JP2006232985A - Non-halogen adhesive composition, and coverlay film and adhesive sheet obtained using the same - Google Patents

Non-halogen adhesive composition, and coverlay film and adhesive sheet obtained using the same Download PDF

Info

Publication number
JP2006232985A
JP2006232985A JP2005049071A JP2005049071A JP2006232985A JP 2006232985 A JP2006232985 A JP 2006232985A JP 2005049071 A JP2005049071 A JP 2005049071A JP 2005049071 A JP2005049071 A JP 2005049071A JP 2006232985 A JP2006232985 A JP 2006232985A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mass
component
adhesive
components
glass transition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005049071A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hitoshi Arai
均 新井
Michio Aizawa
道生 相澤
Tadashi Amano
正 天野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP2005049071A priority Critical patent/JP2006232985A/en
Publication of JP2006232985A publication Critical patent/JP2006232985A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a non-halogen adhesive composition giving a cured product excellent in flame retardancy, migration property, glass transition temperature, soldering heat resistance and processability, and a coverlay film and an adhesive sheet each having an adhesive layer comprised of the composition. <P>SOLUTION: The adhesive composition comprises (A) a phenoxy resin having a molecular weight of at least 10,000, a glass transition temperature of 40°C or higher and bearing epoxy groups on the both ends of the molecular chain, (B) a non-halogen epoxy resin, (C) a carboxy group-containing acrylic resin, (D) a curing agent, (E) an inorganic filler, and (F) a phosphorus-containing flame retardant, where the ratio of the component (C) to the total of the components (A)-(D) is 10-60 mass%; the ratio of the components having a glass transition temperature of 30°C or higher in the components (A)-(D) is 40-90 mass%; and the phosphorus content in the whole organic solid component is at least 2.5 mass%. The adhesive sheet and the coverlay film are obtained using the composition. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、難燃性、ガラス転移点、マイグレーション性、半田耐熱性および加工性が優れた硬化物となる非ハロゲン系接着剤組成物、ならびに該組成物からなる接着剤層を有するカバーレイフィルムおよび接着シートに関する。   The present invention relates to a non-halogen adhesive composition that is a cured product excellent in flame retardancy, glass transition point, migration property, solder heat resistance and processability, and a coverlay film having an adhesive layer made of the composition And an adhesive sheet.

近年、エレクトロニクス分野の発展が目覚ましく、特に通信用・民生用の電子機器の小型化、軽量化、高密度化等が進み、これらの性能に対する要求がますます高度なものとなっている。このような要求に対して、フレキシブル印刷配線板は可撓性を有し、繰り返し屈曲に耐えるため、狭い空間に立体的かつ高密度に実装することが可能であり、電子機器への配線、ケーブル、コネクター機能等を付与した複合部品として、その用途が拡大しつつある。   In recent years, the electronics field has been remarkably developed, and in particular, electronic devices for communication and consumer use have been reduced in size, weight, density, etc., and demands for these performances have become increasingly sophisticated. In response to such requirements, flexible printed wiring boards are flexible and can withstand repeated bending, so they can be mounted three-dimensionally and densely in a narrow space. As a composite part with a connector function and the like, its application is expanding.

フレキシブル印刷配線板には、電気絶縁性の基材フィルムの片面に半硬化状態の接着剤を塗布したものと離型材とを貼り合わせたカバーレイフィルムが用いられる。このカバーレイフィルムは、フレキシブル印刷配線板の回路保護や屈曲性の向上等を目的とするものであり、例えば、保存性、密着性、耐熱性、電気特性、加工性等の特性が求められる。   As the flexible printed wiring board, a coverlay film is used in which a semi-cured adhesive is applied to one side of an electrically insulating base film and a release material is bonded together. This cover lay film is for the purpose of circuit protection and flexibility improvement of a flexible printed wiring board, and, for example, characteristics such as storage stability, adhesion, heat resistance, electrical characteristics, and workability are required.

また、フレキシブル印刷配線板とフレキシブル印刷配線板とを貼り合わせて多層フレキシブル印刷配線板を製造する場合や、フレキシブル印刷配線板と補強板とを貼り合わせる場合等には、接着材料として接着シートが使用される。この接着シートは、離型材の片面に半硬化状態の接着剤を塗布したもの、あるいは離型材の片面に半硬化状態の接着剤を塗布し、さらに離型材と貼り合わせたものであり、例えば、保存性、密着性、耐熱性、電気特性、加工性等の特性が求められる。   In addition, when manufacturing a multilayer flexible printed wiring board by bonding a flexible printed wiring board and a flexible printed wiring board, or when bonding a flexible printed wiring board and a reinforcing plate, an adhesive sheet is used as an adhesive material. Is done. This adhesive sheet is obtained by applying a semi-cured adhesive on one side of the release material, or by applying a semi-cured adhesive on one side of the release material, and further bonding the release material. Properties such as storability, adhesion, heat resistance, electrical properties, and workability are required.

近年、フレキシブル印刷配線板を高温下で使用する機会や、部品をワイヤーボンディングにより実装する機会等が増えてきており、これに伴ってフレキシブル印刷配線板に使用する接着剤に対して高いガラス転移点が必要になってきている。さらに、環境問題を背景として、電子機器に実装される部品に対してハロゲン化合物の使用を禁止する傾向があり、従来、フレキシブル印刷配線用基板材料を難燃化するために用いられてきた臭素化合物の使用が困難となってきている。   In recent years, the opportunity to use flexible printed wiring boards at high temperatures and the opportunity to mount components by wire bonding has increased, and this has led to a high glass transition point for adhesives used for flexible printed wiring boards. Is becoming necessary. In addition, with the background of environmental problems, there is a tendency to ban the use of halogen compounds for components mounted on electronic equipment, and bromine compounds that have been used to make flame-retardant substrate materials for flexible printed wiring. The use of has become difficult.

そのため、フレキシブル印刷配線用基板に関しては、ガラス転移点が高い接着剤を使用したものや、接着剤を使用しないで金属箔と耐熱性樹脂を貼り合わせた材料等が提案されている。また、ハロゲンを使用しない難燃化は、接着剤に難燃剤として臭素化合物の代わりに燐系難燃剤を添加して、難燃化する手法が取られている。これに対して、カバーレイフィルムおよび接着シートに関しては、加工性、保存性等の観点から、ガラス転移点が高い接着剤を使用し、かつ燐系難燃剤を使用したものが提案されている。   Therefore, regarding flexible printed wiring boards, materials using an adhesive having a high glass transition point, materials obtained by bonding a metal foil and a heat-resistant resin without using an adhesive, and the like have been proposed. In addition, flame retardant without using a halogen has been made by adding a phosphorus flame retardant instead of a bromine compound as a flame retardant to an adhesive to make it flame retardant. On the other hand, as for the coverlay film and the adhesive sheet, those using an adhesive having a high glass transition point and a phosphorus flame retardant have been proposed from the viewpoints of processability and storage stability.

その具体例としては、例えば、熱可塑性樹脂、燐含有フェノキシ樹脂、燐含有エポキシ樹脂および硬化剤からなる接着剤組成物(特許文献1)、エポキシ樹脂、硬化剤、フェノキシ樹脂、ゴム成分および硬化促進剤からなる樹脂組成物(特許文献2)、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂および硬化剤からなる樹脂組成物(特許文献3)、アクリルゴム、フェノキシ樹脂および硬化剤からなる接着剤組成物(特許文献4)、燐含有フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、カルボキシル基含有ブタジエンゴム、硬化剤、硬化促進剤、金属水酸化物および無機充填剤からなる接着剤組成物(特許文献5)、エポキシ樹脂、多官能アラルキルフェノール、硬化促進剤、カルボキシル基含有アクリロニトリルブタジエンゴム等のエラストマー、ホスファゼン化合物および無機充填剤からなる接着剤組成物(特許文献6)等が提案されている。   Specific examples thereof include, for example, an adhesive composition composed of a thermoplastic resin, a phosphorus-containing phenoxy resin, a phosphorus-containing epoxy resin and a curing agent (Patent Document 1), an epoxy resin, a curing agent, a phenoxy resin, a rubber component, and a curing accelerator. Resin composition comprising an agent (Patent Document 2), resin composition comprising a phenoxy resin, an epoxy resin and a curing agent (Patent Document 3), an adhesive composition comprising an acrylic rubber, a phenoxy resin and a curing agent (Patent Document 4) , Phosphorus-containing phenoxy resin, epoxy resin, carboxyl group-containing butadiene rubber, curing agent, curing accelerator, adhesive composition comprising metal hydroxide and inorganic filler (Patent Document 5), epoxy resin, polyfunctional aralkylphenol, Curing accelerators, elastomers such as carboxyl group-containing acrylonitrile butadiene rubber, phosphazene compounds And adhesive compositions comprising an inorganic filler (Patent Document 6) have been proposed.

しかしながら、いずれの接着剤組成物も、その硬化物が、ガラス転移点、マイグレーション性、半田耐熱性および加工性が同時に優れ、かつハロゲンを含まずに難燃性に優れたものではなかった。   However, in any of the adhesive compositions, the cured product has excellent glass transition point, migration property, solder heat resistance and workability at the same time, and does not contain halogen and is not excellent in flame retardancy.

特開2003−176470号公報JP 2003-176470 A 特開2003−286391号公報JP 2003-286391 A 特開平11−279260号公報JP 11-279260 A 特開2004−136631号公報JP 2004136663 A 特開2003−292927号公報JP 2003-292927 A 特開2004−075748号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-075748

そこで、本発明は、難燃性、マイグレーション性、ガラス転移点、半田耐熱性および加工性が優れた硬化物となる非ハロゲン系接着剤組成物、ならびに該組成物からなる接着剤層を有するカバーレイフィルムおよび接着シートを提供することを目的とする。   Accordingly, the present invention provides a non-halogen adhesive composition that is a cured product excellent in flame retardancy, migration, glass transition point, solder heat resistance and processability, and a cover having an adhesive layer made of the composition. An object is to provide a lay film and an adhesive sheet.

上記の課題を解決するために、本発明は、
(A)重量平均分子量が10,000以上であり、かつガラス転移点が40℃以上である、分子鎖両末端にエポキシ基を有するフェノキシ樹脂、
(B)該(A)成分以外の非ハロゲン系エポキシ樹脂、
(C)カルボキシル基含有アクリル樹脂、
(D)硬化剤、
(E)無機フィラー、および
(F)融点が80℃以上の燐系難燃剤
を含有してなる非ハロゲン系接着剤組成物であって、該(A)〜(D)成分の合計に対して該(C)成分の割合が10〜60質量%であり、該(A)〜(D)成分の中でガラス転移点30℃以上の成分の割合が40〜90質量%であり、かつ全有機固形成分中の燐含有率が2.5質量%以上である上記組成物、
を提供する。
In order to solve the above problems, the present invention provides:
(A) a phenoxy resin having an epoxy group at both ends of a molecular chain, having a weight average molecular weight of 10,000 or more and a glass transition point of 40 ° C. or more;
(B) a non-halogen epoxy resin other than the component (A),
(C) carboxyl group-containing acrylic resin,
(D) a curing agent,
(E) An inorganic filler, and (F) a non-halogen adhesive composition comprising a phosphorus-based flame retardant having a melting point of 80 ° C. or higher, and the total of the components (A) to (D) The proportion of the component (C) is 10 to 60% by mass, the proportion of the component having a glass transition point of 30 ° C. or higher among the components (A) to (D) is 40 to 90% by mass, and the total organic The above composition, wherein the phosphorus content in the solid component is 2.5% by mass or more,
I will provide a.

