JP2008106309A - Method for producing particulate by plasma-induced electrolysis, and device therefor - Google Patents

Method for producing particulate by plasma-induced electrolysis, and device therefor Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing particulate by plasma-induced electrolysis with which growth and flocculation of the produced particulate are suppressed, and to provide a device therefor. <P>SOLUTION: The invention is a method with which molten salt is subjected to plasma-induced electrolysis so as to produce particulate. Plasma is emitted to the surface of a molten salt bath held onto a rotating substantially flat face so as to produce particulate and also, the produced particulate is moved to the outside of the molten salt bath by centrifugal force. The device uses the same. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、回転円板上の溶融塩表面にプラズマ照射を行うことによって、金属微粒子及び/又は金属化合物微粒子を連続的に製造し、遠心力を利用して円板外部に移動させて回収する、プラズマ誘起電解による微粒子の製造方法およびその装置に関する。 The present invention continuously produces metal fine particles and / or metal compound fine particles by performing plasma irradiation on the surface of the molten salt on the rotating disk, and recovers the particles by moving them to the outside of the disk using centrifugal force. The present invention relates to a method for producing fine particles by plasma-induced electrolysis and an apparatus therefor.

アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で、金属のハロゲン化物を含む溶融塩浴表面にプラズマ照射を行うことによって、放電電子により金属イオンが還元されてミクロン〜ナノサイズの金属微粒子や金属化合物微粒子を得る方法(プラズマ誘起電解)が知られている(例えば、非特許文献1、2、3、特許文献1)。このプラズマ誘起電解により生成した微粒子は、従来、溶融塩浴中に放電終了までの長時間保持され、放電終了後に溶融塩浴全体を冷却固化し、その後、蒸留水で繰り返し洗浄され、真空乾燥を経て、乾燥粉末として回収されていた。 By irradiating the surface of a molten salt bath containing a metal halide under plasma in an inert gas atmosphere such as argon, metal ions are reduced by discharge electrons to obtain micron-to-nanosized metal particles and metal compound particles. A method (plasma induced electrolysis) is known (for example, Non-Patent Documents 1, 2, 3, and Patent Document 1). The fine particles generated by this plasma-induced electrolysis are conventionally held in the molten salt bath for a long time until the end of discharge, and after the end of discharge, the entire molten salt bath is cooled and solidified, then repeatedly washed with distilled water and vacuum dried. After that, it was recovered as a dry powder.

しかし、この回収方法では、溶融塩中、特に放電部直下の高温部に生成粒子が保持される時間が長くなり、微粒子が成長したり、二次凝集したりすることがあった。さらに、この回収方法では、プラズマ誘起電解を行った溶融塩全体を冷却固化させるため、連続的な量産法へと発展させることには限界があった。分散した、もしくは緩く凝集した微粒子として、溶融塩から連続的に回収するためには、溶融塩中に生成する微粒子を優先的かつ連続的に回収しつつ、意図的ではない微粒子の成長や二次凝集を防ぐことのできる微粒子の製造方法およびその装置の開発が必要である。 However, in this recovery method, the time during which the generated particles are retained in the molten salt, particularly in the high temperature portion immediately below the discharge portion, becomes long, and fine particles may grow or secondary agglomerate. Furthermore, in this recovery method, since the entire molten salt subjected to plasma-induced electrolysis is cooled and solidified, there is a limit to developing it into a continuous mass production method. In order to recover continuously from molten salt as dispersed or loosely agglomerated fine particles, the fine particles generated in the molten salt are collected preferentially and continuously, while unintentional fine particle growth or secondary It is necessary to develop a method for producing fine particles capable of preventing aggregation and an apparatus therefor.

このような回収方法として、本発明者等は特願2005−121737において、微粒子が生成する部分の溶融塩を流動させて微粒子を溶融塩浴外に移動させて回収する、プラズマ誘起電解による微粒子の製造方法およびその装置を提案した。(特許文献2) As such a recovery method, the present inventors disclosed in Japanese Patent Application No. 2005-121737 the flow of the molten salt in the portion where the fine particles are generated and the fine particles are moved out of the molten salt bath and recovered to recover the fine particles by plasma-induced electrolysis. A manufacturing method and apparatus were proposed. (Patent Document 2)

微粒子が生成した直後の、微粒子を多く含む浴表層部分を流動、あるいは冷却固化させて、これを選択的に回収する方法では、回収微粒子の径は従来のものより格段に小さく、その粒径分布も比較的均一であった。しかし、特許文献2におけるいずれの方法においても、形成した微粒子を生成直後に全て回収することは困難であり、少なからず溶融塩浴槽内を循環した。その結果、浴槽内を循環する間に、微粒子の成長、二次凝集が進むため、回収粒子の粒径制御や分散回収を困難にし、収率を低下させることが、長時間の連続電解には問題であった。 In the method in which the bath surface layer portion containing a large amount of fine particles immediately after the fine particles are formed is flowed or cooled and solidified, and this is selectively collected, the diameter of the collected fine particles is much smaller than the conventional one, and its particle size distribution Was also relatively uniform. However, in any of the methods in Patent Document 2, it is difficult to recover all the formed fine particles immediately after generation, and they are circulated in the molten salt bath. As a result, the growth and secondary agglomeration of the fine particles progress while circulating in the bath, making it difficult to control the particle size and dispersion of the recovered particles and lowering the yield. It was a problem.

特に回転ドラムやコンベア等の回収機構を用いる場合、回収部で塩が固化してモーター等の駆動部の働きを妨げる場合があり、やはり長時間の連続電解には問題となった。 In particular, when a recovery mechanism such as a rotating drum or a conveyor is used, salt may solidify in the recovery unit and interfere with the operation of a drive unit such as a motor, which again becomes a problem for long-term continuous electrolysis.

また、微粒子を多く含む浴表層部分を浴外へ回収する方法では、溶融塩の回収に伴って浴槽内の溶融塩の量が減少し、その結果、浴組成が変化したり、浴面が低下して放電の維持ができなくなるため、回収される溶融塩量に相当する分だけ浴槽に添加する必要があった。このため、長時間の連続電解を安定した状態で行うためには、浴槽外部に別途溶融塩を供給するための補助浴槽と保温された配管、さらには棒状や箱状のスペーサーを一定速度で溶融塩浴中に沈め、浴面の高さをモニタリングするセンサーとリンクさせて調整を行う機構など、装置構成が非常に複雑になり、製造コストの増加につながった。 In addition, in the method of recovering the bath surface layer portion containing a large amount of fine particles to the outside of the bath, the amount of molten salt in the bath decreases with the recovery of the molten salt, resulting in a change in bath composition or a decrease in bath surface. In this case, the discharge cannot be maintained, so that it is necessary to add to the bathtub in an amount corresponding to the amount of the molten salt recovered. For this reason, in order to perform continuous electrolysis for a long time in a stable state, an auxiliary tub for supplying molten salt separately to the outside of the tub, a heated pipe, and a rod-like or box-like spacer are melted at a constant speed. The structure of the device, such as a mechanism that adjusts by sunk in a salt bath and linked to a sensor that monitors the height of the bath surface, has become very complex, leading to increased manufacturing costs.

一方、特許文献2では、生成した微粒子を浴の流動等により溶融塩浴底部に沈降させ、溶融塩浴槽底部に設置した排出路から、微粒子を含有する溶融塩を浴外へ排出し回収する方法も提案した。上記の、排出した溶融塩量に相当する塩を適宜追加する必要があったものの、機械的な駆動部がほとんど存在しないことから、長時間の連続電解でも装置稼動に支障はなかった。しかし、浴底部に沈降する微粒子は、表層部で回収されるものよりも粒径が大きく、より粒径の小さく均一で分散した微粒子の形成には問題があった。 On the other hand, in Patent Document 2, the generated fine particles are settled at the bottom of the molten salt bath by the flow of the bath, etc., and the molten salt containing the fine particles is discharged out of the bath and recovered from the discharge path installed at the bottom of the molten salt bath. Also suggested. Although it was necessary to add a salt corresponding to the amount of the molten salt discharged as described above, there was almost no mechanical drive, so there was no problem in the operation of the apparatus even during long-term continuous electrolysis. However, the fine particles settled on the bottom of the bath have a larger particle size than those collected at the surface layer portion, and there is a problem in forming uniform and dispersed fine particles having a smaller particle size.

従って、より粒径の小さく均一で分散した微粒子を、長時間連続して製造するためには、特許文献2における表層部からの回収と同等の条件で微粒子を生成し、生成直後の微粒子を連続して回収できる、単純かつ簡便な新たな方法およびその装置の開発が必要であった。 Therefore, in order to continuously produce finer particles having a smaller particle size that are uniformly dispersed for a long time, the fine particles are generated under the same conditions as the recovery from the surface layer part in Patent Document 2, and the fine particles immediately after the generation are continuously produced. Therefore, it was necessary to develop a new and simple method and apparatus that can be recovered.

また、特許文献1及び2では、放電を安定に維持するために、電源と電極の間に数百〜数千オームの電気抵抗を使用していた。そのため、印加する電力の大部分が抵抗によって消費され、これが大きなエネルギーロスにつながっていた。この抵抗値を小さくすることで、抵抗におけるエネルギーロスを小さくすることはできたものの、電流が不安定になり、放電を長時間安定に維持することは困難であった。 In Patent Documents 1 and 2, an electric resistance of several hundred to several thousand ohms is used between the power source and the electrode in order to stably maintain the discharge. Therefore, most of the applied power is consumed by the resistance, which leads to a large energy loss. By reducing the resistance value, the energy loss in the resistance could be reduced, but the current became unstable and it was difficult to keep the discharge stable for a long time.

従って、プラズマ誘起電解により微粒子を長時間連続して、低エネルギー消費で製造するためには、より小さい電気抵抗を使用して、もしくは抵抗を使用せずに放電を長時間安定に維持できる方法およびその装置の開発が必要であった。
溶融塩化物系での放電電解によるNi微粒子の形成、河村博行、森谷公一、伊藤靖彦、粉体及び粉末冶金、45巻、12号、p1142、1998 Discharge electrolysis in molten chloride: formation of fine silver particles, H. Kawamura, K. Moritani and Y. Ito, Plasmas & Ions, 1, p29, 1998 Formation of Metal Oxide Particles by Anode-Discharge Electrolysis of Molten LiCl-KCl-CaO System, T. Oishi, T. Goto, and Y. Ito, J. Electrochemical. Soc., 149(11)D155-D159(2002) WO2005/111272公報 特願2005−121737号
Therefore, in order to produce fine particles continuously for a long time by plasma-induced electrolysis with low energy consumption, a method capable of maintaining a stable discharge for a long time using a smaller electric resistance or without using a resistance, and Development of the device was necessary.
Formation of Ni fine particles by discharge electrolysis in molten chloride system, Hiroyuki Kawamura, Koichi Moriya, Yasuhiko Ito, Powder and Powder Metallurgy, Vol. 45, No. 12, p1142, 1998 Discharge electrolysis in molten chloride: formation of fine silver particles, H. Kawamura, K. Moritani and Y. Ito, Plasmas & Ions, 1, p29, 1998 Formation of Metal Oxide Particles by Anode-Discharge Electrolysis of Molten LiCl-KCl-CaO System, T. Oishi, T. Goto, and Y. Ito, J. Electrochemical. Soc., 149 (11) D155-D159 (2002) WO2005 / 111272 publication Japanese Patent Application No. 2005-121737

本発明は、溶融塩表面に対するプラズマ誘起電解によって、溶融塩中に連続して微粒子を生成し、かつ生成した微粒子の成長と凝集を抑制しつつ、連続的に回収するための、単純で簡便な微粒子製造、回収装置およびその方法の提供を目的とする。また、溶融塩表面に対するプラズマ誘起電解を行う際に、小さい電気抵抗を使用して、もしくは抵抗を使用せずに放電を長時間安定に維持できる装置およびその方法の提供を目的とする。 The present invention is simple and convenient for continuously collecting fine particles in a molten salt by plasma-induced electrolysis on the surface of the molten salt, and continuously collecting while suppressing the growth and aggregation of the produced fine particles. An object of the present invention is to provide a fine particle production and recovery apparatus and a method thereof. Another object of the present invention is to provide an apparatus and a method for stably maintaining a discharge for a long time using a small electric resistance or without using a resistance when performing plasma-induced electrolysis on a molten salt surface.

