JP2008111102A - Flame-retardant adhesive composition, and adhesive sheet, cover-lay film and flexible copper-clad laminate using the same - Google Patents

Flame-retardant adhesive composition, and adhesive sheet, cover-lay film and flexible copper-clad laminate using the same Download PDF

Info

Publication number
JP2008111102A
JP2008111102A JP2007240897A JP2007240897A JP2008111102A JP 2008111102 A JP2008111102 A JP 2008111102A JP 2007240897 A JP2007240897 A JP 2007240897A JP 2007240897 A JP2007240897 A JP 2007240897A JP 2008111102 A JP2008111102 A JP 2008111102A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
layer
insulating film
adhesive composition
composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007240897A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazunori Kondo
和紀 近藤
Shigehiro Hoshida
繁宏 星田
Tadashi Amano
正 天野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP2007240897A priority Critical patent/JP2008111102A/en
Publication of JP2008111102A publication Critical patent/JP2008111102A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a nonhalogen flame-retardant adhesive composition having excellent migration resistance not only in a single layer plate structure but also in a copper-clad plate having a densified multilayer structure and the like. <P>SOLUTION: The flame retardant adhesive composition comprises (A) a nonhalogen epoxy resin, (B) a carboxy-containing acrylic resin and/or a carboxy-containing acrylonitrile-butadiene rubber, (C) a curing agent, (E) a specific phosphinic acid-based compound and (F) an ion scavenger and/or a heavy metal-inactivating agent. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、硬化させて得られる硬化物が難燃性および耐マイグレーション性に優れ、かつハロゲンを含有しない接着剤組成物、ならびに該組成物を用いた接着剤シート、カバーレイフィルムおよびフレキシブル銅張積層板に関するものである。   The present invention relates to an adhesive composition in which a cured product obtained by curing is excellent in flame retardancy and migration resistance and does not contain a halogen, and an adhesive sheet, a coverlay film and a flexible copper-clad using the composition The present invention relates to a laminated board.

近年、エレクトロニクス分野の発展が目覚しく、特に通信用・民生用の電子機器の小型化、軽量化、高密度化が進み、これらの性能に対する要求がますます高度なものとなっている。このような要求に対して、フレキシブル印刷配線板は可撓性を有し、繰り返し屈曲に耐えるため、狭い空間に立体的に高密度の実装が可能であり、電子機器への配線、ケーブル、コネクター機能等を付与した複合部品として、その用途が拡大しつつある。   In recent years, the development of the electronics field has been remarkable, and in particular, electronic devices for communication and consumer use have been reduced in size, weight and density, and the demand for these performances has become increasingly sophisticated. In response to such demands, flexible printed wiring boards are flexible and can withstand repeated bending, so they can be three-dimensionally mounted in a narrow space. Wiring to electronic devices, cables and connectors Applications are expanding as composite parts with functions.

フレキシブル印刷配線板とは、フレキシブル印刷配線用基板に常法により回路を作製し、使用目的によってはこの回路を保護するような形でカバーレイフィルムを貼り合わせたものである。このフレキシブル印刷配線板に用いられるフレキシブル印刷配線用基板は、高い耐熱性および優れた電気・機械特性を備えている電気絶縁性フィルムと金属箔とを接着剤を介して積層一体化したものであり、このフレキシブル印刷配線用基板に要求される特性としては、接着の耐久性、耐熱性、屈曲性、耐折性、耐マイグレーション性、難燃性等が挙げられる。また、接着剤シートとは、片面銅箔もしくは両面銅箔フレキシブル印刷配線板を2枚以上積層し、多層構造を形成するために用いられるもの、あるいは、フレキシブル印刷配線板に補強板等を貼り合わせるために用いられるものであり、接着剤シートに要求される特性としては、接着強度、耐熱性、耐マイグレーション性等が挙げられる。   The flexible printed wiring board is obtained by preparing a circuit on a flexible printed wiring board by a conventional method and attaching a coverlay film in a form that protects the circuit depending on the purpose of use. The flexible printed wiring board used in this flexible printed wiring board is a laminate of an electrically insulating film having high heat resistance and excellent electrical and mechanical properties and a metal foil laminated with an adhesive. Properties required for the flexible printed wiring board include adhesion durability, heat resistance, flexibility, folding resistance, migration resistance, flame resistance, and the like. In addition, the adhesive sheet is a sheet used to form a multilayer structure by laminating two or more single-sided copper foils or double-sided copper foil flexible printed wiring boards, or a reinforcing plate or the like is bonded to the flexible printed wiring board. Therefore, the properties required for the adhesive sheet include adhesive strength, heat resistance, migration resistance, and the like.

近年の環境問題を背景として、電子機器に実装される部品にはハロゲン化合物の使用を抑制する傾向があり、従来、フレキシブル印刷配線用基板材料を難燃化するために多用されてきた臭素化合物の使用が困難となってきている。   Against the background of environmental problems in recent years, there is a tendency to suppress the use of halogen compounds in components mounted on electronic devices. Conventionally, bromine compounds that have been frequently used to make flexible printed wiring board materials flame-retardant It has become difficult to use.

上記のような背景により、最近では、接着剤に難燃剤として臭素化合物の代わりにリン化合物を添加して、難燃化する手法が取られている。例えば、エポキシ樹脂、リン酸エステル化合物、フェノール系硬化剤およびNBRゴムを主成分とする樹脂組成物(特許文献1、特許文献2)が提案されている。しかしながら、リン酸エステルは耐湿熱性に劣るため、高温高湿条件下ではリン酸エステルが加水分解することによりイオン成分を生じ、基板の耐マイグレーション性、剥離特性および耐溶剤性が不十分であった。また、ホスファゼン化合物、ポリエポキシ化合物、硬化剤、硬化促進剤、合成ゴムおよび無機充填剤を含有してなる接着剤組成物(特許文献3、特許文献4)が提案されているが、得られる基板の剥離特性、耐溶剤性および半田耐熱性を十分に満足することは困難であった。   Due to the above-described background, recently, a technique for making a flame retardant by adding a phosphorus compound instead of a bromine compound as a flame retardant to an adhesive has been taken. For example, a resin composition (Patent Document 1 and Patent Document 2) mainly composed of an epoxy resin, a phosphate ester compound, a phenolic curing agent, and NBR rubber has been proposed. However, since the phosphate ester is inferior in heat and moisture resistance, the phosphate ester is hydrolyzed under high-temperature and high-humidity conditions to produce an ionic component, and the substrate has insufficient migration resistance, peeling properties and solvent resistance. . Further, an adhesive composition (Patent Document 3 and Patent Document 4) containing a phosphazene compound, a polyepoxy compound, a curing agent, a curing accelerator, a synthetic rubber, and an inorganic filler has been proposed. It was difficult to sufficiently satisfy the peeling characteristics, solvent resistance and solder heat resistance.

さらに本発明者らの研究によると、従来多用されてきた単層板構造では耐マイグレーション性に優れていても、フレキシブル印刷配線用基板を多層化して高密度化した場合、その他の熱負荷(熱履歴)が繰り返しかかる場合には、耐マイグレーション性が不十分である場合があることが判明し、耐マイグレーション性のさらなる改良が必要であることがわかった。   Furthermore, according to the study by the present inventors, even if the single-layer board structure that has been widely used in the past has excellent migration resistance, when the flexible printed wiring board is multi-layered and densified, other thermal loads (heat It has been found that when the (history) is repeatedly applied, the migration resistance may be insufficient, and further improvement of the migration resistance is necessary.

特開2001−339131号公報JP 2001-339131 A 特開2001−339132号公報JP 2001-339132 A 特開2001−19930号公報JP 2001-19930 A 特開2002−60720号公報JP 2002-60720 A

そこで本発明は、ノンハロゲンでありながら、難燃性、密着性、耐熱性に優れ、従来多用されてきた単層板構造での耐マイグレーション性に優れるのみならず、より高密度化された多層板構造においても耐マイグレーション性に優れる接着剤組成物、ならびにその組成物を用いた接着剤シート、カバーレイフィルム、銅張積層板等の印刷基板材料を提供することを課題とする。   Therefore, the present invention is non-halogen, excellent in flame retardancy, adhesion, and heat resistance, and not only excellent in migration resistance in a conventionally used single layer plate structure, but also in a higher density multilayer plate. It is an object of the present invention to provide an adhesive composition excellent in migration resistance even in the structure, and a printed board material such as an adhesive sheet, a coverlay film, and a copper clad laminate using the composition.

本発明者らは、上記課題を達成するために鋭意研究を行った結果、難燃剤成分として特定のホスフィン酸塩系化合物を使用し、かつイオン捕捉剤および/または重金属不活性化剤を必須成分として採用することにより、上記課題を解決することができることを見出した。   As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned problems, the present inventors use a specific phosphinate compound as a flame retardant component, and an ion scavenger and / or heavy metal deactivator as an essential component. As a result, it has been found that the above-mentioned problems can be solved.

即ち、本発明は、
(A)非ハロゲン系エポキシ樹脂、
(B)カルボキシル基含有アクリル樹脂および/またはカルボキシル基含有アクリロニトリル−ブタジエンゴム、
(C)硬化剤、
(E)下記一般式(1)で示されるホスフィン酸塩および/または下記一般式(2)で示されるジホスフィン酸塩
That is, the present invention
(A) non-halogen epoxy resin,
(B) a carboxyl group-containing acrylic resin and / or a carboxyl group-containing acrylonitrile-butadiene rubber,
(C) a curing agent,
(E) Phosphinic acid salt represented by the following general formula (1) and / or diphosphinic acid salt represented by the following general formula (2)

Figure 2008111102
(1)
Figure 2008111102
(1)

(式中、RおよびRは同一でも異なってもよく、1価の線状もしくは分岐状の炭素原子数1〜6のアルキル基、または好ましくは炭素数6の、アリール基であり、Mは、Mg、Ca、Al、Sb、Sn、Ge、Ti、Zn、Fe、Zr、Ce、Bi、Sr、Mn、Li、Na、K、およびプロトン化された窒素塩基からなる群から選択されるものであり、mは1〜4の整数である。) Wherein R 1 and R 2 may be the same or different and are monovalent linear or branched alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, or preferably aryl groups having 6 carbon atoms, M Is selected from the group consisting of Mg, Ca, Al, Sb, Sn, Ge, Ti, Zn, Fe, Zr, Ce, Bi, Sr, Mn, Li, Na, K, and a protonated nitrogen base M is an integer of 1 to 4.)

Figure 2008111102
(2)
Figure 2008111102
(2)

(式中、R、R、Mおよびmは前記の通りであり、Rは2価の線状もしくは分岐状の炭素原子数1〜10のアルキレン基、炭素原子数6〜10のアリーレン基、炭素原子数6〜10のアルキルアリーレン基、または炭素原子数6〜10のアリールアルキレン基であり、nは1〜4の整数であり、xは1〜4の整数であり、但し2n=mxの関係にある。)、ならびに (Wherein R 1 , R 2 , M and m are as defined above, R 3 is a divalent linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms and arylene having 6 to 10 carbon atoms) A group, an alkylarylene group having 6 to 10 carbon atoms, or an arylalkylene group having 6 to 10 carbon atoms, n is an integer of 1 to 4, and x is an integer of 1 to 4, provided that 2n = mx)), and

(F)イオン捕捉剤および/または重金属不活性化剤
を含む難燃性接着剤組成物を提供する。
(F) A flame retardant adhesive composition comprising an ion scavenger and / or a heavy metal deactivator is provided.

また、本発明は 離型基材と、該基材の片面に形成された上記接着剤組成物からなる層とを有する接着剤シートを提供する。該接着剤シートは該接着剤組成物を離型性を有する基材に塗布して得られる。   Moreover, this invention provides the adhesive sheet which has a mold release base material and the layer which consists of the said adhesive composition formed in the single side | surface of this base material. The adhesive sheet is obtained by applying the adhesive composition to a substrate having releasability.

さらにまた、本発明は、絶縁性フィルムと、該絶縁性フィルムの少なくとも片面に設けられた上記組成物からなる層を有するカバーレイフィルムを提供する。該カバーレイフィルムは該組成物を絶縁性フィルム上に塗布して得られる。   Furthermore, this invention provides the coverlay film which has an insulating film and the layer which consists of the said composition provided in the at least single side | surface of this insulating film. The cover lay film is obtained by applying the composition onto an insulating film.

さらに、本発明は、電気絶縁性フィルムと、該絶縁性フィルムの片面または両面に設けられた上記接着剤組成物からなる層と、こうして設けられた一層または二層の接着剤組成物層上に設けれた一層または二層の銅箔とを有するフレキシブル銅張積層板を提供する。該フレキシブル銅張積層板は、該接着剤組成物により電気絶縁性フィルムと銅箔とを貼り合わせることにより得られる。   Furthermore, the present invention provides an electrically insulating film, a layer made of the above-mentioned adhesive composition provided on one or both sides of the insulating film, and a single-layer or double-layer adhesive composition layer thus provided. Provided is a flexible copper clad laminate having one or two layers of copper foil provided. The flexible copper-clad laminate is obtained by bonding an electrically insulating film and a copper foil with the adhesive composition.

本発明の組成物は、硬化させて得られる硬化物が難燃性、密着性、耐熱性に優れ、従来よりもさらに耐マイグレーション性に優れ、かつハロゲンを含有しないものである。したがって、この組成物を用いて作製した接着剤シート、カバーレイフィルムおよびフレキシブル銅張積層板も、難燃性、密着性、耐熱性に優れたものとなり、熱負荷(熱履歴)が繰り返し加えられる多層板(積層)構造においても耐マイグレーション性に優れたものとなる。   In the composition of the present invention, a cured product obtained by curing is excellent in flame retardancy, adhesion, and heat resistance, is further excellent in migration resistance than before, and does not contain a halogen. Therefore, the adhesive sheet, coverlay film and flexible copper clad laminate produced using this composition are also excellent in flame retardancy, adhesion and heat resistance, and a thermal load (heat history) is repeatedly applied. Even in a multilayer board (laminated) structure, it has excellent migration resistance.

