JP2008115072A - Reinforced glass substrate - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To produce a glass substrate which maintains both ion exchange performance and devitrification resistance of a glass and has higher mechanical strength compared to a conventional one. <P>SOLUTION: Disclosed is a reinforced glass substrate which has a compression-stress layer on its surface, has the following glass composition (by mole): SiO<SB>2</SB>: 50 to 85%, Al<SB>2</SB>O<SB>3</SB>: 5 to 30%, Li<SB>2</SB>O: 0 to 20%, Na<SB>2</SB>O: 0 to 20%, K<SB>2</SB>O: 0 to 20%, TiO<SB>2</SB>: 0.001 to 10%, and Li<SB>2</SB>O+Na<SB>2</SB>O+K<SB>2</SB>O+Al<SB>2</SB>O<SB>3</SB>: 15 to 35%, has a [(Li<SB>2</SB>O+Na<SB>2</SB>O+K<SB>2</SB>O)/Al<SB>2</SB>O<SB>3</SB>] ratio of 0.7 to 3 by mole, and does not substantially contain As<SB>2</SB>O<SB>3</SB>or F. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、強化ガラス基板に関するものであり、特に、携帯電話、デジタルカメラ、PDA(携帯端末)、或いはタッチパネルディスプレイに好適な強化ガラス基板に関するものである。   The present invention relates to a tempered glass substrate, and more particularly to a tempered glass substrate suitable for a mobile phone, a digital camera, a PDA (mobile terminal), or a touch panel display.

携帯電話、デジタルカメラ、PDA、或いはタッチパネルディスプレイといったデバイスは、ますます普及する傾向にある。   Devices such as mobile phones, digital cameras, PDAs or touch panel displays are becoming increasingly popular.

これらの用途に用いられるガラス基板には、高い機械的強度が求められる。従来、これらの用途には、イオン交換等で強化したガラス基板(所謂、強化ガラス基板)が用いられている(特許文献1、非特許文献1参照)。
特開2006−83045号公報 泉谷徹朗等、「新しいガラスとその物性」、初版、株式会社経営システム研究所、1984年8月20日、p.451−498
High mechanical strength is required for glass substrates used for these applications. Conventionally, a glass substrate reinforced by ion exchange or the like (so-called tempered glass substrate) is used for these applications (see Patent Document 1 and Non-Patent Document 1).
JP 2006-83045 A Tetsuro Izumiya et al., “New Glass and its Properties”, first edition, Management System Research Institute, Inc., August 20, 1984, p. 451-498

非特許文献1によると、ガラス組成中のAl23含有量を増加させていくと、ガラスのイオン交換性能が向上し、ガラス基板の機械的強度を向上できることが記載されている。 According to Non-Patent Document 1, it is described that when the Al 2 O 3 content in the glass composition is increased, the ion exchange performance of the glass is improved and the mechanical strength of the glass substrate can be improved.

しかし、ガラス組成中のAl23含有量を増加させていくと、ガラスの耐失透性が悪化し、成形中にガラスが失透しやすくなり、ガラス基板の製造効率、品位等が悪化する。特に、ガラスの耐失透性が悪いと、オーバーフローダウンドロー法等の成形方法を採用することができず、ガラス基板の表面精度を高めることができない。それ故、ガラス基板の成形後、別途研磨工程を付加しなければならない。ガラス基板を研磨すると、ガラス基板の表面に微小な欠陥が発生しやすくなり、ガラス基板の機械的強度を維持し難くなる。 However, if the Al 2 O 3 content in the glass composition is increased, the devitrification resistance of the glass deteriorates, and the glass tends to devitrify during molding, so that the production efficiency and quality of the glass substrate deteriorate. To do. In particular, when the devitrification resistance of the glass is poor, a molding method such as an overflow down draw method cannot be adopted, and the surface accuracy of the glass substrate cannot be increased. Therefore, a separate polishing process must be added after the glass substrate is formed. When the glass substrate is polished, minute defects are likely to occur on the surface of the glass substrate, and it becomes difficult to maintain the mechanical strength of the glass substrate.

このような事情から、ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立することが困難であり、ガラス基板の機械的強度を顕著に向上させることが困難となっていた。   Under such circumstances, it has been difficult to achieve both ion exchange performance and devitrification resistance of glass, and it has been difficult to significantly improve the mechanical strength of the glass substrate.

また、デバイスの軽量化を図るため、タッチパネルディスプレイ等のデバイスに用いられるガラス基板は、年々薄肉化されてきている。薄板のガラス基板は破損しやすいことから、ガラス基板の機械的強度を向上させる技術は益々重要になってきている。   In addition, in order to reduce the weight of devices, glass substrates used in devices such as touch panel displays are becoming thinner year by year. Since a thin glass substrate is easily damaged, a technique for improving the mechanical strength of the glass substrate is becoming more and more important.

そこで、本発明は、ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させ、従来よりも機械的強度が高いガラス基板を得ることを技術的課題とする。   Then, this invention makes it the technical subject to make compatible the ion exchange performance and devitrification resistance of glass, and to obtain a glass substrate whose mechanical strength is higher than before.

本発明者は、種々の検討を行った結果、ガラス組成にTiO2を含有させることで高いイオン交換性能が発現することを見出した。また、Al23の適正含有量を定めた上で、Al23とアルカリ金属酸化物の合量を最適化し、且つAl23とアルカリ金属酸化物のモル比(モル分率)を最適化することで、イオン交換性能を損なうことなく、ガラスの耐失透性を改善できることを見出し、本発明を提案するに至った。すなわち、本発明の強化ガラス基板は、その表面に圧縮応力層を有し、ガラス組成として、モル%でSiO2 50〜85%、Al23 5〜30%、Li2O 0〜20%、Na2O 0〜20%、K2O 0〜20%、TiO2 0.001〜10%、Li2O+Na2O+K2O+Al23 15〜35%を含有し、且つモル分率で、(Li2O+Na2O+K2O)/Al23の値が0.7〜3であって、実質的にAs23、Fを含有しないことを特徴とする。 As a result of various studies, the present inventor has found that high ion exchange performance is exhibited by including TiO 2 in the glass composition. In addition, after determining the appropriate content of Al 2 O 3, the total amount of Al 2 O 3 and the alkali metal oxide is optimized, and the molar ratio (molar fraction) of Al 2 O 3 and the alkali metal oxide By optimizing the above, it was found that the devitrification resistance of the glass can be improved without impairing the ion exchange performance, and the present invention has been proposed. That is, the tempered glass substrate of the present invention has a compressive stress layer on the surface thereof, and has a glass composition of SiO 2 50 to 85%, Al 2 O 3 5 to 30%, Li 2 O 0 to 20% in mol%. , Na 2 O 0-20%, K 2 O 0-20%, TiO 2 0.001-10%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O + Al 2 O 3 15-35%, and in molar fractions, a value of (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) / Al 2 O 3 is 0.7 to 3, and wherein substantially contains no as 2 O 3, F.

第二に、本発明の強化ガラス基板は、ガラス組成として、モル%でSiO2 50〜85%、Al23 5〜12.5%、B23 0〜7%、Li2O 0〜9%、Na2O 7〜20%、K2O 0〜20%、TiO2 0.001〜8%、Li2O+Na2O+K2O+Al23 15〜35%を含有し、且つモル分率で、(Li2O+Na2O+K2O)/Al23の値が0.7〜2.7、(MgO+CaO)/Al23の値が0〜0.55であって、実質的にAs23、Fを含有しないことに特徴付けられる。 Second, the tempered glass substrate of the present invention has a glass composition of 50 to 85% SiO 2, 5 to 12.5% Al 2 O 3 , 0 to 7% B 2 O 3 , and Li 2 O 0 as a glass composition. Containing 9 to 9%, Na 2 O 7 to 20%, K 2 O 0 to 20%, TiO 2 0.001 to 8%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O + Al 2 O 3 15 to 35%, and molar fraction The value of (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) / Al 2 O 3 is 0.7 to 2.7, and the value of (MgO + CaO) / Al 2 O 3 is 0 to 0.55. Is characterized by not containing As 2 O 3 or F.

第三に、本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、モル%でSiO2 50〜85%、Al23 5〜30%、B23 0〜7%、Li2O 0.5〜20%、Na2O 0〜20%、K2O 0〜20%、TiO2 0.001〜10%、Li2O+Na2O+K2O+Al23 15〜35%を含有し、且つモル分率で、(Li2O+Na2O+K2O)/Al23の値が0.7〜3であることに特徴付けられる。 Thirdly, the tempered glass substrate of the present invention is a tempered glass substrate having a compressive stress layer on the surface, and has a glass composition of SiO 2 50 to 85% by mole%, Al 2 O 3 5 to 30%, B 2 O 3 0-7%, Li 2 O 0.5-20%, Na 2 O 0-20%, K 2 O 0-20%, TiO 2 0.001-10%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O + Al It is characterized in that it contains 15-35% 2 O 3 and has a molar fraction of (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) / Al 2 O 3 of 0.7-3.

第四に、本発明の強化ガラス基板は、ガラス組成として、モル%でSiO2 50〜85%、Al23 5〜12.5%、B23 0〜7%、Li2O 0.5〜10%、Na2O 0〜20%、K2O 0〜20%、TiO2 0.01〜10%、Li2O+Na2O+K2O+Al23 15〜28.5%を含有し、且つモル分率で、(Li2O+Na2O+K2O)/Al23の値が0.7〜2.7であることに特徴付けられる。 Fourth, the tempered glass substrate of the present invention has a glass composition, SiO 2 50 to 85% by mol%, Al 2 O 3 5~12.5% , B 2 O 3 0~7%, Li 2 O 0 .5~10%, Na 2 O 0~20% , K 2 O 0~20%, TiO 2 0.01~10%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O + Al 2 O 3 containing 15 to 28.5% And, in terms of mole fraction, the value of (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) / Al 2 O 3 is characterized by 0.7 to 2.7.

第五に、本発明の強化ガラス基板は、表面の圧縮応力が100MPa以上、且つ圧縮応力層の厚みが1μm以上であることに特徴付けられる。ここで、「表面の圧縮応力」および「圧縮応力層の厚み」は、表面応力計(株式会社東芝製FSM−60)を用いて試料を観察した際に、観察される干渉縞の本数とその間隔から算出される値を指す。なお、算出の際、屈折率は1.52、光弾性定数は28[(nm/cm)/MPa]として計算を行った(以下、同様)。   Fifth, the tempered glass substrate of the present invention is characterized in that the surface compressive stress is 100 MPa or more and the thickness of the compressive stress layer is 1 μm or more. Here, “surface compressive stress” and “compressive stress layer thickness” are the number of interference fringes observed when a sample is observed using a surface stress meter (FSM-60 manufactured by Toshiba Corporation) and The value calculated from the interval. In the calculation, the refractive index was 1.52, and the photoelastic constant was 28 [(nm / cm) / MPa] (hereinafter the same).

第六に、本発明の強化ガラス基板は、未研磨の表面を有することに特徴付けられる。   Sixth, the tempered glass substrate of the present invention is characterized by having an unpolished surface.

第七に、本発明の強化ガラス基板は、オーバーフローダウンドロー法で成形されていることに特徴付けられる。   Seventh, the tempered glass substrate of the present invention is characterized by being formed by an overflow down draw method.

第八に、本発明の強化ガラス基板は、液相温度が1300℃以下であることに特徴付けられる。ここで、「液相温度」は、ガラスを粉砕し、標準篩30メッシュ(篩目開き500μm)を通過し、50メッシュ(篩目開き300μm)に残るガラス粉末を白金ボートに入れ、温度勾配炉中に24時間保持した後、結晶が析出する温度を指す。   Eighth, the tempered glass substrate of the present invention is characterized in that the liquidus temperature is 1300 ° C. or lower. Here, “liquid phase temperature” refers to a temperature gradient furnace in which glass is crushed, passed through a standard sieve 30 mesh (a sieve opening of 500 μm), and glass powder remaining in a 50 mesh (a sieve opening of 300 μm) is placed in a platinum boat. The temperature at which crystals are precipitated after being held for 24 hours.

第九に、本発明の強化ガラス基板は、液相粘度が104.0dPa・s以上であることに特徴付けられる。ここで、「液相粘度」は、液相温度におけるガラスの粘度を指す。なお、液相温度が低く、液相粘度が高い程、ガラスの耐失透性に優れるとともに、ガラス基板の成形性に優れている。 Ninthly, the tempered glass substrate of the present invention is characterized in that the liquid phase viscosity is 10 4.0 dPa · s or more. Here, “liquidus viscosity” refers to the viscosity of the glass at the liquidus temperature. In addition, it is excellent in the moldability of a glass substrate while being excellent in the devitrification resistance of glass, so that liquid phase temperature is low and liquid phase viscosity is high.

第十に、本発明の強化ガラス基板は、密度が2.8g/cm3以下であることに特徴付けられる。ここで、「密度」は、周知のアルキメデス法で測定した値を指す。 Tenth, the tempered glass substrate of the present invention is characterized in that the density is 2.8 g / cm 3 or less. Here, “density” refers to a value measured by the well-known Archimedes method.

