JP2008139242A - 半導体製造装置からの排ガスの分析方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】半導体製造装置からの排ガス中に含まれるフルオロコンパンズ等の被測定対象成分の排出重量を正確に求めるために、半導体製造装置の下流に設置されたポンプからのポンプ排出ガスの流量を高精度かつ正確に求め、これにより被測定対象成分の排出重量を高精度に求められるようにする。
【解決手段】半導体製造装置1からの排ガスを吸引するとともにシールガスが供給されるポンプ4の上流側または下流側において、排ガスに標準ガスを既知量添加し、排ガスとシールガスと標準ガスとが混合されてなり、ポンプから排出されるポンプ排出ガス中の標準ガスの濃度を定量し、得られた標準ガス濃度と標準ガス添加量とからポンプ排出ガスの流量を算出し、ポンプ排出ガス中の被測定対象成分の濃度を定量し、この被測定対象成分濃度を前記ポンプ排出ガス流量とに基づいて、被測定対象成分の排出重量を算出する。
【選択図】図1
【解決手段】半導体製造装置1からの排ガスを吸引するとともにシールガスが供給されるポンプ4の上流側または下流側において、排ガスに標準ガスを既知量添加し、排ガスとシールガスと標準ガスとが混合されてなり、ポンプから排出されるポンプ排出ガス中の標準ガスの濃度を定量し、得られた標準ガス濃度と標準ガス添加量とからポンプ排出ガスの流量を算出し、ポンプ排出ガス中の被測定対象成分の濃度を定量し、この被測定対象成分濃度を前記ポンプ排出ガス流量とに基づいて、被測定対象成分の排出重量を算出する。
【選択図】図1
Description
この発明は、各種半導体製造装置から排出される排ガス中の被測定対象成分の排出重量を高精度で正確に求めることができる分析方法に関する。
半導体製造装置から排出される排ガス中には、CF4、C2F6、SF6、NF3などのパーフルオロコンパンズが含まれている。これらパーフルオロコンパンズは、地球温暖化ガスであることからその削減が望まれている。
従来より、半導体製造装置からの排ガス中のパーフルオロコンパンズの濃度をフーリエ変換赤外分光分析装置(以下、FT−IR装置と略称する。)で測定することがなされている。
従来より、半導体製造装置からの排ガス中のパーフルオロコンパンズの濃度をフーリエ変換赤外分光分析装置(以下、FT−IR装置と略称する。)で測定することがなされている。
しかしながら、地球温暖化ガスの削減規制は、排出量規制であることから、上述のパーフルオロコンパンズについても、排出濃度ではなく排出重量を知る必要がある。
図5は、従来の半導体製造装置からの排ガスの分析方法の一例を説明するためのものである。
図5は、従来の半導体製造装置からの排ガスの分析方法の一例を説明するためのものである。
図5中、符号1は半導体製造装置を示す。この半導体製造装置1の具体的なものとしては、各種CVD成膜装置、エッチング装置、クリーニング装置、アッシング装置などがある。
この半導体製造装置1には、管2を介して半導体製造のためにCF4、C2F6、SF6、NF3などのパーフルオロコンパンズを初め、アルゴン、ヘリウムなどのガスが送り込まれる。
また、半導体製造装置1からは管3を介して排ガスがポンプ4によって吸引され、排出される。ポンプ4によって吸引されたガスは、ポンプ排ガスとして管5を通り、除害装置6に送られるようになっている。
この半導体製造装置1には、管2を介して半導体製造のためにCF4、C2F6、SF6、NF3などのパーフルオロコンパンズを初め、アルゴン、ヘリウムなどのガスが送り込まれる。
また、半導体製造装置1からは管3を介して排ガスがポンプ4によって吸引され、排出される。ポンプ4によって吸引されたガスは、ポンプ排ガスとして管5を通り、除害装置6に送られるようになっている。
また、管5を流れるポンプ排出ガスの一部は、管7からFT−IR装置8に取り込まれ、ここでポンプ排出ガス中に含まれるCF4、C2F6 などの被測定対象成分の濃度が計測、定量されるようになっている。計測後のポンプ排出ガスは管9を通り、管5に戻され、除害装置6に送られるようになっている。