<難燃性接着剤組成物>
以下、本発明の難燃性接着剤組成物の構成成分についてより詳細に説明する。
<Flame-retardant adhesive composition>
Hereinafter, the constituent components of the flame retardant adhesive composition of the present invention will be described in more detail.

〔(A)非ハロゲン系エポキシ樹脂〕
(A)成分である非ハロゲン系エポキシ樹脂は、その分子内に臭素等のハロゲン原子を含まないエポキシ樹脂である。該エポキシ樹脂は特に限定されず、例えば、シリコーン、ウレタン、ポリイミド、ポリアミド等を含有していてもよい。また、骨格内にリン原子、硫黄原子、窒素原子等を含んでいてもよい。
[(A) Non-halogen epoxy resin]
The non-halogen epoxy resin as component (A) is an epoxy resin that does not contain a halogen atom such as bromine in its molecule. This epoxy resin is not specifically limited, For example, you may contain silicone, urethane, a polyimide, polyamide, etc. Further, the skeleton may contain a phosphorus atom, a sulfur atom, a nitrogen atom or the like.

このようなエポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、またはそれらに水素添化したもの、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等のグリシジルエーテル系エポキシ樹脂、ヘキサヒドロフタル酸グリシジルエステル、ダイマー酸グリシジルエステル等のグリシジルエステル系エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン等のグリシジルアミン系エポキシ樹脂、エポキシ化ポリブタジエン、エポキシ化大豆油等の線状脂肪族エポキシ樹脂等が挙げられ、好ましくは、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂が挙げられる。これらの市販品としては、例えば、商品名で、エピコート828(ジャパンエポキシレジン製)、エピクロン830S(大日本インキ化学工業製)、エピコート517(ジャパンエポキシレジン製)、EOCN103S(日本化薬製)等が挙げられる。   Examples of such epoxy resins include bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, or hydrogenated products thereof, phenol novolac type epoxy resins, cresol novolac type epoxy resins and other glycidyl ether type epoxy resins, Glycidyl ester epoxy resins such as glycidyl hexahydrophthalate and dimer acid glycidyl esters, glycidyl amine epoxy resins such as triglycidyl isocyanurate and tetraglycidyl diaminodiphenylmethane, linear aliphatics such as epoxidized polybutadiene and epoxidized soybean oil Epoxy resin, etc., preferably bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novo Click type epoxy resins. As these commercially available products, for example, Epicoat 828 (manufactured by Japan Epoxy Resin), Epicron 830S (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals), Epicoat 517 (manufactured by Japan Epoxy Resin), EOCN103S (manufactured by Nippon Kayaku), etc. Is mentioned.

また、反応性リン化合物を用いてリン原子を結合した各種リン含有エポキシ樹脂もハロゲンを含まない難燃性接着剤組成物を構成する場合には有効に用いられる。具体的には、例えば、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナンスレン−10−オキシド(三光(株)製、商品名:HCA)、この化合物のリン原子に結合している活性水素原子をヒドロキノンで置換した化合物(三光(株)製、商品名:HCA−HQ)を、上述したエポキシ樹脂と反応させることにより得られた化合物が用いられる。これらの市販品としては、例えば、商品名で、FX305(東都化成(株)製、リン含有率:3%)、エピクロンEXA9710(大日本インキ化学工業(株)製、リン含率:3%)等が挙げられる。上記エポキシ樹脂は、1種単独で用いても、2種以上を併用してもよい。   In addition, various phosphorus-containing epoxy resins in which phosphorus atoms are bonded using a reactive phosphorus compound are also effectively used when constituting a flame-retardant adhesive composition that does not contain a halogen. Specifically, for example, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide (manufactured by Sanko Co., Ltd., trade name: HCA) is bonded to the phosphorus atom of this compound. A compound obtained by reacting a compound obtained by substituting the active hydrogen atom with hydroquinone (trade name: HCA-HQ, manufactured by Sanko Co., Ltd.) with the above-described epoxy resin is used. As these commercial products, for example, under the trade name, FX305 (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., phosphorus content: 3%), Epicron EXA9710 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., phosphorus content: 3%) Etc. The said epoxy resin may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.

〔(B)カルボキシル基含有アクリル樹脂および/またはカルボキシル基含有アクリロニトリル−ブタジエンゴム〕 [(B) carboxyl group-containing acrylic resin and / or carboxyl group-containing acrylonitrile-butadiene rubber]

(B)成分としてはカルボキシル基含有アクリル樹脂および/またはカルボキシル基含有アクリロニトリル−ブタジエンゴム(以下、「アクリロニトリル−ブタジエンゴム」を「NBR」という)を用いることが出来る。
カルボキシル基含有アクリル樹脂および/またはカルボキシル基含有NBR中のカルボキシル基の割合(即ち、カルボキシル基含有アクリル樹脂および/またはカルボキシル基含有NBRを構成する全単量体の合計量に対するカルボキシル基含有単量体の割合)は特に限定されないが、1〜10モル%であるのが好ましく、2〜6モル%であるのがより好ましい。
As the component (B), a carboxyl group-containing acrylic resin and / or a carboxyl group-containing acrylonitrile-butadiene rubber (hereinafter, “acrylonitrile-butadiene rubber” is referred to as “NBR”) can be used.
Ratio of carboxyl group in carboxyl group-containing acrylic resin and / or carboxyl group-containing NBR (that is, carboxyl group-containing monomer relative to the total amount of all monomers constituting carboxyl group-containing acrylic resin and / or carboxyl group-containing NBR) ) Is not particularly limited, but is preferably 1 to 10 mol%, more preferably 2 to 6 mol%.

用いることができるカルボキシル基含有アクリル樹脂は、ガラス転移温度(Tg)が−40〜30℃であって、アクリル酸エステルを主成分とし、これと少量のカルボキシル基を有するモノマーから構成されるものであればよい。このガラス転移温度(Tg)は、好ましくは−10〜25℃である。該ガラス転移温度が−40〜30℃である場合には、接着剤に適度なタックを与え、ハンドリング性に優れたものとなる。ガラス転移温度が−40℃未満である場合には、接着剤のタックが大きく、ハンドリング性に劣る。また、ガラス転移温度が30℃を超える場合には、接着剤は接着性に劣る。なお、ガラス転移温度は、示差走査熱量計(DSC)により測定したものである。   The carboxyl group-containing acrylic resin that can be used has a glass transition temperature (Tg) of −40 to 30 ° C., and is composed of an acrylic ester as a main component and a monomer having a small amount of carboxyl groups. I just need it. This glass transition temperature (Tg) is preferably -10 to 25 ° C. When the glass transition temperature is −40 to 30 ° C., an appropriate tackiness is imparted to the adhesive, and the handling property is excellent. When the glass transition temperature is less than −40 ° C., the tackiness of the adhesive is large and the handling property is inferior. Moreover, when the glass transition temperature exceeds 30 ° C., the adhesive is inferior in adhesiveness. The glass transition temperature is measured by a differential scanning calorimeter (DSC).

該アクリル樹脂の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC、標準ポリスチレン換算)による測定値が、10万〜100万であることが好ましく、30万〜85万であることがより好ましい。   As for the weight average molecular weight of this acrylic resin, the measured value by gel permeation chromatography (GPC, standard polystyrene conversion) is preferably 100,000 to 1,000,000, and more preferably 300,000 to 850,000.

なお、アクリル系ポリマーは、通常の溶液重合、乳化重合、懸濁重合、塊状重合等で調製することができるが、耐マイグレーション性に影響を及ぼすイオン性不純物を極力減らすという観点から、懸濁重合で得られるアクリル樹脂がより好ましい。   The acrylic polymer can be prepared by ordinary solution polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization, bulk polymerization, etc., but from the viewpoint of reducing ionic impurities that affect migration resistance as much as possible. Is more preferable.

このアクリル樹脂の好ましい例としては、(a)アクリル酸エステルおよび/またはメタクリル酸エステル、(b)アクリロニトリルおよび/またはメタクリロニトリル、ならびに(c)不飽和カルボン酸の3成分を共重合することにより得られたアクリル系ポリマーが挙げられる。なお、このアクリル系ポリマーは、(a)〜(c)成分のみからなる共重合体であっても、その他の成分を含む共重合体であってもよい。   Preferable examples of this acrylic resin include copolymerizing three components of (a) acrylic acid ester and / or methacrylic acid ester, (b) acrylonitrile and / or methacrylonitrile, and (c) unsaturated carboxylic acid. The obtained acrylic polymer is mentioned. The acrylic polymer may be a copolymer composed only of the components (a) to (c) or a copolymer containing other components.

・(a)(メタ)アクリル酸エステル
(a)成分のアクリル酸エステルおよび/またはメタクリル酸エステルは、アクリル系接着剤組成物に柔軟性を付与するものであり、アクリル酸エステルの具体的な化合物としては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸−n−ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸イソペンチル、(メタ)アクリル酸−n−ヘキシル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸−2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸−n−オクチル、(メタ)アクリル酸イソノニル、(メタ)アクリル酸−n−デシル、(メタ)アクリル酸イソデシル等が挙げられる。中でも、アルキル基の炭素原子数が1〜12、特に1〜4の(メタ)アクリル酸アルキルエステルが好ましい。これら(a)成分の(メタ)アクリル酸エステルは、1種単独で用いても2種以上を併用してもよい。
-(A) (Meth) acrylic acid ester (a) The acrylic acid ester and / or methacrylic acid ester of the component gives flexibility to the acrylic adhesive composition, and is a specific compound of acrylic acid ester. As, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, (meth) acrylate-n-butyl, isobutyl (meth) acrylate, isopentyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid-n -Hexyl, isooctyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid-2-ethylhexyl, (meth) acrylic acid-n-octyl, isononyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid-n-decyl, (meth) Examples include isodecyl acrylate. Among them, (meth) acrylic acid alkyl esters having 1 to 12, particularly 1 to 4 carbon atoms in the alkyl group are preferable. These (a) component (meth) acrylic acid esters may be used alone or in combination of two or more.

(a)成分の量は、(A)成分中の50〜80質量%であることが好ましく、55〜75質量%であることがより好ましい。この量が50質量%未満である場合には、接着剤の柔軟性が損なわれることがある。また、80質量%を超える場合には、プレス加工時に前記組成物のはみ出しが発生することがある。   The amount of the component (a) is preferably 50 to 80% by mass and more preferably 55 to 75% by mass in the component (A). When this amount is less than 50% by mass, the flexibility of the adhesive may be impaired. Moreover, when it exceeds 80 mass%, the protrusion of the said composition may generate | occur | produce at the time of press work.

・(b)(メタ)アクリロニトリル
(b)成分のアクリロニトリルおよび/またはメタクリロニトリルは、接着剤シートに耐熱性、接着性および耐薬品性を付与するものである。
(B) (Meth) acrylonitrile (B) Component acrylonitrile and / or methacrylonitrile impart heat resistance, adhesion and chemical resistance to the adhesive sheet.

(b)成分の量は、(A)成分中の15〜45質量%であることが好ましく、20〜40質量%であることがより好ましい。この量が15質量%未満である場合には、接着剤が耐熱性に劣ることがある。また45質量%を超える場合には、接着剤シートの柔軟性を損ねることがある。   The amount of the component (b) is preferably 15 to 45% by mass and more preferably 20 to 40% by mass in the component (A). When this amount is less than 15% by mass, the adhesive may be inferior in heat resistance. Moreover, when it exceeds 45 mass%, the softness | flexibility of an adhesive agent sheet may be impaired.

・(c)不飽和カルボン酸
(c)成分の不飽和カルボン酸は、接着性を付与すると同時に、加熱時の架橋点となるものであり、カルボキシル基を有する共重合可能なビニルモノマーであればよく、具体的な化合物としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等が挙げられる。
-(C) Unsaturated carboxylic acid (c) The unsaturated carboxylic acid of component (c) is a crosslinking monomer at the time of heating as well as providing adhesiveness, and is a copolymerizable vinyl monomer having a carboxyl group Well, specific compounds include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid and the like.

(c)成分の量は、(A)成分中の2〜10質量%であることが好ましく、2〜8質量%がより好ましい。この量が2質量%未満である場合には、架橋効果が不十分になる恐れがある。また、10質量%を超える場合には、組成物が架橋し過ぎて被着体への馴染みが悪いため、加熱キュアー処理時または半田浴処理時に泡や膨れの原因となることがある。
カルボキシル基含有アクリル樹脂中のカルボキシル基の割合(即ち、カルボキシル基含有アクリル樹脂を構成する全単量体に対するカルボキシル基を含有する単量体単位の割合)は、特に限定されないが、好ましくは1〜10モル%、特に好ましくは2〜6モル%である。
このようなカルボキシル基含有アクリル樹脂としては、例えば、商品名で、パラクロンME―3500−DR(根上工業製、ガラス転移温度 −35℃、重量平均分子量 60万、−COOH含有)、テイサンレジンWS023DR(ナガセケムテックス製、ガラス転移温度 −5℃、重量平均分子量 45万、−OH/−COOH含有)、テイサンレジンSG−280DR(ナガセケムテックス製、ガラス転移温度 −30℃、重量平均分子量 90万、−COOH含有)、テイサンレジンSG−708−6DR(ナガセケムテックス製、ガラス転移温度 5℃、重量平均分子量 80万、−OH/−COOH含有)等が挙げられる。上記アクリル樹脂は、1種単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
(C) It is preferable that the quantity of a component is 2-10 mass% in (A) component, and 2-8 mass% is more preferable. When this amount is less than 2% by mass, the crosslinking effect may be insufficient. On the other hand, when the amount exceeds 10% by mass, the composition is too cross-linked and poorly adapted to the adherend, which may cause bubbles and blisters during heat curing or solder bath treatment.
The ratio of the carboxyl group in the carboxyl group-containing acrylic resin (that is, the ratio of the monomer unit containing a carboxyl group to all monomers constituting the carboxyl group-containing acrylic resin) is not particularly limited, but preferably 1 to 1 It is 10 mol%, particularly preferably 2 to 6 mol%.
As such a carboxyl group-containing acrylic resin, for example, under the trade name, Paracron ME-3500-DR (manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd., glass transition temperature -35 ° C., weight average molecular weight 600,000, containing —COOH), Teisan Resin WS023DR ( Made by Nagase ChemteX, glass transition temperature -5 ° C, weight average molecular weight 450,000, containing -OH / -COOH, Teisan Resin SG-280DR (manufactured by Nagase ChemteX, glass transition temperature -30 ° C, weight average molecular weight 900,000, -COOH-containing), Teisan Resin SG-708-6DR (manufactured by Nagase ChemteX, glass transition temperature 5 ° C, weight average molecular weight 800,000, -OH / -COOH-containing). The said acrylic resin may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.