第十一に、本発明の強化ガラス基板は、ヤング率が68GPa以上であることに特徴付けられる。ここで、「ヤング率」は、共振法により測定した値を指す。   Eleventh, the tempered glass substrate of the present invention is characterized by a Young's modulus of 68 GPa or more. Here, “Young's modulus” refers to a value measured by a resonance method.

第十二に、本発明の強化ガラス基板は、30〜380℃における熱膨張係数が40〜95×10-7/℃であることに特徴付けられる。ここで、「熱膨張係数」は、ディラトメーターを用いて、30〜380℃における平均熱膨張係数を測定した値を指す。 Twelfth, the tempered glass substrate of the present invention is characterized in that the thermal expansion coefficient at 30 to 380 ° C. is 40~95 × 10 -7 / ℃. Here, “thermal expansion coefficient” refers to a value obtained by measuring an average thermal expansion coefficient at 30 to 380 ° C. using a dilatometer.

第十三に、本発明の強化ガラス基板は、クラック発生率が60%以下であることに特徴付けられる。ここで、「クラック発生率」は、次のようにして測定した値を指す。まず湿度30%、温度25℃に保持された恒温恒湿槽内において、荷重500gに設定したビッカース圧子をガラス表面(光学研磨面)に15秒間打ち込み、その15秒後に圧痕の4隅から発生するクラックの数をカウント(1つの圧痕につき最大4とする)する。このようにして圧子を20回打ち込み、総クラック発生数を求めた後、(総クラック発生数/80)×100の式により求める。   Thirteenth, the tempered glass substrate of the present invention is characterized by a crack occurrence rate of 60% or less. Here, the “crack occurrence rate” indicates a value measured as follows. First, in a constant temperature and humidity chamber maintained at a humidity of 30% and a temperature of 25 ° C., a Vickers indenter set to a load of 500 g is driven into the glass surface (optical polishing surface) for 15 seconds, and 15 seconds later, it is generated from the four corners of the indentation. Count the number of cracks (maximum 4 per indentation). Thus, after indenting the indenter 20 times and determining the total number of cracks generated, the total number of cracks generated is calculated by the formula (total number of cracks generated / 80) × 100.

第十四に、本発明の強化ガラス基板は、タッチパネルディスプレイに用いることに特徴付けられる。   Fourteenth, the tempered glass substrate of the present invention is characterized by being used for a touch panel display.

第十五に、本発明のガラスは、ガラス組成として、モル%でSiO2 50〜85%、Al23 5〜30%、Li2O 0〜20%、Na2O 0〜20%、K2O 0〜20%、TiO2 0.001〜10%、Li2O+Na2O+K2O+Al23 15〜35%を含有し、且つモル分率で、(Li2O+Na2O+K2O)/Al23の値が0.7〜3であって、実質的にAs23、Fを含有しないことに特徴付けられる。 Fifteenth, the glass of the present invention has, as a glass composition, SiO 2 50 to 85%, Al 2 O 3 5 to 30%, Li 2 O 0 to 20%, Na 2 O 0 to 20% in mol%, K 2 O 0~20%, TiO 2 0.001~10%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O + Al 2 contain O 3 15 to 35%, and the mole fraction, (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) / Al 2 O 3 has a value of 0.7 to 3 and is characterized by containing substantially no As 2 O 3 or F.

第十六に、本発明のガラスは、ガラス組成として、モル%でSiO2 50〜85%、Al23 5〜30%、B23 0〜7%、Li2O 0.5〜20%、Na2O 0〜20%、K2O 0〜20%、TiO2 0.001〜10%、Li2O+Na2O+K2O+Al23 15〜35%を含有し、且つモル分率で、(Li2O+Na2O+K2O)/Al23の値が0.7〜3であることに特徴付けられる。 Sixteenth, the glass of the present invention has a glass composition in terms of mol% of SiO 2 50 to 85%, Al 2 O 3 5 to 30%, B 2 O 3 0 to 7%, Li 2 O 0.5 to 0.5%. 20%, Na 2 O 0-20%, K 2 O 0-20%, TiO 2 0.001-10%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O + Al 2 O 3 15-35%, and molar fraction And (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) / Al 2 O 3 is characterized by a value of 0.7-3.

第十七に、本発明のガラスは、430℃のKNO3溶融塩中で4時間イオン交換したとき、表面の圧縮応力が200MPa以上、且つ圧縮応力層の厚みが3μm以上になることに特徴付けられる。ここで、「表面の圧縮応力」および「圧縮応力層の厚み」は、表面応力計(株式会社東芝製FSM−60)を用いて試料を観察した際に、観察される干渉縞の本数とその間隔から算出される値を指す。 Seventeenth, the glass of the present invention is characterized in that the surface compressive stress is 200 MPa or more and the thickness of the compressive stress layer is 3 μm or more when ion-exchanged in KNO 3 molten salt at 430 ° C. for 4 hours. It is done. Here, “surface compressive stress” and “compressive stress layer thickness” are the number of interference fringes observed when a sample is observed using a surface stress meter (FSM-60 manufactured by Toshiba Corporation) and The value calculated from the interval.

第十八に、本発明の強化ガラスは、ガラス組成として、モル%でSiO2 50〜85%、Al23 5〜30%、Li2O 0〜20%、Na2O 0〜20%、K2O 0〜20%、TiO2 0.001〜10%、Li2O+Na2O+K2O+Al23 15〜35%を含有し、且つモル分率で、(Li2O+Na2O+K2O)/Al23の値が0.7〜3であって、実質的にAs23、Fを含有せず、その表面に圧縮応力層が形成されてなることに特徴付けられる。 Eighteenth, the tempered glass of the present invention has a glass composition of 50 to 85% SiO 2 , 5 to 30% Al 2 O 3 , 0 to 20% Li 2 O, and 0 to 20% Na 2 O as a glass composition. , K 2 O 0-20%, TiO 2 0.001-10%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O + Al 2 O 3 15-35% and in molar fraction (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O ) / Al 2 O 3 has a value of 0.7 to 3 , substantially does not contain As 2 O 3 and F, and is characterized in that a compressive stress layer is formed on the surface thereof.

第十九に、本発明の強化ガラスは、ガラス組成として、モル%でSiO2 50〜85%、Al23 5〜30%、B23 0〜7%、Li2O 0.5〜20%、Na2O 0〜20%、K2O 0〜20%、TiO2 0.001〜10%、Li2O+Na2O+K2O+Al23 15〜35%を含有し、且つモル分率で、(Li2O+Na2O+K2O)/Al23の値が0.7〜3であり、表面に圧縮応力層が形成されてなることに特徴付けられる。 Nineteenth, the tempered glass of the present invention has a glass composition of 50 to 85% SiO 2 , 5 to 30% Al 2 O 3 , 0 to 7% B 2 O 3 , and 0.5% Li 2 O as a glass composition. ~20%, Na 2 O 0~20% , K 2 O 0~20%, TiO 2 0.001~10%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O + Al 2 contain O 3 15 to 35%, and the molar fraction The ratio of (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) / Al 2 O 3 is 0.7 to 3 , and a compressive stress layer is formed on the surface.

本発明の強化ガラス基板は、その表面に圧縮応力層を有する。ガラス基板の表面に圧縮応力層を形成する方法には、物理強化法と化学強化法がある。本発明の強化ガラス基板は、化学強化法で圧縮応力層を形成することが好ましい。化学強化法は、ガラスの歪点以下の温度でイオン交換によりガラス基板の表面にイオン半径の大きいアルカリイオンを導入する方法である。化学強化法で圧縮応力層を形成すれば、ガラス基板の板厚が薄くても、良好に強化処理を施すことができ、所望の機械的強度を得ることができる。さらに、化学強化法で圧縮応力層を形成すれば、風冷強化法等の物理強化法の場合と異なり、ガラス基板に圧縮応力層を形成した後に、ガラス基板を切断しても、ガラス基板が破壊し難い。   The tempered glass substrate of the present invention has a compressive stress layer on its surface. Methods for forming a compressive stress layer on the surface of a glass substrate include a physical strengthening method and a chemical strengthening method. The tempered glass substrate of the present invention preferably forms a compressive stress layer by a chemical tempering method. The chemical strengthening method is a method of introducing alkali ions having a large ion radius into the surface of a glass substrate by ion exchange at a temperature below the strain point of the glass. If the compressive stress layer is formed by the chemical strengthening method, even if the plate thickness of the glass substrate is thin, the strengthening treatment can be performed satisfactorily and a desired mechanical strength can be obtained. Furthermore, if the compressive stress layer is formed by the chemical strengthening method, unlike the case of the physical strengthening method such as the air cooling strengthening method, the glass substrate is not cut even if the glass substrate is cut after forming the compressive stress layer on the glass substrate. Hard to destroy.

イオン交換の条件は、特に限定されず、ガラスの粘度特性等を考慮して決定すればよい。特に、KNO3溶融塩中のK2Oをガラス基板中のLi2O、Na2Oとイオン交換すると、ガラス基板の表面に圧縮応力層を効率良く形成することができる。 The ion exchange conditions are not particularly limited, and may be determined in consideration of the viscosity characteristics of the glass. In particular, when K 2 O in KNO 3 molten salt is ion-exchanged with Li 2 O and Na 2 O in a glass substrate, a compressive stress layer can be efficiently formed on the surface of the glass substrate.

本発明の強化ガラス基板において、ガラス組成を上記範囲に限定した理由を以下に説明する。なお、以下の%表示は、特に断りがある場合を除き、モル%を指す。   The reason for limiting the glass composition to the above range in the tempered glass substrate of the present invention will be described below. In addition, the following% display points out mol% unless there is particular notice.

SiO2は、ガラスのネットワークを形成する成分であり、その含有量は50〜85%、好ましくは53〜78%、より好ましくは55〜75%、更に好ましくは58〜70%である。SiO2の含有量が85%より多くなると、ガラスの溶融、成形が難しくなったり、熱膨張係数が小さくなり過ぎて、周辺材料と熱膨張係数が整合し難くなる。一方、SiO2の含有量が50%より少ないと、ガラスの熱膨張係数が大きくなり過ぎて、ガラスの耐熱衝撃性が低下しやすくなる。さらに、SiO2の含有量が50%より少ないと、ガラス化し難くなったり、ガラスの耐失透性が悪化しやすくなる。 SiO 2 is a component that forms a glass network, and its content is 50 to 85%, preferably 53 to 78%, more preferably 55 to 75%, and still more preferably 58 to 70%. When the content of SiO 2 exceeds 85%, it becomes difficult to melt and mold the glass, or the thermal expansion coefficient becomes too small, and it becomes difficult to match the thermal expansion coefficient with the surrounding materials. On the other hand, if the content of SiO 2 is less than 50%, the thermal expansion coefficient of the glass becomes too large, and the thermal shock resistance of the glass tends to decrease. Furthermore, when the content of SiO 2 is less than 50%, it becomes difficult to vitrify or the devitrification resistance of the glass tends to deteriorate.

Al23は、ガラスの耐熱性、イオン交換性能およびヤング率を高くする効果がある成分であり、その含有量は5〜30%である。Al23の含有量が30%より多くなると、ガラスに失透結晶が析出しやすくなったり、ガラスの熱膨張係数が小さくなり過ぎて、周辺材料と熱膨張係数が整合し難くなる。また高温粘性が高くなり、溶融性が悪化するおそれもある。Al23の含有量が5%より少ないと、十分なイオン交換性能を発揮できないおそれが生じる。上記観点から、Al23の好適な範囲は、上限が20%以下、16%以下、12.5%以下、11%以下、10%以下、特に9%以下であり、下限が5.5%以上、6%以上、特に7%以上である。 Al 2 O 3 is a component having an effect of increasing the heat resistance, ion exchange performance and Young's modulus of glass, and its content is 5 to 30%. When the content of Al 2 O 3 is more than 30%, devitrified crystals are likely to precipitate on the glass, or the thermal expansion coefficient of the glass becomes too small to make it difficult to match the thermal expansion coefficient with the surrounding materials. Moreover, high temperature viscosity becomes high and there exists a possibility that a meltability may deteriorate. When the content of Al 2 O 3 is less than 5%, there is a possibility that sufficient ion exchange performance cannot be exhibited. From the above viewpoint, the preferable range of Al 2 O 3 is 20% or less, 16% or less, 12.5% or less, 11% or less, 10% or less, particularly 9% or less, and the lower limit is 5.5%. % Or more, 6% or more, particularly 7% or more.

23は、ガラスの液相温度、高温粘度および密度を低下させる効果がある成分であるとともに、ガラスのヤング率やイオン交換性能を高める効果がある成分であり、その含有量は0〜7%、好ましくは0〜5%、より好ましくは0〜3%、更に好ましくは0〜1%である。一方、B23の含有量が7%より多いと、イオン交換によって表面にヤケが発生したり、ガラスの耐水性が悪化したり、低温粘性が低下し過ぎたり、或いは液相粘度が低下するおそれがある。 B 2 O 3 is a component that has the effect of reducing the liquidus temperature, high-temperature viscosity, and density of the glass, and is also a component that has the effect of increasing the Young's modulus and ion exchange performance of the glass. It is 7%, preferably 0 to 5%, more preferably 0 to 3%, still more preferably 0 to 1%. On the other hand, if the content of B 2 O 3 is more than 7%, the surface is burnt by ion exchange, the water resistance of the glass is deteriorated, the low-temperature viscosity is excessively decreased, or the liquid phase viscosity is decreased. There is a risk.