さらに、前記ポンプ4には、管10からポンプ4のシールのために窒素や乾燥空気などのシールガスが常時供給されており、管5に流れ出るポンプ排出ガス中には、このシールガスが含まれることになる。
さらに、前記ポンプ4には、管10からポンプ4のシールのために窒素や乾燥空気などのシールガスが常時供給されており、管5に流れ出るポンプ排出ガス中には、このシールガスが含まれることになる。
この分析システムでは、FT−IR装置8で、ポンプ排ガス中の被測定対象成分として、例えばCF4 の濃度(容積%)を計測し、その濃度に管5を流れるポンプ排出ガスの流量を乗じ、その積をモル換算して単位時間当たりのCF4のモル数を求めることができ、このモル数に半導体製造装置1の稼動時間を乗ずれば、CF4の排出重量をモル単位で算出できる。
すなわち、CF4濃度とポンプ排出ガス流量が求められれば、その後は演算処理で排出重量を知ることができることになる。
すなわち、CF4濃度とポンプ排出ガス流量が求められれば、その後は演算処理で排出重量を知ることができることになる。
ところで、FT−IR装置8によるCF4濃度の計測は、高精度で正確に行うことが可能である。しかし、管5を流れるポンプ排出ガスの流量を高精度で正確に知ることが困難である。
その理由は、ポンプ4に供給されるシールガスの流量が高精度で管理されておらず、供給流量を高精度で知ることができないためである。
通常、ポンプ4に供給されるシールガスの流量は、簡易な浮き子式流量計で測定されているが、この浮き子式流量計での計測は、精度が劣り、流量値に大きな誤差が生じるのが実情である。
その理由は、ポンプ4に供給されるシールガスの流量が高精度で管理されておらず、供給流量を高精度で知ることができないためである。
通常、ポンプ4に供給されるシールガスの流量は、簡易な浮き子式流量計で測定されているが、この浮き子式流量計での計測は、精度が劣り、流量値に大きな誤差が生じるのが実情である。
また、半導体製造装置1から管3に排出される排ガス流量も、半導体製造装置1の稼動時間が長くなると、流量がドリフトして変動することもある。
このように、管5を流れるポンプ排出ガスの流量が高精度で正確に求められないため、結果的に被測定対象成分であるCF4の排出重量を正確に求めることができなかった。
特開2003−91618号公報
特開2002−82049号公報
新田 哲士 J.Vac.Soc.Jpn Vol.46,No.9,p.671〜677(2003)
電子情報技術産業協会 「PFC測定に関するガイドライン」 2002
このように、管5を流れるポンプ排出ガスの流量が高精度で正確に求められないため、結果的に被測定対象成分であるCF4の排出重量を正確に求めることができなかった。
よって、本発明における課題は、半導体製造装置からの排ガス中に含まれるフルオロコンパンズ等の被測定対象成分の排出重量を正確に求めるために、半導体製造装置の下流に設置されたポンプからのポンプ排出ガスの流量を高精度かつ正確に求め、これにより被測定対象成分の排出重量を高精度に求められるようにすることにある。
かかる課題を解決するため、
請求項1にかかる発明は、半導体製造装置から排出される排ガス中の被測定対象成分の排出重量を求める方法であって、
半導体製造装置からの排ガスを吸引するとともにシールガスが供給されるポンプの上流側または下流側において、前記排ガスに標準ガスを既知量添加し、
前記排ガスと前記シールガスと前記標準ガスとが混合されてなり、前記ポンプから排出されるポンプ排出ガス中の前記標準ガスの濃度を定量し、得られた標準ガス濃度と標準ガス添加量とから前記ポンプ排出ガスの流量を算出し、
前記ポンプ排出ガス中の被測定対象成分の濃度を定量し、この被測定対象成分濃度を前記ポンプ排出ガス流量とに基づいて、被測定対象成分の排出重量を算出することを特徴とする半導体製造装置からの排ガスの分析方法である。
請求項1にかかる発明は、半導体製造装置から排出される排ガス中の被測定対象成分の排出重量を求める方法であって、
