JP2008116514A - Continuous exposure apparatus - Google Patents

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Takanori Takei
孝教 武井
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a continuous exposure apparatus capable of accurately carrying out imagewise exposure and stably carrying out exposure for a long period of time. <P>SOLUTION: The continuous exposure apparatus comprises at least a script cylindrical body 1 having an image pattern drawn on a transparent cylindrical substrate, a light source 2 placed inside the script cylindrical body, and a light shielding member 3 regulating the light emitting from the light source. The script cylindrical body used has a transparent antistatic layer 70 around the script cylindrical body to prevent intrusion of dust or foreign matter between the outer circumference face of the script cylindrical body and a printing precursor and preventing wear of the outer circumference face. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、基材上に画像パターンを形成させるための連続露光装置に関する。更に詳細には、透明基材上に導電性パターン(例えば格子状のパターン)が形成された、電磁波シールドフィルムやタッチパネル等の生産に用いることができる透明導電性フィルムの連続露光装置に関するものである。   The present invention relates to a continuous exposure apparatus for forming an image pattern on a substrate. More specifically, the present invention relates to a continuous exposure apparatus for a transparent conductive film having a conductive pattern (for example, a lattice pattern) formed on a transparent substrate and usable for production of an electromagnetic shielding film, a touch panel, or the like. .

近年、情報化社会が急速に発達するに伴って、情報関連機器に関する技術が急速に進歩し普及してきた。この中で、ディスプレイ装置は、テレビジョン用、パーソナルコンピューター用、駅や空港などの案内表示用、その他各種情報提供用に用いられている。特に、近年プラズマディスプレイが注目されている。   In recent years, with the rapid development of the information-oriented society, technologies related to information-related devices have rapidly advanced and become popular. Among them, the display device is used for televisions, personal computers, guidance displays for stations, airports, and other information. In particular, plasma displays have attracted attention in recent years.

このような情報化社会の中にあって、これらのディスプレイ装置から放射される電磁波の影響が心配されている。例えば、周辺の電子機器への影響や人体への影響が考えられている。特に、人体の健康に及ぼす影響は無視することができないものになっており、人体に照射される電磁界の強度の低減が求められ、このような要求に対して様々の透明導電性フィルム(電磁波シールドフィルム)が開発されている。例えば、特開平9−53030号、同平11−126024号、特開2000−294980号、同2000−357414号、同2000−329934号、同2001−38843号、同2001−47549号、同2001−51610号、同2001−57110号、同2001−60416号公報等に開示されている。   In such an information society, there is a concern about the influence of electromagnetic waves radiated from these display devices. For example, the influence on surrounding electronic devices and the influence on the human body are considered. In particular, the effects on human health cannot be ignored, and there is a need to reduce the intensity of the electromagnetic field applied to the human body. In response to such demands, various transparent conductive films (electromagnetic waves) Shield film) has been developed. For example, JP-A-9-53030, JP-A-11-122024, JP-A-2000-294980, JP-A-2000-357414, JP-A-2000-329934, JP-A-2001-38843, JP-A-2001-47549, 2001-2001. No. 51610, No. 2001-57110, No. 2001-60416, and the like.

これらの透明導電性フィルムの製造方法としては、銀、銅、ニッケル、インジウム等の導電性金属をスパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法、真空蒸着法、湿式塗工法によって透明樹脂フィルム上に金属薄膜を形成させる方法が一般的に用いられている。近年、透明導電性フィルムの需要が拡大する中にあって、低コストで生産性が高い製造方法が求められている。   As a method for producing these transparent conductive films, conductive metals such as silver, copper, nickel, and indium are formed on a transparent resin film by sputtering, ion plating, ion beam assist, vacuum deposition, and wet coating. In general, a method of forming a metal thin film is commonly used. In recent years, a demand for a transparent conductive film is expanding, and a manufacturing method with low cost and high productivity is demanded.

上述の事情に鑑み、現像処理によって物理現像核層に金属銀を析出させて導電性パターンを形成する方法(銀錯塩拡散転写法)が、特公昭42−23745号公報、特開2003−77350号公報に開示されている。更に、金属銀からなる導電性パターンを触媒として金属メッキすることがWO2004/007810号公報に開示されている。これらの方法では、導電性パターンを形成するために用いられる元の材料(前駆体という)をロールの形態で準備し、これを露光、現像処理した後ロール状に巻き取るいわゆるロール・ツー・ロール(roll−to−roll)で連続処理できるので生産性が向上する。   In view of the above circumstances, a method (silver complex diffusion transfer method) in which metallic silver is deposited on a physical development nucleus layer by development processing to form a conductive pattern (silver complex diffusion transfer method) is disclosed in Japanese Patent Publication Nos. 42-23745 and 2003-77350. It is disclosed in the publication. Further, WO 2004/007810 discloses that metal plating is performed using a conductive pattern made of metallic silver as a catalyst. In these methods, an original material (precursor) used to form a conductive pattern is prepared in the form of a roll, which is exposed to light and developed, and then wound into a roll. (Roll-to-roll) can be continuously processed to improve productivity.

ロール状の前駆体の搬送を停止させることなく露光処理を行う連続露光装置としては、透明円筒基材の外周面にマスクパターンが描画された原稿円筒体を前駆体の搬送速度に同期させ、該原稿円筒体の内部から露光を行う装置が、特開平2−293754号、特開2000−35677号、特開2000−75497号公報(特許文献1〜3)等に開示されている。   As a continuous exposure apparatus that performs an exposure process without stopping the conveyance of the roll-shaped precursor, the document cylindrical body on which the mask pattern is drawn on the outer peripheral surface of the transparent cylindrical base material is synchronized with the conveyance speed of the precursor, An apparatus for performing exposure from the inside of an original cylinder is disclosed in Japanese Patent Laid-Open Nos. 2-293754, 2000-35677, 2000-75497 (Patent Documents 1 to 3) and the like.

これらの露光装置では、原稿円筒体の外周面に塵、埃等の異物があると、異物の像様に、前駆体に露光されてしまい、所望のマスクパターンに露光されないという問題があり、この問題を解決するために、特開2000−35677号、特開2000−75497号公報では、原稿円筒体に粘着性のクリーニングローラを接触させて塵、埃を除去している。   In these exposure apparatuses, if there is foreign matter such as dust or dust on the outer peripheral surface of the original cylindrical body, the precursor is exposed like an image of the foreign matter, and there is a problem that the desired mask pattern is not exposed. In order to solve the problem, in JP 2000-35677 A and JP 2000-75497 A, an adhesive cleaning roller is brought into contact with the original cylindrical body to remove dust and dirt.

しかしながら、これらの露光装置では、前駆体を原稿円筒体に接触させて搬送するので、原稿円筒体と前駆体の接触帯電により、原稿円筒体が帯電し、塵、埃等の異物が原稿円筒体の外周面に積極的に静電吸着してしまい、クリーニングローラだけでは充分に塵、埃を除去できないという問題がある。塵、埃を充分に除去できなかった場合、例えば電子回路の配線パターンであれば、短絡、または断線を起こし、電子回路が正しく動作しない原因となり、電磁波シールド材であれば、視認性、および電磁波シールド特性の劣化につながる大きな問題である。   However, in these exposure apparatuses, the precursor is conveyed while being brought into contact with the original cylindrical body. Therefore, the original cylindrical body is charged by contact charging between the original cylindrical body and the precursor, and foreign matters such as dust and dust are exposed to the original cylindrical body. There is a problem in that dust and dirt cannot be sufficiently removed by the cleaning roller alone. If dust or dust cannot be removed sufficiently, for example, if the wiring pattern is an electronic circuit, it may cause a short circuit or disconnection, causing the electronic circuit to malfunction. This is a major problem that leads to the deterioration of the shield characteristics.

