JP2008106036A - Polymerizable fluorine-containing compound, antireflective membrane using the same, antireflective film, image display device, fluorine-containing alcohol for polyurethane and composition containing the same - Google Patents

Polymerizable fluorine-containing compound, antireflective membrane using the same, antireflective film, image display device, fluorine-containing alcohol for polyurethane and composition containing the same Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polymerizable fluorine-containing compound which can be suitably used for forming a polymer having a low reflective index and high hardness, and being stable to external stimulation such as pollution and shear. <P>SOLUTION: The polymerizable fluorine-containing compound is represented by general formula (I) (wherein, Rf<SB>1</SB>and Rf<SB>2</SB>contain at least a carbon atom and a fluorine atom, and may contain an oxygen atom and/or a hydrogen atom). The fluorine content is ≥35 mass% of the molecular weight of the fluorine-containing compound, and the calculated values of molecular weights between crosslinks of the polymer prepared by the polymerization thereof are each ≤300. The fluorine-containing alcohol is also represented by general formulas (II) or (III). <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、重合性含フッ素化合物、それを用いた反射防止膜、反射防止フィルムおよび画像表示装置に関する。さらに詳しくは、耐擦傷性に優れた低屈折率層の形成に適した重合性含フッ素化合物、それを用いた反射防止膜、反射防止フィルムおよび画像表示装置に関する。また、本発明は、硬化後の耐擦傷性に優れた撥水性ポリウレタン用組成物に関する。   The present invention relates to a polymerizable fluorine-containing compound, an antireflection film, an antireflection film and an image display device using the same. More specifically, the present invention relates to a polymerizable fluorine-containing compound suitable for forming a low refractive index layer excellent in scratch resistance, an antireflection film, an antireflection film and an image display device using the same. The present invention also relates to a composition for water-repellent polyurethane having excellent scratch resistance after curing.

含フッ素多官能モノマーは、ポリマーの架橋剤として用いることにより、または、そのもの自身を重合させることにより、低屈折率で高硬度のポリマーを与える。このような含フッ素重合体は防汚性などにも優れ、反射防止フィルム、光ファイバーのクラッド材、塗料などの分野に使用されている。含フッ素多官能モノマーとして、これまでに、2〜4官能および6官能の含フッ素多官能(メタ)アクリル酸エステルが知られている(例えば、特許文献1〜6参照)。しかしながら、これらの含フッ素多官能モノマーは屈折率が高く、これを改善するためにフッ素含有率を上げると耐擦傷性が低下してしまう。また、従来の製造方法では重合性基導入前の含フッ素中間体合成において、所望の化合物を選択的に高収率で得ることは困難であった(特許文献7)。これに対し、液相フッ素化の手法を用いて所望の含フッ素中間体を効率的に合成し、それにより上記問題点を改善することが試みられている(特許文献8)。しかしながら、いまだ屈折率および耐擦傷性において改良の余地がある。
一方、含フッ素多官能モノマー中間体である含フッ素アルコール類の利用例として、相溶性に優れ、タックやブリードのない硬化物を与え得る、含フッ素ジオール含有ポリウレタン組成物が知られている(特許文献9)。この硬化物は、撥水性、防水性、防汚性、耐候性等に優れ、各種コーティング剤や保護剤として有用であるが、硬度が不十分で、耐擦傷性に問題があった。
特開2001−330706号公報 特開2001−262011号公報 特開2001−40249号公報 特開2000−111716号公報 特開平11−60637号公報 特開平10−182746号公報 特開昭63−265920号公報 特開2006−28280号公報 特開平7−316500号公報
The fluorine-containing polyfunctional monomer gives a polymer having a low refractive index and a high hardness by using it as a polymer crosslinking agent or by polymerizing itself. Such fluoropolymers are excellent in antifouling properties and are used in fields such as antireflection films, optical fiber cladding materials and paints. As fluorine-containing polyfunctional monomers, 2 to 4 and 6 functional fluorine-containing polyfunctional (meth) acrylic acid esters have been known so far (see, for example, Patent Documents 1 to 6). However, these fluorine-containing polyfunctional monomers have a high refractive index, and if the fluorine content is increased to improve the refractive index, the scratch resistance is lowered. Further, in the conventional production method, it has been difficult to selectively obtain a desired compound in a high yield in the synthesis of a fluorine-containing intermediate before introducing a polymerizable group (Patent Document 7). On the other hand, an attempt has been made to efficiently synthesize a desired fluorine-containing intermediate using a liquid phase fluorination technique, thereby improving the above problems (Patent Document 8). However, there is still room for improvement in refractive index and scratch resistance.
On the other hand, a fluorine-containing diol-containing polyurethane composition that is excellent in compatibility and can give a cured product free of tack or bleed is known as an example of use of a fluorine-containing alcohol that is a fluorine-containing polyfunctional monomer intermediate (patent) Reference 9). This cured product is excellent in water repellency, waterproofness, antifouling property, weather resistance and the like and is useful as various coating agents and protective agents, but has insufficient hardness and has a problem in scratch resistance.
JP 2001-330706 A JP 2001-262011 A JP 2001-40249 A JP 2000-1111716 A Japanese Patent Laid-Open No. 11-60637 Japanese Patent Laid-Open No. 10-182746 JP-A 63-265920 JP 2006-28280 A JP 7-316500 A

本発明は、低屈折率で高い硬度を有し、且つ、汚染や剪断といった外的刺激に対して安定なポリマーを与える重合性含フッ素化合物の提供を目的とする。また、本発明は、上記の重合性含フッ素化合物を用いた、反射率が低く、高硬度で、耐擦傷性に優れる低屈折率層を有する、大量生産に適した塗布型の反射防止膜、反射防止フィルム、及び画像表示装置の提供を目的とする。さらに、本発明は、相溶性に優れ、タックやブリードがなく、耐擦傷性に優れた硬化物を与え得るポリウレタン組成物に適した多官能含フッ素アルコールおよびそれを含有したポリウレタン組成物の提供を目的とする。   An object of the present invention is to provide a polymerizable fluorine-containing compound which has a low refractive index and a high hardness and gives a polymer which is stable against external stimuli such as contamination and shearing. Further, the present invention is a coating-type antireflection film suitable for mass production, having a low refractive index layer having a low reflectance, high hardness, and excellent scratch resistance, using the polymerizable fluorine-containing compound described above. An object is to provide an antireflection film and an image display device. Furthermore, the present invention provides a polyfunctional fluorine-containing alcohol suitable for a polyurethane composition excellent in compatibility, free of tack and bleed, and capable of giving a cured product excellent in scratch resistance, and a polyurethane composition containing the same. Objective.

前記課題を解決する手段は以下の通りである。
(1)下記一般式(I)で表される重合性含フッ素化合物であって、フッ素含有率が該含フッ素化合物の分子量について35質量%以上であり、該化合物を重合させたとき、重合により得られる重合体の架橋間分子量の計算値がいずれも300以下となることを特徴とする重合性含フッ素化合物。
Means for solving the problems are as follows.
(1) A polymerizable fluorine-containing compound represented by the following general formula (I) having a fluorine content of 35% by mass or more with respect to the molecular weight of the fluorine-containing compound. A polymerizable fluorine-containing compound characterized in that the calculated molecular weight between crosslinks of the obtained polymer is 300 or less.

Figure 2008106036
Figure 2008106036

[式中、Rfは少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子及び/又は水素原子を含んでもよい、鎖状又は環状の、(m+n)価のフッ化炭化水素基を表す。Rfは少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子及び/又は水素原子を含んでもよい、鎖状又は環状の、1価のフッ化炭化水素基を表す。mおよびnはそれぞれ独立に、0以上の整数(ただし、m+n≧2)を表す。Qは重合性基を表す。ただし、複数のRfは同一でも異なってもよく、またnが2以上のとき、複数のQは同一でも異なってもよい。]
(2)前記一般式(I)において、Qが−COC(R)=CH、アリル基、エポキシアルキレン基、−(CHSi(OW)、−(CHNCOまたは−(CHCN(ここで、Rは水素原子、ハロゲン原子または置換基を有してよいアルキル基を表す。Wはアルコキシ基または水酸基を表す。x、yおよびzはそれぞれ1以上の整数を表す。3個のWは互いに異なってもよい。)であることを特徴とする(1)に記載の重合性含フッ素化合物。
(3)前記一般式(I)で表される化合物が、下記一般式(Ia)で表される化合物であることを特徴とする(1)または(2)に記載の重合性含フッ素化合物。
[Wherein, Rf 1 represents a linear or cyclic (m + n) -valent fluorinated hydrocarbon group containing at least a carbon atom and a fluorine atom, and may contain an oxygen atom and / or a hydrogen atom. Rf 2 represents a linear or cyclic monovalent fluorinated hydrocarbon group containing at least a carbon atom and a fluorine atom, and may contain an oxygen atom and / or a hydrogen atom. m and n each independently represents an integer of 0 or more (provided that m + n ≧ 2). Q represents a polymerizable group. However, the plurality of Rf 2 may be the same or different, and when n is 2 or more, the plurality of Q may be the same or different. ]
(2) In the general formula (I), Q is —COC (R 0 ) ═CH 2 , an allyl group, an epoxyalkylene group, — (CH 2 ) x Si (OW) 3 , — (CH 2 ) y NCO or — (CH 2 ) z CN (wherein R 0 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group which may have a substituent. W represents an alkoxy group or a hydroxyl group. X, y and z are each 1 or more. The three fluorine atoms may be different from each other.) The polymerizable fluorine-containing compound according to (1),
(3) The polymerizable fluorine-containing compound according to (1) or (2), wherein the compound represented by the general formula (I) is a compound represented by the following general formula (Ia).

Figure 2008106036
Figure 2008106036

[式中、Rf、Rf、mおよびnはそれぞれ前記一般式(I)と同義であり、Rは水素原子、フッ素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表す。]
(4)前記一般式(Ia)で表される化合物において、Rが水素原子であることを特徴とする(3)に記載の重合性含フッ素化合物。
(5)前記mが0で、前記nが3〜6の整数であることを特徴とする(1)〜(4)のいずれか1項に記載の重合性含フッ素化合物。
(6)Rfがトリフルオロメチル基であることを特徴とする(1)〜(5)のいずれか1項に記載の重合性含フッ素化合物。
(7)液相フッ素化の手法を用いて製造されたことを特徴とする(1)〜(6)のいずれか1項に記載の重合性含フッ素化合物。
(8)前記(1)〜(7)のいずれか1項に記載の重合性含フッ素化合物を少なくとも1種含有する、硬化性樹脂組成物を硬化してなる低屈折率層を有することを特徴とする反射防止膜。
(9)前記(1)〜(7)のいずれか1項に記載の重合性含フッ素化合物および無機酸化物微粒子を含有する硬化性樹脂組成物を硬化してなる低屈折率層を有することを特徴とする反射防止膜。
(10)前記無機酸化物微粒子が中空シリカ微粒子であることを特徴とする(9)に記載の反射防止膜。
(11)透明支持体上に(8)〜(10)のいずれか1項に記載の反射防止膜が設けられたことを特徴とする反射防止フィルム。
(12)前記(11)に記載の反射防止フィルムを備えたことを特徴とする画像表示装置。
(13)少なくとも(A)ポリオール化合物、(B)ポリイソシアネート化合物および(C)下記一般式(II)および/または(III)で表される含フッ素アルコールを含む撥水性ポリウレタン用組成物。
[Wherein, Rf 1 , Rf 2 , m and n each have the same meaning as in the general formula (I), and R represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group or a trifluoromethyl group. ]
(4) The polymerizable fluorine-containing compound according to (3), wherein R is a hydrogen atom in the compound represented by the general formula (Ia).
(5) The polymerizable fluorine-containing compound according to any one of (1) to (4), wherein m is 0 and n is an integer of 3 to 6.
(6) The polymerizable fluorine-containing compound according to any one of (1) to (5), wherein Rf 2 is a trifluoromethyl group.
(7) The polymerizable fluorine-containing compound according to any one of (1) to (6), which is produced using a liquid phase fluorination technique.
(8) It has a low refractive index layer formed by curing a curable resin composition containing at least one polymerizable fluorine-containing compound according to any one of (1) to (7). Antireflection film.
(9) It has a low refractive index layer formed by curing a curable resin composition containing the polymerizable fluorine-containing compound and inorganic oxide fine particles according to any one of (1) to (7). Anti-reflective film characterized.
(10) The antireflection film as described in (9), wherein the inorganic oxide fine particles are hollow silica fine particles.
(11) An antireflection film, wherein the antireflection film according to any one of (8) to (10) is provided on a transparent support.
(12) An image display device comprising the antireflection film according to (11).
(13) A composition for water-repellent polyurethane comprising at least (A) a polyol compound, (B) a polyisocyanate compound and (C) a fluorinated alcohol represented by the following general formula (II) and / or (III).

Figure 2008106036
Figure 2008106036

[式中、Rfは少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子及び/又は水素原子を含んでもよい、鎖状又は環状の、q価のフッ化炭化水素基を表す。qは2以上の整数を表す。Rfは少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子及び/又は水素原子を含んでもよい、鎖状又は環状の、1価のフッ化炭化水素基を表す。また上記式中メチロール基のヒドロキシル基の水素原子は重合性基Qで置換されていてもよく(好ましいQは前記(2)項に記載のものと同様である。)、このQを導入した化合物のフッ素含有率は該化合物の分子量について35質量%以上であり、該化合物を重合させたとき、重合により得られ重合体の架橋間分子量の計算値がいずれも300以下となる。またnが2以上のとき、複数のQは同一でも異なってもよい。]
(14)少なくとも(A)ポリオール化合物、(B)ポリイソシアネート化合物および(C)下記式(II−1)または(III−1)で表される含フッ素アルコールの少なくとも1種からなる撥水性ポリウレタン用組成物。
[Wherein, Rf 1 represents a linear or cyclic q-valent fluorinated hydrocarbon group containing at least a carbon atom and a fluorine atom, and may contain an oxygen atom and / or a hydrogen atom. q represents an integer of 2 or more. Rf 2 represents a linear or cyclic monovalent fluorinated hydrocarbon group containing at least a carbon atom and a fluorine atom, and may contain an oxygen atom and / or a hydrogen atom. In the above formula, the hydrogen atom of the hydroxyl group of the methylol group may be substituted with a polymerizable group Q (preferably Q is the same as that described in the above item (2)), and the compound into which Q is introduced. The fluorine content of the compound is 35% by mass or more with respect to the molecular weight of the compound, and when the compound is polymerized, the calculated values of the molecular weight between crosslinks of the polymer obtained by polymerization are all 300 or less. When n is 2 or more, the plurality of Qs may be the same or different. ]
(14) For water-repellent polyurethane comprising at least one of (A) a polyol compound, (B) a polyisocyanate compound and (C) a fluorinated alcohol represented by the following formula (II-1) or (III-1) Composition.

Figure 2008106036
(15)下記一般式(II)または(III)で表される含フッ素アルコール。
Figure 2008106036
(15) A fluorinated alcohol represented by the following general formula (II) or (III).

Figure 2008106036
Figure 2008106036

[式中、Rfは少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子及び/又は水素原子を含んでもよい、鎖状又は環状の、q価のフッ化炭化水素基を表す。qは2以上の整数を表す。Rfは少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子及び/又は水素原子を含んでもよい、鎖状又は環状の、1価のフッ化炭化水素基を表す。また上記式中メチロール基のヒドロキシル基の水素原子は重合性基Qで置換されていてもよく、このQを導入した化合物のフッ素含有率は該化合物の分子量について35質量%以上であり、該化合物を重合させたとき、重合により得られ重合体の架橋間分子量の計算値がいずれも300以下となる。またnが2以上のとき、複数のQは同一でも異なってもよい。]
(16)下記一般式(II−1)または(III−1)で表される含フッ素アルコール。
[Wherein, Rf 1 represents a linear or cyclic q-valent fluorinated hydrocarbon group containing at least a carbon atom and a fluorine atom, and may contain an oxygen atom and / or a hydrogen atom. q represents an integer of 2 or more. Rf 2 represents a linear or cyclic monovalent fluorinated hydrocarbon group containing at least a carbon atom and a fluorine atom, and may contain an oxygen atom and / or a hydrogen atom. In the above formula, the hydrogen atom of the hydroxyl group of the methylol group may be substituted with a polymerizable group Q, and the fluorine content of the compound into which Q is introduced is 35% by mass or more with respect to the molecular weight of the compound. When the polymer is polymerized, the calculated values of the molecular weight between crosslinks of the polymer obtained by polymerization are all 300 or less. When n is 2 or more, the plurality of Qs may be the same or different. ]
(16) A fluorinated alcohol represented by the following general formula (II-1) or (III-1).

Figure 2008106036
Figure 2008106036

本発明の重合性含フッ素化合物は、それを重合させて、低屈折率で優れた硬度を有し、且つ、耐擦傷性および防汚性等に優れる重合体とすることができる。さらに、上記の優れた重合性含フッ素化合物より得た反射防止膜及び反射防止フィルムは、反射率が低くしかも高い硬度を有し耐擦傷性に優れ、それを用いた画像表示装置は画像表示部の高い表面強度及び耐久性を有し、しかも表示面の汚染や外光の反射による表示性の低下を防止しうる。
また、本発明の多官能含フッ素アルコールを含有するポリウレタン組成物は、相溶性に優れ、タックやブリードがなく、耐擦傷性に優れた硬化物を与え、撥水性、防水性、防汚性、耐候性等に優れたコーティング剤や保護剤として利用することができる。
The polymerizable fluorine-containing compound of the present invention can be polymerized to give a polymer having a low refractive index and excellent hardness, and excellent scratch resistance and antifouling properties. Further, the antireflection film and the antireflection film obtained from the above-described excellent polymerizable fluorine-containing compound have low reflectance and high hardness and excellent scratch resistance, and an image display device using the antireflection film and antireflection film is an image display unit. In addition, the display surface can be prevented from being deteriorated due to contamination of the display surface or reflection of external light.
In addition, the polyurethane composition containing the polyfunctional fluorine-containing alcohol of the present invention is excellent in compatibility, free of tack and bleed, gives a cured product excellent in scratch resistance, water repellency, waterproofness, antifouling property, It can be used as a coating agent or protective agent excellent in weather resistance and the like.

