次の片方だけの回折光に基づいて所望の画像を得る為の透過型の空間位相変調素子12に課される条件を導出した。図7のような構成の場合は、図1における回折角θsが2倍になると考えればよいので、(6)式は、 In the embodiment of FIG. 1 in the first embodiment, the conditions imposed on the transmissive spatial phase modulation element 12 for obtaining a desired image based on the diffracted light of only one of the plus first order or the minus first order are derived. . In the case of the configuration as shown in FIG. 7, it can be considered that the diffraction angle θ s in FIG. 1 is doubled.

と表すことができ、図7の透過型の空間位相変調素子75に課される条件は、 The conditions imposed on the transmissive spatial phase modulation element 75 in FIG.

となる。ここで、例えばHDTVの画像信号を表示する場合、透過型の空間位相変調素子75の区画部分の横方向の列数Mは、1920以上が好ましい。この時に、空間位相変調素子の位相変調部の幅Dが0.6インチであり、各区画部分の縦横比が4/5である場合、透過型の空間位相変調素子75の1つの区画部分の大きさは6.4μmである。つまり、図7の区画部分の大きさが、図1で示される空間位相変調素子の1つの区画部分の大きさの2倍で構わないことになる。同様に、NTSCの場合ならば、透過型の空間位相変調素子75における1つの区画部分の大きさは、17μmであり、スーパーハイビジョンの場合は、透過型の空間位相変調素子75の1つの区画部分の大きさは、1.6μmとなる。 It becomes. Here, for example, when displaying an HDTV image signal, the number M of columns in the horizontal direction of the partition portion of the transmissive spatial phase modulation element 75 is preferably 1920 or more. At this time, when the width D of the phase modulation portion of the spatial phase modulation element is 0.6 inches and the aspect ratio of each partition portion is 4/5, one partition portion of the transmissive spatial phase modulation element 75 The size is 6.4 μm. That is, the size of the partition portion in FIG. 7 may be twice the size of one partition portion of the spatial phase modulation element shown in FIG. Similarly, in the case of NTSC, the size of one partition portion in the transmissive spatial phase modulation element 75 is 17 μm, and in the case of Super Hi-Vision, one partition portion of the transmissive spatial phase modulation element 75 is used. The size of is 1.6 μm.

また、ここで図7の場合における透過型の空間位相変調素子75の各区画部分間のピッチPでは、   Here, in the case of FIG. 7, the pitch P between the partition portions of the transmission type spatial phase modulation element 75 is as follows:

という条件が課される。
以上より、透過型の空間位相変調素子の区画部分の横方向の列数Mを、投影したい画像の画素の横方向の列数Nに対して、
The condition is imposed.
From the above, the horizontal column number M of the partition portion of the transmissive spatial phase modulation element is compared with the horizontal column number N of the pixels of the image to be projected.

とすることにより、高精細で高画質の表示を行うことができる。
さらに、空間位相変調素子75の位相情報表示面、すなわち位相変調部の横幅D、投影したい画像の横方向の画素列数N、透過型の空間位相変調素子75の区画部分ピッチPを
By doing so, high-definition and high-quality display can be performed.
Further, the phase information display surface of the spatial phase modulation element 75, that is, the horizontal width D of the phase modulation unit, the number N of pixel columns in the horizontal direction of the image to be projected, and the partition portion pitch P of the transmission type spatial phase modulation element 75

とすることにより、比較的に大きな区画で高精細、高画質の画像を投影することができ、空間位相変調素子75に対する負担を軽減できる。好ましくは、空間位相変調素子75の各区画部分間のピッチPを6.4μm〜3.2μmとする事によって最適な投影装置用の空間位相変調素子を提供することができる。
[実施形態2]
Thus, a high-definition and high-quality image can be projected in a relatively large section, and the burden on the spatial phase modulation element 75 can be reduced. Preferably, an optimum spatial phase modulation element for a projection apparatus can be provided by setting the pitch P between the divided portions of the spatial phase modulation element 75 to 6.4 μm to 3.2 μm.
[Embodiment 2]

図8および図9A、図9B、図9Cでは、投影表示したい画像におけるリアルドメインと本発明の投影装置に用いられる空間位相変調素子の空間位相情報におけるフーリエドメインの対応関係を例示している。   8 and 9A, 9B, and 9C illustrate the correspondence between the real domain in an image to be projected and displayed and the Fourier domain in the spatial phase information of the spatial phase modulation element used in the projection apparatus of the present invention.

ここで、リアルドメインとは、例えば、表示したい画像データ、あるいは表示されたスクリーン上の画像である。例として図8では、リアルドメイン80を横N×縦Q=16×9の画素として示している。ここで、投影される1つの画素81として表される部分をリアルドメインの陰影部分で示している。HDTVフォーマットの場合は、リアルドメイン80は横の列数N×縦の列数Q=1920×1080の画素が必要である。このリアルドメイン80をフーリエ変換することで空間位相情報の基礎データを作ることになる。投影したい画像の最大空間周波数は縦と横で等しいので、フーリエドメインの空間位相変調素子における位相変調部の縦の長さKと横の長さJは等しくするのが効率的である。投影して表示する画像の縦横比がどのような比であってもその比には依存しない。   Here, the real domain is, for example, image data to be displayed or a displayed image on the screen. For example, in FIG. 8, the real domain 80 is shown as pixels of horizontal N × vertical Q = 16 × 9. Here, a portion represented as one pixel 81 to be projected is indicated by a shaded portion of the real domain. In the case of the HDTV format, the real domain 80 requires pixels having the number of horizontal columns N × the number of vertical columns Q = 1920 × 1080. Basic data of spatial phase information is created by Fourier transforming the real domain 80. Since the maximum spatial frequency of the image to be projected is the same in the vertical and horizontal directions, it is efficient to make the vertical length K and the horizontal length J of the phase modulation unit in the spatial phase modulation element in the Fourier domain equal. Whatever aspect ratio of the projected and displayed image does not depend on the ratio.

図9Aでは、図8のリアルドメイン80をフーリエ変換したフーリエドメイン90において空間位相変調素子の位相変調部の縦の長さKと横の長さJが等しい場合を示している。この場合においても実施形態1で述べたように空間位相変調素子の区画部分の横方向の列数Mもしくは縦方向の列数Lは、投影したい画像の画素の横方向の列数Nもしくは縦方向の列数Qに等しいか、あるいはそれ以上である事が望ましい。ここで、例えば、空間位相変調素子の区画部分の横方向の列数Mもしくは縦方向の列数Lが、投影したい画像の画素の横方向の列数Nもしくは縦方向の列数Qに等しいとすると、図9Aで示したように、空間位相変調素子の横方向の区間部分の間隔が縦方向の区間部分の間隔よりも小さくなる。図9Aにおけるこの時の空間位相変調素子の区間部分93の列数は、横の列数M×縦の列数L=16×9の区画数になっている。また、図9Bは、空間位相変調素子の区間部分の縦方向の列数を横方向の列数と同じ列数、すなわち横の列数M×縦の列数L=16×16として、図9Aより小さくしたフーリエドメイン91を示している。そして、図9Cでは、図9Bとは反対に空間位相変調素子の区間部分の横方向の列数を縦方向の列数と同じ列数、すなわち横の列数M×縦の列数L=9×9として、図9Aより大きくしたフーリエドメイン92を示している。ただし、この図9Cの場合、空間位相変調素子の区画数が少なくてすむと言う利点とともに、横方向の低周波像の再現性が、理論上若干劣化する。ゆえに、空間位相変調素子における位相変調を行う為の区画部分が、2次元に複数配置されていると共に、各区画部分の区画数が、投影される画像の画素数に等しいか、または多いことが望ましい。   FIG. 9A shows a case where the vertical length K and the horizontal length J of the phase modulation unit of the spatial phase modulation element are equal in the Fourier domain 90 obtained by Fourier transforming the real domain 80 of FIG. Also in this case, as described in the first embodiment, the horizontal column number M or the vertical column number L of the partition portion of the spatial phase modulation element is the horizontal column number N or the vertical direction of the pixel of the image to be projected. It is desirable to be equal to or greater than the number Q of columns. Here, for example, when the horizontal column number M or the vertical column number L of the partition portion of the spatial phase modulation element is equal to the horizontal column number N or the vertical column number Q of the pixels of the image to be projected. Then, as shown in FIG. 9A, the interval between the section portions in the horizontal direction of the spatial phase modulation element becomes smaller than the interval between the section portions in the vertical direction. The number of columns in the section 93 of the spatial phase modulation element at this time in FIG. 9A is the number of partitions of horizontal column number M × vertical column number L = 16 × 9. 9B shows that the number of columns in the vertical direction of the section of the spatial phase modulation element is the same as the number of columns in the horizontal direction, that is, the number of horizontal columns M × the number of vertical columns L = 16 × 16. A smaller Fourier domain 91 is shown. 9C, in contrast to FIG. 9B, the number of horizontal columns in the section of the spatial phase modulation element is the same as the number of columns in the vertical direction, that is, the number of horizontal columns M × the number of vertical columns L = 9. A Fourier domain 92 larger than FIG. 9A is shown as × 9. However, in the case of FIG. 9C, the reproducibility of the low-frequency image in the lateral direction is slightly deteriorated theoretically, with the advantage that the number of spatial phase modulation elements can be reduced. Therefore, a plurality of partition portions for performing phase modulation in the spatial phase modulation element are two-dimensionally arranged, and the number of partitions in each partition portion is equal to or larger than the number of pixels of the projected image. desirable.

以下では、図8から図9A、図9B、図9Cへのフーリエ変換について述べる。
図8において表示したい画像をg(x,y)とすると、そのフーリエ変換G(u,v)は、
Hereinafter, the Fourier transform from FIG. 8 to FIGS. 9A, 9B, and 9C will be described.
If the image to be displayed in FIG. 8 is g (x, y), the Fourier transform G (u, v) is

と表すことができるが、実際の投影装置では、フーリエ変換は、デジタル計算によって高速に行われる為に、式(13)で表されるような連続的フーリエ変換ではなく、以下の式(14)で表されるような離散的フーリエ変換が用いられる。 However, in an actual projection apparatus, since the Fourier transform is performed at high speed by digital calculation, the following formula (14) is used instead of the continuous Fourier transform represented by formula (13). A discrete Fourier transform as shown below is used.