加えて、原稿円筒体に前駆体が繰り返し接触されることにより、徐々に原稿円筒体外周面が摩耗して、透明度の低下(ヘイズの増加)、描画されたマスクパターンの摩滅が生じ、最終的には所望のマスクパターンが得られなくなる。このため、原稿円筒体を定期的に交換する必要があり、非効率的であり、その頻度が、生産コストに影響する。このため、原稿円筒体の長寿命化も課題となっている。
特開平2−293754号公報 特開2000−35677号公報 特開2000−75497号公報
In addition, when the precursor is repeatedly contacted with the original cylinder, the outer peripheral surface of the original cylinder gradually wears, resulting in a decrease in transparency (an increase in haze) and abrasion of the drawn mask pattern. In this case, a desired mask pattern cannot be obtained. For this reason, it is necessary to periodically replace the original cylindrical body, which is inefficient, and the frequency affects the production cost. For this reason, extending the life of the original cylindrical body is also an issue.
JP-A-2-293754 JP 2000-35677 A JP 2000-75497 A

したがって、本発明の第一の目的は、正確に像様に露光処理を行う連続露光装置を提供することであって、詳細には、透明円筒基材に画像パターンが描画された原稿円筒体の外周面と前駆体との間に塵・異物の混入がない連続露光装置を提供することである。そして、本発明の第二の目的は、長期間、安定に露光処理を行える連続露光装置を提供することであって、詳細には、外周面が摩耗しにくい原稿円筒体を用いた連続露光装置を提供することである。   Accordingly, a first object of the present invention is to provide a continuous exposure apparatus that performs exposure processing accurately in an image-like manner, and more specifically, a document cylindrical body in which an image pattern is drawn on a transparent cylindrical substrate. An object of the present invention is to provide a continuous exposure apparatus in which no dust or foreign matter is mixed between the outer peripheral surface and the precursor. A second object of the present invention is to provide a continuous exposure apparatus capable of performing exposure processing stably for a long period of time, and more specifically, a continuous exposure apparatus using a document cylindrical body whose outer peripheral surface is less likely to wear. Is to provide.

発明の上記目的は、以下の発明によって基本的に達成された。
1)透明円筒基材の外周面に画像パターンが描画された原稿円筒体と、該原稿円筒体の内部に配置された光源と、該光源から発せられる光を規制する遮光部材を少なくとも有する連続露光装置であって、該原稿円筒体の外周面に帯電防止層を有する連続露光装置。
2)上記1)記載の帯電防止層として、透明架橋硬化樹脂上にポリチオフェン導電性高分子が積層化された層、金属微粒子と透明架橋硬化樹脂を含有する層のいずれかから選ばれる帯電防止層を用いた連続露光装置。
The above object of the invention has been basically achieved by the following invention.
1) Continuous exposure having at least a document cylindrical body on which an image pattern is drawn on the outer peripheral surface of a transparent cylindrical base material, a light source disposed inside the document cylindrical body, and a light blocking member for regulating light emitted from the light source A continuous exposure apparatus having an antistatic layer on the outer peripheral surface of the original cylindrical body.
2) The antistatic layer selected from any one of a layer in which a polythiophene conductive polymer is laminated on a transparent cross-linked cured resin and a layer containing metal fine particles and a transparent cross-linked cured resin as the antistatic layer described in 1) above Continuous exposure equipment using

本発明により、原稿円筒体の外周面と前駆体との間に塵・埃等の異物の混入がなく、原稿円筒体の表面が摩耗しにくい連続露光装置を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a continuous exposure apparatus in which foreign matter such as dust is not mixed between the outer peripheral surface of the original cylinder and the precursor, and the surface of the original cylinder is less likely to be worn.

本発明の連続露光装置は、ロール・ツー・ロール(roll−to−roll)で処理することを目的に、ロール状の該前駆体の巻き出し部と、該前駆体を搬送しながら露光する連続露光部と、該前駆体をロール状に巻き取るための巻き取り部とを有する。ここで、ロール・ツー・ロールで処理するとは、ロール状に巻かれた前駆体Fを連続的に巻き出し、露光した後、再度ロール状に巻き取る方式である。   The continuous exposure apparatus of the present invention has a roll-out portion of the precursor and a continuous exposure that conveys the precursor for the purpose of processing in roll-to-roll. It has an exposure part and a winding part for winding the precursor into a roll. Here, the treatment by roll-to-roll is a system in which the precursor F wound in a roll shape is continuously unwound, exposed, and then wound again in a roll shape.

本発明の連続露光装置は、前記前駆体を現像処理する装置(以降現像処理装置と称す)との間で搬送速度を同期させることにより、該現像処理装置と直接接続することができる。前記現像処理装置と接続する場合、前記前駆体は、連続露光部で露光され、現像処理部で現像、及び不要成分を除去、乾燥された後に、巻き取り部でロール状に巻き取られる。   The continuous exposure apparatus of the present invention can be directly connected to the development processing apparatus by synchronizing the transport speed with an apparatus for developing the precursor (hereinafter referred to as a development processing apparatus). When connected to the development processing apparatus, the precursor is exposed in a continuous exposure unit, developed in a development processing unit, removed unnecessary components, dried, and then wound up in a roll shape in a winding unit.

本発明の装置が対象とする前駆体は、露光、現像、不要成分の除去の各工程を経ることにより、導電性パターンを得ることができる前駆体であり、例えば、基材上に金属薄膜層と光架橋硬化樹脂層とをこの順に有する前駆体、基材上に少なくとも物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層とをこの順に有する前駆体等が挙げられる。特に、基材上に少なくとも物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層とをこの順に有する前駆体は、画質が優れているので好適である。   The precursor targeted by the apparatus of the present invention is a precursor capable of obtaining a conductive pattern through the steps of exposure, development, and removal of unnecessary components, for example, a metal thin film layer on a substrate. And a precursor having at least a physical development nucleus layer and a silver halide emulsion layer in this order on the substrate. In particular, a precursor having at least a physical development nucleus layer and a silver halide emulsion layer in this order on a substrate is preferable because of its excellent image quality.

以下、本発明の連続露光装置を、図面を用いて詳細に説明する。図1は、本発明の連続露光装置の連続露光部を示す概略側断面図である。図2は、本発明の連続露光装置の一実施態様の概略側断面図である。   The continuous exposure apparatus of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic sectional side view showing a continuous exposure unit of the continuous exposure apparatus of the present invention. FIG. 2 is a schematic sectional side view of an embodiment of the continuous exposure apparatus of the present invention.