本発明は第二に、前記接着剤組成物からなる接着剤層と、該接着剤層を被覆する離型材層とを有する接着シート、を提供する。   Secondly, the present invention provides an adhesive sheet having an adhesive layer made of the adhesive composition and a release material layer covering the adhesive layer.

本発明は第三に、電気絶縁性フィルム層と、該フィルム層上に設けられた前記接着剤組成物からなる接着剤層とを有するカバーレイフィルム、を提供する。   Thirdly, the present invention provides a coverlay film having an electrically insulating film layer and an adhesive layer made of the adhesive composition provided on the film layer.

本発明の非ハロゲン系接着剤組成物は、難燃性、マイグレーション性、ガラス転移点、半田耐熱性および加工性が優れた硬化物乃至接着剤層を形成するものである。さらに、この組成物はハロゲンを含まないために、環境にも優しい。したがって、この接着剤層を有するカバーレイフィルムおよび接着シートも同様に優れた特性を有するものとなるので、特にフレキシブル印刷配線板等の分野で好適に利用、応用できるものである。   The non-halogen adhesive composition of the present invention forms a cured product or an adhesive layer excellent in flame retardancy, migration property, glass transition point, solder heat resistance and processability. Furthermore, the composition is environmentally friendly because it does not contain halogen. Therefore, since the coverlay film and adhesive sheet having this adhesive layer also have excellent characteristics, they can be suitably used and applied particularly in the field of flexible printed wiring boards and the like.

以下、本発明について詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

なお、本明細書中において、(A)〜(F)成分および場合によっては含まれる成分のガラス転移点(Tg)はDSC法によるものであり、接着剤組成物の硬化物のガラス転移点はDMA法によるものである。   In addition, in this specification, the glass transition point (Tg) of (A)-(F) component and the component contained depending on the case is based on DSC method, The glass transition point of the hardened | cured material of adhesive composition is This is based on the DMA method.

<接着剤組成物>
本発明の接着剤組成物は、熱硬化性接着剤組成物であり、例えば、カバーレイフィルム、接着シートの製造等に用いられる。
<Adhesive composition>
The adhesive composition of the present invention is a thermosetting adhesive composition, and is used, for example, for the production of coverlay films and adhesive sheets.

本発明の接着剤組成物は、(A)〜(F)成分を含有してなるものである。本明細書中において、「有機固形成分」とは、本発明の接着剤組成物を構成する不揮発性有機成分である。   The adhesive composition of the present invention comprises the components (A) to (F). In the present specification, the “organic solid component” is a non-volatile organic component constituting the adhesive composition of the present invention.

以下、組成物に含有される各成分について、詳しく説明する。   Hereinafter, each component contained in the composition will be described in detail.

〔(A)フェノキシ樹脂〕
(A)成分であるフェノキシ樹脂は、分子鎖両末端にエポキシ基を有し、重量平均分子量が10,000以上であり、かつガラス転移点が40℃以上のものである。
[(A) Phenoxy resin]
The phenoxy resin as component (A) has an epoxy group at both ends of the molecular chain, a weight average molecular weight of 10,000 or more, and a glass transition point of 40 ° C. or more.

重量平均分子量は、好ましくは20,000〜100,000であり、より好ましくは30,000〜80,000である。この分子量が10,000未満である場合には、硬化物は耐熱性、柔軟性に劣ることがあり、100,000を超える場合には、硬化物は安定性に劣ることがあり、後述の有機溶剤を用いる場合には、特に本成分の溶剤への溶解性が低下することがある。なお、この分子量はGPCによるポリスチレン換算値である。   The weight average molecular weight is preferably 20,000 to 100,000, more preferably 30,000 to 80,000. When the molecular weight is less than 10,000, the cured product may be inferior in heat resistance and flexibility, and in the case of exceeding 100,000, the cured product may be inferior in stability. In particular, the solubility of this component in a solvent may be reduced. In addition, this molecular weight is a polystyrene conversion value by GPC.

ガラス転移点は、好ましくは50〜200℃、より好ましくは60〜160℃である。ガラス転移点が40℃未満である場合には、硬化物のガラス転移点が低くなることがあり、200℃を超える場合には、該硬化物の剥離強度が劣ることがある。   The glass transition point is preferably 50 to 200 ° C, more preferably 60 to 160 ° C. When the glass transition point is less than 40 ° C., the glass transition point of the cured product may be low, and when it exceeds 200 ° C., the peel strength of the cured product may be inferior.

また、前記フェノキシ樹脂が分子鎖両末端にエポキシ基を有しない場合には、硬化物の耐溶剤性、半田耐熱性、特に吸湿時の半田耐熱性が低下する。   Further, when the phenoxy resin does not have an epoxy group at both ends of the molecular chain, the solvent resistance of the cured product, the solder heat resistance, particularly the solder heat resistance during moisture absorption is lowered.

本成分のフェノキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型フェノキシ樹脂、ビスフェノールF型フェノキシ樹脂、ビスフェノールA型とビスフェノールF型の共重合フェノキシ樹脂等が挙げられる。その市販品としては、例えば、商品名で、エピコート4256、エピコート4275、エピコート1256(ジャパンエポキシレジン社製)等が挙げられる。   Examples of the phenoxy resin of this component include bisphenol A type phenoxy resin, bisphenol F type phenoxy resin, copolymerized phenoxy resin of bisphenol A type and bisphenol F type, and the like. As the commercially available product, for example, Epicoat 4256, Epicoat 4275, Epicoat 1256 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) and the like are listed under the trade name.

(A)成分のフェノキシ樹脂は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。   (A) The phenoxy resin of a component may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.

〔(B)非ハロゲン系エポキシ樹脂〕
(B)成分である非ハロゲン系エポキシ樹脂は、分子骨格内にハロゲンを含まず、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するものであって、前記(A)成分以外のものである。具体的には、通常、重量平均分子量が10,000未満の非ハロゲン系エポキシ樹脂であり、例えば、シリコーン、ウレタン、ポリイミド、ポリアミド等で変性されていてもよく、また、分子骨格中に、リン原子、硫黄原子、窒素原子等を含んでいてもよい。
[(B) Non-halogen epoxy resin]
The non-halogen epoxy resin as the component (B) does not contain halogen in the molecular skeleton and has two or more epoxy groups in one molecule, and is other than the component (A). Specifically, it is usually a non-halogen epoxy resin having a weight average molecular weight of less than 10,000, and may be modified with, for example, silicone, urethane, polyimide, polyamide, etc. A sulfur atom, a nitrogen atom, etc. may be included.

この非ハロゲン系エポキシ樹脂は、1分子中にエポキシ基を2〜15個有することが好ましく、2〜10個有することがより好ましい。特に、1分子中に2個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂は、硬化物の柔軟性および剥離強度をより優れたものとし、1分子中に3個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂は、硬化物の耐熱性およびガラス転移点をより優れたものとする。   This non-halogen epoxy resin preferably has 2 to 15 epoxy groups in one molecule, and more preferably 2 to 10 epoxy groups. In particular, an epoxy resin having two epoxy groups in one molecule is more excellent in flexibility and peel strength of a cured product, and an epoxy resin having three or more epoxy groups in one molecule is a cured product. The heat resistance and glass transition point of the glass are more excellent.

1分子中に2個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、スチルベンゼン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂等が挙げられる。その市販品としては、例えば、商品名で、エピコート828、871、1001(ジャパンエポキシレジン製)、スミエポキシELA115、127(住友化学工業製)等が挙げられる。   Examples of the epoxy resin having two epoxy groups in one molecule include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, stilbene type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, and alicyclic epoxy resin. . As the commercial item, for example, Epicoat 828, 871, 1001 (manufactured by Japan Epoxy Resin), Sumiepoxy ELA115, 127 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) and the like are listed as trade names.

1分子中に3個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂としては、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ポリフェニルメタン型エポキシ樹脂等が挙げられる。その市販品としては、例えば、商品名で、エピコート604(ジャパンエポキシレジン製)、スミエポキシESCN195X、ELM120(住友化学工業製)、EOCN103S、EPPN502H(日本化薬製)等が挙げられる。   Examples of the epoxy resin having three or more epoxy groups in one molecule include phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, glycidylamine type epoxy resin, polyphenylmethane type epoxy resin and the like. Examples of such commercially available products include Epicoat 604 (manufactured by Japan Epoxy Resin), Sumiepoxy ESCN195X, ELM120 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), EOCN103S, EPPN502H (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), and the like.

(B)成分の配合量は、前記(A)成分100質量部に対して、通常、20〜200質量部であり、好ましくは30〜180質量部、より好ましくは40〜150質量部である。この配合量がかかる範囲を満たすと、硬化物の耐溶剤性、半田耐熱性、耐熱性、ガラス転移点、難燃性および剥離強度がより良好であり、さらにフローコントロールがし易いものとなる。   (B) The compounding quantity of a component is 20-200 mass parts normally with respect to 100 mass parts of said (A) component, Preferably it is 30-180 mass parts, More preferably, it is 40-150 mass parts. When this blending amount satisfies such a range, the cured product has better solvent resistance, solder heat resistance, heat resistance, glass transition point, flame retardancy, and peel strength, and further facilitates flow control.

本成分の非ハロゲン系エポキシ樹脂は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。   The non-halogen epoxy resin of this component may be used alone or in combination of two or more.

〔(C)カルボキシル基含有(メタ)アクリル樹脂〕
(C)成分であるカルボキシル基含有(メタ)アクリル樹脂は、(メタ)アクリル樹脂の分子骨格中にカルボキシル基を有するものである。また、本成分のカルボキシル基含有(メタ)アクリル樹脂は、ガラス転移点(Tg)が、通常、室温(25℃)未満の高分子化合物である。
[(C) Carboxyl group-containing (meth) acrylic resin]
The (C) component carboxyl group-containing (meth) acrylic resin has a carboxyl group in the molecular skeleton of the (meth) acrylic resin. Further, the carboxyl group-containing (meth) acrylic resin of this component is a polymer compound having a glass transition point (Tg) of usually less than room temperature (25 ° C.).