本発明者は、上記従来技術の問題点に鑑み鋭意検討を重ねた結果、円板上に保持された溶融塩に対し、プラズマ誘起電解を行うことで、該保持溶融塩中に微粒子を生成し、該円板の回転によって形成した微粒子を含む溶融塩を、遠心力を利用して円板外部に移動させて回収することによって、より粒径の小さい微粒子を連続的に製造及び回収できることを見出し、本発明を完成させた(請求項1及び9参照)。また、電源と電極との間にコイルを挿入することによって、大きい抵抗値の電気抵抗を使用せずに放電を長時間安定に維持できることを見出し、本発明を完成させた(請求項22参照)。 As a result of intensive studies in view of the problems of the prior art described above, the present inventor generates fine particles in the retained molten salt by performing plasma-induced electrolysis on the molten salt retained on the disk. It has been found that fine particles having a smaller particle diameter can be continuously produced and recovered by moving the molten salt containing the fine particles formed by the rotation of the disk to the outside of the disk using centrifugal force and collecting the molten salt. The present invention has been completed (see claims 1 and 9). Further, it has been found that by inserting a coil between a power source and an electrode, discharge can be stably maintained for a long time without using a large resistance, and the present invention has been completed (see claim 22). .

具体的には、請求項1に記載の発明は、溶融塩をプラズマ誘起電解することによって微粒子を製造する方法であって、回転している実質的に平坦な面上に保持された溶融塩浴表面に対しプラズマ照射を行うことによって微粒子を生成させ、かつ、遠心力により生成された微粒子を溶融塩浴外へ移動させることを特徴とする前記製造方法である。 Specifically, the invention described in claim 1 is a method for producing fine particles by plasma-induced electrolysis of molten salt, wherein the molten salt bath is held on a rotating substantially flat surface. In the production method, fine particles are generated by performing plasma irradiation on the surface, and the fine particles generated by centrifugal force are moved out of the molten salt bath.

請求項1に記載の発明によれば、プラズマ誘起電解により生成された微粒子の成長と凝集を抑制しつつ、連続的に回収できる単純で、かつ、簡便な微粒子製造方法が提供される。なお、回転駆動される実質的に平坦な面は、その回転によって生成される微粒子を溶融塩浴外へ移動させることができる遠心力を発生させられる面であればよく、下向きに傾斜している円錐面等の曲面やその表面に複数の溝が形成されている面など、全体として遠心力による溶融塩の円滑な流れを形成することができる面であれば特に二次元平面に限られるものではない。 According to the first aspect of the present invention, there is provided a simple and simple method for producing fine particles that can be continuously collected while suppressing the growth and aggregation of fine particles produced by plasma-induced electrolysis. The substantially flat surface that is rotationally driven may be a surface that can generate centrifugal force that can move the fine particles generated by the rotation out of the molten salt bath, and is inclined downward. It is not limited to a two-dimensional plane as long as it is a surface that can form a smooth flow of molten salt by centrifugal force as a whole, such as a curved surface such as a conical surface or a surface on which a plurality of grooves are formed. Absent.

請求項2に記載の発明は、微粒子の製造を不活性ガス雰囲気下で行うことを特徴とする請求項1に記載の製造方法である。 The invention described in claim 2 is the manufacturing method according to claim 1, wherein the fine particles are manufactured in an inert gas atmosphere.

請求項2に記載の発明によれば、製造される微粒子の酸化を有効に防止することができる。 According to the second aspect of the present invention, oxidation of the produced fine particles can be effectively prevented.

請求項3に記載の発明は、微粒子の粒子径を回転駆動される面の回転数により制御することを特徴とする請求項1又は2に記載の製造方法である。 A third aspect of the present invention is the manufacturing method according to the first or second aspect, wherein the particle diameter of the fine particles is controlled by the number of rotations of the surface to be rotationally driven.

請求項3に記載の発明によれば、製造される微粒子の粒子径を制御する因子を回転駆動される面の回転数にまとめることが可能となり、微粒子の粒子径を精度良く容易に制御できるようになる。 According to the third aspect of the present invention, it is possible to combine the factors that control the particle diameter of the manufactured fine particles into the rotational speed of the surface to be rotationally driven, so that the particle diameter of the fine particles can be easily controlled with high accuracy. become.

請求項4に記載の発明は、回転駆動される面を溶融塩浴の厚みを実質的に0.01mm〜5mmに保持するように回転制御することを特徴とする請求項1又は2に記載の製造方法である。 The invention according to claim 4 is characterized in that the rotation of the surface to be rotated is controlled so that the thickness of the molten salt bath is substantially maintained at 0.01 mm to 5 mm. It is a manufacturing method.

請求項4に記載の発明によれば、溶融塩浴の薄肉化により生成される溶融塩中の微粒子の移動経路が略二次元的に単純化され、微粒子の凝集を抑制しつつバラツキの少ない安定した粒子径を有する微粒子を得ることができる。 According to the fourth aspect of the present invention, the movement path of the fine particles in the molten salt generated by thinning the molten salt bath is simplified approximately two-dimensionally, and stable with little variation while suppressing the aggregation of the fine particles. Fine particles having a reduced particle diameter can be obtained.

請求項5に記載の発明は、溶融塩が保持される面を外部加熱手段により所定の温度に加熱することを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の製造方法である。 The invention according to claim 5 is the manufacturing method according to any one of claims 1 to 4, wherein the surface on which the molten salt is held is heated to a predetermined temperature by an external heating means.

請求項5に記載の発明によれば、特に、溶融塩供給初期、回転可能な面の冷却効果により溶融塩浴の凝固を防止できると共に、溶融塩浴の温度偏析が低減されバラツキの少ない安定した粒子径を有する微粒子を得ることができる。 According to the invention described in claim 5, in particular, the molten salt bath can be prevented from solidifying by the cooling effect of the rotatable surface at the initial stage of the molten salt supply, and the temperature segregation of the molten salt bath is reduced and stable. Fine particles having a particle size can be obtained.

請求項6に記載の発明は、陰極放電において消費される金属イオンを連続して溶融塩浴中に供給するために、対極である陽極に生成される微粒子金属成分を含む電極材料を用いることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の製造方法である。 The invention described in claim 6 is to use an electrode material containing a fine metal component generated in the anode as the counter electrode in order to continuously supply metal ions consumed in the cathode discharge into the molten salt bath. 6. The manufacturing method according to claim 1, wherein the manufacturing method is characterized in that:

請求項6に記載の発明によれば、陰極放電において、陽極から溶融塩浴中へ生成される金属微粒子と同じ成分の金属イオンが供給されるため、連続して所望の金属微粒子を得ることができる。 According to the sixth aspect of the invention, in the cathode discharge, metal ions having the same components as the metal fine particles generated from the anode into the molten salt bath are supplied, so that desired metal fine particles can be obtained continuously. it can.

請求項7に記載の発明は、陽極放電において金属化合物の微粒子を生成するために、放電極である陽極に生成される金属化合物の金属成分を含む電極材料を用い、そして、その対イオンを含む溶融塩を用いることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の製造方法である。 The invention according to claim 7 uses an electrode material containing a metal component of a metal compound generated on an anode as a discharge electrode and generates a counter ion for generating fine particles of the metal compound in an anode discharge. The manufacturing method according to any one of claims 1 to 5, wherein a molten salt is used.

請求項7に記載の発明によれば、陽極放電において、陽極から溶融塩浴中へ溶融塩浴中に存在するイオンとは異なる金属イオンを供給することができるため、極めて容易に金属酸化物、窒化物などの所望の金属化合物からなる微粒子を得ることができる。 According to the seventh aspect of the present invention, in anodic discharge, metal ions different from the ions present in the molten salt bath can be supplied from the anode into the molten salt bath, so that the metal oxide, Fine particles made of a desired metal compound such as nitride can be obtained.

請求項8に記載の発明は、溶融塩浴外へ移動させられた前記微粒子を含む溶融塩を外部冷却手段により該溶融塩の融点以下に冷却するステップをさらに含むことを特徴とする請求項1ないし7のいずれかに記載の製造方法である。 The invention according to claim 8 further includes the step of cooling the molten salt containing the fine particles moved out of the molten salt bath to below the melting point of the molten salt by an external cooling means. Or the production method according to any one of 7 to 7.

請求項8に記載の発明によれば、溶融塩浴外へ移動した微粒子を含む溶融塩を急速冷却することが可能となるため、生成された微粒子のさらなる成長や凝集を抑制することができ、ナノサイズの微粒子を安定的に得るために大きく寄与する。 According to the invention described in claim 8, since it becomes possible to rapidly cool the molten salt containing fine particles moved out of the molten salt bath, further growth and aggregation of the produced fine particles can be suppressed, This greatly contributes to stably obtaining nano-sized fine particles.

請求項9に記載の発明は、溶融塩を供給するための供給手段と、前記供給された溶融塩を回転可能な実質に平坦な面上に保持するための保持手段と、保持された溶融塩浴表面に対してプラズマ照射を行うための放電極および対極を含む電極と、そしてプラズマ照射により生成された微粒子を、前記保持手段の回転により発生される遠心力により溶融塩浴外へ移動させるための回転駆動手段と、からなる溶融塩をプラズマ誘起電解することにより微粒子を製造するための装置である。 The invention according to claim 9 is a supply means for supplying a molten salt, a holding means for holding the supplied molten salt on a rotatable substantially flat surface, and a held molten salt. An electrode including a discharge electrode and a counter electrode for performing plasma irradiation on the bath surface, and fine particles generated by the plasma irradiation are moved out of the molten salt bath by centrifugal force generated by the rotation of the holding means. An apparatus for producing fine particles by plasma-induced electrolysis of a molten salt comprising:

請求項9に記載の発明によれば、プラズマ誘起電解により生成された微粒子の成長と凝集を抑制しつつ、連続的に回収できる単純で、かつ、簡便な微粒子を製造することができる装置が提供される。なお、回転駆動される実質的に平坦な面は、その回転によって生成される微粒子を溶融塩浴外へ移動させることができる遠心力を発生させられる面であればよく、下向きに傾斜している円錐面等の曲面やその表面に複数の溝が形成されている面など、全体として遠心力による溶融塩の円滑な流れを形成することができる面であれば特に二次元平面に限られるものではない。 According to the ninth aspect of the present invention, there is provided an apparatus capable of producing simple and simple microparticles that can be continuously collected while suppressing the growth and aggregation of the microparticles generated by plasma-induced electrolysis. Is done. The substantially flat surface that is rotationally driven may be a surface that can generate centrifugal force that can move the fine particles generated by the rotation out of the molten salt bath, and is inclined downward. It is not limited to a two-dimensional plane as long as it is a surface that can form a smooth flow of molten salt by centrifugal force as a whole, such as a curved surface such as a conical surface or a surface on which a plurality of grooves are formed. Absent.