図2に示すように、巻き出し部Aは、巻き出し軸11、張力制御手段13で構成されており、ロール状の前駆体12が、巻き出し軸11に装着されている。そして、ロール状の前駆体12は、矢印の方向に搬送される。ロール状の前駆体12は、内巻き(感光層側面を内側にして巻き取られている)になっている。巻き出し軸11には、張力制御手段13(例えば、パウダーブレーキ)が接続されており、前駆体Fに加えられる張力が制御されている。張力制御手段13は、前駆体Fの蛇行を抑制するために、前駆体Fに一定の張力を加えており、40N/mから150N/mの範囲が適当である。ロール状の前駆体12には、最上巻きと最下巻きには、パターンの形成装置の搬送経路の全長に相当する長さのリードフィルムが設けられており、前駆体Fの製品部分は常に搬送速度および張力が制御された状態で搬送されるようになっている。   As shown in FIG. 2, the unwinding part A includes an unwinding shaft 11 and tension control means 13, and a roll-shaped precursor 12 is attached to the unwinding shaft 11. And the roll-shaped precursor 12 is conveyed in the direction of the arrow. The roll-shaped precursor 12 is internally wound (winded with the photosensitive layer side face inside). A tension control means 13 (for example, a powder brake) is connected to the unwinding shaft 11, and the tension applied to the precursor F is controlled. The tension control means 13 applies a certain tension to the precursor F in order to suppress the meandering of the precursor F, and the range of 40 N / m to 150 N / m is appropriate. The roll-shaped precursor 12 is provided with a lead film having a length corresponding to the entire length of the conveying path of the pattern forming apparatus at the uppermost winding and the lowermost winding, and the product portion of the precursor F is always conveyed. It is transported in a state where the speed and tension are controlled.

ロール状の前駆体12から送り出された前駆体Fは、粘着性ローラ15に接触されることよって、その表裏両面に付着した塵が粘着除去された後、連続露光部に送られる。そして、粘着性ローラ15に付着した塵は図示しないクリーニング手段(例えば一周毎に表面を剥離可能な粘着性ローラ)で定期的に除去され、前駆体Fに塵が再付着するのを防いでいる。前駆体Fに付着した塵を除去出来れば他の方法でも良く、例えば吸引ノズルにより塵を吸引除去してもよい。   The precursor F delivered from the roll-shaped precursor 12 is brought into contact with the adhesive roller 15 so that the dust adhering to both the front and back surfaces is removed by adhesion, and then sent to the continuous exposure unit. And the dust adhering to the adhesive roller 15 is periodically removed by a cleaning means (not shown) (for example, an adhesive roller whose surface can be peeled once every round) to prevent the dust from adhering to the precursor F again. . Other methods may be used as long as dust attached to the precursor F can be removed. For example, dust may be sucked and removed by a suction nozzle.

本発明の装置の連続露光部Eは、図2に示される、原稿円筒体1、露光源2、遮光部材3、密着ローラ23、搬送ローラ9a、および9b、クリーニングローラ16、密着ローラ23からなっている。そして、図1に示されるように、原稿円筒体1は、透明円筒基材4の外周面にマスクパターンMが形成された構造になっている。透明円筒基材4へのマスクパターンMの形成方法は種々あるが、例えば、透明円筒基材4の外周面にカーボンブラックを塗布し、不要部分をレーザーアブレーション装置によって除去してマスクパターンMを形成させる方法が一般的に用いられる。また、原稿円筒体1の外周面には本発明の特徴である帯電防止層70が形成されている。帯電防止層70の形成方法としては、例えばディップコーティング、スライドコーティング、カーテンコーティング、バーコーティング、エアーナイフコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティングなどの塗布方式が好適に用いられる。   The continuous exposure unit E of the apparatus of the present invention comprises a document cylinder 1, an exposure source 2, a light shielding member 3, a contact roller 23, transport rollers 9a and 9b, a cleaning roller 16, and a contact roller 23 shown in FIG. ing. As shown in FIG. 1, the original cylinder 1 has a structure in which a mask pattern M is formed on the outer peripheral surface of the transparent cylindrical substrate 4. There are various methods for forming the mask pattern M on the transparent cylindrical base material 4. For example, carbon black is applied to the outer peripheral surface of the transparent cylindrical base material 4 and unnecessary portions are removed by a laser ablation device to form the mask pattern M. Is generally used. Further, an antistatic layer 70 which is a feature of the present invention is formed on the outer peripheral surface of the original cylinder 1. As a method for forming the antistatic layer 70, for example, application methods such as dip coating, slide coating, curtain coating, bar coating, air knife coating, roll coating, gravure coating, and spray coating are preferably used.

図1に示すように、原稿円筒体1の内部には露光源2、および遮光部材3が配置されている。露光源2は、原稿円筒体1の軸方向に配置された線状の光源で原稿円筒体1の内側から原稿円筒体1の半径方向に光を照射する。露光源2としては、例えば前駆体の軸方向に線状に配置された高圧水銀灯、無電極電源、白色発光ダイオード等、および蛍光灯が用いられる。図示しないが、露光源2からの照射光に、露光に不要な波長の光が含まれている場合、露光源2と原稿円筒体1の間に、露光に不要な波長の光をカットする光学フィルタを用いてもよい。露光源2には、図示しない露光量調整手段(例えば、露光源として蛍光灯を用いた場合、インバータ回路による調光手段)が接続されており、露光量を増減させることができる。   As shown in FIG. 1, an exposure source 2 and a light shielding member 3 are disposed inside the original cylindrical body 1. The exposure source 2 irradiates light from the inside of the original cylinder 1 in the radial direction of the original cylinder 1 with a linear light source arranged in the axial direction of the original cylinder 1. As the exposure source 2, for example, a high-pressure mercury lamp, an electrodeless power source, a white light-emitting diode, and the like, which are linearly arranged in the axial direction of the precursor, are used. Although not shown, when the light emitted from the exposure source 2 includes light having a wavelength that is not necessary for exposure, an optical that cuts light having a wavelength that is not necessary for exposure between the exposure source 2 and the original cylinder 1. A filter may be used. The exposure source 2 is connected to an exposure amount adjusting unit (not shown) (for example, a dimming unit using an inverter circuit when a fluorescent lamp is used as the exposure source), so that the exposure amount can be increased or decreased.

遮光部材3は、露光源2からの照射光を、原稿円筒体1の側面の一部分のみに限定させるために、露光源2を覆っている。遮光部材3の内側は、露光源2の光を効率よく利用するために反射板になっている。従って遮光部材3としては、光沢のある鉄板、アルミ板等の外面につや消し黒色塗装した物が好適に用いられるが、上記遮光性、反射性、および露光源2の照射光による加熱に耐える耐熱性を有していれば他の部材を用いてもよい。遮光部材3には、ヒンジ21を介して可動板22が取り付けられており、ヒンジ21を回転中心として可動板22を回転移動させることにより光が照射されている原稿円筒体1の側面(図1においては範囲指定され露光領域と記載のある部分)の面積を増減させ露光量を調整することができる。   The light shielding member 3 covers the exposure source 2 in order to limit the irradiation light from the exposure source 2 to only a part of the side surface of the original cylindrical body 1. The inside of the light shielding member 3 is a reflecting plate in order to efficiently use the light from the exposure source 2. Accordingly, the light shielding member 3 is preferably made of a glossy iron plate, aluminum plate or the like with a matte black coating on its outer surface. However, the light shielding property, reflectivity, and heat resistance that can withstand the heating of the exposure source 2 by irradiation light. If it has, you may use another member. A movable plate 22 is attached to the light shielding member 3 via a hinge 21, and the side surface of the original cylindrical body 1 irradiated with light by rotating the movable plate 22 about the hinge 21 as a rotation center (FIG. 1). , The exposure amount can be adjusted by increasing / decreasing the area of the area designated as the exposure region).