以下、本発明について詳しく説明する。
本発明の一般式(I)で表される重合性含フッ素化合物について説明する。
The present invention will be described in detail below.
The polymerizable fluorine-containing compound represented by the general formula (I) of the present invention will be described.

Figure 2008106036
Rfは少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子及び/又は水素原子を含んでもよい、鎖状又は環状の、(m+n)価のフッ化炭化水素基であり、該化合物を重合させたとき、後述する架橋間分子量の計算値が300以下になるように選ばれたものである。また、Rfにおける水素原子数/フッ素原子数は1/4以下が好ましく、より好ましくは1/9であり、水素原子を実質的に含まないことが特に好ましい。mおよびnはそれぞれ独立に、0以上の整数であり、m+n≧2である。好ましくは、m<nでかつnは2〜10(より好ましくは3〜6の整数)の整数である。Rfの具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure 2008106036
Rf 1 is a chain or cyclic (m + n) -valent fluorinated hydrocarbon group containing at least a carbon atom and a fluorine atom, and may contain an oxygen atom and / or a hydrogen atom, and when the compound is polymerized The calculation value of the molecular weight between crosslinks described later is selected to be 300 or less. Further, the number of hydrogen atoms / number of fluorine atoms in Rf 1 is preferably ¼ or less, more preferably 1/9, and particularly preferably substantially free of hydrogen atoms. m and n are each independently an integer of 0 or more, and m + n ≧ 2. Preferably, m <n and n is an integer of 2 to 10 (more preferably an integer of 3 to 6). Specific examples of Rf 1 are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2008106036
Figure 2008106036

Rfは少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子及び/又は水素原子を含んでもよい、鎖状又は環状の、1価のフッ化炭化水素基を表す。Rfは好ましくは炭素数1〜12の鎖状または分岐のペルフルオロアルキル基(例えば、トリフルオロメチル、ペルフルオロエチル、ペルフルオロプロピル等)または炭素数3〜12のペルフルオロシクロアルキル基(例えば、ペルフルオロペンチル、ペルフルオロシクロヘキシル等)であり、より好ましくは上記のペルフルオロアルキル基であり、最も好ましくはトリフルオロメチル基である。 Rf 2 represents a linear or cyclic monovalent fluorinated hydrocarbon group containing at least a carbon atom and a fluorine atom, and may contain an oxygen atom and / or a hydrogen atom. Rf 2 is preferably a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms (for example, trifluoromethyl, perfluoroethyl, perfluoropropyl, etc.) or a perfluorocycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms (for example, perfluoropentyl, Perfluorocyclohexyl and the like, more preferably the above-mentioned perfluoroalkyl group, and most preferably a trifluoromethyl group.

Qは重合性基を表し、ラジカル、カチオン、又は縮合重合性の基であることが好ましく、−COC(R)=CH、アリル基、エポキシアルキレン基、−(CHSi(OW)、−(CHNCOまたは−(CHCNであることがより好ましい。ここで、Rは水素原子、ハロゲン原子または置換基を有してよいアルキル基を表し、Wはアルコキシ基または水酸基を表し、x、yおよびzはそれぞれ1以上の整数を表し、3個のWは互いに異なってもよい。x、yおよびzはそれぞれ、1〜5が好ましく、1〜3がより好ましい。Rにおけるアルキル基の置換基としてはどのような置換基でも構わないが、好ましくはハロゲン原子である。ここで、複数のRfは同一でも異なってもよく、またnが2以上のとき、複数のQは同一でも異なってもよい。本発明においては、複数のRfおよび複数のQが存在する場合、複数のRfは同一であり、複数のQは同一である場合が好ましい。 Q represents a polymerizable group, and is preferably a radical, a cation, or a condensation polymerizable group, and —COC (R 0 ) ═CH 2 , an allyl group, an epoxyalkylene group, — (CH 2 ) X Si (OW ) 3 , — (CH 2 ) y NCO or — (CH 2 ) z CN is more preferable. Here, R 0 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group which may have a substituent, W represents an alkoxy group or a hydroxyl group, x, y and z each represents an integer of 1 or more, W may be different from each other. Each of x, y, and z is preferably 1 to 5, and more preferably 1 to 3. The substituent for the alkyl group in R 0 may be any substituent, but is preferably a halogen atom. Here, the plurality of Rf 2 may be the same or different, and when n is 2 or more, the plurality of Q may be the same or different. In the present invention, when there are a plurality of Rf 2 and a plurality of Q, it is preferable that the plurality of Rf 2 are the same and the plurality of Q are the same.

前記一般式(I)で表される化合物は下記一般式(Ia)で表される化合物であることが好ましい。   The compound represented by the general formula (I) is preferably a compound represented by the following general formula (Ia).

Figure 2008106036
式中、Rf、Rf、mおよびnはそれぞれ前記一般式(I)と同義であり、Rは水素原子、フッ素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表し、水素原子であることが好ましい。
Figure 2008106036
In the formula, Rf 1 , Rf 2 , m and n each have the same meaning as in the general formula (I), and R represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group or a trifluoromethyl group, and is preferably a hydrogen atom. .

上記エポキシアルキレン基としてはエポキシメチレン基が好ましい。   The epoxy alkylene group is preferably an epoxy methylene group.

本発明の重合性含フッ素化合物においては、フッ素含有率がその分子量の35質量%以上であり、35〜70質量%が好ましく、37〜60質量%がより好ましい。   In the polymerizable fluorine-containing compound of the present invention, the fluorine content is 35% by mass or more of the molecular weight, preferably 35 to 70% by mass, and more preferably 37 to 60% by mass.

一般式(I)で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the compound represented by formula (I) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2008106036
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Figure 2008106036
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Figure 2008106036
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本発明の重合性含フッ素化合物は、架橋密度の観点から、重合性含フッ素化合物の重合性基を全て重合させたとき、その重合により得られる重合体の架橋間分子量の計算値が全て300以下となる。架橋間分子量の計算値とは、重合性含フッ素化合物(以下含フッ素多官能モノマーともいう。)の重合性基が全て重合した重合体において、合わせて3個以上炭素原子及び/又はケイ素原子が置換した炭素原子を(a)、合わせて3個以上炭素原子及び/又は酸素原子が置換したケイ素原子を(b)とするときに、(a)と(a)、(b)と(b)、又は(a)と(b)で挟まれた原子団の原子量の合計をいう。
ここで、架橋間分子量は、該重合性含フッ素化合物である、モノマー中における架橋間分子量であって、重合性基は、共重合することにより、対象とする重合性含フッ素化合物とは異なった分子の重合性基と反応し、上記の(a)または(b)の原子が生成する。従って、このような原子および対象とする上記モノマー中の重合に関与しない部分の原子を含めている。
例えば、前記含フッ素多官能モノマーの内、M17を例に挙げて説明する。M17の重合性基がすべて重合したと仮定すると、下式のように表される。
In the polymerizable fluorine-containing compound of the present invention, from the viewpoint of crosslinking density, when all the polymerizable groups of the polymerizable fluorine-containing compound are polymerized, all the calculated values of the intercrosslinking molecular weight of the polymer obtained by the polymerization are 300 or less. It becomes. The calculated value of the molecular weight between crosslinks is a polymer in which all the polymerizable groups of the polymerizable fluorine-containing compound (hereinafter also referred to as fluorine-containing polyfunctional monomer) are polymerized, and a total of 3 or more carbon atoms and / or silicon atoms. When (a) represents a substituted carbon atom, and (b) represents a silicon atom substituted with 3 or more carbon atoms and / or oxygen atoms, (a) and (a), (b) and (b) Or the total atomic weight of the atomic group sandwiched between (a) and (b).
Here, the molecular weight between crosslinks is the molecular weight between crosslinks in the monomer that is the polymerizable fluorine-containing compound, and the polymerizable group differs from the target polymerizable fluorine-containing compound by copolymerization. It reacts with the polymerizable group of the molecule to produce the atom (a) or (b). Therefore, such atoms and those atoms not involved in the polymerization in the monomer of interest are included.
For example, description will be given by taking M17 as an example among the fluorine-containing polyfunctional monomers. Assuming that all the polymerizable groups of M17 are polymerized, the following formula is obtained.

Figure 2008106036
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この場合、上記で定義した架橋間分子量の計算の対象となる部分構造(原子団)は、上式の破線で囲まれた部分(ここでは、−CFOCF(CF)CHOCO−部分を一つのみ破線で囲んだが、他の同じ部分(5ヶ所)も架橋間分子量の計算の対象となる部分構造である)であり、架橋間分子量の計算値は、それぞれCO=116.0とC=224.1であり、何れも300以下である。 In this case, the partial structure (atomic group) that is the target of calculation of the molecular weight between crosslinks defined above is a portion surrounded by a broken line in the above formula (here, —CF 2 OCF (CF 3 ) CH 2 OCO— Is surrounded by a broken line, but the other same part (5 places is also a partial structure subject to calculation of molecular weight between crosslinks), and the calculated value of molecular weight between crosslinks is C 2 F 4 O = 116.0 and C 5 H 2 F 6 O 3 = 224.1, both of which are 300 or less.

架橋間分子量の計算値は、より好ましくは250以下、さらに好ましくは200以下である。含フッ素多官能モノマーの重合性基をすべて重合させたときの架橋間分子量が300を超えると、塗膜にしたときの硬度が下がってしまい、さらには、防汚性や耐傷性が悪化する。   The calculated value of the molecular weight between crosslinks is more preferably 250 or less, and still more preferably 200 or less. When the molecular weight between crosslinks when all the polymerizable groups of the fluorine-containing polyfunctional monomer are polymerized exceeds 300, the hardness when formed into a coating film is lowered, and further, the antifouling property and scratch resistance are deteriorated.

次に、本発明の一般式(I)で表される重合性含フッ素化合物の製造方法を説明する。
一般式(I)で表される重合性含フッ素化合物の合成法は特に限定されないが、分子設計の自由度やコストの観点より、米国特許第5,093,432号明細書や国際公開特許00/56694号明細書に記載の液相フッ素化反応を利用するのが好ましい。液相フッ素化反応を利用した一般式(I)で表される重合性含フッ素化合物の合成ルートとしては、例えば、(m+n)価の水酸基含有炭化水素系化合物を出発原料とした下記のようなルートで合成できるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Next, the manufacturing method of the polymeric fluorine-containing compound represented by general formula (I) of this invention is demonstrated.
The method for synthesizing the polymerizable fluorine-containing compound represented by the general formula (I) is not particularly limited. However, from the viewpoint of the degree of freedom in molecular design and cost, US Pat. No. 5,093,432 and International Patent No. 00 It is preferable to utilize the liquid phase fluorination reaction described in the specification of / 56694. As a synthesis route of the polymerizable fluorine-containing compound represented by the general formula (I) using the liquid phase fluorination reaction, for example, the following as a starting material using a (m + n) -valent hydroxyl group-containing hydrocarbon compound Although it can synthesize | combine by a route, this invention is not limited to these.

Figure 2008106036
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[含フッ素重合体]
含フッ素多官能モノマー(重合性含フッ素化合物)は、種々の重合方法により、含フッ素重合体として使用することができる。重合に際しては、単独重合、または共重合してもよく、さらには、架橋剤として用いてもよい。
[Fluoropolymer]
The fluorine-containing polyfunctional monomer (polymerizable fluorine-containing compound) can be used as a fluorine-containing polymer by various polymerization methods. In the polymerization, homopolymerization or copolymerization may be performed, and furthermore, it may be used as a crosslinking agent.

共重合させる他のモノマーとしては、通常のモノマー類を使用することができるが、特に代表的なモノマーを例示すると、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,3−ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、1H,1H,7H−ドデカフルオロヘプチル(メタ)アクリレート、1H,1H,9H−ヘキサデカフルオロノニル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロオクチル)エチル(メタ)アクリレート、アリルアルコール、エチルアリルエーテル、α−フルオロアクリル酸メチルエステル、酢酸ビニル、エチルビニルケトン、ブチルビニルケトンなどのラジカル重合性のモノマー類、   As other monomers to be copolymerized, usual monomers can be used. Particularly, typical monomers include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, 2- Trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,3-pentafluoropropyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 7H-dodecafluoroheptyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 9H-hexadecafluorononyl (meth) acrylate, 2- (perfluorobutyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl (meth) Acrylate, allyl alcohol, ethanol Le allyl ether, alpha-fluoro acrylic acid methyl ester, vinyl acetate, ethyl vinyl ketone, radical polymerizable monomers such as butyl vinyl ketone,

テトラエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、クロロトリメトキシシラン、アミノプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、または以下の化学式で表される、縮合重合性のモノマー類、   Tetraethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, chlorotrimethoxysilane, aminopropyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxy Silane, or condensation polymerizable monomers represented by the following chemical formula:

Figure 2008106036
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Figure 2008106036
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グリセロールジグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、1,1,1−トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ビスフェノール−A−ジグリシジルエーテル、ハイドロキノンジグリシジルエーテル、レゾルシンジグリシジルエーテル、フルオログリシノールトリグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレート、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテルなどのカチオン重合性のモノマー類などが挙げられる。これらの中でも、重合性の観点から、ラジカルまたはカチオン重合性のモノマー類が好ましく、より好ましくは、ラジカル重合性のモノマー類である。   Glycerol diglycidyl ether, glycerol triglycidyl ether, 1,1,1-trimethylolpropane triglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, bisphenol-A-diglycidyl ether, hydroquinone diglycidyl ether, resorcin diglycidyl ether, fluoroglycinol tri And cationically polymerizable monomers such as glycidyl ether, triglycidyl isocyanurate, ethyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, and the like. Among these, from the viewpoint of polymerizability, radical or cation polymerizable monomers are preferable, and radical polymerizable monomers are more preferable.

重合反応は、塊状重合または溶液重合が好ましい。薄膜を得るためには、本発明の重合性含フッ素化合物を含む硬化性樹脂組成物を基板上に塗布し、溶媒を揮発させた後に重合を行うことが好ましい。このとき硬化性樹脂組成物において、本発明の重合性含フッ素化合物の含有率はとくに限定されないが、5〜100質量%であることが好ましく、10〜100質量%であることがより好ましく、50〜100質量%であることがさらに好ましく、60〜100質量%であることが特に好ましい。重合の開始方法はラジカル開始剤を用いる方法、光または放射線を照射する方法、酸を加える方法、光酸発生剤を添加した後に光を照射する方法、加熱により脱水縮合させる方法等がある。これらの重合方法、重合の開始方法は、例えば鶴田禎二著、「高分子合成方法」改訂版(日刊工業新聞社刊、1971年)や大津隆行・木下雅悦共著、「高分子合成の実験法」、化学同人、昭和47年、124〜154頁に記載されている。   The polymerization reaction is preferably bulk polymerization or solution polymerization. In order to obtain a thin film, it is preferable to perform polymerization after applying the curable resin composition containing the polymerizable fluorine-containing compound of the present invention on a substrate and volatilizing the solvent. In this case, in the curable resin composition, the content of the polymerizable fluorine-containing compound of the present invention is not particularly limited, but is preferably 5 to 100% by mass, more preferably 10 to 100% by mass, and 50 More preferably, it is -100 mass%, It is especially preferable that it is 60-100 mass%. The polymerization initiation method includes a method using a radical initiator, a method of irradiating light or radiation, a method of adding an acid, a method of irradiating light after adding a photoacid generator, a method of dehydrating condensation by heating, and the like. These polymerization methods and polymerization initiation methods are described in, for example, Tsuruta Shinji, “Polymer Synthesis Method” revised edition (published by Nikkan Kogyo Shimbun, 1971), Takatsu Otsu and Masato Kinoshita, “Experimental Methods for Polymer Synthesis” ", Chemistry Dojin, 1972, pp. 124-154.

用いられる溶媒としては、例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノールなどが挙げられる。これらは、単独あるいは2種以上混合してもよい。   Examples of the solvent used include ethyl acetate, butyl acetate, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, tetrahydrofuran, dioxane, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, benzene, toluene, acetonitrile, methylene chloride, Examples include chloroform, dichloroethane, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

ラジカル重合の開始剤としては、熱の作用によりラジカルを発生するもの、あるいは光の作用によりラジカルを発生するもののいずれの形態も可能である。   As the initiator for radical polymerization, any form of those generating radicals by the action of heat or those generating radicals by the action of light is possible.

熱の作用によりラジカル重合を開始する化合物としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、有機アゾ化合物として2−アゾ−ビス−イソブチロニトリル、2−アゾ−ビス−プロピオニトリル、2−アゾ−ビス−シクロヘキサンジニトリル等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、p−ニトロベンゼンジアゾニウムなどを挙げることができる。
As the compound that initiates radical polymerization by the action of heat, organic or inorganic peroxides, organic azo, diazo compounds, and the like can be used.
Specifically, benzoyl peroxide, halogen benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, dibutyl peroxide, cumene hydroperoxide, butyl hydroperoxide as organic peroxides, hydrogen peroxide, peroxides as inorganic peroxides. Ammonium sulfate, potassium persulfate, etc., 2-azo-bis-isobutyronitrile, 2-azo-bis-propionitrile, 2-azo-bis-cyclohexanedinitrile, etc. as organic azo compounds, diazoaminobenzene as diazo compounds, Examples thereof include p-nitrobenzenediazonium.

光の作用によりラジカル重合を開始する化合物を使用する場合は、活性エネルギー線の照射によって皮膜の硬化が行われる。
このような光ラジカル重合開始剤の例としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類などがある。アセトフェノン類の例には、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、1−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4−メチルチオ−2−モルフォリノプロピオフェノンおよび2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、2,4−ジクロロベンゾフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノンおよびp−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。これらの光ラジカル重合開始剤と併用して増感色素も用いることができる。
When a compound that initiates radical polymerization by the action of light is used, the coating is cured by irradiation with active energy rays.
Examples of such radical photopolymerization initiators include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds , Disulfide compounds, fluoroamine compounds and aromatic sulfoniums. Examples of acetophenones include 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxydimethylphenyl ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone and 2 -Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone is included. Examples of benzoins include benzoin benzene sulfonate, benzoin toluene sulfonate, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether. Examples of the benzophenones include benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone. Examples of phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide. Sensitizing dyes can also be used in combination with these photoradical polymerization initiators.