TiO2は、ガラスのイオン交換性能を高め、ガラス基板の機械的強度を向上させる効果を有する成分であり、本発明において必須成分である。また、TiO2は、ガラスの低温粘性を高め、高温粘性を低下させる効果を有する。すなわち、TiO2は、ガラスの粘性をショートにさせ、オーバーフローダウンドロー法で表面精度の高いガラス基板を成形しやすくさせる成分である。さらに、TiO2は、イオン交換に使用する溶融塩の長期安定性を向上させる効果を有する。しかし、TiO2の含有量が多くなり過ぎると、ガラスが失透しやすくなったり、着色しやすくなる。したがって、TiO2の含有量は0.001〜10%、好ましくは0.01〜8%、より好ましくは0.5〜5%、更に好ましくは1〜5%である。なお、TiO2導入源として、TiO2原料を用いてもよいが、珪砂等に含まれる微量成分からTiO2を含有させても差し支えない。 TiO 2 enhances the ion exchange performance of a glass, a component having an effect of improving the mechanical strength of the glass substrate, is an essential component in the present invention. TiO 2 has the effect of increasing the low temperature viscosity of the glass and decreasing the high temperature viscosity. That is, TiO 2 is a component that shortens the viscosity of the glass and makes it easy to form a glass substrate with high surface accuracy by the overflow down draw method. Furthermore, TiO 2 has the effect of improving the long-term stability of the molten salt used for ion exchange. However, if the content of TiO 2 is too large, the glass tends to be devitrified or colored. Therefore, the content of TiO 2 is 0.001 to 10%, preferably 0.01 to 8%, more preferably 0.5 to 5%, and still more preferably 1 to 5%. As TiO 2 introduced source, may be used of TiO 2 material, no problem also contain TiO 2 from minor components contained in the silica sand or the like.

Li2Oは、イオン交換成分であるとともに、ガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を向上させる成分である。さらに、Li2Oは、ガラスのヤング率を向上させる効果を有するとともに、クラック発生率を低減させる効果がある成分である。Li2Oの含有量は0〜20%、好ましくは0〜10%、より好ましくは0.1〜9%、更に好ましくは0.5〜8%、である。Li2Oの含有量が20%より多くなると、ガラスが失透しやすくなり、液相粘度が低下することに加えて、ガラスの熱膨張係数が大きくなり過ぎて、ガラスの耐熱衝撃性が低下したり、周辺材料と熱膨張係数が整合し難くなる。また歪点が低下し過ぎて耐熱性が悪化したり、かえってイオン交換性能が悪化する場合がある。 Li 2 O is an ion exchange component and a component that lowers the high temperature viscosity of the glass and improves the meltability and moldability. Furthermore, Li 2 O is a component that has the effect of improving the Young's modulus of glass and the effect of reducing the crack generation rate. The content of Li 2 O is 0 to 20%, preferably 0 to 10%, more preferably 0.1 to 9%, and still more preferably 0.5 to 8%. When the content of Li 2 O exceeds 20%, the glass tends to be devitrified, and in addition to the decrease in liquid phase viscosity, the thermal expansion coefficient of the glass becomes too large and the thermal shock resistance of the glass decreases. It is difficult to match the thermal expansion coefficient with the surrounding material. Further, the strain point may be excessively lowered to deteriorate the heat resistance, or the ion exchange performance may be deteriorated.

Na2Oは、イオン交換成分であるとともに、ガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を向上させたり、クラック発生率を低減させたりする効果がある成分である。また、Na2Oは、ガラスの耐失透性を改善する成分でもある。Na2Oの含有量は0〜20%、好ましくは7〜20%、より好ましくは7〜18%である。Na2Oの含有量が20%より多くなると、ガラスの熱膨張係数が大きくなり過ぎて、ガラスの耐熱衝撃性が低下したり、周辺材料と熱膨張係数が整合し難くなる。また、Na2Oの含有量が多過ぎると、ガラス組成のバランスを欠き、かえってガラスの耐失透性が悪化する傾向がある。さらに、Na2Oの含有量が20%より多くなると、ガラスの歪点が低下し過ぎて耐熱性が悪化したり、かえってイオン交換性能が悪化する場合がある。 Na 2 O is an ion exchange component and is a component that has the effect of reducing the high temperature viscosity of the glass to improve the meltability and formability, and to reduce the crack generation rate. Na 2 O is also a component that improves the devitrification resistance of the glass. The content of Na 2 O is 0 to 20%, preferably 7 to 20%, more preferably 7 to 18%. When the content of Na 2 O is more than 20%, the thermal expansion coefficient of the glass becomes too large, and the thermal shock resistance of the glass is lowered, or it becomes difficult to match the thermal expansion coefficient with the surrounding materials. Further, when the content of Na 2 O is too large, they lack the balance of the glass composition, rather tends to devitrification property of the glass deteriorates. Further, when the content of Na 2 O is larger than 20%, the or heat resistance deteriorates strain point excessively lowers the glass, the ion exchange performance rather deteriorated.

2Oは、イオン交換を促進する効果があるだけでなく、ガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を高めたり、クラック発生率を低減させたりする効果がある成分である。また、K2Oは、耐失透性を改善する成分でもある。K2Oの含有量は0〜20%、好ましくは0.5〜10%、より好ましくは0.5〜8%、更に好ましくは1〜6%、特に好ましくは1〜5%、最も好ましくは2〜4%である。K2Oの含有量が20%より多くなると、ガラスの熱膨張係数が大きくなり過ぎて、ガラスの耐熱衝撃性が低下したり、周辺材料と熱膨張係数が整合し難くなる。また、K2Oの含有量が多過ぎると、ガラス組成のバランスを欠き、かえってガラスの耐失透性が悪化しやすくなる。 K 2 O is a component that not only has an effect of promoting ion exchange, but also has an effect of reducing the high temperature viscosity of the glass to improve the meltability and formability, and to reduce the crack generation rate. K 2 O is also a component that improves devitrification resistance. The content of K 2 O is 0 to 20%, preferably 0.5 to 10%, more preferably 0.5 to 8%, still more preferably 1 to 6%, particularly preferably 1 to 5%, most preferably 2-4%. When the content of K 2 O is more than 20%, the thermal expansion coefficient of the glass becomes too large, and the thermal shock resistance of the glass is lowered, or it is difficult to match the thermal expansion coefficient with the surrounding materials. If the content of K 2 O is too large, they lack the balance of the glass composition, rather devitrification resistance of the glass tends to deteriorate.

本発明の強化ガラス基板において、高い液相粘度とイオン交換性能を両立するために、Na2O+K2O+Li2O+Al23の含有量、モル分率(Li2O+Na2O+K2O)/Al23の値を規制することが重要である。さらに、本発明の強化ガラス基板において、モル分率(MgO+CaO)/Al23の値および/またはLi2O/(Li2O+Na2O+K2O)の値を規制すれば、より高いレベルで液相粘度とイオン交換性能を両立することができる。 In the tempered glass substrate of the present invention, in order to achieve both high liquid phase viscosity and ion exchange performance, the content of Na 2 O + K 2 O + Li 2 O + Al 2 O 3 , molar fraction (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) / Al It is important to regulate the value of 2 O 3 . Furthermore, in the tempered glass substrate of the present invention, if the value of the molar fraction (MgO + CaO) / Al 2 O 3 and / or the value of Li 2 O / (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) is regulated, at a higher level. Both liquid phase viscosity and ion exchange performance can be achieved.

アルカリ金属成分R2O(RはLi、Na、Kから選ばれる1種以上、つまりR2O=Li2O+Na2O+K2O)とAl23の合量が多くなり過ぎるとガラスが失透しやすくなることに加えて、熱膨張係数が大きくなり過ぎて、ガラスの耐熱衝撃性が低下したり、周辺材料と熱膨張係数が整合し難くなる。また歪点が低下し過ぎる場合がある。それ故、これらの成分の合量は、35%以下、30%以下、29%以下、特に28.5%以下であることが望ましい。一方、R2O+Al23の合量が少な過ぎると、ガラスのイオン交換性能や溶融性が悪化しやすくなる。それ故、これらの成分の合量は、15%以上、17%以上、19%以上、20%以上、特に22%以上であることが望ましい。 If the total amount of the alkali metal component R 2 O (R is one or more selected from Li, Na, and K, that is, R 2 O = Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) and Al 2 O 3 is too large, the glass loses. In addition to being easily permeable, the thermal expansion coefficient becomes too large, and the thermal shock resistance of the glass is lowered, and it is difficult to match the thermal expansion coefficient with the surrounding materials. In addition, the strain point may be excessively lowered. Therefore, the total amount of these components is desirably 35% or less, 30% or less, 29% or less, particularly 28.5% or less. On the other hand, if the total amount of R 2 O + Al 2 O 3 is too small, the ion exchange performance and meltability of the glass tend to deteriorate. Therefore, the total amount of these components is desirably 15% or more, 17% or more, 19% or more, 20% or more, particularly 22% or more.

上記範囲にR2O+Al23の合量を規制した上で、モル分率R2O/Al23の値を0.7〜3に規制することで、より効果的に、高い液相粘度と、高いイオン交換性能を有するガラスを得ることができる。モル分率R2O/Al23の値を0.7以上(好ましくは1以上、1.5以上、1.7以上、1.8以上、特に1.9以上)とすることで、液相温度が低下し、高い液相粘度を有するガラスが得られやすくなるとともに、ガラスの溶融性が向上し、その結果、オーバーフローダウンドロー法で成形を行いやすくなる。しかし、モル分率R2O/Al23の値が大き過ぎると、ガラスのイオン交換性能が悪化する傾向にある。また、モル分率R2O/Al23の値が大きくなり過ぎると、ガラスの歪点が低下して耐熱衝撃性が悪化したり、熱膨張係数が大きくなり過ぎて、周辺材料と熱膨張係数が整合し難くなる。そのため、モル分率R2O/Al23の値は、3以下、2.8以下、2.7以下、2.5以下、2.4以下、2.3以下、2.2以下、特に2.1以下であることが好ましい。 By regulating the total amount of R 2 O + Al 2 O 3 within the above range and then regulating the value of the molar fraction R 2 O / Al 2 O 3 to 0.7-3, a more effective and higher liquid A glass having a phase viscosity and high ion exchange performance can be obtained. By setting the value of the molar fraction R 2 O / Al 2 O 3 to 0.7 or more (preferably 1 or more, 1.5 or more, 1.7 or more, 1.8 or more, particularly 1.9 or more), The liquidus temperature is lowered and it becomes easy to obtain a glass having a high liquidus viscosity, and the meltability of the glass is improved. As a result, it becomes easy to perform molding by the overflow downdraw method. However, if the molar fraction R 2 O / Al 2 O 3 is too large, the ion exchange performance of the glass tends to deteriorate. On the other hand, if the value of the molar fraction R 2 O / Al 2 O 3 becomes too large, the strain point of the glass decreases and the thermal shock resistance deteriorates, the thermal expansion coefficient becomes too large, and the surrounding materials and heat Difficult to match expansion coefficients. Therefore, the value of the molar fraction R 2 O / Al 2 O 3 is 3 or less, 2.8 or less, 2.7 or less, 2.5 or less, 2.4 or less, 2.3 or less, 2.2 or less, In particular, it is preferably 2.1 or less.

また、モル分率(MgO+CaO)/Al23の値を0〜0.55の範囲に規定することで、より高いレベルでイオン交換性能と耐失透性を両立しやすくなる。(MgO+CaO)/Al23の値が0.55より大きくなると、密度や熱膨張係数が高くなったり、耐失透性が悪化する傾向にある。 Moreover, it becomes easy to make ion exchange performance and devitrification resistance compatible at a higher level by defining the value of the molar fraction (MgO + CaO) / Al 2 O 3 in the range of 0 to 0.55. When the value of (MgO + CaO) / Al 2 O 3 is greater than 0.55, the density and thermal expansion coefficient tend to increase, and the devitrification resistance tends to deteriorate.