請求項10に記載の発明は、供給手段の溶融塩供給口を保持手段の回転軸上に配置したことを特徴とする請求項9に記載の装置である。 A tenth aspect of the present invention is the apparatus according to the ninth aspect, wherein the molten salt supply port of the supply means is disposed on the rotating shaft of the holding means.

請求項10に記載の発明によれば、溶融塩浴は溶融塩浴中の最も静的な領域に供給されるため、動的な流れを有する他の領域の溶融塩を巻き込むことなく極めて高純度で粒子径の安定した微粒子を得ることができる。 According to the invention described in claim 10, since the molten salt bath is supplied to the most static region in the molten salt bath, it has an extremely high purity without involving the molten salt of other regions having a dynamic flow. Thus, fine particles having a stable particle diameter can be obtained.

請求項11に記載の発明は、供給手段に溶融塩の温度を保持するための外部加熱手段をさらに備え付けたことを特徴とする請求項9又は10に記載の装置である。 The invention according to claim 11 is the apparatus according to claim 9 or 10, further comprising an external heating means for maintaining the temperature of the molten salt in the supply means.

請求項11に記載の発明によれば、特に、溶融塩供給初期、供給手段の冷却効果により溶融塩浴の凝固を防止できると共に、溶融塩浴の温度偏析が低減されバラツキの少ない安定した粒子径を有する微粒子を得ることができる。 According to the eleventh aspect of the invention, in particular, the molten salt bath can be prevented from solidifying by the cooling effect of the molten salt supply initial stage and the supply means, and the temperature segregation of the molten salt bath is reduced, and the stable particle diameter is small. Can be obtained.

請求項12に記載の発明は、保持手段を円板状若しくは外周部に実質的に円形の溶融塩浴を形成するためのリング状の堰を備え付けたことを特徴とする請求項9ないし11のいずれかに記載の装置である。 The invention according to claim 12 is characterized in that the holding means is provided with a disk-like or ring-shaped weir for forming a substantially circular molten salt bath on the outer periphery. It is an apparatus in any one.

請求項12に記載の発明によれば、保持手段を回転することによって発生される遠心力を回転方向に沿って溶融塩浴中に均一に分布させることにより、生成される溶融塩中の微粒子の移動時間および移動経路の安定化を図ることができ、極めて安定した粒子径を有する微粒子を得ることができる。 According to the twelfth aspect of the present invention, the centrifugal force generated by rotating the holding means is uniformly distributed in the molten salt bath along the rotation direction, so that the fine particles in the generated molten salt are dispersed. The movement time and the movement path can be stabilized, and fine particles having an extremely stable particle diameter can be obtained.

請求項13に記載の発明は、保持手段に溶融塩浴の厚みを実質的に一定に保持するように回転軸に向かって下向きに傾斜している円錐面を備え付けたことを特徴とする請求項9ないし11のいずれかに記載の装置である。 The invention according to claim 13 is characterized in that the holding means is provided with a conical surface inclined downward toward the rotation axis so as to keep the thickness of the molten salt bath substantially constant. The apparatus according to any one of 9 to 11.

請求項13に記載の発明によれば、溶融塩浴の厚みの均一化および薄肉化により生成される溶融塩中の微粒子の移動経路が略二次元的に単純化され、微粒子の凝集を抑制しつつバラツキの少ない安定した粒子径を有する微粒子を得ることができる。 According to the thirteenth aspect of the present invention, the movement path of the fine particles in the molten salt generated by making the thickness of the molten salt bath uniform and thin is simplified approximately two-dimensionally to suppress the aggregation of the fine particles. In addition, fine particles having a stable particle diameter with little variation can be obtained.

請求項14に記載の発明は、保持手段に溶融塩の温度を保持するための外部加熱手段をさらに備え付けたことを特徴とする請求項9ないし13のいずれかに記載の装置である。 The invention according to claim 14 is the apparatus according to any one of claims 9 to 13, further comprising an external heating means for maintaining the temperature of the molten salt in the holding means.

請求項14に記載の発明によれば、特に、溶融塩供給初期、回転可能な面の冷却効果により溶融塩浴の凝固を防止できると共に、溶融塩浴の温度偏析が低減されバラツキの少ない安定した粒子径を有する微粒子を得ることができる。 According to the invention described in claim 14, in particular, the molten salt bath can be prevented from solidification by the cooling effect of the rotatable surface at the initial stage of the molten salt supply, and the temperature segregation of the molten salt bath is reduced and stable with little variation. Fine particles having a particle size can be obtained.

請求項15に記載の発明は、放電極を保持手段の回転軸外に配置したことを特徴とする請求項9ないし14のいずれかに記載の装置である。また、請求項16に記載の発明は、対極を保持手段の回転軸上に配置したことを特徴とする請求項9ないし15のいずれかに記載の装置であり、さらに、請求項17に記載の発明は、前記対極の少なくとも一部を溶融塩浴と接触させたことを特徴とする請求項9ないし16のいずれかに記載の装置である。 The invention according to claim 15 is the apparatus according to any one of claims 9 to 14, wherein the discharge electrode is disposed outside the rotation axis of the holding means. The invention described in claim 16 is the apparatus according to any one of claims 9 to 15, characterized in that the counter electrode is disposed on the rotating shaft of the holding means, and further according to claim 17, The invention according to any one of claims 9 to 16, wherein at least a part of the counter electrode is brought into contact with a molten salt bath.

請求項15、16及び17に記載の発明によれば、放電極と溶融塩浴表面との間において対極との電気的干渉が極めて少ない安定したプラズマを得ることができ、効率の良いプラズマ誘起電解を行うことが可能となる。 According to the invention described in claims 15, 16 and 17, it is possible to obtain a stable plasma with very little electrical interference with the counter electrode between the discharge electrode and the surface of the molten salt bath, and efficient plasma-induced electrolysis. Can be performed.

請求項18に記載の発明は、陰極放電において、対極である陽極を生成される微粒子金属成分を含む材料で構成したことを特徴とする請求項9ないし17のいずれかに記載の装置である。 The invention according to claim 18 is the apparatus according to any one of claims 9 to 17, characterized in that it is made of a material containing a fine-particle metal component that generates an anode as a counter electrode in cathode discharge.

請求項18に記載の発明によれば、陰極放電において、陽極から溶融塩浴中へ生成される金属微粒子と同じ成分の金属イオンが供給されるため、連続して所望の金属微粒子を得ることができる。 According to the eighteenth aspect of the invention, in the cathode discharge, metal ions having the same components as the metal fine particles generated from the anode into the molten salt bath are supplied, so that desired metal fine particles can be obtained continuously. it can.

請求項19に記載の発明は、前記対極である陽極に金属スクラップホルダーをさらに備え付けたことを特徴とする請求項18に記載の装置である。 The invention according to claim 19 is the apparatus according to claim 18, further comprising a metal scrap holder on the anode as the counter electrode.

請求項19に記載の発明によれば、陰極放電において、陽極に設けられた金属スクラップホルダーの中に生成される金属微粒子と同じ成分を有する金属スクラップを装入することにより、これらの金属スクラップを陽極として機能させることができるため、リサイクル可能なプラズマ誘起電解による微粒子製造装置を提供することができる。 According to the invention described in claim 19, in the cathode discharge, by inserting metal scrap having the same component as the metal fine particles generated in the metal scrap holder provided in the anode, Since it can function as an anode, a recyclable fine particle production apparatus by plasma induced electrolysis can be provided.

請求項20に記載の発明は、陽極放電において、放電極である陽極を生成される微粒子金属成分を含む材料で構成したことを特徴とする請求項9ないし17のいずれかに記載の装置。 The invention according to claim 20 is constituted by a material containing a particulate metal component that generates an anode which is a discharge electrode in anode discharge, and the apparatus according to any one of claims 9 to 17.

請求項20に記載の発明によれば、陽極放電において、陽極から溶融塩浴中へ溶融塩浴中に存在するイオンとは異なる金属イオンを供給することができるため、極めて容易に金属酸化物、窒化物などの所望の金属化合物からなる微粒子を得ることができる。 According to the invention described in claim 20, in anodic discharge, metal ions different from ions present in the molten salt bath can be supplied from the anode into the molten salt bath. Fine particles made of a desired metal compound such as nitride can be obtained.

請求項21に記載の発明は、本発明による装置に溶融塩浴外へ移動させられた微粒子を含む溶融塩を該溶融塩の融点以下に冷却するための外部冷却手段をさらに備え付けたことを特徴とする請求項9ないし20のいずれかに記載の装置である。 The invention according to claim 21 is characterized in that the apparatus according to the present invention is further provided with an external cooling means for cooling the molten salt containing fine particles moved out of the molten salt bath below the melting point of the molten salt. An apparatus according to any one of claims 9 to 20.

請求項21に記載の発明によれば、溶融塩浴外へ移動した微粒子を含む溶融塩を急速冷却することが可能となるため、生成された微粒子のさらなる成長や凝集を抑制することができ、ナノサイズの微粒子を安定的に得るために大きく寄与する。 According to the invention of claim 21, since it becomes possible to rapidly cool the molten salt containing fine particles moved out of the molten salt bath, further growth and aggregation of the produced fine particles can be suppressed, This greatly contributes to stably obtaining nano-sized fine particles.

請求項22に記載の発明は、本発明による装置の放電極または対極の少なくとも1つの電極と電源とを結ぶ回路の間に、放電を安定化させるためのコイルを配置したことを特徴とする請求項9ないし21のいずれかに記載の装置である。 The invention according to claim 22 is characterized in that a coil for stabilizing discharge is arranged between a circuit connecting at least one electrode of the discharge electrode or counter electrode of the apparatus according to the present invention and a power source. Item 22. The device according to any one of Items 9 to 21.

請求項22に記載の発明によれば、放電が安定した後、印加電圧を低下させた場合であっても比較的広いインダクタンス領域において長時間の間安定した放電を維持することができるようになる。 According to the twenty-second aspect of the present invention, it is possible to maintain a stable discharge for a long time in a relatively wide inductance region even when the applied voltage is lowered after the discharge is stabilized. .

1.プラズマ誘起電解
本明細書では、溶融塩表面にアーク放電等により誘起されるプラズマを照射することによって金属微粒子及び/又は金属化合物微粒子を製造する方法をプラズマ誘起電解と称することがある。プラズマ誘起電解による微粒子製造法は大きく二つに分けられる。一つは陰極放電であり、もう一つは陽極放電である。これは放電を起こす電極が陰極として働くか、陽極として働くかの違いである。
1. Plasma-induced electrolysis In the present specification, a method of producing metal fine particles and / or metal compound fine particles by irradiating plasma induced by arc discharge or the like on the surface of the molten salt may be referred to as plasma-induced electrolysis. . There are roughly two methods for producing fine particles by plasma-induced electrolysis. One is cathodic discharge and the other is anodic discharge. This is the difference between whether the electrode that causes discharge functions as a cathode or an anode.