原稿円筒体1は、搬送ローラ9a、および9bの上に回転自在に配置されている。そして、原稿円筒体1の外周には密着ローラ23が配置されている。前駆体Fは、搬送ローラ9aの下側を通って、原稿円筒体1の外周に巻き付けられ、搬送ローラ9bの下側を通って巻き取り部へ搬送される。そして、前駆体Fにかけられる張力により原稿円筒体1が、搬送ローラ9a、および9bに押し付けられ、前駆体Fの動きに合わせて原稿円筒体1が回転し、光が照射されている原稿円筒体1の側面で、前駆体Fに、マスクパターンMの像様に連続的に露光される。密着ローラ23は、原稿円筒体1に前駆体Fを密着させるためのローラであり、前駆体Fを原稿円筒体1と密着ローラ23で狭持して前駆体Fを搬送することにより、前駆体Fと原稿円筒体1の密着性を向上させている。前駆体Fと原稿円筒体1の密着性を向上させるためには、密着ローラ23を複数設ける方がよい。原稿円筒体1の基材である透明円筒基材4としては、所望の波長の光が透過できればよく、例えばアクリル樹脂、ガラス等が用いられる。搬送ローラ9a、および9b、密着ローラ23は、前駆体Fが滑らず、また前駆体Fを傷つけない程度の面質であればよく、例えばニトリルゴム(NBR)製のローラ等が好適に用いられる。   The original cylinder 1 is rotatably disposed on the transport rollers 9a and 9b. A contact roller 23 is disposed on the outer periphery of the original cylinder 1. The precursor F is wound around the outer periphery of the original cylindrical body 1 through the lower side of the transport roller 9a, and is transported to the winding unit through the lower side of the transport roller 9b. Then, the original cylinder 1 is pressed against the conveying rollers 9a and 9b by the tension applied to the precursor F, and the original cylinder 1 is rotated in accordance with the movement of the precursor F, and is irradiated with light. On one side, the precursor F is continuously exposed as an image of the mask pattern M. The contact roller 23 is a roller for bringing the precursor F into close contact with the original cylinder 1, and the precursor F is conveyed by holding the precursor F between the original cylinder 1 and the contact roller 23. The adhesion between F and the original cylinder 1 is improved. In order to improve the adhesion between the precursor F and the original cylinder 1, it is preferable to provide a plurality of adhesion rollers 23. The transparent cylindrical base material 4 that is the base material of the original cylindrical body 1 is only required to transmit light having a desired wavelength. For example, acrylic resin, glass, or the like is used. The transport rollers 9a and 9b and the contact roller 23 may have any surface quality that does not cause the precursor F to slip or damage the precursor F. For example, a roller made of nitrile rubber (NBR) is preferably used. .

前述の通り、原稿円筒体1の外周面には本発明の特徴である帯電防止層70が形成されている。不導体である原稿円筒体1と前駆体Fが接触した場合、接触帯電により、原稿円筒体1の表面が帯電し、塵、埃等を静電吸着してしまうが、原稿円筒体1の外周面に導電性のある帯電防止層70を形成することにより、接触帯電が発生しなくなり、塵、埃の静電吸着を防止できるようになる。これにより、塵、埃の像が露光されず、プラズマディスプレイ等の電磁波シールドフィルム用マスクパターンに用いられる様な数十マイクロメーター程度の細線パターンについても正確に像様に露光できる。従って、露光後、現像処理して形成された細線パターンは電磁波シールドフィルムの全面に渡って断線なく、高い電磁波シールド特性を有する電磁波シールドフィルムが得られる。   As described above, the antistatic layer 70, which is a feature of the present invention, is formed on the outer peripheral surface of the original cylindrical body 1. When the non-conductor original cylinder 1 and the precursor F are in contact with each other, the surface of the original cylinder 1 is charged by contact charging and electrostatically adsorbs dust, dust, etc. By forming a conductive antistatic layer 70 on the surface, contact charging does not occur, and electrostatic adsorption of dust and dirt can be prevented. As a result, dust and dust images are not exposed, and fine line patterns of about several tens of micrometers that are used for mask patterns for electromagnetic wave shielding films such as plasma displays can be accurately exposed imagewise. Therefore, the fine line pattern formed by developing after exposure is not broken across the entire surface of the electromagnetic wave shielding film, and an electromagnetic wave shielding film having high electromagnetic wave shielding characteristics can be obtained.

帯電防止層70のJIS−K−6911に準拠した表面固有抵抗は、1×1012Ω/□以下、好ましくは1×1010Ω/□以下である。1×1012Ω/□以下では、塵、埃付着防止効果が得られ、また、1×1010Ω/□ 以下とすることで、前駆体Fと原稿円筒体1との接触帯電防止効果が得られ、連続露光中に塵、埃が付着するのを防ぎ、より好ましい。 The surface specific resistance of the antistatic layer 70 according to JIS-K-6911 is 1 × 10 12 Ω / □ or less, preferably 1 × 10 10 Ω / □ or less. If it is 1 × 10 12 Ω / □ or less, dust and dust adhesion preventing effect can be obtained, and if it is 1 × 10 10 Ω / □ or less, contact antistatic effect between the precursor F and the original cylinder 1 can be obtained. This is preferable because it prevents dust and dust from adhering during continuous exposure.

原稿円筒体1の外周面は、露光処理により、繰り返し前駆体Fと接触をしているので、徐々に摩耗し、透明度の低下、マスクパターンの摩滅が生じ、最終的には所望のマスクパターンが得られなくなってしまう。これを防止するために、帯電防止層70には、上述の帯電防止性に加えて、透明性、及び耐擦傷性が求められる。このような帯電防止層としては、例えば、透明架橋硬化樹脂上に導電性高分子が積層化された層、金属微粒子と透明架橋硬化樹脂を含有する層等が有用である。   Since the outer peripheral surface of the original cylindrical body 1 is repeatedly in contact with the precursor F by the exposure process, it gradually wears, resulting in a decrease in transparency and abrasion of the mask pattern, and finally a desired mask pattern is formed. It can no longer be obtained. In order to prevent this, the antistatic layer 70 is required to have transparency and scratch resistance in addition to the antistatic properties described above. As such an antistatic layer, for example, a layer in which a conductive polymer is laminated on a transparent crosslinked cured resin, a layer containing metal fine particles and a transparent crosslinked cured resin, and the like are useful.

帯電防止層70の透明性については、JIS−K7105に準拠したヘイズが、2%以下が好ましく、そして、JIS−K7105に準拠した全光線透過率が90%以上が好ましい。   Regarding the transparency of the antistatic layer 70, the haze according to JIS-K7105 is preferably 2% or less, and the total light transmittance according to JIS-K7105 is preferably 90% or more.

透明架橋硬化樹脂上に導電性高分子が積層化された層に用いられる導電性高分子としては、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンサルファイド、ポリ(1, 6−ヘプタジイン)、ポリビフェニレン(ポリパラフェニレン)、ポリパラフェニレンスルフィド、ポリフェニルアセチレン、またはこれらの誘導体などがあり、好ましくはポリチオフェン導電性有機高分子が有用に利用できる。導電性高分子層の厚さとしては、0より大きく5μm程度以下、好ましくは0.01〜1μm程度である。   Examples of the conductive polymer used in the layer in which the conductive polymer is laminated on the transparent cross-linked cured resin include polyacetylene, polyaniline, polythiophene, polypyrrole, polyphenylene sulfide, poly (1,6-heptadiyne), polybiphenylene (poly Paraphenylene), polyparaphenylene sulfide, polyphenylacetylene, or derivatives thereof. Preferably, a polythiophene conductive organic polymer is useful. The thickness of the conductive polymer layer is larger than 0 and not more than about 5 μm, preferably about 0.01 to 1 μm.