本発明で用いることができるカルボキシル基含有NBRとしては、例えばアクリロニトリルとブタジエンとを、アクリロニトリルとブタジエンとの合計量に対するアクリロニトリル量が、好ましくは5〜70質量%、特に好ましくは10〜50質量%の割合となるように共重合させた共重合ゴムの分子鎖末端をカルボキシル化したもの、または、アクリロニトリルおよびブタジエンと、アクリル酸、マレイン酸等のカルボキシル基含有モノマーとの共重合ゴム等が挙げられる。このカルボキシル化には、例えばメタクリル酸等のカルボキシル基を有する単量体を用いることができる。   As the carboxyl group-containing NBR that can be used in the present invention, for example, acrylonitrile and butadiene, the amount of acrylonitrile relative to the total amount of acrylonitrile and butadiene is preferably 5 to 70% by mass, particularly preferably 10 to 50% by mass. Examples thereof include those obtained by carboxylating the molecular chain terminal of a copolymer rubber copolymerized so as to have a ratio, or a copolymer rubber of acrylonitrile and butadiene with a carboxyl group-containing monomer such as acrylic acid or maleic acid. For this carboxylation, for example, a monomer having a carboxyl group such as methacrylic acid can be used.

前記カルボキシル基含有NBR中におけるカルボキシル基の割合(即ち、カルボキシル基含有NBRを構成する全単量体に対する、該カルボキシル基を有する前記単量体単位の割合)は、特に限定されないが、好ましくは1〜10モル%、特に好ましくは2〜6モル%である。この割合が1〜10モル%の範囲を満たすと、得られる組成物の流動性をコントロールできるため良好な硬化性が得られる。   The ratio of the carboxyl group in the carboxyl group-containing NBR (that is, the ratio of the monomer unit having the carboxyl group to the total monomers constituting the carboxyl group-containing NBR) is not particularly limited, but preferably 1 -10 mol%, particularly preferably 2-6 mol%. When this ratio satisfies the range of 1 to 10 mol%, the fluidity of the resulting composition can be controlled, so that good curability can be obtained.

このようなカルボキシル基含有NBRとしては、例えば、商品名で、ニポール1072(日本ゼオン製)、イオン不純物量が少なく高純度品であるPNR−1H(JSR製)等が使用できる。高純度なカルボキシル基含有アクリロニトリルブタジエンゴムは高価なために多量に使用することはできないが、接着性と耐マイグレーション性とを同時に向上させることができる点で有効である。   As such a carboxyl group-containing NBR, for example, Nipol 1072 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) or PNR-1H (manufactured by JSR), which is a high purity product with a small amount of ionic impurities, can be used. High-purity carboxyl group-containing acrylonitrile butadiene rubber is expensive and cannot be used in large quantities, but is effective in that it can simultaneously improve adhesion and migration resistance.

(B)成分の配合量は特に限定されないが、(A)成分100質量部に対して通常10〜200質量部であり、好ましくは20〜150質量部である。(B)成分が10〜200質量部の範囲を満たすと、得られるフレキシブル銅張積層板、カバーレイおよび接着シートは、難燃性、銅箔との剥離強度により優れたものとなる。   Although the compounding quantity of (B) component is not specifically limited, It is 10-200 mass parts normally with respect to 100 mass parts of (A) component, Preferably it is 20-150 mass parts. When the component (B) satisfies the range of 10 to 200 parts by mass, the obtained flexible copper-clad laminate, coverlay and adhesive sheet are excellent in flame retardancy and peel strength with copper foil.

上記カルボキシル基含有アクリル樹脂および/またはカルボキシル基含有NBRは、各々、1種単独で用いても、2種以上を併用してもよい。   The carboxyl group-containing acrylic resin and / or the carboxyl group-containing NBR may be used alone or in combination of two or more.

〔(C)硬化剤〕
(C)成分である硬化剤は、エポキシ樹脂の硬化剤として通常使用されるものであれば特に限定されない。この硬化剤としては、例えば、ポリアミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤、三フッ化ホウ素アミン錯塩、フェノール樹脂等が挙げられる。ポリアミン系硬化剤としては、例えば、ジエチレントリアミン、テトラエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン等の脂肪族アミン系硬化剤、イソホロンジアミン等の脂環式アミン系硬化剤、ジアミノジフェニルメタン、フェニレンジアミン等の芳香族アミン系硬化剤、ジシアンジアミド等が挙げられる。酸無水物系硬化剤としては、例えば、無水フタル酸、ピロメリト酸無水物、トリメリト酸無水物、ヘキサヒドロ無水フタル酸等が挙げられる。中でも、得られる組成物を、カバーレイフィルムに用いる場合には適度な反応性が求められることからポリアミン系硬化剤が好ましく、フレキシブル銅張積層板に用いる場合にはより優れた耐熱性を付与できることから酸無水物系硬化剤が好ましい。上記硬化剤は、1種単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
[(C) curing agent]
The curing agent which is component (C) is not particularly limited as long as it is normally used as a curing agent for epoxy resins. Examples of the curing agent include a polyamine curing agent, an acid anhydride curing agent, a boron trifluoride amine complex salt, and a phenol resin. Examples of polyamine curing agents include aliphatic amine curing agents such as diethylenetriamine, tetraethylenetetramine, and tetraethylenepentamine, alicyclic amine curing agents such as isophoronediamine, and aromatic amines such as diaminodiphenylmethane and phenylenediamine. Examples thereof include a system curing agent and dicyandiamide. Examples of the acid anhydride curing agent include phthalic anhydride, pyromellitic acid anhydride, trimellitic acid anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and the like. Among them, a polyamine-based curing agent is preferable because appropriate reactivity is required when the obtained composition is used for a coverlay film, and when it is used for a flexible copper-clad laminate, more excellent heat resistance can be imparted. To acid anhydride curing agents are preferred. The said hardening | curing agent may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.

(C)成分の配合量は、特に限定されないが、(A)成分100質量部に対して通常0.5〜20質量部であり、好ましくは1〜15質量部である。   Although the compounding quantity of (C) component is not specifically limited, It is 0.5-20 mass parts normally with respect to 100 mass parts of (A) component, Preferably it is 1-15 mass parts.

〔(D)硬化促進剤〕
本発明において(D)成分は必須ではないが、添加配合されていることが好ましい。
(D)成分である硬化促進剤は、(A)非ハロゲン系エポキシ樹脂と(C)硬化剤との反応の促進に用いられ、且つハロゲン原子を含まないものであれば特に限定されない。この硬化促進剤としては、例えば、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、およびこれらの化合物のエチルイソシアネート化合物、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール等のイミダゾール化合物、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリス(p−メチルフェニル)ホスフィン、トリス(p−メトキシフェニル)ホスフィン、トリス(p−エトキシフェニル)ホスフィン、トリフェニルホスフィン・トリフェニルボレート、テトラフェニルホスフィン・テトラフェニルボレート等のトリオルガノホスフィン類、四級ホスホニウム塩、トリエチレンアンモニウム・トリフェニルボレート等の第三級アミン、およびそのテトラフェニルホウ素酸塩;オクチル酸錫、オクチル酸亜鉛等のオクチル酸塩等が挙げられる。これらの硬化促進剤は、1種単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
[(D) Curing accelerator]
In the present invention, the component (D) is not essential, but is preferably added and blended.
The curing accelerator as component (D) is not particularly limited as long as it is used for promoting the reaction between (A) the non-halogen epoxy resin and (C) the curing agent and does not contain a halogen atom. Examples of the curing accelerator include 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, and ethyl isocyanate compounds of these compounds, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole. Imidazole compounds such as 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, triphenylphosphine, tributylphosphine, tris (p-methylphenyl) phosphine, tris (p -Methoxyphenyl) phosphine, tris (p-ethoxyphenyl) phosphine, triphenylphosphine / triphenylborate, tetraphenylphosphine / tetraphenylborate Honiumu salts, tertiary amines such as triethylene ammonium triphenyl borate, and tetra-boronic acid salts; tin octylate, octoate salts such as zinc octylate and the like. These curing accelerators may be used alone or in combination of two or more.

(D)成分の配合量は、特に限定されないが、(A)成分100質量部に対して通常0.1〜15質量部であり、好ましくは0.5〜10質量部であり、特に好ましくは1〜5質量部である。   Although the compounding quantity of (D) component is not specifically limited, It is 0.1-15 mass parts normally with respect to 100 mass parts of (A) component, Preferably it is 0.5-10 mass parts, Most preferably 1 to 5 parts by mass.

〔(E)前記一般式(1)および前記一般式(2)で示されるホスフィン酸塩類〕
前記一般式(1)で示されるホスフィン酸塩および/または前記一般式(2)で示されるジホスフィン酸塩(以後、ホスフィン酸塩類という)は、ハロゲン原子を含有せず、難燃性を付与する成分である。
[(E) Phosphinates represented by the general formula (1) and the general formula (2)]
The phosphinic acid salt represented by the general formula (1) and / or the diphosphinic acid salt represented by the general formula (2) (hereinafter referred to as phosphinic acid salts) does not contain a halogen atom and imparts flame retardancy. It is an ingredient.

上記のホスフィン酸塩類のうち、一般式(1)及び(2)で表される化合物においてR、Rは炭素原子数1〜3のアルキル基であることが好ましく、エチル基であることがより好ましく、Mはアルミニウムであることが特に好ましい。一般式(2)中のRは好ましくは炭素数1〜3のアルキル基、更に好ましくはエチル基である。 Among the phosphinic acid salts, in the compounds represented by the general formulas (1) and (2), R 1 and R 2 are preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and preferably an ethyl group. More preferably, M is particularly preferably aluminum. R 3 in the general formula (2) is preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, more preferably an ethyl group.

ホスフィン酸塩類はリン含有率が高く、特に高い難燃性が得られる。また、ホスフィン酸塩類は接着剤ワニスに一般的に使用されるメチルエチルケトン、トルエン、ジメチルアセトアミド等の有機溶剤、エポキシ樹脂成分等に不溶であることから、カバーレイフィルムに用いた場合には、カバーレイフィルムを熱プレス硬化させた時に滲み出し等が起こり難いという利点がある。本発明で使用する上記ホスフィン酸塩類は平均粒子径20μm以下、更に好ましくは0.1μm以上10μm以下のものが好適である。ホスフィン酸塩類の平均粒子径が大きすぎても小さすぎても、本発明組成物への分散性が悪くなり、難燃性、耐熱性、絶縁性に問題を生ずる場合がある。上記ホスフィン酸塩類の市販品としては、例えば、商品名で、Exolit OP930(クラリアント製、ジエチルホスフィン酸アルミニウム塩、リン含有率 23質量%)等が挙げられる。ここで、「平均粒子径」とは、レーザー回折散乱法により測定した体積平均の粒子径である。   Phosphinates have a high phosphorus content and a particularly high flame retardancy. In addition, phosphinic acid salts are insoluble in organic solvents such as methyl ethyl ketone, toluene, dimethylacetamide, and epoxy resin components commonly used in adhesive varnishes. There is an advantage that bleeding or the like hardly occurs when the film is heat-press cured. The phosphinic acid salts used in the present invention preferably have an average particle size of 20 μm or less, more preferably 0.1 μm or more and 10 μm or less. If the average particle size of the phosphinic acid salt is too large or too small, the dispersibility in the composition of the present invention may be deteriorated, resulting in problems in flame retardancy, heat resistance, and insulation. As a commercial item of the said phosphinates, Exolit OP930 (The product made from Clariant, diethylphosphinic acid aluminum salt, phosphorus content rate 23 mass%) etc. are mentioned by a brand name, for example. Here, the “average particle diameter” is a volume average particle diameter measured by a laser diffraction scattering method.

上記ホスフィン酸塩類以外に、耐マイグレーション性を悪化させない範囲で他のリン系難燃剤を併用することも可能だが、上記ホスフィン酸塩類を単独使用する事が望ましく、リン酸エステル類は耐マイグレーション性を悪化させるため、リン酸エステル類を併用する事は望ましくない。   In addition to the phosphinates, other phosphorus flame retardants can be used in combination as long as the migration resistance is not deteriorated. However, it is desirable to use the phosphinates alone, and the phosphate esters have migration resistance. In order to worsen, it is not desirable to use phosphate esters together.

(E)成分の配合量は、特に限定されないが、良好な難燃性を確保する観点から、接着剤組成物中の無機固形成分を除く有機樹脂成分に対するリン含有率として、好ましくは2.0〜4.5質量%であることが必要であり、2.5〜4.0質量%であることがより好ましい。この割合が2.0質量%未満であると、得られる接着剤組成物の難燃性を満足することが難しく、4.5質量%を超えると、得られる接着剤組成物の耐熱性が低下する。接着剤組成物中の無機固形成分および有機樹脂成分を具体的に説明すると、無機固形成分としては、例えば、(F)イオン捕捉剤、および後述する無機充填剤が挙げられ、有機樹脂成分としては、例えば、(A)非ハロゲン系エポキシ樹脂、(B)カルボキシル基含有アクリル樹脂および/またはカルボキシル基含有アクリロニトリル−ブタジエンゴム、(C)硬化剤、(D)硬化促進剤、(E)前記一般式(1)および前記一般式(2)で示されるホスフィン酸塩類、および(F)重金属不活性化剤が挙げられる。   (E) Although the compounding quantity of a component is not specifically limited, From a viewpoint of ensuring favorable flame retardance, Preferably it is 2.0 as phosphorus content rate with respect to the organic resin component except the inorganic solid component in adhesive composition. It is necessary that it is -4.5 mass%, and it is more preferable that it is 2.5-4.0 mass%. When this proportion is less than 2.0% by mass, it is difficult to satisfy the flame retardancy of the obtained adhesive composition, and when it exceeds 4.5% by mass, the heat resistance of the obtained adhesive composition is lowered. To do. Specifically explaining the inorganic solid component and the organic resin component in the adhesive composition, examples of the inorganic solid component include (F) an ion scavenger and an inorganic filler described later. For example, (A) non-halogen epoxy resin, (B) carboxyl group-containing acrylic resin and / or carboxyl group-containing acrylonitrile-butadiene rubber, (C) curing agent, (D) curing accelerator, (E) the above general formula (1) and the phosphinic acid salt shown by the said General formula (2), and (F) heavy metal deactivator are mentioned.