ここで、
は表示したい画像であり、k、lは画像における画素の番地と考えると理解しやすい。また、式(14)における画素数は、N×P個あることになる。
は、
のフーリエ変換であり、この時、
here,
Is an image to be displayed, and k and l are easy to understand when considered as pixel addresses in the image. In addition, the number of pixels in Expression (14) is N × P.
Is
At this time,

とおくと、式(14)の離散的フーリエ変換は、高速フーリエ変換(FFT:Fast Fourier Transform)を用いることができる。この高速フーリエ変換を用いることで、投影したい画像
を実時間において短時間でフーリエ変換することができ、動画の速度に対応させることができる。したがって、投影表示したい画像の画素の横の列数×縦の列数=N×Pと空間位相変調素子の位相変調用の区画部分の横の列数×縦の列数=M×Lとを等しくしておく、即ち、NとM、PとLを等しくしておくと都合がよい。このようにする事により、フーリエ変換によっても情報量を保つことができる必要十分条件を満たすことが出来るため、表示される画像を形成するのに十分な情報量が確保され、解像度等が確保された高品位の画像を表示することができる。もちろん投影表示したい画素の列数より区画部分の列数が多ければさらに情報量の増大化が可能である。加えて、N、Pにおいては、それぞれの2のべき乗の計算がしやすいと言う利点がある。したがって、空間位相変調素子における区画部分の縦の列数および横の列数は、2のべき乗とすることで演算処理の高速化が実現できる。
In particular, the fast Fourier transform (FFT) can be used for the discrete Fourier transform of Expression (14). By using this Fast Fourier Transform, the image you want to project
Can be Fourier-transformed in a short time in real time, and can correspond to the speed of the moving image. Therefore, the number of horizontal columns of pixels of an image to be projected and displayed × the number of vertical columns = N × P and the number of horizontal columns × the number of vertical columns = M × L of the phase modulation section of the spatial phase modulation element. It is convenient to keep them equal, that is, N and M and P and L are equal. By doing so, the necessary and sufficient condition that the amount of information can be maintained even by the Fourier transform can be satisfied, so that a sufficient amount of information for forming the displayed image is ensured and the resolution and the like are ensured. High-quality images can be displayed. Of course, if the number of columns of the partition portion is larger than the number of columns of pixels to be projected and displayed, the amount of information can be further increased. In addition, N and P have an advantage that each power of 2 is easy to calculate. Therefore, the number of vertical columns and horizontal columns of the partition portion in the spatial phase modulation element is set to a power of 2, so that the calculation process can be speeded up.

以上、第2実施形態より、本発明では、空間位相変調素子において、また、空間位相変調素子における位相変調を行う為の区画部分の縦の列数および横の列数が、スクリーン上に表示する投影される画像の画素の縦の列数および横の列数に等しいか、または多くすることでスクリーン上に表示する画像の解像本数を十分に満たした画像投影に最適な空間位相変調素子とすることができる。そして、空間位相変調素子の縦横の長さを等しくする事で、画像における縦横の空間周波数(解像度)を等しく表示することができる。なお、表示する画像の縦横の長さが異なる場合でも空間位相変調素子の縦横の長さを等しいままで必要最小限の空間周波数を出力できる。また、縦横の長さを等しくした空間位相変調素子を備えた投影装置で光を回折することで画像を投影できる。したがって、空間位相変調素子の位相変調を行う為の区画部分の全てで形成される位相変調部における輪郭形状が、縦横比の等しい正方形であり、投影される画像の縦横比に依存せずにスクリーン上に画像を投影できる。さらに、スクリーン上に表示する画像の画素の縦横の列数と空間位相変調素子の位相変調用の区画部分の縦横の列数とを等しくした空間位相変調素子を備える投影装置で光を回折することで高い品位の画像を投影できる。   As described above, according to the second embodiment, in the present invention, the number of vertical columns and the number of horizontal columns of the partition portion for performing phase modulation in the spatial phase modulation element are displayed on the screen. A spatial phase modulation element that is optimal for image projection, which is equal to or greater than the number of vertical and horizontal columns of pixels of the projected image, and sufficiently satisfies the resolution of the image displayed on the screen; can do. Then, by making the vertical and horizontal lengths of the spatial phase modulation elements equal, the vertical and horizontal spatial frequencies (resolutions) in the image can be displayed equally. Even when the vertical and horizontal lengths of images to be displayed are different, the minimum necessary spatial frequency can be output while the vertical and horizontal lengths of the spatial phase modulation elements remain the same. In addition, an image can be projected by diffracting light with a projection apparatus including spatial phase modulation elements having equal vertical and horizontal lengths. Therefore, the contour shape of the phase modulation section formed by all of the partition portions for performing the phase modulation of the spatial phase modulation element is a square having the same aspect ratio, and the screen does not depend on the aspect ratio of the projected image. Images can be projected on top. Further, the light is diffracted by a projection device including a spatial phase modulation element in which the number of vertical and horizontal columns of pixels of an image to be displayed on the screen is equal to the number of vertical and horizontal columns of the phase modulation section of the spatial phase modulation element. Can project high quality images.

図10Aおよび図10Bでは、さらなる理解を助けるために、例として投影したい画像g(x)を一次元フーリエ変換することでG(u)としたグラフを示す。
投影したい画像g(x)の画素数をNとした場合、離散的フーリエ変換をおこなった結果、G(u)の数値の個数はN個となる。ここで図10Aでは、投影したい画像をg(x)として示しており、図10Bでは、図10Aの投影したい画像g(x)をフーリエ変換して、画像周波数に座標変換したG(u)を示している。図10Bでは、G0が周波数0を示しており、GN-1は、画像周波数を表示できる最大周波数を示している。
[実施形態3]
In FIG. 10A and FIG. 10B, in order to help further understanding, as an example, a graph which is G (u) by performing a one-dimensional Fourier transform on an image g (x) to be projected is shown.
Assuming that the number of pixels of the image g (x) to be projected is N, as a result of performing discrete Fourier transform, the number of numerical values of G (u) is N. Here, in FIG. 10A, an image to be projected is shown as g (x), and in FIG. 10B, G (u) obtained by subjecting the image g (x) to be projected in FIG. Show. In FIG. 10B, G 0 indicates the frequency 0, and G N-1 indicates the maximum frequency at which the image frequency can be displayed.
[Embodiment 3]

図11は、光源からの照明光を集光して空間位相変調素子に入射させる集光光学系と、反射型の空間位相変調素子と、空間位相変調素子から回折されずに出射して集光する0次回折光をその集光位置で遮蔽する遮蔽部材とを備えた投影装置を示している。   FIG. 11 shows a condensing optical system that collects illumination light from a light source and makes it incident on a spatial phase modulation element, a reflective spatial phase modulation element, and a light that is emitted without being diffracted from the spatial phase modulation element. The projection apparatus provided with the shielding member which shields the 0th-order diffracted light which it does in the condensing position is shown.

図11における投影装置110は、光源111、反射型の空間位相変調素子113、遮蔽部材114、集光光学系として集光レンズ112とを含んで構成される。図11で図示している光学構成においては、空間フィルタを省略してある。この光学構成は、λ板を用いなくともよい照明光学系であって非常に簡単であり、低コストで済む上に、小型化も可能である。   11 includes a light source 111, a reflective spatial phase modulation element 113, a shielding member 114, and a condensing lens 112 as a condensing optical system. In the optical configuration shown in FIG. 11, the spatial filter is omitted. This optical configuration is an illumination optical system that does not require the use of a λ plate, is very simple, requires low cost, and can be downsized.

この投影装置110では、図1で用いられている透過型の空間位相変調素子とは異なり、反射型の空間位相変調素子113によって位相変調がなされた回折光118を出射させ、集光レンズ112を介してスクリーン115に回折光を投影する。図11の反射型の空間位相変調素子113では、0次回折光117も反射されるが、反射された0次回折光117を遮蔽部材114によって遮蔽されるように構成し、スクリーン115上に投影される画像に何らの悪影響も及ぼさないようにしている。0次回折光117は回折角が0度であり直進するため、図11に示すように光源111を回折光の光路外に配置し、空間位相変調素子113の表面に対して斜め方向から入射させることにより、遮蔽部材114の配置位置をスクリーンに向けて投影される回折光の光束外に配置できるので、図7に示す投影装置とは異なり、回折光の光束内から遮蔽部材を排除でき、遮蔽部材によって発生する回折光の影をゼロとすることができる。   Unlike the transmission type spatial phase modulation element used in FIG. 1, the projection apparatus 110 emits diffracted light 118 phase-modulated by the reflection type spatial phase modulation element 113, and the condenser lens 112 is The diffracted light is projected onto the screen 115 through the screen. In the reflective spatial phase modulation element 113 of FIG. 11, the 0th-order diffracted light 117 is also reflected, but the reflected 0th-order diffracted light 117 is configured to be shielded by the shielding member 114 and projected onto the screen 115. The image is not adversely affected. Since the 0th-order diffracted light 117 has a diffraction angle of 0 degrees and travels straight, as shown in FIG. 11, the light source 111 is disposed outside the optical path of the diffracted light and is incident on the surface of the spatial phase modulator 113 from an oblique direction. Therefore, unlike the projection apparatus shown in FIG. 7, the shielding member 114 can be excluded from the diffracted light beam, so that the shielding member 114 can be disposed outside the diffracted light beam projected toward the screen. The shadow of the diffracted light generated by can be made zero.

なお、図11の光学配置においても各光学要素の配置位置に対応した補正を必要とし、この補正は、空間位相変調素子に照射される照射光が、スクリーン115に向かって回折されて投影されるようにフーリエ変換で得られる空間位相変調素子に表示される空間位相分布を補正することを意味する。   Note that the optical arrangement shown in FIG. 11 also requires correction corresponding to the arrangement position of each optical element. In this correction, the irradiation light applied to the spatial phase modulation element is diffracted and projected toward the screen 115. Thus, it means that the spatial phase distribution displayed on the spatial phase modulation element obtained by Fourier transform is corrected.

次に、図12では、反射型の空間位相変調素子を備えた投影装置のさらに異なる実施形態を示している。
図12における投影装置120は、光源121、集光光学系としての集光レンズ122、反射型の空間位相変調素子123、遮蔽部材124、回折光128を投影するスクリーン125とを含んで構成される。図12の構成においては、空間フィルタを省略してある。この光学構成においても、λ板を用いなくともよい照明光学系とすることで非常に簡単であり、低コストで済む上に、小型化も可能である。
Next, FIG. 12 shows still another embodiment of the projection apparatus provided with the reflective spatial phase modulation element.
12 includes a light source 121, a condensing lens 122 as a condensing optical system, a reflective spatial phase modulation element 123, a shielding member 124, and a screen 125 for projecting diffracted light 128. . In the configuration of FIG. 12, the spatial filter is omitted. Also in this optical configuration, the illumination optical system that does not require the use of the λ plate is very simple, can be reduced in cost, and can be downsized.

図12の投影装置では、光源121、例えばレーザー、からの照明光を集光光学系の集光レンズ122により照明光束126とし、反射型の空間位相変調素子123に入射するようにする。そして、反射型の空間位相変調素子123によって、位相変調された回折光128が射出されてスクリーン125に投影され、スクリーン上に画像が表示される。この反射型の空間位相変調素子123では、0次回折光127も反射され、回折光128の光束内に射出される事になるが、遮蔽部材124によって遮蔽されるように構成することでスクリーン125上に表示される画像に実用上の悪影響を及ぼさないようにしている。   In the projection apparatus of FIG. 12, illumination light from a light source 121, for example, a laser, is made into an illumination light beam 126 by a condensing lens 122 of a condensing optical system and is incident on a reflective spatial phase modulation element 123. Then, the phase-modulated diffracted light 128 is emitted by the reflective spatial phase modulation element 123 and projected onto the screen 125, and an image is displayed on the screen. In this reflection type spatial phase modulation element 123, the 0th-order diffracted light 127 is also reflected and emitted into the light beam of the diffracted light 128, but the screen 125 is configured to be shielded by the shielding member 124. The image displayed on the screen is not adversely affected in practice.