半導体製造装置からの排ガスを吸引するとともにシールガスが供給されるポンプの上流側または下流側において、前記排ガスに標準ガスを既知量添加し、
前記排ガスと前記シールガスと前記標準ガスとが混合されてなり、前記ポンプから排出されるポンプ排出ガス中の前記標準ガスの濃度を定量し、得られた標準ガス濃度と標準ガス添加量とから前記ポンプ排出ガスの流量を算出し、
前記ポンプ排出ガス中の被測定対象成分の濃度を定量し、この被測定対象成分濃度を前記ポンプ排出ガス流量とに基づいて、被測定対象成分の排出重量を算出することを特徴とする半導体製造装置からの排ガスの分析方法である。
請求項2にかかる発明は、標準ガス濃度の定量および被測定対象成分濃度の定量が、フーリエ変換赤外分光分析装置で行われることを特徴とする請求項1記載の半導体製造装置からの排出ガスの分析方法である。
請求項3にかかる発明は、標準ガスの添加が、校正済み質量流量計によって行われることを特徴とする請求項1記載の半導体製造装置からの排ガスの分析方法である。
請求項4にかかる発明は、質量流量計の校正が前記標準ガスと同種のガスで行われることを特徴とする請求項3記載の半導体製造装置からの排ガスの分析方法である。
請求項5にかかる発明は、標準ガスが、赤外活性で、かつ前記排ガス中に含まれる物質と反応せず、質量流量計を化学的に侵さないものであることを特徴とする請求項1記載の半導体製造装置からの排ガスの分析方法である。
請求項6にかかる発明は、標準ガスが、CF4、C2F6、SF6、N2O、CO2のいずれかであることを特徴する請求項1記載の半導体製造装置からの排ガスの分析方法である。
請求項7にかかる発明は、標準ガスの添加部位が、前記ポンプへのシールガス注入管路であることを特徴とする請求項1記載の半導体製造装置からの排ガスの分析方法である。
請求項8にかかる発明は、前記フーリエ変換赤外分光分析装置が、被測定対象成分または標準ガスと同種のガスを用いた質量比法により校正されたものであることを特徴とする請求項2記載の半導体製造装置からの排ガスの分析方法である。
請求項9にかかる発明は、前記ポンプへのシールガスが前記標準ガスを兼ね、シールガスの供給が校正済み質量流量計によって行われることを特徴とする請求項1記載の半導体製造装置からの排ガスの分析方法である。
本発明によれば、半導体製造装置からの排ガスに既知量の標準ガスを添加し、ポンプ排出ガス中の前記標準ガスの濃度を計測することで、ポンプ排ガスの流量を高精度かつ正確に算出することができる。
すなわち、標準ガスの添加既知流量をAとし、標準ガス添加前の排ガス流量をXとし、計測された標準ガス濃度(体積比)をBとすれば、
A/(X+A)=B・・・・(1)
の関係式(1)が成立し、Aは既知値、Bは実測値であるので、Xが算出できる。
ポンプ排出ガス流量が高精度で求められれば、上述のようにして被測定対象成分の排出重量が高精度かつ正確に算出できる。
すなわち、標準ガスの添加既知流量をAとし、標準ガス添加前の排ガス流量をXとし、計測された標準ガス濃度(体積比)をBとすれば、
A/(X+A)=B・・・・(1)
の関係式(1)が成立し、Aは既知値、Bは実測値であるので、Xが算出できる。
ポンプ排出ガス流量が高精度で求められれば、上述のようにして被測定対象成分の排出重量が高精度かつ正確に算出できる。
また、ポンプ排出ガス中の標準ガス濃度の測定にFT−IR装置を用い、このFT−IR装置の校正を標準ガスと同種のガスで行っておけば、これで実測される標準ガス濃度は、極めて高精度かつ正確なものとなる。
さらに、標準ガスの添加に質量流量計を用い、この質量流量計を標準ガスと同種のガスで校正しておけば、標準ガス添加量を高精度かつ正確に管理することができる。また、質量流量計の他に、例えばガスクロマトグラムに用いられる定量シリンヂを用いても高精度で供給できる。
また、標準ガスの添加位置をポンプのシールガス注入管路としても同様の効果が得られ、さらにはポンプのシールガスが赤外活性で、排ガス中の物質と反応せず、質量流量計を化学的に侵さない性質を持つものであれば、このシールガスと標準ガスとを兼用させても同様の効果が得られる。