〔(F)イオン捕捉剤および/または重金属不活性化剤〕
(F)成分であるイオン捕捉剤および/または金属不活性化剤は、耐マイグレーション性をさらに向上させるものである。
[(F) ion scavenger and / or heavy metal deactivator]
The ion scavenger and / or metal deactivator as the component (F) further improves the migration resistance.

イオン捕捉剤としては、イオン捕捉能を有する化合物であり、リン酸アニオン、有機酸アニオン、ハロゲンアニオン、アルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属カチオン等を捕捉することによりイオン性不純物を減少させるものである。イオン性不純物が多く含まれた場合、配線の腐食や絶縁層の耐マイグレーション性を著しく低下させる。このようなイオン捕捉剤の具体例としては、ハイドロタルサイト系イオン捕捉剤、酸化ビスマス系イオン捕捉剤、酸化アンチモン系イオン捕捉剤、リン酸チタン系イオン捕捉剤、リン酸ジルコニウム系イオン捕捉剤が挙げられる。上記イオン捕捉剤の市販品としては、例えば、DHT−4A(協和化学工業製、ハイドロタルサイト系イオン捕捉剤)、IXE−100(東亞合成製、リン酸ジルコニウム系イオン捕捉剤)、IXE−300(東亞合成製、酸化アンチモン系イオン捕捉剤)、IXE−400(東亞合成製、リン酸チタン系イオン捕捉剤)、IXE−500(東亞合成製、酸化ビスマス系イオン捕捉剤)、IXE−600(東亞合成製、酸化アンチモン・酸化ビスマス系イオン捕捉剤)等が挙げられる。   The ion scavenger is a compound having an ion scavenging ability, and reduces ionic impurities by capturing a phosphate anion, an organic acid anion, a halogen anion, an alkali metal cation, an alkaline earth metal cation, and the like. . When a large amount of ionic impurities are contained, the corrosion of the wiring and the migration resistance of the insulating layer are significantly reduced. Specific examples of such ion scavengers include hydrotalcite ion scavengers, bismuth oxide ion scavengers, antimony oxide ion scavengers, titanium phosphate ion scavengers, and zirconium phosphate ion scavengers. Can be mentioned. Examples of commercially available ion scavengers include DHT-4A (manufactured by Kyowa Chemical Industry, hydrotalcite ion scavenger), IXE-100 (manufactured by Toagosei Co., Ltd., zirconium phosphate ion scavenger), and IXE-300. (Toagosei, antimony oxide ion scavenger), IXE-400 (Toagosei, titanium phosphate ion scavenger), IXE-500 (Toagosei, bismuth oxide ion scavenger), IXE-600 ( Toagosei Co., Ltd., antimony oxide / bismuth oxide ion scavenger), and the like.

また、重金属不活性化剤は、フレキシブル印刷配線板の銅配線の表面を不活性化することにより、銅イオンの溶出を抑制し、耐マイグレーション性を向上させるものである。このような重金属不活性化剤の具体例としては、ヒドラジド類、トリアゾール類等の窒素化合物が挙げられる。上記重金属不活性化剤の市販品としては、Irganox MD1024(チバ・スペシャリテーケミカルス製、ヒドラジド系重金属不活性化剤)、BT−120(城北化学製、ベンゾトリアゾール系重金属不活性化剤)等が挙げられる。   The heavy metal deactivator suppresses the elution of copper ions and improves the migration resistance by inactivating the surface of the copper wiring of the flexible printed wiring board. Specific examples of such heavy metal deactivators include nitrogen compounds such as hydrazides and triazoles. Examples of commercially available heavy metal deactivators include Irganox MD1024 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, hydrazide heavy metal deactivator), BT-120 (manufactured by Johoku Chemical, benzotriazole heavy metal deactivator), and the like. Can be mentioned.

上記のイオン捕捉剤、重金属不活性化剤は、1種単独で用いても、2種以上を併用してもよい。   Said ion-trapping agent and heavy metal deactivator may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.

(F)成分の配合量は、特に限定されないが、(A)成分100質量部に対して通常0.1〜5質量部であり、特に好ましくは0.5〜3質量部である。   Although the compounding quantity of (F) component is not specifically limited, It is 0.1-5 mass parts normally with respect to 100 mass parts of (A) component, Most preferably, it is 0.5-3 mass parts.

〔その他の任意成分〕
上記(A)〜(F)成分以外に、本発明の目的、効果を損なわない限り、その他の成分を添加してもよい。
[Other optional ingredients]
In addition to the components (A) to (F), other components may be added as long as the objects and effects of the present invention are not impaired.

・無機充填剤
無機充填剤は、上記(E)成分のホスフィン酸塩類以外の充填剤として併用可能なものである。該無機充填剤としては、従来、接着剤シート、カバーレイフィルムおよびフレキシブル銅張積層板に使用されているものであれば特に限定されない。具体的には、例えば、難燃助剤としても作用する点から、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、二酸化ケイ素、酸化モリブデン等の金属酸化物が挙げられ、好ましくは、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウムが挙げられる。これらの無機充填剤は、1種単独で用いても、2種以上を併用してもよい。上記無機充填剤の配合量は、特に限定されないが、接着剤組成物中の有機樹脂成分の合計100質量部に対して、好ましくは5〜50質量部、より好ましくは10〜40質量部である。
-Inorganic filler An inorganic filler can be used together as fillers other than the phosphinic acid salt of the said (E) component. The inorganic filler is not particularly limited as long as it is conventionally used for an adhesive sheet, a coverlay film and a flexible copper-clad laminate. Specific examples thereof include metal oxides such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, silicon dioxide, and molybdenum oxide from the point of acting also as a flame retardant aid, preferably aluminum hydroxide, magnesium hydroxide. Is mentioned. These inorganic fillers may be used alone or in combination of two or more. Although the compounding quantity of the said inorganic filler is not specifically limited, Preferably it is 5-50 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of the organic resin component in adhesive composition, More preferably, it is 10-40 mass parts. .

・有機溶剤
上記の(A)〜(F)成分および必要に応じて添加される成分は、無溶剤でフレキシブル銅張積層板、カバーレイフィルムおよび接着シートの製造に用いてもよいが、有機溶剤に溶解または分散し、該組成物を溶液または分散液(以下、単に「溶液」という)として調製して用いてもよい。この有機溶剤としては、N,N−ジメチルアセトアミド、メチルエチルケトン、N,N−ジメチルホルムアミド、シクロヘキサノン、N−メチル−2−ピロリドン、トルエン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトン等が挙げられ、好ましくはN,N−ジメチルアセトアミド、メチルエチルケトン、N,N−ジメチルホルムアミド、シクロヘキサノン、N−メチル−2−ピロリドン、トルエン、特に好ましくはN,N−ジメチルアセトアミド、メチルエチルケトン、トルエンが挙げられる。これらの有機溶剤は、1種類を単独で用いても、2種類以上を併用してもよい。
Organic solvent The above components (A) to (F) and components added as necessary may be used in the production of flexible copper-clad laminates, coverlay films, and adhesive sheets without solvent. The composition may be dissolved or dispersed in the composition and the composition may be prepared and used as a solution or dispersion (hereinafter simply referred to as “solution”). Examples of the organic solvent include N, N-dimethylacetamide, methyl ethyl ketone, N, N-dimethylformamide, cyclohexanone, N-methyl-2-pyrrolidone, toluene, methanol, ethanol, isopropanol, acetone, and the like. N-dimethylacetamide, methyl ethyl ketone, N, N-dimethylformamide, cyclohexanone, N-methyl-2-pyrrolidone, toluene, particularly preferably N, N-dimethylacetamide, methyl ethyl ketone, and toluene. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

上記接着剤溶液中の有機樹脂成分および無機固形成分の合計濃度は、通常10〜45質量%であり、好ましくは20〜40質量%である。この濃度が10〜45質量%の範囲を満足すると、接着剤溶液は電気絶縁性フィルム等の基材への塗布性が良好であることから作業性に優れ、塗工時にムラが生じることがなく塗工性に優れ、かつ環境面、経済性等にも優れたものとなる。   The total concentration of the organic resin component and the inorganic solid component in the adhesive solution is usually 10 to 45% by mass, preferably 20 to 40% by mass. When this concentration satisfies the range of 10 to 45% by mass, the adhesive solution is excellent in workability because it has good applicability to a substrate such as an electrically insulating film, and there is no unevenness during coating. It is excellent in coating property and excellent in environmental aspect and economical efficiency.

なお、「有機樹脂成分」とは、本発明の接着剤組成物を硬化させたときに得られる硬化物を構成する不揮発性有機成分であり、具体的には主として(A)〜(E)成分および(F)成分の重金属不活性化剤であり、場合によって加えられる成分をも含む。有機溶剤を含む場合には、通常、有機溶剤は有機樹脂成分に含まれない。また、「無機固形成分」とは、組成物に含まれる不揮発性無機固体成分であり、具体的には(F)成分のイオン捕捉剤、任意的な無機充填剤であり、その他の場合によって加えられる成分をも含む。   The “organic resin component” is a non-volatile organic component that constitutes a cured product obtained by curing the adhesive composition of the present invention. Specifically, the components (A) to (E) are mainly used. And (F) a heavy metal deactivator of the component, including an optionally added component. When the organic solvent is included, the organic solvent is usually not included in the organic resin component. The “inorganic solid component” is a non-volatile inorganic solid component contained in the composition. Specifically, it is an ion scavenger of component (F) and an optional inorganic filler. Ingredients also included.

本組成物中の有機樹脂成分、ならびに場合よって加えられる無機固形成分および有機溶剤は、ポットミル、ボールミル、ホモジナイザー、スーパーミル等を用いて混合すればよい。   What is necessary is just to mix the organic resin component in this composition, and the inorganic solid component and the organic solvent added depending on the case using a pot mill, a ball mill, a homogenizer, a super mill, etc.

<カバーレイフィルム>
上記組成物は、カバーレイフィルムの製造に用いることができる。具体的には、例えば、電気絶縁性フィルムと、該フィルムの少なくとも片面上に設けられた上記接着剤組成物からなる層とを有するカバーレイフィルムが挙げられる。該カバーレイフィルムには任意部材として前記接着剤組成物層上に該層を保護するための保護層を設けることができる。また、電気絶縁性フィルムが薄い場合にはそれを補強するための支持体層を該フィルムの接着剤により貼り付けることもできる。
<Coverlay film>
The said composition can be used for manufacture of a coverlay film. Specifically, for example, a cover lay film having an electrically insulating film and a layer made of the adhesive composition provided on at least one surface of the film can be mentioned. The coverlay film can be provided with a protective layer for protecting the layer on the adhesive composition layer as an optional member. Moreover, when an electrically insulating film is thin, the support body layer for reinforcing it can also be affixed with the adhesive agent of this film.

以下、カバーレイフィルムの製造方法を説明する。
予め所要成分と有機溶剤とを混合することにより組成物を液状に調製した接着剤溶液をリバースロールコータ、コンマコータ等を用いて、電気絶縁性フィルムに塗布する。接着剤溶液が塗布された電気絶縁性フィルムをインラインドライヤに通し、80〜160℃で2〜10分間かけて有機溶剤を除去することにより乾燥し、半硬化状態とする。次いでこの半硬化状態の接着剤組成物層をロールラミネータを用いて該組成物層の保護層として機能する離型基材と圧着、積層することによりカバーレイフィルムが得られる。離型基材はは使用に際して剥離される。なお、「半硬化状態」とは、組成物が乾燥した状態で、その一部において硬化反応が進行している状態を意味する。
Hereinafter, the manufacturing method of a coverlay film is demonstrated.
An adhesive solution prepared by mixing a required component and an organic solvent in advance to form a liquid is applied to an electrically insulating film using a reverse roll coater, a comma coater, or the like. The electrically insulating film coated with the adhesive solution is passed through an in-line dryer, and dried by removing the organic solvent at 80 to 160 ° C. over 2 to 10 minutes to obtain a semi-cured state. Next, a coverlay film is obtained by pressing and laminating this semi-cured adhesive composition layer with a release substrate that functions as a protective layer of the composition layer using a roll laminator. The release substrate is peeled off during use. The “semi-cured state” means a state in which the composition is in a dry state and a curing reaction proceeds in a part of the composition.

上記カバーレイフィルムの接着剤組成物層の乾燥後の厚さは、通常5〜45μmであり、好ましくは5〜35μmである。   The thickness after drying of the adhesive composition layer of the coverlay film is usually 5 to 45 μm, preferably 5 to 35 μm.