放電電極は、電解浴近傍に設置され、溶融塩浴(電解浴)に接触または浸漬させないようにする。設置場所は放電電極の発生するプラズマによって溶融塩中に微粒子が生成するような場所であれば特に限定されないが、溶融塩液面の上部に設置することが好ましい。そうすることにより、放電電極からプラズマが誘起され、電解浴中に金属微粒子及び/又は金属化合物の微粒子が生成する。 The discharge electrode is installed in the vicinity of the electrolytic bath so as not to be in contact with or immersed in the molten salt bath (electrolytic bath). The installation location is not particularly limited as long as it is a location where fine particles are generated in the molten salt by the plasma generated by the discharge electrode, but it is preferably installed on the upper surface of the molten salt liquid surface. By doing so, plasma is induced from the discharge electrode, and fine metal particles and / or fine metal compound particles are generated in the electrolytic bath.

陰極放電の場合、溶融塩浴中には製造対象となる金属微粒子成分のイオンが存在しており、陰極放電により浴に供給される電子は、溶融塩浴表面近傍の金属イオンを還元し、金属微粒子を形成する。浴中に存在する金属イオンの種類やその濃度などを制御することで、2種以上の金属からなる多元系合金微粒子も形成できる。電解を行う際の対極(陽極)には、対象とする金属成分を含む電極を用いるのが好ましい。 In the case of cathode discharge, ions of metal fine particle components to be manufactured exist in the molten salt bath, and electrons supplied to the bath by the cathode discharge reduce metal ions near the surface of the molten salt bath, Form fine particles. By controlling the type and concentration of metal ions present in the bath, multi-component alloy fine particles composed of two or more metals can be formed. It is preferable to use the electrode containing the metal component made into the counter electrode (anode) at the time of performing electrolysis.

一方、陽極放電では、製造対象とするのは金属化合物の微粒子であり、例えば金属酸化物、窒化物、酸窒化物、硫化物、炭化物などである。例として、金属化合物の場合は、製造対象とする金属化合物を構成する金属成分を含む陽極を用い、陽極放電すると、この金属成分がイオンとなって溶融塩浴表面に供給される。 On the other hand, in anodic discharge, the object of manufacture is fine particles of metal compounds, such as metal oxides, nitrides, oxynitrides, sulfides, and carbides. As an example, in the case of a metal compound, when an anode containing a metal component constituting the metal compound to be manufactured is used and anodic discharge is performed, the metal component is ionized and supplied to the surface of the molten salt bath.

一方、溶融塩浴中には、金属と化合物を形成する相手側のイオンが存在しており、例えば、金属酸化物の微粒子を形成させる場合には、浴へ添加したCaOからの酸化物イオンが存在している。陽極放電により供給された金属イオンは、溶融塩中の相手側イオンと浴表面近傍で反応し、金属化合物微粒子を形成する。電解を行う際の対極(陰極)には、Al電極やガス拡散電極を用いることが好ましい。 On the other hand, in the molten salt bath, there are ions on the other side forming a compound with the metal. For example, when forming metal oxide fine particles, oxide ions from CaO added to the bath Existing. Metal ions supplied by anodic discharge react with partner ions in the molten salt near the bath surface to form metal compound fine particles. It is preferable to use an Al electrode or a gas diffusion electrode as a counter electrode (cathode) for electrolysis.

このように、微粒子形成を陰極放電で行うか陽極放電で行うかによって、陰極、陽極を構成する成分と溶融塩中に添加する原料イオンの種類が異なる。しかしながら、放電直下の溶融塩表層で微粒子が形成するという観点からは両者は同じであることから、溶融塩表層にて生成される微粒子の回収には同一の方法を用いることができる。 As described above, depending on whether fine particle formation is performed by cathode discharge or anode discharge, the components constituting the cathode and anode and the types of source ions added to the molten salt are different. However, since both are the same from the viewpoint of forming fine particles on the surface of the molten salt immediately below the discharge, the same method can be used to recover the fine particles generated on the surface of the molten salt.

なお、以下において、主として陰極放電の場合を例として示す。陰極放電の場合、製造される微粒子は金属微粒子であるが、陽極放電により金属化合物微粒子を製造する場合であっても同じ回収方法、装置等を採用できる。このため、下記の例は陽極放電により製造された金属化合物微粒子の回収方法、装置としても適用できる。陽極放電の場合に特筆すべき事項が存在する場合には、必要な箇所で適宜説明する。 In the following, the case of cathode discharge is mainly shown as an example. In the case of cathodic discharge, the produced fine particles are metal fine particles, but the same recovery method, apparatus, etc. can be adopted even when the metal compound fine particles are produced by anodic discharge. For this reason, the following example is applicable also as a collection | recovery method and apparatus of the metal compound fine particle manufactured by anode discharge. In the case of anodic discharge, when there is a matter to be noted, it will be described as appropriate at a necessary place.

2.本発明による微粒子製造、回収方法
本発明による微粒子製造、回収方法の一例を、図1に模式的に示す。この装置1は、回転する円板10と、円板上に設置した陰極11(放電極、陽極放電の場合には陽極)、円板上に溶融塩12(原料塩)を供給するための供給塩浴槽13と、円板上に供給される溶融塩に接触する陽極14(対極、陽極放電の場合には陰極)、そして遠心力により円板外へ移動する微粒子15を含む塩を回収するための捕集容器16からなる。
2. Fine particle production and recovery method according to the present invention An example of the fine particle production and recovery method according to the present invention is schematically shown in FIG. This apparatus 1 includes a rotating disk 10, a cathode 11 (discharge electrode, anode in the case of anode discharge) installed on the disk, and a supply for supplying molten salt 12 (raw material salt) on the disk. To recover a salt containing a salt bath 13, an anode 14 (counter electrode, cathode in the case of anode discharge) in contact with the molten salt supplied on the disc, and fine particles 15 moving out of the disc by centrifugal force It consists of the collection container 16 of this.

2―1.回転円板
回転円板10は、円板上部、あるいは下部に設置したモーター100等と直結させて回転させる。モーター等と直結させずに、歯車、ベルト等を介して駆動しても良い。放電極11直下で微粒子15が生成し、これが円板外部へ到達するまでの間に、粒子15は成長する。従って、回転数を制御することにより、微粒子径の制御が可能となる。
2-1. Rotating disc The rotating disc 10 is rotated by being directly connected to a motor 100 or the like installed on the upper or lower portion of the disc. You may drive via a gear, a belt, etc., without connecting directly with a motor. Fine particles 15 are generated directly under the discharge electrode 11, and the particles 15 grow until they reach the outside of the disk. Therefore, the particle diameter can be controlled by controlling the rotation speed.

この回転数は、生成する微粒子15の成分や所望の粒径、あるいは使用する円板径に応じて適宜調整すれば良いが、一例として0.1〜3,000rpm、好ましくは1〜1,500rpmの範囲であれば良い。 The number of rotations may be appropriately adjusted according to the components of the fine particles 15 to be generated, the desired particle diameter, or the disk diameter to be used, but as an example, it may be in the range of 0.1 to 3,000 rpm, preferably 1 to 1,500 rpm. It ’s fine.

また、円板10上への溶融塩12の供給を開始する際には、円板10上に保持される溶融塩12が冷却されることを防ぐために、供給する溶融塩の温度まで円板温度を予め上げておくのが好ましく、円板内部、下部、もしくは側部に、接触、もしくは非接触の形態で設置したヒーター130から予備加熱を行えばよい。供給開始後、供給される溶融塩12や放電による内部加熱により円板温度は維持される場合には、特に円板10を加熱する必要は無い。 Further, when the supply of the molten salt 12 onto the disk 10 is started, the disk temperature is reduced to the temperature of the supplied molten salt in order to prevent the molten salt 12 held on the disk 10 from being cooled. Is preferably raised in advance, and preheating may be performed from the heater 130 installed in a contact or non-contact manner inside, below, or on the side of the disk. When the disk temperature is maintained by the supplied molten salt 12 or internal heating by discharge after the supply starts, it is not particularly necessary to heat the disk 10.

円板10の材質については、円板上に供給される溶融塩12中に溶解したり、溶融塩12中のイオンと反応したりすることで、これが不純物として微粒子15の形成に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されないが、絶縁性の高いセラミックス(Al2O3、SiO2等)、あるいは生成する微粒子15の成分と同じ、もしくは微粒子成分の一部の金属元素からなるものを用いるのが良い。後者の場合、特にカソード放電の場合には、この回転円板自体を陽極として用いることもできる。 As for the material of the disk 10, it dissolves in the molten salt 12 supplied on the disk or reacts with ions in the molten salt 12, which does not adversely affect the formation of the fine particles 15 as impurities. As long as it is not particularly limited, it is preferable to use ceramics with high insulating properties (Al 2 O 3 , SiO 2, etc.), or those composed of the same or a part of the metal elements of the fine particles 15 to be generated. . In the latter case, particularly in the case of cathode discharge, this rotating disk itself can be used as the anode.

円板10の断面形状については、回転する円板上に溶融塩12を薄く保持できれば、特に制限されない。保持される溶融塩12の厚みは、0.01mm〜5mm、好ましくは0.1mm〜3mmであり、これを達成するために、円板断面形状が凹型であったり外周部に縁を有する等、円板面よりも外周部が高くなっていても良い(図1b参照)。また円板10上の溶融塩12の、外周部への流動を制御する目的で、円板上部には、円板の中心から外周部へ、もしくは同心円状に溝や突起部が存在しても良い。 The cross-sectional shape of the disk 10 is not particularly limited as long as the molten salt 12 can be kept thin on the rotating disk. The molten salt 12 to be held has a thickness of 0.01 mm to 5 mm, preferably 0.1 mm to 3 mm. In order to achieve this, the disk has a concave cross section or has an edge on the outer periphery, etc. The outer periphery may be higher than the surface (see FIG. 1b). Further, for the purpose of controlling the flow of the molten salt 12 on the disk 10 to the outer periphery, there may be grooves or projections on the upper part of the disk from the center of the disk to the outer periphery or concentrically. good.

2−2.放電極
放電極11は、電解浴近傍に設置され、溶融塩浴(電解浴)に接触または浸漬させないようにする。設置場所は、放電極11により生成するプラズマによって溶融塩12中に微粒子15が生成するような場所であれば特に限定されないが、溶融塩浴面の上部に設置することが好ましい。そうすることにより、放電電極11によってプラズマが誘起され、電解浴中に金属微粒子及び/又は金属化合物の微粒子が生成する。電解浴の表面から放電極11の最下部までの距離は限定されず、プラズマが安定して維持される距離であればよい。
2-2. Discharge electrode The discharge electrode 11 is installed in the vicinity of the electrolytic bath so as not to be in contact with or immersed in the molten salt bath (electrolytic bath). The installation location is not particularly limited as long as the fine particles 15 are generated in the molten salt 12 by the plasma generated by the discharge electrode 11, but it is preferably installed at the upper part of the molten salt bath surface. By doing so, plasma is induced by the discharge electrode 11, and metal fine particles and / or metal compound fine particles are generated in the electrolytic bath. The distance from the surface of the electrolytic bath to the lowest part of the discharge electrode 11 is not limited as long as the plasma is stably maintained.

放電極11の材質は、陰極放電の場合、一般に溶融塩電解に使用され、プラズマを発生させることができるものが使用でき、特には限定されない。例えば、モリブデン、タンタル、タングステン等の各種高融点金属、それらの合金、グラッシーカーボンや導電性ダイヤモンド等の炭素材料、導電性セラミックス、半導体性セラミックス等を用いることができる。また、これらを異種材料の上に薄膜状に形成したものも陰極として使用することもできる。それらの中でも、プラズマ誘起時に消耗されにくいタングステン、タンタル等の高融点金属を使用するのが好ましい。 In the case of cathode discharge, the material of the discharge electrode 11 is generally used for molten salt electrolysis and can generate plasma, and is not particularly limited. For example, various high melting point metals such as molybdenum, tantalum, and tungsten, alloys thereof, carbon materials such as glassy carbon and conductive diamond, conductive ceramics, and semiconductive ceramics can be used. Moreover, what formed these in the thin film form on the dissimilar material can also be used as a cathode. Among them, it is preferable to use a refractory metal such as tungsten or tantalum which is not easily consumed when plasma is induced.

