JP2008104894A

JP2008104894A - 塗布物被塗布材の製造方法および製造装置、表面マスク

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Publication number: JP2008104894A
Application number: JP2005036907A
Authority: JP
Inventors: Kenichi Nagayama; 健一永山
Original assignee: Pioneer Electronic Corp
Current assignee: Pioneer Corp
Priority date: 2005-02-14
Filing date: 2005-02-14
Publication date: 2008-05-08
Also published as: TW200638788A; WO2006085457A1

Abstract

【課題】より高精度に塗布物が塗布された塗布物被塗布材の製造方法および製造装置、表面マスクを提供する。
【解決手段】塗布物被塗布材の製造方法および製造装置は、塗布物が被塗布材表面に塗布される対応箇所が貫通し、被塗布材表面に塗布されることを防止する対応箇所が非貫通してなるマスクパターンが形成された表面マスクで被塗布材表面を覆い、前記表面マスクを通じて噴射ノズルから前記塗布物を噴射し、塗布してなる塗布物表面塗布材の製造方法であって、前記被塗布材表面から前記表面マスクの背面との間を離すことで、前記噴射される塗布物の液滴の直径よりも大きな厚さのギャップを形成し、前記ギャップの形成後、前記塗布物を噴射し、塗布する。
【選択図】図１

Description

本発明は、塗布物被塗布材の製造方法および製造装置、表面マスク、特に塗布物が被塗布材表面に塗布される対応箇所が貫通し、被塗布材表面に塗布されることを防止する対応箇所が非貫通してなるマスクパターンが形成された表面マスクで被塗布材表面を覆い、前記表面マスクを通じて噴射ノズルから前記塗布物を噴射し、塗布してなる塗布物被塗布材の製造方法および製造装置、表面マスクに関する。

塗布物が被塗布材表面に塗布される対応箇所が貫通し、被塗布材表面に塗布されることを防止する対応箇所が非貫通してなるマスクパターンが形成された表面マスクで被塗布材表面を覆い、前記表面マスクを通じて噴射ノズルから前記塗布物を噴射し、塗布してなる塗布物被塗布材の製造方法が報告されている。

例えば、塗布物被塗布材の製造方法としてノズルから噴射し、マスクを用いて、有機機能層を所定の形状に形成する技術は、下記特許文献１の他、下記特許文献２、下記特許文献３などにも開示される。

下記特許文献２では、有機化合物の分散粒子を含む組成物を不活性ガスで噴射させ、マスクの開口部を通過させることにより、所定の形状の有機機能層を形成する技術が開示される。

また、下記特許文献３には、真空雰囲気中で、高分子系ＥＬ材料を溶解した溶液をスプレー状に噴出する有機機能層の形成方法が開示される。同文献段落「００３４」には画素塗り分けマスクを用いて赤色の発光層を形成した後、同マスクを所定量ずらし、順次、青色、緑色の発光層を形成する技術が記載される。
特開２００１−２９７８７６号公報特開２００２−３４３５６６号公報特開２００３−２５７６３１号公報

しかしながら、従来の技術では、飛来した液滴が、マスク−基板間に浸入することを考慮しておらず、例えば上記特許文献２の図２に示されるように、マスクと基板を近接させて塗布を行った場合、本願図７のように、マスク−基板間に入射した液が毛管現象によって、マスク−基板間に浸入し、有機機能層のパターンの精度が悪くなる問題があった。特に、良好な膜を形成するために乾きにくい塗布液を使用した場合、この問題は顕著となった。

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、より高精度に塗布物が塗布された塗布物被塗布材の製造方法および製造装置、表面マスクを提供することを主な目的とする。

本発明は、塗布物が被塗布材表面に塗布される対応箇所が貫通し、被塗布材表面に塗布されることを防止する対応箇所が非貫通してなるマスクパターンが形成された表面マスクで被塗布材表面を覆い、前記表面マスクを通じて噴射ノズルから前記塗布物を噴射し、塗布してなる塗布物表面塗布材の製造方法であって、前記被塗布材表面から前記表面マスクの背面との間を離すことで、前記噴射される塗布物の液滴の直径よりも大きな厚さのギャップを形成し、前記ギャップの形成後、前記塗布物を噴射し、塗布することを特徴とする。

本発明は、塗布物が被塗布材表面に塗布される対応箇所が貫通し、被塗布材表面に塗布されることを防止する対応箇所が非貫通してなるマスクパターンが形成された表面マスクで被塗布材表面を覆い、前記表面マスクを通じて噴射ノズルから前記塗布物を噴射し、塗布してなる塗布物表面塗布材の製造装置であって、前記被塗布材表面から前記表面マスクの背面との間を離すことで、前記噴射される塗布物の液滴の直径よりも大きな厚さのギャップを形成し、前記ギャップの形成後、前記塗布物を噴射し、塗布することを特徴とする。