カルボキシル基は、一分子中に、通常、50個以上、好ましくは100個以上存在し、分子鎖非末端または分子鎖末端のいずれに存在してもよい。   There are usually 50 or more, preferably 100 or more carboxyl groups in one molecule, and may be present at either the molecular chain non-terminal or the molecular chain terminal.

本成分中のカルボキシル基含有量は、通常、0.005〜5質量%であり、好ましくは0.001〜1質量%である。カルボキシル基含有量がかかる範囲を満たすと、組成物の反応性が良好となるので、硬化物の耐溶剤性、半田耐熱性、接着性および電気特性がより良好なものとなる。   The carboxyl group content in this component is usually 0.005 to 5% by mass, preferably 0.001 to 1% by mass. When the carboxyl group content satisfies such a range, the reactivity of the composition is improved, so that the cured product has better solvent resistance, solder heat resistance, adhesiveness, and electrical properties.

本成分のカルボキシル基含有(メタ)アクリル樹脂の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC、標準ポリスチレン換算)による測定値が、10万〜100万であることが好ましく、20万〜70万であることがより好ましい。   As for the weight average molecular weight of the carboxyl group-containing (meth) acrylic resin of this component, the measured value by gel permeation chromatography (GPC, standard polystyrene conversion) is preferably 100,000 to 1,000,000, and 200,000 to 700,000. More preferably.

このカルボキシル基含有(メタ)アクリル樹脂としては、例えば、(C−1)(メタ)アクリル酸エステル、(C−2)(メタ)アクリロニトリル、および(C−3)重合性不飽和二重結合を有するカルボン酸モノマーの3成分を共重合することによって得られるアクリル系ポリマーおよびメタクリル系ポリマーが挙げられる。これらの3成分の共重合は、従来の重合方法でよく、通常の溶液重合、エマルジョン重合、懸濁重合、塊状重合のいずれであってもよい。   Examples of the carboxyl group-containing (meth) acrylic resin include (C-1) (meth) acrylic acid ester, (C-2) (meth) acrylonitrile, and (C-3) polymerizable unsaturated double bond. Examples thereof include an acrylic polymer and a methacrylic polymer obtained by copolymerizing three components of the carboxylic acid monomer. The copolymerization of these three components may be a conventional polymerization method, and may be any of ordinary solution polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization, and bulk polymerization.

モノマー(C−1)の(メタ)アクリル酸エステルは、硬化物に柔軟性を付与するものである。(メタ)アクリル酸エステルとしては、アクリル酸エステルおよびメタクリル酸エステルが挙げられる。アクリル酸エステルの具体例としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸−n−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸イソペンチル等が挙げられる。メタクリル酸エステルの具体例としては、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸−n−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸イソペンチル等が挙げられる。これらの中でも、アルキル基の炭素原子数が1〜12、特に1〜4のアクリル酸アルキルエステルおよびメタクリル酸アルキルエステルが好ましい。   Monomer (C-1) (meth) acrylic acid ester imparts flexibility to the cured product. Examples of (meth) acrylic acid esters include acrylic acid esters and methacrylic acid esters. Specific examples of the acrylate ester include methyl acrylate, ethyl acrylate, -n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, isopentyl acrylate, and the like. Specific examples of the methacrylic acid ester include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, -n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, isopentyl methacrylate and the like. Among these, acrylic acid alkyl esters and methacrylic acid alkyl esters having an alkyl group with 1 to 12, particularly 1 to 4 carbon atoms are preferred.

モノマー(C−1)の配合量は、特に限定されないが、モノマー(C−1)〜(C−3)の合計に対して、通常、50〜80質量%であり、好ましくは55〜75質量%である。   Although the compounding quantity of a monomer (C-1) is not specifically limited, It is 50-80 mass% normally with respect to the sum total of a monomer (C-1)-(C-3), Preferably it is 55-75 mass. %.

モノマー(C−1)は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。   A monomer (C-1) may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.

モノマー(C−2)の(メタ)アクリロニトリルは、硬化物に耐熱性、接着性、耐薬品性を付与するものである。(メタ)アクリロニトリルとしては、アクリロニトリルおよびメタクリロニトリルが挙げられる。   Monomer (C-2) (meth) acrylonitrile imparts heat resistance, adhesion and chemical resistance to the cured product. (Meth) acrylonitrile includes acrylonitrile and methacrylonitrile.

モノマー(C−2)の配合量は、特に限定されないが、モノマー(C−1)〜(C−3)の合計に対して、通常、15〜45質量%であり、好ましくは20〜40質量%である。   Although the compounding quantity of a monomer (C-2) is not specifically limited, It is 15-45 mass% normally with respect to the sum total of monomer (C-1)-(C-3), Preferably 20-40 mass %.

モノマー(C−2)は、一種単独で用いても二種を併用してもよい。   A monomer (C-2) may be used individually by 1 type, or may use 2 types together.

モノマー(C−3)の重合性不飽和二重結合を有するカルボン酸モノマーは、硬化物に接着性を付与すると同時に、組成物の加熱時の架橋点となるものである。重合性不飽和二重結合を有するカルボン酸モノマーは、共重合可能な脂肪族不飽和結合を有するカルボン酸であればよく、その具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等が挙げられる。   The carboxylic acid monomer having a polymerizable unsaturated double bond of the monomer (C-3) imparts adhesiveness to the cured product and at the same time serves as a crosslinking point when the composition is heated. The carboxylic acid monomer having a polymerizable unsaturated double bond may be any carboxylic acid having a copolymerizable aliphatic unsaturated bond, and specific examples thereof include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, Examples thereof include fumaric acid and itaconic acid.

モノマー(C−3)の配合量は、特に限定されないが、モノマー(C−1)〜(C−3)の合計に対して、通常、2〜10質量%であり、好ましくは4〜8質量%である。   Although the compounding quantity of a monomer (C-3) is not specifically limited, It is 2-10 mass% normally with respect to the sum total of monomer (C-1)-(C-3), Preferably it is 4-8 mass %.

モノマー(C−3)は、一種単独で用いても二種を併用してもよい。   A monomer (C-3) may be used individually by 1 type, or may use 2 types together.

前記アクリル系ポリマーおよびメタクリル系ポリマーは、モノマー(C−1)〜(C−3)のみからなる共重合体であってもよいし、その他の重合性不飽和二重結合を有するモノマーを含む共重合体であってもよい。   The acrylic polymer and the methacrylic polymer may be a copolymer composed only of the monomers (C-1) to (C-3), or may contain other monomers having a polymerizable unsaturated double bond. It may be a polymer.

(C)成分の配合量は、(A)〜(D)成分の合計に対して、10〜60質量%となる量であることが必要であり、好ましくは20〜50質量%となる量、より好ましくは25〜50質量%となる量である。この配合量が10質量%となる量未満である場合には、カバーレイフィルムおよび接着シートを加工する際に接着剤層(硬化物)に折れ・欠け等が生じやすくなり、60質量%となる量を超える場合には、硬化物のガラス転移点が低下することがある。   (C) The compounding quantity of a component needs to be the quantity used as 10-60 mass% with respect to the sum total of (A)-(D) component, Preferably the quantity used as 20-50 mass%, The amount is more preferably 25 to 50% by mass. When the blending amount is less than 10% by mass, the adhesive layer (cured product) is likely to be broken or chipped when processing the coverlay film and the adhesive sheet, resulting in 60% by mass. When the amount is exceeded, the glass transition point of the cured product may be lowered.

好ましい実施形態では、硬化物の剥離強度、柔軟性、耐熱性、難燃性およびガラス転移点がより良好なものとなるので、(C)成分の配合量は、上記の範囲に加えて、(A)成分100質量部に対して、好ましくは20〜200質量部、より好ましくは30〜150質量部、さらに好ましくは40〜120質量部である。   In a preferred embodiment, since the peel strength, flexibility, heat resistance, flame retardancy, and glass transition point of the cured product become better, the blending amount of the component (C) is in addition to the above range, ( Preferably it is 20-200 mass parts with respect to 100 mass parts of component A), More preferably, it is 30-150 mass parts, More preferably, it is 40-120 mass parts.

(C)成分のカルボキシル基含有(メタ)アクリル樹脂は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。   The (C) component carboxyl group-containing (meth) acrylic resin may be used alone or in combination of two or more.

〔(D)硬化剤〕
(D)成分である硬化剤は、エポキシ樹脂の硬化剤として用いられる公知のものでよい。硬化剤としては、例えば、ジエチレントリアミン、テトラエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン等の脂肪族アミン系硬化剤;イソホロンジアミン等の脂環式アミン系硬化剤;ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、フェニレンジアミン等の芳香族アミン系硬化剤;無水フタル酸、無水ピロメリト酸、無水トリメリト酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸等の酸無水物系硬化剤;2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール化合物;ジシアンジアミド;オクチル酸錫、オクチル酸亜鉛等のオクチル酸塩等が挙げられ、好ましくは、脂肪族アミン系硬化剤、芳香族アミン系硬化剤、イミダゾール化合物、ジシアンジアミドおよびオクチル酸塩、特に好ましくは、芳香族アミン系硬化剤、イミダゾール化合物およびオクチル酸塩が挙げられる。
[(D) Curing agent]
(D) The hardening | curing agent which is a component may be a well-known thing used as a hardening | curing agent of an epoxy resin. Examples of the curing agent include aliphatic amine curing agents such as diethylenetriamine, tetraethylenetetramine, and tetraethylenepentamine; alicyclic amine curing agents such as isophoronediamine; and aromatics such as diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, and phenylenediamine. Group amine curing agents; acid anhydride curing agents such as phthalic anhydride, pyromellitic anhydride, trimellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride; 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2 -Imidazole compounds such as ethyl-4-methylimidazole; Dicyandiamide; Octylates such as tin octylate and zinc octylate, and the like, preferably aliphatic amine curing agents, aromatic amine curing agents, imidazole compounds , Dicyandiamide Fine octylate, particularly preferably, the aromatic amine curing agent, imidazole compounds and octyl acid salt.

(D)成分の配合量は、(A)成分および(B)成分のエポキシ当量および接着剤の硬化状態、硬化物の特性のバランス等を考慮して決められるが、(A)成分100質量部に対して、通常、0.1〜50質量部であり、好ましくは0.5〜30質量部、より好ましくは1〜20質量部である。この配合量がかかる範囲を満たすと、硬化物の半田耐熱性、耐溶剤性、ガラス転移点、電気特性がより良好なものとなる。   The blending amount of the component (D) is determined in consideration of the epoxy equivalent of the components (A) and (B), the cured state of the adhesive, the balance of the properties of the cured product, and the like. On the other hand, it is 0.1-50 mass parts normally, Preferably it is 0.5-30 mass parts, More preferably, it is 1-20 mass parts. When this blending amount satisfies such a range, the cured product has better solder heat resistance, solvent resistance, glass transition point, and electrical characteristics.