なお、図12の光学配置においても各光学要素の配置位置に対応した補正を必要とし、この補正は、空間位相変調素子に照射される照射光が、スクリーン125に向かって回折されるようにフーリエ変換で得られる空間位相分布を補正することを意味する。   Note that the optical arrangement in FIG. 12 also requires correction corresponding to the arrangement position of each optical element. This correction is performed so that the irradiation light applied to the spatial phase modulation element is diffracted toward the screen 125. This means that the spatial phase distribution obtained by conversion is corrected.

以上、図11および図12では、集光光学系と、反射型の空間位相変調素子と、遮蔽部材とを備える投影装置の一つの実施形態を示したが、投影レンズを設けなくとも投影レンズを設けても構わない。即ち、空間位相変調素子の大きさに対してスクリーンまでの投影距離が長い場合は、焦点調節する必要がない為に投影レンズをなくすことができる。一方で、空間位相変調素子の大きさに対してスクリーンまでの投影距離が近い場合は、焦点調節の為に投影レンズが必要な場合がある。また、投影装置としてズーム機能を付加したい場合は、ズーム機能を担う投影レンズが必要になる。しかしながら、この時に付加される投影レンズにおいても、従来の投影装置に用いられている投影レンズよりも廉価で小型な物を使用する事ができる。   As described above, in FIGS. 11 and 12, one embodiment of the projection apparatus including the condensing optical system, the reflective spatial phase modulation element, and the shielding member is shown. However, the projection lens can be provided without providing the projection lens. It may be provided. That is, when the projection distance to the screen is long with respect to the size of the spatial phase modulation element, it is not necessary to adjust the focus, so that the projection lens can be eliminated. On the other hand, if the projection distance to the screen is close to the size of the spatial phase modulation element, a projection lens may be necessary for focus adjustment. Further, when it is desired to add a zoom function as a projection device, a projection lens that bears the zoom function is required. However, the projection lens added at this time can also use a cheaper and smaller object than the projection lens used in the conventional projection apparatus.

さらに、図11、図12のいずれの実施形態においても図4において説明したように赤色光源R、緑色光源G、青色光源Bのから照明光、例えば赤色光源R、緑色光源G、青色光源Bからのレーザー、を用いて時分割で各色を色順次方式で照明する事でフルカラーの表示が可能である。ここで、通常の一色の画像表示は、60Hzなので、三色の切り替えを行う場合には、180Hzが最低限必要となる。また、カラーブレイク現象を低減する為には540Hz以上の三色の切り替えが好ましい。よって、フルカラー表示を行う場合の空間位相変調素子の画像に対応する空間位相分布の切換え速度は、最低でも180Hz以上が必要とされ、好ましくは540Hz以上がよい。   Further, in any of the embodiments shown in FIGS. 11 and 12, illumination light such as red light source R, green light source G, and blue light source B is emitted from red light source R, green light source G, and blue light source B as described in FIG. Full-color display is possible by illuminating each color in a time-sequential manner using a laser. Here, since normal one-color image display is 60 Hz, 180 Hz is the minimum required when switching between the three colors. In order to reduce the color break phenomenon, switching between three colors of 540 Hz or higher is preferable. Therefore, the switching speed of the spatial phase distribution corresponding to the image of the spatial phase modulation element when performing full color display needs to be at least 180 Hz, preferably 540 Hz or more.

次に、図13Aおよび図13Bは、複数の反射型の空間位相変調素子と、遮蔽部材とを備え、多板式の構成とし、画像のフルカラー表示を行う投影装置130を示している。
図13Aは投影装置130の平面図であり、図13Bは、図13Aの青色光源に対応する空間位相変調素子133bを含んでいる部分を視線方向Iから見た時の側面図を示している。
Next, FIGS. 13A and 13B show a projection device 130 that includes a plurality of reflective spatial phase modulation elements and a shielding member, has a multi-plate configuration, and performs full-color display of an image.
13A is a plan view of the projection device 130, and FIG. 13B shows a side view of a portion including the spatial phase modulation element 133b corresponding to the blue light source of FIG.

図13Aにおける投影装置130は、赤色光源R、緑色光源G、青色光源Bの各色の光源と、各色の光源に対応したコリメータ131r,131g,131bと、各色の光源に対応した全反射プリズム132r,132g,132bと、各色の光源に対応した反射型の空間位相変調素子133r、133g、133bと、各色の光源に対応した遮蔽部材136r,136g,136bと、各色の回折光を合成する為の色合成プリズム137と、投影レンズ138を含んで構成される。   13A includes a light source of each color of red light source R, green light source G, and blue light source B, collimators 131r, 131g, 131b corresponding to the light sources of each color, and total reflection prisms 132r, 132g, 132b, reflective spatial phase modulation elements 133r, 133g, 133b corresponding to the light sources of the respective colors, shielding members 136r, 136g, 136b corresponding to the light sources of the respective colors, and colors for combining the diffracted lights of the respective colors A composition prism 137 and a projection lens 138 are included.

ここで、図13Aで図示している投影レンズ138は凹レンズであるが、凸レンズであっても構わない。
ここでは、図13Aにおいて回折光でフルカラー画像を投影する為の原理として、まず、簡単の為に図13Bの青色の空間位相変調素子133bに対応する部分のみに着目し、青色の回折光を射出する原理を述べる。
Here, although the projection lens 138 illustrated in FIG. 13A is a concave lens, it may be a convex lens.
Here, as a principle for projecting a full-color image with diffracted light in FIG. 13A, first, for the sake of simplicity, attention is paid only to a portion corresponding to the blue spatial phase modulation element 133b in FIG. 13B, and blue diffracted light is emitted. The principle to do is described.

図13Bにおいて青色光源134bから発した青色照明光、例えば青色のレーザー、は、全反射プリズム132bで反射された後に、コリメータ131bを通過し、青色光源134bに対応する反射型の空間位相変調素子133bに入射する。そして、反射型の空間位相変調素子133bに対応した青色画像用の空間位相情報によって変調され、射出した青色の回折光は、コリメータ131bを再び通過し、略平行な光束となり、色合成プリズム137に入射する。また、ここでの青色の0次回折光は、空間位相変調素子133bから出射した後に、再びコリメータ131bを通って、全反射プリズム132bで全反射し、遮蔽部材136bに到達することで遮蔽される。   In FIG. 13B, the blue illumination light emitted from the blue light source 134b, for example, a blue laser, is reflected by the total reflection prism 132b, passes through the collimator 131b, and is a reflective spatial phase modulation element 133b corresponding to the blue light source 134b. Is incident on. Then, the blue diffracted light that has been modulated and emitted by the spatial phase information for the blue image corresponding to the reflective spatial phase modulation element 133b passes through the collimator 131b again, becomes a substantially parallel light beam, and enters the color synthesis prism 137. Incident. In addition, the blue zero-order diffracted light here is emitted from the spatial phase modulation element 133b, then again passes through the collimator 131b, is totally reflected by the total reflection prism 132b, and is blocked by reaching the shielding member 136b.

ここで図13Aにおける緑色光源、赤色光源の空間位相変調素子133g、133rに対応する部分においても、青色光源134bの空間位相変調素子133bに対応する部分と同様の構成で赤色、緑色の回折光を得ることができ、各色に対応する空間位相変調素子から射出した回折光が色合成プリズム137に入射する。なお、ここにおける赤色光源、緑色光源の0次回折光は、青色光源の0次回折光と同様に遮蔽部材136g,133rによって取り除かれる。図13Aにおいて、青色光源に対応する空間位相変調素子133b、赤色光源に対応する空間位相変調素子133r、緑色光源に対応する空間位相変調素子133gから生じた青色、赤色、緑色の回折光は、色合成プリズム137に入射し、各色の回折光が合成されてフルカラーの回折光となり、投影レンズ138を介してスクリーン139に投影されることでフルカラーの画像を映し出す事ができる。   Here, also in the portions corresponding to the spatial phase modulation elements 133g and 133r of the green light source and the red light source in FIG. 13A, the red and green diffracted lights are emitted with the same configuration as the portion corresponding to the spatial phase modulation element 133b of the blue light source 134b. The diffracted light emitted from the spatial phase modulation element corresponding to each color enters the color synthesis prism 137. Here, the 0th-order diffracted light of the red light source and the green light source is removed by the shielding members 136g and 133r in the same manner as the 0th-order diffracted light of the blue light source. In FIG. 13A, the blue, red, and green diffracted lights generated from the spatial phase modulation element 133b corresponding to the blue light source, the spatial phase modulation element 133r corresponding to the red light source, and the spatial phase modulation element 133g corresponding to the green light source are The light is incident on the combining prism 137, and the diffracted lights of the respective colors are combined to form a full-color diffracted light, which is projected onto the screen 139 through the projection lens 138, thereby displaying a full-color image.

この多板式構成においては、常時、各照明光を照らしており、図4における色順次式のような各色の光源の切り替えの必要がない為にカラーブレイク現象の心配はない。
以上のような構成で、小型で廉価かつ0次回折光の影響をも回避できる画像のフルカラー表示を行う投影装置を提供できる。
In this multi-plate configuration, each illumination light is always illuminated, and there is no need to switch the light source of each color as in the color sequential type in FIG.
With the above-described configuration, it is possible to provide a projection apparatus that performs full-color display of an image that is small, inexpensive, and that can avoid the influence of 0th-order diffracted light.

なお、実施形態1から実施形態3に示した投影装置では、透過型の空間位相変調素子としてLCやLCOSを適用できる。一方、DMDは反射型の空間位相変調素子としては利用できないが、空間位相を振幅回折素子として具現できる空間強度変調素子として利用できる。しかしながら、この場合、回折効率は大きくできない。
[実施形態4]
In the projection apparatus shown in the first to third embodiments, LC or LCOS can be applied as a transmissive spatial phase modulation element. On the other hand, the DMD cannot be used as a reflective spatial phase modulation element, but can be used as a spatial intensity modulation element capable of realizing the spatial phase as an amplitude diffraction element. However, in this case, the diffraction efficiency cannot be increased.
[Embodiment 4]

本発明では、さらに簡易的な構成で光の利用効率および回折効率を高め、最適な回折パターンを得ることのできる反射型の空間位相変調素子(Spatial Phase Modulater:SPM)であるMMD(Magic Mirror Device)素子を提供する。なお、本発明のMMD素子を上述した投影装置に用いることで画像を投影することができる。   In the present invention, an MMD (Magic Mirror Device) which is a reflection type spatial phase modulator (SPM) capable of improving the light utilization efficiency and diffraction efficiency with a simpler configuration and obtaining an optimum diffraction pattern. ) Provide the device; An image can be projected by using the MMD element of the present invention for the above-described projection apparatus.