また、透明架橋性樹脂としては、室温での化学反応、熱、電離放射線等で架橋硬化する樹脂組成物を硬化させた層が適用でき、好ましくは、電離放射線硬化樹脂であり、透明性が優れる点でアクリル系樹脂を用いることがさらに好ましい。アクリル系樹脂としては、ウレタンアクリレート系樹脂、ポリエステルアクリレート系樹脂及びエポキシアクリレート系樹脂等を用いることができる。透明架橋硬化樹脂の厚みは、1〜20μm程度が適当である。   Further, as the transparent crosslinkable resin, a layer obtained by curing a resin composition that is crosslinked and cured by a chemical reaction at room temperature, heat, ionizing radiation, or the like can be applied. Preferably, the resin is an ionizing radiation curable resin and has excellent transparency. In view of this, it is more preferable to use an acrylic resin. As the acrylic resin, urethane acrylate resin, polyester acrylate resin, epoxy acrylate resin, or the like can be used. The thickness of the transparent cross-linked cured resin is suitably about 1 to 20 μm.

金属微粒子と透明架橋硬化樹脂を含有する層に用いられる金属微粒子としては、アンチモンやアルミニウムなどをドープした、酸化錫、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化インジウム等が有用であるが、比較的少量の添加で良好な帯電防止性が得られ、かつ電離放射線硬化型樹脂と混練した塗料を塗工して得られる層の透明性が良好である理由から、アンチモンをドープした酸化錫または酸化亜鉛を用いる事が好ましい。金属酸化物微粒子の平均一次粒子径は、5〜200nmの範囲が好ましく、より好ましくは10〜100nmの範囲である。   Tin oxide, zinc oxide, titanium oxide, indium oxide, etc. doped with antimony, aluminum, etc. are useful as metal fine particles used in the layer containing metal fine particles and transparent cross-linked cured resin, but a relatively small amount is added Antimony-doped tin oxide or zinc oxide should be used because it provides good antistatic properties and the transparency of the layer obtained by applying a paint kneaded with ionizing radiation curable resin is good. Is preferred. The average primary particle diameter of the metal oxide fine particles is preferably in the range of 5 to 200 nm, more preferably in the range of 10 to 100 nm.

また、透明架橋性樹脂としては、透明架橋硬化樹脂上に導電性高分子が積層化された層に用いられる透明架橋硬化樹脂と同様にアクリル系樹脂を用いることが好ましい。   As the transparent crosslinkable resin, it is preferable to use an acrylic resin in the same manner as the transparent crosslinkable resin used for the layer in which the conductive polymer is laminated on the transparent crosslinkable resin.

図1に示すように、原稿円筒体1の外周における前駆体Fが巻かれていない部分には、クリーニングローラ16が接触配置されており、原稿円筒体1、およびマスクパターンMに付着した塵を除去している。そして、前述の粘着性ローラ15に用いられている物と同様のクリーニング機構が付いている。   As shown in FIG. 1, a cleaning roller 16 is disposed in contact with a portion of the outer periphery of the original cylindrical body 1 where the precursor F is not wound, and dust attached to the original cylindrical body 1 and the mask pattern M is removed. It has been removed. And the cleaning mechanism similar to the thing used for the above-mentioned adhesive roller 15 is attached.

図2に示すように、搬送ローラ9aの上流側にはニップローラ対18a、そして搬送ローラ9bの下流側にはニップローラ対18bが配置されており、ニップローラ対18a、およびニップローラ対18bによって前駆体Fが挟時されることにより、前駆体Fがニップローラ対18a,およびニップローラ対18bのロール幅方向にずれて蛇行するのを防止している。ニップローラ対18bの一方のローラには、駆動モータ19が接続されており、駆動モータ19を駆動することにより前駆体Fが搬送される。   As shown in FIG. 2, a nip roller pair 18a is disposed on the upstream side of the conveying roller 9a, and a nip roller pair 18b is disposed on the downstream side of the conveying roller 9b. The precursor F is formed by the nip roller pair 18a and the nip roller pair 18b. By being pinched, the precursor F is prevented from meandering while being displaced in the roll width direction of the nip roller pair 18a and the nip roller pair 18b. A drive motor 19 is connected to one roller of the nip roller pair 18b, and the precursor F is conveyed by driving the drive motor 19.

また、本発明の連続露光装置は、無塵箱(クリーンボックス)17に覆われているのが好ましい。無塵箱17には、図示しない送風機とHEPA(High Efficiency Particulate Air)フィルタが取り付けられており、清浄な空気が送り込まれて無塵箱17内部は陽圧に保たれており、外部から塵が混入するのを防いでいる。また、無塵箱17の両側面には、ロール状の前駆体12と巻き取りロール62を出し入れするためのエアーカーテン(図示せず)が設けられている。   The continuous exposure apparatus of the present invention is preferably covered with a dust-free box (clean box) 17. The dust-free box 17 is provided with a blower (not shown) and a HEPA (High Efficiency Particulate Air) filter, and clean air is fed into the dust-free box 17 so that the inside of the dust-free box 17 is kept at a positive pressure, and dust is not collected from the outside. Prevents contamination. In addition, air curtains (not shown) for taking in and out the roll-shaped precursor 12 and the take-up roll 62 are provided on both side surfaces of the dust-free box 17.

露光処理された前駆体Fは、巻き取り軸61でロール状に巻き取られる。巻き取り軸61には、該軸を駆動回転できる張力制御手段63(例えば、トルクモータ)が取り付けられている。張力制御手段63は、前駆体Fの蛇行を抑制するために、前駆体Fに高い張力を加えており、40N/mから150N/mの範囲が適当である。符号62は、導電性パターンが形成された基材がロール状に巻き取られたものである。   The exposed precursor F is wound up in a roll shape by a winding shaft 61. A tension control means 63 (for example, a torque motor) capable of driving and rotating the shaft is attached to the winding shaft 61. The tension control means 63 applies a high tension to the precursor F in order to suppress meandering of the precursor F, and a range of 40 N / m to 150 N / m is appropriate. Reference numeral 62 is a substrate in which a conductive pattern is formed and wound into a roll.

本発明の装置に好適に用いられる前駆体Fとしては、例えば、前述の特公昭42−23745号公報、特開2003−77350号公報、WO2004/007810号パンフレット等に記載されるハロゲン化銀感光材料を利用する前駆体、特開平5−29395号公報、特開平9−172041号公報等に記載される基材上に金属薄膜層と光架橋硬化樹脂層とをこの順に有する前駆体等が挙げられる。   Examples of the precursor F suitably used in the apparatus of the present invention include, for example, the silver halide photosensitive materials described in the above-mentioned Japanese Patent Publication No. 42-23745, JP-A 2003-77350, WO 2004/007810, etc. And precursors having a metal thin film layer and a photocrosslinking cured resin layer in this order on a substrate described in JP-A-5-29395, JP-A-9-172041, and the like. .

以下、実施例及び比較例により、本発明を更に詳細に説明するが、これに限定されるも
のではない。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention further in detail, it is not limited to this.

(実施例1)
基材として、厚み175μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、このフィルムに、塩化ビニリデンからなる下引き層を塗布し、その上にゼラチンが50mg/mのベース層を塗布し乾燥した。次に、下記のようにして作製した硫化パラジウムからなる物理現像核層を塗布し、乾燥した。
(Example 1)
A polyethylene terephthalate film having a thickness of 175 μm was used as a substrate, and an undercoat layer made of vinylidene chloride was applied to the film, and a base layer having a gelatin content of 50 mg / m 2 was coated thereon and dried. Next, a physical development nucleus layer made of palladium sulfide prepared as described below was applied and dried.