(D)成分の硬化剤は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。   (D) The hardening | curing agent of a component may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.

〔(E)無機フィラー〕
(E)成分である無機フィラーは、硬化物の難燃性の補助、剥離状態の安定性(接着剤の凝集剥離)の向上、耐吸湿性の安定化等を目的として配合される成分である。この無機フィラーは、従来、カバーレイフィルムまたは接着シートに使用されているものであれば特に限定されない。無機フィラーとしては、例えば、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物;酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化モリブデン等の金属酸化物;ホウ酸亜鉛、ホウ酸マグネシウム等のホウ酸化合物等が挙げられ、好ましくは、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物、およびホウ酸亜鉛、ホウ酸マグネシウム等のホウ酸化合物であり、特に好ましくは、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウムおよびホウ酸亜鉛である。これらの無機フィラーの樹脂マトリックスへの密着性や耐水性を向上させ、硬化物の耐熱性、耐吸湿性等を向上させるために、該無機フィラーの表面が、シラン系カップリング剤、チタネート系カップリング剤等により疎水化処理されていることが好ましい。
[(E) inorganic filler]
The inorganic filler as component (E) is a component blended for the purpose of assisting the flame retardancy of the cured product, improving the stability of the peeled state (cohesive peeling of the adhesive), stabilizing the moisture absorption resistance, and the like. . The inorganic filler is not particularly limited as long as it is conventionally used for a coverlay film or an adhesive sheet. Examples of the inorganic filler include metal hydroxides such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide; metal oxides such as aluminum oxide, silicon oxide and molybdenum oxide; boric acid compounds such as zinc borate and magnesium borate. Preferred are metal hydroxides such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide, and boric acid compounds such as zinc borate and magnesium borate, and particularly preferred are aluminum hydroxide, magnesium hydroxide and zinc borate. It is. In order to improve the adhesion and water resistance of these inorganic fillers to the resin matrix, and to improve the heat resistance, moisture absorption resistance, etc. of the cured product, the surface of the inorganic filler is a silane coupling agent or titanate cup. It is preferably hydrophobized with a ring agent or the like.

(E)成分の配合量は、(A)〜(D)成分の合計に対して、通常、5〜40質量%となる量であり、好ましくは10〜35質量%となる量、より好ましくは15〜30質量%となる量である。この配合量がかかる範囲を満たすと、硬化物の難燃性、剥離強度、半田耐熱性、耐吸湿性がより良好なものとなる。   The amount of component (E) is usually 5 to 40% by mass, preferably 10 to 35% by mass, more preferably the total of components (A) to (D). The amount is 15 to 30% by mass. When this blending amount satisfies such a range, the cured product has better flame retardancy, peel strength, solder heat resistance, and moisture absorption resistance.

(E)成分の無機フィラーは、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。   (E) The inorganic filler of a component may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.

〔(F)燐系難燃剤〕
(F)成分である燐系難燃剤は、分子中に燐を含有する難燃剤であって、融点が80℃以上、好ましくは100〜500℃のものである。燐系難燃剤は、全有機固形成分中の燐含有率を後述の範囲とするために、燐含有率が、好ましくは8質量%以上、より好ましくは10〜30質量%のものを用いる。
[(F) Phosphorus flame retardant]
The phosphorus-based flame retardant as component (F) is a flame retardant containing phosphorus in the molecule and has a melting point of 80 ° C. or higher, preferably 100 to 500 ° C. A phosphorus flame retardant having a phosphorus content of preferably 8% by mass or more, more preferably 10 to 30% by mass is used in order to keep the phosphorus content in the total organic solid component within the range described below.

燐系難燃剤の具体例としては、燐酸エステル、トリフェニルホスフィン(TPP)、赤燐、ホスファゼン化合物、燐酸エステルアミド等が挙げられ、硬化物が優れたマイグレーション性を有するものとなるので、ホスファゼン化合物、燐酸エステルアミドが好ましく、燐酸エステルアミドがより好ましい。   Specific examples of the phosphorus-based flame retardant include phosphate ester, triphenylphosphine (TPP), red phosphorus, phosphazene compound, phosphate ester amide, and the like, since the cured product has excellent migration properties. Phosphoric ester amide is preferred, and phosphoric ester amide is more preferred.

ホスファゼン化合物は、ハロゲン原子を含有せず、分子中にホスファゼン構造を持つ化合物であれば、特に限定されない。ここで、ホスファゼン構造とは、式:−P(R)=N−[式中、Rは有機基である]で表される構造を意味する。このようなホスファゼン化合物としては、耐熱性、耐湿性、難燃性および耐薬品性の点から、例えば、シクロホスファゼンオリゴマーが好ましい。 The phosphazene compound is not particularly limited as long as it does not contain a halogen atom and has a phosphazene structure in the molecule. Here, the phosphazene structure means a structure represented by the formula: —P (R 2 ) ═N— [wherein R is an organic group]. As such a phosphazene compound, for example, a cyclophosphazene oligomer is preferable from the viewpoint of heat resistance, moisture resistance, flame retardancy, and chemical resistance.

このシクロホスファゼンオリゴマーは、下記一般式:   This cyclophosphazene oligomer has the following general formula:

Figure 2006232985

[式中、Xは同一または異なり、水素原子またはハロゲン原子を含まない有機基であり、nは3〜10の整数である]
で表されるものであり、その融点は、好ましくは90〜150℃、より好ましくは100〜150℃である。上記一般式中、nは好ましくは3〜9、より好ましくは3〜6の整数である。上記一般式中、Xで表されるハロゲン原子を含まない有機基としては、例えば、アルコキシ基、フェノキシ基、アミノ基、アリル基等が挙げられる。上記一般式で示されるホスファゼン化合物としては、例えば、商品名で、SPE−100、SPB−100(大塚化学製、シクロホスファゼン系化合物)等が挙げられる。
Figure 2006232985

[Wherein X is the same or different and is an organic group containing no hydrogen atom or halogen atom, and n is an integer of 3 to 10]
The melting point thereof is preferably 90 to 150 ° C, more preferably 100 to 150 ° C. In the above general formula, n is preferably an integer of 3 to 9, more preferably 3 to 6. In the above general formula, examples of the organic group containing no halogen atom represented by X include an alkoxy group, a phenoxy group, an amino group, and an allyl group. Examples of the phosphazene compound represented by the above general formula include SPE-100 and SPB-100 (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., cyclophosphazene compounds) under the trade names.

燐酸エステルアミドは、特に限定されないが、硬化物の耐熱性が良好であるので、芳香族系リン酸エステルアミドが好ましい。   The phosphoric ester amide is not particularly limited, but an aromatic phosphoric ester amide is preferable since the heat resistance of the cured product is good.

(F)成分の配合量は、全有機固形成分に対して、通常、20〜50質量%となる量である。   (F) The compounding quantity of a component is normally 20-50 mass% with respect to all the organic solid components.

(F)成分の燐系難燃剤は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。   The phosphorus-based flame retardant component (F) may be used alone or in combination of two or more.

〔その他の条件〕
・ガラス転移点30℃以上の成分の割合
(A)〜(D)成分の合計に対して、該(A)〜(D)成分の中でガラス転移点が30℃以上の成分の割合が40〜90質量%であることが必要であり、好ましくは50〜80質量%、より好ましくは60〜80質量%である。この割合が40質量%未満である場合には、硬化物のガラス転移点が低下することがあり、90質量%を超える場合には、カバーレイフィルムおよび接着シートを加工する際に、接着剤層(硬化物)に折れ・欠け等が生じやすくなる。
[Other conditions]
-Ratio of components having a glass transition point of 30 ° C or higher With respect to the sum of components (A) to (D), the proportion of components having a glass transition point of 30 ° C or higher among the components (A) to (D) is 40. It is necessary to be -90 mass%, Preferably it is 50-80 mass%, More preferably, it is 60-80 mass%. When this ratio is less than 40% by mass, the glass transition point of the cured product may be lowered. When it exceeds 90% by mass, the adhesive layer is used when processing the coverlay film and the adhesive sheet. The (cured product) is likely to be broken or chipped.

・燐含有率
さらに、全有機固形成分中の燐含有率は2.5質量%以上であることが必要であり、好ましくは3.0〜6.0質量%、より好ましくは3.5〜5.0質量%である。燐含有率が、2.5質量%未満である場合には、硬化物の難燃性が不十分なものとなることがあり、6.0質量%を超える場合には、主として(F)成分の配合量が多くなり、硬化物の半田耐熱性および耐熱性が低下することがある。
-Phosphorus content Furthermore, the phosphorous content rate in all the organic solid components needs to be 2.5 mass% or more, Preferably it is 3.0-6.0 mass%, More preferably, it is 3.5-5.0 mass%. When the phosphorus content is less than 2.5% by mass, the flame retardancy of the cured product may be insufficient. When it exceeds 6.0% by mass, the blending amount of the component (F) is mainly This increases the solder heat resistance and heat resistance of the cured product.

〔その他の成分〕
上記(A)〜(F)成分の他にも必要に応じて以下の成分を配合することができる。これらのその他の成分は、各々、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。
[Other ingredients]
In addition to the components (A) to (F), the following components can be blended as necessary. Each of these other components may be used alone or in combination of two or more.

その他の成分としては、例えば、非臭素系難燃剤等の非ハロゲン系難燃剤、カップリング剤、酸化防止剤、イオン吸着剤等が挙げられる。   Examples of other components include non-halogen flame retardants such as non-bromine flame retardants, coupling agents, antioxidants, and ion adsorbents.

・有機溶剤
上記の(A)〜(F)成分および必要に応じて添加される成分は、無溶剤で接着シートおよびカバーレイフィルムの製造に用いてもよいが、有機溶剤に溶解または分散し、該組成物を溶液または分散液(以下、単に「溶液」という)として調製して用いてもよい。この有機溶剤としては、例えば、トルエン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトン、ジオキソラン、メチルエチルケトン(以下、「MEK」という)等が挙げられ、好ましくは、トルエン、ジオキソランおよびメチルエチルケトンである。
Organic solvent The above components (A) to (F) and components added as necessary may be used in the production of adhesive sheets and coverlay films without solvent, but are dissolved or dispersed in an organic solvent, The composition may be prepared and used as a solution or dispersion (hereinafter simply referred to as “solution”). Examples of the organic solvent include toluene, methanol, ethanol, isopropanol, acetone, dioxolane, methyl ethyl ketone (hereinafter referred to as “MEK”), and preferably toluene, dioxolane, and methyl ethyl ketone.