一方、陽極放電の場合には、陽極自体が微粒子15の原料となるため、所望する微粒子15の成分のみからなる、もしくは微粒子成分の一部を含むものを使用すれば良い。放電極の形状やサイズについても特に制限は無いが、丸棒状、角棒状等の棒状であるものが好ましく、安定した放電を維持させるために、特に陽極放電の場合には均一に陽極を消耗させるために、放電極側面がアルミナやシリカ等の絶縁性のセラミックス等で被覆されていればなお良い。 On the other hand, in the case of anodic discharge, since the anode itself is a raw material for the fine particles 15, it is sufficient to use only the desired fine particle 15 component or a part of the fine particle component. There are no particular restrictions on the shape and size of the discharge electrode, but a rod shape such as a round bar shape or a square bar shape is preferable. In order to maintain a stable discharge, the anode is consumed evenly, particularly in the case of anodic discharge. Therefore, it is better if the discharge electrode side surface is covered with insulating ceramics such as alumina or silica.

プラズマ誘起電解における電解の条件も、一般にプラズマ誘起電解を行う条件で行うことができ、溶媒の組成、目的とする金属微粒子15の種類等に応じて適宜選択することができる。例えば、印加する電圧は、100〜2,000V程度が例示できるが、電気回路への負担軽減を考慮すると100〜400V程度が好ましい。放電が安定した段階で、10〜200V、好ましくは20〜150Vまで下げることができる。電流の種類は直流電流が好ましく、放電極1本あたりの電流は、0.05〜50A程度、好ましくは、0.1〜20A程度が良い。 Electrolysis conditions in plasma-induced electrolysis can be generally performed under conditions for performing plasma-induced electrolysis, and can be appropriately selected according to the composition of the solvent, the type of the target metal fine particles 15 and the like. For example, the applied voltage may be about 100 to 2,000 V, but is preferably about 100 to 400 V in consideration of reducing the burden on the electric circuit. When the discharge is stable, the voltage can be lowered to 10 to 200 V, preferably 20 to 150 V. The type of current is preferably direct current, and the current per discharge electrode is about 0.05 to 50A, preferably about 0.1 to 20A.

安定してプラズマを誘起させるために、電源と電極の間に電気抵抗やコイルを直列に挿入するなどして、放電の安定性を確保することが好ましい。電気抵抗は、陰極側、陽極側又はその両方に挿入することができる。当該電気抵抗の種類は、電解時の電流に耐えうる容量を持つ抵抗器であれば限定されず、例えば、セメント抵抗器、ホーロー抵抗器、不燃性捲線固定抵抗器等が使用でき、不燃性捲線固定抵抗器がより好ましい。 In order to induce plasma stably, it is preferable to ensure the stability of discharge by inserting an electric resistance or a coil in series between the power source and the electrode. The electrical resistance can be inserted on the cathode side, the anode side, or both. The type of the electrical resistance is not limited as long as it is a resistor having a capacity capable of withstanding the current during electrolysis. For example, a cement resistor, a hollow resistor, a non-combustible wire fixed resistor, etc. can be used, and a non-combustible wire is used. A fixed resistor is more preferred.

抵抗の値は、通常1Ω〜5kΩ程度、好ましくは3Ω〜500Ωである。数〜数十Ω程度の小さい抵抗を使用する際には、抵抗部での電力消費は極端に小さくなり印加電圧も数十Vまで下げることが可能になるが、一方で放電の長時間安定維持が困難になる。このような小さい抵抗を使用する場合には、コイルを組み合わせて用いることで、放電を安定化させることができ、抵抗を使用しなくても良い。 The value of the resistance is usually about 1Ω to 5kΩ, preferably 3Ω to 500Ω. When using a small resistance of several tens to several tens of ohms, the power consumption in the resistance part becomes extremely small and the applied voltage can be lowered to several tens of volts. Becomes difficult. When such a small resistance is used, the discharge can be stabilized by using a combination of coils, and it is not necessary to use a resistance.

放電部の抵抗値のふらつきに伴って、系に流れる電流は変化する。インダンクタンスが大きすぎる場合には、その時間幅に対して時定数(τ=R/L)が非常に小さくなるために、電流の変化を抑制できなくなる。一方、インダンクタンスが小さすぎる場合には、電流の変化を低減するに足る磁気エネルギー(W=(1/2)LI2)を蓄積できない。そのため、本発明で行うプラズマ誘起電解の場合では、インダクタンスが0.05μH〜100mH、好ましくは0.2μH〜10mHのものを使用するのが好ましい。また、コイルと平滑コンデンサを併用しても良い。 As the resistance value of the discharge part fluctuates, the current flowing through the system changes. When the inductance is too large, the time constant (τ = R / L) becomes very small with respect to the time width, and thus it becomes impossible to suppress a change in current. On the other hand, when the inductance is too small, magnetic energy (W = (1/2) LI 2 ) sufficient to reduce the current change cannot be stored. Therefore, in the case of the plasma induced electrolysis performed in the present invention, it is preferable to use one having an inductance of 0.05 μH to 100 mH, preferably 0.2 μH to 10 mH. A coil and a smoothing capacitor may be used in combination.

電解は通常、大気圧下で行うが、加圧下、減圧下でも可能である。また、生成粒子15の酸化等を抑制するために、電解は不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましく、不活性ガスとしては、窒素、アルゴン、ネオン等が例示でき、アルゴンが好ましい。 The electrolysis is usually performed under atmospheric pressure, but can be performed under pressure or under reduced pressure. Moreover, in order to suppress the oxidation of the generated particles 15, the electrolysis is preferably performed in an inert gas atmosphere. Examples of the inert gas include nitrogen, argon, neon, and the like, and argon is preferable.

2−3.円板上への溶融塩の供給
円板10上への溶融塩12の供給は、円板上部に設置した溶融塩浴槽13から、溶融塩浴槽下部につながる供給路17を通じて行うのが好ましい。溶融塩浴槽13は塩を溶融して保持するためのヒーター130と断熱材を有している。溶融塩12中への水分や大気等の混入を防ぐために、溶融塩浴槽13は不活性ガス雰囲気下に設置する、もしくは浴槽13内部を不活性ガス雰囲気にすることが好ましい。不活性ガスとしては、窒素、アルゴン、ネオン等が例示でき、アルゴンが好ましい。
2-3. Supply of molten salt on the disk The supply of the molten salt 12 on the disk 10 is performed from a molten salt bath 13 installed at the upper part of the disk through a supply path 17 connected to the lower part of the molten salt bath. Is preferred. The molten salt bath 13 has a heater 130 and a heat insulating material for melting and holding the salt. In order to prevent moisture, air and the like from being mixed into the molten salt 12, the molten salt bath 13 is preferably installed in an inert gas atmosphere, or the inside of the bathtub 13 is preferably set to an inert gas atmosphere. Examples of the inert gas include nitrogen, argon, neon and the like, and argon is preferable.

この溶融塩浴槽13は、円板下部に設置しても良い。この場合、連続した長時間電解を行うためには、円板上に溶融塩12を汲み上げる機構が必要である。また、円板下部に溶融塩浴槽13を設置し、円板自体が上下することで溶融塩12を汲み上げることもできる。この場合は、浴の汲み上げ、低回転数で円板を回転させながら一定時間の電解後、回転数を上げて微粒子15を含む塩12を円板外部へ移動させる、という一連の動作を断続的に行うことで、長時間の電解が可能になる。ただし円板外部へ移動した微粒子15を含む溶融塩12が、下部の溶融塩浴槽13に混入しないように注意する必要がある。 You may install this molten salt bathtub 13 in a disk lower part. In this case, in order to perform continuous electrolysis for a long time, a mechanism for pumping the molten salt 12 onto the disc is necessary. Moreover, the molten salt bath 13 can be installed in the lower part of the disk, and the molten salt 12 can be pumped by moving the disk up and down. In this case, a series of operations of intermittently pumping the bath, performing electrolysis for a certain time while rotating the disk at a low rotation speed, and moving the salt 12 containing the fine particles 15 to the outside of the disk by increasing the rotation speed are intermittent. By performing the step, electrolysis can be performed for a long time. However, care must be taken so that the molten salt 12 containing the fine particles 15 moved to the outside of the disk does not enter the molten salt bath 13 below.

溶融塩浴槽13、及び供給路17の材質は、円板10上に供給される溶融塩12中に溶解したり、溶融塩12中のイオンと反応したりすることで、これが不純物として微粒子15の形成に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されないが、セラミックス(Al2O3、SiO2等)、あるいは生成する微粒子15の成分と同じ、もしくは微粒子成分の一部の金属元素からなるものを用いるのが好ましく、ステンレス等を構造材として、その内部にセラミックスコーティングを施しても良い。 The material of the molten salt bath 13 and the supply path 17 is dissolved in the molten salt 12 supplied on the disk 10 or reacts with ions in the molten salt 12. Although it is not particularly limited as long as it does not adversely affect the formation, ceramics (Al 2 O 3 , SiO 2, etc.), or those made of the same or a part of the metal component of the fine particles 15 are used. Preferably, stainless steel or the like is used as a structural material, and ceramic coating may be applied to the inside.

供給路17の内径についても特に制限は無いが、一例として0.05〜10mm、好ましくは0.5〜5mmであれば良い。また、供給路17における前記の内径を有する箇所については、供給路全体にわたって同一径である必要はなく、流路の一部に前記の径の孔を有するスペーサー等を設置しても良い。この場合、所望する微粒子15の径や成分、生産速度によって供給路17の内径を最適化する必要がある際に、共通の流路を用いることができるので都合が良い。また、上記の径の供給路17と同等の流速が得られる多孔質のスペーサーを用いてもよい。 Although there is no restriction | limiting in particular also about the internal diameter of the supply path 17, 0.05-10 mm as an example, Preferably it should just be 0.5-5 mm. Moreover, about the location which has the said internal diameter in the supply path 17, it is not necessary to have the same diameter over the whole supply path, and the spacer etc. which have the hole of the said diameter may be installed in a part of flow path. In this case, when it is necessary to optimize the inner diameter of the supply path 17 according to the desired diameter and composition of the fine particles 15 and the production rate, it is convenient because a common flow path can be used. Moreover, you may use the porous spacer from which the flow velocity equivalent to the supply path 17 of said diameter is obtained.

また、この供給路17の下端は、回転円板10の中心付近に、回転円板に固定せず、回転円板上の溶融塩12に接触するように設置するのが好ましいが、この供給路17下端は回転円板10自体に固定されていても良く、設置位置も回転円板10の中心ではなく、偏心した位置に設置しても良い。また、供給路17下端が回転円板10上の溶融塩12に接触しないような、さらに上部に設置して、液滴状に溶融塩12を供給しても良い。 Further, the lower end of the supply path 17 is preferably installed near the center of the rotating disk 10 so as not to be fixed to the rotating disk but in contact with the molten salt 12 on the rotating disk. The lower end of 17 may be fixed to the rotating disk 10 itself, and the installation position may not be the center of the rotating disk 10 but may be installed at an eccentric position. Further, the molten salt 12 may be supplied in the form of droplets by being installed further above the lower end of the supply path 17 so as not to contact the molten salt 12 on the rotating disk 10.