<硫化パラジウムゾルの調製>
A液 塩化パラジウム 5g
塩酸 40ml
蒸留水 1000ml
B液 硫化ソーダ 8.6g
蒸留水 1000ml
A液とB液を撹拌しながら混合し、30分後にイオン交換樹脂の充填されたカラムに通し硫化パラジウムゾルを得た。
<Preparation of palladium sulfide sol>
Liquid A Palladium chloride 5g
Hydrochloric acid 40ml
1000ml distilled water
B liquid sodium sulfide 8.6g
1000ml distilled water
Liquid A and liquid B were mixed with stirring, and 30 minutes later, the solution was passed through a column filled with an ion exchange resin to obtain palladium sulfide sol.

<物理現像核層塗液の調製>
前記硫化パラジウムゾル 50ml
1質量%のゼラチン溶液 20ml
界面活性剤 0.2g
グルタルアルデヒド 300mg
ハレーション防止染料(下記化1) 5g
水を加えて全量を2000mlとする。
この物理現像核層塗液を硫化パラジウムが固形分で0.4mg/mになるように、ベース層の上に塗布し、乾燥した。
<Preparation of physical development nucleus layer coating solution>
50 ml of palladium sulfide sol
20% 1% gelatin solution
Surfactant 0.2g
Glutaraldehyde 300mg
Antihalation dye (following formula 1) 5g
Add water to make a total volume of 2000 ml.
This physical development nucleus layer coating solution was applied on the base layer so that palladium sulfide was 0.4 mg / m 2 in solid content, and dried.

Figure 2008116514
Figure 2008116514

続いて、ハロゲン化銀乳剤層を上記物理現像核層の上に塗布した。ハロゲン化銀乳剤は、写真用ハロゲン化銀乳剤の一般的なダブルジェット混合法で製造した。このハロゲン化銀乳剤は、塩化銀90モル%と臭化銀10モル%で、平均粒径が0.2μmになるように調製した。ハロゲン化銀乳剤層の銀(硝酸銀)/ゼラチンの質量比は2.5である。ハロゲン化銀乳剤層には、界面活性剤を0.2g/m、及びイエロー蛍光灯下での取り扱いを可能とするために上記化1の染料、下記化2、3の染料をそれぞれ50mg/m含有する。このハロゲン化銀乳剤層をハロゲン化銀量(硝酸銀に換算)が4g/mになるように塗布し、乾燥して、700mm幅、300m巻きのロール状前駆体を作製した。 Subsequently, a silver halide emulsion layer was coated on the physical development nucleus layer. The silver halide emulsion was prepared by a general double jet mixing method for photographic silver halide emulsions. This silver halide emulsion was prepared such that 90 mol% of silver chloride and 10 mol% of silver bromide had an average particle size of 0.2 μm. The silver (silver nitrate) / gelatin mass ratio of the silver halide emulsion layer is 2.5. In the silver halide emulsion layer, the surfactant is 0.2 g / m 2 , and the dye of the above-mentioned formula 1 and the dyes of the following formulas 2 and 3 are each 50 mg / m 2 to enable handling under a yellow fluorescent lamp. Contains m 2 . This silver halide emulsion layer was applied so that the amount of silver halide (converted to silver nitrate) was 4 g / m 2 and dried to prepare a roll precursor having a width of 700 mm and a winding of 300 m.

Figure 2008116514
Figure 2008116514

Figure 2008116514
Figure 2008116514

メッシュパターン(メッシュ間隔300μm、メッシュ線幅25μmの格子パターン)が描画された原稿円筒体の外周面に、透明架橋硬化樹脂層を形成させる光重合開始剤含有アクリル系樹脂液として、EXF−01J(大日精化工業(株)製)を用い、硬化後の厚さが10.0μmになるように塗布し、高圧水銀燈(ウシオ電機社製)120W/cmを1灯用いて、走行速度20m/minで紫外線を照射して不完全架橋させて、透明架橋硬化樹脂層を形成した。次に、前述の透明架橋硬化樹脂層上に、ポリピロール系導電性有機高分子として、PPY−12( 丸菱油化工業(株)製)を、乾燥後の厚さが0.5μmになるように塗布し、乾燥して、導電性高分子層を形成した。最後に、前述の透明架橋硬化樹脂層、導電性高分子層が形成された原稿円筒体の外周面に、高圧水銀燈(ウシオ電機(株)製)120W/cmを1灯用いて、走行速度20m/minで紫外線を照射して前述の透明架橋硬化樹脂層を完全架橋硬化させて原稿円筒体M1を得た。   EXF-01J (a photopolymerization initiator-containing acrylic resin liquid for forming a transparent cross-linked cured resin layer on the outer peripheral surface of the original cylinder on which a mesh pattern (mesh interval of 300 μm and mesh line width of 25 μm) is drawn is formed. Using Daiichi Seika Kogyo Co., Ltd.) so that the thickness after curing is 10.0 μm, using 120 W / cm high-pressure mercury lamp (made by Ushio Electric Co., Ltd.) and a running speed of 20 m / min. Then, UV irradiation was performed to incompletely cross-link to form a transparent cross-linked cured resin layer. Next, PPY-12 (manufactured by Maruhishi Oil Chemical Co., Ltd.) is used as the polypyrrole-based conductive organic polymer on the transparent crosslinked cured resin layer so that the thickness after drying becomes 0.5 μm. And dried to form a conductive polymer layer. Finally, a high-pressure mercury lamp (USHIO INC.) 120 W / cm is used on the outer peripheral surface of the original cylinder on which the above-mentioned transparent cross-linked cured resin layer and conductive polymer layer are formed, and a running speed of 20 m is used. The transparent crosslinked cured resin layer described above was completely crosslinked and cured by irradiating ultraviolet rays at / min to obtain a document cylinder M1.

図2に示す本発明の連続露光装置に、原稿円筒体M1を取り付け、本発明の連続露光装置によって、上記ロール状前駆体(700mm幅、300m巻き)を50本露光処理し、その後、下記のアルカリ液(銀錯塩拡散転写用現像液)中に15℃で60秒間浸漬し、続いてハロゲン化銀乳剤層を水洗除去して、細線幅25μmで格子間隔300μmの格子パターンの銀薄膜を形成させた。   The original cylindrical body M1 is attached to the continuous exposure apparatus of the present invention shown in FIG. 2, and 50 roll precursors (700 mm width, 300 m winding) are exposed by the continuous exposure apparatus of the present invention. Immerse in alkaline solution (silver complex diffusion transfer developer) at 15 ° C for 60 seconds, and then wash and remove the silver halide emulsion layer to form a silver thin film with a lattice pattern with a fine line width of 25 µm and a lattice spacing of 300 µm. It was.

<アルカリ液>
水酸化ナトリウム 20g
ハイドロキノン 20g
1−フェニル−3−ピラゾリドン 2g
亜硫酸ナトリウム 30g
N−メチルエタノールアミン 10g
全量を水で1000mlに調整する。pH13に調整。その後、現像、不要成分の除去、乾燥の各処理を行い、透明導電性フィルムを得た。
<Alkaline solution>
Sodium hydroxide 20g
Hydroquinone 20g
1-phenyl-3-pyrazolidone 2g
Sodium sulfite 30g
N-methylethanolamine 10g
Adjust the total volume to 1000 ml with water. Adjust to pH 13. Thereafter, development, removal of unnecessary components, and drying were performed to obtain a transparent conductive film.