図1は、本発明の分析方法に用いられるシステムの例を示すもので、図5に示した従来のものと同一構成部分には同一符号を付してその説明を省略する。
この例のシステムでは、標準ガスの既知量を添加する質量流量計11が設けられ、この質量流量計11から標準ガスが管12を経て、半導体製造装置1とポンプ4をつなぐ管3に供給されるように構成されている。
標準ガスの添加位置は、管3のポンプ4から上流側に約30cm離れた場所となっている。
この例のシステムでは、標準ガスの既知量を添加する質量流量計11が設けられ、この質量流量計11から標準ガスが管12を経て、半導体製造装置1とポンプ4をつなぐ管3に供給されるように構成されている。
標準ガスの添加位置は、管3のポンプ4から上流側に約30cm離れた場所となっている。
この質量流量計11は、ここを流れる標準ガスと同種の校正用ガスを用いて、そのゼロ位、スパン位にズレが生じないように、予め校正されたもので、標準ガスの既知量を高精度でかつ正確に流すことができるものである。
このような質量流量計11には、例えば(株)堀場エステック製「SEC4400」などが用いられる。
このような質量流量計11には、例えば(株)堀場エステック製「SEC4400」などが用いられる。
これの校正には、校正用ガスが充填されたボンベからの校正用ガスを校正すべき質量流量計を介して一定量を排出し、その間の校正用ガス充填ボンベの重量変化を正確に測定することによって行うことができる。なお、この時校正用ガスと窒素との混合ガスを使用して校正を行ってもよい。
このようにして校正された質量流量計では、その規定流量の0〜100%の範囲において、±2%以内の精度を有するものとなる。
このようにして校正された質量流量計では、その規定流量の0〜100%の範囲において、±2%以内の精度を有するものとなる。
また、この例でのFT−IR装置8は、標準ガスと同種の校正用ガスによって校正されたものが用いられる。通常、市販のFT−IR装置には、代表的な化合物についての検量線が格納されているが、本発明ではこの検量線の信頼性を確認するため、改めて校正を行う。
標準ガス(校正用ガス)としてCF4を用いる場合には、市販の高純度CF4ガス(例えば、ジャパンファインプロダクト(株)製)を用い、これを種々の添加量で窒素に添加し、この混合ガス中のCF4濃度をFT−IR装置(例えば、堀場製作所製「FG110」など)で計測して検量線を作製する質量比法によって行われる。
このようにして校正されたFT−IR装置8にあっては、測定透過率0〜100%の範囲で±1%以内の精度を有するものとなる。
このようにして校正されたFT−IR装置8にあっては、測定透過率0〜100%の範囲で±1%以内の精度を有するものとなる。
次に、図1に示したシステムにより、半導体製造装置1から排出される被測定対象成分の排出重量を求める方法について説明する。以下の説明では、標準ガスとしてCF4を用いる方法を説明する。
半導体製造装置1から排出され、管3を流れる排ガスに、標準ガスとしてCF4の既知流量を校正済み質量流量計11から管12を介して添加する。ポンプ4には乾燥空気、窒素などのシールガスを管10から供給する。
半導体製造装置1から排出され、管3を流れる排ガスに、標準ガスとしてCF4の既知流量を校正済み質量流量計11から管12を介して添加する。ポンプ4には乾燥空気、窒素などのシールガスを管10から供給する。
ポンプ4から排出されるポンプ排出ガスには、半導体製造装置1からの排ガスと標準ガスとしてのCF4とシールガスとが混合して含まれており、管5を流れる。
このポンプ排出ガスの一部を管7に取り込み、校正済みのFT−IR装置8に送り込み、ポンプ排出ガス中のCF4濃度(体積比)を計測する。
CF4の添加流量とFT−IR装置8で実測されたCF4濃度は上述のように極めて正確な値である。
ついで、上述の関係式(1)により、管5を流れるポンプ排出ガスの正確な流量が算出される。