プラズマ誘起電解において使用する溶融塩12浴(電解浴)としては、一般に溶融塩電解において使用する浴が使用できる。例えば、アルカリ金属のハロゲン化物、アルカリ土類金属のハロゲン化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩、アルカリ金属硫酸塩、アルカリ土類金属硫酸塩、アルカリ金属硝酸塩、アルカリ土類金属硝酸塩などを、単独で又は2種以上組み合わせて得られる溶融塩を、電解浴の溶媒として使用するのが好ましい。 As the molten salt 12 bath (electrolytic bath) used in plasma-induced electrolysis, a bath generally used in molten salt electrolysis can be used. For example, alkali metal halide, alkaline earth metal halide, alkali metal carbonate, alkaline earth metal carbonate, alkali metal sulfate, alkaline earth metal sulfate, alkali metal nitrate, alkaline earth metal nitrate, etc. It is preferable to use a molten salt obtained by singly or in combination of two or more as a solvent for an electrolytic bath.

アルカリ金属のハロゲン化物としては、LiF、NaF、KF、RbF、CsF、LiCl、NaCl、KCl、RbCl、CsCl、LiBr、NaBr、KBr、RbBr、CsBr、LiI、NaI、KI、RbI、CsI等が使用でき、アルカリ土類金属のハロゲン化物としては、MgF2、CaF2、SrF2、BaF2、MgCl2、CaCl2、SrCl2、BaCl2、MgBr2、CaBr2、SrBr2、BaBr2、MgI2、CaI2、SrI2、BaI2等が使用できる。上記化合物は単独で使用することもできるし、二種以上を組み合わせて使用することもできる。これらの化合物の組み合わせ、組み合わせる化合物の数、混合比等も限定されず、所望する微粒子15の成分、種類等に応じて適宜選択することができる。 As alkali metal halides, LiF, NaF, KF, RbF, CsF, LiCl, NaCl, KCl, RbCl, CsCl, LiBr, NaBr, KBr, RbBr, CsBr, LiI, NaI, KI, RbI, CsI, etc. are used. can, halides of alkaline earth metals, MgF 2, CaF 2, SrF 2, BaF 2, MgCl 2, CaCl 2, SrCl 2, BaCl 2, MgBr 2, CaBr 2, SrBr 2, BaBr 2, MgI 2 , CaI 2 , SrI 2 , BaI 2 and the like can be used. The said compound can also be used independently and can also be used in combination of 2 or more type. The combination of these compounds, the number of compounds to be combined, the mixing ratio, and the like are not limited, and can be appropriately selected according to the desired components, types, and the like of the fine particles 15.

このような溶媒中に、金属微粒子の原料となる金属化合物等を溶解し、プラズマ誘起電解を行うことにより、金属微粒子15を得ることができる。 The metal fine particles 15 can be obtained by dissolving a metal compound or the like as a raw material for the metal fine particles in such a solvent and performing plasma-induced electrolysis.

金属元素含有原料は、製造目的の金属微粒子又は金属化合物微粒子の原料であり、電解浴中でイオンとして存在する。使用する金属元素含有原料の金属の種類が一種の場合は、単一の金属原子からなる金属微粒子15を得ることができ、使用する金属元素含有原料の金属の種類が二種以上の場合は、合金の(複数の金属からなる)金属微粒子15を得ることもできる。したがって、金属微粒子15には合金微粒子も包含される。 The metal element-containing raw material is a raw material of metal fine particles or metal compound fine particles for production purpose, and exists as ions in the electrolytic bath. When the metal type of the metal element-containing raw material to be used is one kind, the metal fine particles 15 made of a single metal atom can be obtained, and when the metal element-containing raw material to be used is two or more kinds, It is also possible to obtain metal fine particles 15 (consisting of a plurality of metals) of an alloy. Therefore, the metal fine particles 15 include alloy fine particles.

なお、陽極に金属微粒子15の原料となる金属又は金属化合物を含有させている場合には、陽極11が金属元素含有原料となるため、溶融塩12への金属元素含有原料の添加は任意となる。 In addition, when the metal or metal compound used as the raw material of the metal microparticle 15 is contained in the anode, since the anode 11 becomes the metal element-containing raw material, the addition of the metal element-containing raw material to the molten salt 12 is optional. .

金属元素含有原料は金属の酸化物(チタンの酸化物としては、TiO、TiO2、Ti2O3等;ジルコニウムの酸化物としては、ZrO2等;バナジウムの酸化物としては、VO、VO2、V2O3、V2O4、V3O5等;ニオブの酸化物としては、NbO、NbO2、Nb2O5等;タンタルの酸化物としてはTaO、Ta2O5等;モリブデンの酸化物としてはMoO2、MoO3等;タングステンの酸化物としてはWO2、WO3等;クロムの酸化物としては、CrO、CrO2、Cr2O3等;白金の酸化物としてはPtO、Pt3O4、PtO2等;コバルトの酸化物としては、CoO、Co3O4等;ニッケルの酸化物としては、NiO、Ni1-xO(0.003<x<0.17);ケイ素の酸化物としてはSiO、SiO2 等)、金属の硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩、ハロゲン化物(塩化物、フッ化物、臭化物、ヨウ化物等)等が使用できる。 The metal element-containing raw material is a metal oxide (as titanium oxide, TiO, TiO 2 , Ti 2 O 3 etc .; as zirconium oxide, ZrO 2 etc .; as vanadium oxide, VO, VO 2 , V 2 O 3 , V 2 O 4 , V 3 O 5, etc .; niobium oxides such as NbO, NbO 2 , Nb 2 O 5, etc .; tantalum oxides such as TaO, Ta 2 O 5, etc .; molybdenum As oxides of MoO 2 , MoO 3 etc .; as tungsten oxides WO 2 , WO 3 etc .; as chromium oxides CrO, CrO 2 , Cr 2 O 3 etc .; as platinum oxides PtO , Pt 3 O 4 , PtO 2 and the like; CoO as the cobalt oxide, Co 3 O 4, etc .; NiO as the oxide of nickel, Ni 1-x O (0.003 <x <0.17); oxidation of silicon Examples of such materials include SiO, SiO 2 , metal sulfates, nitrates, phosphates, halides (chlorides, fluorides, bromides, iodides, etc.).

上述した金属元素含有原料を溶融塩12浴に添加する量は限定されず、電解時間、微粒子の量及び大きさに応じて適宜選択することができる。例えば、電解浴の溶媒量に対する金属元素含有原料が0.0001〜20mol/L程度、好ましくは0.1〜5.0mol/L程度となるように溶解させればよい。 The amount of the metal element-containing raw material added to the molten salt 12 bath is not limited, and can be appropriately selected according to the electrolysis time and the amount and size of the fine particles. For example, the metal element-containing material relative to the amount of solvent in the electrolytic bath may be dissolved so as to be about 0.0001 to 20 mol / L, preferably about 0.1 to 5.0 mol / L.

供給する溶融塩12の温度も限定されず、溶媒の融点、イオン源の融点等に応じて適宜選択することができる。供給する溶融塩12が上記流路内で固化しないように、流路外部に断熱材や補助的なヒーター等の熱源を設置しても良い。逆に、空冷等による冷却部を設置しても良く、この場合、流路内の溶融塩12を積極的に固化させることにより、固化した塩自体がバルブの役割を担うことができる。 The temperature of the molten salt 12 to be supplied is not limited, and can be appropriately selected according to the melting point of the solvent, the melting point of the ion source, and the like. A heat source such as a heat insulating material or an auxiliary heater may be installed outside the flow path so that the supplied molten salt 12 does not solidify in the flow path. On the contrary, a cooling part by air cooling or the like may be installed. In this case, the solidified salt itself can serve as a valve by positively solidifying the molten salt 12 in the flow path.

2−4.対極
本発明での対極14は、円板10上に供給される溶融塩12に接触させて使用することから、回転円板10の中心部の溶融塩供給路17下部付近に設置する。溶融塩浴槽内の溶融塩12と円板10上の溶融塩12が常につながっている場合には、溶融塩浴槽内に対極14を設置することもできる。
2-4. Counter electrode The counter electrode 14 according to the present invention is used in contact with the molten salt 12 supplied on the disk 10, so that it is installed near the lower part of the molten salt supply path 17 in the center of the rotating disk 10. To do. When the molten salt 12 in the molten salt bath and the molten salt 12 on the disc 10 are always connected, the counter electrode 14 can be installed in the molten salt bath.

対極としては、一般に溶融塩電解において陽極として使用する電極が使用でき、特に限定されるものではない。例えば、グラッシーカーボンやグラファイト、導電性ダイヤモンド等の炭素材料、タンタル、タングステン、モリブデン、白金等を電極として使用できる。また、タンタル、タングステン、モリブデン、白金等の金属を異種材料上に被覆形成したものも陽極として使用できる。また、使用済みの金属を陽極材料として使用することもできる。また、塩素ガスの発生を抑制することが求められる場合には、陽極に微粒子原料金属又は該金属の化合物を含有させることによって抑制できる。使用する電極14の形状、サイズ等も限定されない。 As the counter electrode, an electrode generally used as an anode in molten salt electrolysis can be used and is not particularly limited. For example, carbon materials such as glassy carbon, graphite, and conductive diamond, tantalum, tungsten, molybdenum, platinum, and the like can be used as electrodes. In addition, a material in which a metal such as tantalum, tungsten, molybdenum, or platinum is coated on a different material can be used as the anode. Moreover, a used metal can also be used as an anode material. Moreover, when it is calculated | required that generation | occurrence | production of chlorine gas is calculated | required, it can suppress by making a fine particle raw material metal or the compound of this metal contain in an anode. The shape, size, etc. of the electrode 14 to be used are not limited.

特に陰極放電を行う場合には、目的とする微粒子15の成分と同じ、もしくは微粒子成分の一部の金属元素からなるものを対極(陽極)14として用いるのが好ましい。この場合、上記の溶融塩供給路17の下部に籠状の導電性陽極材ホルダー140を設置し、この中に陽極として働く上記成分の金属141を保持する(図2参照)。ホルダー140内に保持した金属141が流路から供給される溶融塩12に接触していれば、対極(陽極)として機能するため、陽極全体が浸漬されていても一部分が浸漬されていてもよく、溶融塩浴槽内に設置しても良い。 In particular, in the case of performing cathode discharge, it is preferable to use, as the counter electrode (anode) 14, the same component as the target component of the fine particles 15 or a part of the metal component of the fine particle component. In this case, a bowl-shaped conductive anode material holder 140 is installed in the lower part of the molten salt supply path 17, and the metal 141 of the above-described component that functions as an anode is held therein (see FIG. 2). As long as the metal 141 held in the holder 140 is in contact with the molten salt 12 supplied from the flow path, it functions as a counter electrode (anode). Therefore, the entire anode or a part thereof may be immersed. You may install in a molten salt bath.

これにより、使用済みの金属等を陽極材料として使用し易くなる。導電性陽極材ホルダー140の材質としては、例えば、グラッシーカーボンやグラファイト、導電性ダイヤモンド等の炭素材料、タンタル、タングステン、モリブデン、白金等を使用できる。 Thereby, it becomes easy to use a used metal etc. as an anode material. As a material of the conductive anode material holder 140, for example, a carbon material such as glassy carbon, graphite, conductive diamond, tantalum, tungsten, molybdenum, platinum, or the like can be used.