(実施例2)
メッシュパターン(メッシュ間隔300μm、メッシュ線幅25μmの格子パターン)が描画された原稿円筒体の外周面に、透明架橋硬化樹脂層を形成させる光重合開始剤含有アクリル系樹脂液として、EXF−01J(大日精化工業(株)製)を厚さが10.0μmになるように塗布し、硬化装置として高圧水銀燈(ウシオ電機(株)製)120W/cmを1灯用いて、走行速度20m/minで紫外線を照射して不完全架橋させて、透明架橋硬化樹脂層を形成した。次に、前述の透明架橋硬化樹脂層上に、ポリチオフェン導電性有機高分子として、デナトロン(ナガセケムテックス(株)製)を、乾燥後の厚さが0.5μmになるように塗布し、乾燥して、導電性高分子層を形成した。最後に、前述の透明架橋硬化樹脂層、導電性高分子層が形成された原稿円筒体の外周面に、高圧水銀燈(ウシオ電機(株)製)120W/cmを1灯用いて、走行速度20m/minで紫外線を照射して前述の透明架橋硬化樹脂層を完全架橋硬化させて原稿円筒体M2を得た。そして、図2に示す本発明の連続露光装置に、原稿円筒体M2を取り付け、実施例1と同様の前駆体を用い、実施例1と同様の処理を行った。
(Example 2)
EXF-01J (a photopolymerization initiator-containing acrylic resin liquid for forming a transparent cross-linked cured resin layer on the outer peripheral surface of the original cylinder on which a mesh pattern (mesh interval of 300 μm and mesh line width of 25 μm) is drawn is formed. Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.) was applied to a thickness of 10.0 μm, and a high-pressure mercury lamp (Ushio Electric Co., Ltd.) 120 W / cm was used as a curing device, and a running speed of 20 m / min. Then, UV irradiation was performed to incompletely cross-link to form a transparent cross-linked cured resin layer. Next, Denatron (manufactured by Nagase ChemteX Corp.) is applied as a polythiophene conductive organic polymer on the transparent crosslinked cured resin layer described above so that the thickness after drying is 0.5 μm and dried. Thus, a conductive polymer layer was formed. Finally, a high-pressure mercury lamp (USHIO INC.) 120 W / cm is used on the outer peripheral surface of the original cylinder on which the above-mentioned transparent cross-linked cured resin layer and conductive polymer layer are formed, and a running speed of 20 m is used. The above-mentioned transparent cross-linked cured resin layer was completely cross-linked and cured by irradiating ultraviolet rays at / min to obtain a document cylinder M2. The original cylindrical body M2 was attached to the continuous exposure apparatus of the present invention shown in FIG. 2, and the same processing as in Example 1 was performed using the same precursor as in Example 1.

(実施例3)
透明架橋硬化樹脂層を形成させる光重合開始剤含有アクリル系樹脂液として、EXF−01J(大日精化工業(株)製)を、アルミニウムをドープした酸化亜鉛金属微粒子としてPazet AB(ハクスイテック(株)製、平均一次粒子径30nm)を用い、EXF−01Jに、Pazet ABを40質量%添加した樹脂液を作製し、メッシュパターン(メッシュ間隔300μm、メッシュ線幅25μmの格子パターン)が描画された原稿円筒体の外周面に、前述の樹脂液を硬化後10.0μmになるように塗布し、高圧水銀燈( ウシオ電機(株)製)120W/cmを2灯用いて、走行速度20m/minで紫外線を照射して完全架橋させて、金属微粒子が混練された透明架橋硬化樹脂層が外周面に形成された原稿円筒体M3を得た。そして、図2に示す本発明の連続露光装置に、原稿円筒体M3を取り付け、実施例1と同様の前駆体を用い、実施例1と同様の処理を行った。
(Example 3)
EXF-01J (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.) is used as a photopolymerization initiator-containing acrylic resin liquid for forming a transparent cross-linked cured resin layer, and Pazet AB (Huxitec Co., Ltd.) is used as zinc oxide metal fine particles doped with aluminum. Manufactured by using EXF-01J and adding 40% by mass of Pazet AB, and a mesh pattern (lattice pattern with a mesh interval of 300 μm and a mesh line width of 25 μm) is drawn using EXF-01J. The above-mentioned resin liquid is applied to the outer peripheral surface of the cylindrical body so as to be 10.0 μm after curing, and ultraviolet rays are used at a traveling speed of 20 m / min using two 120 W / cm high-pressure mercury lamps (manufactured by Ushio Electric Co., Ltd.). To obtain a document cylinder M3 having a transparent crosslinked cured resin layer in which metal fine particles are kneaded formed on the outer peripheral surface. The original cylindrical body M3 was attached to the continuous exposure apparatus of the present invention shown in FIG. 2, and the same processing as in Example 1 was performed using the same precursor as in Example 1.

(実施例4)
透明架橋硬化樹脂層を形成させる光重合開始剤含有アクリル系樹脂液として、EXF−01J(大日精化工業(株)製)を、アンチモンをドープした酸化錫金属微粒子としてT−1((株)ジェムコ製、平均一次粒子径20nm)を用い、EXF−01JにT−1を30質量%添加した樹脂液を作製し、メッシュパターン(メッシュ間隔300μm、メッシュ線幅25μmの格子パターン)が描画された原稿円筒体Mの外周面に、前述の樹脂液を硬化後10.0μmになるように塗布し、高圧水銀燈(ウシオ電機(株)製)120W/cmを2灯用いて、走行速度20m/minで紫外線を照射して完全架橋させて、金属微粒子が混練された透明架橋硬化樹脂層が外周面に形成された原稿円筒体M4を得た。そして、図2に示す本発明の連続露光装置に、原稿円筒体M4を取り付け、実施例1と同様の前駆体を用い、実施例1と同様の処理を行った。
Example 4
EXF-01J (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.) is used as a photopolymerization initiator-containing acrylic resin liquid for forming a transparent crosslinked cured resin layer, and T-1 (Co., Ltd.) is used as tin oxide metal fine particles doped with antimony. A resin solution in which 30% by mass of T-1 was added to EXF-01J was prepared using a Gemco product (average primary particle size of 20 nm), and a mesh pattern (lattice pattern having a mesh interval of 300 μm and a mesh line width of 25 μm) was drawn. The above-mentioned resin liquid is applied to the outer peripheral surface of the cylindrical body M so as to have a thickness of 10.0 μm, and a high-pressure mercury lamp (made by Ushio Electric Co., Ltd.) 120 W / cm is used, and a traveling speed is 20 m / min. Were subjected to UV irradiation to completely crosslink to obtain an original cylinder M4 having a transparent cross-linked cured resin layer kneaded with metal fine particles formed on the outer peripheral surface. The original cylindrical body M4 was attached to the continuous exposure apparatus of the present invention shown in FIG. 2, and the same processing as in Example 1 was performed using the same precursor as in Example 1.

(比較例1)
図2に示す本発明の連続露光装置に、メッシュパターン(メッシュ間隔300μm、メッシュ線幅25μmの格子パターン)が描画された原稿円筒体M5を取り付け、実施例1と同様の前駆体を用い、実施例1と同様の処理を行った。
(Comparative Example 1)
The original cylindrical body M5 on which a mesh pattern (mesh pattern having a mesh interval of 300 μm and a mesh line width of 25 μm) is attached is attached to the continuous exposure apparatus of the present invention shown in FIG. 2, and the same precursor as in Example 1 is used. The same treatment as in Example 1 was performed.

