JP2008129379A - 液晶表示素子 - Google Patents

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隆 小堺
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Abstract

【課題】生産性を悪化させたり加工コストを増加させることなく、画像品質の悪化を抑制可能とする液晶表示素子を提供する。
【解決手段】液晶表示素子において、画素電極2がマトリスク状に形成された画素電極形成領域A51を備えた第1基板1と、画素電極形成領域と所定の間隙D51を有して対向して配置された共通電極12を備えた第2基板11と、画素電極形成領域を囲って第1基板と第2基板とを貼り合わせるシール部34と、シール部内に封入された液晶31と、画素電極形成領域とシール部との間に設けられた光学補償部33とを有し、光学補償部をこの光学補償部に入射した光の角度成分を補正する光学補償材料を含む構成とする。
【選択図】図1

Description

本発明は、液晶表示素子に係り、特に反射型の液晶表示素子に関する。
画像を大画面で高精細に表示できるディスプレイとして、プロジェクタやプロジェクションテレビ等の投射型の液晶表示装置が普及している。
この投射型の液晶表示装置に用いられる液晶表示素子は、一般的に、液晶表示素子の一方から入射した光をこの液晶表示素子を透過して他方に出射する透過型と、液晶表示素子の一方から入射した光をこの液晶表示素子で反射させて入射した側に出射する反射型とがある。
反射型の液晶表示素子は、透過型の液晶表示素子に比べて、開口率を低下させずに高い解像度を実現する上で有利である。
ここで、一般的な従来の反射型の液晶表示素子について図2を用いて説明する。
図2は、一般的な従来の反射型の液晶表示素子を説明するための模式的断面図である。
図2中の(a)に示すように、反射型の液晶表示素子61は、主として、所定の間隙D61を有して対向配置された2つの基板62,63と、この間隙D61に充填された液晶層64と、液晶層64を囲うと共に2つの基板62,63を貼り合わせて固定するシール部65とにより構成されている。間隙D61をセルギャップD61と称す。
一方の基板62は半導体基板であり、その対向面側には、外部から入射した入射光Lを反射する画素電極66がマトリクス状に複数配置されており、この画素電極66が配置された領域が画像を表示するための表示領域A61となる。
他方の基板63は光透過性を有する基板、例えばガラス基板であり、その対向面側には表示領域A61と対向する領域に光透過性を有する共通電極67が設けられている。
そして、この共通電極67と画素電極66との間に外部から電圧を印加して液晶層64中の液晶64aを駆動させ、入射光Lを所定の画素電極66で反射させることによって、所望の画像を表示することができる。
また、入射光Lが、表示領域A61以外の領域、例えば、シール部65が形成されているシール部形成領域B61やこのシール部形成領域B61よりもさらに外側の外周部領域C61に照射されると、乱反射して画像品質を悪化させる原因となる。
そのため、通常、シール部形成領域B61及び外周部領域C61を覆って入射光Lを遮断する遮光マスク(アパーチャマスクまたはベゼルともいう)68を配置する。
ところで、近年、画像の高解像度化や高速表示化に伴って、液晶表示素子の表示領域は拡大し、セルギャップは狭くなる傾向にあり、セルギャップのばらつきが大きくなってしまう傾向にある。
表示領域におけるセルギャップのばらつきが大きいと画像品質を悪化させる原因となるため、例えば特許文献1に記載されているように、表示領域A61とシール部65(シール部形成領域B61)との間、即ちシール部65よりも表示領域A61側近傍に土手状の突起部69を設ける場合がある{図2中の(b)参照}。
また、液晶層64中の液晶64aは、一般的に、電圧が印加されていないときには、この液晶64aを駆動させた際に各液晶64aが略同一方向に駆動するように、プレチルト角と称する角度でわずかに偏向した状態を保持している。
電圧が印加されていないときの液晶64aが偏向していると、表示した画像のコントラストが悪化する原因となるため、例えば特許文献2に記載されているように、この液晶64aの偏向を補正する光学補償板70を用いる場合がある{図2中の(b)参照}。