図14Aおよび図14Bは、MMD素子150、160を示す斜視図である。
MMD(Magic Mirror Device)素子のミラー151,161は、光源からの光を位相変調するための区画部分と、この各区画部分に対応して配置された弾性部材と、弾性部材にそれぞれ対応して配置され、電圧を印加することで前記弾性部材の復元力に抗して前記ミラーを移動するための電極と、電極が配置される基板とを有している。図14Aおよび図14Bでは、MMD素子150,160における位相変調を行う為の区画部分93を陰影をつけて示している。本発明の光源からの光から位相変調した回折光を出射させる空間位相変調素子であるMMD素子は、位相変調を行うための区画部分93が、2次元に複数配置されていると共に、各区画部分93の区画数が、投影される画像の画素数に等しいか、または多くなるようにしている。さらに、MMD素子における区画部分93の縦の列数および横の列数が、投影される画像の画素の縦の列数および横の列数に等しい、または多いことが好ましい。また、MMD素子における区画部分93の縦の列数および横の列数が、2のべき乗であるとさらに良い。そして、MMD素子の位相変調を行うための区画部分93の全てで形成される位相変調部における輪郭形状が、縦横比の等しい正方形であり、投影される画像の縦横比に依存しない。
14A and 14B are perspective views showing the MMD elements 150 and 160. FIG.
The mirrors 151 and 161 of the MMD (Magic Mirror Device) element are arranged corresponding to the partition parts for phase-modulating the light from the light source, the elastic members corresponding to the respective partition parts, and the elastic members, respectively. And an electrode for moving the mirror against the restoring force of the elastic member by applying a voltage, and a substrate on which the electrode is disposed. 14A and 14B, the section 93 for performing phase modulation in the MMD elements 150 and 160 is shown shaded. The MMD element, which is a spatial phase modulation element that emits phase-modulated diffracted light from light from the light source of the present invention, has a plurality of partition portions 93 for performing phase modulation arranged in two dimensions, and each partition portion. The number of sections 93 is equal to or larger than the number of pixels of the projected image. Furthermore, it is preferable that the number of vertical columns and the number of horizontal columns of the partition portion 93 in the MMD element are equal to or larger than the number of vertical columns and horizontal columns of the pixels of the projected image. Further, it is more preferable that the number of vertical columns and the number of horizontal columns of the partition portion 93 in the MMD element is a power of two. The contour shape of the phase modulation section formed by all of the partition portions 93 for performing phase modulation of the MMD element is a square having the same aspect ratio, and does not depend on the aspect ratio of the projected image.

図14Aおよび図14Bのように、MMD素子150、160は不図示の電極、不図示の弾性部材、不図示の支柱、ミラー151、161を基板157上に配置している。例えば、MMD素子に用いられるミラーは、一体型のミラー面としても良く、または一体型を複数に分割したミラー面としても良い。一体型のミラーに対して複数の電極で制御する場合には、ミラーに柔軟性が必要である。図14Aでは、一つの一体型のミラー151に対して複数の電極を対応させている様子を示している。図14Aでは、一体型のミラー151において位相変調を行うための各区画部分93毎に一つの弾性部材を対応させている。一方で、図14Bでは、一つの略方形のミラー161に対して一つの電極を対応させ、縦横にミラーの間隔、いわゆるピッチを一定にしながら複数のミラー161を配置してMMD素子160を構成している様子を示している。図14Aおよび図14Bでは、MMD素子160における位相制御を行うための区画部分93を陰影をつけて示している。図14Bにおいて、ミラー161のピッチは一定でなくても良い。また、このミラー間の間隔は、互いのミラー同士が動作時に干渉しない程度に極限まで近づける事が望ましい。例えば、横×縦で1980×1080の画素数の投影画像を表示するのに必要な区画数は、上記各実施例ですでに述べたように所望の解像度を確保するために画素数と同数とした場合には、縦の列数×横の列数=1920×1080=2,073,600個である。また、このMMD素子は、位相変調が行える機能があれば良いので、光の波長の数分の一程度の高さ位置の差を形成できる制御を行うことで所望の機能を発揮できる。したがって、MMD素子のミラー面の面精度は、十分の一波長程度が必要である。また、光の利用効率や画像のコントラストを考えると、MMD素子のミラーの表面の面粗さは、波長の100分の1程度が望ましい。よって、可視光で使用する場合、MMD素子のミラー面の面精度は50nm以下で、ミラー面の面粗さは5nm以下が好ましい。ここでの精度はrmsで達成されていても、ピークトゥピークで達成されていてもよい。ミラーの面精度を50nm以下にする事により、忠実度の高い画像を表示することができる。また、ミラーの面粗さを5nm以下とすることにより、散乱光を減らすことができ、コントラストの高い画像を表示することができる。   14A and 14B, the MMD elements 150 and 160 have electrodes (not shown), elastic members (not shown), columns (not shown), and mirrors 151 and 161 arranged on a substrate 157. For example, the mirror used for the MMD element may be an integrated mirror surface or a mirror surface obtained by dividing the integrated type into a plurality of mirror surfaces. When controlling an integrated mirror with a plurality of electrodes, the mirror needs to be flexible. FIG. 14A shows a state in which a plurality of electrodes are associated with one integrated mirror 151. In FIG. 14A, one elastic member is made to correspond to each partition portion 93 for performing phase modulation in the integrated mirror 151. On the other hand, in FIG. 14B, an MMD element 160 is configured by associating one electrode with one substantially square mirror 161 and arranging a plurality of mirrors 161 while maintaining a constant mirror interval, so-called pitch. It shows how it is. In FIG. 14A and FIG. 14B, the partition part 93 for performing phase control in the MMD element 160 is shown with shading. In FIG. 14B, the pitch of the mirrors 161 may not be constant. It is desirable that the distance between the mirrors be as close as possible to the extent that the mirrors do not interfere with each other during operation. For example, the number of partitions necessary to display a projected image having a number of pixels of 1980 × 1080 in the horizontal × vertical direction is the same as the number of pixels in order to ensure a desired resolution as already described in the above embodiments. In this case, the number of vertical columns × the number of horizontal columns = 1920 × 1080 = 2,073,600. In addition, since the MMD element only needs to have a function capable of performing phase modulation, a desired function can be exhibited by performing control capable of forming a height position difference of about a fraction of the wavelength of light. Accordingly, the surface accuracy of the mirror surface of the MMD element needs to be about one wavelength. In consideration of light utilization efficiency and image contrast, the surface roughness of the mirror surface of the MMD element is preferably about 1/100 of the wavelength. Therefore, when used with visible light, the surface accuracy of the mirror surface of the MMD element is preferably 50 nm or less, and the surface roughness of the mirror surface is preferably 5 nm or less. The accuracy here may be achieved in rms or peak-to-peak. By setting the mirror surface accuracy to 50 nm or less, an image with high fidelity can be displayed. Further, by setting the mirror surface roughness to 5 nm or less, scattered light can be reduced and an image with high contrast can be displayed.

以下では、図14Aおよび図14Bの線XV−Aおよび線XVI−Aで示されるMMD素子の断面図を参照しながら本発明のMMD素子の詳細を述べる。
図15Aは、図14AのMMD素子150の線XV−Aにおける断面図を示している。
Hereinafter, details of the MMD element of the present invention will be described with reference to cross-sectional views of the MMD element indicated by lines XV-A and XVI-A in FIGS. 14A and 14B.
FIG. 15A shows a cross-sectional view of the MMD element 150 of FIG. 14A along line XV-A.

MMD素子150の基板157上には、絶縁層156が重ねられており、その絶縁層156の上に各区画部分93に対応して配置された導電性の弾性部材154が設けられている。そして、各弾性部材154の下方には、絶縁層上部に各区画に対応して配置され、スイッチ回路に接続された電極155が設けられている。一方で、弾性部材154の上部には支柱153が結合しており、その支柱153の上部は、さらに薄膜152と結合しており、薄膜152上にはミラー151が配置されている。図15Aでは、ミラー151が一体型に繋がっており、一つのミラー151の各区画部分に対して支柱153、弾性部材154、電極155が対応して配置されている。ここでのミラー151は柔軟性を有し、容易に湾曲するように変形する事ができる。好ましくは、ミラー151は、反射率の高い金属または誘電体多層膜で形成する。また、薄膜152は、柔軟性と耐久性に富む材料で形成することができる。薄膜152には、好ましくは、柔軟性のある有機フィルムやSi23などを用いる。薄膜152は無くても良い。また、支柱153は、SiやSiO2など製造プロセスにおいて都合が良いものを用いることができる。そして、弾性部材154には、柔軟金属や導電性有機フィルムを用いることができる。また、この有機フィルムに導電性素材をコーティングした物を用いても良い。電極155には、伝導体としてAl、Cu、W等を用いることができる。そして、絶縁層156には、SiO2やSiCなどを用いる事ができ、基板157には、Siを用いる事ができる。 An insulating layer 156 is overlaid on the substrate 157 of the MMD element 150, and a conductive elastic member 154 disposed corresponding to each partition portion 93 is provided on the insulating layer 156. Below each elastic member 154, an electrode 155 is provided above the insulating layer so as to correspond to each section and is connected to the switch circuit. On the other hand, a support column 153 is coupled to the upper portion of the elastic member 154. The upper portion of the support column 153 is further coupled to the thin film 152, and a mirror 151 is disposed on the thin film 152. In FIG. 15A, the mirror 151 is connected in an integrated manner, and a column 153, an elastic member 154, and an electrode 155 are arranged corresponding to each partition portion of one mirror 151. The mirror 151 here has flexibility and can be easily deformed so as to bend. Preferably, the mirror 151 is formed of a highly reflective metal or dielectric multilayer film. The thin film 152 can be formed using a material having high flexibility and durability. The thin film 152 is preferably made of a flexible organic film, Si 2 N 3 or the like. The thin film 152 may be omitted. Further, as the support column 153, a material such as Si or SiO 2 that is convenient in the manufacturing process can be used. For the elastic member 154, a flexible metal or a conductive organic film can be used. Moreover, you may use the thing which coated this organic film with the electroconductive raw material. For the electrode 155, Al, Cu, W, or the like can be used as a conductor. For the insulating layer 156, SiO 2 , SiC, or the like can be used, and for the substrate 157, Si can be used.

したがって、図15Aにおけるミラー面は、一体型のミラーから形成され、一体型のミラーにおけるミラー面の位相変調を行う為の各区画部分に対応してそれぞれ弾性部材及び電極が配置されるようにしており、ミラーを用いている事で入射光をほぼ100%利用できる光の利用効率の良い空間位相変調素子を提供する事ができる。   Therefore, the mirror surface in FIG. 15A is formed from an integral mirror, and an elastic member and an electrode are arranged corresponding to each partition portion for phase modulation of the mirror surface in the integral mirror. Thus, by using a mirror, it is possible to provide a spatial phase modulation element with high light utilization efficiency that can use incident light almost 100%.