前記ラジカル重合開始剤の添加量は、前記ラジカル反応基が重合反応を開始できる量であれば特に制限されないが、一般的には硬化性樹脂組成物中の全固形分に対して0.1〜15質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜10質量%であり、特に好ましくは2〜5質量%である。   The amount of the radical polymerization initiator added is not particularly limited as long as the radical reactive group is an amount capable of initiating a polymerization reaction, but is generally 0.1 to the total solid content in the curable resin composition. 15 mass% is preferable, More preferably, it is 0.5-10 mass%, Most preferably, it is 2-5 mass%.

重合温度は特に制限は無いが、開始剤の種類によって適宜、調節すればよい。また、光ラジカル重合開始剤を用いる場合には、特に加熱の必要は無いが、加熱してもよい。   The polymerization temperature is not particularly limited, but may be appropriately adjusted depending on the type of initiator. In addition, when a radical photopolymerization initiator is used, heating is not particularly required, but heating may be performed.

含フッ素重合体を形成する硬化性樹脂組成物には、上記に加えて、皮膜硬度、屈折率、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性の観点から、各種の添加剤を含有することもできる。
例えば、(中空)シリカ等の無機酸化物微粒子、シリコーン系あるいはフッ素系の防汚剤、もしくは、滑り剤などを添加することができる。これらを添加する場合には、硬化性樹脂組成物の全固形分に対して0〜30質量%の範囲であることが好ましく、0〜20質量%の範囲であることがより好ましく、0〜10質量%の範囲であることが特に好ましい。
In addition to the above, the curable resin composition forming the fluoropolymer contains various additives from the viewpoints of film hardness, refractive index, antifouling property, water resistance, chemical resistance, and slipperiness. You can also
For example, inorganic oxide fine particles such as (hollow) silica, silicone-based or fluorine-based antifouling agents, or slipping agents can be added. When adding these, it is preferable that it is the range of 0-30 mass% with respect to the total solid of a curable resin composition, It is more preferable that it is the range of 0-20 mass%, 0-10 It is particularly preferable that the mass range.

本発明において、用いることのできる無機酸化物微粒子(以下、無機微粒子という)について次に説明する。
該無機微粒子を含有させた前記硬化性樹脂組成物を用いて、反射防止フィルムにおける低屈折率層を形成する場合、無機微粒子の塗設量は、1mg/m〜100mg/mが好ましく、より好ましくは5mg/m〜80mg/m、更に好ましくは10mg/m〜60mg/mである。無機微粒子の量が少なすぎると耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、例えば、反射防止フィルムの低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する。該無機微粒子は、低屈折率層に含有させることから、低屈折率であることが望ましい。
Next, inorganic oxide fine particles (hereinafter referred to as inorganic fine particles) that can be used in the present invention will be described.
By using the curable resin composition containing inorganic fine particles, in the case of forming the low refractive index layer in the antireflection film, coating amount of the inorganic fine particles, 1mg / m 2 ~100mg / m 2 are preferred, more preferably 5mg / m 2 ~80mg / m 2 , more preferably from 10mg / m 2 ~60mg / m 2 . If the amount of the inorganic fine particles is too small, the effect of improving the scratch resistance is reduced.If the amount is too large, for example, the surface of the low refractive index layer of the antireflection film has fine irregularities, and the appearance and integrated reflectance such as black tightening are reduced. Getting worse. Since the inorganic fine particles are contained in the low refractive index layer, it is desirable that the inorganic fine particles have a low refractive index.

具体的には、有機溶媒分散液中における分散性の改良処理がなされている無機酸化物粒子または中空無機酸化物粒子であって、低屈折率のものが好ましく用いられる。例えば、シリカまたは中空シリカの微粒子が挙げられる。シリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの30%以上150%以下が好ましく、より好ましくは35%以上80%以下、更に好ましくは40%以上60%以下である。即ち、低屈折率層の厚みが100nmであれば、シリカ微粒子の粒径は30nm以上150nm以下が好ましく、より好ましくは35nm以上80nm以下、更に好ましくは、40nm以上60nm以下である。
シリカ微粒子の粒径が小さすぎると、耐擦傷性の改良効果が少なくなり、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。
シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでもよく、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。ここで、無機微粒子の平均粒径はコールターカウンターにより測定される。
Specifically, inorganic oxide particles or hollow inorganic oxide particles that have been subjected to a treatment for improving dispersibility in an organic solvent dispersion and that have a low refractive index are preferably used. For example, fine particles of silica or hollow silica can be mentioned. The average particle diameter of the silica fine particles is preferably 30% to 150% of the thickness of the low refractive index layer, more preferably 35% to 80%, and still more preferably 40% to 60%. That is, when the thickness of the low refractive index layer is 100 nm, the particle diameter of the silica fine particles is preferably 30 nm to 150 nm, more preferably 35 nm to 80 nm, and still more preferably 40 nm to 60 nm.
If the particle size of the silica fine particles is too small, the effect of improving the scratch resistance is reduced. If it is too large, fine irregularities are formed on the surface of the low refractive index layer, and the appearance such as black tightening and the integrated reflectance are deteriorated.
The silica fine particles may be either crystalline or amorphous, and may be monodispersed particles or aggregated particles as long as a predetermined particle size is satisfied. The shape is most preferably a spherical diameter, but there is no problem even if the shape is indefinite. Here, the average particle diameter of the inorganic fine particles is measured by a Coulter counter.

低屈折率層の屈折率を低下させるために、中空のシリカ微粒子を用いることが好ましい。該中空シリカ微粒子は屈折率が1.17〜1.40、より好ましくは1.17〜1.35、さらに好ましくは1.17〜1.30である。ここでの屈折率は粒子全体としての屈折率を表し、中空シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をa、粒子外殻の半径をbとすると、空隙率xは下記数式(I)で算出される。
(数式I)
x=(4πa/3)/(4πb/3)×100
空隙率xは、好ましくは10〜60%、さらに好ましくは20〜60%、最も好ましくは30〜60%である。中空のシリカ粒子をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点から1.17未満の低屈折率の粒子は成り立たない。
なお、これら中空シリカ粒子の屈折率はアッベ屈折率計(アタゴ(株)製)にて測定をおこなった。
In order to lower the refractive index of the low refractive index layer, it is preferable to use hollow silica fine particles. The hollow silica fine particles have a refractive index of 1.17 to 1.40, more preferably 1.17 to 1.35, and still more preferably 1.17 to 1.30. The refractive index here represents the refractive index of the entire particle, and does not represent the refractive index of only the outer shell silica forming the hollow silica particles. At this time, when the radius of the cavity in the particle is a and the radius of the particle outer shell is b, the porosity x is calculated by the following mathematical formula (I).
(Formula I)
x = (4πa 3/3) / (4πb 3/3) × 100
The porosity x is preferably 10 to 60%, more preferably 20 to 60%, and most preferably 30 to 60%. If the hollow silica particles are made to have a lower refractive index and a higher porosity, the thickness of the outer shell becomes thinner and the strength of the particles becomes weaker. From the viewpoint of scratch resistance, the low refractive index is less than 1.17. Rate particles do not hold.
The refractive index of these hollow silica particles was measured with an Abbe refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd.).

また、中空粒子を低屈折率層に含有させることで該層の屈折率を低下させることができる。中空粒子を用いた場合に好ましい該層の屈折率は1.20以上1.47以下であり、更に好ましくは1.25以上1.41以下であり、最も好ましくは1.25以上1.39以下である。中空シリカの調製方法は例えば、特開2001−233611号、特開2002−79616号の各公報等に記載されている。   Moreover, the refractive index of this layer can be reduced by containing hollow particles in the low refractive index layer. The refractive index of the layer is preferably 1.20 or more and 1.47 or less, more preferably 1.25 or more and 1.41 or less, and most preferably 1.25 or more and 1.39 or less when hollow particles are used. It is. Methods for preparing hollow silica are described in, for example, JP-A Nos. 2001-233611 and 2002-79616.

また、平均粒径が低屈折率層の厚みの25%未満であるシリカ微粒子(以下、「小サイズ粒径のシリカ微粒子」という。)の少なくとも1種を上記の粒径のシリカ微粒子(以下、「大サイズ粒径のシリカ微粒子」という。)と併用することが好ましい。
小サイズ粒径のシリカ微粒子は、大サイズ粒径のシリカ微粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ粒径のシリカ微粒子の保持剤として寄与することができる。
小サイズ粒径のシリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層が100nmの場合、1nm以上20nm以下が好ましく、5nm以上15nm以下が更に好ましく、10nm以上15nm以下が特に好ましい。このようなシリカ微粒子を用いると、原料コストおよび保持剤効果の点で好ましい。
Further, at least one kind of silica fine particles having an average particle size of less than 25% of the thickness of the low refractive index layer (hereinafter, referred to as “silica fine particles having a small particle size”) is used as silica fine particles having the above particle size (hereinafter referred to as “fine particle”). It is preferably used in combination with “large-sized silica particles”.
Since the fine silica particles having a small particle size can exist in the gaps between the fine silica particles having a large particle size, they can contribute as a retaining agent for the fine silica particles having a large particle size.
When the low refractive index layer is 100 nm, the average particle size of the silica fine particles having a small size is preferably from 1 nm to 20 nm, more preferably from 5 nm to 15 nm, and particularly preferably from 10 nm to 15 nm. Use of such silica fine particles is preferable in terms of raw material costs and a retaining agent effect.

この他に、保存安定性の観点から上記硬化性樹脂組成物は重合禁止剤を含有してもよい。本発明において好適に用いることができる重合禁止剤としては、例えばヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、モノ−tert−ブチルヒドロキノン、カテコール、p−tert−ブチルカテコール、p−メトキシフェノール、p−tert−ブチルカテコール、2,6−ジ−tert−ブチル−m−クレゾール、ピロガロール、β−ナフトール等のフェノール類、ベンゾキノン、2,5−ジフェニル−p−ベンゾキノン、p−トルキノン、p−キシロキノンなどのキノン類;ニトロベンゼン、m−ジニトロベンゼン、2−メチル−2−ニトロソプロパン、α−フェニル−tert−ブチルニトロン、5,5−ジメチル−1−ピロリン−1−オキシドなどのニトロ化合物またはニトロソ化合物;クロラニル−アミン、ジフェニルアミン、ジフェニルピクリルヒドラジン、フェノール−α−ナフチルアミン、ピリジン、フェノチアジンなどのアミン類;ジチオベンゾイルスルフィド、ジベンジルテトラスルフィドなどのスルフィド類等のラジカル重合禁止剤が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、複数を組み合わせて用いてもよい。
より好ましくはフェノール類、キノン類、ニトロ化合物、ニトロソ化合物、アミン類、スルフィド類のうち少なくとも1つに属する化合物である。中でも、屈折率、ラジカル捕捉能の観点から、フェノール類を用いることが好ましい。
In addition, from the viewpoint of storage stability, the curable resin composition may contain a polymerization inhibitor. Examples of the polymerization inhibitor that can be suitably used in the present invention include hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, mono-tert-butylhydroquinone, catechol, p-tert-butylcatechol, p-methoxyphenol, p-tert-butylcatechol, Phenols such as 2,6-di-tert-butyl-m-cresol, pyrogallol, β-naphthol, quinones such as benzoquinone, 2,5-diphenyl-p-benzoquinone, p-toluquinone, p-xyloquinone; nitrobenzene, Nitro compounds or nitroso compounds such as m-dinitrobenzene, 2-methyl-2-nitrosopropane, α-phenyl-tert-butylnitrone, 5,5-dimethyl-1-pyrroline-1-oxide; chloranil-amine, diphenylamino And radical polymerization inhibitors such as amines such as diphenylpicrylhydrazine, phenol-α-naphthylamine, pyridine and phenothiazine; sulfides such as dithiobenzoyl sulfide and dibenzyltetrasulfide. These may be used alone or in combination.
More preferred are compounds belonging to at least one of phenols, quinones, nitro compounds, nitroso compounds, amines and sulfides. Of these, phenols are preferably used from the viewpoints of refractive index and radical scavenging ability.

これら重合禁止剤は、硬化性樹脂組成物中の全固形分に対して0.0001〜10質量%となるように添加することが好ましく、より好ましくは0.0001〜5質量%であり、特に好ましくは0.001〜2質量%である。   These polymerization inhibitors are preferably added in an amount of 0.0001 to 10% by mass with respect to the total solid content in the curable resin composition, more preferably 0.0001 to 5% by mass, especially Preferably it is 0.001-2 mass%.

その他、硬化性樹脂組成物には各種シランカップリング剤、界面活性剤、増粘剤、レベリング剤などの添加剤を必要に応じて適宜添加してもよい。
本発明の含フッ素重合体は、後述する高屈折率層、中屈折率層、又はその他の各種基材上に本発明の含フッ素モノマーを含む硬化性樹脂組成物を塗布したのち、硬化して形成することができる。
In addition, additives such as various silane coupling agents, surfactants, thickeners, and leveling agents may be appropriately added to the curable resin composition as necessary.
The fluorine-containing polymer of the present invention is cured after a curable resin composition containing the fluorine-containing monomer of the present invention is applied to a high refractive index layer, a medium refractive index layer, or other various base materials described later. Can be formed.

[反射防止膜]
本発明の反射防止膜は、本発明の重合性含フッ素化合物を含有する硬化性樹脂組成物を硬化してなる低屈折率層を有する。
本発明の反射防止膜は、単層構造でもよいし多層構造でもよい。すなわち、反射防止膜が単層構造である場合は、低屈折率層のみからなる。反射防止膜が多層構造である場合は、低屈折率層と高屈折率層の少なくとも2層以上を有する。反射防止膜は多層構造であることが好ましく、前記低屈折率層と高屈折率層との二層構造、または前記低屈折率層及び前記高屈折率層の他に中屈折率層を有する三層構造が好ましい。
[Antireflection film]
The antireflection film of the present invention has a low refractive index layer formed by curing the curable resin composition containing the polymerizable fluorine-containing compound of the present invention.
The antireflection film of the present invention may have a single layer structure or a multilayer structure. That is, when the antireflection film has a single layer structure, it consists of only a low refractive index layer. When the antireflection film has a multilayer structure, it has at least two layers of a low refractive index layer and a high refractive index layer. The antireflection film preferably has a multilayer structure, and has a two-layer structure of the low refractive index layer and the high refractive index layer, or a medium refractive index layer in addition to the low refractive index layer and the high refractive index layer. A layer structure is preferred.

[低屈折率層]
前記低屈折率層は、後述するように高屈折率層の上層に配置される。すなわち、低屈折率層の上面が反射防止膜の表面となる。
低屈折率層の屈折率は、1.20以上1.47以下であり、更に好ましくは1.25以上1.41以下であり、最も好ましくは1.25以上1.39以下である。屈折率は、アッベ屈折率計を用いる測定や、層表面からの光の反射率からの見積もりにより求めることができる。
低屈折率層の厚さは、50〜400nmであることが好ましく、50〜200nmであることがより好ましい。低屈折率層のヘイズは、3%以下であることが好ましく、2%以下であることがさらに好ましく、1%以下であることが最も好ましい。具体的な低屈折率層の強度は、1kg荷重の鉛筆硬度試験でH以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。
[Low refractive index layer]
The low refractive index layer is disposed on an upper layer of the high refractive index layer as will be described later. That is, the upper surface of the low refractive index layer becomes the surface of the antireflection film.
The refractive index of the low refractive index layer is 1.20 or more and 1.47 or less, more preferably 1.25 or more and 1.41 or less, and most preferably 1.25 or more and 1.39 or less. The refractive index can be obtained by measurement using an Abbe refractometer or estimation from the reflectance of light from the layer surface.
The thickness of the low refractive index layer is preferably 50 to 400 nm, and more preferably 50 to 200 nm. The haze of the low refractive index layer is preferably 3% or less, more preferably 2% or less, and most preferably 1% or less. The specific strength of the low refractive index layer is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher in a pencil hardness test under a 1 kg load.

[高屈折率層及び中屈折率層]
本発明の反射防止膜において、低屈折率層と組み合わせて用いられる高屈折率層及び中屈折率層は、それぞれ低屈折率層より高い屈折率を有する層である。また、中屈折率層は、低屈折率層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率が低い層である。
[High refractive index layer and medium refractive index layer]
In the antireflection film of the present invention, the high refractive index layer and the medium refractive index layer used in combination with the low refractive index layer are layers having a higher refractive index than the low refractive index layer. The medium refractive index layer is a layer having a refractive index higher than that of the low refractive index layer and lower than that of the high refractive index layer.

高屈折率層及び中屈折率層は、それぞれ有機材料のみ又は有機材料と無機材料とを主成分としてなる。
この際用いられる有機材料としては、熱可塑性樹脂組成物(例、ポリスチレン、ポリスチレン共重合体、ポリカーボネート、ポリスチレン以外の芳香環、複素環、脂環式環状基を有するポリマー、またはフッ素以外のハロゲン基を有するポリマー);熱硬化性樹脂組成物(例、メラミン樹脂、フェノール樹脂、またはエポキシ樹脂などを硬化剤とする樹脂組成物);ウレタン樹脂形成性組成物(例、脂環式または芳香族イソシアネートとポリオールとを含有する樹脂組成物);およびラジカル重合性組成物(上記ポリマー又はモノマーに二重結合を導入することにより、ラジカル硬化を可能にした変性樹脂組成物または変性プレポリマーを含む組成物)などを挙げることができる。高屈折率層又は中屈折率層に用いる有機材料は、高い皮膜形成性を有する材料が好ましい。
The high refractive index layer and the medium refractive index layer are mainly composed of only an organic material or an organic material and an inorganic material, respectively.
Examples of the organic material used here include thermoplastic resin compositions (eg, polystyrene, polystyrene copolymer, polycarbonate, polymers having aromatic rings other than polystyrene, heterocyclic rings, and alicyclic groups, or halogen groups other than fluorine. A thermosetting resin composition (eg, a resin composition using a melamine resin, a phenol resin, or an epoxy resin as a curing agent); a urethane resin-forming composition (eg, an alicyclic or aromatic isocyanate) And a radically polymerizable composition (a composition comprising a modified resin composition or a modified prepolymer that enables radical curing by introducing a double bond into the polymer or monomer). ) And the like. The organic material used for the high refractive index layer or the medium refractive index layer is preferably a material having a high film forming property.