本発明は、被塗布材表面を覆い、噴射ノズルから塗布物を噴射し、塗布してなる塗布物表面塗布材の製造方法に用いられ、前記塗布物が前記被塗布材表面に塗布される対応箇所が貫通し、被塗布材表面に塗布されることを防止する対応箇所が非貫通してなるマスクパターンが形成された表面マスクであって、前記被塗布材表面と前記表面マスクの背面との間に、前記噴射される塗布物の液滴の直径よりも大きな厚さのギャップを形成するように支持する支持体が設けられたことを特徴とする。

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。なお、本実施形態については、本発明を実施するための一形態に過ぎず、本発明は本実施形態によって限定されるものではない。

「有機ＥＬ素子の製造装置」
図１には、塗布物が被塗布材表面に塗布される対応箇所が貫通し、被塗布材表面に塗布されることを防止する対応箇所が非貫通してなるマスクパターンが形成された表面マスクで被塗布材表面を覆い、前記表面マスクを通じて噴射ノズルから前記塗布物を噴射し、塗布してなる塗布物表面塗布材の製造方法であって、前記被塗布材表面から前記表面マスクの背面との間を離すことで、前記噴射される塗布物の液滴の直径よりも大きな厚さのギャップを形成し、前記ギャップの形成後、前記塗布物を噴射し、塗布する有機ＥＬ素子の製造装置が示される。

図１の有機ＥＬ素子の製造装置は、基板表面上に配置された表面マスク、表面マスク上に配置され、スプレー噴射して塗布するノズル、塗布するノズルに塗布液を供給する溶液供給装置を含むものである。表面マスクには、塗布物が被塗布材表面に塗布される対応箇所が貫通して開口部が形成されている。基板上にはこの開口部を通じてのみノズルから噴射（噴出した液滴）が基板に塗布された溶液として基板表面に塗布される。

図１のように、マスクを用いてスプレー塗布をする際、マスクと基板間のギャップの厚さを、ノズルによって霧状に粉砕された液滴の直径以上の距離とする。つまり、図１において、ギャップｇ≧液滴直径ａ、となるようにする。

その方法は、例えば、図３のように、マスク−基板間の一般的なギャップを制御する機構を設けるか、または、図４のように、パターンを形成するマスクの遮蔽部からスプレーの液滴の直径以上突出する凸部を有するように構成してマスクと基板間のギャップの厚さを液滴の直径よりも大きな厚さのギャップを形成する。

一般にスプレー法では、溶液の乾燥速度が速すぎると、膜にムラが生じてしまう。そこで、スプレーに用いる溶液の乾燥速度を遅くして、霧状になった溶液が基板に到達する時点でも乾かずに流動性を保つようにするのが望ましい。そうすることにより、溶液が基板上に到達した後、レベリングし、膜ムラの少ない均一な膜が得られやすい。

よって、溶液に用いる溶媒は乾燥速度があまり早いものは好ましくない。霧状になった液滴の大きさ、塗布雰囲気、ノズルと基板間の距離、等により一概には言えないが、用いる溶液を構成する少なくとも１つの溶媒の揮発性が低いことが好ましく、具体的にその沸点を、少なくとも１００℃、好適なのは１５０℃、最も好適なのは２００℃とするのが望ましい。

本発明で用いるマスクは、塗布液に溶解しない素材を用いるのが好ましい。例えば、ステンレスなどの金属、ポリイミドなどの樹脂が好適である。

マスク−基板間のギャップは、少なくとも基板に到達する直前の液滴の大きさ以上であればよい。ギャップが大きすぎると、マスクに斜めに入射した液滴によってパターンがぼけてしまい好ましくない。ギャップの大きさは、好ましくはマスク開口部の寸法の１／１０以下もしくは１ｍｍ以下、最も好ましくはマスク開口部の寸法の１／１００以下もしくは０．１ｍｍ以下とすることが望ましい。

液滴の大きさは、例えば、レーザー光を用いて測定することができる。基板に到達する直前の液滴の大きさを測定するのは困難な場合が多いため、代わりに、ノズルから飛び出した直後の液滴の大きさを用いても差し支えない。ノズルから飛び出した液滴は、基板に到達するまでに乾燥し小さくなることはあっても、大きくなることはないからである。

ノズルを飛び出した直後の液滴の大きさは、溶液の種類やスプレー条件により一概には言えないが、一般に、１〜１０００μｍである。ノズルを飛び出した直後の液滴の大きさは、小さすぎると液滴が基板に到達する時点で乾いて流動性を失ってしまい、レベリングが不十分となり、均一な膜が形成できなくなる。一方、ノズルを飛び出した直後の液滴の大きさが、大きすぎると、マスク−基板間のギャップを大きく取らなくてはならない。ノズルを飛び出した直後の液滴の大きさは、好ましくは１０〜１００μｍとするのが望ましい。