ここで得られる接着剤溶液は、全有機固形成分の濃度が20〜45質量%であることが好ましく、25〜40質量%であることがより好ましく、25〜35質量%であることが特に好ましい。この濃度が20〜45質量%の範囲を満たすと、接着剤組成物は、塗工時にムラが生じることなく、塗工性に優れたものとなる。   The adhesive solution obtained here preferably has a concentration of all organic solid components of 20 to 45% by mass, more preferably 25 to 40% by mass, and particularly preferably 25 to 35% by mass. . When this density | concentration satisfy | fills the range of 20-45 mass%, an adhesive composition will become the thing excellent in coating property, without producing a nonuniformity at the time of coating.

以上の各成分を混合する場合には、その順序は特に限定されないが、添加される成分の溶解性や得られる接着剤溶液の粘度を考慮して、適宜決められる。混合には、ポットミル、ボールミル、ホモジナイザー、スーパーミル等を用いることができる。   In the case of mixing the above components, the order is not particularly limited, but can be determined as appropriate in consideration of the solubility of the added components and the viscosity of the resulting adhesive solution. A pot mill, a ball mill, a homogenizer, a super mill, etc. can be used for mixing.

<カバーレイフィルム>
・構成
本発明の接着剤組成物からなる接着剤層を有するカバーレイフィルムの構成としては、電気絶縁性フィルム層と、該フィルム層上に設けられた接着剤層とを有するものである。具体的には、例えば、電気絶縁性フィルム層と接着剤層と離型材層とを有する3層構造が挙げられる。この接着剤層の厚さは、使用目的により任意の厚さを選択できるが、乾燥状態で、通常、10〜50μmであり、好ましくは15〜35μm、特に好ましくは15〜25μmである。
<Coverlay film>
-Structure As a structure of the coverlay film which has an adhesive bond layer which consists of an adhesive composition of this invention, it has an electrically insulating film layer and the adhesive bond layer provided on this film layer. Specifically, for example, a three-layer structure having an electrically insulating film layer, an adhesive layer, and a release material layer can be given. The thickness of the adhesive layer can be selected according to the purpose of use, but is usually 10 to 50 μm, preferably 15 to 35 μm, particularly preferably 15 to 25 μm in a dry state.

電気絶縁性フィルム層を構成する電気絶縁性フィルムとしては、例えば、ポリイミドフィルム、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム、ポリエステルフィルム、ポリパラバン酸フィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルム、アラミドフィルム;ガラス繊維やアラミド繊維、ポリエステル繊維等をベースにして、これにマトリックスとなるエポキシ樹脂や、ポリエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂を含浸して、フィルム状またはシート状にして銅箔と貼り合わせたもの等が挙げられ、耐熱性、寸法安定性、機械特性(弾性率、伸び等)等の点から、ポリイミドフィルム、ポリパラバン酸フィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルムが好ましく、ポリイミドフィルムが特に好ましい。   Examples of the electrically insulating film constituting the electrically insulating film layer include polyimide film, PET (polyethylene terephthalate) film, polyester film, polyparabanic acid film, polyether ether ketone film, polyphenylene sulfide film, aramid film; glass fiber, Based on aramid fiber, polyester fiber, etc., epoxy resin as a matrix, polyester resin, diallyl phthalate resin impregnated in this, film or sheet and pasted with copper foil, etc. From the viewpoints of heat resistance, dimensional stability, mechanical properties (elastic modulus, elongation, etc.), a polyimide film, a polyparabanic acid film, and a polyphenylene sulfide film are preferable, and a polyimide film is particularly preferable.

この電気絶縁性フィルム層の厚さは、使用目的により任意の厚さを選択してよいが、通常、12.5〜75μmであり、好ましくは12.5〜50μm、特に好ましくは12.5〜25μmである。また、接着剤層との密着性向上、フィルム表面の洗浄、寸法安定性の向上等のために、このフィルムの片面または両面に、低温プラズマ処理、コロナ放電処理、サンドブラスト処理等の表面処理を施してもよい。   The thickness of the electrically insulating film layer may be arbitrarily selected depending on the purpose of use, but is usually 12.5 to 75 μm, preferably 12.5 to 50 μm, particularly preferably 12.5 to 25 μm. In addition, in order to improve adhesion to the adhesive layer, clean the film surface, improve dimensional stability, etc., surface treatment such as low-temperature plasma treatment, corona discharge treatment, sandblast treatment, etc. is performed on one or both sides of this film. May be.

離型材層を構成する離型材としては、例えば、ポリエチレン(PE)フィルム、ポリプロピレン(PP)フィルム、ポリメチルペンテン(TPX)フィルム;シリコーン離型材付きPEフィルムおよびPPフィルム;PE樹脂コート紙、PP樹脂コート紙およびTPX樹脂コート紙等が挙げられる。この離型材の厚さは、必要に応じて適宜の厚さでよいが、フィルムでは13〜75μm、紙では50〜200μmが好ましい。   Examples of the release material constituting the release material layer include polyethylene (PE) film, polypropylene (PP) film, polymethylpentene (TPX) film; PE film and PP film with silicone release material; PE resin-coated paper, PP resin Examples thereof include coated paper and TPX resin coated paper. The thickness of the release material may be an appropriate thickness as required, but is preferably 13 to 75 μm for a film and 50 to 200 μm for paper.

・製造方法
次に、本発明のカバーレイフィルムの製造方法について、好ましい実施形態である有機溶剤を用いた場合を一例として説明する。
-Manufacturing method Next, the case where the organic solvent which is preferable embodiment is used is demonstrated as an example about the manufacturing method of the coverlay film of this invention.

まず、予め調製された有機溶剤を含有する接着剤溶液を、リバースロールコーター、コンマコーター等を用いて電気絶縁性フィルム片面に塗布する。この接着剤組成物を塗布したフィルムをインラインドライヤーに通して40〜160℃で2〜20分間加熱処理して、接着剤組成物中の有機溶剤を除去することにより、接着剤組成物を半硬化状態とする。次いで、このフィルムの接着剤組成物の塗布面と離型材とを、加熱ロールにより、線圧0.2〜20kg/cm、温度40〜120℃の条件で圧着させ、カバーレイフィルムとする。離型材は使用に際して剥離される。なお、「半硬化状態」とは、組成物が乾燥した状態、乃至、その一部において硬化反応が進行している状態を意味する。   First, an adhesive solution containing an organic solvent prepared in advance is applied to one side of an electrically insulating film using a reverse roll coater, a comma coater or the like. The adhesive composition is semi-cured by removing the organic solvent in the adhesive composition by heating the film coated with this adhesive composition through an in-line dryer at 40-160 ° C for 2-20 minutes. State. Next, the application surface of the adhesive composition of the film and the release material are pressure-bonded by a heating roll under the conditions of a linear pressure of 0.2 to 20 kg / cm and a temperature of 40 to 120 ° C. to obtain a coverlay film. The release material is peeled off during use. The “semi-cured state” means a state in which the composition is dried or a state in which the curing reaction proceeds in a part thereof.

<接着シート>
・構成
本発明の接着剤組成物からなる接着剤層を有する接着シートの構成としては、接着剤層と、該接着剤層を被覆する離型材層とを有するものである。具体的には、例えば、離型材層と接着剤層とを有する2層構造、もしくは離型材層と接着剤層と離型材層とを有する3層構造等が挙げられる。接着シートの2層構造および3層構造はフレキシブル印刷配線板製造時の加工方法等により、適宜、選択すればよい。この接着剤層の厚さは、使用目的により任意の厚さを選択できるが、乾燥状態で、通常、10〜50μmであり、好ましくは15〜35μm、特に好ましくは15〜25μmである。
<Adhesive sheet>
-Structure As a structure of the adhesive sheet which has an adhesive bond layer which consists of an adhesive composition of this invention, it has an adhesive bond layer and the mold release material layer which coat | covers this adhesive bond layer. Specific examples include a two-layer structure having a release material layer and an adhesive layer, or a three-layer structure having a release material layer, an adhesive layer, and a release material layer. The two-layer structure and three-layer structure of the adhesive sheet may be appropriately selected depending on the processing method at the time of manufacturing the flexible printed wiring board. The thickness of the adhesive layer can be selected according to the purpose of use, but is usually 10 to 50 μm, preferably 15 to 35 μm, particularly preferably 15 to 25 μm in a dry state.

離型材層を構成する離型材は、前記カバーレイフィルムの項で説明したとおりである。   The release material constituting the release material layer is as described in the section of the coverlay film.

〔製造方法〕
次に、本発明の接着シートの製造方法について、好ましい実施形態である有機溶剤を用いた場合を一例として説明する。
〔Production method〕
Next, the case where the organic solvent which is preferable embodiment is used is demonstrated as an example about the manufacturing method of the adhesive sheet of this invention.

まず、予め調製された有機溶剤を含有する接着剤溶液を、リバースロールコーター、コンマコーター等を用いて離型材片面に塗布する。この接着剤組成物を塗布した離型材をインラインドライヤーに通して40〜160℃で2〜20分間加熱処理して、接着剤組成物中の有機溶剤を除去することにより、接着剤組成物を半硬化状態とし、2層構造の接着シートとする。さらに、この接着シートの接着剤組成物の塗布面に別の離型材を、加熱ロールにより、線圧0.2〜20kg/cm、温度40〜120℃の条件で圧着させ、3層構造の接着シートとする。離型材は使用に際して剥離される。   First, an adhesive solution containing an organic solvent prepared in advance is applied to one side of a release material using a reverse roll coater, a comma coater, or the like. The release agent coated with the adhesive composition is passed through an in-line dryer and heat-treated at 40 to 160 ° C. for 2 to 20 minutes to remove the organic solvent in the adhesive composition. It is set as a hardening state and it is set as the adhesive sheet of 2 layer structure. Further, another release material is pressure-bonded to the application surface of the adhesive composition of the adhesive sheet with a heating roll under the conditions of a linear pressure of 0.2 to 20 kg / cm and a temperature of 40 to 120 ° C. To do. The release material is peeled off during use.

以下、実施例を用いて本発明について具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、上記(A)〜(F)成分およびその他の成分としては、具体的には、以下のものを用いた。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated concretely using an Example, this invention is not limited to these Examples. In addition, specifically, the following were used as said (A)-(F) component and another component.