さらに、本発明の強化ガラス基板において、モル分率Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)の値、モル分率Na2O/(Li2O+Na2O+K2O)の値、モル分率K2O/(Li2O+Na2O+K2O)の値を適正化することで、ガラスの熱膨張係数、ヤング率、イオン交換性能、失透性、クラック発生率等の特性を調整することができる。特に、モル分率Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)の値は、ヤング率、失透性、イオン交換性能、クラック発生率等の特性への影響が大きい。モル分率Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)の値が高くなると、ヤング率が高くなったり、或いはクラック発生率が低下する傾向にあるが、ガラスの耐失透性が悪化し、液相粘度が低下するため、モル分率Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)の値は0.7以下、特に0.6以下であることが好ましい。また、ガラスの失透性を改善するために、モル分率Na2O/(Li2O+Na2O+K2O)の値を0.3〜1、好ましくは0.4〜1、特に0.5〜1とすることが好ましい。更にモル分率K2O/(Li2O+Na2O+K2O)の値を好ましくは0〜0.5、より好ましくは0〜0.4、さらに好ましくは0〜0.3に規制することが好ましい。 Furthermore, in the tempered glass substrate of the present invention, the value of molar fraction Li 2 O / (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O), the value of molar fraction Na 2 O / (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O), the molar content By adjusting the value of the rate K 2 O / (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O), the characteristics of the glass such as the coefficient of thermal expansion, Young's modulus, ion exchange performance, devitrification, crack generation rate are adjusted. Can do. In particular, the value of the molar fraction Li 2 O / (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) has a great influence on properties such as Young's modulus, devitrification, ion exchange performance, and crack generation rate. When the value of the mole fraction Li 2 O / (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) is increased, or the Young's modulus becomes high or it crack generation ratio tends to decrease, the devitrification resistance of the glass deteriorates Since the liquid phase viscosity is lowered, the molar fraction Li 2 O / (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) is preferably 0.7 or less, particularly preferably 0.6 or less. In order to improve the devitrification property of the glass, the molar fraction Na 2 O / (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) is set to 0.3 to 1, preferably 0.4 to 1, particularly 0.5. It is preferable to set to -1. Furthermore, the value of molar fraction K 2 O / (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) is preferably regulated to 0 to 0.5, more preferably 0 to 0.4, and even more preferably 0 to 0.3. preferable.

本発明の強化ガラス基板において、ガラス組成として、上記成分に加えてZnO、MgO、CaO、SrO、BaO、P25、ZrO2等の成分が添加可能である。なお、ZnO、MgO、CaO、SrO、BaO、P25、ZrO2等の成分は任意成分である。 In the tempered glass substrate of the present invention, components such as ZnO, MgO, CaO, SrO, BaO, P 2 O 5 and ZrO 2 can be added as a glass composition in addition to the above components. In addition, components such as ZnO, MgO, CaO, SrO, BaO, P 2 O 5 , and ZrO 2 are optional components.

ZnOは、本発明に係るガラス系に適量添加すれば、イオン交換性能を顕著に向上させる効果がある成分である。また、ZnOは、ガラスの高温粘度を低下させたり、ヤング率を向上させる効果がある成分である。ZnOの含有量は0〜15%、好ましくは0〜12%、より好ましくは0〜10%、更に好ましくは0.01〜8%、最も好ましくは0.5〜6%である。ZnOの含有量が15%より多くなると、ガラスの熱膨張係数が大きくなり過ぎることに加えて、ガラスの耐失透性が悪化したり、クラック発生率が高くなる傾向にある。   ZnO is a component having an effect of remarkably improving the ion exchange performance when added in an appropriate amount to the glass system according to the present invention. ZnO is a component that has the effect of reducing the high temperature viscosity of the glass or improving the Young's modulus. The content of ZnO is 0 to 15%, preferably 0 to 12%, more preferably 0 to 10%, still more preferably 0.01 to 8%, and most preferably 0.5 to 6%. When the content of ZnO exceeds 15%, in addition to the thermal expansion coefficient of the glass becoming too large, the devitrification resistance of the glass tends to deteriorate and the crack generation rate tends to increase.

アルカリ土類金属成分R’O(R’はCa、Sr、Baから選ばれる1種以上)は、種々の目的で添加可能な成分である。しかし、アルカリ土類金属成分R’Oが多くなると、ガラスの密度や熱膨張係数が高くなったり、耐失透性が悪化したりすることに加えて、クラック発生率が高くなったり、イオン交換性能が悪化する傾向がある。それ故、アルカリ土類金属成分R’Oの含有量は、好ましくは0〜16%、より好ましくは0〜10%、更に好ましくは0〜6%である。   The alkaline earth metal component R′O (R ′ is one or more selected from Ca, Sr, and Ba) is a component that can be added for various purposes. However, when the alkaline earth metal component R′O is increased, the density and thermal expansion coefficient of the glass are increased and the devitrification resistance is deteriorated. In addition, the crack generation rate is increased and the ion exchange is increased. There is a tendency for performance to deteriorate. Therefore, the content of the alkaline earth metal component R′O is preferably 0 to 16%, more preferably 0 to 10%, and still more preferably 0 to 6%.

MgOは、ガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を高めたり、歪点やヤング率を高めたりする成分である。また、MgOは、アルカリ土類金属酸化物の中ではイオン交換性能を向上させる効果が比較的高いため、その含有量を0〜10%とすることができる。しかし、MgOの含有量が多くなると、ガラスの密度、熱膨張係数およびクラック発生率が高くなったり、ガラスが失透しやすくなったりする傾向がある。したがって、その含有量は、9%以下、6%以下、4%以下であることが望ましい。   MgO is a component that lowers the high-temperature viscosity of glass to improve meltability and formability, and increase the strain point and Young's modulus. Further, MgO has a relatively high effect of improving the ion exchange performance among alkaline earth metal oxides, so its content can be set to 0 to 10%. However, when the content of MgO increases, the density, thermal expansion coefficient and crack generation rate of the glass tend to increase, or the glass tends to devitrify. Therefore, the content is desirably 9% or less, 6% or less, and 4% or less.

CaOは、ガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を高めたり、歪点やヤング率を高めたりする成分であり、その含有量を0〜10%とすることができる。しかし、CaOの含有量が多くなると、ガラスの密度、熱膨張係数およびクラック発生率が高くなったり、ガラスが失透しやすくなったりする傾向がある。したがって、その含有量は、8%以下、5%以下、3%以下、1%以下、0.8%以下、特に0.5%以下が望ましく、理想的には実質的に含有しないことが望ましい。ここで、「CaOを実質的に含有しない」とは、ガラス組成中のCaOの含有量が0.2%以下の場合を指す。   CaO is a component that lowers the high-temperature viscosity of the glass to increase the meltability and formability, and increases the strain point and Young's modulus, and its content can be 0 to 10%. However, when the content of CaO increases, the glass density, thermal expansion coefficient and crack generation rate tend to increase, or the glass tends to devitrify. Therefore, the content is desirably 8% or less, 5% or less, 3% or less, 1% or less, 0.8% or less, particularly 0.5% or less, and ideally not substantially contained. . Here, “substantially free of CaO” refers to a case where the content of CaO in the glass composition is 0.2% or less.

SrOは、ガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を向上させたり、歪点やヤング率を高めたりする成分であり、その含有量を0〜10%とすることができる。しかし、SrOの含有量が多くなると、ガラスの密度、熱膨張係数およびクラック発生率が高くなったり、ガラスが失透しやすくなったり、更にはイオン交換性能が悪化する傾向がある。したがって、その含有量は、8%以下、5%以下、3%以下、1%以下、0.8%以下、特に0.5%以下が望ましく、理想的には実質的に含有しないことが望ましい。ここで、「SrOを実質的に含有しない」とは、ガラス組成中のSrOの含有量が0.2%以下の場合を指す。   SrO is a component that lowers the high-temperature viscosity of the glass to improve the meltability and formability, and increases the strain point and Young's modulus, and its content can be 0 to 10%. However, when the SrO content increases, the density, thermal expansion coefficient and crack generation rate of the glass increase, the glass tends to devitrify, and the ion exchange performance tends to deteriorate. Therefore, the content is desirably 8% or less, 5% or less, 3% or less, 1% or less, 0.8% or less, particularly 0.5% or less, and ideally not substantially contained. . Here, “substantially does not contain SrO” refers to a case where the content of SrO in the glass composition is 0.2% or less.

BaOは、ガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を向上させたり、歪点やヤング率を高めたりする成分であり、その含有量を0〜3%とすることができる。しかし、BaOの含有量が多くなると、ガラスの密度、熱膨張係数およびクラック発生率が高くなったり、ガラスが失透しやすくなったり、更にはイオン交換性能が悪化する傾向がある。また、BaOは、その原料である化合物が環境負荷物質であることから、環境的視点に立てば、その使用を極力控えることが好ましい。したがって、その含有量は、2.5%以下、2%以下、1%以下、0.8%以下、特に0.5%以下が望ましく、理想的には実質的に含有しないことが望ましい。ここで、「BaOを実質的に含有しない」とは、ガラス組成中のBaOの含有量が0.1%以下の場合を指す。   BaO is a component that lowers the high temperature viscosity of the glass to improve the meltability and formability, and increases the strain point and Young's modulus, and its content can be 0 to 3%. However, when the content of BaO increases, the density, thermal expansion coefficient and crack generation rate of the glass increase, the glass tends to devitrify, and the ion exchange performance tends to deteriorate. Moreover, since the compound which is the raw material of BaO is an environmental load substance, it is preferable to refrain from using it as much as possible from an environmental viewpoint. Accordingly, the content is desirably 2.5% or less, 2% or less, 1% or less, 0.8% or less, particularly 0.5% or less, and ideally not substantially contained. Here, “substantially free of BaO” refers to a case where the content of BaO in the glass composition is 0.1% or less.

ZrO2は、ガラスの歪点やヤング率を向上させ、イオン交換性能を向上させる成分であり、その含有量を0〜5%とすることができる。しかし、ZrO2の含有量が多くなると、ガラスの耐失透性が悪化する。特に、オーバーフローダウンドロー法で成形する場合には、成形体との界面にZrO2に起因する結晶が析出し、長期に亘る操業中にガラス基板の生産性を低下させるおそれが生じる。ZrO2の好適な範囲は、0〜5%(望ましくは0〜3%、0〜1.5%、0〜1%、0〜0.8%、0〜0.5%、特に0〜0.1%)である。 ZrO 2 is a component that improves the strain point and Young's modulus of glass and improves the ion exchange performance, and its content can be 0 to 5%. However, when the content of ZrO 2 increases, the devitrification resistance of the glass deteriorates. In particular, when molding is performed by the overflow downdraw method, crystals due to ZrO 2 are precipitated at the interface with the molded body, which may reduce the productivity of the glass substrate during long-term operation. The preferred range of ZrO 2 is 0-5% (desirably 0-3%, 0-1.5%, 0-1%, 0-0.8%, 0-0.5%, especially 0-0 .1%).

25は、ガラスのイオン交換性能を高める成分であり、特に、圧縮応力厚みを深くする効果が大きいため、その含有量を0〜8%とすることができる。しかし、P25の含有量が多くなると、ガラスが分相したり、耐水性が悪化したりするため、その含有量は5%以下、4%以下、3%以下であることが好ましい。 P 2 O 5 is a component that enhances the ion exchange performance of the glass, and in particular, since the effect of deepening the compressive stress thickness is great, its content can be 0 to 8%. However, when the content of P 2 O 5 is increased, the glass is phase-separated or the water resistance is deteriorated. Therefore, the content is preferably 5% or less, 4% or less, and 3% or less.

R’Oの合量をR2Oの合量で除した値が大きくなると、クラック発生率が高くなるとともに、ガラスの耐失透性が悪化する傾向が現れる。それ故、モル分率でR’O/R2Oの値を0.5以下、0.4以下、0.3以下、0.2以下、0.1以下に規制することが望ましい。 When the value obtained by dividing the total amount of R′O by the total amount of R 2 O is increased, the crack generation rate is increased, and the devitrification resistance of the glass tends to be deteriorated. Therefore, it is desirable to regulate the value of R′O / R 2 O as a molar fraction to 0.5 or less, 0.4 or less, 0.3 or less, 0.2 or less, or 0.1 or less.

さらに、ガラスの特性を大きく損なわない範囲で他の成分を添加することができる。例えば清澄剤としてSO3、Cl、CeO2、Sb23およびSnO2の群から選択された一種または二種以上を0〜3%含有させてもよい。As23やFも清澄効果を奏するが、環境に対し悪影響を与えるおそれがあるため、できるだけ使用しないことが好ましく、実質的に含有しないことがより好ましい。また、Sb23は、As23に比べ、その毒性は低いが、環境的観点から使用を制限するのが好ましい場合もあり、実質的に含有しないことが好ましい場合もある。また、環境的観点および清澄効果を考慮すれば、清澄剤として、SnO2を0.01〜3%(望ましくは0.05〜1%)含有させることが好ましい。ここで、「As23を実質的に含有しない」とは、ガラス組成中のAs23の含有量が0.1%以下の場合を指す。「Fを実質的に含有しない」とは、ガラス組成中のFの含有量が0.05%以下の場合を指す。「Sb23を実質的に含有しない」とは、ガラス組成中のSb23の含有量が0.1%以下の場合を指す。一方、Sb23やSO3は清澄剤の中では、ガラスの透過率の低下を抑制する効果が高いため、高透過率が求められる用途においては清澄剤としてSb23+SO3を0.001〜5%程度含有させることが好ましい。 Furthermore, other components can be added as long as the properties of the glass are not significantly impaired. For example, 0 to 3% of one or more selected from the group of SO 3 , Cl, CeO 2 , Sb 2 O 3 and SnO 2 may be contained as a fining agent. As 2 O 3 and F also have a clarification effect, but since they may have an adverse effect on the environment, it is preferable not to use them as much as possible, and it is more preferable not to contain them substantially. Sb 2 O 3 is less toxic than As 2 O 3 , but it may be preferable to limit its use from an environmental point of view, or it may be preferable not to contain it substantially. Further, considering the environmental standpoint and fining effect, as a refining agent, the SnO 2 0.01 to 3% (preferably 0.05 to 1%) is preferably contained. Here, “substantially not containing As 2 O 3 ” refers to a case where the content of As 2 O 3 in the glass composition is 0.1% or less. “Substantially no F” refers to the case where the F content in the glass composition is 0.05% or less. “Substantially free of Sb 2 O 3 ” refers to the case where the content of Sb 2 O 3 in the glass composition is 0.1% or less. On the other hand, Sb 2 O 3 and SO 3 have a high effect of suppressing the decrease in the transmittance of the glass among the clarifiers. Therefore, in applications where high transmittance is required, Sb 2 O 3 + SO 3 is 0 as a clarifier. It is preferable to contain about 0.001 to 5%.