・電気絶縁性フィルム
前記電気絶縁性フィルムは、本発明のフレキシブル銅張積層板にも用いられるものである。この電気絶縁性フィルムは、通常、フレキシブル銅張積層板又はカバーレイフィルムに用いられるものであれば特に限定されない。具体的には、例えば、ポリイミドフィルム、アラミドフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリパラバン酸フィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルム、ガラス繊維やアラミド繊維、ポリエステル繊維等をベースにして、これにマトリックスになるエポキシ樹脂、アクリル樹脂等を含浸して、フィルムまたはシート状にして銅箔と貼り合わせたもの等が挙げられ、得られるカバーレイフィルムの耐熱性、寸法安定性、機械特性等の点から、特に好ましくは低温プラズマ処理されたポリイミドフィルムやコロナ処理されたアラミドフィルムが好適に利用できる。ポリイミドフィルムとしては、通常、カバーレイフィルムに用いられるものであればよい。この電気絶縁性フィルムの厚さは、必要に応じて任意の厚さのものを使用すればよいが、好ましくは9〜50μmである。また、アラミドフィルムとしては、通常、カバーレイフィルムに用いられるものであればよく、このアラミドフィルムの厚さは、必要に応じて任意の厚さのものを使用すればよいが、好ましくは3〜9μmである。一般的に、アラミドフィルムはポリイミドフィルムより引張弾性率が高いため、より薄いフィルムとして取り扱える点で優れている。しかしながら、薄いフィルムとして取り扱いが困難である場合は、粘着剤を塗布したサポートフィルム、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム等を薄いフィルムに貼り付けて取り扱い性を高めることができる。
-Electrical insulation film The said electrical insulation film is used also for the flexible copper clad laminated board of this invention. This electrical insulating film is not particularly limited as long as it is usually used for a flexible copper clad laminate or a coverlay film. Specifically, for example, based on polyimide film, aramid film, polyethylene terephthalate film, polyethylene naphthalate film, polyester film, polyparabanic acid film, polyether ether ketone film, polyphenylene sulfide film, glass fiber, aramid fiber, polyester fiber, etc. Then, impregnated with an epoxy resin, acrylic resin, or the like as a matrix, and a film or sheet and pasted with a copper foil, etc., heat resistance of the obtained coverlay film, dimensional stability, From the viewpoint of mechanical properties and the like, particularly preferably, a low-temperature plasma-treated polyimide film or a corona-treated aramid film can be suitably used. As a polyimide film, what is normally used for a coverlay film should just be used. The thickness of this electrically insulating film may be any thickness as required, but is preferably 9 to 50 μm. Moreover, as an aramid film, what is necessary is just to be normally used for a coverlay film, The thickness of this aramid film should just use arbitrary thickness as needed, Preferably it is 3 9 μm. In general, an aramid film is superior in that it can be handled as a thinner film because it has a higher tensile elastic modulus than a polyimide film. However, when it is difficult to handle as a thin film, a support film coated with an adhesive, such as a polyethylene terephthalate film, can be attached to the thin film to improve the handleability.

そこで、アラミドフィルムを電気絶縁性フィルムとして用いるカバーレイフィルムの代表例として、サポートフィルムと該サポートフィルム上に支持された好ましくは厚み3〜9μmのアラミドフィルムとからなる電気絶縁性フィルムと、該絶縁性フィルムの少なくとも片面に設けられた前記接着剤組成物からなる層と、該組成物層上に設けられた離型基材とを有するカバーレイフィルムが挙げられる。   Therefore, as a representative example of a cover lay film using an aramid film as an electrically insulating film, an electrically insulating film comprising a support film and an aramid film preferably having a thickness of 3 to 9 μm supported on the support film, and the insulating film And a coverlay film having a layer made of the adhesive composition provided on at least one surface of the adhesive film and a release substrate provided on the composition layer.

・離型基材(保護層)
上記離型基材は、接着剤組成物層を保護し、必要に応じて該組成物層からその形態を損なうことなく剥離できるフィルム状材料であれば特に限定されない。例えば、ポリエチレン(PE)フィルム、ポリプロピレン(PP)フィルム、ポリメチルペンテン(TPX)フィルム、離型処理を施したポリエステルフィルム等のプラスチックフィルム、PEフィルム、PPフィルム等のポリオレフィンフィルム、TPXフィルム、離型処理を施したポリエステルフィルム等を紙材料の片面または両面にコートした離型紙等が挙げられる。離型基材の厚さは特に限定されないが、通常25〜150μm、好ましくは30〜140μmである。
・ Release substrate (protective layer)
The release substrate is not particularly limited as long as it is a film-like material that protects the adhesive composition layer and can be peeled off from the composition layer as needed without impairing its form. For example, polyethylene (PE) film, polypropylene (PP) film, polymethylpentene (TPX) film, plastic film such as polyester film subjected to release treatment, PE film, polyolefin film such as PP film, TPX film, release Examples include release paper obtained by coating a treated polyester film on one or both sides of a paper material. Although the thickness of a mold release base material is not specifically limited, Usually, it is 25-150 micrometers, Preferably it is 30-140 micrometers.

<接着剤シート>
上記組成物は、接着剤シートの製造に用いることができる。具体的には、例えば、前記組成物からなる層と、該組成物からなる層を被覆し保護層として機能する離型基材とを有する接着剤シートが挙げられる。該離型基材は、上記カバーレイフィルムの保護層として説明したものを用いることができる。接着剤層の乾燥後の厚さは通常5〜50μm、好ましくは10〜40μmである。離型基材の厚さは特に限定されないが、通常25〜150μm、好ましくは30〜140μmである。
以下、本発明の接着剤シートの製造方法について説明する。
<Adhesive sheet>
The said composition can be used for manufacture of an adhesive sheet. Specifically, for example, an adhesive sheet having a layer made of the composition and a release substrate that covers the layer made of the composition and functions as a protective layer can be mentioned. As the release substrate, those described as the protective layer of the coverlay film can be used. The thickness of the adhesive layer after drying is usually 5 to 50 μm, preferably 10 to 40 μm. Although the thickness of a mold release base material is not specifically limited, Usually, it is 25-150 micrometers, Preferably it is 30-140 micrometers.
Hereinafter, the manufacturing method of the adhesive sheet of this invention is demonstrated.

予め所要成分と有機溶剤とを混合することにより本発明の接着剤組成物を溶液として調製したものをリバースロールコータ、コンマコータ等を用いて、離型基材に塗布する。接着剤溶液が塗布された離型基材をインラインドライヤに通し、80〜160℃で2〜10分間かけて有機溶剤を除去することにより乾燥させ、半硬化状態とする。次いで、半硬化状態の組成物層をロールラミネータを用いて別の離型基材と圧着し、積層する。こうして接着剤シートが得られる。   The adhesive composition of the present invention prepared as a solution by mixing required components and an organic solvent in advance is applied to a release substrate using a reverse roll coater, a comma coater or the like. The release substrate coated with the adhesive solution is passed through an in-line dryer and dried by removing the organic solvent at 80 to 160 ° C. over 2 to 10 minutes to obtain a semi-cured state. Next, the semi-cured composition layer is pressure-bonded to another release substrate using a roll laminator and laminated. Thus, an adhesive sheet is obtained.

<フレキシブル銅張積層板>
本発明の組成物は、フレキシブル銅張積層板の製造に用いることができる。具体的には、例えば、電気絶縁性フィルムと、該電気絶縁性フィルムの片面又は両面上に設けられた上記組成物からなる層と、一層又は二層の該組成物層に接着された一層又は二層の銅箔とを有するフレキシブル銅張積層板が挙げられる。該電気絶縁性フィルムは、上記カバーレイフィルムの電気絶縁性フィルムとして説明したものを用いることができる。以下、その製造方法を説明する。
<Flexible copper-clad laminate>
The composition of this invention can be used for manufacture of a flexible copper clad laminated board. Specifically, for example, an electrically insulating film, a layer made of the above-described composition provided on one or both surfaces of the electrically insulating film, one layer bonded to one or two layers of the composition layer, or A flexible copper-clad laminate having two layers of copper foil is exemplified. As the electrical insulating film, those described as the electrical insulating film of the coverlay film can be used. The manufacturing method will be described below.

予め所要成分と有機溶剤とを混合することにより本発明の接着剤組成物を溶液として調製したものをリバースロールコータ、コンマコータ等を用いて、電気絶縁性フィルムに塗布する。接着剤溶液が塗布された電気絶縁性フィルムをインラインドライヤに通し、80〜160℃で2〜10分間かけて有機溶剤を除去することにより乾燥し、半硬化状態とする。次いで、該半硬化状態の組成物層上に銅箔を配し、100〜150℃で熱ラミネート(熱圧着)することにより、積層体が得られる。この積層体をさらに80〜160℃においてポストキュアすることにより半硬化状態の組成物を完全に硬化させ、フレキシブル銅張積層板が得られる。   The adhesive composition of the present invention prepared as a solution by mixing required components and an organic solvent in advance is applied to an electrically insulating film using a reverse roll coater, a comma coater or the like. The electrically insulating film coated with the adhesive solution is passed through an in-line dryer, and dried by removing the organic solvent at 80 to 160 ° C. over 2 to 10 minutes to obtain a semi-cured state. Next, a copper foil is disposed on the semi-cured composition layer, and a laminate is obtained by heat lamination (thermocompression bonding) at 100 to 150 ° C. The laminate is further post-cured at 80 to 160 ° C. to completely cure the semi-cured composition, thereby obtaining a flexible copper-clad laminate.

上記フレキシブル銅張積層板の組成物層の乾燥後の厚さは、通常5〜45μmであり、好ましくは5〜18μmである。   The thickness of the composition layer of the flexible copper-clad laminate after drying is usually 5 to 45 μm, preferably 5 to 18 μm.

上記銅箔としては、フレキシブル銅張積層板に従来用いられている圧延銅箔、電解銅箔を使用することができる。この銅箔の厚さは、通常3〜70μmである。   As said copper foil, the rolled copper foil and electrolytic copper foil conventionally used for the flexible copper clad laminated board can be used. The thickness of this copper foil is usually 3 to 70 μm.

以下、実施例を用いて本発明についてより詳細に説明するが、これらの実施例は本発明を何ら限定するものではない。実施例で用いた(A)〜(F)成分およびその他の任意成分は、具体的には下記のとおりである。なお、表中の配合比を示す数値の単位は「質量部」である。 EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated in detail using an Example, these Examples do not limit this invention at all. The components (A) to (F) and other optional components used in the examples are specifically as follows. In addition, the unit of the numerical value which shows the compounding ratio in a table | surface is a "mass part."

<接着剤組成物の成分>
・(A)非ハロゲン系エポキシ樹脂
(1)エピコート828(商品名)(ジャパンエポキシレジン製、エポキシ当量:184〜194)
(2)エピコート1001(商品名)(ジャパンエポキシレジン製、エポキシ当量:450〜500)
(3)EOCN−103S(商品名)(日本化薬製、エポキシ当量:209〜219)
(4)NC−3000−H(商品名)(日本化薬製、エポキシ当量:280〜300)
(5)EP−49−20(商品名)(旭電化製、エポキシ当量:200)
<Adhesive composition components>
(A) Non-halogen epoxy resin (1) Epicoat 828 (trade name) (manufactured by Japan Epoxy Resin, epoxy equivalent: 184-194)
(2) Epicoat 1001 (trade name) (manufactured by Japan Epoxy Resin, epoxy equivalent: 450-500)
(3) EOCN-103S (trade name) (manufactured by Nippon Kayaku, epoxy equivalent: 209 to 219)
(4) NC-3000-H (trade name) (manufactured by Nippon Kayaku, epoxy equivalent: 280-300)
(5) EP-49-20 (trade name) (Asahi Denka, epoxy equivalent: 200)

・(B)カルボキシル基含有アクリル樹脂および/またはカルボキシル基含有アクリロニトリル−ブタジエンゴム
(1)ニポール1072(商品名)(日本ゼオン製、カルボキシル基含有NBR)
(2)テイサンレジン SG−708−6DR(商品名)(ナガセケムテックス製、カルボキシル基含有アクリル樹脂)
(B) carboxyl group-containing acrylic resin and / or carboxyl group-containing acrylonitrile-butadiene rubber (1) Nipol 1072 (trade name) (manufactured by Nippon Zeon, carboxyl group-containing NBR)
(2) Taisan Resin SG-708-6DR (trade name) (manufactured by Nagase ChemteX, carboxyl group-containing acrylic resin)

・(C)硬化剤
(1)4,4’−ジアミノジフェニルスルホン(DDS、ジアミン系硬化剤)
(2)フェノライトTD−2093(商品名)(大日本インキ化学製、ノボラック型フェノール樹脂、OH当量:104)
(C) Curing agent (1) 4,4′-diaminodiphenyl sulfone (DDS, diamine curing agent)
(2) Phenolite TD-2093 (trade name) (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, novolak type phenol resin, OH equivalent: 104)

・(D)硬化促進剤
(1)2E4MZ(商品名)(四国化成工業製、イミダゾール系硬化促進剤)
・ (D) Curing accelerator (1) 2E4MZ (trade name) (made by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd., imidazole curing accelerator)

・(E)ホスフィン酸塩類
(1)Exolit OP930(商品名)(クラリアント製、ジエチルホスフィン酸アルミニウム塩、リン含有量:23質量%)
(E) Phosphinic acid salts (1) Exolit OP930 (trade name) (manufactured by Clariant, diethylphosphinic acid aluminum salt, phosphorus content: 23% by mass)

・(F)イオン捕捉剤、重金属不活性化剤
(1)DHT−4A(商品名)(協和化学製、マグネシウム・アルミニウム・ハイドロオキサイド・カーボネート・ハイドレート(Mg4.3Al2(OH)12.6CO3・mH2O)、イオン捕捉剤)
(2)BT−120(商品名)(城北化学製、1,2,3−ベンゾトリアゾール、重金属不活性化剤)
・ (F) Ion scavenger, heavy metal deactivator (1) DHT-4A (trade name) (manufactured by Kyowa Chemical, magnesium, aluminum, hydroxide, carbonate, hydrate (Mg 4.3 Al 2 (OH) 12.6 CO 3・ MH 2 O), ion scavenger)
(2) BT-120 (trade name) (Johoku Chemical Co., Ltd., 1,2,3-benzotriazole, heavy metal deactivator)

・無機充填剤
(1)水酸化アルミニウム
・ Inorganic filler (1) Aluminum hydroxide

・その他のリン系難燃剤
PX−200(商品名)(大八化学工業(株)製、芳香族縮合リン酸エステル、リン含有量:9.0質量%)
SP−703(商品名)(四国化成工業(株)製、芳香族リン酸エステルアミド、リン含有量:10質量%)
SPE−100(商品名)(大塚化学(株)製、ホスファゼン、リン含有量:13質量%)
・ Other phosphorus-based flame retardant PX-200 (trade name) (Daihachi Chemical Industry Co., Ltd., aromatic condensed phosphate ester, phosphorus content: 9.0% by mass)
SP-703 (trade name) (manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd., aromatic phosphate ester amide, phosphorus content: 10% by mass)
SPE-100 (trade name) (Otsuka Chemical Co., Ltd., phosphazene, phosphorus content: 13% by mass)

<フレキシブル銅張積層板、カバーレイフィルムの特性>
〔実施例1〕
・ 接着剤組成物の調製
接着剤組成物の成分を表1の配合例1の欄に示す割合で混合し、得られた混合物に、メチルエチルケトン/トルエンの質量比1/1混合溶剤を添加することにより、有機固形成分および無機固形成分の合計濃度が35質量%の分散液を調製した。
<Characteristics of flexible copper-clad laminate and coverlay film>
[Example 1]
-Preparation of adhesive composition The components of the adhesive composition are mixed in the proportions shown in the column of Formulation Example 1 in Table 1, and a methyl ethyl ketone / toluene mass ratio 1/1 mixed solvent is added to the resulting mixture. Thus, a dispersion having a total concentration of the organic solid component and the inorganic solid component of 35% by mass was prepared.