このポンプ排出ガスの一部を管7に取り込み、校正済みのFT−IR装置8に送り込み、ポンプ排出ガス中のCF4濃度(体積比)を計測する。
CF4の添加流量とFT−IR装置8で実測されたCF4濃度は上述のように極めて正確な値である。
ついで、上述の関係式(1)により、管5を流れるポンプ排出ガスの正確な流量が算出される。
次に、質量流量計11による標準ガスの添加を停止し、半導体製造装置1からの排ガス中に含まれる被測定対象成分の濃度を計測する。すなわち、管5を流れる排ガスとシールガスとの混合ガスであるポンプ排出ガスの一部を管7からFT−IR装置8に取り込んで、被測定対象成分の濃度(体積比)を計測する。
この際、被測定対象成分と標準ガスとが同種のガスであると、換言すれば被測定対象成分と同種のガスを標準ガスとして採用すると、FT−IR装置8での測定値はさらに正確なものとなる。
この際、被測定対象成分と標準ガスとが同種のガスであると、換言すれば被測定対象成分と同種のガスを標準ガスとして採用すると、FT−IR装置8での測定値はさらに正確なものとなる。
ついで、この被測定対象成分の濃度に先の操作により算出されたポンプ排出ガス流量を乗じて単位時間当たりの被測定対象成分の流量を算出し、これをモル換算して単位時間当たりの被測定対象成分のモル数を求める。
このモル数を重量に換算すれば、単位時間当たりの排ガス中の被測定対象成分の排出重量が算出できる。そして、これに半導体製造装置1の稼動時間(プロセス時間)を乗ずれば被測定対象成分の排出総重量が求められる。
このモル数を重量に換算すれば、単位時間当たりの排ガス中の被測定対象成分の排出重量が算出できる。そして、これに半導体製造装置1の稼動時間(プロセス時間)を乗ずれば被測定対象成分の排出総重量が求められる。
このような分析方法によれば、標準ガスの添加量とポンプ排出ガス中の標準ガス濃度値が高精度で正確な値となるので、ポンプ排出ガスの流量が正確に求められる。このため、半導体製造装置1からの排ガス中の被測定対象成分の排出総重量も正確に算出されることになる。
図2は、本発明の分析方法を実施するためのシステムの第2の例を示すもので、図1に示したシステムと同一構成部分には同一符号を付して、その説明を省略する。
この例では、標準ガスの添加位置が、管5のポンプ4から約30cm以上離れた下流側であって、管7との分岐点よりも上流側となっている。
この例では、標準ガスの添加位置が、管5のポンプ4から約30cm以上離れた下流側であって、管7との分岐点よりも上流側となっている。
質量流量計11には、先の例と同様に標準ガスと同種のガスで校正されたものが用いられ、標準ガスがこの質量流量計11を経て管12から管5にその既知量が供給されるようになっている。
半導体製造装置1からの排ガス中の被測定対象成分の排出重量を求める方法は、先の例と同様である。
半導体製造装置1からの排ガス中の被測定対象成分の排出重量を求める方法は、先の例と同様である。
図3は、本発明の分析方法を実施するためのシステムの第3の例を示すもので、図1に示したシステムと同一構成部分には同一符号を付して、その説明を省略する。
この例では、標準ガスの添加位置が、ポンプ4にシールガスを供給する管10としたものである。
この例では、標準ガスの添加位置が、ポンプ4にシールガスを供給する管10としたものである。
質量流量計11には、先の例と同様に標準ガスと同種のガスで校正されたものが用いられ、標準ガスがこの質量流量計11を経て管10からポンプ4にその既知量が供給されるようになっている。
半導体製造装置1からの排ガス中の被測定対象成分の排出重量を求める方法は、先の例と同様である。
半導体製造装置1からの排ガス中の被測定対象成分の排出重量を求める方法は、先の例と同様である。
本発明では、シールガスに標準ガスを兼用させることができる。図4に示すように、管10に標準ガスと同種のガスで校正した質量流量計11を接続し、この質量流量計11を介して、シールガス兼標準ガスとして、例えば炭酸ガスなどをポンプ4に供給することも可能である。
この方法でも、先の例と同様にして、被測定対象成分の正確な排出重量を知ることができる。