なお、高屈折率層又は中屈折率層には、有機材料と無機材料を併用することができる。
有機材料と無機材料を併用する場合は、一般に無機材料によって高い屈折率を確保できるため、有機材料単独で用いる場合よりも低屈折率の有機材料を用いることができる。このような有機材料としては、ペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどのアクリル系モノマーとビニル系モノマーとの共重合体、ポリエステル、アルキド樹脂、繊維素系重合体、ウレタン樹脂、および、これらの樹脂を硬化させる各種の硬化剤又は硬化性官能基を有する化合物を含有する組成物等が挙げられる。これらの有機材料は、透明性があり、無機材料を安定に分散させることができる。硬化性官能基を有する化合物の具体例としては、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等のポリオールポリ(メタ)アクリレート類、ポリイソシナネートとヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等の水酸基含有(メタ)アクリレートの反応によって得られるウレタン(メタ)アクリレート等を挙げることができる。
An organic material and an inorganic material can be used in combination for the high refractive index layer or the medium refractive index layer.
When an organic material and an inorganic material are used in combination, a high refractive index can generally be secured by the inorganic material, and therefore, an organic material having a lower refractive index than that used when the organic material is used alone can be used. Examples of such organic materials include copolymers of acrylic monomers such as pentaerythritol hexaacrylate and vinyl monomers, polyesters, alkyd resins, fibrous polymers, urethane resins, and various types of resins that cure these resins. And a composition containing a curing agent or a compound having a curable functional group. These organic materials are transparent and can disperse inorganic materials stably. Specific examples of the compound having a curable functional group include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol. Polyurethane poly (meth) acrylates such as penta (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, urethane obtained by reaction of polyisocyanate and hydroxyl-containing (meth) acrylate such as hydroxyethyl (meth) acrylate ( And (meth) acrylate.

さらに、有機材料としては、有機置換されたケイ素系化合物を用いることができる。該ケイ素系化合物としては、下記式(5)で表される化合物、あるいはその加水分解生成物が挙げられる。
式(5) R (R SiZ4−m−n
ここで、Rはアルキル基、アルケニル基、又はアリール基を表し、Rはハロゲン、エポキシ、アミノ、メルカプト、メタクリロイルまたはシアノで置換された、アルキル基、アルケニル基、又はアリール基を表し、Zは、アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、ハロゲン原子、アシルオキシ基から選ばれた加水分解可能な基を表し、m+nが1または2である条件下で、m及びnはそれぞれ0、1または2である。
Furthermore, an organically substituted silicon compound can be used as the organic material. Examples of the silicon-based compound include a compound represented by the following formula (5) or a hydrolysis product thereof.
Formula (5) R a m (R b ) n SiZ 4-mn
Here, R a represents an alkyl group, an alkenyl group, or an aryl group, R b represents an alkyl group, an alkenyl group, or an aryl group substituted with halogen, epoxy, amino, mercapto, methacryloyl, or cyano, and Z Represents a hydrolyzable group selected from an alkoxy group, an alkoxyalkoxy group, a halogen atom and an acyloxy group, and m and n are 0, 1 or 2 respectively under the condition that m + n is 1 or 2.

無機材料としては、無機系微粒子が挙げられる。前記無機系微粒子を構成する好ましい無機化合物としては、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム、アンチモンなどの金属元素の酸化物を挙げることができる。無機系微粒子は、粉末または粉末が水等の溶媒に分散されたコロイド状分散体として、市販されている。これらを使用する場合は、前記有機材料または有機ケイ素化合物中に混合分散して使用することが好ましい。   Examples of the inorganic material include inorganic fine particles. Preferable inorganic compounds constituting the inorganic fine particles include oxides of metal elements such as aluminum, titanium, zirconium and antimony. The inorganic fine particles are commercially available as a powder or a colloidal dispersion in which the powder is dispersed in a solvent such as water. When using these, it is preferable to mix and disperse in the said organic material or organosilicon compound.

また、無機材料としては、皮膜形成性で溶剤に分散し得るか、それ自身が液状である無機材料を用いることができる。このような無機材料としては、例えば、各種元素のアルコキシド、有機酸の塩、配位性化合物と結合した配位化合物(例、キレート化合物)、無機ポリマー)を挙げることができる。
より具体的には、チタンテトラエトキシド、チタンテトラ−i−プロポキシド、チタンテトラ−n−プロポキシド、チタンテトラ−n−ブトキシド、チタンテトラ−sec −ブトキシド、チタンテトラ−tert−ブトキシド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムトリ−i−プロポキシド、アルミニウムトリブトキシド、アンチモントリエトキシド、アンチモントリブトキシド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテトラ−i−プロポキシド、ジルコニウムテトラ−n−プロポキシド、ジルコニウムテトラ−n−ブトキシド、ジルコニウムテトラ−sec−ブトキシド及びジルコニウムテトラ−tert−ブトキシドなどの金属アルコレート化合物;ジイソプロポキシチタニウムビス(アセチルアセトネート)、ジブトキシチタニウムビス(アセチルアセトネート)、ジエトキシチタニウムビス(アセチルアセトネート)、ビス(アセチルアセトンジルコニウム)、アルミニウムアセチルアセトネート、アルミニウムジ−n−ブトキシドモノエチルアセトアセテート、アルミニウムジ−i−プロポキシドモノメチルアセトアセテート及びトリ−n−ブトキシドジルコニウムモノエチルアセトアセテートなどのキレート化合物;さらには炭素ジルコニルアンモニウムあるいはジルコニウムを主成分とする無機ポリマーなどを挙げることができる。
In addition, as the inorganic material, an inorganic material that is film-forming and can be dispersed in a solvent, or is itself liquid can be used. Examples of such inorganic materials include alkoxides of various elements, salts of organic acids, coordination compounds (eg, chelate compounds) bonded to coordination compounds, and inorganic polymers).
More specifically, titanium tetraethoxide, titanium tetra-i-propoxide, titanium tetra-n-propoxide, titanium tetra-n-butoxide, titanium tetra-sec-butoxide, titanium tetra-tert-butoxide, aluminum tri Ethoxide, aluminum tri-i-propoxide, aluminum tributoxide, antimony triethoxide, antimony riboxide, zirconium tetraethoxide, zirconium tetra-i-propoxide, zirconium tetra-n-propoxide, zirconium tetra-n- Metal alcoholate compounds such as butoxide, zirconium tetra-sec-butoxide and zirconium tetra-tert-butoxide; diisopropoxytitanium bis (acetylacetonate), dibutoxy Titanium bis (acetylacetonate), diethoxytitanium bis (acetylacetonate), bis (acetylacetonezirconium), aluminum acetylacetonate, aluminum di-n-butoxide monoethylacetoacetate, aluminum di-i-propoxide monomethylacetate Chelate compounds such as acetate and tri-n-butoxide zirconium monoethyl acetoacetate; and inorganic polymers mainly composed of carbon zirconyl ammonium or zirconium.

高屈折率層及び中屈折率層には、以上に挙げた化合物の他に、屈折率が比較的低い化合物を併用できる。このような化合物としては、各種のアルキルシリケート類もしくはその加水分解物、微粒子状シリカ特にコロイド状に分散したシリカゲルが挙げられる。
また、高屈折率層及び中屈折率層には分散溶媒又は溶剤を使用することができる。分散溶媒又は溶剤としては、シクロヘキサノンやメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトントルエン、トルエン、酢酸エチル、DMF、2−プロパノール、n−ブタノールなどを挙げることができる。
さらに、高屈折率層及び中屈折率層には、従来の反射防止膜に通常添加される添加剤を適宜使用することができる。
In addition to the compounds listed above, compounds having a relatively low refractive index can be used in combination for the high refractive index layer and the medium refractive index layer. Examples of such a compound include various alkyl silicates or hydrolysates thereof, particulate silica, particularly silica gel dispersed in colloidal form.
In addition, a dispersion solvent or a solvent can be used for the high refractive index layer and the medium refractive index layer. Examples of the dispersion solvent or solvent include cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone toluene, toluene, ethyl acetate, DMF, 2-propanol, and n-butanol.
Furthermore, additives that are usually added to conventional antireflection films can be appropriately used in the high refractive index layer and the medium refractive index layer.

高屈折率層及び中屈折率層の実施態様としては、上記の無機材料の分散物と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどのモノマーと、光重合開始剤や熱重合開始剤などの重合開始剤と、必要に応じて用いられる増感剤や触媒とを溶剤(前記分散溶媒と同じものが例示できる)に溶解してなる層形成用組成物を用いて形成されたものが挙げられる。
このような構成は従来の反射防止膜における高屈折率層や中屈折率層に関する構成が適宜適用される。
As an embodiment of the high refractive index layer and the medium refractive index layer, a dispersion of the above inorganic material, a monomer such as dipentaerythritol hexaacrylate, a polymerization initiator such as a photopolymerization initiator and a thermal polymerization initiator, What was formed using the composition for layer formation formed by melt | dissolving the sensitizer and catalyst used as needed in a solvent (the same thing as the said dispersion | distribution solvent can be illustrated) is mentioned.
For such a configuration, a configuration related to a high refractive index layer and a medium refractive index layer in a conventional antireflection film is appropriately applied.

高屈折率層の屈折率は、1.57〜2.40の範囲がよい。高屈折率層の厚さは、5nm〜10μmであることが好ましく、10nm〜1μmであることがさらに好ましく、30nm〜0.5μmであることが最も好ましい。高屈折率層のヘイズは、5%以下であることが好ましく、3%以下であることがさらに好ましく、1%以下であることが最も好ましい。高屈折率層の強度は、1kg荷重の鉛筆硬度で1H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。   The refractive index of the high refractive index layer is preferably in the range of 1.57 to 2.40. The thickness of the high refractive index layer is preferably 5 nm to 10 μm, more preferably 10 nm to 1 μm, and most preferably 30 nm to 0.5 μm. The haze of the high refractive index layer is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and most preferably 1% or less. The strength of the high refractive index layer is preferably 1H or more, more preferably 2H or more, and most preferably 3H or more, with a pencil hardness of 1 kg.

中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、1.50〜1.85の範囲がよい。高屈折率層に無機微粒子とポリマーを用い、中屈折率層は、高屈折率層よりも屈折率を低めに調節して形成することが特に好ましい。中屈折率層のヘイズは、3%以下であることが好ましい。
中屈折率層の厚さは、5nm〜10μmであることが好ましく、10nm〜1μmであることがさらに好ましく、30nm〜0.5μmであることが最も好ましい。中屈折率層の強度は、1kg荷重の鉛筆硬度で1H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。
The refractive index of the middle refractive index layer is adjusted to be a value between the refractive index of the low refractive index layer and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is preferably in the range of 1.50 to 1.85. It is particularly preferable that inorganic fine particles and a polymer are used for the high refractive index layer, and the middle refractive index layer is formed by adjusting the refractive index to be lower than that of the high refractive index layer. The haze of the medium refractive index layer is preferably 3% or less.
The thickness of the medium refractive index layer is preferably 5 nm to 10 μm, more preferably 10 nm to 1 μm, and most preferably 30 nm to 0.5 μm. The strength of the medium refractive index layer is preferably 1H or more, more preferably 2H or more, and most preferably 3H or more, with a pencil hardness of 1 kg.

[反射防止膜の形成方法]
本発明の反射防止膜は、各種基材などに前記高屈折率層や前記中屈折率層の形成用組成物を塗工し、光照射などにより硬化させて、前記高屈折率層などを形成した後、該高屈折率層又は該中屈折率層上に前記低屈折率層用の硬化性樹脂組成物を塗工し、更に光照射や加熱を行って硬化させることにより形成することができる。
なお、本発明の反射防止膜は、下記の反射防止フィルム及び表示装置に用いることが好ましく、その他、ケースカバー、光学用レンズ、眼鏡用レンズ、ウインドウシールド、ライトカバーやヘルメットシールドにも利用できる。
[Method of forming antireflection film]
The antireflection film of the present invention forms the high refractive index layer by applying the composition for forming the high refractive index layer or the medium refractive index layer to various substrates and curing it by light irradiation or the like. After that, the curable resin composition for the low refractive index layer is applied on the high refractive index layer or the medium refractive index layer, and further cured by light irradiation or heating. .
The antireflection film of the present invention is preferably used for the following antireflection film and display device, and can also be used for a case cover, an optical lens, a spectacle lens, a window shield, a light cover, and a helmet shield.

[反射防止フィルム]
本発明の反射防止フィルムは、透明支持体上に本発明の反射防止膜が設けられたものである。
本発明の反射防止フィルム1の一実施態様として好適な反射防止フィルムの基本的な構成を図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明の反射防止フィルムの一実施態様の断面を示す模式図である。
図1に示す反射防止フィルムは、透明支持体2上に、高屈折率層8及び低屈折率層5がこの順序で形成された反射防止膜6を有する。
このような構成では、特開昭59−50401号公報に記載されているように、高屈折率層8が下記数式(II)、低屈折率層5が下記数式(III)をそれぞれ満足すると、優れた反射防止性能を有する反射防止フィルムを得られるため好ましい。
[Antireflection film]
The antireflection film of the present invention is obtained by providing the antireflection film of the present invention on a transparent support.
A basic configuration of an antireflection film suitable as one embodiment of the antireflection film 1 of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic view showing a cross section of one embodiment of the antireflection film of the present invention.
The antireflection film shown in FIG. 1 has an antireflection film 6 in which a high refractive index layer 8 and a low refractive index layer 5 are formed in this order on a transparent support 2.
In such a configuration, as described in JP-A-59-50401, when the high refractive index layer 8 satisfies the following formula (II) and the low refractive index layer 5 satisfies the following formula (III), It is preferable because an antireflection film having excellent antireflection performance can be obtained.

数式(II):(mλ/4)×0.7<n<(mλ/4)×1.3 Formula (II): (mλ / 4) × 0.7 <n 1 d 1 <(mλ / 4) × 1.3

式中、mは正の整数(一般に1、2または3)であり、nは高屈折率層の屈折率であり、そして、dは高屈折率層の層厚(nm)である。 In the formula, m is a positive integer (generally 1, 2 or 3), n 1 is the refractive index of the high refractive index layer, and d 1 is the layer thickness (nm) of the high refractive index layer.

数式(III):(nλ/4)×0.7<n<(nλ/4)×1.3 Formula (III): (nλ / 4) × 0.7 <n 2 d 2 <(nλ / 4) × 1.3

式中、nは正の奇数(一般に1)であり、nは低屈折率層の屈折率であり、そして、dは低屈折率層の層厚(nm)である。
高屈折率層の屈折率nは、一般に透明支持体より少なくとも0.05高く、そして、低屈折率層の屈折率nは、一般に高屈折率層の屈折率より少なくとも0.1低くかつ透明支持体より少なくとも0.05低い。更に、高屈折率層の屈折率nは、一般に1.57〜2.40の範囲にある。
Where n is a positive odd number (generally 1), n 2 is the refractive index of the low refractive index layer, and d 2 is the layer thickness (nm) of the low refractive index layer.
The refractive index n 1 of the high refractive index layer is generally at least 0.05 higher than the transparent support, and the refractive index n 2 of the low refractive index layer is generally at least 0.1 lower than the refractive index of the high refractive index layer and At least 0.05 lower than the transparent support. Further, the refractive index n 1 of the high refractive index layer is generally in the range of 1.57 to 2.40.

また本発明の反射防止フィルムは、前記のように、低屈折率層と高屈折率層の二層からなる反射防止膜を有する構成でもよいが、さらに、中屈折率層、ハードコート層などの層を予め形成し、この上に前記した方法に従い低屈折率層と高屈折率層が形成された三層以上の反射防止膜を有する構成が好ましい。より好ましくは中・高・低屈折率層の三層以上の層を積層してなる形態である。このような反射防止フィルムの実施形態を図1(b)に示す。   Further, as described above, the antireflection film of the present invention may have a structure having an antireflection film composed of two layers of a low refractive index layer and a high refractive index layer, and further, an intermediate refractive index layer, a hard coat layer, etc. It is preferable to form a layer in advance and to have three or more antireflection films on which a low refractive index layer and a high refractive index layer are formed according to the method described above. More preferably, it is a form in which three or more layers of middle, high and low refractive index layers are laminated. An embodiment of such an antireflection film is shown in FIG.

すなわち、図2に示す反射防止フィルム1は、透明支持体2上にハードコート層3を有し、この上に中屈折率層7、高屈折率層8、低屈折率層5が、この順序で形成された反射防止膜6を有する。
このような構成では、特開昭59−50401号公報に記載されているように、中屈折率層7が下記数式(IV)、高屈折率層8が下記数式(V)、低屈折率層5が下記数式(VI)をそれぞれ満足することが好ましい。
That is, the antireflection film 1 shown in FIG. 2 has a hard coat layer 3 on a transparent support 2, and a medium refractive index layer 7, a high refractive index layer 8, and a low refractive index layer 5 are arranged in this order. The antireflection film 6 is formed.
In such a configuration, as described in JP-A-59-50401, the medium refractive index layer 7 is represented by the following formula (IV), the high refractive index layer 8 is represented by the following formula (V), and the low refractive index layer. 5 preferably satisfies the following numerical formula (VI).