・ フレキシブル銅張積層板の作製
ポリイミドフィルムA(商品名:カプトン、東レ・デュポン製、厚さ:25μm)上にアプリケータで上記分散液を上記接着剤組成物の乾燥後の厚さが18μmとなるように塗布し、120℃で10分間、送風オーブン内で乾燥させることにより組成物を半硬化状態とした。ポリイミドフィルムAの分散液塗布面と圧延銅箔(日鉱金属製、厚さ:18μm)の粗化処理面とを合わせ、両者を120℃、線圧20N/cmでロールラミネーターにて熱圧着した後、80℃で1時間、さらに160℃で4時間のポストキュアすることによりフレキシブル銅張積層板を作製した。
-Preparation of flexible copper clad laminate On the polyimide film A (trade name: Kapton, manufactured by Toray DuPont, thickness: 25 μm), the dispersion liquid was dried with the applicator to a thickness of 18 μm. The composition was made into a semi-cured state by being applied in a dry state at 120 ° C. for 10 minutes in a blowing oven. After combining the dispersion-coated surface of polyimide film A and the roughened surface of rolled copper foil (Nikko Metal, thickness: 18 μm), and thermocompression bonding them with a roll laminator at 120 ° C. and a linear pressure of 20 N / cm A flexible copper clad laminate was prepared by post-curing at 80 ° C. for 1 hour and further at 160 ° C. for 4 hours.

・ カバーレイフィルムの作製
アプリケータで上記分散液を上記接着剤組成物の乾燥後の厚さが25μmとなるようにポリイミドフィルムA(商品名:カプトン、東レデュポン製、厚さ:25μm)表面に塗布し、それを120℃で10分間、送風オーブン内で乾燥させることにより組成物を半硬化状態としてカバーレイフィルムを作製した。
-Preparation of coverlay film On the surface of polyimide film A (trade name: Kapton, manufactured by Toray DuPont, thickness: 25 μm) so that the thickness after drying of the adhesive composition is 25 μm with the applicator It was applied and dried at 120 ° C. for 10 minutes in a blowing oven to make the composition semi-cured to produce a coverlay film.

〔実施例2〕
接着剤組成物の成分を表1の配合例2の欄に示す割合で混合した以外は実施例1と同様にしてフレキシブル銅張積層板およびカバーレイフィルムを作製した。
[Example 2]
A flexible copper clad laminate and a coverlay film were produced in the same manner as in Example 1 except that the components of the adhesive composition were mixed in the proportions shown in the column of Formulation Example 2 in Table 1.

〔実施例3〕
接着剤組成物の成分を表1の配合例3の欄に示す割合で混合した以外は実施例1と同様にしてフレキシブル銅張積層板およびカバーレイフィルムを作製した。
Example 3
A flexible copper clad laminate and a coverlay film were produced in the same manner as in Example 1 except that the components of the adhesive composition were mixed in the proportions shown in the column of Formulation Example 3 in Table 1.

〔実施例4〕
・ フレキシブル銅張積層板の作製
接着剤組成物の各成分を表1の配合例1の欄に示す割合で混合したものを、実施例1に使用した混合溶媒に分散し、得られた、有機固体成分と無機固体成分との合計濃度が35質量%の分散液をアラミドフィルム(商品名:アラミカ、帝人アドバンストフィルム製、厚さ:4μm)上にアプリケータで、上記接着剤組成物の乾燥後の厚さが10μmとなるように塗布し、120℃で10分間、送風オーブン内で乾燥させることにより組成物を半硬化状態とした。アラミドフィルムの分散液塗布面と電解銅箔(三井金属製、厚さ:9μm)の粗化処理面とを120℃、線圧20N/cmでロールラミネーターにて熱圧着した後、80℃で1時間、さらに160℃で4時間のポストキュアすることによりフレキシブル銅張積層板を作製した。
Example 4
-Preparation of flexible copper clad laminate A mixture of the components of the adhesive composition in the proportions shown in the column of Formulation Example 1 in Table 1 was dispersed in the mixed solvent used in Example 1, and the resulting organic After drying the above adhesive composition with an applicator on an aramid film (trade name: Aramika, Teijin Advanced Film, thickness: 4 μm), a dispersion having a total concentration of solid component and inorganic solid component of 35% by mass The composition was applied to a thickness of 10 μm and dried in a blowing oven at 120 ° C. for 10 minutes to make the composition semi-cured. The surface of the aramid film dispersion applied and the roughened surface of the electrolytic copper foil (Mitsui Metals, thickness: 9 μm) were thermocompression bonded at 120 ° C. and a linear pressure of 20 N / cm with a roll laminator. A flexible copper-clad laminate was prepared by post-curing for 4 hours at 160 ° C. for an additional time.

・ カバーレイフィルムの作製
アプリケータで上記接着剤分散液を上記接着剤組成物の乾燥後の厚さが10μmとなるようにアラミドフィルム(商品名:アラミカ、帝人アドバンストフィルム製、厚さ:4μm)の表面に塗布しそれを120℃で10分間、送風オーブン内で乾燥させることにより組成物を半硬化状態としてカバーレイフィルムを作製した。
-Preparation of cover lay film Aramid film (trade name: Aramika, manufactured by Teijin Advanced Film, thickness: 4 μm) so that the thickness of the adhesive composition after drying the adhesive composition is 10 μm with an applicator The composition was semi-cured by applying it to the surface and drying it in a blowing oven at 120 ° C. for 10 minutes to prepare a coverlay film.

〔比較例1〜9〕
各比較例において、接着剤組成物の成分を表1の比較配合例1〜9の各欄に示す割合で混合した以外は実施例1と同様にしてフレキシブル銅張積層板およびカバーレイフィルムを作製した。
[Comparative Examples 1-9]
In each comparative example, a flexible copper-clad laminate and a coverlay film were produced in the same manner as in Example 1 except that the components of the adhesive composition were mixed in the proportions shown in the respective columns of Comparative Formulation Examples 1 to 9 in Table 1. did.

〔比較例10〕
接着剤組成物の成分を表1の配合比較例2の欄に示す割合で混合した以外は実施例4と同様にしてフレキシブル銅張積層板およびカバーレイフィルムを作製した。
[Comparative Example 10]
A flexible copper clad laminate and a coverlay film were produced in the same manner as in Example 4 except that the components of the adhesive composition were mixed in the proportions shown in the column of Formulation Comparative Example 2 in Table 1.

〔測定〕
上記実施例1〜4および比較例1〜10で作製したフレキシブル銅張積層板の特性を下記測定方法1に従って測定した。作製したカバーレイフィルムの特性を下記測定方法2に従って測定した。また、フレキシブル銅張積層板およびカバーレイフィルムの耐マイグレーション性を下記測定方法3に従って測定した。それらの結果を表2に示す。
[Measurement]
The characteristics of the flexible copper clad laminates produced in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 10 were measured according to the following measurement method 1. The characteristics of the produced coverlay film were measured according to the following measurement method 2. Further, the migration resistance of the flexible copper-clad laminate and the coverlay film was measured according to the following measurement method 3. The results are shown in Table 2.

−測定方法1−
1−1.剥離強度
JIS C6471に準拠して、フレキシブル銅張積層板にパターン幅1mmの回路を形成した後、25℃の条件下で銅箔(前記回路)を該積層板の面に対して90度の方向に50mm/分の速度で引き剥がすのに要する力の最低値を測定し、剥離強度として示す。ただし、電気絶縁性フィルムとしてアラミドフィルムを使用したもの(実施例4および比較例10)については、該積層板の面に対して180度の方向に50mm/分の速度で引き剥がすのに要する力の最低値を測定し、剥離強度として示した。
-Measurement method 1-
1-1. Peel strength In accordance with JIS C6471, after forming a circuit with a pattern width of 1 mm on a flexible copper-clad laminate, the direction of the copper foil (the circuit) is 90 degrees with respect to the surface of the laminate at 25 ° C. The minimum value of the force required for peeling off at a speed of 50 mm / min is measured and shown as the peel strength. However, for the films using an aramid film as the electrically insulating film (Example 4 and Comparative Example 10), the force required for peeling at a speed of 50 mm / min in the direction of 180 degrees with respect to the surface of the laminate. The minimum value was measured and indicated as peel strength.

1−2.半田耐熱性(常態・吸湿)
・常態下:JIS C6471に準拠して、フレキシブル銅張積層板を25mm角に切断することにより試験片を作製し、その試験片を300℃の半田浴上に30秒間浮かべた。その試験片に膨れ、剥がれ、および変色のいずれも生じない場合を「良」と評価し○で示し、該試験片に膨れ、剥がれ、または変色の少なくとも一つが生じた場合を「不良」と評価し×で示した。
1-2. Solder heat resistance (normal condition, moisture absorption)
-Under normal conditions: In accordance with JIS C6471, a test piece was prepared by cutting a flexible copper-clad laminate into 25 mm squares, and the test piece was floated on a 300 ° C. solder bath for 30 seconds. When the test piece does not swell, peel off, or discolor, it is evaluated as “good” and indicated by ○, and when at least one of the test piece swells, peels off or discolors occurs, it is evaluated as “bad”. And indicated by ×.

・吸湿下:前記の常態下での半田耐熱性測定用のものと同様にして作製した試験片を40℃、相対湿度90%の雰囲気下で24時間放置した後、その試験片を260℃の半田浴上に30秒間浮かべた。その試験片に膨れ、剥がれ、および変色のいずれも生じない場合を「良」と評価し○で示し、該試験片に膨れ、剥がれ、または変色の少なくとも一つが生じた場合を「不良」と評価し×で示した。   -Under moisture absorption: A test piece prepared in the same manner as that for measuring solder heat resistance under normal conditions was allowed to stand for 24 hours in an atmosphere of 40 ° C and 90% relative humidity, and then the test piece was placed at 260 ° C. It floated on the solder bath for 30 seconds. When the test piece does not swell, peel off, or discolor, it is evaluated as “good” and indicated by ○, and when at least one of the test piece swells, peels off or discolors occurs, it is evaluated as “bad”. And indicated by ×.

1−3.難燃性
フレキシブル銅張積層板にエッチング処理を行なうことにより銅箔を全て除去してサンプルを作製した。UL94VTM−0難燃性規格に準拠して、そのサンプルの難燃性を測定した。UL94VTM−0規格を満足する難燃性を示した場合を「良」と評価し○で示し、該サンプルがUL94VTM−0規格を満足しなかった場合を「不良」と評価し×で示した。
1-3. Flame retardance All copper foil was removed by etching the flexible copper-clad laminate to produce a sample. In accordance with UL94VTM-0 flame retardancy standard, the flame retardancy of the sample was measured. A case where flame retardancy satisfying the UL94VTM-0 standard was evaluated as “good” and indicated by ◯, and a case where the sample did not satisfy the UL94VTM-0 standard was evaluated as “defective” and indicated by ×.

−測定方法2−
2−1.剥離強度
JIS C6471に準拠して、圧延銅箔(日鉱金属製、厚さ:18μm)の光沢面とカバーレイフィルムの接着剤層とをプレス装置(温度:160℃、圧力:3MPa、時間:30分)を用いて貼り合わせることによりプレスサンプルを作製した。得られたプレスサンプルを幅1cm、長さ15cmの大きさに切断して試験片とした。その試験片の電気絶縁性フィルム面を固定し(アラミドフィルムの場合は、フィルムが薄く切れやすいので、メンディングテープをアラミドフィルム背面に張り補強する)、25℃の条件下で銅箔を該電気絶縁性フィルム面に対して90度の方向に50mm/分の速度で引き剥がすのに要する力の最低値を測定し、剥離強度として示した。
-Measurement method 2-
2-1. Peel strength According to JIS C6471, the glossy surface of rolled copper foil (Nikko Metal, thickness: 18 μm) and the adhesive layer of the coverlay film are pressed (temperature: 160 ° C., pressure: 3 MPa, time: 30) A press sample was prepared by laminating using a method. The obtained press sample was cut into a size of 1 cm in width and 15 cm in length to obtain a test piece. The surface of the electrically insulating film of the test piece is fixed (in the case of an aramid film, the film is easy to cut thinly, so a mending tape is attached to the back of the aramid film to reinforce it), and the copper foil is attached to the copper foil at 25 ° C. The minimum value of the force required to peel off at a rate of 50 mm / min in the direction of 90 degrees with respect to the insulating film surface was measured and indicated as peel strength.