この方法でも、先の例と同様にして、被測定対象成分の正確な排出重量を知ることができる。
本発明では、上述のように、半導体製造装置1から排出される排ガス中の種々の被測定対象成分の排出重量を正確に測定できるが、この正確さを確認するため、カーボンバランス(炭素バランス)を評価することができる。
このカーボンバランスとは、半導体製造装置1に供給される炭素含有化合物量と半導体製造装置1から排出される各種炭素含有化合物の排出総量との比であり、この値が100%であると、正確な分析が行われていることが確認できる。
このカーボンバランスとは、半導体製造装置1に供給される炭素含有化合物量と半導体製造装置1から排出される各種炭素含有化合物の排出総量との比であり、この値が100%であると、正確な分析が行われていることが確認できる。
例えば、半導体製造装置1においてクリーニング処理を行うものとして、半導体製造装置1にクリーニング用ガスとして、C2F6を供給した場合、半導体製造装置1から排出される排ガスのうち、炭素含有化合物は、C2F6、CF4、COF2、CO、CO2であることが知られているので、これら5種の化合物の排出重量を本発明の方法で測定する。
通常、式(2)によって求められたカーボンバランスの値が90%以上であれば、正確な分析ができているとの指標になっている。
上述のC2F6をクリーニング用ガスとして用いたものでは、カーボンバランスが100%となり、正確に分析が行われたことが確認できた。
上述のC2F6をクリーニング用ガスとして用いたものでは、カーボンバランスが100%となり、正確に分析が行われたことが確認できた。
1・・半導体製造装置、4・・ポンプ、8・・FT−IR装置、11・・質量流量計、3、12、5、7、10、12・・管
Claims (9)
- 半導体製造装置から排出される排ガス中の被測定対象成分の排出重量を求める方法であって、
半導体製造装置からの排ガスを吸引するとともにシールガスが供給されるポンプの上流側または下流側において、前記排ガスに標準ガスを既知量添加し、
前記排ガスと前記シールガスと前記標準ガスとが混合されてなり、前記ポンプから排出されるポンプ排出ガス中の前記標準ガスの濃度を定量し、得られた標準ガス濃度と標準ガス添加量とから前記ポンプ排出ガスの流量を算出し、
前記ポンプ排出ガス中の被測定対象成分の濃度を定量し、この被測定対象成分濃度と前記ポンプ排出ガス流量とに基づいて、被測定対象成分の排出重量を算出することを特徴とする半導体製造装置からの排ガスの分析方法。 - 標準ガス濃度の定量および被測定対象成分濃度の定量が、フーリエ変換赤外分光分析装置で行われることを特徴とする請求項1記載の半導体製造装置からの排出ガスの分析方法。
- 標準ガスの添加が、校正済み質量流量計によって行われることを特徴とする請求項1記載の半導体製造装置からの排ガスの分析方法。
- 質量流量計の校正が前記標準ガスと同種のガスで行われることを特徴とする請求項3記載の半導体製造装置からの排ガスの分析方法。
- 標準ガスが、赤外活性で、かつ前記排ガス中に含まれる物質と反応せず、質量流量計を化学的に侵さないものであることを特徴とする請求項1記載の半導体製造装置からの排ガスの分析方法。
- 標準ガスが、CF4、C2F6、SF6、N2O、CO2のいずれかであることを特徴する請求項1記載の半導体製造装置からの排ガスの分析方法。
- 標準ガスの添加部位が、前記ポンプへのシールガス注入管路であることを特徴とする請求項1記載の半導体製造装置からの排ガスの分析方法。
- 前記フーリエ変換赤外分光分析装置が、被測定対象成分または標準ガスと同種のガスを用いた質量比法により校正されたものであることを特徴とする請求項2記載の半導体製造装置からの排ガスの分析方法。
- 前記ポンプへのシールガスが標準ガスを兼ね、シールガスの供給が校正済み質量流量計によって行われることを特徴とする請求項1記載の半導体製造装置からの排ガスの分析方法。
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