数式(IV):(hλ/4)×0.7<n<(hλ/4)×1.3 Formula (IV): (hλ / 4) × 0.7 <n 3 d 3 <(hλ / 4) × 1.3

式中、hは正の整数(一般に1、2または3)であり、nは中屈折率層の屈折率であり、そして、dは中屈折率層の層厚(nm)である。 Where h is a positive integer (generally 1, 2 or 3), n 3 is the refractive index of the medium refractive index layer, and d 3 is the layer thickness (nm) of the medium refractive index layer.

数式(V):(jλ/4)×0.7<n<(jλ/4)×1.3 Formula (V): (jλ / 4) × 0.7 <n 4 d 4 <(jλ / 4) × 1.3

式中、jは正の整数(一般に1、2または3)であり、nは高屈折率層の屈折率であり、そして、dは高屈折率層の層厚(nm)である。 Where j is a positive integer (generally 1, 2 or 3), n 4 is the refractive index of the high refractive index layer, and d 4 is the layer thickness (nm) of the high refractive index layer.

数式(VI):(kλ/4)×0.7<n<(kλ/4)×1.3 Formula (VI): (kλ / 4) × 0.7 <n 5 d 5 <(kλ / 4) × 1.3

式中、kは正の奇数(一般に1)であり、nは低屈折率層の屈折率であり、そして、dは低屈折率層の層厚(nm)である。 Where k is a positive odd number (generally 1), n 5 is the refractive index of the low refractive index layer, and d 5 is the layer thickness (nm) of the low refractive index layer.

中屈折率層の屈折率nは、一般に1.50〜1.85の範囲にあり、高屈折率層の屈折率nは、一般に1.57〜2.40の範囲にある。
また、数式(II)〜(VI)中のλは可視光線の波長であり、380〜680nmの範囲の値である。ここで記載した高屈折率、中屈折率、低屈折率とは層相互の相対的な屈折率の高低をいう。例えば中屈折率層は高屈折率層に添加する高屈折率無機微粒子の含率を変えるなどの方法で作製される。
The refractive index n 3 of the middle refractive index layer is generally in the range of 1.50 to 1.85, and the refractive index n 4 of the high refractive index layer is generally in the range of 1.57 to 2.40.
Moreover, (lambda) in numerical formula (II)-(VI) is a wavelength of visible light, and is a value of the range of 380-680 nm. The high refractive index, medium refractive index, and low refractive index described here refer to the relative refractive index between layers. For example, the medium refractive index layer is produced by a method such as changing the content of the high refractive index inorganic fine particles added to the high refractive index layer.

反射防止フィルムには、上述のようにハードコート層を設けることができる他、防湿層、帯電防止層、下塗り層や保護層を設けてもよい。ハードコート層は、透明支持体に耐擦傷性を付与するために設ける。ハードコート層は、透明支持体とその上の層との接着を強化する機能も有する。ハードコート層は、アクリル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、シリコン系ポリマーやシリカ系化合物を用いて形成することができる。顔料をハードコート層に添加してよい。
アクリル系ポリマーは、多官能アクリレートモノマー(例、ポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート)の重合反応により合成することが好ましい。ウレタン系ポリマーの例には、メラミンポリウレタンが含まれる。シリコン系ポリマーとしては、シラン化合物(例、テトラアルコキシシラン、アルキルトリアルコキシシラン)と反応性基(例、エポキシ、メタクリル)を有するシランカップリング剤との共加水分解物が好ましく用いられる。二種類以上のポリマーを組み合わせて用いてもよい。シリカ系化合物としては、コロイダルシリカが好ましく用いられる。ハードコート層の強度は、1kg荷重の鉛筆硬度で、H以上である好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。透明支持体の上には、ハードコート層に加えて、接着層、シールド層、滑り層や帯電防止層を設けてもよい。シールド層は、電磁波や赤外線を遮蔽するために設けられる。
The antireflection film can be provided with a hard coat layer as described above, and may further be provided with a moisture proof layer, an antistatic layer, an undercoat layer and a protective layer. The hard coat layer is provided for imparting scratch resistance to the transparent support. The hard coat layer also has a function of strengthening the adhesion between the transparent support and the layer thereon. The hard coat layer can be formed using an acrylic polymer, a urethane polymer, an epoxy polymer, a silicon polymer, or a silica compound. A pigment may be added to the hard coat layer.
The acrylic polymer is preferably synthesized by a polymerization reaction of a polyfunctional acrylate monomer (eg, polyol acrylate, polyester acrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate). Examples of the urethane polymer include melamine polyurethane. As the silicon-based polymer, a cohydrolyzate of a silane compound (eg, tetraalkoxysilane, alkyltrialkoxysilane) and a silane coupling agent having a reactive group (eg, epoxy, methacryl) is preferably used. Two or more kinds of polymers may be used in combination. As the silica compound, colloidal silica is preferably used. The strength of the hard coat layer is a pencil hardness with a 1 kg load, preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher. On the transparent support, in addition to the hard coat layer, an adhesive layer, a shield layer, a sliding layer and an antistatic layer may be provided. The shield layer is provided to shield electromagnetic waves and infrared rays.

[透明支持体]
本発明において好ましく用いることができる前記透明支持体としては、透明支持体としては、ガラス板よりもプラスチックフィルムの方が好ましい。プラスチックフィルムの材料の例には、セルロースアシレート(例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース)、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル(例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−1,2−ジフェノキシエタン−4,4’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート)、ポリスチレン(例、シンジオタクチックポリスチレン)、ポリオレフィン(例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン)、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエーテルケトンが含まれる。セルロースアシレート、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートが好ましく、トリアセチルセルロースがさらに好ましい。
[Transparent support]
As the transparent support that can be preferably used in the present invention, a plastic film is more preferable than a glass plate as the transparent support. Examples of plastic film materials include cellulose acylates (eg, triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl cellulose, nitrocellulose), polyamides, polycarbonates, polyesters (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate). Phthalate, poly-1,4-cyclohexanedimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4′-dicarboxylate, polybutylene terephthalate), polystyrene (eg, syndiotactic polystyrene), polyolefin (eg, , Polypropylene, polyethylene, polymethylpentene), polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polyetherimide, polymethyl Methacrylate and polyether ketone are included. Cellulose acylate, polycarbonate, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are preferred, and triacetyl cellulose is more preferred.

セルロースアシレートフィルムの厚さは、使用目的によって異なるが、通常5〜500μmの範囲であり、さらに20〜250μmの範囲が好ましく、特に30〜180μmの範囲が最も好ましい。なお、光学用途としては30〜110μmの範囲が特に好ましい。セルロースアシレートフィルムを、非塩素系溶媒を用いて製造することについて、発明協会公開技報2001−1745号に詳しく記載されており、そこに記載されたセルロースアシレートフィルムも本発明に好ましく用いることができる。   The thickness of the cellulose acylate film varies depending on the purpose of use, but is usually in the range of 5 to 500 μm, more preferably in the range of 20 to 250 μm, and most preferably in the range of 30 to 180 μm. In addition, as an optical use, the range of 30-110 micrometers is especially preferable. The production of a cellulose acylate film using a non-chlorine solvent is described in detail in JIII Journal of Technical Disclosure No. 2001-1745, and the cellulose acylate film described therein is also preferably used in the present invention. Can do.

透明支持体の光透過率は、80%以上であることが好ましく、86%以上であることがさらに好ましい。透明支持体のヘイズは、2.0%以下であることが好ましく、1.0%以下であることがさらに好ましい。透明支持体の屈折率は、1.4〜1.7であることが好ましい。透明支持体には、赤外線吸収剤あるいは紫外線吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤の添加量は、透明支持体の0.01〜20質量%であることが好ましく、0.05〜10質量%であることがさらに好ましい。滑り剤として、不活性無機化合物の粒子を透明支持体に添加してもよい。該無機化合物の例には、SiO、TiO、BaSO、CaCO、タルクおよびカオリンが含まれる。透明支持体に、表面処理を実施してもよい。
表面処理の例には、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理が含まれる。グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理および火焔処理が好ましく、グロー放電処理と紫外線処理がさらに好ましい。
The light transmittance of the transparent support is preferably 80% or more, and more preferably 86% or more. The haze of the transparent support is preferably 2.0% or less, and more preferably 1.0% or less. The refractive index of the transparent support is preferably 1.4 to 1.7. An infrared absorber or an ultraviolet absorber may be added to the transparent support. The addition amount of the infrared absorber is preferably 0.01 to 20% by mass of the transparent support, and more preferably 0.05 to 10% by mass. As a slip agent, particles of an inert inorganic compound may be added to the transparent support. Examples of the inorganic compound, SiO 2, TiO 2, BaSO 4, CaCO 3, talc and kaolin. A surface treatment may be performed on the transparent support.
Examples of the surface treatment include chemical treatment, mechanical treatment, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment, mixed acid treatment and ozone oxidation treatment. Glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona discharge treatment and flame treatment are preferred, and glow discharge treatment and ultraviolet treatment are more preferred.

[反射防止フィルムの形成方法]
反射防止膜の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法(米国特許第2,681,294号明細書記載)により、透明支持体上に直接又は他の層を介して塗布することにより形成することができる。二層以上を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許第2,761,791号、同第2,941,898号、同第3,508,947号、同第3,526,528号の各明細書および原崎勇次著、「コーティング工学」、253頁、朝倉書店(1973)に記載がある。本願の反射防止膜は、各層の塗布組成物を塗布後、乾燥し、電離放射線又は熱により硬化させることが好ましい。電離放射線を用いることが好ましく、紫外線を用いて硬化する場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。
[Method for forming antireflection film]
Each layer of the antireflection film is formed by a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method or an extrusion coating method (described in US Pat. No. 2,681,294). ) Can be formed by coating directly on the transparent support or through another layer. Two or more layers may be applied simultaneously. For the method of simultaneous application, U.S. Pat. Nos. 2,761,791, 2,941,898, 3,508,947, 3,526,528 and Yuji Harasaki Author, “Coating Engineering”, page 253, Asakura Shoten (1973). The antireflection film of the present application is preferably dried after applying the coating composition of each layer and cured by ionizing radiation or heat. It is preferable to use ionizing radiation, and in the case of curing using ultraviolet rays, ultraviolet rays emitted from light rays such as an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, and a metal halide lamp can be used.

反射防止膜の反射率は低いほど好ましい。反射防止膜の平均反射率は、450〜650nmの波長領域において2%以下であることが好ましく、1%以下であることがさらに好ましく、0.7%以下であることが最も好ましい。反射防止膜(下記のアンチグレア機能がない場合)のヘイズは、3%以下であることが好ましく、1%以下であることがさらに好ましく、0.5%以下であることが最も好ましい。反射防止膜の強度は、1kg荷重の鉛筆硬度で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましい。   The lower the reflectance of the antireflection film, the better. The average reflectance of the antireflection film is preferably 2% or less, more preferably 1% or less, and most preferably 0.7% or less in the wavelength region of 450 to 650 nm. The haze of the antireflection film (when it has no anti-glare function described below) is preferably 3% or less, more preferably 1% or less, and most preferably 0.5% or less. The strength of the antireflection film is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, with a pencil hardness of 1 kg.

反射防止膜は、外光を散乱させるアンチグレア機能を有していてもよい。アンチグレア機能は、反射防止膜の表面に凹凸を形成することにより得られる。微粒子を使用した低屈折率層では、微粒子により反射防止膜の表面に凹凸が形成できる。微粒子により得られるアンチグレア機能では不充分な場合は、低屈折率層、高屈折率層、中屈折率層あるいはハードコート層に比較的大きな粒子(粒径:50nm〜2μm)を少量(0.1〜50質量%)添加してもよい。反射防止膜は、液晶表示装置の視野角(特に下方向視野角)を拡大し、観察方向の視角が変化してもコントラスト低下、階調または黒白反転、あるいは色相変化を抑止する目的で光拡散機能を有していてもよい。光拡散機能は光拡散フィルムに含有される透光性微粒子の内部散乱の効果により実現できる。反射防止膜がアンチグレア機能及び/又は光拡散機能を有する場合、反射防止膜のヘイズは、3〜60%であることが好ましく、4〜40%であることがさらに好ましい。   The antireflection film may have an antiglare function that scatters external light. The antiglare function is obtained by forming irregularities on the surface of the antireflection film. In a low refractive index layer using fine particles, irregularities can be formed on the surface of the antireflection film by the fine particles. When the antiglare function obtained by the fine particles is insufficient, a small amount (0.1 nm) of relatively large particles (particle size: 50 nm to 2 μm) is added to the low refractive index layer, high refractive index layer, medium refractive index layer or hard coat layer. ˜50 mass%) may be added. The anti-reflection film expands the viewing angle (especially the downward viewing angle) of the liquid crystal display device, and diffuses light for the purpose of suppressing contrast degradation, gradation or black-and-white reversal, or hue change even when the viewing angle in the viewing direction changes. It may have a function. The light diffusing function can be realized by the effect of internal scattering of translucent fine particles contained in the light diffusing film. When the antireflection film has an antiglare function and / or a light diffusion function, the haze of the antireflection film is preferably 3 to 60%, and more preferably 4 to 40%.

[画像表示装置]
本発明の画像表示装置は、本発明の反射防止フィルムを備える。
前記画像表示装置としては、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)等が挙げられる。本発明の画像表示装置においては、反射防止フィルムの透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着して形成されることが好ましい。
[Image display device]
The image display device of the present invention includes the antireflection film of the present invention.
Examples of the image display device include a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), and a cathode ray tube display device (CRT). In the image display device of the present invention, it is preferable that the transparent support side of the antireflection film is bonded to the image display surface of the image display device.

[撥水性ポリウレタン用組成物]
本発明の撥水性ポリウレタン用組成物は、少なくとも(A)ポリオール化合物、(B)ポリイソシアネート化合物および(C)下記一般式(II)または(III)で表される含フッ素アルコールの少なくとも1種を含む撥水性ポリウレタン用組成物である。
[Composition for water-repellent polyurethane]
The composition for water-repellent polyurethane of the present invention comprises at least one of (A) a polyol compound, (B) a polyisocyanate compound, and (C) a fluorine-containing alcohol represented by the following general formula (II) or (III). A water-repellent polyurethane composition.

Figure 2008106036
[式中、Rf、Rf、mおよびnは、それぞれ上記一般式(I)で表される重合性フッ素化合物におけるRf、Rf、m、nと同義である。]
一般式(II)および(III)で表される含フッ素アルコールの化合物例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure 2008106036
Wherein, Rf 1, Rf 2, m and n are Rf 1, Rf 2, m in each polymerizable fluorine compound represented by the general formula (I), and n synonymous. ]
Although the example of a compound of the fluorine-containing alcohol represented by general formula (II) and (III) is shown below, this invention is not limited to these.

Figure 2008106036
Figure 2008106036

Figure 2008106036
Figure 2008106036

一般式(II)又は(III)で表わされる含フッ素アルコールのアルコール末端基をアクリル酸ハライド(例えばアクリル酸クロリド)と反応させることによって前記一般式(I)で表わされる化合物のうち、一般式(Ia)で表わされる化合物に対応する末端に炭素−炭素二重結合を有する化合物を得ることができる(後記の実施例1のスキーム2参照)。この際アルコール末端基に対するアクリル酸ハライドのモル比を適宜に制御することにより、未反応のアルコール末端基を生成化合物に残すこともできる。一般式(II)又は(III)の化合物は、一般式(I)で表わされる化合物の前駆物質に相当する。   Of the compounds represented by the general formula (I), the alcohol end group of the fluorine-containing alcohol represented by the general formula (II) or (III) is reacted with an acrylic acid halide (for example, acrylic acid chloride). A compound having a carbon-carbon double bond at the terminal corresponding to the compound represented by Ia) can be obtained (see scheme 2 in Example 1 described later). In this case, unreacted alcohol end groups can be left in the product compound by appropriately controlling the molar ratio of the acrylic acid halide to the alcohol end groups. The compound of the general formula (II) or (III) corresponds to a precursor of the compound represented by the general formula (I).

一般式(II)または(III)で表される含フッ素アルコールの最も好ましい態様は、それぞれ上記一般式(II−1)および(III−1)で表されるものである。
(A)成分のポリオール化合物、(B)成分のポリイソシアネート化合物およびこれらの化合物と一般式(II)および/または(III)で表される(C)成分との混合比率、硬化方法等については特に限定されないが、好ましい態様としては、特開平7−316500号に記載されたものを挙げることができる。
一般式(II)で表される含フッ素アルコールは上記(化14)に示したルートで合成することができる。また、一般式(III)で表される含フッ素アルコールは、例えば以下のルートで合成することができる。
The most preferred embodiments of the fluorinated alcohol represented by the general formula (II) or (III) are those represented by the above general formulas (II-1) and (III-1), respectively.
Regarding the polyol compound of component (A), the polyisocyanate compound of component (B) and the mixing ratio of these compounds to the component (C) represented by formula (II) and / or (III), the curing method, etc. Although not particularly limited, preferred embodiments include those described in JP-A-7-316500.
The fluorine-containing alcohol represented by the general formula (II) can be synthesized by the route shown in the above (Chemical Formula 14). Moreover, the fluorine-containing alcohol represented by general formula (III) is compoundable by the following routes, for example.

Figure 2008106036
Figure 2008106036

以下、実施例に基づき本発明についてさらに詳細に説明するが本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated in detail based on an Example, this invention is not limited to these.

<実施例1:含フッ素アルコールおよび重合性含フッ素化合物の合成>
(化合物例M5の合成)
以下のスキームにしたがって、本発明の含フッ素アルコールII−1および重合性含フッ素化合物M5を合成した。
<Example 1: Synthesis of fluorine-containing alcohol and polymerizable fluorine-containing compound>
(Synthesis of Compound Example M5)
According to the following scheme, the fluorine-containing alcohol II-1 and the polymerizable fluorine-containing compound M5 of the present invention were synthesized.