<接着剤組成物の成分>
(A)フェノキシ樹脂
・エピコート4275(商品名)(ジャパンエポキシレジン製、重量平均分子量:約60,000、Tg:約68℃)
・エピコート1256(商品名)(ジャパンエポキシレジン製、重量平均分子量:約53,000、Tg:約95℃)
(B)非ハロゲン系エポキシ樹脂
・エピコート604(商品名)(ジャパンエポキシレジン製、重量平均分子量:約500、Tg:30℃未満、一分子中のエポキシ基:4個)
・エピコート828(商品名)(ジャパンエポキシレジン製、重量平均分子量:約300、Tg:30℃未満、一分子中のエポキシ基:2個)
・エピコート1001(商品名)(ジャパンエポキシレジン製、重量平均分子量:約1,000、Tg:約70℃、一分子中のエポキシ基:2個)
(C)カルボキシル基含有(メタ)アクリル樹脂
(メタ)アクリル樹脂A:ブチルアクリレート/アクリロニトリル/メタクリル酸の質量比が65/32/3であり、重量平均分子量が約40万であり、ガラス転移点が約7℃であり、カルボキシル基含有量が約0.03質量%であるアクリル樹脂
(メタ)アクリル樹脂B:ブチルアクリレート/エチルアクリレート/アクリロニトリル/メタクリル酸の質量比が35/30/28/7であり、重量平均分子量が約45万であり、ガラス転移点が約14℃であり、カルボキシル基含有量が約0.07質量%であるアクリル樹脂。
(メタ)アクリル樹脂C:ブチルアクリレート/エチルアクリレート/アクリロニトリル/メタクリル酸の質量比が30/30/35/5であり、重量平均分子量が約60万であり、ガラス転移点が約20℃であり、カルボキシル基含有量が約0.05質量%であるアクリル樹脂。
(D)硬化剤、
・DDS(4,4'−ジアミノジフェニルスルホン、Tg:30℃以上)
・ジシアンジアミド(Tg:約200℃)
・2E4MZ−CN(商品名)(四国化成製、Tg:30℃未満)
(E)無機フィラー
・H43STE(商品名)(昭和電工製、水酸化アルミニウム)
・キスマ5A(商品名)(協和化学製、水酸化マグネシウム)
(F)燐系難燃剤
・SPE100(商品名)(大塚化学製、ホスファゼン化合物、融点:約110℃、燐含有率:約13質量%)
・SP703(商品名)(四国化成製、融点:約180℃、燐含有率:約10質量%)
・PX200(商品名)(大八化学製、融点:約92℃、燐含有率:約9質量%)
(その他)
・ニポール1072B(商品名)(日本ゼオン製、カルボキシル基含有アクリロニトリル−ブタジエンゴム、アクリロニトリル含有量:約27.0質量%、カルボキシル基含有量:約0.075質量%)
<Adhesive composition components>
(A) Phenoxy resin / Epicoat 4275 (trade name) (made by Japan Epoxy Resin, weight average molecular weight: about 60,000, Tg: about 68 ° C.)
Epicoat 1256 (trade name) (made by Japan Epoxy Resin, weight average molecular weight: about 53,000, Tg: about 95 ° C.)
(B) Non-halogen epoxy resin / Epicoat 604 (trade name) (product of Japan Epoxy Resin, weight average molecular weight: about 500, Tg: less than 30 ° C., 4 epoxy groups in one molecule)
Epicoat 828 (trade name) (made by Japan Epoxy Resin, weight average molecular weight: about 300, Tg: less than 30 ° C., 2 epoxy groups in one molecule)
Epicoat 1001 (trade name) (made by Japan Epoxy Resin, weight average molecular weight: about 1,000, Tg: about 70 ° C., two epoxy groups in one molecule)
(C) Carboxyl group-containing (meth) acrylic resin (meth) acrylic resin A: The mass ratio of butyl acrylate / acrylonitrile / methacrylic acid is 65/32/3, the weight average molecular weight is about 400,000, and the glass transition point Acrylic resin (meth) acrylic resin B having a carboxyl group content of about 0.03% by mass and a mass ratio of butyl acrylate / ethyl acrylate / acrylonitrile / methacrylic acid is 35/30/28/7 An acrylic resin having a weight average molecular weight of about 450,000, a glass transition point of about 14 ° C., and a carboxyl group content of about 0.07% by mass.
(Meth) acrylic resin C: The mass ratio of butyl acrylate / ethyl acrylate / acrylonitrile / methacrylic acid is 30/30/35/5, the weight average molecular weight is about 600,000, and the glass transition point is about 20 ° C. An acrylic resin having a carboxyl group content of about 0.05% by mass.
(D) a curing agent,
・ DDS (4,4′-diaminodiphenylsulfone, Tg: 30 ° C. or higher)
・ Dicyandiamide (Tg: about 200 ℃)
・ 2E4MZ-CN (trade name) (Shikoku Chemicals, Tg: less than 30 ° C)
(E) Inorganic filler H43STE (trade name) (Showa Denko, aluminum hydroxide)
・ Kisuma 5A (trade name) (manufactured by Kyowa Chemical, magnesium hydroxide)
(F) Phosphorus flame retardant SPE100 (trade name) (manufactured by Otsuka Chemical, phosphazene compound, melting point: about 110 ° C., phosphorus content: about 13% by mass)
・ SP703 (trade name) (manufactured by Shikoku Chemicals, melting point: about 180 ° C, phosphorus content: about 10% by mass)
PX200 (trade name) (manufactured by Daihachi Chemical, melting point: about 92 ° C., phosphorus content: about 9% by mass)
(Other)
Nipol 1072B (trade name) (manufactured by Nippon Zeon, carboxyl group-containing acrylonitrile-butadiene rubber, acrylonitrile content: about 27.0 mass%, carboxyl group content: about 0.075 mass%)

<使用材料>
・カプトン100H(商品名)(東レデュポン製、ポリイミドフィルム、厚さ:25μm)
・Y7TF(商品名)(リンテック製、離型紙、厚さ:約130μm)
・PET38X(商品名)(リンテック製、離型フィルム、厚さ:約38μm)
・HTE(商品名)(三井金属製、電解銅箔)
・RAS22S47(商品名)(信越化学製、フレキシブル印刷配線用基板、カプトン50H/接着剤層の厚さ:13μm/圧延銅箔1/2oz)
・E33(商品名)(信越化学製、接着シート、接着剤層の厚さ:25μm)
<Materials used>
・ Kapton 100H (trade name) (Toray DuPont, polyimide film, thickness: 25μm)
・ Y7TF (trade name) (Made by Lintec, release paper, thickness: approx. 130 μm)
・ PET38X (trade name) (Made by Lintec, release film, thickness: approx. 38μm)
・ HTE (trade name) (Mitsui Metals, electrolytic copper foil)
RAS22S47 (trade name) (manufactured by Shin-Etsu Chemical, flexible printed wiring board, Kapton 50H / adhesive layer thickness: 13 μm / rolled copper foil 1/2 oz)
・ E33 (trade name) (manufactured by Shin-Etsu Chemical, adhesive sheet, adhesive layer thickness: 25 μm)

<実施例1〜8、比較例1〜4>
接着剤組成物の各成分には、表1に示す種類を、同表に示す配合量(質量部)で用いた。まず、(A)成分、(B)成分および(D)成分をMEKに溶解させ、攪拌し、混合することにより、有機固形成分濃度が30質量%の溶液1を得た。次いで、別途、(C)成分(比較例4では、代わりにアクリロニトリル−ブタジエンゴム)をMEK・トルエン混合液(MEK:トルエン=80:20(質量比))に15質量%溶液となるように溶解させ、この溶液に(E)成分および(F)成分を加えた後、ボールミルを用いて十分に(E)成分を分散させて、溶液2を得た。その後、溶液1と溶液2とを混合し、十分に攪拌して接着剤溶液とした。
<Examples 1-8, Comparative Examples 1-4>
For each component of the adhesive composition, the types shown in Table 1 were used in the blending amounts (parts by mass) shown in the same table. First, the component (A), the component (B), and the component (D) were dissolved in MEK, stirred, and mixed to obtain a solution 1 having an organic solid component concentration of 30% by mass. Next, separately (C) component (in Comparative Example 4, instead acrylonitrile-butadiene rubber) was dissolved in a MEK / toluene mixed solution (MEK: toluene = 80: 20 (mass ratio)) to be a 15 mass% solution. After adding component (E) and component (F) to this solution, component (E) was sufficiently dispersed using a ball mill to obtain solution 2. Thereafter, the solution 1 and the solution 2 were mixed and sufficiently stirred to obtain an adhesive solution.

次に、この接着剤溶液を、ポリイミドフィルム(商品名:カプトン100H)上に、乾燥後の接着剤層の厚さが25μmとなるようにリバースロールコーターを用いて塗布した。その後、140℃、10分の加熱乾燥条件でMEKおよびトルエンを除去することにより、該接着剤組成物を半硬化状態とした。この半硬化状態の接着剤組成物の付いたフィルムの接着剤面に、離型紙(商品名:Y7TF)を温度70℃、線圧2kg/cmの条件でロールラミネーターを用いて圧着し、カバーレイフィルムを作製した。   Next, this adhesive solution was applied on a polyimide film (trade name: Kapton 100H) using a reverse roll coater so that the thickness of the adhesive layer after drying was 25 μm. Thereafter, MEK and toluene were removed under heating and drying conditions at 140 ° C. for 10 minutes, so that the adhesive composition was in a semi-cured state. A release paper (trade name: Y7TF) is pressure-bonded to the adhesive surface of the film with the semi-cured adhesive composition using a roll laminator at a temperature of 70 ° C. and a linear pressure of 2 kg / cm. A film was prepared.

また、ポリイミドフィルムを離型フィルム(商品名:PET38X)に変更した以外は、カバーレイフィルムの作製と同様の工程により、接着シートを作製した。   Moreover, the adhesive sheet was produced by the process similar to preparation of a coverlay film except having changed the polyimide film into the release film (brand name: PET38X).

これらのカバーレイフィルムおよび接着シートについて、下記の評価・測定方法に従って、物性の評価・測定を行った。その結果を表1に示す。   About these coverlay films and adhesive sheets, physical properties were evaluated and measured according to the following evaluation and measurement methods. The results are shown in Table 1.