図15Bは、図15AのMMD素子の光の位相変調時における断面図を示している。
図15Bでは、図15Aの初期状態から電極155に電圧を印加する事で対応する区画部分93における弾性部材154と電極155との間にクーロン力が作用し、弾性部材154が電極155に近づき、柔軟性を有する一体型のミラー151の表面が窪むように湾曲し、ミラー面の移動量Δh1が生じる。ここで、他の湾曲していないミラー面で反射される入射光と湾曲しているミラー面で反射される入射光とでミラー面の移動量Δh1の違いによる光路差が生じる事で位相の変調を可能とする。そのミラー面が湾曲して窪んでいる量、すなわちミラー面の変形量Δh1が、1/4波長分である場合は、湾曲しているミラーで反射される入射光は、往復で1/2波長、すなわち他の湾曲していないミラー面で反射される反射光と比べてπの位相差を作り出す事ができる。このように本発明のMMD素子において、電極に電圧をON/OFFするバイナリー動作によって位相を反転させる事が可能となる。また、同様にして、ミラー面の変形量Δh1が最大1/2波長分湾曲するようにすると、湾曲しているミラー面で反射される反射光は、他の湾曲していないミラー面で反射される反射光と比べて往復で最大1波長分の位相差を作り出す事ができる。
FIG. 15B shows a cross-sectional view of the MMD element of FIG. 15A during phase modulation of light.
15B, by applying a voltage to the electrode 155 from the initial state of FIG. 15A, a Coulomb force acts between the elastic member 154 and the electrode 155 in the corresponding partition portion 93, and the elastic member 154 approaches the electrode 155. The surface of the integrated mirror 151 having flexibility is curved so as to be depressed, and a movement amount Δh 1 of the mirror surface is generated. Here, an optical path difference due to a difference in the movement amount Δh 1 of the mirror surface occurs between the incident light reflected by the other non-curved mirror surface and the incident light reflected by the curved mirror surface. Allows modulation. When the mirror surface is curved and recessed, that is, when the deformation amount Δh 1 of the mirror surface is ¼ wavelength, the incident light reflected by the curved mirror is 1/2 of the round trip. It is possible to create a phase difference of π compared to the wavelength, that is, the reflected light reflected by another uncurved mirror surface. As described above, in the MMD element of the present invention, the phase can be inverted by a binary operation for turning on / off the voltage of the electrodes. Similarly, when the mirror surface deformation amount Δh 1 is curved by a maximum of ½ wavelength, the reflected light reflected by the curved mirror surface is reflected by another non-curved mirror surface. Compared with the reflected light, it is possible to create a phase difference for a maximum of one wavelength by reciprocation.

このようにして、ミラー面は、電極への電圧の印加に対応して湾曲することで、その変形量に応じて作り出すことのできる位相差が決定される。また、ミラー面の湾曲即ち変形の制御は、電極への電圧の印加の有無のみで決定できる為に制御も単純である。なお、制御はバイナリー制御に限定されない。例えば、ミラー面の最大変形量を、入射する光源の光の1/2波長相当分以内としておき、この最大変形量を生成できる場合の電圧値を最大値としてその範囲内の電圧を印加することでミラー面の変形量を任意の量に設定することができる。制御はアナログ的な制御としても良く、あるいはゼロから最大電圧値までをいくつかの電圧ステップに予め分割しておき、制御はこのステップを1つずつ順次連続的に増減させるようにしても良い。もちろん最大変形量は1/4波長分としても良い。ミラー面の最大変形量を、入射する光源の光の1/2波長相当分以内としても、出射する回折光において形成される位相差は1波長分となり、全ての位相差を作り出すことができる。もちろん1波長以上でも良い。   In this way, the mirror surface is curved in response to the application of a voltage to the electrode, thereby determining a phase difference that can be generated according to the amount of deformation. Further, the control of the curvature of the mirror surface, that is, the deformation, can be determined only by whether or not a voltage is applied to the electrodes, and thus the control is simple. The control is not limited to binary control. For example, the maximum deformation amount of the mirror surface is set to be within a half wavelength equivalent of the light of the incident light source, and a voltage within that range is applied with the voltage value when the maximum deformation amount can be generated as the maximum value. Thus, the deformation amount of the mirror surface can be set to an arbitrary amount. The control may be analog control, or the voltage from zero to the maximum voltage value may be divided into several voltage steps in advance, and the control may be sequentially increased or decreased one by one. Of course, the maximum deformation may be a quarter wavelength. Even if the maximum deformation amount of the mirror surface is within the half wavelength equivalent of the light from the incident light source, the phase difference formed in the emitted diffracted light is one wavelength, and all phase differences can be created. Of course, one wavelength or more may be used.

さらに、弾性部材154の弾性定数を適切に選択する事で弾性部材154の窪み、すなわちミラー面の湾曲によるミラー面の変形量Δh1を制御する事が可能である。また、ミラー面の変形量Δh1を順次連続的に増減させるように制御し、連続的且つ緩やかに一体型のミラー151の変形量を変化させることで、バイナリー動作によるバイナリー位相変調で生じる不要な回折次数を抑える事が可能である。 Furthermore, by appropriately selecting the elastic constant of the elastic member 154, it is possible to control the amount of deformation Δh 1 of the mirror surface due to the depression of the elastic member 154, that is, the curvature of the mirror surface. Further, the amount of deformation Δh 1 of the mirror surface is controlled so as to be successively increased and decreased, and the amount of deformation of the integrated mirror 151 is continuously and gently changed to eliminate unnecessary occurrence of binary phase modulation by binary operation. It is possible to suppress the diffraction order.

なお、弾性部材154は、電圧を印加されて窪んだ後に、電圧をゼロにする事によって弾性部材154の復元力により初期状態まで戻る事ができる。
以上に述べたように特定の電極155に電圧を印加し、一体型に繋がったミラー151の特定部分を選択的に湾曲させることで位相変調をすることができる。ミラー151の高さの変化を連続的且つ緩やかに行う事で不要な回折次数の発生が抑えられ、さらに、バイナリー変調よりも高い回折効率を得られる。
The elastic member 154 can be returned to the initial state by the restoring force of the elastic member 154 by setting the voltage to zero after the voltage is applied and the electrode is depressed.
As described above, phase modulation can be performed by applying a voltage to the specific electrode 155 and selectively bending the specific portion of the mirror 151 connected to the integral type. By continuously and gently changing the height of the mirror 151, generation of unnecessary diffraction orders can be suppressed, and higher diffraction efficiency than binary modulation can be obtained.

図16Aでは、図14BのMMD素子の線XVI―Aにおける断面図を示している。
図16AのMMD素子160では、図15Aや図15Bで示したような一体型のミラーを複数に分割することで複数のミラー161とし、分割した各ミラー161に一対一の対応となるように支柱153、弾性部材154、電極155を配置した。それ以外は、図15Aと図15BにおけるMMD素子150と同様の構成である。この構成において薄膜162をミラー161の下部分に用いる場合には、薄膜162に固い有機フィルムやSiなどを用いても良い。なお、本図ではミラー161と薄膜162を略方形にしたとして以下に詳細を述べる。この構成においても、図15Aと図15Bと同様にミラーを用いているので、光をほぼ100%で利用でき、光の利用効率の良い空間位相変調素子を提供する事ができる。図16Aでは、位相変調を行うための各区画部分93はそれぞれ1つのミラーとしているものである。
FIG. 16A shows a cross-sectional view of the MMD element of FIG. 14B along line XVI-A.
In the MMD element 160 of FIG. 16A, the integrated mirror as shown in FIG. 15A or FIG. 15B is divided into a plurality of mirrors 161, and the pillars have a one-to-one correspondence with each of the divided mirrors 161. 153, an elastic member 154, and an electrode 155 are disposed. Other than that, the configuration is the same as that of the MMD element 150 in FIGS. 15A and 15B. In this configuration, when the thin film 162 is used in the lower portion of the mirror 161, a hard organic film, Si, or the like may be used for the thin film 162. In this figure, the mirror 161 and the thin film 162 are assumed to be substantially square, and the details will be described below. Also in this configuration, since a mirror is used as in FIGS. 15A and 15B, it is possible to provide a spatial phase modulation element that can use light at almost 100% and has high light use efficiency. In FIG. 16A, each section 93 for performing phase modulation is a single mirror.

図16Bは、図16AのMMD素子の光の位相変調時における断面図を示している。
図16Bでは、図16Aの状態から電極155に電圧を印加する事で各弾性部材154と各電極155との間にクーロン力が作用し、弾性部材154が電極155と近づく。ここで弾性部材154が基板157に近づく事に伴い、支柱153を介して弾性部材154上にあるミラー161が下方に移動する。このミラー161が下方に移動することにより、ミラー161に入射する光に対し、電圧が印加されていない他のミラーと電圧が印加されている下方に移動しているミラーとでミラー面の移動量Δh2、すなわち光路差が生じる事で光の位相変調を可能とする。そのミラーが下方に移動しているミラーの高さの変化量即ち移動量Δh2が、入射光の位相の1/4波長分である場合は、往復で1/2波長、すなわち電圧が印加されていない他のミラーと電圧が印加されて下方に移動しているミラーとの入射光において往復でπの位相差を作り出す事ができる。このように、電極に電圧をON/OFFするバイナリー制御をすることで位相を反転させる事が可能となる。なお、制御はバイナリー制御に限定されない。例えば、ミラー面の最大移動量を、入射する光源の光の1/2波長相当分以内としておき、この最大移動量を生成できる場合の電圧値を最大値としてその範囲内の電圧を印加することでミラー面の移動量を任意の量に設定することができる。制御はアナログ的な制御としても良く、あるいはゼロから最大電圧値までをいくつかの電圧ステップに予め分割しておき、制御はこのステップを1つずつ順次連続的に増減させるようにしても良い。ミラー面の最大移動量を、入射する光源の光の1/2波長相当分以内としても、出射する回折光において形成される位相差は1波長分となり、全ての位相差を作り出すことができる。もちろん1波長以上でも良い。
FIG. 16B shows a cross-sectional view of the MMD element in FIG. 16A during phase modulation of light.
16B, by applying a voltage to the electrode 155 from the state of FIG. 16A, a Coulomb force acts between each elastic member 154 and each electrode 155, and the elastic member 154 approaches the electrode 155. Here, as the elastic member 154 approaches the substrate 157, the mirror 161 on the elastic member 154 moves downward via the support column 153. When the mirror 161 moves downward, the amount of movement of the mirror surface with respect to the light incident on the mirror 161 between the other mirror to which no voltage is applied and the mirror that is moved downward to which the voltage is applied. Δh 2 , that is, an optical path difference is generated, thereby enabling light phase modulation. When the amount of change in height of the mirror, ie, the amount of movement Δh 2 , that the mirror is moving downward is a quarter wavelength of the phase of the incident light, a half wavelength, that is, a voltage is applied in a reciprocating manner. A phase difference of π can be generated in a reciprocating manner in incident light between another mirror that is not applied and a mirror that is moved downward by applying a voltage. Thus, it is possible to reverse the phase by performing binary control to turn on / off the voltage of the electrodes. The control is not limited to binary control. For example, the maximum movement amount of the mirror surface is set to be within a half wavelength equivalent of the light of the incident light source, and the voltage value when the maximum movement amount can be generated is set as the maximum value and a voltage within the range is applied. The amount of movement of the mirror surface can be set to an arbitrary amount. The control may be analog control, or the voltage from zero to the maximum voltage value may be divided into several voltage steps in advance, and the control may be sequentially increased or decreased one by one. Even if the maximum amount of movement of the mirror surface is within half the wavelength of the incident light source, the phase difference formed in the emitted diffracted light is one wavelength, and all phase differences can be created. Of course, one wavelength or more may be used.