2−5.回収部
円板10上で生成した微粒子15を含む溶融塩12は、円板10の回転による遠心力により円板外部へ移動させて、捕集器16で回収する。捕集器16の形状やサイズは、円板10外部へ移動した溶融塩12を捕獲できるものであれば特に制限は無い。材質についても、捕集された塩12と反応したりすることで、これが不純物として微粒子15の形成に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されないが、セラミックス(Al2O3、SiO2等)や、ステンレス等の金属製のものが好ましい。
2-5. Recovery part The molten salt 12 containing the fine particles 15 generated on the disk 10 is moved to the outside of the disk by centrifugal force due to the rotation of the disk 10 and recovered by the collector 16. The shape and size of the collector 16 are not particularly limited as long as the molten salt 12 moved to the outside of the disk 10 can be captured. The material is not particularly limited as long as it does not adversely affect the formation of the fine particles 15 as impurities by reacting with the collected salt 12, but ceramics (Al 2 O 3 , SiO 2 etc.), Metals such as stainless steel are preferred.

捕集された微粒子15を含む溶融塩12は、該溶融塩中での微粒子の成長や二次凝集を抑制するために、即座に固化させるのが好ましい。従って、捕集器16は水冷、空冷等により、使用する溶融塩12の融点以下に保持されているのが好ましく、融点の50℃以下、好ましくは100℃以下に冷却されていれば良い。 The molten salt 12 containing the collected fine particles 15 is preferably immediately solidified in order to suppress the growth and secondary aggregation of the fine particles in the molten salt. Therefore, the collector 16 is preferably kept below the melting point of the molten salt 12 to be used by water cooling, air cooling, etc., and may be cooled to 50 ° C. or less, preferably 100 ° C. or less of the melting point.

本発明の回収方法によれば、溶融塩中に形成する微粒子を、微粒子の成長や二次凝集を抑制しつつ、連続的に回収することができ、従来の回収方法と比較して連続生産性と回収工程の効率が向上する。 According to the recovery method of the present invention, the fine particles formed in the molten salt can be continuously recovered while suppressing the growth and secondary aggregation of the fine particles, and the continuous productivity compared to the conventional recovery method. And the efficiency of the recovery process is improved.

次に、本発明の実施例について説明する。なお、本発明は、以下に示される実施例に限定されるものではなく、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で各種の変更が可能である。 Next, examples of the present invention will be described. The present invention is not limited to the examples shown below, and various modifications can be made without departing from the technical idea of the present invention.

本発明の一実施例は、特許文献2における、表層部からの回収と同等の条件で、生成直後の微粒子を連続して回収できる、単純かつ簡便な新たな方法を確立する目的でなされたものである(請求項1及び9参照)。 One embodiment of the present invention was made for the purpose of establishing a simple and simple new method capable of continuously collecting fine particles immediately after generation under the same conditions as in the recovery from the surface layer portion in Patent Document 2. (See claims 1 and 9).

従って、実施例ではAl微粒子の製造をモデルケースとして、上記の発明の詳細に基づいて、回転円板上の溶融塩にプラズマ誘起電解を行って微粒子を生成し回収した場合(実施例1)の微粒子と、回転円板を用いずに、溶融塩浴に直接プラズマ誘起電解を行って、特許文献2の回収方法の中で最も簡便かつ有効と考えられる方法により、表層部分のみを回収した場合(比較例1)の微粒子を準備した。これらを比較し、微粒子が純粋なAlであること、またその粒径が比較例1の場合と同等以上に小さく均一であることを確認した。 Therefore, in the example, the production of Al fine particles is used as a model case, and based on the details of the invention described above, the case where the fine particles are generated and recovered by performing plasma induced electrolysis on the molten salt on the rotating disk (Example 1). In the case where only the surface layer portion is recovered by a method considered to be the simplest and most effective among the recovery methods of Patent Document 2 by performing plasma-induced electrolysis directly on the molten salt bath without using fine particles and a rotating disk ( The fine particles of Comparative Example 1) were prepared. These were compared, and it was confirmed that the fine particles were pure Al, and that the particle size thereof was as small or even as that of Comparative Example 1 and was uniform.

また、本発明の他の実施例は、従来のプラズマ誘起電解では、抵抗を使用することで放電を安定に維持していたが、これを抵抗に加え、もしくは抵抗を用いずに、コイルを使用することで、放電を安定に維持することを目的になされたものである。そこで実施例2では、抵抗を使用せずに様々なインダクタンスのコイルを使用して、実際にプラズマ誘起電解を行い、放電を安定に維持できるインダクタンスの値を見出した(請求項22参照)。 In another embodiment of the present invention, in the conventional plasma-induced electrolysis, a resistor is used to stably maintain a discharge, but this is added to the resistor or a coil is used without using the resistor. By doing so, the purpose is to maintain a stable discharge. Therefore, in Example 2, the induction of electrolysis was actually performed using coils having various inductances without using resistors, and an inductance value that can maintain a stable discharge was found (see claim 22).

溶融塩として、共晶組成に混合したLiCl−KCl−CsCl(57.5:13.3:29.2mol%)を数日間200℃で真空乾燥させた後、アルゴン雰囲気中300℃で溶融させたものを用い、溶融塩中のアルミニウムイオン濃度が0.2mol%となるよう調整して、回転円板上に浴厚み2mm程度になるよう薄く保持した。 As a molten salt, LiCl-KCl-CsCl (57.5: 13.3: 29.2mol%) mixed in the eutectic composition was vacuum dried at 200 ° C for several days and then melted at 300 ° C in an argon atmosphere. The aluminum ion concentration in the salt was adjusted to be 0.2 mol%, and the bath was kept thin on the rotating disk so that the bath thickness was about 2 mm.

放電極としてタングステン棒を円板上部に配置した。使用した円板は70mm径のアルミニウム製であり、円板自体を対極として使用することで、消費したアルミニウムイオンを円板から供給した。放電極と溶融塩を保持した円板との間に150Vを印加し、放電極と溶融塩との間にプラズマを誘起させて放電を行った。放電を行う際には円板を25rpmで回転させ、1Aで1分間の放電実施後、回転数を上げることで円板上の微粒子を含む溶融塩を円板外部に移動させ、速やかに冷却固化させて回収した。 A tungsten rod was placed on the top of the disc as the discharge electrode. The disc used was made of 70 mm diameter aluminum, and consumed aluminum ions were supplied from the disc by using the disc itself as a counter electrode. 150 V was applied between the discharge electrode and the disc holding the molten salt, and plasma was induced between the discharge electrode and the molten salt to discharge. When discharging, the disk is rotated at 25 rpm, and after discharging for 1 minute at 1 A, the rotational speed is increased to move the molten salt containing the fine particles on the disk to the outside of the disk for rapid cooling and solidification. And recovered.

回収した微粒子を含む塩は、脱酸素水での塩の溶解洗浄とフィルターによるろ過(共に一回ずつ)を行って、生成微粒子を得た。 The salt containing the collected fine particles was subjected to dissolution washing of the salt with deoxygenated water and filtration with a filter (both once) to obtain produced fine particles.

比較例1Comparative Example 1

溶融塩として、実施例1と同様の、0.2mol%のアルミニウムイオンを含むLiCl−KCl−CsClを用い、これをアルゴン雰囲気の坩堝に300℃で保持した。この溶融塩表層部に対し、実施例1と同じく1Aで1分間の放電を行った後、浴表層部のみを、冷却したパイレックス板を接触させることで冷却固化させて回収し、実施例1と同じ洗浄工程を経て、生成微粒子を得た。なお、回収後の坩堝内の溶融塩浴中には、冷却固化により回収できなかった粒子の存在が目視により確認された。 As the molten salt, LiCl—KCl—CsCl containing 0.2 mol% of aluminum ions as in Example 1 was used, and this was held at 300 ° C. in a crucible in an argon atmosphere. After discharging the surface of the molten salt layer for 1 minute at 1A in the same manner as in Example 1, only the bath surface layer was cooled and solidified by bringing it into contact with a cooled Pyrex plate. Through the same washing process, produced fine particles were obtained. In the molten salt bath in the crucible after recovery, the presence of particles that could not be recovered by cooling and solidification was visually confirmed.

回収された微粒子をSEMにより観察した結果、回転円板を用いた場合(実施例1)の粒子は、粒子径30〜50nm程度の非常に粒径の揃ったナノ粒子であり、二次凝集もほとんど見られなかった(図3A,B参照)。XRDにより回収粒子を分析した結果、生成微粒子はAlであり、酸化物等の存在は確認されなかった(図4参照)。 As a result of observing the collected fine particles by SEM, the particles in the case of using a rotating disk (Example 1) are nanoparticles having a particle size of about 30 to 50 nm and having a very uniform particle size, and secondary aggregation is also caused. It was hardly seen (see FIGS. 3A and 3B). As a result of analyzing the recovered particles by XRD, the generated fine particles were Al, and the presence of oxide or the like was not confirmed (see FIG. 4).

一方、回転円板を用いずに表層部から回収した微粒子は、粒径は小さいものの100〜200nm程度であり、回転円板を用いた場合と比べると一部凝集している様子が確認された(図3C,D参照)。この結果より、回転円板を用いた本発明の有効性が確認された。 On the other hand, the fine particles collected from the surface layer without using the rotating disk were about 100 to 200 nm although the particle size was small, and it was confirmed that the particles were partially agglomerated compared with the case using the rotating disk. (See FIGS. 3C and D). From this result, the effectiveness of the present invention using a rotating disk was confirmed.

溶融塩として、共晶組成に混合したLiCl−KCl−CsCl(57.5:13.3:29.2mol%)を数日間200℃で真空乾燥させた後、アルゴン雰囲気中300℃で溶融させたものを用いた。溶融塩中にはニッケルイオンを添加し、濃度が0.1mol%となるよう調整した。放電極と溶融塩を保持した円板との間に150〜250Vを印加し、放電極と溶融塩との間にプラズマを誘起させた後、電圧を20〜35V程度に下げて放電を行った。 As the molten salt, LiCl—KCl—CsCl (57.5: 13.3: 29.2 mol%) mixed in the eutectic composition was vacuum dried at 200 ° C. for several days and then melted at 300 ° C. in an argon atmosphere. Nickel ions were added to the molten salt to adjust the concentration to 0.1 mol%. 150 to 250 V was applied between the discharge electrode and the disc holding the molten salt, plasma was induced between the discharge electrode and the molten salt, and then the voltage was lowered to about 20 to 35 V to discharge. .

系に使用したコイルのインダクタンスと、電圧を下げた以降の放電維持時間(最長で5分に設定)を調べた結果を表1に示す。

Figure 2008106309
Table 1 shows the results of examining the inductance of the coil used in the system and the discharge sustaining time (set to 5 minutes at the longest) after the voltage was lowered.
Figure 2008106309

コイルを使用しない場合には、印加電圧低下後、放電維持することは困難であり、数秒間の維持が限界であった。一方、系にコイルを挿入することで、比較的広いインダクタンスの領域で放電を長時間維持できることが分かった。 When the coil was not used, it was difficult to maintain the discharge after the applied voltage was lowered, and the maintenance for several seconds was the limit. On the other hand, it was found that the discharge can be maintained for a long time in a relatively wide inductance region by inserting the coil into the system.