Nb25やLa23等の希土類酸化物は、ガラスのヤング率を高める成分である。しかし、原料自体のコストが高く、また多量に含有させると耐失透性が悪化する。それ故、それらの含有量は、3%以下、2%以下、1%以下、特に0.5%以下に制限することが望ましく、理想的には実質的に含有しないことが望ましい。ここで、「希土類酸化物を実質的に含有しない」とは、ガラス組成中の希土類酸化物の含有量が0.1%以下の場合を指す。 Rare earth oxides such as Nb 2 O 5 and La 2 O 3 are components that increase the Young's modulus of glass. However, the cost of the raw material itself is high, and if it is contained in a large amount, the devitrification resistance deteriorates. Therefore, it is desirable to limit the content thereof to 3% or less, 2% or less, 1% or less, particularly 0.5% or less, and ideally, it is desirable that the content is not substantially contained. Here, “substantially no rare earth oxide” refers to the case where the content of the rare earth oxide in the glass composition is 0.1% or less.

なお、本発明において、Co、Ni等のガラスを強く着色するような遷移金属元素は、ガラス基板の透過率を低下させるため好ましくない。特に、タッチパネルディスプレイ用途に用いる場合、遷移金属元素の含有量が多いと、タッチパネルディスプレイの視認性が損なわれる。具体的には0.5%以下、0.1%以下、特に0.05%以下となるよう、原料、或いはカレットの使用量を調整することが望ましい。また、PbOは、環境負荷物質であるため、実質的に含有しないことが好ましい。ここで、「PbOを実質的に含有しない」とは、ガラス組成中のPbOの含有量が0.1%以下の場合を指す。   In the present invention, transition metal elements such as Co and Ni that strongly color the glass are not preferable because they reduce the transmittance of the glass substrate. In particular, when used in touch panel display applications, if the content of transition metal elements is large, the visibility of the touch panel display is impaired. Specifically, it is desirable to adjust the amount of the raw material or cullet used so that it is 0.5% or less, 0.1% or less, particularly 0.05% or less. Moreover, since PbO is an environmental load substance, it is preferable not to contain PbO substantially. Here, “substantially no PbO” refers to a case where the content of PbO in the glass composition is 0.1% or less.

各成分の好適な含有範囲を適宜選択し、好ましいガラス組成範囲とすることができる。その中でも、より好ましいガラス組成範囲として、
(1)モル%でSiO2 50〜85%、Al23 5〜12.5%、Li2O 0〜9%、Na2O 7〜20%、K2O 0〜8%、TiO2 0.001〜8%、B23 0〜7%、Li2O+Na2O+K2O+Al23 20〜29%を含有し、且つモル分率で(Li2O+Na2O+K2O)/Al23の値が1.5〜2.5であり、(MgO+CaO)/Al23の値が0〜0.5であって、実質的にAs23、F、PbO、BaOを含有しないガラス
(2)モル%でSiO2 55〜75%、Al23 6〜11%、Li2O 0〜8%、Na2O 7〜20%、K2O 0〜8%、TiO2 0.01〜5%、B23 0〜3%、ZnO 0〜10%、ZrO2 0〜5%、MgO 0〜5.5%、CaO 0〜5.5%、SrO 0〜5%、P25 0〜3%、Li2O+Na2O+K2O+Al23 22〜28.5%を含有し、且つモル分率で(Li2O+Na2O+K2O)/Al23の値が1.8〜2.4であり、(MgO+CaO)/Al23の値が0〜0.5であって、実質的にAs23、F、PbO、BaOを含有しないガラス
(3)モル%でSiO2 55〜75%、Al23 7〜9%、Li2O 0〜8%、Na2O 7〜18%、K2O 0〜7%、TiO2 0.01〜5%、B23 0〜1%、ZnO 0〜6%、ZrO2 0〜5%、MgO 0〜4.5%、CaO 0〜4.5%、SrO 0〜5%、P25 0〜0.5%、Li2O+Na2O+K2O+Al23 22〜28.5%を含有し、且つモル分率で(Li2O+Na2O+K2O)/Al23の値が1.9〜2.4であり、(MgO+CaO)/Al23の値が0〜0.5であって、実質的にAs23、F、PbO、BaOを含有しないガラス
(4)モル%でSiO2 50〜85%、Al23 5〜12.5%、B23 0〜7%、Li2O 0.5〜10%、Na2O 0〜15%、K2O 0〜10%、TiO2 0.1〜10%、ZnO 0〜10%、ZrO2 0〜5%、MgO 0〜10%、CaO 0〜5%、SrO 0〜5%、BaO 0〜1%、P25 0〜5%、Li2O+Na2O+K2O+Al23 20〜28.5%を含有し、且つモル分率で(Li2O+Na2O+K2O)/Al23の値が1.5〜2.5であり、実質的にFを含有しないガラス
(5)モル%でSiO2 58〜70%、Al23 6〜11%、B23 0〜3%、Li2O 3〜10%、Na2O 6〜11%、K2O 0〜4%、TiO2 0.1〜4%、ZnO 0〜10%、ZrO2 0〜1%、MgO 0〜9%、CaO 0〜3%、SrO 0〜3%、BaO 0〜1%、P25 0〜3%、Li2O+Na2O+K2O+Al23 22〜28.5%を含有し、且つモル分率で(Li2O+Na2O+K2O)/Al23の値が1.8〜2.3であり、実質的にFを含有しないガラスが挙げられる。
A suitable content range of each component can be appropriately selected to obtain a preferable glass composition range. Among these, as a more preferable glass composition range,
(1) SiO 2 50~85% by mole%, Al 2 O 3 5~12.5% , Li 2 O 0~9%, Na 2 O 7~20%, K 2 O 0~8%, TiO 2 0.001~8%, B 2 O 3 0~7 %, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O + Al 2 O 3 containing 20 to 29%, and the mole fraction (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) / Al The value of 2 O 3 is 1.5 to 2.5, the value of (MgO + CaO) / Al 2 O 3 is 0 to 0.5, and substantially contains As 2 O 3 , F, PbO, BaO. SiO 2 55 to 75% of glass (2) mol% which does not contain, Al 2 O 3 6~11%, Li 2 O 0~8%, Na 2 O 7~20%, K 2 O 0~8%, TiO 2 0.01~5%, B 2 O 3 0~3%, 0~10% ZnO, ZrO 2 0~5%, MgO 0~5.5%, CaO 0~5.5%, SrO 0~5 % P 2 O 5 0~3%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O + Al 2 O 3 containing 22 to 28.5%, and the mole fraction (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) / Al 2 O 3 value Is 1.8 to 2.4, and the value of (MgO + CaO) / Al 2 O 3 is 0 to 0.5, and glass containing substantially no As 2 O 3 , F, PbO, or BaO (3 ) SiO 2 55 to 75% by mol%, Al 2 O 3 7~9% , Li 2 O 0~8%, Na 2 O 7~18%, K 2 O 0~7%, TiO 2 0.01~ 5%, B 2 O 3 0~1 %, 0~6% ZnO, ZrO 2 0~5%, MgO 0~4.5%, CaO 0~4.5%, SrO 0~5%, P 2 O 5 0~0.5%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O + Al 2 O 3 containing 22 to 28.5%, and the mole fraction (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) / Al 2 O 3 Value is 1.9~2.4, (MgO + CaO) / value of Al 2 O 3 is a 0 to 0.5, substantially As 2 O 3, F, PbO , glass containing no BaO ( 4) SiO 2 50~85% by mole%, Al 2 O 3 5~12.5% , B 2 O 3 0~7%, Li 2 O 0.5~10%, Na 2 O 0~15%, K 2 O 0-10%, TiO 2 0.1-10%, ZnO 0-10%, ZrO 2 0-5%, MgO 0-10%, CaO 0-5%, SrO 0-5%, BaO 0 ~1%, P 2 O 5 0~5 %, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O + Al 2 O 3 containing 20 to 28.5%, and the mole fraction (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) / Al 2 O value of 3 is 1.5~2.5, SiO 2 58~70% substantially glass containing no F (5) mol%, Al 2 O 3 6~11% , B 2 O 3 0 to 3%, Li 2 O 3 to 10%, Na 2 O 6 to 11%, K 2 O 0 to 4%, TiO 2 0.1 to 4%, ZnO 0 to 10%, ZrO 2 0 to 1%, MgO 0-9%, CaO 0-3%, SrO 0-3%, BaO 0-1%, P 2 O 5 0-3%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O + Al 2 O 3 22-28. A glass containing 5% and having a molar fraction of (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) / Al 2 O 3 of 1.8 to 2.3 and substantially free of F can be mentioned.

ガラス組成を上記範囲内に規制すれば、ガラスの耐失透性を大幅に改善できるとともに、オーバーフローダウンドロー法による成形に必要な粘度特性を的確に確保でき、且つイオン交換性能を顕著に向上させることができる。   If the glass composition is regulated within the above range, the devitrification resistance of the glass can be greatly improved, the viscosity characteristics necessary for molding by the overflow down draw method can be ensured accurately, and the ion exchange performance is remarkably improved. be able to.

本発明の強化ガラス基板は、上記ガラス組成を有するとともに、ガラス表面に圧縮応力層を有している。圧縮応力層の圧縮応力は、100MPa以上が好ましく、300MPa以上がより好ましく、400MPa以上が更に好ましく、500MPa以上が更に好ましく、600MPa以上が特に好ましく、700MPa以上が最も好ましい。圧縮応力が大きくなるにつれて、ガラス基板の機械的強度が高くなる。一方、ガラス基板表面に極端に大きな圧縮応力が形成されると、基板表面にマイクロクラックが発生し、かえってガラスの強度が低下するおそれがあるため、圧縮応力層の圧縮応力の大きさは、2000MPa以下とするのが好ましい。   The tempered glass substrate of the present invention has the above glass composition and a compressive stress layer on the glass surface. The compressive stress of the compressive stress layer is preferably 100 MPa or more, more preferably 300 MPa or more, still more preferably 400 MPa or more, still more preferably 500 MPa or more, particularly preferably 600 MPa or more, and most preferably 700 MPa or more. As the compressive stress increases, the mechanical strength of the glass substrate increases. On the other hand, if an extremely large compressive stress is formed on the surface of the glass substrate, microcracks may be generated on the surface of the substrate, which may reduce the strength of the glass. Therefore, the magnitude of the compressive stress in the compressive stress layer is 2000 MPa. The following is preferable.

圧縮応力層の厚みは、1μm以上が好ましく、3μm以上がより好ましく、5μm以上が更に好ましく、10μm以上が特に好ましく、15μm以上が最も好ましい。圧縮応力層の厚みが大きい程、ガラス基板に深い傷がついても、ガラス基板が割れにくくなる。一方、ガラス基板表面に極端に大きな圧縮応力層が形成されると、ガラス基板を切断しにくくなるため、圧縮応力層の厚みは、500μm以下とするのが好ましい。   The thickness of the compressive stress layer is preferably 1 μm or more, more preferably 3 μm or more, further preferably 5 μm or more, particularly preferably 10 μm or more, and most preferably 15 μm or more. The greater the thickness of the compressive stress layer, the more difficult it is to break even if the glass substrate is deeply scratched. On the other hand, when an extremely large compressive stress layer is formed on the surface of the glass substrate, it becomes difficult to cut the glass substrate. Therefore, the thickness of the compressive stress layer is preferably 500 μm or less.

本発明の強化ガラス基板は、板厚が2.0mm以下、1.5mm以下、0.7mm以下、0.5mm以下、特に0.3mm以下であることが好ましい。ガラス基板の板厚が薄い程、ガラス基板を軽量化することできる。また、本発明の強化ガラス基板は、板厚を薄くしても、ガラス基板が破壊しにくい利点を有している。   The tempered glass substrate of the present invention preferably has a plate thickness of 2.0 mm or less, 1.5 mm or less, 0.7 mm or less, 0.5 mm or less, particularly 0.3 mm or less. The thinner the glass substrate, the lighter the glass substrate. Further, the tempered glass substrate of the present invention has an advantage that the glass substrate is not easily broken even if the plate thickness is reduced.