さらに、弾性部材154の弾性定数を適切に選択する事で弾性部材154の窪み、すなわちミラー面の移動量Δh2を制御する事が可能である。また、ミラー面の移動量Δh2を順次連続的に増減させるように制御し、連続的且つ緩やかにミラー161の移動量を変化させることで、バイナリー動作によるバイナリー位相変調で生じる不要な回折次数を抑える事が可能である。 Furthermore, by appropriately selecting the elastic constant of the elastic member 154, the depression of the elastic member 154, that is, the movement amount Δh 2 of the mirror surface can be controlled. In addition, the amount of movement Δh 2 of the mirror surface is controlled so as to increase or decrease sequentially, and the amount of movement of the mirror 161 is continuously and gently changed, so that unnecessary diffraction orders generated by binary phase modulation by binary operation can be reduced. It is possible to suppress.

なお、弾性部材154は、電圧を印加されて窪んだ後に、電圧をゼロにする事によって弾性部材154の復元力により初期状態まで戻る事ができる。
以上に述べたように特定の電極155に電圧を印加し、特定のミラー161を選択的に移動させることで位相変調をすることができる。ミラー161の高さの変化を連続的且つ緩やかに行う事で不要な回折次数の発生が抑えられ、さらに、バイナリー変調よりも高い回折効率を得られる。
The elastic member 154 can be returned to the initial state by the restoring force of the elastic member 154 by setting the voltage to zero after the voltage is applied and the electrode is depressed.
As described above, phase modulation can be performed by applying a voltage to the specific electrode 155 and selectively moving the specific mirror 161. By continuously and gently changing the height of the mirror 161, generation of unnecessary diffraction orders can be suppressed, and higher diffraction efficiency than binary modulation can be obtained.

上述の図15Aおよび図15Bならびに図16Aおよび図16Bに示したMMD素子では、実施形態1の図4の色順次の光源制御シーケンスにおける空間位相変調素子の空間位相情報の書き換え時間41が、各MMD素子の区画部分の移動または変形動作を行っている最中の時間に相当する。   In the MMD elements shown in FIGS. 15A and 15B and FIGS. 16A and 16B described above, the rewriting time 41 of the spatial phase information of the spatial phase modulation element in the color sequential light source control sequence of FIG. This corresponds to the time during the movement or deformation operation of the partition portion of the element.

なお、本発明に用いる弾性部材の構造やバイナリー制御に関しては、US-patent5,835,255やUS-patent6,040,937などを参考にすることができる。但し、これらの文献は、ファブリペローエタロンの原理を用いて、カラー表示を行う素子に関する技術について述べられており、その点では本発明とは異なるものである。   US-patent 5,835,255, US-patent 6,040,937, etc. can be referred to for the structure and binary control of the elastic member used in the present invention. However, these documents describe a technique related to an element that performs color display using the principle of the Fabry-Perot etalon, which is different from the present invention.

図17Aは、図15Aおよび図15BのMMD素子における電極の配置が異なる例を示している。
図17Aでは、図15A、図15Bの絶縁層内156上方に設けられている電極155を絶縁層156上に設けた構成を表している。絶縁層内上部の電極155の配置を絶縁層156上の電極171の配置に変えた以外は全て同じである。
FIG. 17A shows an example in which the arrangement of electrodes in the MMD elements of FIGS. 15A and 15B is different.
FIG. 17A shows a configuration in which the electrode 155 provided above the insulating layer 156 in FIGS. 15A and 15B is provided on the insulating layer 156. All are the same except that the arrangement of the upper electrode 155 in the insulating layer is changed to the arrangement of the electrode 171 on the insulating layer 156.

図17Bでは、図16A、図16BのMMD素子における電極の配置が異なる例を示している。
図17Bでは、図16A、図16Bの絶縁層内上方に設けられている電極155を絶縁層156上に設けた構成を表している。絶縁層156内上部の電極155の配置を絶縁層上の電極171の配置に変えた以外は全て同じである。
FIG. 17B shows an example in which the arrangement of electrodes in the MMD elements in FIGS. 16A and 16B is different.
FIG. 17B shows a configuration in which the electrode 155 provided above the insulating layer in FIGS. 16A and 16B is provided on the insulating layer 156. All are the same except that the arrangement of the upper electrode 155 in the insulating layer 156 is changed to the arrangement of the electrode 171 on the insulating layer.

図18は、本発明の反射型の空間位相変調素子におけるMMD素子の基板157上での支柱153と弾性部材154の全体配置を示している模式図である。
本図では、図15Aおよび図15Bならびに図16Aおよび図16Bに示されているMMD素子150、160における弾性部材154および支柱153を、基板157上に二次元的に縦横に配置している様子を模式的に示している。
FIG. 18 is a schematic diagram showing the entire arrangement of the support 153 and the elastic member 154 on the substrate 157 of the MMD element in the reflective spatial phase modulation element of the present invention.
In this figure, the elastic members 154 and the columns 153 in the MMD elements 150 and 160 shown in FIGS. 15A and 15B and FIGS. 16A and 16B are two-dimensionally arranged vertically and horizontally on the substrate 157. This is shown schematically.

次に、図19Aおよび図19Bを参照とし、MMD素子150、160における支柱153の形状の具体例について述べる。
図19Aでは、MMD素子における支柱153の断面を円形状としている。
Next, a specific example of the shape of the support 153 in the MMD elements 150 and 160 will be described with reference to FIGS. 19A and 19B.
In FIG. 19A, the cross section of the column 153 in the MMD element is circular.

図19Bでは、MMD素子における支柱153aの断面を方形としている。
もちろん、MMD素子における支柱の断面形状はこれ以外の形状であっても良く、楕円状や長方形等の任意の断面を適宜選択しても良い。
In FIG. 19B, the cross section of the column 153a in the MMD element is rectangular.
Of course, the cross-sectional shape of the column in the MMD element may be other shapes, and an arbitrary cross section such as an elliptical shape or a rectangular shape may be appropriately selected.

なお、弾性部材154は、図15A等に示されるように基板157上に対して支柱を中心とした対象な形状としているが、非対称な形状であっても良く、また、基板157との接触部が支柱を中心とした片側のみに存在する形状とすることもできる。   The elastic member 154 has a target shape centered on the column with respect to the substrate 157 as shown in FIG. 15A and the like. However, the elastic member 154 may have an asymmetric shape, or a contact portion with the substrate 157. It can also be a shape that exists only on one side centered on the column.

以上、各実施形態において、装置の構成を簡素化すると共に、0次回折光の影響をも回避できる空間位相変調素子を備えた投影装置、および光の利用効率および回折効率を高める事ができ、光学系を簡素化できる反射型の空間位相変調素子を記載した。   As described above, in each of the embodiments, the configuration of the apparatus can be simplified, the projection apparatus provided with the spatial phase modulation element that can avoid the influence of the 0th-order diffracted light, and the light utilization efficiency and the diffraction efficiency can be improved. A reflective spatial phase modulation element that can simplify the system has been described.

本発明の各実施例、変形例を任意に組み合わせたものも本発明に属する。
さらに、本発明は、上述の実施形態としての例に限らず、その趣旨を逸脱しない範囲で様々な変更が可能である。
What combined each Example and modification of this invention arbitrarily also belongs to this invention.
Furthermore, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