<評価・測定方法>
(評価用サンプルの構成)
以下のサンプルを、160℃、3.0MPa、50分のプレス加工条件で加熱しながら圧着したものを、剥離強度、半田耐熱性およびガラス転移点の評価用サンプルとして用いた。なお、離型材は剥離してからサンプルの作製に用いた。
サンプル1:実施例で作製したカバーレイフィルムの接着剤層と電解銅箔(商品名:HTE)1ozの光沢面とを接着したもの
サンプル2:実施例で作製した接着シートの両面を2枚のフレキシブル印刷配線用基板(商品名:RAS22S47)のフィルム面で被覆したもの
サンプル3:実施例で作製した接着シートの両面を2枚の電解銅箔(商品名:HTE)1ozの光沢面で被覆したもの
<Evaluation and measurement method>
(Configuration of evaluation sample)
The following sample, which was pressure-bonded while being heated at 160 ° C., 3.0 MPa for 50 minutes, was used as a sample for evaluating peel strength, solder heat resistance, and glass transition point. The release material was peeled off and used for sample preparation.
Sample 1: Adhesive layer of coverlay film prepared in Example and electrolytic copper foil (trade name: HTE) 1 oz. Glossy surface Sample 2: Two sheets of both sides of adhesive sheet prepared in Example Sample of flexible printed wiring board (trade name: RAS22S47) covered with film surface Sample 3: Both surfaces of the adhesive sheet prepared in the example were covered with 2 oz. Glossy surface of electrolytic copper foil (trade name: HTE) thing

(物性評価・測定方法)
1.剥離強度
・剥離強度A:サンプル1を10mm幅にカットして試験片1を作製し、該試験片1について、25℃の条件下で電解銅箔(商品名:HTE)を90度の方向に50mm/分の速度で連続的に50mm引き剥がしたときの荷重の最低値を測定し剥離強度とした。
・剥離強度B:サンプル2を10mm幅にカットして試験片2を作製し、該試験片2について、25℃の条件下でフレキシブル印刷配線用基板(商品名:RAS22S47)を90度の方向に50mm/分の速度で連続的に50mm引き剥がしたときの荷重の最低値を測定し剥離強度とした。
(Physical property evaluation / measurement method)
1. Peel strength / Peel strength A: Sample 1 was cut to a width of 10 mm to produce test piece 1, and electrolytic copper foil (trade name: HTE) was placed in the direction of 90 degrees under the condition of 25 ° C. The minimum value of the load when peeling 50 mm continuously at a speed of 50 mm / min was measured and taken as the peel strength.
-Peel strength B: Sample 2 was cut to a width of 10 mm to produce test piece 2, and a flexible printed wiring board (trade name: RAS22S47) was oriented at 90 degrees under the condition of 25 ° C. The minimum value of the load when peeling 50 mm continuously at a speed of 50 mm / min was measured and taken as the peel strength.

2.半田耐熱性
・半田耐熱性A:サンプル1を25mm角にカットして試験片3を作製し、該試験片3を80℃で10分間乾燥した後、半田浴上に30秒間浮かべた。その後、該試験片3の外観を目視により確認し、膨れ、剥がれ等の有無を調べた。半田浴の温度を変えて、この操作を繰り返し、該サンプルに膨れ、剥がれ等が生じない最高温度を測定した。
・半田耐熱性B:サンプル1を25mm角にカットして試験片4を作製し、該試験片4を40℃、90%RHで1時間静置した後、半田浴上に30秒間浮かべた。その後、半田耐熱性Aの項と同様にして最高温度を測定した。
・半田耐熱性C:サンプル2を25mm角にカットして試験片5を作製した以外は、半田耐熱性Aの項と同様にして最高温度を測定した。
2. Solder heat resistance / solder heat resistance A: Sample 1 was cut into 25 mm square to prepare test piece 3, which was dried at 80 ° C. for 10 minutes and then floated on a solder bath for 30 seconds. Then, the external appearance of this test piece 3 was confirmed visually, and the presence or absence of a swelling, peeling, etc. was investigated. This operation was repeated while changing the temperature of the solder bath, and the maximum temperature at which the sample did not swell or peel off was measured.
Solder heat resistance B: Sample 1 was cut into a 25 mm square to prepare test piece 4, which was left at 40 ° C. and 90% RH for 1 hour, and then floated on a solder bath for 30 seconds. Thereafter, the maximum temperature was measured in the same manner as the solder heat resistance A.
Solder heat resistance C: The maximum temperature was measured in the same manner as the solder heat resistance A, except that the test piece 5 was prepared by cutting the sample 2 into 25 mm square.

3.ガラス転移点(Tg)
サンプル3の電解銅箔(商品名:HTE)を塩化第二鉄水溶液で除去して接着シートを作製し、この接着シートをカットして試験片6(10mm×50mm)を作製した。試験片6を用いて、粘弾性測定装置(商品名:RSAIII、レオメトリック社製)により、昇温条件を5℃/分に設定して、接着剤のTgを測定した。なお、Tgはtanδのピーク(極大値)とした。
3. Glass transition point (Tg)
The electrolytic copper foil (trade name: HTE) of Sample 3 was removed with a ferric chloride aqueous solution to prepare an adhesive sheet, and this adhesive sheet was cut to prepare a test piece 6 (10 mm × 50 mm). Using the test piece 6, the Tg of the adhesive was measured using a viscoelasticity measuring device (trade name: RSAIII, manufactured by Rheometric Co., Ltd.) with the temperature raising condition set to 5 ° C./min. Tg was a peak (maximum value) of tan δ.

4.加工性
実施例で作製した接着剤シートから離型材を除去した後、該接着剤シートを180度方向に折り曲げて開く操作を5回繰り返し、接着剤層の折れ、欠けを目視により確認した。接着剤層に折れおよび欠けが認められなかった場合を加工性が良好と評価してAと示し、接着剤層に折れまたは欠けの少なくとも一方が認められた場合を加工性が不良と評価してBと示した。
4). Workability After removing the release material from the adhesive sheet produced in the example, the operation of folding the adhesive sheet in the 180 degree direction and opening it was repeated five times, and the adhesive layer was confirmed to be broken or chipped visually. When the adhesive layer is not broken or chipped, the processability is evaluated as good and shown as A, and when the adhesive layer is broken or chipped, the processability is evaluated as poor. B.

5.マイグレーション性
図1は、フレキシブル印刷配線用基板(商品名:RAS22S47、銅箔/接着剤層/ポリイミドフィルム積層体)の銅箔部分をエッチング処理して形成されたマイグレーション性評価用櫛形回路の平面図である。この基板上の櫛形回路は、並行した銅箔からなる導体1と、その両末端に設けられた電圧印加用電極2とからなる。また、前記基板上には、銅箔エッチングにより、接着剤層3が露出されている。なお、導体(銅箔)1の幅は250μmであり、並行して隣り合う導体間(線間)の距離は60μmである。
まず、フレキシブル印刷配線用基板(商品名:RAS22S47)を120mm×120mmにカットして、正方形のフレキシブル印刷配線用基板を得た。得られたフレキシブル印刷配線用基板の銅箔部分を定法によりエッチングして、図1に示すマイグレーション性評価用櫛形回路を形成させた。次いで、この回路を図1に示す形状(60mm×20mm)にカットした。
この櫛形回路の電圧印加用電極2を除く全体に対して、前述の実施例で作製したカバーレイフィルム(離型紙は剥離した)を、160℃、3.0MPa、50分の条件で加熱しながら圧着し被覆することにより被覆体を作製した。この被覆体の両面に接着シート(商品名:E33)を介して、2mm厚のガラスエポキシ板を、160℃、3.0MPa、50分の条件で加熱して圧着し、マイグレーション性評価用基板を得た。この基板に、85℃、85%RHの条件下で、50Vの電圧を240時間に亘って印加し、その後の電気抵抗値を測定した。この測定値(MΩ)をマイグレーション性の指標として評価した。
5). 1 is a plan view of a comb circuit for evaluation of migration formed by etching a copper foil portion of a flexible printed wiring board (trade name: RAS22S47, copper foil / adhesive layer / polyimide film laminate). It is. The comb circuit on the substrate includes a conductor 1 made of parallel copper foil and voltage application electrodes 2 provided at both ends thereof. Further, the adhesive layer 3 is exposed on the substrate by copper foil etching. In addition, the width | variety of the conductor (copper foil) 1 is 250 micrometers, and the distance between adjacent conductors (between lines) is 60 micrometers.
First, a flexible printed wiring board (trade name: RAS22S47) was cut into 120 mm × 120 mm to obtain a square flexible printed wiring board. The copper foil portion of the obtained flexible printed wiring board was etched by a conventional method to form a comb circuit for evaluating migration properties shown in FIG. Next, this circuit was cut into a shape (60 mm × 20 mm) shown in FIG.
The coverlay film prepared in the previous embodiment (with release paper peeled off) is pressed against the entire structure excluding the voltage application electrode 2 of this comb circuit while heating at 160 ° C., 3.0 MPa for 50 minutes. Then, a coated body was prepared by coating. A 2 mm thick glass epoxy board is heated and bonded to both sides of this covering body under conditions of 160 ° C., 3.0 MPa, 50 minutes via an adhesive sheet (trade name: E33) to obtain a substrate for evaluating migration properties. It was. A voltage of 50 V was applied to this substrate under the conditions of 85 ° C. and 85% RH over 240 hours, and the subsequent electric resistance value was measured. This measured value (MΩ) was evaluated as an index of migration.

6.ハロゲン含有率
実施例で作製した接着シートの接着剤部分のハロゲン含有率を、JPCA-ES-001(JPCA規格、社団法人日本プリント回路工業会)に記載の方法に従って、測定した。このハロゲン含有率が0.09質量%以下であった場合をハロゲンフリーであると評価しAと示し、ハロゲン含有率が0.09質量%を超えていた場合をハロゲンフリーでないと評価しBと示した。
6). Halogen Content The halogen content of the adhesive part of the adhesive sheet produced in the example was measured according to the method described in JPCA-ES-001 (JPCA standard, Japan Printed Circuit Industry Association). A case where the halogen content was 0.09% by mass or less was evaluated as being halogen-free and indicated as A, and a case where the halogen content was over 0.09% by mass was evaluated as being non-halogen-free and indicated as B.

7.難燃性
実施例で作製したカバーレイフィルムを50mm×200mmにカットして、難燃性評価用サンプルを作製した。該サンプルについてUL94VTM-0の規格に従って難燃性の評価を行った。難燃性が、VTM-0の規格を満たした場合を良好と評価してAと示し、VTM-0の規格を満たさなかった場合を不良と評価してBと示した。
7). Flame retardancy The coverlay film produced in the example was cut into 50 mm × 200 mm to produce a flame retardant evaluation sample. The sample was evaluated for flame retardancy according to the UL94VTM-0 standard. When the flame retardancy satisfied the VTM-0 standard, it was evaluated as good and indicated as A, and when it did not meet the VTM-0 standard, it was evaluated as defective and indicated as B.

Figure 2006232985
Figure 2006232985

フレキシブル印刷配線用基板(商品名:RAS22S47)の銅箔部分をエッチング処理して形成されたマイグレーション性評価用櫛形回路の平面図である。It is a top view of the comb circuit for migration property evaluation formed by etching the copper foil part of the board | substrate for flexible printed wirings (brand name: RAS22S47).