本発明の強化ガラス基板は、未研磨の表面を有することが好ましい。ガラスの理論強度は本来非常に高いのであるが、理論強度よりも遥かに低い応力でも破壊に至ることが多い。これは、ガラス基板の表面にグリフィスフローと呼ばれる小さな欠陥がガラスの成形後の工程、例えば研磨工程等で生じるからである。それ故、強化ガラス基板の表面を未研磨とすれば、本来のガラス基板の機械的強度を損ない難くなり、ガラス基板が破壊し難くなる。また、ガラス基板の表面を未研磨とすれば、ガラス基板の製造工程で研磨工程を省略できるため、ガラス基板の製造コストを下げることができる。本発明の強化ガラス基板において、ガラス基板の両面全体を未研磨とすれば、ガラス基板が更に破壊し難くなる。また、本発明の強化ガラス基板において、ガラス基板の切断面から破壊に至る事態を防止するため、ガラス基板の切断面に面取り加工等を施してもよい。   The tempered glass substrate of the present invention preferably has an unpolished surface. The theoretical strength of glass is inherently very high, but breakage often occurs even at a stress much lower than the theoretical strength. This is because a small defect called Griffith flow is generated on the surface of the glass substrate in a step after glass molding, for example, a polishing step. Therefore, if the surface of the tempered glass substrate is unpolished, the mechanical strength of the original glass substrate is hardly impaired, and the glass substrate is hardly broken. Further, if the surface of the glass substrate is unpolished, the polishing process can be omitted in the glass substrate manufacturing process, so that the manufacturing cost of the glass substrate can be reduced. In the tempered glass substrate of the present invention, if both surfaces of the glass substrate are unpolished, the glass substrate becomes more difficult to break. Moreover, in the tempered glass substrate of this invention, in order to prevent the situation which breaks from the cut surface of a glass substrate, you may give a chamfering process etc. to the cut surface of a glass substrate.

本発明に係るガラス基板は、所望のガラス組成となるように調合したガラス原料を連続溶融炉に投入し、ガラス原料を1500〜1600℃で加熱溶融し、清澄した後、成形装置に供給した上で溶融ガラスを板状に成形し、徐冷することにより製造することができる。   In the glass substrate according to the present invention, a glass raw material prepared to have a desired glass composition is charged into a continuous melting furnace, the glass raw material is heated and melted at 1500 to 1600 ° C., clarified, and then supplied to a molding apparatus. The molten glass can be produced by forming it into a plate shape and slowly cooling it.

本発明に係るガラス基板は、オーバーフローダウンドロー法で成形されてなることが好ましい。オーバーフローダウンドロー法でガラス基板を成形すれば、未研磨で表面品位が良好なガラス基板を製造することができる。その理由は、オーバーフローダウンドロー法の場合、ガラス基板の表面となるべき面は樋状耐火物に接触せず、自由表面の状態で成形されることにより、無研磨で表面品位が良好なガラス基板を成形できるからである。ここで、オーバーフローダウンドロー法は、溶融状態のガラスを耐熱性の樋状構造物の両側から溢れさせて、溢れた溶融ガラスを樋状構造物の下端で合流させながら、下方に延伸成形してガラス基板を製造する方法である。樋状構造物の構造や材質は、ガラス基板の寸法や表面精度を所望の状態とし、ガラス基板に使用できる品位を実現できるものであれば、特に限定されない。また、下方への延伸成形を行うためにガラス基板に対してどのような方法で力を印加するものであってもよい。例えば、充分に大きい幅を有する耐熱性ロールをガラス基板に接触させた状態で回転させて延伸する方法を採用してもよいし、複数の対になった耐熱性ロールをガラス基板の端面近傍のみに接触させて延伸する方法を採用してもよい。本発明のガラスは、耐失透性に優れるとともに、成形に適した粘度特性を有しているため、オーバーフローダウンドロー法による成形を精度よく実行することができる。なお、液相温度が1300℃以下、液相粘度が104.0dPa・s以上であれば、オーバーフローダウンドロー法でガラス基板を製造することができる。 The glass substrate according to the present invention is preferably formed by an overflow downdraw method. If the glass substrate is formed by the overflow down draw method, a glass substrate that is unpolished and has good surface quality can be produced. The reason for this is that, in the case of the overflow down draw method, the surface to be the surface of the glass substrate does not come into contact with the bowl-like refractory, and is molded in a free surface state. This is because it can be molded. Here, the overflow down draw method is to melt the molten glass from both sides of the heat-resistant bowl-like structure and draw the overflowed molten glass downward while joining at the lower end of the bowl-like structure. This is a method for producing a glass substrate. The structure and material of the bowl-shaped structure are not particularly limited as long as the dimensions and surface accuracy of the glass substrate can be set to a desired state and the quality usable for the glass substrate can be realized. Moreover, in order to perform the downward extending | stretching shaping | molding, you may apply force with what kind of method with respect to a glass substrate. For example, a method may be employed in which a heat-resistant roll having a sufficiently large width is rotated and stretched in contact with the glass substrate, or a plurality of pairs of heat-resistant rolls are only near the end face of the glass substrate. You may employ | adopt the method of making it contact and extending | stretching. The glass of the present invention is excellent in devitrification resistance and has a viscosity characteristic suitable for molding, so that molding by the overflow down draw method can be performed with high accuracy. If the liquid phase temperature is 1300 ° C. or lower and the liquid phase viscosity is 10 4.0 dPa · s or higher, the glass substrate can be produced by the overflow down draw method.

本発明の強化ガラス基板の成形方法として、オーバーフローダウンドロー法以外にも、種々の方法を採用することができる。例えば、フロート法、スロットダウン法、リドロー法、ロールアウト法、プレス法等の様々な成形方法を採用することができる。特に、プレス法でガラスを成形すれば、小型のガラス基板を効率良く製造することができる。   In addition to the overflow down draw method, various methods can be adopted as the method for forming the tempered glass substrate of the present invention. For example, various forming methods such as a float method, a slot-down method, a redraw method, a roll-out method, and a press method can be employed. In particular, if glass is formed by a pressing method, a small glass substrate can be efficiently produced.

本発明の強化ガラス基板の製造方法として、強化処理を施した後、ガラス基板を所望の基板サイズに切断することが好ましい。このようにすれば、安価に強化ガラス基板を得ることができる。   As a method for producing a tempered glass substrate of the present invention, it is preferable to cut the glass substrate into a desired substrate size after the tempering treatment. Thus, a tempered glass substrate can be obtained at a low cost.

本発明の強化ガラス基板は、下記の特性を満足することが好ましい。   The tempered glass substrate of the present invention preferably satisfies the following characteristics.

本発明の強化ガラス基板において、ガラスの液相温度は、1200℃以下、1100℃以下、1050℃以下、1000℃以下、950℃以下、特に930℃以下が好ましい。強化ガラス基板の液相温度が低い程、オーバーフローダウンドロー法等による成形中にガラスが失透しにくくなる。   In the tempered glass substrate of the present invention, the liquidus temperature of the glass is preferably 1200 ° C. or lower, 1100 ° C. or lower, 1050 ° C. or lower, 1000 ° C. or lower, 950 ° C. or lower, particularly 930 ° C. or lower. The lower the liquidus temperature of the tempered glass substrate, the more difficult it is to devitrify the glass during molding by the overflow down draw method or the like.

本発明の強化ガラス基板において、ガラスの液相粘度は、104.0dPa・s以上、104.3dPa・s以上、104.5dPa・s以上、105.0dPa・s以上、105.3dPa・s以上、105.5dPa・s以上、特に105.7dPa・s以上が好ましい。ガラスの液相粘度が高い程、オーバーフローダウンドロー法等による成形中にガラスが失透しにくくなる。 In the tempered glass substrate of the present invention, the liquidus viscosity of the glass, 10 4.0 dPa · s or more, 10 4.3 dPa · s or more, 10 4.5 dPa · s or more, 10 5.0 dPa · s or more, 10 5.3 dPa · s or more, It is preferably 10 5.5 dPa · s or more, particularly preferably 10 5.7 dPa · s or more. The higher the liquidus viscosity of the glass, the more difficult it is to devitrify during molding by the overflow downdraw method or the like.

本発明の強化ガラス基板において、ガラスの密度は、2.8g/cm3以下、2.7g/cm3以下、2.6g/cm3以下、2.55g/cm3以下、2.5g/cm3以下、2.45g/cm3以下、特に2.4g/cm3以下が好ましい。ガラスの密度が小さい程、ガラス基板の軽量化を図ることができる。 In the tempered glass substrate of the present invention, the density of the glass, 2.8 g / cm 3 or less, 2.7 g / cm 3 or less, 2.6 g / cm 3 or less, 2.55 g / cm 3 or less, 2.5 g / cm 3 below, 2.45 g / cm 3 or less, especially 2.4 g / cm 3 or less. As the glass density is smaller, the glass substrate can be made lighter.

本発明の強化ガラス基板において、30〜380℃におけるガラスの熱膨張係数は、40〜95×10-7/℃であることが好ましく、70〜95×10-7/℃であることがより好ましく、75〜95×10-7/℃であることが更に好ましく、77〜90×10-7/℃であることが特に好ましく、80〜90×10-7/℃であることが最も好ましい。ガラスの熱膨張係数を上記範囲とすれば、金属、有機系接着剤等の部材と熱膨張係数が整合しやすくなり、金属、有機系接着剤等の部材の剥離を防止することができる。 In the tempered glass substrate of the present invention, the thermal expansion coefficient of the glass at 30 to 380 ° C. is preferably 40 to 95 × 10 −7 / ° C., and more preferably 70 to 95 × 10 −7 / ° C. , more preferably from 75 to 95 × 10 -7 / ° C., particularly preferably from 77 to 90 × 10 -7 / ° C., and most preferably 80~90 × 10 -7 / ℃. If the thermal expansion coefficient of the glass is in the above range, it becomes easy to match the thermal expansion coefficient with a member such as a metal or an organic adhesive, and peeling of the member such as a metal or an organic adhesive can be prevented.

本発明の強化ガラス基板において、ガラスの高温粘度102.5dPa・sにおける温度は、1700℃以下が好ましく、1600℃以下がより好ましく、1550℃以下が更に好ましく、1500℃以下が特に好ましい。ガラスの高温粘度102.5dPa・sにおける温度が低い程、溶融窯等のガラスの製造設備への負担が小さいとともに、ガラス基板の泡品位を向上させることができる。つまり、ガラスの高温粘度102.5dPa・sにおける温度が低い程、ガラス基板を安価に製造することができる。なお、ガラスの高温粘度102.5dPa・sにおける温度は、ガラスの溶融温度に相当しており、ガラスの高温粘度102.5dPa・sにおける温度が低い程、低温でガラスを溶融することができる。 In the tempered glass substrate of the present invention, the temperature at a high temperature viscosity of 10 2.5 dPa · s of the glass is preferably 1700 ° C. or less, more preferably 1600 ° C. or less, further preferably 1550 ° C. or less, and particularly preferably 1500 ° C. or less. The lower the temperature at a glass high-temperature viscosity of 10 2.5 dPa · s, the smaller the burden on glass manufacturing equipment such as a melting furnace, and the higher the bubble quality of the glass substrate. That is, the glass substrate can be manufactured at a lower cost as the temperature at a high temperature viscosity of 10 2.5 dPa · s is lower. The temperature at a high temperature viscosity of 10 2.5 dPa · s of the glass corresponds to the melting temperature of the glass. The lower the temperature at the high temperature viscosity of 10 2.5 dPa · s of the glass, the lower the glass can be melted.

本発明の強化ガラス基板において、ガラスのヤング率は、70GPa以上が好ましく、71GPa以上がより好ましく、73GPa以上が更に好ましい。ガラスのヤング率が高い程、ガラス基板がたわみにくくなり、その結果、タッチパネルディスプレイ等のデバイスにおいてペン等でディスプレイを押した際に、デバイス内部の液晶素子等を圧迫しにくくなり、ディスプレイの表示不良が発生しにくくなる。   In the tempered glass substrate of the present invention, the Young's modulus of the glass is preferably 70 GPa or more, more preferably 71 GPa or more, and further preferably 73 GPa or more. The higher the Young's modulus of the glass, the more difficult it is to bend the glass substrate. Is less likely to occur.

本発明の強化ガラス基板において、ガラスの比ヤング率は、27GPa/(g/cm3)以上が好ましく、28GPa/(g/cm3)以上がより好ましく、29GPa/(g/cm3)以上が更に好ましく、30GPa/(g/cm3)以上が特に好ましい。ガラスの比ヤング率が高い程、自重によるガラス基板のたわみが低減される。その結果、製造工程においてガラス基板をカセットなどに収納する際、基板同士のクリアランスを狭くして収納することが可能になるため、生産性が向上する。 In the tempered glass substrate of the present invention, specific Young's modulus of the glass is preferably 27GPa / (g / cm 3) or more, 28GPa / (g / cm 3 ) or more is more preferable, 29GPa / (g / cm 3 ) or higher More preferred is 30 GPa / (g / cm 3 ) or more. As the specific Young's modulus of the glass is higher, the deflection of the glass substrate due to its own weight is reduced. As a result, when the glass substrate is stored in a cassette or the like in the manufacturing process, the clearance between the substrates can be narrowed and stored, thereby improving productivity.