透過型の空間位相変調素子を用いた投影装置の一つの実施形態である。1 is an embodiment of a projection apparatus using a transmissive spatial phase modulation element. 本発明の一つの実施形態における、空間位相変調素子に入力される信号における信号処理のフローチャート図である。It is a flowchart figure of the signal processing in the signal input into a spatial phase modulation element in one embodiment of this invention. 本発明の一つの実施形態として、空間位相変調素子の基板に設けられたスイッチ回路の模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram of a switch circuit provided on a substrate of a spatial phase modulation element as one embodiment of the present invention. 色順次の光源制御によって画像をカラー表示する為の一つの例として、空間位相変調素子の動作と赤色光源、緑色光源、青色光源の各発光動作との関係を同一時間軸tとして表しているタイミングチャートを示した図である。As an example for displaying an image in color by color sequential light source control, the timing representing the relationship between the operation of the spatial phase modulation element and the light emission operations of the red light source, the green light source, and the blue light source as the same time axis t. It is the figure which showed the chart. 空間位相変調素子で表示されている空間位相情報によって読み出し光が回折され、その回折光がスクリーンに投影される様子を示している模式図である。It is a schematic diagram showing a state in which readout light is diffracted by spatial phase information displayed by a spatial phase modulation element and the diffracted light is projected on a screen. 本発明の一つの実施形態として、図5の透過型の空間位相変調素子に表示されている格子間隔dの回折格子に入射する読み出し光の照明光の入射角をθR=0°とし、照明光の波長λ=0.5μmとした時の回折光の回折角θSと回折格子の間隔dとの対応関係を表した図である。As one embodiment of the present invention, the incident angle of the illumination light of the reading light incident on the diffraction grating with the grating interval d displayed on the transmission type spatial phase modulation element of FIG. 5 is θ R = 0 °, and the illumination It is a figure showing the correspondence between the diffraction angle θ S of the diffracted light and the distance d of the diffraction grating when the wavelength of light λ = 0.5 μm. 本発明の一つの実施形態において、集光光学系と透過型の空間位相変調素子と遮蔽部材を備えた投影装置の平面図である。1 is a plan view of a projection apparatus including a condensing optical system, a transmission type spatial phase modulation element, and a shielding member in an embodiment of the present invention. 投影したい画像に相当するリアルドメインの模式図である。It is a schematic diagram of the real domain corresponding to the image to project. 図8のリアルドメインを空間位相変調素子において縦横の長さを等しくしてフーリエ変換したフーリエドメインの模式図である。FIG. 9 is a schematic diagram of a Fourier domain obtained by performing Fourier transform on the real domain of FIG. 8 with equal longitudinal and lateral lengths in the spatial phase modulation element. 図9Aのフーリエドメインを縦方向の区画部分の列数を横方向の区画部分の列数と同じ列数にしたフーリエドメインの模式図である。FIG. 9B is a schematic diagram of the Fourier domain of FIG. 9A in which the number of columns in the vertical partition portion is the same as the number of columns in the horizontal partition portion. 図9Aのフーリエドメインを横方向の区画部分の列数を縦方向の区画部分の列数と同じ列数にしたフーリエドメインの模式図である。FIG. 9B is a schematic diagram of the Fourier domain of FIG. 9A in which the number of columns in the horizontal partition portion is the same as the number of columns in the vertical partition portion. 投影したい画像をg(x)としたグラフを示している図である。It is a figure which shows the graph which made the image to project be g (x). 投影したい画像をg(x)を1次元フーリエ変換してG(v)に座標変換したグラフを示している図である。It is a figure which shows the graph which carried out the coordinate conversion of G (v) by carrying out the one-dimensional Fourier transform of g (x) about the image to project. 本発明の別の実施形態において、集光光学系と反射型の空間位相変調素子と遮蔽部材を備えた投影装置の平面図である。In another embodiment of this invention, it is a top view of the projection apparatus provided with the condensing optical system, the reflection type spatial phase modulation element, and the shielding member. 本発明のさらに異なる実施形態として、図11とは異なる構成した投影装置の平面図である。FIG. 12 is a plan view of a projection apparatus having a configuration different from that of FIG. 11 as still another embodiment of the present invention. 本発明の一つの実施形態において、反射型の空間位相変調素子と遮蔽部材とを備えた構成とし、画像のフルカラー表示を行う投影装置の平面図である。In one embodiment of the present invention, it is a plan view of a projection apparatus that includes a reflective spatial phase modulation element and a shielding member and performs full color display of an image. 図13Aの投影装置を視線方向Iから見た側面図である。FIG. 13B is a side view of the projection device in FIG. 13A viewed from the line-of-sight direction I. 本発明の一つの実施形態として、一体型のミラー面で構成されるミラーを基板上に配置したMMD素子の斜視図である。1 is a perspective view of an MMD element in which a mirror constituted by an integrated mirror surface is arranged on a substrate as one embodiment of the present invention. FIG. 本発明の別の実施形態において、略方形状のミラーを基板上に二次元に複数個配置したMMD素子の斜視図である。In another embodiment of the present invention, it is a perspective view of an MMD element in which a plurality of substantially square mirrors are two-dimensionally arranged on a substrate. 本発明の一つの実施形態として、図14Aで示したMMD素子の線XV―Aにおける断面図である。FIG. 14B is a cross-sectional view taken along line XV-A of the MMD element shown in FIG. 14A as one embodiment of the present invention. 図15AにおけるMMD素子の光の位相変調時における断面図である。It is sectional drawing at the time of the phase modulation of the light of the MMD element in FIG. 15A. 本発明の別の実施形態として、図14Bで示したMMD素子の線XVI−Aにおける断面図である。FIG. 14B is a cross-sectional view taken along line XVI-A of the MMD element shown in FIG. 14B as another embodiment of the present invention. 図16AにおけるMMD素子の光の位相変調時における断面図である。It is sectional drawing at the time of the phase modulation of the light of the MMD element in FIG. 16A. 本発明の一つの実施形態において、図15Aおよび図15Bで示したMMD素子の電極の配置が異なっている図である。In one Embodiment of this invention, it is a figure from which arrangement | positioning of the electrode of the MMD element shown to FIG. 15A and FIG. 15B differs. 本発明の一つの実施形態において、図16Aおよび図16Bで示したMMD素子の電極の配置が異なっている図である。FIG. 16B is a diagram showing a different arrangement of electrodes of the MMD element shown in FIGS. 16A and 16B in one embodiment of the present invention. 一つの例として、基板上における本発明のMMD素子の支柱と弾性部材の全体配置を示している模式図である。As an example, it is a schematic diagram showing the overall arrangement of the support and elastic members of the MMD element of the present invention on a substrate. 一つの実施形態において、本発明のMMD素子に用いられる支柱の形状を示している図である。In one Embodiment, it is a figure which shows the shape of the support | pillar used for the MMD element of this invention. 別の実施形態として、図19Aとは異なる本発明のMMD素子に用いられる支柱の形状を示している図である。FIG. 19B is a diagram showing the shape of a column used in the MMD element of the present invention different from that in FIG. 19A as another embodiment. 空間位相変調素子としてLCOSを用いた従来の投影装置の模式図である。It is a schematic diagram of the conventional projector which used LCOS as a spatial phase modulation element.

符号の説明Explanation of symbols

10、70、110、120、130、200・・・投影装置
11、74、112、122・・・集光レンズ
12、51、75・・・透過型の空間位相変調素子
13、76、114、124、136b、136g、136r・・・遮蔽部材
14、54、77、115、125、139、206・・・スクリーン
15、116、126・・・照明光束
16、78、117、127、207・・・0次回折光
17、53、79、118、128、204・・・回折光
30・・・スイッチ回路
31、Y1、Y2、Y3・・・信号線
32、X1、X2、X3・・・走査線
33・・・トランジスタ
34、155、171・・・電極
35・・・キャパシター
36・・・弾性部材
41・・・空間位相変調素子の空間位相情報の書き換え時間
52・・・読み出し光(照明光束)
71、111、121、134b、201・・・光源
72・・・空間フィルタ
73、131b、131g、131r・・・コリメータ
80・・・リアルドメイン
90、91、92・・・フーリエドメイン
93・・・区画部分
113、123、133b、133g、133r、134、135・・・反射型の空間位相変調素子
132b、132g、133r・・・全反射プリズム
137・・・色合成プリズム
138、205・・・投影レンズ
150、160・・・MMD素子
148、149・・・ミラー素子
151、161・・・ミラー
152、162・・・薄膜
153、153a・・・支柱
154・・・弾性部材
156・・・絶縁層
157・・・基板
202・・・LCOS
203・・・偏光ビームスプリッタ(PBS)
θδ・・・空間光変調素子の開口の大きさによる回折光の広がり角
θR・・・読み出し光(照明光束)の入射角
θS・・・回折光の回折角
d・・・回折格子の間隔
g(x)・・・投影したい画像の関数
G(v)・・・g(x)の一次元フーリエ変換関数
Δh1、Δh2・・・ミラーの移動量
10, 70, 110, 120, 130, 200 ... Projection device 11, 74, 112, 122 ... Condensing lens 12, 51, 75 ... Transmission type spatial phase modulation element 13, 76, 114, 124, 136b, 136g, 136r ... shielding members 14, 54, 77, 115, 125, 139, 206 ... screens 15, 116, 126 ... illumination light beams 16, 78, 117, 127, 207 ...・ 0th order diffracted light 17, 53, 79, 118, 128, 204 ... diffracted light 30 ... switch circuit 31, Y1, Y2, Y3 ... signal line 32, X1, X2, X3 ... scan line 33 ... Transistor 34, 155, 171 ... Electrode 35 ... Capacitor 36 ... Elastic member 41 ... Spatial phase information rewriting time of spatial phase modulator 52 ..Reading light (illumination beam)
71, 111, 121, 134b, 201 ... light source 72 ... spatial filter 73, 131b, 131g, 131r ... collimator 80 ... real domain 90, 91, 92 ... Fourier domain 93 ... Partition portions 113, 123, 133b, 133g, 133r, 134, 135... Reflection type spatial phase modulation elements 132b, 132g, 133r... Total reflection prism 137... Color synthesis prism 138, 205. Lens 150, 160 ... MMD element 148, 149 ... Mirror element 151,161 ... Mirror 152,162 ... Thin film 153, 153a ... Post 154 ... Elastic member 156 ... Insulating layer 157 ... Substrate 202 ... LCOS
203 ... Polarizing beam splitter (PBS)
θ δ: Diffracted light spread angle depending on the size of the aperture of the spatial light modulator θ R: Read light (illumination beam) incident angle θ S: Diffracted light diffraction angle d: Diffraction grating G (x): Image function to be projected G (v): One-dimensional Fourier transform function of g (x) Δh 1 , Δh 2.

Claims (30)