Figure 2008106036
Figure 2008106036

(化合物3の合成)
t−ブトキシカリウム(253g)のt−ブタノール(750ml)溶液にトリメチロールエタン(30g)を加え、さらに2−クロロ酢酸(122g)を滴下した。反応液を還流温度で6時間攪拌し、室温まで冷却後、36%塩酸水(200ml)およびエタノール(500ml)を加え、不溶物を濾別した。濾液を減圧にて濃縮後、エタノール(1L)および濃硫酸(100ml)を加え、還流温度で3時間攪拌した。減圧にてエタノール(約600ml)を留去後、反応液を酢酸エチル(1.5L)/炭酸水素ナトリウム(300g)/水(1.5L)にゆっくり注いだ。有機層を食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウム上で乾燥した。減圧にて濃縮後、カラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサン=1/4)で精製することにより化合物3(45g、43%)を得た。化合物3のNMR測定の結果は下記のとおりであった。
H NMR(CDCl) δ 0.99(s,3H),1.28(t,J=7.0Hz,9H),1.36(d,J=6.9Hz,9H),3.25〜3.53(m,6H),3.90〜3.97(m,3H),4.13〜4.24(m,6H)]
(Synthesis of Compound 3)
Trimethylolethane (30 g) was added to a solution of t-butoxypotassium (253 g) in t-butanol (750 ml), and 2-chloroacetic acid (122 g) was further added dropwise. The reaction mixture was stirred at reflux temperature for 6 hours, cooled to room temperature, 36% aqueous hydrochloric acid (200 ml) and ethanol (500 ml) were added, and the insoluble material was filtered off. The filtrate was concentrated under reduced pressure, ethanol (1 L) and concentrated sulfuric acid (100 ml) were added, and the mixture was stirred at reflux temperature for 3 hr. After distilling off ethanol (about 600 ml) under reduced pressure, the reaction solution was slowly poured into ethyl acetate (1.5 L) / sodium hydrogen carbonate (300 g) / water (1.5 L). The organic layer was washed with brine and dried over magnesium sulfate. After concentration under reduced pressure, purification by column chromatography (developing solvent: ethyl acetate / hexane = 1/4) gave Compound 3 (45 g, 43%). The NMR measurement results of Compound 3 were as follows.
[ 1 H NMR (CDCl 3 ) δ 0.99 (s, 3H), 1.28 (t, J = 7.0 Hz, 9H), 1.36 (d, J = 6.9 Hz, 9H), 3. 25 to 3.53 (m, 6H), 3.90 to 3.97 (m, 3H), 4.13 to 4.24 (m, 6H)]

(化合物4の合成)
リチウムアルミニウムヒドリド(7.1g)をテトラヒドロフラン(270ml)に分散し、25℃以下の温度で化合物3(21.7g)のテトラヒドロフラン(70ml)溶液を滴下した。反応液を室温にて3時間攪拌後、水(14ml)および10%水酸化ナトリウム溶液(11.2ml)をゆっくり滴下し、さらに1時間攪拌した。不溶物を濾別し、濾液に食塩水(60ml)を加えた。分液後、有機層を減圧にて濃縮することにより、化合物4(12g、80%)を得た。化合物4のNMR測定結果は下記のとおりであった。
H NMR(CDCl) δ 0.91(s,3H),1.08(d,J=6.0Hz,9H),2.40(brs,3H),3.29〜3.63(m,15H)]
(Synthesis of Compound 4)
Lithium aluminum hydride (7.1 g) was dispersed in tetrahydrofuran (270 ml), and a solution of compound 3 (21.7 g) in tetrahydrofuran (70 ml) was added dropwise at a temperature of 25 ° C. or lower. After the reaction solution was stirred at room temperature for 3 hours, water (14 ml) and 10% sodium hydroxide solution (11.2 ml) were slowly added dropwise, and the mixture was further stirred for 1 hour. Insoluble material was filtered off, and brine (60 ml) was added to the filtrate. After liquid separation, the organic layer was concentrated under reduced pressure to obtain Compound 4 (12 g, 80%). The NMR measurement results of Compound 4 were as follows.
[ 1 H NMR (CDCl 3 ) δ 0.91 (s, 3H), 1.08 (d, J = 6.0 Hz, 9H), 2.40 (brs, 3H), 3.29 to 3.63 ( m, 15H)]

(化合物5の合成)
化合物4(12g)およびピリジン(19.8ml)のテトラヒドロフラン(120ml)溶液に7H−ドデカフルオロペンタノイルクロリド(30.6ml)を滴下し、室温にて5時間攪拌した。反応液を酢酸エチル(200ml)および食塩水(200ml)に注ぎ、分液した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥後、減圧にて濃縮した。残渣をカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサン=1/4)で精製することにより化合物5(44g、84%)を得た。化合物5のNMR測定結果は下記のとおりであった。
H NMR(CDCl) δ 0.86(s,3H),1.15(d,J=6.3Hz,9H),3.17〜3.24(m,3H),3.20〜3.34(m,3H),3.61〜3.67(m,3H),4.23〜4.35(m,6H),6.04(tt,J=51.6,5.1Hz,3H)]
19F NMR(CDCl) δ −118.46(s,6F),−121.97(6F),−122.69,−123.52(6F),−129.45(6F),−137.14(d,J=51.6Hz,6F)]
(Synthesis of Compound 5)
7H-dodecafluoropentanoyl chloride (30.6 ml) was added dropwise to a solution of compound 4 (12 g) and pyridine (19.8 ml) in tetrahydrofuran (120 ml), and the mixture was stirred at room temperature for 5 hours. The reaction mixture was poured into ethyl acetate (200 ml) and brine (200 ml) and separated. The organic layer was dried over magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by column chromatography (developing solvent: ethyl acetate / hexane = 1/4) to obtain Compound 5 (44 g, 84%). The NMR measurement results of Compound 5 were as follows.
[ 1 H NMR (CDCl 3 ) δ 0.86 (s, 3H), 1.15 (d, J = 6.3 Hz, 9H), 3.17 to 3.24 (m, 3H), 3.20 to 3.34 (m, 3H), 3.61 to 3.67 (m, 3H), 4.23 to 4.35 (m, 6H), 6.04 (tt, J = 51.6, 5.1 Hz) , 3H)]
[ 19 F NMR (CDCl 3 ) δ −118.46 (s, 6F), −121.97 (6F), −122.69, −123.52 (6F), −129.45 (6F), −137 .14 (d, J = 51.6 Hz, 6F)]

(化合物7の合成)
原料供給口、フッ素供給口、へリウムガス供給口およびドライアイスで冷却した還流装置を経由してフッ素トラップに接続されている排気口を備えた500mlテフロン(登録商標)製容器に、フッ化ナトリウム(29.5g)およびFC−72(350ml)を入れて、内温20℃にてヘリウムガスを流速100ml/minで30分間吹き込んだ。引き続き20%F/Nガスを100ml/minで30分間吹き込んだ後、フッ素流量を200ml/minとし、化合物5(15g)とヘキサフルオロベンゼン(4.35ml)の混合溶液を2.6ml/hで添加した。フッ素流量を100ml/minに下げ、ヘキサフルオロベンゼン(1.3ml)を0.6ml/hで添加し、さらに20%F/Nガスを100ml/minで15分間流した。反応器をヘリウムガスで置換した後、メタノール(100ml)を加え、1時間攪拌した。反応液をろ過した後、常圧にてFC−72を加熱留去し、さらに100mmHgの減圧下でメタノールを留去した。濃縮残渣をAK−225/炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、AK−225層を硫酸マグネシウム上で乾燥した。AK−225を300mmHgで留去した後、残渣を2mmHgで蒸留精製することにより、化合物7(3.5g、40%)を得た。化合物7のNMR測定結果及び融点は下記のとおりであった。
H NMR(CDCl) δ 3.98(s,9H)]
19F NMR(CDCl) δ −63.04〜−63.15(m,3F),−63.78(d,J=154Hz,3F),−68.46(d,J=154Hz,3F),−82.10(s,9F),−130.98〜−131.31(m,3F)]
[b.p.=115℃(2mmHg)]
(Synthesis of Compound 7)
In a 500 ml Teflon (registered trademark) container equipped with a raw material supply port, a fluorine supply port, a helium gas supply port and an exhaust port connected to a fluorine trap via a reflux device cooled with dry ice, sodium fluoride ( 29.5 g) and FC-72 (350 ml) were added, and helium gas was blown at an internal temperature of 20 ° C. at a flow rate of 100 ml / min for 30 minutes. Subsequently, 20% F 2 / N 2 gas was blown at 100 ml / min for 30 minutes, the fluorine flow rate was adjusted to 200 ml / min, and a mixed solution of compound 5 (15 g) and hexafluorobenzene (4.35 ml) was 2.6 ml / min. Added in h. The fluorine flow rate was lowered to 100 ml / min, hexafluorobenzene (1.3 ml) was added at 0.6 ml / h, and 20% F 2 / N 2 gas was further allowed to flow at 100 ml / min for 15 minutes. After replacing the reactor with helium gas, methanol (100 ml) was added and stirred for 1 hour. After filtering the reaction solution, FC-72 was distilled off by heating at normal pressure, and methanol was further distilled off under reduced pressure of 100 mmHg. The concentrated residue was washed with AK-225 / aqueous sodium bicarbonate solution, and the AK-225 layer was dried over magnesium sulfate. After AK-225 was distilled off at 300 mmHg, the residue was purified by distillation at 2 mmHg to obtain Compound 7 (3.5 g, 40%). The NMR measurement results and melting points of Compound 7 were as follows.
[ 1 H NMR (CDCl 3 ) δ 3.98 (s, 9H)]
[ 19 F NMR (CDCl 3 ) δ −63.04 to −63.15 (m, 3F), −63.78 (d, J = 154 Hz, 3F), −68.46 (d, J = 154 Hz, 3F ), −82.10 (s, 9F), −130.98 to −131.31 (m, 3F)]
[B. p. = 115 ° C (2mmHg)]

(化合物II−1の合成)
リチウムアルミニウムヒドリド(1.75g)をジエチルエーテル(10ml)に分散し、10℃以下の温度で化合物7(3.5g)のジエチルエーテル(30ml)溶液を滴下した。反応液を室温にて6時間攪拌し、酢酸エチル(100ml)をゆっくり滴下した。この溶液を、希塩酸水/氷/酢酸エチルにゆっくり注ぎ、不溶物を濾別した。有機層を水および食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥後減圧にて濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサン=1/1)で精製することにより化合物II−1(3.1g、99%)を粘稠な油状物として得た。化合物II−1のNMR測定結果は下記のとおりであった。
H NMR(CDCl) δ 4.12〜4.17(m,6H)]
19F NMR(CDCl) δ −63.78(d,J=147Hz,3F),−64.18〜−64.41(m,3F),−68.46(d,J=147Hz,3F),−82.95(s,9F),−136.20〜−136.53(m,3F)]
(Synthesis of Compound II-1)
Lithium aluminum hydride (1.75 g) was dispersed in diethyl ether (10 ml), and a solution of compound 7 (3.5 g) in diethyl ether (30 ml) was added dropwise at a temperature of 10 ° C. or lower. The reaction solution was stirred at room temperature for 6 hours, and ethyl acetate (100 ml) was slowly added dropwise. This solution was slowly poured into dilute hydrochloric acid / ice / ethyl acetate, and insolubles were filtered off. The organic layer was washed with water and brine, dried over magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by column chromatography (developing solvent: ethyl acetate / hexane = 1/1) to obtain Compound II-1 (3.1 g, 99%) as a viscous oil. The NMR measurement result of Compound II-1 was as follows.
[ 1 H NMR (CDCl 3 ) δ 4.12 to 4.17 (m, 6H)]
[ 19 F NMR (CDCl 3 ) δ −63.78 (d, J = 147 Hz, 3F), −64.18 to −64.41 (m, 3F), −68.46 (d, J = 147 Hz, 3F ), −82.95 (s, 9F), −136.20 to −136.53 (m, 3F)]

(化合物M5の合成)
化合物II−1(2.8g)および炭酸カリウム(3.4g)のN−メチルピロリドン(50ml)溶液に、10℃以下の温度でアクリル酸クロリド(1.1ml)を滴下した。反応液を室温にて5時間攪拌後、炭酸カリウム(3.4g)およびアクリル酸クロリド(1.1ml)を追加し、さらに20時間攪拌した。反応液を酢酸エチル(200ml)/希塩酸水(200ml)に注ぎ、分液した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液および食塩水で洗浄後、カラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサン=1/4)で精製することにより化合物M5(2.2g、63%)を得た。化合物M5のNMR測定の結果は下記のとおりであった。
H NMR(CDCl) δ 4.61〜4.80(m,6H)、5.97(dd、J=10.5,1.2Hz,3H),6.14(dd、J=17.1,10.5Hz,3H),(dd、J=17.1,1.2Hz,3H)]
19F NMR(CDCl) δ −63.21(brs,3F),−63.52(d, J=147Hz,3F),−65.88(d,J=147Hz,3F),−82.57(s,9F),−133.39〜−133.48(m,3F)] 粘稠な油状物としてM5を得た。
上記と同様の方法によりM1〜4、M6〜20の化合物を合成した。
(Synthesis of Compound M5)
Acrylic acid chloride (1.1 ml) was added dropwise to a solution of Compound II-1 (2.8 g) and potassium carbonate (3.4 g) in N-methylpyrrolidone (50 ml) at a temperature of 10 ° C. or lower. The reaction mixture was stirred at room temperature for 5 hours, potassium carbonate (3.4 g) and acrylic acid chloride (1.1 ml) were added, and the mixture was further stirred for 20 hours. The reaction mixture was poured into ethyl acetate (200 ml) / dilute aqueous hydrochloric acid (200 ml) and separated. The organic layer was washed with an aqueous sodium hydrogen carbonate solution and brine, and then purified by column chromatography (developing solvent: ethyl acetate / hexane = 1/4) to obtain Compound M5 (2.2 g, 63%). The results of NMR measurement of Compound M5 were as follows.
[ 1 H NMR (CDCl 3 ) δ 4.61-4.80 (m, 6H), 5.97 (dd, J = 10.5, 1.2 Hz, 3H), 6.14 (dd, J = 17 .1, 10.5 Hz, 3H), (dd, J = 17.1, 1.2 Hz, 3H)]
[ 19 F NMR (CDCl 3 ) δ −63.21 (brs, 3F), −63.52 (d, J = 147 Hz, 3F), −65.88 (d, J = 147 Hz, 3F), −82. 57 (s, 9F), -133.39 to -133.48 (m, 3F)] M5 was obtained as a viscous oil.
Compounds M1-4 and M6-20 were synthesized by the same method as above.

<実施例2:含フッ素アルコールの合成>
(化合物III−1の合成)
以下のスキームにしたがって、本発明の含フッ素アルコールIII−1を合成した。
<Example 2: Synthesis of fluorinated alcohol>
(Synthesis of Compound III-1)
The fluorine-containing alcohol III-1 of the present invention was synthesized according to the following scheme.

Figure 2008106036
Figure 2008106036

(化合物9の合成)
原料供給口、フッ素供給口、へリウムガス供給口およびドライアイスで冷却した還流装置を経由してフッ素トラップに接続されている排気口を備えた1000mlテフロン(登録商標)製容器に、フッ化ナトリウム(40.7g)およびFC−72(700ml)を入れて、内温0℃にてヘリウムガスを流速100ml/minで30分間吹き込んだ。引き続き20%F/Nガスを100ml/minで60分間吹き込んだ後、フッ素流量を250ml/minとし、化合物8(15g)とAK−225(33g)の混合溶液を6.0ml/hで添加した。フッ素流量を200ml/minに下げ、ヘキサフルオロベンゼン(3ml)のFC−72(6ml)溶液を2.8ml/hで添加し、さらに20%F/Nガスを200ml/minで15分間流した。反応器をヘリウムガスで置換した後、濾過した。濾液にフッ化ナトリウム(10g)を添加し、メタノール(300ml)を加え、2時間攪拌した。反応液をろ過した後、常圧にてFC−72を加熱留去し、さらに100mmHgの減圧下でメタノールを留去した。濃縮残留物をジエチルエーテル/炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥した。溶媒を減圧下で濃縮することにより、化合物9(6.59g、81%)を無色の油状物として得た。
H NMR(CDCl) δ 3.98(s,12H)]
19F NMR(CDCl) δ −66.2(s,8F),−86.8(s,8F),−122.8(s,8F)]
(Synthesis of Compound 9)
To a 1000 ml Teflon (registered trademark) container equipped with a raw material supply port, a fluorine supply port, a helium gas supply port and an exhaust port connected to a fluorine trap through a reflux device cooled with dry ice, sodium fluoride ( 40.7 g) and FC-72 (700 ml) were added, and helium gas was blown at an internal temperature of 0 ° C. at a flow rate of 100 ml / min for 30 minutes. Subsequently, 20% F 2 / N 2 gas was blown in at 100 ml / min for 60 minutes, the fluorine flow rate was adjusted to 250 ml / min, and a mixed solution of compound 8 (15 g) and AK-225 (33 g) at 6.0 ml / h. Added. The fluorine flow rate was lowered to 200 ml / min, a solution of hexafluorobenzene (3 ml) in FC-72 (6 ml) was added at 2.8 ml / h, and 20% F 2 / N 2 gas was further flowed at 200 ml / min for 15 minutes. did. The reactor was replaced with helium gas and then filtered. Sodium fluoride (10 g) was added to the filtrate, methanol (300 ml) was added, and the mixture was stirred for 2 hours. After filtering the reaction solution, FC-72 was distilled off by heating at normal pressure, and methanol was further distilled off under reduced pressure of 100 mmHg. The concentrated residue was washed with diethyl ether / aqueous sodium hydrogen carbonate solution, and the organic layer was dried over magnesium sulfate. The solvent was concentrated under reduced pressure to give compound 9 (6.59 g, 81%) as a colorless oil.
[ 1 H NMR (CDCl 3 ) δ 3.98 (s, 12H)]
[ 19 F NMR (CDCl 3 ) δ-66.2 (s, 8F), -86.8 (s, 8F), -122.8 (s, 8F)]

(化合物III−1)の合成
リチウムアルミニウムヒドリド(1.75g)をジエチルエーテル(10ml)に分散し、10℃以下の温度で化合物9(3.2g)のジエチルエーテル(30ml)溶液を滴下した。反応液を室温にて6時間攪拌し、酢酸エチル(100ml)をゆっくり滴下した。この溶液を、希塩酸水/氷/酢酸エチルにゆっくり注ぎ、不溶物を濾別した。有機層を水および食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥後減圧にて濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサン=1/1)で精製することにより化合物III−1(2.7g、96%)を粘稠な油状物として得た。化合物III−1のNMR測定結果は下記のとおりであった。
H NMR(CDCl) δ 3.93(s,8H)]
19F NMR(CDCl) δ −66.73(s,J=14Hz,8F),−86.89(s,8F),−127.23(t,J=14Hz,8F)]
Synthesis of (Compound III-1) Lithium aluminum hydride (1.75 g) was dispersed in diethyl ether (10 ml), and a solution of compound 9 (3.2 g) in diethyl ether (30 ml) was added dropwise at a temperature of 10 ° C. or lower. The reaction solution was stirred at room temperature for 6 hours, and ethyl acetate (100 ml) was slowly added dropwise. This solution was slowly poured into dilute hydrochloric acid / ice / ethyl acetate, and insolubles were filtered off. The organic layer was washed with water and brine, dried over magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by column chromatography (developing solvent: ethyl acetate / hexane = 1/1) to give Compound III-1 (2.7 g, 96%) as a viscous oil. The NMR measurement result of Compound III-1 was as follows.
[ 1 H NMR (CDCl 3 ) δ 3.93 (s, 8H)]
[ 19 F NMR (CDCl 3 ) δ −66.73 (s, J = 14 Hz, 8F), −86.89 (s, 8F), −127.23 (t, J = 14 Hz, 8F)]

(比較重合性化合物の合成)
上記含フッ素アルコールIII−1をアクリロイル化することにより、特開平2006−28280号公報に記載の4官能の含フッ素モノマーR2を得た。また、同様の方法により3官能および6官能の含フッ素モノマーR1およびR3を得た。また、上記公報の実施例の項に記載の方法により、含フッ素多官能モノマーR4およびR5を合成した。
(Synthesis of comparative polymerizable compounds)
The tetrafunctional fluorine-containing monomer R2 described in JP-A-2006-28280 was obtained by acryloylating the fluorine-containing alcohol III-1. Further, trifunctional and hexafunctional fluorine-containing monomers R1 and R3 were obtained by the same method. In addition, fluorine-containing polyfunctional monomers R4 and R5 were synthesized by the method described in the Examples section of the above publication.