2−2.半田耐熱性(常態・吸湿)
試験片として、前記剥離強度の測定用と同様にして作製したカバーレイフィルムのプレスサンプルを25mm角に切断することにより作製した試験片を使用した以外は、上記測定方法1−2と同様にして常態下および吸湿下の半田耐熱性を測定した。
2-2. Solder heat resistance (normal condition, moisture absorption)
As a test piece, except that a test piece prepared by cutting a press sample of a coverlay film prepared in the same manner as that for measuring the peel strength into 25 mm squares was used, the same as in the above measurement method 1-2. The solder heat resistance under normal conditions and moisture absorption was measured.

2−3.難燃性
プレスサンプルにエッチング処理を行なうことにより銅箔を全て除去してサンプルを作製した。UL94VTM−0難燃性規格に準拠して、そのサンプルの難燃性を測定した。UL94VTM−0規格を満足する難燃性を示した場合を「良」と評価し○で示し、該サンプルがUL94VTM−0規格を満足しなかった場合を「不良」と評価し×で示した。
2-3. Flame retardance All the copper foil was removed by etching the pressed sample to prepare a sample. In accordance with UL94VTM-0 flame retardancy standard, the flame retardancy of the sample was measured. A case where flame retardancy satisfying the UL94VTM-0 standard was evaluated as “good” and indicated by ◯, and a case where the sample did not satisfy the UL94VTM-0 standard was evaluated as “defective” and indicated by ×.

−測定方法3−
3−1.耐マイグレーション性(単層板評価および多層板評価)
-Measurement method 3-
3-1. Migration resistance (single-layer board evaluation and multilayer board evaluation)

各例においてフレキシブル銅張積層板、カバーレイフィルム、および当該各例の接着剤分散液を使用した以外は後記の実施例5と同様にして作成した、ポリエステルフィルム片面に接着剤組成物層(25μm)を有してなる接着剤シートを使用して単層板構造の試験片、および、多層板構造の試験片を作製した。即ち、   In each example, an adhesive composition layer (25 μm) was formed on one side of a polyester film, which was prepared in the same manner as in Example 5 below except that the flexible copper-clad laminate, the coverlay film, and the adhesive dispersion liquid of each example were used. A test piece having a single-layer plate structure and a test piece having a multi-layer plate structure were prepared using an adhesive sheet comprising That is,

・単層板評価用試験片:
図1に示す断面構造を有する単層板評価用試験片を作製する。フレキシブル銅張積層板にライン幅/スペース幅=80μm/80μmの櫛型回路を作製し、その回路形成面にカバーレイフィルムをプレス装置を使用し、温度:160℃、圧力:3MPa、加圧時間:30分の条件にて貼り合わせ単層板評価用試験片を作製する。図1において、1はカバーレイフィルム由来の電気絶縁性フィルム、2はカバーレイフィルム由来の接着剤層、3はフレキシブル銅張積層板由来の接着剤層、4はフレキシブル銅張積層板由来の電気絶縁性フィルム、5は銅回路である。
・ Single-layer board test piece:
A test piece for single-layer plate evaluation having the cross-sectional structure shown in FIG. 1 is prepared. A comb-shaped circuit having a line width / space width = 80 μm / 80 μm is prepared on a flexible copper-clad laminate, and a coverlay film is pressed on the circuit forming surface using a press device. Temperature: 160 ° C., pressure: 3 MPa, pressurization time : A test piece for evaluating a laminated single-layer board is prepared under a condition of 30 minutes. In FIG. 1, 1 is an electrically insulating film derived from a cover lay film, 2 is an adhesive layer derived from a cover lay film, 3 is an adhesive layer derived from a flexible copper clad laminate, and 4 is an electricity derived from a flexible copper clad laminate. The insulating film 5 is a copper circuit.

・多層板評価用試験片:
図2に断面構造を示す多層板評価用試験片を作製する。上記のようにして作製した単層板評価用試験片の上下の両面に、二枚の接着剤シートの接着剤層を貼りあわせた後保護層であるポリエステルフィルムを該接着剤層から剥離して露出させる。こうして単層板評価用試験片の上下の両側に設けられた接着剤層に単層板評価用試験片を上下から挟み込むように二枚のガラスエポキシ板(厚さ:1mm)を貼りあわせ、温度160℃、圧力3MPaの条件で30分間圧着する。こうして多層板評価用試験片を作製する。図2において、1〜5は図1と同じであり、6は接着剤シート由来の接着剤層、そして7はガラスエポキシ板である。
-Test piece for multilayer board evaluation:
The test piece for multilayer board evaluation which shows a cross-sectional structure in FIG. 2 is produced. After bonding the adhesive layers of the two adhesive sheets on the upper and lower surfaces of the single-layer board evaluation test piece prepared as described above, the polyester film as the protective layer was peeled off from the adhesive layer. Expose. In this way, two glass epoxy plates (thickness: 1 mm) are bonded to the adhesive layers provided on the upper and lower sides of the single-layer plate evaluation test piece so as to sandwich the single-layer plate evaluation test piece from above and below, and the temperature Pressure bonding is performed for 30 minutes at 160 ° C. and a pressure of 3 MPa. In this way, the test piece for multilayer board evaluation is produced. In FIG. 2, 1 to 5 are the same as those in FIG. 1, 6 is an adhesive layer derived from an adhesive sheet, and 7 is a glass epoxy plate.

上記のように作製した試験片に対して、温度85℃、相対湿度85%の条件下で、回路の両極に50Vの直流電圧を印加し、耐マイグレーション性を評価した(マイグレーションテスター、IMV社製、MIG−86)。電圧印加後、1,000時間以内に導体間で短絡(抵抗値の低下)が発生した場合、もしくは1,000時間経過後デンドライトの成長が認められた場合を「不良」と評価し×で示し、1,000時間経過後も抵抗値を維持し、かつデンドライトを生じなかった場合を「良」と評価し○で示す。   With respect to the test piece produced as described above, a DC voltage of 50 V was applied to both poles of the circuit under conditions of a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 85% to evaluate migration resistance (migration tester, manufactured by IMV Co., Ltd.). , MIG-86). When a short circuit (reduction in resistance value) occurs between the conductors within 1,000 hours after voltage application, or when dendrite growth is observed after 1,000 hours, it is evaluated as “Poor” and indicated by x. The case where the resistance value was maintained after 1,000 hours and no dendrite was produced was evaluated as “good” and indicated by ◯.

Figure 2008111102
Figure 2008111102
Figure 2008111102
Figure 2008111102

Figure 2008111102
Figure 2008111102

<接着剤シートの特性>
〔実施例5〕
接着剤組成物の成分を表1の配合例1の欄に示す割合で混合して、実施例1と同様にして分散液を調製した。次いで、アプリケータでその分散液を該組成物の乾燥後の厚さが25μmとなるように離型処理を施したポリエステルフィルム表面に塗布し、それを120℃で10分間、送風オーブン内で乾燥することにより組成物を半硬化状態として接着剤シートを作製した。
<Characteristics of adhesive sheet>
Example 5
The components of the adhesive composition were mixed in the proportions shown in the column of Formulation Example 1 in Table 1, and a dispersion was prepared in the same manner as in Example 1. Next, the dispersion was applied to the surface of the polyester film that had been subjected to a release treatment so that the thickness after drying of the composition was 25 μm with an applicator, and dried in a blowing oven at 120 ° C. for 10 minutes. By doing so, the adhesive sheet was produced by setting the composition to a semi-cured state.

〔比較例11〕
接着剤組成物の成分を表1の比較配合例2の欄に示す割合で混合した以外は実施例5と同様にして接着シートを作製した。
[Comparative Example 11]
An adhesive sheet was prepared in the same manner as in Example 5 except that the components of the adhesive composition were mixed at the ratio shown in the column of Comparative Formulation Example 2 in Table 1.

〔測定〕
実施例5および比較例11で作製した接着剤シートの特性を下記測定方法4に従って測定した。その結果を表3に示す。
[Measurement]
The properties of the adhesive sheets prepared in Example 5 and Comparative Example 11 were measured according to the following measuring method 4. The results are shown in Table 3.

−測定方法4−
4−1.剥離強度
接着剤シートから保護層であるポリエステルフィルムを除去した接着剤層を介して、ポリイミドフィルムB(商品名:アピカル、カネカ製、厚さ:75μm)とポリイミドフィルムC(商品名:アピカル、カネカ製、厚さ:25μm)とを重ね合わせた後、プレス装置(温度:160℃、圧力:3MPa、時間:60分)を用いて貼り合わせることによりプレスサンプルを作製する。そのサンプルを幅1cm、長さ15cmの大きさに切断して試験片とし、その試験片のポリイミドフィルムB(厚さ:75μm)を固定し、25℃の条件下でポリイミドフィルムC(厚さ:25μm)をポリイミドフィルムBの面に対して180度の方向に50mm/分の速度で引き剥がすのに要する力の最低値を測定し、剥離強度として示す。
-Measurement method 4-
4-1. Peel strength Through an adhesive layer obtained by removing the polyester film as a protective layer from the adhesive sheet, polyimide film B (trade name: Apical, Kaneka, thickness: 75 μm) and polyimide film C (trade name: Apical, Kaneka) Manufactured and having a thickness of 25 μm), a press sample is prepared by bonding using a press device (temperature: 160 ° C., pressure: 3 MPa, time: 60 minutes). The sample was cut into a size of 1 cm in width and 15 cm in length to obtain a test piece. A polyimide film B (thickness: 75 μm) of the test piece was fixed, and a polyimide film C (thickness: 25 ° C.) The minimum value of the force required to peel 25 μm) at a rate of 50 mm / min in the direction of 180 degrees with respect to the surface of the polyimide film B is measured and shown as the peel strength.

Figure 2008111102
Figure 2008111102

<評価>
配合例1、2、3で調製した組成物は本発明の要件を満足するものであって、それを用いたフレキシブル銅張積層板、カバーレイ、接着剤シートは、剥離強度、半田耐熱性、難燃性および耐マイグレーション性に優れていた。
<Evaluation>
The compositions prepared in Formulation Examples 1, 2, and 3 satisfy the requirements of the present invention, and the flexible copper-clad laminate, coverlay, and adhesive sheet using the composition are peel strength, solder heat resistance, Excellent flame retardancy and migration resistance.

比較配合例1で調製した組成物は、本発明の要件の(F)イオン捕捉剤、または重金属不活性化剤が不足しているため、積層板評価における耐マイグレーション性に劣っていた。   The composition prepared in Comparative Formulation Example 1 was inferior in migration resistance in laminate evaluation because the (F) ion scavenger or heavy metal deactivator required for the present invention was insufficient.

比較配合例4で調製した組成物は、本発明要件の(E)ホスフィン酸塩類および(F)イオン捕捉剤、または重金属不活性化剤を含有しないものであり、剥離強度および耐マイグレーション性に劣るものであった。   The composition prepared in Comparative Formulation Example 4 does not contain (E) phosphinates and (F) ion scavengers or heavy metal deactivators, which are requirements of the present invention, and is inferior in peel strength and migration resistance. It was a thing.

比較配合例2、比較配合例6および比較配合例8で調製した組成物は、本発明要件の(E)ホスフィン酸塩類を含有しないものであり、剥離強度および耐マイグレーション性に劣るものであった。また、さらに本発明要件の(E)ホスフィン酸塩類よりリン含有量の少ないリン系難燃剤を用いたため、配合例1と同量の難燃剤を添加したにも関わらず、難燃性に劣るものであった。   The compositions prepared in Comparative Formulation Example 2, Comparative Formulation Example 6 and Comparative Formulation Example 8 did not contain the (E) phosphinates required for the present invention, and were inferior in peel strength and migration resistance. . In addition, since a phosphorus-based flame retardant having a lower phosphorus content than the (E) phosphinates of the present invention is used, the flame retardant is inferior despite the addition of the same amount of flame retardant as in Formulation Example 1. Met.

比較配合例3、比較配合例5、比較配合例7および比較配合例9で調製した組成物は、本発明要件の(E)ホスフィン酸塩類を含有しないものであり、剥離強度および耐マイグレーション性に劣るものであった。   The compositions prepared in Comparative Formulation Example 3, Comparative Formulation Example 5, Comparative Formulation Example 7 and Comparative Formulation Example 9 do not contain (E) phosphinic acid salts which are the requirements of the present invention, and are excellent in peel strength and migration resistance. It was inferior.

本発明の難燃性接着剤組成物を硬化させて得られる硬化物、ならびに該組成物を用いたカバーレイフィルム、接着シートおよびフレキシブル銅張積層板はいずれも、剥離強度、半田耐熱性および難燃性に優れ、さらに従来から多用されてきた単層板状態での耐マイグレーション性に優れるのみならず、より高密度化された多層板状態での耐マイグレーション性にも優れ、かつハロゲンを含有しないので、環境に優しいフレキシブル印刷配線板の製造等への応用が期待される。   The cured product obtained by curing the flame-retardant adhesive composition of the present invention, and the coverlay film, adhesive sheet and flexible copper-clad laminate using the composition are all peel strength, solder heat resistance and difficulty. Not only has excellent flammability, but also excellent migration resistance in the single-layer board state that has been frequently used in the past, as well as excellent migration resistance in the higher-density multilayer board state, and does not contain halogen. Therefore, it is expected to be applied to the production of environment-friendly flexible printed wiring boards.

耐マイグレーション性試験(単層板評価)用試験片の断面構造の概略を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the outline of the cross-section of the test piece for a migration resistance test (single-layer board evaluation). 耐マイグレーション性試験(多層板評価)用試験片の断面構造の概略を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the outline of the cross-sectional structure of the test piece for a migration resistance test (multilayer board evaluation).