光源からの光を経由させ位相変調を行った回折光を出射させることによって映像の投影表示を行わしめるための空間位相変調素子であって、
前記空間位相変調素子における位相変調を行うための区画部分が、2次元に複数配置されていると共に、前記各区画部分の区画数が、投影されて表示される画像の画素数に等しいか、または多いことを特徴とする空間位相変調素子。
A spatial phase modulation element for projecting and displaying an image by emitting diffracted light that has undergone phase modulation via light from a light source,
A plurality of partition portions for performing phase modulation in the spatial phase modulation element are two-dimensionally arranged, and the number of partitions in each partition portion is equal to the number of pixels of an image to be projected and displayed, or Spatial phase modulation element characterized by many.
前記区画部分の縦の列数および横の列数が、表示される画像の画素の縦の列数および横の列数に等しい、または多いことを特徴とする請求項1記載の空間位相変調素子。   2. The spatial phase modulation element according to claim 1, wherein the number of vertical columns and horizontal columns of the partition portion is equal to or greater than the number of vertical columns and horizontal columns of pixels of an image to be displayed. . 前記区画部分の縦の列数および横の列数が、2のべき乗であることを特徴とする請求項1または請求項2記載の空間位相変調素子。   3. The spatial phase modulation element according to claim 1, wherein the number of vertical columns and the number of horizontal columns of the partition portion is a power of two. 位相変調を行うための区画部分の全てで形成される位相変調部における輪郭形状が、縦横比の等しい正方形であり、表示される画像の縦横比に依存しないことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一つに記載の空間位相変調素子。   The contour shape in the phase modulation portion formed by all of the partition portions for performing the phase modulation is a square having the same aspect ratio, and does not depend on the aspect ratio of the displayed image. Item 4. The spatial phase modulation element according to any one of Items 3 to 3. 光源からの光を反射する際に位相変調を行う為のミラー面を有し、
前記ミラー面上に設けられた位相変調を行う為の前記各区画部分に対応して配置された弾性部材と、
前記弾性部材にそれぞれ対応して配置され、電圧を印加することで前記弾性部材の復元力に抗して前記ミラー面を移動または変形させるための電極と、
前記電極が配置される基板と、
を備えることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の空間位相変調素子。
Having a mirror surface for phase modulation when reflecting light from the light source,
An elastic member disposed on the mirror surface and corresponding to each partition portion for performing phase modulation;
An electrode that is arranged corresponding to each of the elastic members and moves or deforms the mirror surface against the restoring force of the elastic members by applying a voltage;
A substrate on which the electrodes are disposed;
The spatial phase modulation element according to any one of claims 1 to 4, further comprising:
前記ミラー面は、前記電極への電圧の印加に対応して移動し、その移動量または変形量に応じて位相変調量が決定されることを特徴とする請求項5記載の空間位相変調素子。   6. The spatial phase modulation element according to claim 5, wherein the mirror surface moves in response to application of a voltage to the electrode, and a phase modulation amount is determined according to the movement amount or deformation amount. 前記ミラー面の移動制御または変形制御が、前記電極への電圧の印加の有無のみで決定されることを特徴とする請求項6記載の空間位相変調素子。   The spatial phase modulation element according to claim 6, wherein movement control or deformation control of the mirror surface is determined only by whether or not a voltage is applied to the electrode. 前記ミラー面の移動量または変形量は、入射する光源の光の1/4波長相当分であり、出射する回折光において1/2波長分の位相差を形成することを特徴とする請求項7記載の空間位相変調素子。   The amount of movement or deformation of the mirror surface is equivalent to a quarter wavelength of the light of the incident light source, and forms a phase difference of a half wavelength in the emitted diffracted light. The spatial phase modulation element described. 前記ミラー面の移動量または変形量の制御は、前記電極に印加される電圧値に依存して決定されると共に、印加される電圧の変化量は連続的に順次増加または減少されるべく制御されることを特徴とする請求項6記載の空間位相変調素子。   Control of the amount of movement or deformation of the mirror surface is determined depending on the voltage value applied to the electrode, and the amount of change in the applied voltage is controlled to increase or decrease continuously. The spatial phase modulation element according to claim 6. 前記ミラー面の最大移動量または変形量が、入射する光源の光の1/2波長相当分以内であり、出射する回折光において形成される位相差は1波長分以内であることを特徴とする請求項9記載の空間位相変調素子。   The maximum movement amount or deformation amount of the mirror surface is within the half wavelength equivalent of the light of the incident light source, and the phase difference formed in the emitted diffracted light is within one wavelength. The spatial phase modulation element according to claim 9. 前記ミラー面は、一体型のミラーから形成され、当該一体型のミラーにおけるミラー面の位相変調を行う為の各区画部分に対応してそれぞれ弾性部材及び電極が配置されることを特徴とする請求項5から請求項10のいずれか一項に記載の空間位相変調素子。   The mirror surface is formed of an integral mirror, and an elastic member and an electrode are arranged corresponding to each partition portion for performing phase modulation of the mirror surface in the integral mirror. The spatial phase modulation element according to any one of claims 5 to 10. 前記ミラー面は、位相変調を行うための各区画部分において、それぞれ個別のミラーとして形成され、前記各ミラーに対して弾性部材及び電極がそれぞれ配置されることを特徴とする請求項5から請求項10のいずれか一項に記載の空間位相変調素子。   6. The mirror surface according to claim 5, wherein the mirror surface is formed as an individual mirror in each partition portion for performing phase modulation, and an elastic member and an electrode are respectively arranged for each mirror. The spatial phase modulation element according to any one of 10. 前記ミラー面の面精度が、50nm以下であることを特徴とする請求項5記載の空間位相変調素子。   The spatial phase modulation element according to claim 5, wherein a surface accuracy of the mirror surface is 50 nm or less. 前記ミラー面の面粗さが、5nm以下であることを特徴とする請求項5記載の空間位相変調素子。   The spatial phase modulation element according to claim 5, wherein the mirror surface has a surface roughness of 5 nm or less. 光源と、
前記光源から出射される光を集光する集光光学系と、
前記光源から出射された光が前記集光光学系を経由して集光される集光位置までの途中位置に配置され、2次元に複数配置された位相変調を行う為の各区画部分の区画数が、投影されて表示される画像の画素数に等しいか、または多い空間位相変調素子と、
前記空間位相変調素子から回折されずに出射して集光する0次回折光をその集光位置で遮蔽する遮蔽部材と、
を備えることを特徴とする投影装置。
A light source;
A condensing optical system for condensing light emitted from the light source;
A section of each section for performing phase modulation, which is arranged in the middle of a light collecting position where the light emitted from the light source is collected via the light collecting optical system, and is arranged two-dimensionally. A spatial phase modulation element whose number is equal to or greater than the number of pixels of the projected and displayed image;
A shielding member that shields the 0th-order diffracted light that is emitted and collected without being diffracted from the spatial phase modulation element at the condensing position;
A projection apparatus comprising:
前記空間位相変調素子の各区画部分は、投影されて表示される画像情報に対応して生成される空間位相情報に基づいて変調する位相が制御され、投影されて表示される画像の各画素はそれぞれ前記空間位相変調素子のすべての区画部分から出射される回折光によって形成されることを特徴とする請求項15記載の投影装置。   Each partition portion of the spatial phase modulation element is controlled in phase to be modulated based on spatial phase information generated corresponding to image information to be projected and displayed, and each pixel of the image to be projected and displayed is The projection apparatus according to claim 15, wherein each of the projection apparatuses is formed by diffracted light emitted from all partition portions of the spatial phase modulation element. 前記光源は前記集光光学系の光軸上から離間した位置に配置されており、且つ、前記遮蔽部材は前記空間位相変調素子から出射されて投影される画像を形成する回折光の光束外に配置されることを特徴とする請求項15記載の投影装置。   The light source is disposed at a position separated from the optical axis of the condensing optical system, and the shielding member is outside the light beam of diffracted light that forms an image emitted from the spatial phase modulation element and projected. The projection apparatus according to claim 15, wherein the projection apparatus is arranged. 前記空間位相変調素子における区画部分の縦の列数および横の列数が、投影されて表示される画像の画素の縦の列数および横の列数に等しいか、または多いことを特徴とする請求項15から請求項17のいずれか一項に記載の投影装置。   The number of vertical columns and horizontal columns of the partition portion in the spatial phase modulation element is equal to or greater than the number of vertical columns and horizontal columns of pixels of an image to be projected and displayed. The projection apparatus according to any one of claims 15 to 17. 前記空間位相変調素子における区画部分の縦の列数および横の列数が、2のべき乗であることを特徴とする請求項15から請求項18のいずれか一項に記載の投影装置。   19. The projection apparatus according to claim 15, wherein the number of vertical columns and horizontal columns of the partition portion in the spatial phase modulation element is a power of two. 前記空間位相変調素子の位相変調を行う為の区画部分の全てで形成される位相変調部における輪郭形状が、縦横比の等しい正方形であり、表示される画像の縦横比に依存しないことを特徴とする請求項15から請求項19のいずれか一項に記載の投影装置。   The contour shape in the phase modulation section formed by all of the partition portions for performing phase modulation of the spatial phase modulation element is a square having the same aspect ratio, and does not depend on the aspect ratio of the displayed image. The projection device according to any one of claims 15 to 19. 前記空間位相変調素子が、
光源からの光を反射する際に位相変調を行う為のミラー面を有し、
前記ミラー面上に設けられた位相変調を行う為の前記各区画部分に対応して配置された弾性部材と、
前記弾性部材にそれぞれ対応して配置され、電圧を印加することで前記弾性部材の復元力に抗して前記ミラー面を移動または変形させるための電極と、
前記電極が配置される基板と、
を備えることを特徴とする請求項15から請求項20のいずれか一項に記載の投影装置。
The spatial phase modulation element is
Having a mirror surface for phase modulation when reflecting light from the light source,
An elastic member disposed on the mirror surface and corresponding to each partition portion for performing phase modulation;
An electrode that is arranged corresponding to each of the elastic members and moves or deforms the mirror surface against the restoring force of the elastic members by applying a voltage;
A substrate on which the electrodes are disposed;
The projection apparatus according to claim 15, further comprising:
前記空間位相変調素子におけるミラー面が、前記電極への電圧の印加に対応して移動し、その移動量または変形量に応じて位相変調量が決定されることを特徴とする請求項21記載の投影装置。   The mirror surface of the spatial phase modulation element moves in response to application of a voltage to the electrode, and the phase modulation amount is determined according to the movement amount or deformation amount. Projection device. 前記空間位相変調素子におけるミラー面の移動制御または変形制御が、前記電極への電圧の印加の有無のみで決定されることを特徴とする請求項22記載の投影装置。   The projection apparatus according to claim 22, wherein movement control or deformation control of the mirror surface in the spatial phase modulation element is determined only by whether or not voltage is applied to the electrode. 前記空間位相変調素子におけるミラー面の移動量または変形量が、入射する光源の光の1/4波長相当分であり、出射する回折光において1/2波長分の位相差を形成することを特徴とする請求項23記載の投影装置。   The amount of movement or deformation of the mirror surface in the spatial phase modulation element is equivalent to a quarter wavelength of the light of the incident light source, and forms a phase difference of a half wavelength in the emitted diffracted light. The projection apparatus according to claim 23. 前記空間位相変調素子におけるミラー面の移動量または変形量の制御が、前記電極に印加される電圧値に依存して決定されると共に、印加される電圧の変化量は連続的に順次増加または減少されるべく制御されることを特徴とする請求項22記載の投影装置。   Control of the movement amount or deformation amount of the mirror surface in the spatial phase modulation element is determined depending on the voltage value applied to the electrode, and the change amount of the applied voltage continuously increases or decreases sequentially. The projection apparatus according to claim 22, wherein the projection apparatus is controlled as much as possible. 前記空間位相変調素子におけるミラー面の最大移動量または変形量が、入射する光源の光の1/2波長相当分以内であり、出射する回折光において形成される位相差は1波長分以内であることを特徴とする請求項25記載の投影装置。   The maximum movement amount or deformation amount of the mirror surface in the spatial phase modulation element is within the half wavelength equivalent of the light of the incident light source, and the phase difference formed in the emitted diffracted light is within one wavelength. 26. The projection apparatus according to claim 25. 前記空間位相変調素子におけるミラー面は、一体型のミラーから形成され、当該一体型のミラーにおけるミラー面の位相変調を行う為の各区画部分に対応してそれぞれ弾性部材及び電極が配置されることを特徴とする請求項21から請求項26のいずれか一項に記載の投影装置。   The mirror surface in the spatial phase modulation element is formed of an integral mirror, and an elastic member and an electrode are disposed corresponding to each partition portion for performing phase modulation of the mirror surface in the integral mirror. The projection apparatus according to any one of claims 21 to 26, wherein: 前記空間位相変調素子におけるミラー面は、位相変調を行うための各区画部分において、それぞれ個別のミラーとして形成され、前記各ミラーに対して弾性部材及び電極がそれぞれ配置されることを特徴とする請求項21から請求項26のいずれか一項に記載の投影装置。   The mirror surface of the spatial phase modulation element is formed as an individual mirror in each partition portion for performing phase modulation, and an elastic member and an electrode are respectively arranged for each mirror. The projection device according to any one of Items 21 to 26. 前記空間位相変調素子におけるミラー面の面精度が、50nm以下であることを特徴とする請求項21記載の投影装置。   The projection apparatus according to claim 21, wherein the surface accuracy of the mirror surface of the spatial phase modulation element is 50 nm or less. 前記空間位相変調素子におけるミラー面の面粗さが、5nm以下であることを特徴とする請求項21記載の投影装置。   The projection apparatus according to claim 21, wherein the surface roughness of the mirror surface of the spatial phase modulation element is 5 nm or less.
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