Figure 2008106036
Figure 2008106036

本発明の化合物および比較化合物R1〜R5のフッ素含有率と架橋間分子量(複数ある場合は一番大きいもの)を表1に示す。   Table 1 shows the fluorine content and the molecular weight between crosslinks of the compounds of the present invention and comparative compounds R1 to R5 (the largest one when there are a plurality of crosslinks).

Figure 2008106036
Figure 2008106036

<実施例3.反射防止膜の作製および評価>
(硬化性樹脂組成物の調製)
表2に示す各成分を混合(括弧内は、固形成分比率を示す)し、メチルエチルケトンに溶解し、30質量%溶液を調製した後、孔径0.25μmのポリテトラフルオロエチレン製フィルターでろ過して、硬化性樹脂組成物を調製した。
表中のIrg907はチバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製の光重合開始剤イルガキュア907(商品名)を表し、WPAG−145は和光純薬株式会社製の光酸発生剤(Bis(cyclohexylsulfonyl)diazomethane)を表す。
<Example 3. Preparation and evaluation of antireflection film>
(Preparation of curable resin composition)
Each component shown in Table 2 is mixed (in parentheses indicate the ratio of solid components), dissolved in methyl ethyl ketone to prepare a 30% by mass solution, and then filtered through a polytetrafluoroethylene filter having a pore size of 0.25 μm. A curable resin composition was prepared.
In the table, Irg907 represents a photopolymerization initiator Irgacure 907 (trade name) manufactured by Ciba Specialty Chemicals, and WPAG-145 represents a photoacid generator (Bis (cyclohexylsulfonyl) diazomethane) manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. Represents.

(反射防止膜の評価)
前述のように調製した、硬化性樹脂組成物をバーコーターを用いてガラス基板上に塗布した。90℃で乾燥した後、窒素雰囲気下で紫外線を照射し、さらに、120℃で10分加熱し、その後、室温まで冷却した。このようにして、作成した反射防止膜(試料P−1〜P−10)のユニバーサル硬度、屈折率、および防汚性の評価を行った。結果を表2に示す。
(Evaluation of antireflection film)
The curable resin composition prepared as described above was applied onto a glass substrate using a bar coater. After drying at 90 ° C., ultraviolet rays were irradiated in a nitrogen atmosphere, and further heated at 120 ° C. for 10 minutes, and then cooled to room temperature. Thus, the universal hardness, refractive index, and antifouling property of the produced antireflection film (samples P-1 to P-10) were evaluated. The results are shown in Table 2.

Figure 2008106036
Figure 2008106036

(評価方法)
ユニバーサル硬度評価:
(株)フィッシャー・インスツルメンツ社製の微小硬度計(フィッシャースコープH100VP−HUC)を用いて測定した。この際、ダイヤモンド製の四角錘圧子(先端対面角度;136)を使用し、押し込み深さが1μmを超えない範囲で、適当な試験荷重下での押し込み深さを測定した。ユニバーサル硬度値(HU)は試験荷重をその試験荷重で生じた圧痕の幾何学的形状から計算される表面積で割った値で表される。
屈折率:
屈折率:アッベ屈折計(アタゴ株式会社製)を用いて測定した。
防汚性の評価:
作製した塗膜の表面に、赤、青、黒の油性マジックで線を書き、室温で24時間放置した後、乾いた布もしくは紙で拭き取ったときの、マジックに対する防汚性のレベルを確認した。判定は次の基準に従った。
全くつかない :○
うっすらと色が残る:△
着色が著しい :×
(Evaluation methods)
Universal hardness evaluation:
It measured using the microhardness meter (Fischer scope H100VP-HUC) by Corporation | KK Fisher Instruments. At this time, a square pyramid indenter (tip-to-face angle; 136 o ) made of diamond was used, and the indentation depth under an appropriate test load was measured in a range where the indentation depth did not exceed 1 μm. Universal hardness value (HU) is expressed as the test load divided by the surface area calculated from the geometry of the indentation produced by the test load.
Refractive index:
Refractive index: Measured using an Abbe refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd.).
Antifouling rating:
Write a line with red, blue, and black oil-based magic on the surface of the prepared coating film. After leaving it to stand at room temperature for 24 hours, the level of antifouling property against the magic when wiped with a dry cloth or paper was confirmed. . The determination was in accordance with the following criteria.
Not at all : ○
A slight color remains: △
Coloring is remarkable: ×

<実施例4.反射防止フィルムの作製および評価>
(反射防止フィルムの作製)
調製した硬化性樹脂組成物を用いて、下記のようにして、透明支持体上に反射防止膜を塗設し、反射防止フィルムを作製した。
<Example 4. Preparation and evaluation of antireflection film>
(Preparation of antireflection film)
Using the prepared curable resin composition, an antireflection film was coated on a transparent support as described below to produce an antireflection film.

(二酸化チタン分散物の調製)
コア/シェル構造の二酸化チタン微粒子(TTO−55B、シェル材料;アルミナ粒子全体の9質量%、石原産業(株)社製、商品名)30g、ポリ(1H,1H,5H−オクタフルオロペンチルアクリレート)4.5g、市販のカチオン性モノマー(DMAEA、商品名、(株)興人社製)0.3gおよびシクロヘキサノン65.2gを、サンドグラインダーミルにより分散し、重量平均径53nmの二酸化チタン分散物を調製した。
(Preparation of titanium dioxide dispersion)
Titanium dioxide fine particles having a core / shell structure (TTO-55B, shell material: 9% by mass of the whole alumina particles, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., trade name) 30 g, poly (1H, 1H, 5H-octafluoropentyl acrylate) 4.5 g, 0.3 g of a commercially available cationic monomer (DMAEA, trade name, manufactured by Kojin Co., Ltd.) and 65.2 g of cyclohexanone were dispersed by a sand grinder mill to obtain a titanium dioxide dispersion having a weight average diameter of 53 nm. Prepared.

(中屈折率層用塗布液の調製)
前記二酸化チタン分散物49.60gに、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物(DPHA(商品名)、日本化薬(株)社製)を18.08g、光重合開始剤(イルガキュア907、商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)社製)を0.920g、光増感剤(カヤキュアーDETX、商品名、日本化薬(株)社製)を0.307g、メチルエチルケトンを230.0gおよびシクロヘキサノンを500g添加して撹拌した。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層形成用の塗布液を調製した。
(Preparation of coating solution for medium refractive index layer)
18.08 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA (trade name), Nippon Kayaku Co., Ltd.) was added to 49.60 g of the titanium dioxide dispersion, and a photopolymerization initiator ( Irgacure 907, trade name, Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. 0.920 g, photosensitizer (Kayacure DETX, trade name, Nippon Kayaku Co., Ltd.) 0.307 g, methyl ethyl ketone 230 0.0 g and 500 g of cyclohexanone were added and stirred. The solution was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 0.4 μm to prepare a coating solution for forming a middle refractive index layer.

(高屈折率層用塗布液の調製)
前記二酸化チタン分散物110.0gに、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物(DPHA(商品名)、日本化薬(株)社製)を6.29g、光重合開始剤(イルガキュア907、商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)社製)を0.520g、光増感剤(カヤキュアーDETX、商品名、日本化薬(株)社製)を0.173g、メチルエチルケトンを230.0gおよびシクロヘキサノンを460.0g添加して撹拌した。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層形成用の塗布液を調製した。
(Preparation of coating solution for high refractive index layer)
To 110.0 g of the titanium dioxide dispersion, 6.29 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA (trade name), manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), a photopolymerization initiator ( Irgacure 907, trade name, Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. 0.520 g, photosensitizer (Kayacure DETX, trade name, Nippon Kayaku Co., Ltd.) 0.173 g, methyl ethyl ketone 230 0.00.0 g and 460.0 g of cyclohexanone were added and stirred. A coating solution for forming a high refractive index layer was prepared by filtering through a polypropylene filter having a pore diameter of 0.4 μm.

(ハードコート層用塗布液の調製)
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物(DPHA(商品名)、日本化薬(株)社製)125gおよびウレタンアクリレートオリゴマー(UV−6300B(商品名)、日本合成化学工業(株)社製)125gを、439gの工業用変性エタノールに溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤(イルガキュア907(商品名)、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)社製)7.5gおよび光増感剤(カヤキュア−DETX(商品名)、日本化薬(株)社製)5.0gを49gのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加えた。混合物を撹拌した後、1ミクロンメッシュのフィルターでろ過してハードコート層形成用の塗布液を調製した。
(Preparation of coating solution for hard coat layer)
125 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA (trade name), Nippon Kayaku Co., Ltd.) and urethane acrylate oligomer (UV-6300B (trade name), Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. 125 g) was dissolved in 439 g of industrially modified ethanol. To the obtained solution, 7.5 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907 (trade name), manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) and a photosensitizer (Kayacure-DETX (trade name), Nippon Kayaku ( A solution prepared by dissolving 5.0 g in 49 g of methyl ethyl ketone was added. The mixture was stirred and then filtered through a 1 micron mesh filter to prepare a coating solution for forming a hard coat layer.

(各層の塗設)
以下のようにして、図2に示す反射防止フィルムを製造した。
透明支持体2としての厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィルム(TD80U(商品名)、富士フイルム(株)社製)上に、前記のハードコート層用塗布液をバーコーターを用いて塗布した。90℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ6μmのハードコート層3を形成した。
ハードコート層3の上に、前記中屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布した。60℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、中屈折率層7(屈折率1.70、膜厚70nm、TTB−55B、21体積%)を形成した。中屈折率層7の上に、前記の高屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布した。60℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、高屈折率層8(屈折率1.95、膜厚75nm)を形成した。
高屈折率層8の上に、前述のように調製した硬化性樹脂組成物を、それぞれバーコーターを用いて塗布し、90℃で乾燥した後、窒素雰囲気下で紫外線を照射し、さらに120℃で10分間加熱し、その後室温まで放冷して低屈折率層5(膜厚100nm)を形成し、反射防止フィルム(S−1〜S−8)を作製した。
(Coating each layer)
The antireflection film shown in FIG. 2 was produced as follows.
On the triacetyl cellulose film (TD80U (trade name), manufactured by FUJIFILM Corporation) having a thickness of 80 μm as the transparent support 2, the hard coat layer coating solution was applied using a bar coater. After drying at 90 ° C., the coating layer was cured by irradiating with ultraviolet rays to form a hard coat layer 3 having a thickness of 6 μm.
On the hard coat layer 3, the medium refractive index layer coating solution was applied using a bar coater. After drying at 60 ° C., the coating layer was cured by irradiating with ultraviolet rays to form a medium refractive index layer 7 (refractive index 1.70, film thickness 70 nm, TTB-55B, 21% by volume). On the middle refractive index layer 7, the coating liquid for high refractive index layer was applied using a bar coater. After drying at 60 ° C., the coating layer was cured by irradiating with ultraviolet rays to form a high refractive index layer 8 (refractive index 1.95, film thickness 75 nm).
On the high refractive index layer 8, the curable resin composition prepared as described above was applied using a bar coater, dried at 90 ° C, and then irradiated with ultraviolet rays in a nitrogen atmosphere, and further 120 ° C. For 10 minutes, and then allowed to cool to room temperature to form a low refractive index layer 5 (film thickness 100 nm) to produce antireflection films (S-1 to S-8).

(反射防止フィルムの評価)
得られた反射防止フィルムについて、平均反射率、鉛筆硬度、および耐擦傷性についての試験を行った。結果を表3に示す。
(Evaluation of antireflection film)
The obtained antireflection film was tested for average reflectance, pencil hardness, and scratch resistance. The results are shown in Table 3.

Figure 2008106036
Figure 2008106036

平均反射率の評価:
分光光度計(日本分光(株)製)を用いて、380〜780nmの波長領域において、入射角5°における分光反射率を測定した。結果には450〜650nmの鏡面平均反射率を用いた。
鉛筆硬度評価:
反射防止フィルムを温度25℃、湿度60%RHで2時間調湿した後、JIS K 5400に記載の鉛筆硬度評価を行った。
耐擦傷性の評価:
作製した皮膜について、膜表面をスチールウール#0000を用いて、1000g/cmの荷重下で10往復擦った後に、傷のつくレベルを確認した。判定は次の基準に従った。
全くつかない :○
細かい傷がつく:△
傷が著しい :×
Average reflectance rating:
Using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation), the spectral reflectance at an incident angle of 5 ° was measured in a wavelength region of 380 to 780 nm. The mirror surface average reflectance of 450-650 nm was used for the result.
Pencil hardness evaluation:
The antireflection film was conditioned at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 60% RH for 2 hours, and then pencil hardness evaluation described in JIS K 5400 was performed.
Evaluation of scratch resistance:
About the produced membrane | film | coat, the film | membrane surface was rubbed 10 times under the load of 1000 g / cm < 2 > using steel wool # 0000, Then, the level which gets damaged was confirmed. The determination was in accordance with the following criteria.
Not at all : ○
Small scratches: △
Scratch is remarkable: ×

以上の結果から明らかなように、R4の含フッ素化合物を用いた塗膜および反射防止フィルムは、高屈折率で、反射率が高く、さらに、硬度、耐擦傷性、および防汚性も不十分であった。また、R5の含フッ素化合物を用いた塗膜および反射防止フィルムは、鉛筆硬度が低く、耐擦傷性および防汚性が不十分であった。
これに対し、本発明の重合性含フッ素多化合物を用いた塗膜および反射防止フィルムは、フッ素含率が高く、且つ、重合性基を多く含み、低屈折率および低反射率でありながら、優れた硬度、耐擦傷性、および防汚性を兼ね備えていた。また、本発明の重合性含フッ素化合物を用いたものの中では、フッ素含率が高いほど反射率の観点で有利であること、および、1分子中に含まれる重合性基の数が多いほど硬度、耐擦傷性の観点で有利であることが分かる。
As is clear from the above results, the coating film and the antireflection film using the fluorine-containing compound of R4 have a high refractive index, a high reflectance, and insufficient hardness, scratch resistance, and antifouling properties. Met. In addition, the coating film and the antireflection film using the fluorine-containing compound of R5 had low pencil hardness and insufficient scratch resistance and antifouling properties.
On the other hand, the coating film and the antireflection film using the polymerizable fluorine-containing multi-compound of the present invention have a high fluorine content and a large number of polymerizable groups, while having a low refractive index and a low reflectance, It had excellent hardness, scratch resistance, and antifouling properties. In addition, among those using the polymerizable fluorine-containing compound of the present invention, the higher the fluorine content, the more advantageous from the viewpoint of reflectance, and the more the number of polymerizable groups contained in one molecule, the higher the hardness. It can be seen that this is advantageous in terms of scratch resistance.

上記の結果をふまえ、重合性モノマーにおいてフッ素含有率及び架橋間分子量が同じである(屈折率ないし反射率が所定の値である)反射防止膜試料(表2)及び反射防止フィルム試料(表3)につき、本発明の試料と比較試料とを対比した。
具体的には、(1)本発明の化合物M5を用いた試料と比較化合物R1を用いた試料、(2)本発明の化合物M13を用いた試料と比較化合物R2を用いた試料、(3)本発明の化合物M17を用いた試料と比較化合物R3を用いた試料を対比した。その結果、硬度及び耐擦傷性について、比較例のものに対し本発明の重合性含フッ素化合物を用いた試料は、いずれの対比においても優れることが分かる。このことから本発明の重合性含フッ素化合物によれば、所望の光学特性において、高い硬度及び優れた耐擦傷性を有する反射防止膜及び反射防止フィルムとすることができることが分かる。
Based on the above results, an antireflection film sample (Table 2) and an antireflection film sample (Table 3) having the same fluorine content and cross-linking molecular weight in the polymerizable monomer (refractive index or reflectance is a predetermined value). ), The sample of the present invention was compared with the comparative sample.
Specifically, (1) a sample using the compound M5 of the present invention and a sample using the comparative compound R1, (2) a sample using the compound M13 of the present invention and a sample using the comparative compound R2, (3) A sample using the compound M17 of the present invention was compared with a sample using the comparative compound R3. As a result, regarding the hardness and scratch resistance, it can be seen that the sample using the polymerizable fluorine-containing compound of the present invention is superior to any of the comparative examples in any comparison. This shows that the polymerizable fluorine-containing compound of the present invention can provide an antireflection film and an antireflection film having high hardness and excellent scratch resistance in desired optical characteristics.