符号の説明Explanation of symbols

1 電気絶縁性フィルム(カバーレイフィルム由来)
2 接着剤層(カバーレイフィルム由来)
3 接着剤層(フレキシブル銅張積層板由来)
4 電気絶縁性フィルム(フレキシブル銅張積層板由来)
5 導体(銅回路)
6 接着剤シート
7 ガラスエポキシ板
1 Electrical insulating film (derived from coverlay film)
2 Adhesive layer (from coverlay film)
3 Adhesive layer (derived from flexible copper clad laminate)
4 Electrical insulating film (derived from flexible copper-clad laminate)
5 Conductor (Copper circuit)
6 Adhesive sheet 7 Glass epoxy board

Claims (9)

(A)非ハロゲン系エポキシ樹脂、
(B)カルボキシル基含有アクリル樹脂および/またはカルボキシル基含有アクリロニトリル−ブタジエンゴム、
(C)硬化剤、
(E)下記一般式(1)で示されるホスフィン酸塩および/または下記一般式(2)で示されるジホスフィン酸塩
Figure 2008111102
(1)
(式中、R及びRは同一でも異なってもよく、1価の線状もしくは分岐状の炭素原子数1〜6のアルキル基、またはアリール基であり、Mは、Mg、Ca、Al、Sb、Sn、Ge、Ti、Zn、Fe、Zr、Ce、Bi、Sr、Mn、Li、Na、K、及びプロトン化された窒素塩基からなる群から選択されるものであり、mは1〜4の整数である。)
Figure 2008111102
(2)
(式中、R、R、M及びmは前記の通りであり、Rは2価の線状もしくは分岐状の炭素原子数1〜10のアルキレン基、炭素原子数6〜10のアリーレン基、炭素原子数6〜10のアルキルアリーレン基、または炭素原子数6〜10のアリールアルキレン基であり、nは1〜4の整数であり、xは1〜4の整数であり、但し2n=mxの関係にある。)、ならびに
(F)イオン捕捉剤および/または重金属不活性化剤
を含む難燃性接着剤組成物。
(A) non-halogen epoxy resin,
(B) a carboxyl group-containing acrylic resin and / or a carboxyl group-containing acrylonitrile-butadiene rubber,
(C) a curing agent,
(E) Phosphinic acid salt represented by the following general formula (1) and / or diphosphinic acid salt represented by the following general formula (2)
Figure 2008111102
(1)
(In the formula, R 1 and R 2 may be the same or different, and are a monovalent linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group, and M is Mg, Ca, Al , Sb, Sn, Ge, Ti, Zn, Fe, Zr, Ce, Bi, Sr, Mn, Li, Na, K, and a protonated nitrogen base, and m is 1 It is an integer of ~ 4.)
Figure 2008111102
(2)
Wherein R 1 , R 2 , M and m are as described above, R 3 is a divalent linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and arylene having 6 to 10 carbon atoms. A group, an alkylarylene group having 6 to 10 carbon atoms, or an arylalkylene group having 6 to 10 carbon atoms, n is an integer of 1 to 4, and x is an integer of 1 to 4, provided that 2n = mx)), and (F) a flame retardant adhesive composition comprising an ion scavenger and / or a heavy metal deactivator.
離型基材と、該基材の片面に形成された請求項1に記載の接着剤組成物からなる層とを有する接着剤シート。   The adhesive sheet which has a mold release base material and the layer which consists of an adhesive composition of Claim 1 formed in the single side | surface of this base material. 電気絶縁性フィルムと、該絶縁性フィルムの少なくとも片面に設けられた請求項1に記載の組成物からなる層を有するカバーレイフィルム。   The coverlay film which has a layer which consists of an electrically insulating film and the composition of Claim 1 provided in the at least single side | surface of this insulating film. 前記電気絶縁性フィルムがポリイミドフィルムもしくはアラミドフィルムを含む請求項3に係るカバーレイフィルム。   The coverlay film according to claim 3, wherein the electrically insulating film includes a polyimide film or an aramid film. 前記電気絶縁性フィルムが、サポートフィルムと該サポートフィルム上に支持された厚み3〜9μmのアラミドフィルムとから成る請求項4に係るカバーレイフィルム。   The coverlay film according to claim 4, wherein the electrically insulating film comprises a support film and an aramid film having a thickness of 3 to 9 μm supported on the support film. サポートフィルム上に支持された厚み3〜9μmのアラミドフィルムからなる電気絶縁性フィルムと、該絶縁性フィルムの少なくとも片面に設けられた請求項1に記載の組成物からなる層と、該組成物層上に設けられた離型基材とを有する請求項5に係るカバーレイフィルム。   An electrically insulating film made of an aramid film having a thickness of 3 to 9 μm supported on a support film, a layer made of the composition according to claim 1 provided on at least one surface of the insulating film, and the composition layer The coverlay film according to claim 5, further comprising a release substrate provided thereon. 電気絶縁性フィルムと、該絶縁性フィルムの片面または両面に設けられた請求項1に記載の接着剤組成物からなる層と、こうして設けられた一層または二層の接着剤組成物層上に設けられた一層または二層の銅箔とを有するフレキシブル銅張積層板。   An electrically insulating film, a layer comprising the adhesive composition according to claim 1 provided on one or both sides of the insulating film, and a single or two-layer adhesive composition layer thus provided. A flexible copper clad laminate having a single layer or two layers of copper foil. 前記電気絶縁性フィルムがポリイミドフィルムもしくはアラミドフィルムを含む請求項7に係るフレキシブル銅張積層板。   The flexible copper clad laminate according to claim 7, wherein the electrical insulating film includes a polyimide film or an aramid film. 前記電気絶縁性フィルムが、サポートフィルムと該サポートフィルム上に支持された厚み3〜9μmのアラミドフィルムとから成る請求項8に係るフレキシブル銅張積層板。   The flexible copper-clad laminate according to claim 8, wherein the electrical insulating film comprises a support film and an aramid film having a thickness of 3 to 9 μm supported on the support film.
JP2007240897A 2006-10-02 2007-09-18 Flame-retardant adhesive composition, and adhesive sheet, cover-lay film and flexible copper-clad laminate using the same Pending JP2008111102A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007240897A JP2008111102A (en) 2006-10-02 2007-09-18 Flame-retardant adhesive composition, and adhesive sheet, cover-lay film and flexible copper-clad laminate using the same

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006271068 2006-10-02
JP2007240897A JP2008111102A (en) 2006-10-02 2007-09-18 Flame-retardant adhesive composition, and adhesive sheet, cover-lay film and flexible copper-clad laminate using the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008111102A true JP2008111102A (en) 2008-05-15

Family

ID=39443802

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007240897A Pending JP2008111102A (en) 2006-10-02 2007-09-18 Flame-retardant adhesive composition, and adhesive sheet, cover-lay film and flexible copper-clad laminate using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008111102A (en)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009052335A1 (en) * 2007-10-19 2009-04-23 3M Innovative Properties Company Halogen-free flame retardant adhesive compositions and article containing same
WO2009150818A1 (en) * 2008-06-11 2009-12-17 三菱樹脂株式会社 Flame-retardant adhesive composition and laminated film
JP2010116453A (en) * 2008-11-12 2010-05-27 Nippon Steel Chem Co Ltd Film adhesive, semiconductor package using the same, and method for producing semiconductor package
JP2010129816A (en) * 2008-11-28 2010-06-10 Lintec Corp Semiconductor chip laminated body and adhesive agent composition for laminating semiconductor chip
JP2011218561A (en) * 2010-04-02 2011-11-04 Kaneka Corp New white multilayer film
JP2013060535A (en) * 2011-09-14 2013-04-04 Denki Kagaku Kogyo Kk High viscosity acrylic resin composition and application of the same
WO2017077912A1 (en) * 2015-11-02 2017-05-11 東洋紡株式会社 Low-dielectric flame-resistant adhesive composition
US20170176862A1 (en) * 2014-09-30 2017-06-22 Fujifilm Corporation Pattern forming method, composition for forming protective film, method for manufacturing electronic device, and electronic device
WO2022085475A1 (en) * 2020-10-21 2022-04-28 株式会社Adeka Composition, cured product, method for producing cured product, and additive

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002284963A (en) * 2001-03-26 2002-10-03 Nippon Kayaku Co Ltd Flame-retardant epoxy resin composition and use thereof
JP2004115612A (en) * 2002-09-25 2004-04-15 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive composition
JP2005015553A (en) * 2003-06-24 2005-01-20 Nippon Kayaku Co Ltd Epoxy resin composition and adhesive sheet using the same
JP2005089629A (en) * 2003-09-18 2005-04-07 Ricoh Co Ltd Electroconductive adhesive
JP2005314604A (en) * 2004-04-30 2005-11-10 Shin Etsu Chem Co Ltd Flame resistant adhesive composition and adhesive sheet using the same

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002284963A (en) * 2001-03-26 2002-10-03 Nippon Kayaku Co Ltd Flame-retardant epoxy resin composition and use thereof
JP2004115612A (en) * 2002-09-25 2004-04-15 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive composition
JP2005015553A (en) * 2003-06-24 2005-01-20 Nippon Kayaku Co Ltd Epoxy resin composition and adhesive sheet using the same
JP2005089629A (en) * 2003-09-18 2005-04-07 Ricoh Co Ltd Electroconductive adhesive
JP2005314604A (en) * 2004-04-30 2005-11-10 Shin Etsu Chem Co Ltd Flame resistant adhesive composition and adhesive sheet using the same

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009052335A1 (en) * 2007-10-19 2009-04-23 3M Innovative Properties Company Halogen-free flame retardant adhesive compositions and article containing same
WO2009150818A1 (en) * 2008-06-11 2009-12-17 三菱樹脂株式会社 Flame-retardant adhesive composition and laminated film
JPWO2009150818A1 (en) * 2008-06-11 2011-11-10 三菱樹脂株式会社 Flame retardant adhesive composition and laminated film
JP2010116453A (en) * 2008-11-12 2010-05-27 Nippon Steel Chem Co Ltd Film adhesive, semiconductor package using the same, and method for producing semiconductor package
JP2010129816A (en) * 2008-11-28 2010-06-10 Lintec Corp Semiconductor chip laminated body and adhesive agent composition for laminating semiconductor chip
JP2011218561A (en) * 2010-04-02 2011-11-04 Kaneka Corp New white multilayer film
JP2013060535A (en) * 2011-09-14 2013-04-04 Denki Kagaku Kogyo Kk High viscosity acrylic resin composition and application of the same
US20170176862A1 (en) * 2014-09-30 2017-06-22 Fujifilm Corporation Pattern forming method, composition for forming protective film, method for manufacturing electronic device, and electronic device
US10175578B2 (en) * 2014-09-30 2019-01-08 Fujifilm Corporation Pattern forming method, composition for forming protective film, method for manufacturing electronic device, and electronic device
WO2017077912A1 (en) * 2015-11-02 2017-05-11 東洋紡株式会社 Low-dielectric flame-resistant adhesive composition
JPWO2017077912A1 (en) * 2015-11-02 2018-08-16 東洋紡株式会社 Low dielectric flame retardant adhesive composition
JP2021003886A (en) * 2015-11-02 2021-01-14 東洋紡株式会社 Low dielectric fire-resistant adhesive composition
WO2022085475A1 (en) * 2020-10-21 2022-04-28 株式会社Adeka Composition, cured product, method for producing cured product, and additive

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008088302A (en) Flame-retardant adhesive composition, adhesive sheet using it, cover-lay film and flexible copper-clad laminate plate
JP4672505B2 (en) Flame-retardant adhesive composition, and adhesive sheet, coverlay film and flexible copper-clad laminate using the same
US7820740B2 (en) Flame retardant adhesive composition, and adhesive sheet, coverlay film and flexible copper-clad laminate using same
JP2006316234A (en) Flame retardant adhesive composition, adhesive sheet using the same, cover lay film and flexible copper clad laminate
JP2005248048A (en) Flame retardant adhesive composition, and adhesive sheet, cover lay film and flexible copper clad laminate plate by using the same
US7524563B2 (en) Flame retardant adhesive composition, and adhesive sheet, coverlay film and flexible copper-clad laminate using same
JP2006328112A (en) Flame-retardant adhesive composition, and adhesive sheet, cover lay film and flexible copper-clad laminate obtained using the same
JP2008111102A (en) Flame-retardant adhesive composition, and adhesive sheet, cover-lay film and flexible copper-clad laminate using the same
JP2008291171A (en) Flame-retardant adhesive composition and cover-lay film using the same
JP2006232985A (en) Non-halogen adhesive composition, and coverlay film and adhesive sheet obtained using the same
TW201313462A (en) Flame-retardant resin composition and flexible printed wiring board metal-clad laminate, cover-lay, flexible printed wiring board adhesive sheet, and flexible printed wiring board, which use this resin composition
JP2010248380A (en) Adhesive composition, and adhesive sheet and coverlay film using the same
JP5008536B2 (en) Adhesive composition and coverlay film and adhesive sheet using the same
JP2012097197A (en) Flame-retardant adhesive composition and adhesive sheet and coverlay film using the same
JP2006328113A (en) Flame-retardant adhesive composition, and adhesive sheet, cover lay film and flexible copper-clad laminate obtained using the same
JP2006328114A (en) Flame-retardant adhesive composition, and adhesive sheet, cover lay film and flexible copper-clad laminate obtained using the same
JP2009149829A (en) Flame-retardant adhesive composition, as well as coverlay film and adhesive sheet using it
JP2006342333A (en) Flame retardant adhesive composition, and adhesive sheet, coverlay film and flexible copper-clad laminate plate, using the same
JP2009167396A (en) Adhesive composition, copper-clad laminate plate using the same, cover-lay film and adhesive sheet
JP2005248134A (en) Flame retardant adhesive composition, and cover lay film and flexible copper clad laminate plate by using the same
JP2012241147A (en) Flame retardant adhesive composition, adhesive sheet and cover lay film using the same
JP2010018676A (en) Flame-retardant adhesive composition and adhesion sheet using the same, coverlay film, and flexible copper-clad laminate
JP2009215494A (en) Flame retardant adhesive composition, and adhesive sheet, coverlay film and flexible copper-clad laminate plate using the same
JP2012097195A (en) Flame-retardant adhesive composition and adhesive sheet and coverlay film using the same
JP2005187810A (en) Flame retardant resin composition and metal-clad laminated sheet for flexible printed wiring board, cover lay, adhesive sheet and flexible printed wiring board using this composition

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090424

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120131

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20120529