(比較例2)
メッシュパターン(メッシュ間隔300μm、メッシュ線幅25μmの格子パターン)が描画された原稿円筒体Mの外周面に、透明架橋硬化樹脂層を形成させる光重合開始剤含有アクリル系樹脂液として、E X F−01J(大日精化工業(株)製)を用い、硬化後の厚さが10.0μmになるように塗布し、高圧水銀燈(ウシオ電機(株)製)120W/cmを2灯用いて、走行速度20m/minで紫外線を照射して完全架橋させて、原稿円筒体M6を得た。そして、図2に示す本発明の連続露光装置に、原稿円筒体M6を取り付け、実施例1と同様の前駆体を用い、実施例1と同様の処理を行った。
(Comparative Example 2)
As a photopolymerization initiator-containing acrylic resin liquid for forming a transparent cross-linked cured resin layer on the outer peripheral surface of the original cylindrical body M on which a mesh pattern (mesh interval of 300 μm mesh and mesh line width of 25 μm) is drawn, EX F -01J (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.) was applied so that the thickness after curing was 10.0 μm, and two high-pressure mercury lamps (made by Ushio Electric Co., Ltd.) 120 W / cm were used, The original cylindrical body M6 was obtained by irradiating with ultraviolet rays at a traveling speed of 20 m / min for complete crosslinking. The original cylindrical body M6 was attached to the continuous exposure apparatus of the present invention shown in FIG. 2, and the same processing as in Example 1 was performed using the same precursor as in Example 1.

評価は、以下のようにして行った。
原稿円筒体M1〜M6に関しては、前記ロール状前駆体を50本露光処理した後の原稿の線幅をデジタルマイクロスコープ((株)ハイロックス製、KH−3000)で撮影し、細線の幅を求め画像の擦過性を評価した。また、実施例1〜4、及び比較例1、2で作製した導電性パターンフィルムについて、フィルム欠点検出装置(竹中システム機器(株)製、TP−9854Cにより、直径100μm以上の異物の検出を行った。1本のロールに、前述の異物が10個以上混入していたロールを、異物混入ロールとしてカウントした。
Evaluation was performed as follows.
For the original cylinders M1 to M6, the line width of the original after exposure processing of 50 roll-shaped precursors was taken with a digital microscope (KH-3000, manufactured by Hilox Co., Ltd.), and the width of the fine line was reduced. The obtained images were scratched and evaluated. Moreover, about the electroconductive pattern film produced in Examples 1-4 and Comparative Examples 1 and 2, the foreign substance with a diameter of 100 micrometers or more was detected with a film defect detection apparatus (Takenaka System Equipment Co., Ltd. product, TP-9854C). A roll in which 10 or more of the aforementioned foreign matters were mixed in one roll was counted as a foreign matter mixed roll.

そして、実施例1〜4で作製した導電性パターンフィルムについては、処理開始時、及び終了時に得られた導電性パターンフィルムの線幅をデジタルマイクロスコープ((株)ハイロックス製、KH−3000)で撮影し、細線の幅を求めた。以上の結果を表1に示す。   And about the electroconductive pattern film produced in Examples 1-4, the line width of the electroconductive pattern film obtained at the time of a process start and the completion | finish is a digital microscope (product made from a Hilox Co., Ltd., KH-3000). The width of the thin line was obtained. The results are shown in Table 1.

Figure 2008116514
Figure 2008116514

表1に示すように、比較例である原稿円筒体M5は、メッシュパターンが全て摩滅した。また、原稿円筒体の外周面に透明架橋硬化樹脂層のみを形成させた原稿円筒体M6は、異物の混入が多く、比較例2で得られた導電性パターンフィルムには、異物が多くみられた。また、50本処理した後の原稿円筒体M6は、異物の混入により表面に傷が入り、前駆体に照射される光が散乱することにより、導電性パターンフィルムの細線が細くなった。   As shown in Table 1, all the mesh patterns of the original cylinder M5 as a comparative example were worn away. In addition, the original cylinder M6 in which only the transparent cross-linking cured resin layer is formed on the outer peripheral surface of the original cylinder has a large amount of foreign matters, and the conductive pattern film obtained in Comparative Example 2 has a large amount of foreign matters. It was. Further, the surface of the original cylindrical body M6 after the 50 processing was scratched due to the mixing of foreign matter, and the light irradiated to the precursor was scattered, so that the fine line of the conductive pattern film became thin.

これに対し、本発明の連続露光装置を用いた実施例1〜4で得られた導電性パターンフィルムは、異物の混入が軽減され、また、異物混入による原稿円筒体表面の擦傷が少なく、比較例と比べてスタート時からの線幅の減少が少ない導電性パターンフィルムが得られた。   On the other hand, the conductive pattern films obtained in Examples 1 to 4 using the continuous exposure apparatus of the present invention are less contaminated with foreign matter and less scratched on the surface of the original cylinder due to foreign matter. A conductive pattern film with less reduction in line width from the start compared to the example was obtained.

本発明の連続露光装置によって露光されたロール状の前駆体を現像処理することにより得られる導電性パターンは、電磁波シールドフィルムやタッチパネル等の用途に用いられる透明導電性フィルム等に利用可能である。   The conductive pattern obtained by developing the roll-shaped precursor exposed by the continuous exposure apparatus of the present invention can be used for a transparent conductive film used for applications such as an electromagnetic shielding film and a touch panel.

本発明の処理装置の連続露光部を示す概略側断面図Schematic side sectional view showing a continuous exposure part of the processing apparatus of the present invention 本発明の処理装置の一例を示す概略側断面図Schematic side sectional view showing an example of the processing apparatus of the present invention

符号の説明Explanation of symbols

1 原稿円筒体
2 露光源
3 遮光部材
4 透明円筒基材
12 ロール状の前駆体
19 駆動モータ
62 巻き取りロール
70 帯電防止層
F 前駆体
M マスクパターン
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Original cylinder 2 Exposure source 3 Light-shielding member 4 Transparent cylindrical base material 12 Roll-shaped precursor 19 Drive motor 62 Winding roll 70 Antistatic layer F Precursor M Mask pattern

Claims (2)

透明円筒基材の外周面に画像パターンが描画された原稿円筒体と、該原稿円筒体の内部に配置された光源と、該光源から発せられる光を規制する遮光部材を少なくとも有する連続露光装置であって、該原稿円筒体の外周面に帯電防止層を有する連続露光装置。   A continuous exposure apparatus having at least a document cylindrical body in which an image pattern is drawn on the outer peripheral surface of a transparent cylindrical base material, a light source disposed inside the document cylindrical body, and a light shielding member for regulating light emitted from the light source. A continuous exposure apparatus having an antistatic layer on the outer peripheral surface of the original cylindrical body. 前記帯電防止層として、透明架橋硬化樹脂上にポリチオフェン導電性高分子が積層化された層、金属微粒子と透明架橋硬化樹脂を含有する層のいずれかから選ばれる帯電防止層を用いた、請求項1記載の連続露光装置。   The antistatic layer selected from any one of a layer in which a polythiophene conductive polymer is laminated on a transparent cross-linked cured resin and a layer containing metal fine particles and a transparent cross-linked cured resin is used as the antistatic layer. 2. The continuous exposure apparatus according to 1.
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