<実施例5>
上記本発明の反射防止フィルム(P−1,2,4,6,及び8)をそれぞれ用いて、画像表示装置を作製した。それらの画像表示装置はいずれも外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止しつつ、かつ表面強度に優れるものであった。
<Example 5>
An image display device was produced using the antireflection films (P-1, 2, 4, 6, and 8) of the present invention. All of these image display devices were excellent in surface strength while preventing a decrease in contrast and reflection of an image due to reflection of external light.

<実施例6.撥水性ポリウレタン組成物の評価>
(水酸基末端液状ポリイソプレンの調製)
1リットル容のステンレス製耐圧反応容器に、イソプレン200g、濃度30%の過酸化水素水100g及びイソプロパノール300gを仕込み、温度116℃、反応時間2.4時間の条件で反応を行なった。反応中において、圧力は最大7.1kg/cmGまで上昇した。反応が終了した後、分液ロートに反応混合物を入れ、600gの水を添加して震盪し、3時間静置した後、油層を分取した。この油層から溶媒,モノマー,低沸点成分を2mmHg,100℃,2時間の条件で留去し、分子鎖末端に水酸基を有する液状ポリイソプレン(収率70重量%)を得た。このものの数平均分子量は1350であり、水酸基含有量は1.54meq/g、粘度は45ポイズ/30℃であった。このときの1分子当たりの平均水酸基数は2.13である。また、H−NMRによる構造解析結果はトランス−1,4構造が56mol%であり、シス−1,4構造が34mol%であって、1,2構造が6mol%、3,4構造が4mol%であった。
<Example 6. Evaluation of water-repellent polyurethane composition>
(Preparation of hydroxyl-terminated liquid polyisoprene)
In a 1 liter stainless steel pressure-resistant reaction vessel, 200 g of isoprene, 100 g of hydrogen peroxide having a concentration of 30% and 300 g of isopropanol were charged, and the reaction was performed at a temperature of 116 ° C. and a reaction time of 2.4 hours. During the reaction, the pressure rose to a maximum of 7.1 kg / cm 2 G. After the reaction was completed, the reaction mixture was placed in a separatory funnel, 600 g of water was added, shaken and allowed to stand for 3 hours, and then the oil layer was separated. From this oil layer, the solvent, monomer, and low-boiling components were distilled off under conditions of 2 mmHg and 100 ° C. for 2 hours to obtain liquid polyisoprene having a hydroxyl group at the molecular chain terminal (yield 70% by weight). This had a number average molecular weight of 1350, a hydroxyl group content of 1.54 meq / g, and a viscosity of 45 poise / 30 ° C. At this time, the average number of hydroxyl groups per molecule is 2.13. The structure analysis result by 1 H-NMR shows that the trans-1,4 structure is 56 mol%, the cis-1,4 structure is 34 mol%, the 1,2 structure is 6 mol%, and the 3,4 structure is 4 mol%. %Met.

(ポリウレタン硬化物の作成と評価)
第4表に示す配合からジイソシアネート化合物を除く他の成分を混合し、60℃で2時間攪拌した。この混合物にジイソシアネート化合物を第4表に示す割合で加え、60℃で2分間攪拌し、液状重合体組成物を得た。これを300×150×2mmの金型上に流し、60℃で2時間プレス後、60℃で15時間養生して硬化物を得た。液状混合物の相溶性、および硬化物の撥水性、ブリード、タックの有無、擦傷性を評価した結果を表5に示す。
(Creation and evaluation of cured polyurethane)
Other components excluding the diisocyanate compound were mixed from the formulation shown in Table 4 and stirred at 60 ° C. for 2 hours. A diisocyanate compound was added to the mixture at a ratio shown in Table 4, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 2 minutes to obtain a liquid polymer composition. This was poured onto a 300 × 150 × 2 mm mold, pressed at 60 ° C. for 2 hours, and then cured at 60 ° C. for 15 hours to obtain a cured product. Table 5 shows the results of evaluating the compatibility of the liquid mixture, the water repellency of the cured product, the presence or absence of bleed and tack, and the scratch resistance.

Figure 2008106036
Figure 2008106036

*1:上記で合成した水酸基末端液状ポリイソプレン、水酸基含量=1.54meq/g
*2:カルボジイミド変性ジフェニルメタンジイソシアネート(イソシアネート含量29%)
*3:HOCH(CF2)CHOH水酸基含量=4.33meq/g、融点124〜128℃
II−1:水酸基含量=4.46meq/g、粘稠オイル
III−1:水酸基含量=5.00meq/g、粘稠オイル
*4:ジブチル錫ジラウリレート
* 1: Hydroxyl-terminated liquid polyisoprene synthesized above, hydroxyl content = 1.54 meq / g
* 2: Carbodiimide-modified diphenylmethane diisocyanate (isocyanate content 29%)
* 3: HOCH 2 (CF 2 ) 8 CH 2 OH hydroxyl group content = 4.33 meq / g, melting point 124-128 ° C.
II-1: hydroxyl group content = 4.46 meq / g, viscous oil
III-1: hydroxyl group content = 5.00 meq / g, viscous oil * 4: dibutyltin dilaurate

Figure 2008106036
Figure 2008106036

(相溶性の評価)
第4表に示す配合からジイソシアネート化合物を除く他の成分を混合し、150℃で15時間後の外観を観察し、次の3段階で評価した。
○:均一透明、△:白濁、×:二層分離
(接触角)
上記のようにして得られた硬化物に対する水の接触角を、CA-X型の接触角計(協和界面科学(株)製)を用い、測定温度20℃の条件にて測定した。接触角が大きい程、そのサンプル撥水性は高いと評価される。
(ブリードおよびタックの確認)
上記のようにして得られた硬化物を1週間室温にて放置し、目視によるブリード確認及び指触によるタックの有無を確認した。
(耐擦傷性)
上記のようにして得られた硬化物の表面をスチールウール#0000を用いて、100g/cmの荷重下で10往復擦った後に、傷のレベルを観察し、次の3段階で評価した。
○:ほとんど傷が認められない、△:細かい傷が認められる、×:著しい傷が認められる
(Compatibility evaluation)
Other components excluding the diisocyanate compound were mixed from the formulation shown in Table 4, the appearance after 15 hours at 150 ° C. was observed, and evaluated in the following three stages.
○: Uniform transparency, △: White turbidity, ×: Two-layer separation (contact angle)
The contact angle of water with the cured product obtained as described above was measured using a CA-X contact angle meter (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) at a measurement temperature of 20 ° C. The larger the contact angle, the higher the sample water repellency.
(Check bleed and tack)
The cured product obtained as described above was allowed to stand at room temperature for 1 week, and the presence or absence of tackiness due to visual bleed confirmation and finger touch was confirmed.
(Abrasion resistance)
The surface of the cured product obtained as described above was rubbed 10 times under a load of 100 g / cm 2 using steel wool # 0000, and then the level of scratches was observed and evaluated in the following three stages.
○: Almost no scratches are observed, Δ: Fine scratches are observed, ×: Significant scratches are observed

図1は、本発明の反射防止フィルム一実施態様を模式的に示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing one embodiment of the antireflection film of the present invention. 図2は、本発明の反射防止フィルムの別の実施態様を模式的に示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing another embodiment of the antireflection film of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 反射防止フィルム
2 透明支持体
3 ハードコート層
5 低屈折率層
6 反射防止膜
7 中屈折率層
8 高屈折率層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Antireflection film 2 Transparent support 3 Hard coat layer 5 Low refractive index layer 6 Antireflection film 7 Middle refractive index layer 8 High refractive index layer

Claims (16)

下記一般式(I)で表される重合性含フッ素化合物であって、フッ素含有率が該含フッ素化合物の分子量について35質量%以上であり、該化合物を重合させたとき、重合により得られ重合体の架橋間分子量の計算値がいずれも300以下となることを特徴とする重合性含フッ素化合物。
Figure 2008106036
[式中、Rfは少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子及び/又は水素原子を含んでもよい、鎖状又は環状の、(m+n)価のフッ化炭化水素基を表す。Rfは少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子及び/又は水素原子を含んでもよい、鎖状又は環状の、1価のフッ化炭化水素基を表す。mおよびnはそれぞれ独立に、0以上の整数(ただし、m+n≧2)を表す。Qは重合性基を表す。ただし、複数のRfは同一でも異なってもよく、またnが2以上のとき、複数のQは同一でも異なってもよい。]
A polymerizable fluorine-containing compound represented by the following general formula (I) having a fluorine content of 35% by mass or more with respect to the molecular weight of the fluorine-containing compound, and is obtained by polymerization when the compound is polymerized. A polymerizable fluorine-containing compound characterized in that the calculated molecular weight between crosslinks of the coal is 300 or less.
Figure 2008106036
[Wherein, Rf 1 represents a linear or cyclic (m + n) -valent fluorinated hydrocarbon group containing at least a carbon atom and a fluorine atom, and may contain an oxygen atom and / or a hydrogen atom. Rf 2 represents a linear or cyclic monovalent fluorinated hydrocarbon group containing at least a carbon atom and a fluorine atom, and may contain an oxygen atom and / or a hydrogen atom. m and n each independently represents an integer of 0 or more (provided that m + n ≧ 2). Q represents a polymerizable group. However, the plurality of Rf 2 may be the same or different, and when n is 2 or more, the plurality of Q may be the same or different. ]
前記一般式(I)において、Qが−COC(R)=CH、アリル基、エポキシアルキレン基、−(CHSi(OW)、−(CHNCOまたは−(CHCN(ここで、Rは水素原子、ハロゲン原子または置換基を有してよいアルキル基を表す。Wはアルコキシ基または水酸基を表す。x、yおよびzはそれぞれ1以上の整数を表す。3個のWは互いに異なってもよい。)であることを特徴とする請求項1に記載の重合性含フッ素化合物。 In the general formula (I), Q is —COC (R 0 ) ═CH 2 , an allyl group, an epoxyalkylene group, — (CH 2 ) x Si (OW) 3 , — (CH 2 ) y NCO or — (CH 2 ) z CN (wherein R 0 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group which may have a substituent. W represents an alkoxy group or a hydroxyl group. X, y and z each represents an integer of 1 or more. 3. The polymerizable fluorine-containing compound according to claim 1, wherein three Ws may be different from each other. 前記一般式(I)で表される化合物が、下記一般式(Ia)で表される化合物であることを特徴とする請求項1または2に記載の重合性含フッ素化合物。
Figure 2008106036
[式中、Rf、Rf、mおよびnはそれぞれ前記一般式(I)と同義であり、Rは水素原子、フッ素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表す。]
The polymerizable fluorine-containing compound according to claim 1 or 2, wherein the compound represented by the general formula (I) is a compound represented by the following general formula (Ia).
Figure 2008106036
[Wherein, Rf 1 , Rf 2 , m and n each have the same meaning as in the general formula (I), and R represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group or a trifluoromethyl group. ]
前記一般式(Ia)で表される化合物において、Rが水素原子であることを特徴とする請求項3に記載の重合性含フッ素化合物。   The polymerizable fluorine-containing compound according to claim 3, wherein R is a hydrogen atom in the compound represented by the general formula (Ia). 前記mが0で、前記nが3〜6の整数であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の重合性含フッ素化合物。   The polymerizable fluorine-containing compound according to any one of claims 1 to 4, wherein m is 0 and n is an integer of 3 to 6. Rfがトリフルオロメチル基であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の重合性含フッ素化合物。 Rf 2 is a trifluoromethyl group, The polymerizable fluorine-containing compound according to claim 1, wherein Rf 2 is a trifluoromethyl group. 液相フッ素化の手法を用いて製造されたことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の重合性含フッ素化合物。   The polymerizable fluorine-containing compound according to claim 1, wherein the polymerizable fluorine-containing compound is produced using a liquid phase fluorination technique. 請求項1〜7のいずれか1項に記載の重合性含フッ素化合物を少なくとも1種含有する硬化性樹脂組成物を硬化してなる低屈折率層を有することを特徴とする反射防止膜。   An antireflection film comprising a low refractive index layer obtained by curing a curable resin composition containing at least one polymerizable fluorine-containing compound according to any one of claims 1 to 7. 請求項1〜7のいずれか1項に記載の重合性含フッ素化合物および無機酸化物微粒子を含有する硬化性樹脂組成物を硬化してなる低屈折率層を有することを特徴とする反射防止膜。   An antireflection film comprising a low refractive index layer obtained by curing the curable resin composition containing the polymerizable fluorine-containing compound according to any one of claims 1 to 7 and inorganic oxide fine particles. . 前記無機酸化物微粒子が中空シリカ微粒子であることを特徴とする請求項9に記載の反射防止膜。   The antireflection film according to claim 9, wherein the inorganic oxide fine particles are hollow silica fine particles. 透明支持体上に請求項8〜10のいずれか1項に記載の反射防止膜が設けられたことを特徴とする反射防止フィルム。   The antireflection film according to any one of claims 8 to 10 is provided on a transparent support. 請求項11に記載の反射防止フィルムを備えたことを特徴とする画像表示装置。   An image display device comprising the antireflection film according to claim 11. 少なくとも、(A)ポリオール化合物、(B)ポリイソシアネート化合物および(C)下記一般式(II)および/または(III)で表される含フッ素アルコールからなる撥水性ポリウレタン用組成物。
Figure 2008106036
[式中、Rfは少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子及び/又は水素原子を含んでもよい、鎖状又は環状の、q価のフッ化炭化水素基を表す。qは2以上の整数を表す。Rfは少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子及び/又は水素原子を含んでもよい、鎖状又は環状の、1価のフッ化炭化水素基を表す。また上記式中メチロール基のヒドロキシル基の水素原子は重合性基Qで置換されていてもよく、このQを導入した化合物のフッ素含有率は該化合物の分子量について35質量%以上であり、該化合物を重合させたとき、重合により得られ重合体の架橋間分子量の計算値がいずれも300以下となる。またnが2以上のとき、複数のQは同一でも異なってもよい。]
A composition for water-repellent polyurethane comprising at least (A) a polyol compound, (B) a polyisocyanate compound, and (C) a fluorinated alcohol represented by the following general formula (II) and / or (III).
Figure 2008106036
[Wherein, Rf 1 represents a linear or cyclic q-valent fluorinated hydrocarbon group containing at least a carbon atom and a fluorine atom, and may contain an oxygen atom and / or a hydrogen atom. q represents an integer of 2 or more. Rf 2 represents a linear or cyclic monovalent fluorinated hydrocarbon group containing at least a carbon atom and a fluorine atom, and may contain an oxygen atom and / or a hydrogen atom. In the above formula, the hydrogen atom of the hydroxyl group of the methylol group may be substituted with a polymerizable group Q, and the fluorine content of the compound into which Q is introduced is 35% by mass or more with respect to the molecular weight of the compound. When the polymer is polymerized, the calculated values of the molecular weight between crosslinks of the polymer obtained by polymerization are all 300 or less. When n is 2 or more, the plurality of Qs may be the same or different. ]
少なくとも(A)ポリオール化合物、(B)ポリイソシアネート化合物および(C)下記式(II−1)または(III−1)で表される含フッ素アルコールの少なくとも1種を含む撥水性ポリウレタン用組成物。
Figure 2008106036
A composition for water-repellent polyurethane comprising at least one of (A) a polyol compound, (B) a polyisocyanate compound and (C) a fluorinated alcohol represented by the following formula (II-1) or (III-1).
Figure 2008106036
下記一般式(II)または(III)で表される含フッ素アルコール。
Figure 2008106036
[式中、Rfは少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子及び/又は水素原子を含んでもよい、鎖状又は環状の、q価のフッ化炭化水素基を表す。qは2以上の整数を表す。Rfは少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子及び/又は水素原子を含んでもよい、鎖状又は環状の、1価のフッ化炭化水素基を表す。また上記式中メチロール基のヒドロキシル基の水素原子は重合性基Qで置換されていてもよく、このQを導入した化合物のフッ素含有率は該化合物の分子量について35質量%以上であり、該化合物を重合させたとき、重合により得られ重合体の架橋間分子量の計算値がいずれも300以下となる。またnが2以上のとき、複数のQは同一でも異なってもよい。]
A fluorine-containing alcohol represented by the following general formula (II) or (III).
Figure 2008106036
[Wherein, Rf 1 represents a linear or cyclic q-valent fluorinated hydrocarbon group containing at least a carbon atom and a fluorine atom, and may contain an oxygen atom and / or a hydrogen atom. q represents an integer of 2 or more. Rf 2 represents a linear or cyclic monovalent fluorinated hydrocarbon group containing at least a carbon atom and a fluorine atom, and may contain an oxygen atom and / or a hydrogen atom. In the above formula, the hydrogen atom of the hydroxyl group of the methylol group may be substituted with a polymerizable group Q, and the fluorine content of the compound into which Q is introduced is 35% by mass or more with respect to the molecular weight of the compound. When the polymer is polymerized, the calculated values of the molecular weight between crosslinks of the polymer obtained by polymerization are all 300 or less. When n is 2 or more, the plurality of Qs may be the same or different. ]
下記一般式(II−1)または(III−1)で表される含フッ素アルコール。
Figure 2008106036
Fluorine-containing alcohol represented by the following general formula (II-1) or (III-1).
Figure 2008106036
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