本発明の強化ガラス基板において、ガラスのクラック発生率は、60%以下であることが好ましく、50%以下であることがより好ましく、40%以下であることが更に好ましく、30%以下であることが特に好ましく、20%以下であることが最も好ましい。ガラスのクラック発生率が小さい程、ガラス基板にクラックが発生しにくくなる。   In the tempered glass substrate of the present invention, the glass crack generation rate is preferably 60% or less, more preferably 50% or less, further preferably 40% or less, and more preferably 30% or less. Is particularly preferable, and is most preferably 20% or less. The smaller the glass crack generation rate, the harder it is to generate cracks in the glass substrate.

本発明のガラスは、ガラス組成として、モル%でSiO2 50〜85%、Al23 5〜30%、Li2O 0〜20%、Na2O 0〜20%、K2O 0〜20%、TiO2 0.001〜10%、Li2O+Na2O+K2O+Al23 15〜35%を含有し、且つモル分率で、(Li2O+Na2O+K2O)/Al23の値が0.7〜3であって、実質的にAs23、Fを含有しないことを特徴とする。また、本発明のガラスは、ガラス組成として、モル%でSiO2 50〜85%、Al23 5〜30%、B23 0〜7%、Li2O 0.5〜20%、Na2O 0〜20%、K2O 0〜20%、TiO2 0.001〜10%、Li2O+Na2O+K2O+Al23 15〜35%を含有し、且つモル分率で、(Li2O+Na2O+K2O)/Al23の値が0.7〜3であることを特徴とする。本発明のガラスにおいて、ガラス組成を上記範囲に限定した理由および好ましい範囲は、既述の強化ガラス基板と同様であるため、ここではその記載を省略する。さらに、本発明のガラスは、当然のことながら、既述の強化ガラス基板の特性、効果を併有することができる。 The glass of the present invention, a glass composition, SiO 2 50 to 85% by mol%, Al 2 O 3 5~30% , Li 2 O 0~20%, Na 2 O 0~20%, K 2 O 0~ 20%, TiO 2 0.001-10%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O + Al 2 O 3 15-35% and in molar fraction (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) / Al 2 O 3 The value of is 0.7 to 3 , and is substantially free of As 2 O 3 and F. The glass of the present invention has a glass composition, SiO 2 50 to 85% by mol%, Al 2 O 3 5~30% , B 2 O 3 0~7%, Li 2 O 0.5~20%, Containing Na 2 O 0-20%, K 2 O 0-20%, TiO 2 0.001-10%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O + Al 2 O 3 15-35%, and in molar fractions ( the value of li 2 O + Na 2 O + K 2 O) / Al 2 O 3 is characterized in that 0.7 to 3. In the glass of the present invention, the reason why the glass composition is limited to the above range and the preferable range are the same as those of the tempered glass substrate described above, and thus the description thereof is omitted here. Furthermore, the glass of the present invention can naturally have both the characteristics and effects of the tempered glass substrate described above.

本発明のガラスは、430℃のKNO3溶融塩中で4時間イオン交換したとき、表面の圧縮応力が200MPa以上、且つ圧縮応力層の厚みが3μm以上になることが好ましい。本発明のガラスは、ガラス組成が上記範囲に規制されているため、イオン交換性能が良好であり、容易に表面の圧縮応力を200MPa以上、且つ圧縮応力層の厚みを3μm以上とすることができる。 The glass of the present invention preferably has a surface compressive stress of 200 MPa or more and a compressive stress layer thickness of 3 μm or more when ion-exchanged in KNO 3 molten salt at 430 ° C. for 4 hours. Since the glass composition of the present invention is regulated within the above range, the ion exchange performance is good, the surface compressive stress can be easily 200 MPa or more, and the thickness of the compressive stress layer can be 3 μm or more. .

本発明の強化ガラスは、モル%でSiO2 50〜85%、Al23 5〜30%、Li2O 0〜20%、Na2O 0〜20%、K2O 0〜20%、TiO2 0.001〜10%、Li2O+Na2O+K2O+Al23 15〜35%を含有し、且つモル分率で、(Li2O+Na2O+K2O)/Al23の値が0.7〜3であって、実質的にAs23、Fを含有せず、表面に圧縮応力層が形成されている。また、本発明の強化ガラスは、モル%でSiO2 50〜85%、Al23 5〜30%、B23 0〜7%、Li2O 0.5〜20%、Na2O 0〜20%、K2O 0〜20%、TiO2 0.001〜10%、Li2O+Na2O+K2O+Al23 15〜35%を含有し、且つモル分率で、(Li2O+Na2O+K2O)/Al23の値が0.7〜3であり、表面に圧縮応力層が形成されている。本発明の強化ガラスにおいて、ガラス組成を上記範囲に限定した理由、好ましい範囲および圧縮応力層を形成する理由は、既述の強化ガラス基板と同様であるため、ここではその記載を省略する。さらに、本発明の強化ガラスは、当然のことながら、既述の強化ガラス基板の特性、効果を併有することができる。 The tempered glass of the present invention is SiO 2 50-85%, Al 2 O 3 5-30%, Li 2 O 0-20%, Na 2 O 0-20%, K 2 O 0-20% in mol%, TiO 2 0.001-10%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O + Al 2 O 3 15-35%, and in terms of mole fraction, the value of (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) / Al 2 O 3 is a 0.7 to 3, substantially contains no as 2 O 3, F, compressive stress layer is formed on the surface. Further, the tempered glass of the present invention, SiO 2 50 to 85% by mol%, Al 2 O 3 5~30% , B 2 O 3 0~7%, Li 2 O 0.5~20%, Na 2 O 0~20%, K 2 O 0~20% , TiO 2 0.001~10%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O + Al 2 contain O 3 15 to 35%, and the mole fraction, (Li 2 O + Na The value of 2 O + K 2 O) / Al 2 O 3 is 0.7 to 3 , and a compressive stress layer is formed on the surface. In the tempered glass of the present invention, the reason why the glass composition is limited to the above range, the preferred range, and the reason for forming the compressive stress layer are the same as those of the tempered glass substrate described above, and therefore the description thereof is omitted here. Furthermore, the tempered glass of the present invention can naturally have both the characteristics and effects of the tempered glass substrate described above.

タッチパネルディスプレイは、携帯電話、デジタルカメラ、PDA等に搭載されている。モバイル用途のタッチパネルディスプレイでは、軽量化、薄型化、高強度化の要請が強く、薄型で機械的強度が高いガラス基板が要求されている。その点、本発明の強化ガラス基板は、板厚を薄くしても、実用上、十分な機械的強度を有するため、本用途に好適に使用可能である。また携帯電話やデジタルカメラ等に搭載されるLCD等を保護するためのカバーガラスとしても使用可能である。   The touch panel display is mounted on a mobile phone, a digital camera, a PDA or the like. In the touch panel display for mobile use, there is a strong demand for weight reduction, thinning, and high strength, and a thin and high mechanical strength glass substrate is required. In that respect, the tempered glass substrate of the present invention can be suitably used for this application because it has sufficient mechanical strength for practical use even if the plate thickness is reduced. It can also be used as a cover glass for protecting LCDs mounted on mobile phones and digital cameras.

以下、本発明を実施例に基づいて説明する。   Hereinafter, the present invention will be described based on examples.

表1〜7は、本発明の実施例(試料No.1〜46)および本発明の比較例(試料No.47、48)を示している。   Tables 1 to 7 show examples of the present invention (sample Nos. 1 to 46) and comparative examples (samples No. 47 and 48) of the present invention.

Figure 2008115072
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各試料は次のようにして作製した。まず、表1〜7のガラス組成となるように、ガラス原料を調合し、白金ポットを用いて1600℃で8時間溶融した。その後、溶融ガラスをカーボン板の上に流し出して板状に成形した。得られたガラス基板について、種々の特性を評価した。   Each sample was produced as follows. First, the glass raw material was prepared so that it might become a glass composition of Tables 1-7, and it melted at 1600 degreeC for 8 hours using the platinum pot. Thereafter, the molten glass was poured onto a carbon plate and formed into a plate shape. Various characteristics were evaluated about the obtained glass substrate.

密度は、周知のアルキメデス法によって測定した。   The density was measured by the well-known Archimedes method.

歪点Ps、徐冷点Taは、ASTM C336の方法に基づいて測定した。   The strain point Ps and the annealing point Ta were measured based on the method of ASTM C336.

軟化点Tsは ASTM C338の方法に基づいて測定を行った。   The softening point Ts was measured based on the method of ASTM C338.

ガラスの粘度104.0dPa・s、103.0dPa・s、102.5dPa・sにおける温度は、白金球引き上げ法で測定した。 The glass viscosity of 10 4.0 dPa · s, 10 3.0 dPa · s, and 10 2.5 dPa · s were measured by the platinum ball pulling method.

熱膨張係数αは、ディラトメーターを用いて、30〜380℃における平均熱膨張係数を測定したものである。   The thermal expansion coefficient α is an average thermal expansion coefficient measured at 30 to 380 ° C. using a dilatometer.

液相温度は、ガラスを粉砕し、標準篩30メッシュ(篩目開き500μm)を通過し、50メッシュ(篩目開き300μm)に残るガラス粉末を白金ボートに入れ、温度勾配炉中に24時間保持して、結晶の析出する温度を測定したものである。   The liquid phase temperature is obtained by crushing glass, passing through a standard sieve 30 mesh (a sieve opening of 500 μm), putting the glass powder remaining in 50 mesh (a sieve opening of 300 μm) into a platinum boat, and keeping it in a temperature gradient furnace for 24 hours. Then, the temperature at which the crystals are deposited is measured.

クラック発生率は、次のようにして測定した。まず湿度30%、温度25℃に保持された恒温恒湿槽内において、荷重500gに設定したビッカース圧子をガラス表面(光学研磨面)に15秒間打ち込み、その15秒後に圧痕の4隅から発生するクラックの数をカウント(1つの圧痕につき最大4とする)する。このようにして圧子を20回打ち込み、総クラック発生数を求めた後、(総クラック発生数/80)×100の式により求めた。   The crack occurrence rate was measured as follows. First, in a constant temperature and humidity chamber maintained at a humidity of 30% and a temperature of 25 ° C., a Vickers indenter set to a load of 500 g is driven into the glass surface (optical polishing surface) for 15 seconds, and 15 seconds later, it is generated from the four corners of the indentation. Count the number of cracks (maximum 4 per indentation). Thus, after indenting 20 times and calculating | requiring the total number of crack generation, it calculated | required by the formula of (total number of crack generation / 80) x100.

ヤング率は共振法により測定した。   Young's modulus was measured by the resonance method.

その結果、No.1〜46のガラス基板は、密度が2.6g/cm3以下、ヤング率が71GPa以上、比ヤング率が29.5GPa/(g/cm3)以上であり、軽量でたわみにくい。また、No.1〜46のガラス基板は、熱膨張係数が43〜95×10-7/℃であり、周辺材料と熱膨張係数が整合しているとともに、クラック発生率が30%以下であり、ガラスが割れにくい。さらに、No.1〜46のガラスは、液相粘度が104.0dPa・s以上と高くオーバーフローダウンドロー法で成形可能であり、しかも102.5dPa・sにおける温度が1700℃以下と低く、安価に大量のガラス基板を供給できるものと考えられる。なお、未強化ガラス基板と強化ガラス基板は、ガラス基板の表層において微視的にガラス組成が異なっているものの、ガラス基板全体としてガラス組成が実質的に相違しない。したがって、密度、粘度、ヤング率などの特性値については未強化ガラス基板と強化ガラス基板は、上記特性が実質的に相違しない。尚、クラック発生率はガラス表層の組成の影響を受けるため、未強化ガラス基板と、強化ガラス基板で特性値が異なる場合があるが、強化ガラス基板ではクラック発生率がより低くなる傾向にあるため、本発明において強度を低下させる因子とはならない。 As a result, no. The glass substrates 1 to 46 have a density of 2.6 g / cm 3 or less, a Young's modulus of 71 GPa or more, and a specific Young's modulus of 29.5 GPa / (g / cm 3 ) or more, and are lightweight and hardly deflected. No. The glass substrate 1 to 46 has a thermal expansion coefficient of 43 to 95 × 10 −7 / ° C., the thermal expansion coefficient is consistent with that of the surrounding material, the crack generation rate is 30% or less, and the glass is cracked. Hateful. Furthermore, no. Glass 1-46 are moldable at liquidus viscosity of 10 4.0 dPa · s or more and higher overflow down draw method, moreover 10 2.5 low temperature is 1700 ° C. or less in dPa · s, inexpensively mass of the glass substrate Can be supplied. In addition, although a glass composition differs microscopically in the surface layer of a glass substrate, a glass composition does not differ substantially as the whole glass substrate. Therefore, the characteristic values such as density, viscosity, Young's modulus, etc. are not substantially different between the untempered glass substrate and the tempered glass substrate. In addition, since the crack occurrence rate is affected by the composition of the glass surface layer, the characteristic value may differ between the untempered glass substrate and the tempered glass substrate, but the crack occurrence rate tends to be lower in the tempered glass substrate. In the present invention, it is not a factor for reducing the strength.