特開2004−70058号公報 特開2005−84230号公報
ところで、特許文献1に記載されているような突起部69を設けた構成にすると、この突起部69が形成されている突起部形成領域E61に入射光Lが照射されると乱反射したり反射光が光学補償板70で過剰に補正されるため、画像品質を悪化させる原因となる。
そのため、この突起部69(突起部形成領域E61)を覆って入射光Lを遮断するように遮光マスク68を配置することが必要となるが、突起部69はシール部65よりもさらに表示領域A61側近傍に設けられているので、表示領域A61を遮光せずに突起部69を遮光するためには、遮光マスク68の位置合わせを高い精度で行わなければならないため、生産性を悪化させたり遮光マスクの加工コストを増加させる原因となる。
また、突起部69を遮光マスク68で覆わずに、突起部69に光吸収性をもたせて照射された入射光Lを吸収して乱反射させない手段も考えられるが、入射光Lを吸収した突起部69の温度が上昇して熱ストレスが発生し、この熱ストレスにより複屈折が発生する場合がある。複屈折は、画像品質、例えば画像の輝度分布特性を悪化させる原因となる。
そこで、本発明が解決しようとする課題は、液晶表示素子、例えば土手状の突起部が設けられた反射型の液晶表示素子において、生産性を悪化させたり加工コストを増加させることなく、画像品質の悪化を抑制することにある。
上記の課題を解決するために、本願発明は次の手段を有する。
画素電極(2)がマトリスク状に形成された画素電極形成領域(A51)を備えた第1の基板(1)と、前記画素電極形成領域と所定の間隙(D51)を有して対向して配置された共通電極(12)を備えた第2の基板(11)と、前記画素電極形成領域を囲って前記第1の基板と前記第2の基板とを貼り合わせるシール部(34)と、前記シール部内に封入された液晶(31)と、前記画素電極形成領域と前記シール部との間に設けられた光学補償部(33)と、を有し、前記光学補償部は、該光学補償部に入射した光の角度成分を補正する光学補償材料を含むことを特徴とする液晶表示素子(50)である。
本発明によれば、生産性を悪化させたり加工コストを増加させることなく、画像品質の悪化を抑制することが可能となるという効果を奏する。
本発明の実施の形態を、好ましい実施例により図1を用いて説明する。
図1は、本発明の液晶表示素子の実施例を説明するための模式的断面図である。
<実施例>
図1に示すように、反射型の液晶表示素子50は、主として、半導体基板である第1の基板1と、第1の基板1と所定の間隙D51を有して対向配置され光透過性を有する第2の基板11と、この間隙D51に充填された液晶層31と、液晶層31を囲うように環状に設けられた土手状の突起部33と、突起部33を囲うように環状に設けられて第1の基板1と第2の基板11とを貼り合わせて固定するシール部34とにより構成されている。ここで、間隙D51をセルギャップD51と称す。
第1の基板1は、第2の基板11と対向する面1a側に、マトリクス状に複数配置され光反射性を有する画素電極2、及び、画素電極2と後述する共通電極12との間に電圧を印加して画素電極2と共通電極12との間に配置された液晶31aを駆動させるための液晶駆動素子(スイッチング素子ともいう)3が形成されている。各液晶駆動素子3は各画素電極2にそれぞれ対応して形成されている。
この画素電極2が配置された領域は、画像を表示するための画像表示領域A51であり、この画像表示領域A51上には光透過性を有する第1の配向膜4が形成されている。
上述した画素電極2、液晶駆動素子3、及び第1の配向膜4は、公知の液晶表示素子の製造方法を用いて形成することができる。
第2の基板11は、第1の基板1と対向する対向面11a側の画素電極2が形成されている範囲に対応する範囲に、導電性及び光透過性を有する共通電極12と光透過性を有する第2の配向膜13とが順次積層(図1における積層方向は図面下方向である)形成されており、また、対向面11aとは反対側の面である入射面11b側には反射防止膜14が形成されている。
上述した共通電極12、第2の配向膜13、及び反射防止膜14は、公知の液晶表示素子の製造方法を用いて形成することができる。
ここで、突起部33について説明する。
突起部33は、光学補償材料で構成されている。
光学補償材料とは、この突起部33に入射する光の角度成分や光の漏れを補正する材料であり、例えば、このような光学補償材料として、大日本インキ化学工業社製のUV重合性液晶材料(UCLシリーズ等)を用いることができる。