本発明により製造される微粒子は、付着した塩を洗浄等により除去した後に、コンデンサ材料や電極触媒、光触媒、研磨剤、磁性粉体、顔料、塗料等に利用できる。 The fine particles produced according to the present invention can be used for capacitor materials, electrode catalysts, photocatalysts, abrasives, magnetic powders, pigments, paints, etc. after the attached salt is removed by washing or the like.

回転円板上の溶融塩にプラズマ照射を行い微粒子を製造するための本発明による装置の概要図(a)およびその断面図(b)である。FIG. 2 is a schematic view (a) and a cross-sectional view (b) of an apparatus according to the present invention for producing fine particles by irradiating a molten salt on a rotating disk with plasma. 図1に示された装置の他の実施例を部分的に拡大した断面図である。FIG. 2 is a partially enlarged cross-sectional view of another embodiment of the apparatus shown in FIG. 図3は、本発明の装置により製造されたAl微粒子のSEM写真(A),(B)、および比較例として回転円板を用いないで製造されたAl微粒子のSEM写真(C),(D)である(写真A,C:×50,000、写真B,D:×100,000)。FIG. 3 shows SEM photographs (A) and (B) of Al fine particles produced by the apparatus of the present invention, and SEM photographs (C) and (D) of Al fine particles produced without using a rotating disk as a comparative example. (Photo A, C: × 50,000, Photo B, D: × 100,000). 図4は、本発明の装置により製造されたAl微粒子をXRDにより分析した結果を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing the results of analyzing Al fine particles produced by the apparatus of the present invention by XRD.

符号の説明Explanation of symbols

1 ・・・・微粒子製造装置
10・・・・回転円板
11・・・・放電極
12・・・・溶融塩
13・・・・溶融塩浴槽
14・・・・対極
15・・・・微粒子
16・・・・捕集容器
17・・・・供給路
100・・・モーター
130・・・ヒーター
140・・・陽極材ホルダー
141・・・金属廃材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Fine particle manufacturing apparatus 10 ... Rotating disc 11 ... Discharge electrode 12 ... Molten salt 13 ... Molten salt bath 14 ... Counter electrode 15 ... Fine particle 16 ... Collection container 17 ... Supply path 100 ... Motor 130 ... Heater 140 ... Anode material holder 141 ... Metal waste

Claims (22)

溶融塩をプラズマ誘起電解することによって微粒子を製造する方法であって、
回転している実質的に平坦な面上に保持された溶融塩浴表面に対しプラズマ照射を行うことによって微粒子を生成させ、かつ、遠心力により生成された微粒子を溶融塩浴外へ移動させることを特徴とする前記製造方法。
A method for producing fine particles by plasma-induced electrolysis of a molten salt,
Fine particles are generated by irradiating the molten salt bath surface held on a rotating substantially flat surface with plasma, and the fine particles generated by centrifugal force are moved out of the molten salt bath. Said manufacturing method characterized by these.
前記微粒子の製造は、不活性ガス雰囲気下で行われることを特徴とする請求項1に記載の製造方法。   The production method according to claim 1, wherein the production of the fine particles is performed in an inert gas atmosphere. 前記微粒子の粒子径は、前記面の回転数により制御されることを特徴とする請求項1又は2に記載の製造方法。   The method according to claim 1 or 2, wherein the particle diameter of the fine particles is controlled by the number of rotations of the surface. 前記面は、前記溶融塩浴の厚みを実質的に0.01mm〜5mmに保持するように回転制御されることを特徴とする請求項1又は2に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 1, wherein the surface is rotationally controlled so as to keep the thickness of the molten salt bath substantially 0.01 mm to 5 mm. 前記面は、外部加熱手段により所定の温度に加熱されていることを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 1, wherein the surface is heated to a predetermined temperature by an external heating unit. 陰極放電において消費される金属イオンを連続して溶融塩浴中に供給するために、対極である陽極は生成される微粒子金属成分を含んでいることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の製造方法。   6. The anode as a counter electrode contains a fine metal component to be produced in order to continuously supply metal ions consumed in the cathode discharge into the molten salt bath. The manufacturing method as described in. 陽極放電において金属化合物の微粒子を生成するために、放電極である陽極は生成される金属化合物の金属成分を含んでおり、その対イオンは溶融塩に含まれていることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の製造方法。   The anode as a discharge electrode contains a metal component of the metal compound to be produced in order to produce fine particles of the metal compound in the anodic discharge, and the counter ion is contained in the molten salt. 6. The production method according to any one of 1 to 5. 溶融塩浴外へ移動させられた前記微粒子を含む溶融塩は、外部冷却手段により該溶融塩の融点以下に冷却されるステップをさらに含むことを特徴とする請求項1ないし7のいずれかに記載の製造方法。   The molten salt containing the fine particles moved out of the molten salt bath is further cooled by an external cooling means to a melting point or lower of the molten salt. Manufacturing method. 溶融塩を供給するための供給手段と、
前記供給された溶融塩を回転可能な実質的に平坦な面上に保持するための保持手段と、
保持された溶融塩浴表面に対してプラズマ照射を行うための放電極および対極を含む電極と、そして
プラズマ照射により生成された微粒子を、前記保持手段の回転により発生される遠心力により溶融塩浴外へ移動させるための回転駆動手段と、
からなる溶融塩をプラズマ誘起電解することにより微粒子を製造するための装置。
Supply means for supplying molten salt;
Holding means for holding the supplied molten salt on a rotatable substantially flat surface;
An electrode including a discharge electrode and a counter electrode for performing plasma irradiation on the surface of the held molten salt bath, and fine particles generated by the plasma irradiation are melted by a centrifugal force generated by the rotation of the holding means. Rotational drive means for moving outwards;
An apparatus for producing fine particles by plasma-induced electrolysis of a molten salt comprising:
前記供給手段の溶融塩供給口は、前記保持手段の回転軸上に配置されていることを特徴とする請求項9に記載の装置。   The apparatus according to claim 9, wherein the molten salt supply port of the supply unit is disposed on a rotation shaft of the holding unit. 前記供給手段は、溶融塩の温度を保持するための外部加熱手段をさらに備えていることを特徴とする請求項9又は10に記載の装置。   The apparatus according to claim 9 or 10, wherein the supply means further includes an external heating means for maintaining the temperature of the molten salt. 前記保持手段は、円板状若しくは外周部に実質的に円形の溶融塩浴を形成するためのリング状の堰を備えていることを特徴とする請求項9ないし11のいずれかに記載の装置。   12. The apparatus according to claim 9, wherein the holding means includes a disk-shaped or ring-shaped weir for forming a substantially circular molten salt bath on the outer periphery. . 前記保持手段は、前記溶融塩浴の厚みを実質的に一定に保持するように回転軸に向かって下向きに傾斜している円錐面を備えていることを特徴とする請求項9ないし11のいずれかに記載の装置。   The said holding | maintenance means is provided with the conical surface which inclines downward toward the rotating shaft so that the thickness of the said molten salt bath may be hold | maintained substantially constant. A device according to the above. 前記保持手段は、溶融塩の温度を保持するための外部加熱手段をさらに備えていることを特徴とする請求項9ないし13のいずれかに記載の装置。   The apparatus according to any one of claims 9 to 13, wherein the holding means further includes an external heating means for holding the temperature of the molten salt. 前記放電極は、前記保持手段の回転軸外に配置されていることを特徴とする請求項9ないし14のいずれかに記載の装置。   15. The apparatus according to claim 9, wherein the discharge electrode is disposed outside a rotation axis of the holding means. 前記対極は、前記保持手段の回転軸上に配置されていることを特徴とする請求項9ないし15のいずれかに記載の装置。   The apparatus according to claim 9, wherein the counter electrode is disposed on a rotation axis of the holding unit. 前記対極は、少なくともその一部が溶融塩浴と接触していることを特徴とする請求項9ないし16のいずれかに記載の装置。   The apparatus according to claim 9, wherein at least a part of the counter electrode is in contact with a molten salt bath. 陰極放電において、前記対極である陽極は生成される微粒子金属成分を含んでいることを特徴とする請求項9ないし17のいずれかに記載の装置。   The device according to claim 9, wherein in the cathode discharge, the anode as the counter electrode contains a fine particle metal component to be generated. 前記対極である陽極は、金属スクラップホルダーをさらに備えていることを特徴とする請求項18に記載の装置。   The apparatus of claim 18, wherein the anode as the counter electrode further comprises a metal scrap holder. 陽極放電において、前記放電極である陽極は生成される微粒子金属成分を含んでいることを特徴とする請求項9ないし17のいずれかに記載の装置。   The apparatus according to claim 9, wherein an anode as the discharge electrode contains a fine metal component to be generated in an anodic discharge. 前記装置は、溶融塩浴外へ移動させられた前記微粒子を含む溶融塩を該溶融塩の融点以下に冷却するための外部冷却手段をさらに含むことを特徴とする請求項9ないし20のいずれかに記載の装置。   21. The apparatus according to claim 9, further comprising an external cooling means for cooling the molten salt containing the fine particles moved out of the molten salt bath to a temperature below the melting point of the molten salt. The device described in 1. 前記装置は、前記放電極または対極の少なくとも1つの電極と電源とを結ぶ回路の間に、放電を安定化させるためのコイルが配置されていることを特徴とする請求項9ないし21のいずれかに記載の装置。   The device according to any one of claims 9 to 21, wherein a coil for stabilizing discharge is disposed between a circuit connecting at least one electrode of the discharge electrode or the counter electrode and a power source. The device described in 1.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014206746A1 (en) * 2013-06-24 2014-12-31 Siemens Aktiengesellschaft Device for reducing a metal ion from a salt melt
JP2016191153A (en) * 2010-11-02 2016-11-10 学校法人同志社 Silicon nanoparticle production method
RU2802608C1 (en) * 2022-06-23 2023-08-30 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Казанский национальный исследовательский технический университет им. А.Н. Туполева - КАИ" Method of plasma-liquid production of metal powders from 3d printing products

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5531436A (en) * 1978-08-29 1980-03-05 Sato Gijutsu Kenkyusho:Kk Production of fiber or globular particle having specific size from fused material and rotator therefor
JPS56151693U (en) * 1980-04-10 1981-11-13
JP2004006230A (en) * 1992-12-30 2004-01-08 Advanced Energ Ind Inc Enhanced dc plasma processing system
WO2005111272A1 (en) * 2004-04-06 2005-11-24 Iox Co., Ltd. Process for producing microparticles by plasma-induced electrolysis

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5531436A (en) * 1978-08-29 1980-03-05 Sato Gijutsu Kenkyusho:Kk Production of fiber or globular particle having specific size from fused material and rotator therefor
JPS56151693U (en) * 1980-04-10 1981-11-13
JP2004006230A (en) * 1992-12-30 2004-01-08 Advanced Energ Ind Inc Enhanced dc plasma processing system
WO2005111272A1 (en) * 2004-04-06 2005-11-24 Iox Co., Ltd. Process for producing microparticles by plasma-induced electrolysis

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016191153A (en) * 2010-11-02 2016-11-10 学校法人同志社 Silicon nanoparticle production method
JP2018135602A (en) * 2010-11-02 2018-08-30 学校法人同志社 Method for manufacturing silicon nanoparticle
WO2014206746A1 (en) * 2013-06-24 2014-12-31 Siemens Aktiengesellschaft Device for reducing a metal ion from a salt melt
RU2802608C1 (en) * 2022-06-23 2023-08-30 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Казанский национальный исследовательский технический университет им. А.Н. Туполева - КАИ" Method of plasma-liquid production of metal powders from 3d printing products

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