符号の説明Explanation of symbols

1 導体(銅箔)
2 電圧印加用電極
3 接着剤層
1 Conductor (copper foil)
2 Electrode for voltage application 3 Adhesive layer

Claims (4)

(A)重量平均分子量が10,000以上であり、かつガラス転移点が40℃以上である、分子鎖両末端にエポキシ基を有するフェノキシ樹脂、
(B)該(A)成分以外の非ハロゲン系エポキシ樹脂、
(C)カルボキシル基含有アクリル樹脂、
(D)硬化剤、
(E)無機フィラー、および
(F)融点が80℃以上の燐系難燃剤
を含有してなる非ハロゲン系接着剤組成物であって、該(A)〜(D)成分の合計に対して該(C)成分の割合が10〜60質量%であり、該(A)〜(D)成分の中でガラス転移点30℃以上の成分の割合が40〜90質量%であり、かつ全有機固形成分中の燐含有率が2.5質量%以上である上記組成物。
(A) a phenoxy resin having an epoxy group at both ends of a molecular chain, having a weight average molecular weight of 10,000 or more and a glass transition point of 40 ° C. or more;
(B) a non-halogen epoxy resin other than the component (A),
(C) carboxyl group-containing acrylic resin,
(D) a curing agent,
(E) An inorganic filler, and (F) a non-halogen adhesive composition comprising a phosphorus-based flame retardant having a melting point of 80 ° C. or higher, and the total of the components (A) to (D) The proportion of the component (C) is 10 to 60% by mass, the proportion of the component having a glass transition point of 30 ° C. or higher among the components (A) to (D) is 40 to 90% by mass, and the total organic The above composition, wherein the phosphorus content in the solid component is 2.5% by mass or more.
前記(A)成分100質量部に対して、前記(B)成分が20〜200質量部であり、前記(C)成分が20〜200質量部であり、前記(D)成分が0.1〜50質量部であり、かつ前記(E)成分の割合が前記(A)〜(D)成分の合計に対して5〜40質量%であり、前記(F)成分の割合が全有機固形成分に対して20〜50質量%である請求項1に係る組成物。   The component (B) is 20 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A), the component (C) is 20 to 200 parts by mass, and the component (D) is 0.1 to 50 parts by mass. And the proportion of the component (E) is 5 to 40% by mass with respect to the total of the components (A) to (D), and the proportion of the component (F) is based on the total organic solid components. The composition according to claim 1, which is 20 to 50% by mass. 請求項1または2に記載の接着剤組成物からなる接着剤層と、該接着剤層を被覆する離型材層とを有する接着シート。   The adhesive sheet which has an adhesive bond layer which consists of an adhesive composition of Claim 1 or 2, and a mold release material layer which coat | covers this adhesive bond layer. 電気絶縁性フィルム層と、該フィルム層上に設けられた請求項1または2に記載の接着剤組成物からなる接着剤層とを有するカバーレイフィルム。   The coverlay film which has an electrically insulating film layer and the adhesive bond layer which consists of an adhesive composition of Claim 1 or 2 provided on this film layer.
JP2005049071A 2005-02-24 2005-02-24 Non-halogen adhesive composition, and coverlay film and adhesive sheet obtained using the same Pending JP2006232985A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005049071A JP2006232985A (en) 2005-02-24 2005-02-24 Non-halogen adhesive composition, and coverlay film and adhesive sheet obtained using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005049071A JP2006232985A (en) 2005-02-24 2005-02-24 Non-halogen adhesive composition, and coverlay film and adhesive sheet obtained using the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006232985A true JP2006232985A (en) 2006-09-07

Family

ID=37040996

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005049071A Pending JP2006232985A (en) 2005-02-24 2005-02-24 Non-halogen adhesive composition, and coverlay film and adhesive sheet obtained using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006232985A (en)

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008105169A1 (en) * 2007-02-28 2008-09-04 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. Adhesive film for semiconductor and semiconductor device using the adhesive film
WO2008149837A1 (en) * 2007-06-05 2008-12-11 Tohto Kasei Co., Ltd. Flame-retardant adhesive resin composition and adhesive film formed from the same
WO2008149727A1 (en) * 2007-06-05 2008-12-11 Nippon Steel Chemical Co., Ltd. Flame-retardant adhesive resin composition, and adhesive film utilizing the same
JP2009088499A (en) * 2007-09-13 2009-04-23 Toray Ind Inc Coverlay film
JP2009127031A (en) * 2007-11-28 2009-06-11 Shin Etsu Chem Co Ltd Adhesive composition, cover lay film using the same, and adhesive sheet
JP2009215494A (en) * 2008-03-12 2009-09-24 Shin Etsu Chem Co Ltd Flame retardant adhesive composition, and adhesive sheet, coverlay film and flexible copper-clad laminate plate using the same
WO2010038745A1 (en) * 2008-09-30 2010-04-08 ヘンケル・コーポレーション Flame-retardant hot-melt type adhesive agent
JP2013053190A (en) * 2011-09-01 2013-03-21 Nitto Denko Corp Adhesive film and dicing die-bonding film
JP2013107957A (en) * 2011-11-18 2013-06-06 Dainippon Printing Co Ltd Adhesive composition and adhesive sheet using the same
WO2014069461A1 (en) * 2012-10-29 2014-05-08 リンテック株式会社 Flame-retardant adhesive composition and flame-retardant adhesive sheet
US8975161B2 (en) 2010-07-13 2015-03-10 Hitachi Chemical Company, Ltd. Dicing/die bonding integral film, dicing/die bonding integral film manufacturing method, and semiconductor chip manufacturing method
WO2019001034A1 (en) * 2017-06-27 2019-01-03 深圳光启高等理工研究院 Insulating tape and method for preparing same
CN113845866A (en) * 2021-11-18 2021-12-28 广州联茂电子科技有限公司 Epoxy compound adhesive, covering film and preparation method

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2008105169A1 (en) * 2007-02-28 2010-06-03 住友ベークライト株式会社 Adhesive film for semiconductor and semiconductor device using the same
WO2008105169A1 (en) * 2007-02-28 2008-09-04 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. Adhesive film for semiconductor and semiconductor device using the adhesive film
US8008124B2 (en) 2007-02-28 2011-08-30 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. Adhesive film for semiconductor and semiconductor device using the adhesive film
CN101627465B (en) * 2007-02-28 2011-06-01 住友电木株式会社 Adhesive film for semiconductor and semiconductor device using the adhesive film
JP5278706B2 (en) * 2007-06-05 2013-09-04 新日鉄住金化学株式会社 Flame-retardant adhesive resin composition and adhesive film using the same
WO2008149837A1 (en) * 2007-06-05 2008-12-11 Tohto Kasei Co., Ltd. Flame-retardant adhesive resin composition and adhesive film formed from the same
WO2008149727A1 (en) * 2007-06-05 2008-12-11 Nippon Steel Chemical Co., Ltd. Flame-retardant adhesive resin composition, and adhesive film utilizing the same
JP2009088499A (en) * 2007-09-13 2009-04-23 Toray Ind Inc Coverlay film
JP2009127031A (en) * 2007-11-28 2009-06-11 Shin Etsu Chem Co Ltd Adhesive composition, cover lay film using the same, and adhesive sheet
JP2009215494A (en) * 2008-03-12 2009-09-24 Shin Etsu Chem Co Ltd Flame retardant adhesive composition, and adhesive sheet, coverlay film and flexible copper-clad laminate plate using the same
WO2010038745A1 (en) * 2008-09-30 2010-04-08 ヘンケル・コーポレーション Flame-retardant hot-melt type adhesive agent
US8975161B2 (en) 2010-07-13 2015-03-10 Hitachi Chemical Company, Ltd. Dicing/die bonding integral film, dicing/die bonding integral film manufacturing method, and semiconductor chip manufacturing method
JP2013053190A (en) * 2011-09-01 2013-03-21 Nitto Denko Corp Adhesive film and dicing die-bonding film
JP2013107957A (en) * 2011-11-18 2013-06-06 Dainippon Printing Co Ltd Adhesive composition and adhesive sheet using the same
WO2014069461A1 (en) * 2012-10-29 2014-05-08 リンテック株式会社 Flame-retardant adhesive composition and flame-retardant adhesive sheet
JPWO2014069461A1 (en) * 2012-10-29 2016-09-08 リンテック株式会社 Flame retardant adhesive composition and flame retardant adhesive sheet
WO2019001034A1 (en) * 2017-06-27 2019-01-03 深圳光启高等理工研究院 Insulating tape and method for preparing same
CN109423252A (en) * 2017-06-27 2019-03-05 深圳光启高等理工研究院 A kind of insulating tape and preparation method thereof
CN113845866A (en) * 2021-11-18 2021-12-28 广州联茂电子科技有限公司 Epoxy compound adhesive, covering film and preparation method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2006232985A (en) Non-halogen adhesive composition, and coverlay film and adhesive sheet obtained using the same
JP4672505B2 (en) Flame-retardant adhesive composition, and adhesive sheet, coverlay film and flexible copper-clad laminate using the same
JP2008088302A (en) Flame-retardant adhesive composition, adhesive sheet using it, cover-lay film and flexible copper-clad laminate plate
TWI699415B (en) Thermosetting adhesive composition
JP2006316234A (en) Flame retardant adhesive composition, adhesive sheet using the same, cover lay film and flexible copper clad laminate
JP2005248048A (en) Flame retardant adhesive composition, and adhesive sheet, cover lay film and flexible copper clad laminate plate by using the same
JP2006328112A (en) Flame-retardant adhesive composition, and adhesive sheet, cover lay film and flexible copper-clad laminate obtained using the same
JP2008291171A (en) Flame-retardant adhesive composition and cover-lay film using the same
JP2009007424A (en) Adhesive composition, and adhesive sheet and cover lay film using the same
JP2012097197A (en) Flame-retardant adhesive composition and adhesive sheet and coverlay film using the same
JP2010248380A (en) Adhesive composition, and adhesive sheet and coverlay film using the same
JP2008111102A (en) Flame-retardant adhesive composition, and adhesive sheet, cover-lay film and flexible copper-clad laminate using the same
JP5008536B2 (en) Adhesive composition and coverlay film and adhesive sheet using the same
JP2006328113A (en) Flame-retardant adhesive composition, and adhesive sheet, cover lay film and flexible copper-clad laminate obtained using the same
JP2006328114A (en) Flame-retardant adhesive composition, and adhesive sheet, cover lay film and flexible copper-clad laminate obtained using the same
JP2012241147A (en) Flame retardant adhesive composition, adhesive sheet and cover lay film using the same
JP2009167396A (en) Adhesive composition, copper-clad laminate plate using the same, cover-lay film and adhesive sheet
JP2009149829A (en) Flame-retardant adhesive composition, as well as coverlay film and adhesive sheet using it
JP2009132879A (en) Adhesive composition and cover-lay film using the same
JP2007051211A (en) Adhesive composition and coverlay film and adhesive sheet using the same
JP2006232984A (en) Adhesive composition, and coverlay film and adhesive sheet obtained using the same
JP3504500B2 (en) Thermosetting adhesive and flexible printed wiring board material using the same
JP2006342333A (en) Flame retardant adhesive composition, and adhesive sheet, coverlay film and flexible copper-clad laminate plate, using the same
JP2008177463A (en) Flexible wiring board adhesive composition, flexible wiring board cover lay, and flexible wiring board with electromagnetic wave shield layer
JP2006169446A (en) Adhesive composition and cover lay film