また、突起部33は、液状の光学補償材料を塗布した後、例えば偏向方向が略均一な光をこの塗布された液状の光学補償材料に照射することによって、偏向方向に対応する部分が硬化し、周囲もこれに倣って硬化するため、一定の偏光方向を有する構造となる。
所望の偏光方向を得るための硬化条件は、用いる光学補償材料によって異なるため、適宜設定を行う。
シール部34は、所定の直径R34aを有する略球状のスペーサ34aを含有する樹脂34bを硬化することによって形成することができる。
第1の基板1と第2の基板11とを互いに接近する方向に所定の圧力を印加した状態で上記樹脂34bを硬化させることによって、セルギャップD51の寸法をスペーサ34aの直径R34aに応じて設定することができる。
そして、入射光Lが照射される側に、光学補償板40及び遮光マスク(アパーチャマスクまたはベゼルともいう)41を配置した後、反射防止膜14が形成されている入射面11b側から入射光Lを液晶表示素子50に照射すると共に、所定の画素電極2と共通電極12との間に外部から電圧を印加して液晶層31中の液晶31aを駆動させ、入射光Lを上記所定の画素電極2で反射させることによって、所望の画像を表示することができる。
本発明の液晶表示素子によれば、入射光Lが突起部33に照射された場合においても、突起部33が光学補償材料により構成されているので、この突起部33で反射する光の量や偏向方向を調整することができるため、この反射された光が光学補償板40で過剰に補正されることを防止できる。
従って、表示された画像品質の悪化を抑制することができる。
また、本発明の液晶表示素子によれば、上述した理由により、画像表示領域A51近傍に設けられた突起部33を遮光マスク41で覆って遮光しなくてもよいので、遮光マスク41を配置するための高い位置合わせ精度が必要でなくなるため、生産性が悪化したり加工コストが増加することを抑制できる。
また、本発明の液晶表示素子によれば、上述した理由により、突起部33に光吸収性をもたせなくてもよいので、入射光Lが突起部33に入射されても突起部33の温度上昇を低減させることができるため、熱ストレスによる複屈折の発生を抑制することができる。
従って、表示された画像の画像品質、例えば画像の輝度分布特性を改善することができる。
本発明の実施例は、上述した構成及び手順に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において変形例としてもよいのは言うまでもない。
例えば、実施例では、土手状の突起部33を環状に形成したが、これに限定するものではなく、柱状の突起部を画像表示領域A51とシール部34との間、即ちシール部34よりも表示領域A51側近傍の各所定位置にそれぞれ形成するようにしてもよい。
また、土手状の突起部や柱状の突起部を、各画素電極それぞれを囲うように形成してもよい。
本発明の液晶表示素子の実施例を説明するための模式的断面図である。 従来の反射型の液晶表示素子を説明するための模式的断面図である。
符号の説明
1 第1の基板、 1a,11a,11b 面、 2 画素電極、 3 液晶駆動素子(スイッチング素子)、 4,13 配向膜、 11 第2の基板、 12 共通電極、 14 反射防止膜、 31 液晶層、 31a 液晶、 33 突起部、 34 シール部、 34a スペーサ、 34b 樹脂、 40 光学補償板、 41 遮光マスク、 50 液晶表示素子、 A51 画像表示領域、 D51 間隙(セルギャップ)、 R34a 直径、 L 入射光

Claims (1)

  1. 画素電極がマトリスク状に形成された画素電極形成領域を備えた第1の基板と、
    前記画素電極形成領域と所定の間隙を有して対向して配置された共通電極を備えた第2の基板と、
    前記画素電極形成領域を囲って前記第1の基板と前記第2の基板とを貼り合わせるシール部と、
    前記シール部内に封入された液晶と、
    前記画素電極形成領域と前記シール部との間に設けられた光学補償部と、
    を有し、
    前記光学補償部は、該光学補償部に入射した光の角度成分を補正する光学補償材料を含むことを特徴とする液晶表示素子。
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