一方、比較例No.47の試料は、液相温度が1350℃以上であり、液相粘度も低いため、オーバーフローダウンドロー法による成形が困難であると考えられる。   On the other hand, Comparative Example No. The sample No. 47 has a liquidus temperature of 1350 ° C. or higher and a low liquidus viscosity, so it is considered difficult to mold by the overflow downdraw method.

続いて各ガラス基板の両表面に光学研磨を施した後、イオン交換処理を行った。イオン交換は、430℃のKNO3溶融塩中に各試料を4時間浸漬することで行った。処理を終えた各試料は表面を洗浄した後、表面応力計(株式会社東芝製FSM−60)を用いて観察される干渉縞の本数とその間隔から表面の圧縮応力値と圧縮応力層の厚みを算出した。 Subsequently, after both surfaces of each glass substrate were optically polished, ion exchange treatment was performed. Ion exchange was performed by immersing each sample in KNO 3 molten salt at 430 ° C. for 4 hours. After the surface of each sample after the treatment was cleaned, the surface compressive stress value and the thickness of the compressive stress layer were determined from the number of interference fringes observed using a surface stress meter (FSM-60 manufactured by Toshiba Corporation) and the interval between the interference fringes. Was calculated.

その結果、本発明の実施例であるNo.1〜46の各試料は、その表面に200MPa以上の圧縮応力が発生しており、かつその厚みは9μm以上であった。   As a result, No. 1 as an example of the present invention. In each of the samples 1 to 46, a compressive stress of 200 MPa or more was generated on the surface, and the thickness was 9 μm or more.

一方、比較例No.47、48の各試料は、イオン交換処理後も圧縮応力層の存在が確認できなかった。   On the other hand, Comparative Example No. In each of the samples 47 and 48, the presence of a compressive stress layer could not be confirmed even after the ion exchange treatment.

なお、上記実施例は、本発明の説明の便宜上、ガラスの溶融し、流し出しによる成形を行った後、イオン交換処理前に光学研磨を行った。工業的規模で実施する場合には、オーバーフローダウンドロー法等でガラス基板を成形し、ガラス基板の両表面が未研磨の状態でイオン交換処理することが望ましい。   In the above examples, for convenience of explanation of the present invention, glass was melted and cast by casting, and then optically polished before ion exchange treatment. When implemented on an industrial scale, it is desirable to form a glass substrate by an overflow down draw method or the like, and to perform ion exchange treatment in a state where both surfaces of the glass substrate are unpolished.

本発明の強化ガラス基板は、携帯電話、デジタルカメラ、PDA等のカバーガラス、或いはタッチパネルディスプレイ等のガラス基板として好適である。また、本発明の強化ガラス基板は、これらの用途以外にも、高い機械的強度が要求される用途、例えば窓ガラス、磁気ディスク用基板、フラットパネルディスプレイ用基板、太陽電池用カバーガラス、固体撮像素子用カバーガラス、食器への応用が期待できる。   The tempered glass substrate of the present invention is suitable as a glass substrate for a mobile phone, a digital camera, a cover glass such as a PDA, or a touch panel display. In addition to these uses, the tempered glass substrate of the present invention is used for applications requiring high mechanical strength, such as window glass, magnetic disk substrates, flat panel display substrates, solar cell cover glasses, solid-state imaging. Application to cover glass for elements and tableware can be expected.

Claims (19)

表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、
ガラス組成として、モル%でSiO2 50〜85%、Al23 5〜30%、Li2O 0〜20%、Na2O 0〜20%、K2O 0〜20%、TiO2 0.001〜10%、Li2O+Na2O+K2O+Al23 15〜35%を含有し、且つモル分率で、(Li2O+Na2O+K2O)/Al23の値が0.7〜3であって、実質的にAs23、Fを含有しないことを特徴とする強化ガラス基板。
A tempered glass substrate having a compressive stress layer on its surface,
A glass composition, SiO 2 50 to 85% by mol%, Al 2 O 3 5~30% , Li 2 O 0~20%, Na 2 O 0~20%, K 2 O 0~20%, TiO 2 0 0.001-10%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O + Al 2 O 3 15-35%, and in terms of mole fraction, the value of (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) / Al 2 O 3 is 0.7 a to 3, tempered glass substrate, wherein substantially contains no as 2 O 3, F.
ガラス組成として、モル%でSiO2 50〜85%、Al23 5〜12.5%、B23 0〜7%、Li2O 0〜9%、Na2O 7〜20%、K2O 0〜8%、TiO2 0.001〜8%、Li2O+Na2O+K2O+Al23 15〜35%を含有し、且つモル分率で、(Li2O+Na2O+K2O)/Al23の値が0.7〜2.7、(MgO+CaO)/Al23の値が0〜0.55であって、実質的にAs23、Fを含有しないことを特徴とする請求項1に記載の強化ガラス基板。 A glass composition, SiO 2 50 to 85% by mol%, Al 2 O 3 5~12.5% , B 2 O 3 0~7%, Li 2 O 0~9%, Na 2 O 7~20%, Contains K 2 O 0-8%, TiO 2 0.001-8%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O + Al 2 O 3 15-35%, and in molar fraction (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) The value of / Al 2 O 3 is 0.7 to 2.7, the value of (MgO + CaO) / Al 2 O 3 is 0 to 0.55, and substantially no As 2 O 3 or F is contained. The tempered glass substrate according to claim 1. 表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、
ガラス組成として、モル%でSiO2 50〜85%、Al23 5〜30%、B23 0〜7%、Li2O 0.5〜20%、Na2O 0〜20%、K2O 0〜20%、TiO2 0.001〜10%、Li2O+Na2O+K2O+Al23 15〜35%を含有し、且つモル分率で、(Li2O+Na2O+K2O)/Al23の値が0.7〜3であることを特徴とする強化ガラス基板。
A tempered glass substrate having a compressive stress layer on its surface,
A glass composition, SiO 2 50 to 85% by mol%, Al 2 O 3 5~30% , B 2 O 3 0~7%, Li 2 O 0.5~20%, Na 2 O 0~20%, K 2 O 0~20%, TiO 2 0.001~10%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O + Al 2 contain O 3 15 to 35%, and the mole fraction, (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) / Al 2 O 3 has a value of 0.7 to 3 , a tempered glass substrate.
ガラス組成として、モル%でSiO2 50〜85%、Al23 5〜12.5%、B23 0〜7%、Li2O 0.5〜10%、Na2O 0〜20%、K2O 0〜20%、TiO2 0.01〜10%、Li2O+Na2O+K2O+Al23 15〜28.5%を含有し、且つモル分率で、(Li2O+Na2O+K2O)/Al23の値が0.7〜2.7であることを特徴とする請求項3に記載の強化ガラス基板。 A glass composition, SiO 2 50 to 85% by mol%, Al 2 O 3 5~12.5% , B 2 O 3 0~7%, Li 2 O 0.5~10%, Na 2 O 0~20 %, K 2 O 0-20%, TiO 2 0.01-10%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O + Al 2 O 3 15-28.5% and in molar fractions (Li 2 O + Na 2 The tempered glass substrate according to claim 3 , wherein the value of O + K 2 O) / Al 2 O 3 is 0.7 to 2.7. 表面の圧縮応力が100MPa以上、且つ圧縮応力層の厚みが1μm以上であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の強化ガラス基板。   The tempered glass substrate according to claim 1, wherein the surface has a compressive stress of 100 MPa or more and a thickness of the compressive stress layer of 1 μm or more. 未研磨の表面を有することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の強化ガラス基板。   The tempered glass substrate according to claim 1, which has an unpolished surface. オーバーフローダウンドロー法で成形されていることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の強化ガラス基板。   The tempered glass substrate according to claim 1, wherein the tempered glass substrate is molded by an overflow downdraw method. 液相温度が1300℃以下であることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の強化ガラス基板。   Liquid phase temperature is 1300 degrees C or less, The tempered glass substrate in any one of Claims 1-7 characterized by the above-mentioned. 液相粘度が104.0dPa・s以上であることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の強化ガラス基板。 The tempered glass substrate according to any one of claims 1 to 8 liquidus viscosity, characterized in that of 10 4.0 dPa · s or more. 密度が2.8g/cm3以下であることを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の強化ガラス基板。 The tempered glass substrate according to claim 1, wherein the density is 2.8 g / cm 3 or less. ヤング率が68GPa以上であることを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載の強化ガラス基板。   The tempered glass substrate according to claim 1, wherein Young's modulus is 68 GPa or more. 30〜380℃における熱膨張係数が40〜95×10-7/℃であることを特徴とする請求項1〜11のいずれかに記載の強化ガラス基板。 The thermal expansion coefficient in 30-380 degreeC is 40-95 * 10 < -7 > / degreeC, The tempered glass substrate in any one of Claims 1-11 characterized by the above-mentioned. クラック発生率が60%以下であることを特徴とする請求項1〜12のいずれかに記載の強化ガラス基板。   The tempered glass substrate according to any one of claims 1 to 12, wherein a crack generation rate is 60% or less. タッチパネルディスプレイに用いることを特徴とする請求項1〜13のいずれかに記載の強化ガラス基板。   It uses for a touch panel display, The tempered glass substrate in any one of Claims 1-13 characterized by the above-mentioned. ガラス組成として、モル%でSiO2 50〜85%、Al23 5〜30%、Li2O 0〜20%、Na2O 0〜20%、K2O 0〜20%、TiO2 0.001〜10%、Li2O+Na2O+K2O+Al23 15〜35%を含有し、且つモル分率で、(Li2O+Na2O+K2O)/Al23の値が0.7〜3であって、実質的にAs23、Fを含有しないことを特徴とするガラス。 A glass composition, SiO 2 50 to 85% by mol%, Al 2 O 3 5~30% , Li 2 O 0~20%, Na 2 O 0~20%, K 2 O 0~20%, TiO 2 0 0.001-10%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O + Al 2 O 3 15-35%, and in terms of mole fraction, the value of (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) / Al 2 O 3 is 0.7 a to 3, glass characterized by substantially contains no as 2 O 3, F. ガラス組成として、モル%でSiO2 50〜85%、Al23 5〜30%、B23 0〜7%、Li2O 0.5〜20%、Na2O 0〜20%、K2O 0〜20%、TiO2 0.001〜10%、Li2O+Na2O+K2O+Al23 15〜35%を含有し、且つモル分率で、(Li2O+Na2O+K2O)/Al23の値が0.7〜3であることを特徴とするガラス。 A glass composition, SiO 2 50 to 85% by mol%, Al 2 O 3 5~30% , B 2 O 3 0~7%, Li 2 O 0.5~20%, Na 2 O 0~20%, K 2 O 0~20%, TiO 2 0.001~10%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O + Al 2 contain O 3 15 to 35%, and the mole fraction, (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) / Al 2 O 3 has a value of 0.7-3. 430℃のKNO3溶融塩中で4時間イオン交換したとき、表面の圧縮応力が200MPa以上、且つ圧縮応力層の厚みが3μm以上になることを特徴とする請求項15または16に記載のガラス。 The glass according to claim 15 or 16, wherein when ion exchange is performed in KNO 3 molten salt at 430 ° C for 4 hours, the compressive stress of the surface is 200 MPa or more and the thickness of the compressive stress layer is 3 µm or more. ガラス組成として、モル%でSiO2 50〜85%、Al23 5〜30%、Li2O 0〜20%、Na2O 0〜20%、K2O 0〜20%、TiO2 0.001〜10%、Li2O+Na2O+K2O+Al23 15〜35%を含有し、且つモル分率で、(Li2O+Na2O+K2O)/Al23の値が0.7〜3であって、実質的にAs23、Fを含有せず、表面に圧縮応力層が形成されてなることを特徴とする強化ガラス。 A glass composition, SiO 2 50 to 85% by mol%, Al 2 O 3 5~30% , Li 2 O 0~20%, Na 2 O 0~20%, K 2 O 0~20%, TiO 2 0 0.001-10%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O + Al 2 O 3 15-35%, and in terms of mole fraction, the value of (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) / Al 2 O 3 is 0.7 a to 3, substantially free of as 2 O 3, not containing F, tempered glass, wherein a compressive stress layer formed on the surface. ガラス組成として、モル%でSiO2 50〜85%、Al23 5〜30%、B23 0〜7%、Li2O 0.5〜20%、Na2O 0〜20%、K2O 0〜20%、TiO2 0.001〜10%、Li2O+Na2O+K2O+Al23 15〜35%を含有し、且つモル分率で、(Li2O+Na2O+K2O)/Al23の値が0.7〜3であり、表面に圧縮応力層が形成されてなることを特徴とする強化ガラス。 A glass composition, SiO 2 50 to 85% by mol%, Al 2 O 3 5~30% , B 2 O 3 0~7%, Li 2 O 0.5~20%, Na 2 O 0~20%, K 2 O 0~20%, TiO 2 0.001~10%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O + Al 2 contain O 3 15 to 35%, and the mole fraction, (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) A tempered glass having a value of / Al 2 O 3 of 0.7 to 3 and a compressive stress layer formed on the surface.
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