一般に、液滴の大きさは、一定の大きさではなく、ある幅を持って正規分布に近い分布を持つ。その際は、観測された液滴のうち最も大きいものを基準に、ギャップをそれ以上にするのが望ましい。ただし、液滴大きさの分布の、平均値＋３σの値を基準として、ギャップをそれ以上にすることでも差し支えない。

マスク−基板間のギャップを調整する方法は、任意で構わない。

例えば、図３のようにマスクを保持し、上下に移動することのできる機構を設けることができる。図示していないが、マスク−基板間の距離をセンサーで感知し、ギャップが本発明の範囲になるよう、ギャップ調整機構によってマスクを上下する。マスク−基板間のギャップセンサーは任意でよいが、例えば、フォトレジストの露光装置でフォトマスク−基板間のギャップ測定によく用いられる、光学式のセンサなどを利用しても良い。

図３では、マスクを上下しギャップの調整を行ったが、基板を上下しても、マスクと基板の両方を動かしてもよい。

マスク−基板間のギャップを、液滴の直径以上としたので、飛来した液滴がマスク裏面と基板表面の両側に接触し、毛管現象でマスク−基板間に浸入することを防止できる。

「有機ＥＬ素子」
図２に図１の製造装置により製造された有機ＥＬ素子の構造を示す。有機ＥＬ素子は、発光機能層が主に有機物からなり、陽極からホールが、陰極から電子が注入され、発光層で再結合し発光する。有機ＥＬ素子の有機機能層は通常、ホール注入層／ホール輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層など、それぞれの機能を持つ複数の層からなる。これら各々の有機機能層は通常、有機物からなり、更に、低分子の有機物からなる場合、高分子の有機物からなる場合がある。低分子の有機物からなる有機機能層は一般に蒸着法等のドライプロセス（真空プロセス）によって、高分子の有機物からなる有機機能層は一般にスピンコート法、ブレードコート法、ディップ法、スプレー法そして印刷法等のウエットプロセスによって、それぞれ形成されるのが一般的である。

有機溶媒に可溶な有機物からなる有機機能層の例が、例えば、特開２００３−７４６１1に示されている。特開２００３−７４６１、６頁「００２３」〜「００２４」には、有機機能層に用いる高分子材料として、ＰＥＤＯＴ、ポリアニリン、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリアルキルフェニレン、ポリアセチレン誘導体、などが挙げられている。更に特開２００３−７４６１、７頁「００３１」によると、これらの高分子材料は、トルエン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロホルム、テトラリン、キシレン、アニソール、ジクロロメタン、γブチロラクトン、ブチルセルソルブ、シクロヘキサン、ＮＭＰ（Ｎ−メチル−２−ピロリドン）、ジメチルスルホキシド、シクロヘキサノン、ジオキサンまたは、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）等の溶媒から選ばれた１種または複数種、に前駆体を溶解し、スピンコート法で成膜される。

これら有機機能層は、既知のあらゆる成膜法を用いて形成することができる。特に可溶な有機物からなる有機機能層は、ウエットプロセスによって形成する事ができる。ウエットプロセスで形成する場合は、通常、材料を溶媒に溶解した塗布液を用いる。溶媒としては、前述の溶媒の他、PGME（propyleneglycol monomethyl ether）、PGMEA（propyleneglycol monomethyl ether acetate）、乳酸エチル、DMAc（N.N-dimethylacetamide）、MEK（methyl ethyl ketone）、MIBK（methyl isobutyl ketone）、IPA（iso propyl alcohol）、エタノール等、既知の溶剤を用いる事ができる。

以上のように、従来の有機EL素子やそれを用いた表示パネルでは、有機機能層をウエットプロセスで形成することができる。

ウエットプロセスのうち、特に簡便に成膜できる方法として、例えばスプレー法がある。スプレー法は、例えば特開２００１−２９７８７６の図１に開示される通り、ノズルから溶液を霧状にして基板に吹き付けて成膜する方法である。一般に、有機機能層は所定の形状にパターニングする必要があるが、例えば、特開２００１−２９７８７６の図２の様な方法を用いることができる。特開２００１−２９７８７６の図２の方法では、同文献「００２８」に記載されるように、赤、緑、青色の発光パターンに合わせたマスクや、それに限らず、発光色、発光形状による複数のマスクを交換して成膜できる技術が開示される。この方法では、発光形状の異なったマスクをマスク板収納室に備え、マスク板交換ロボットにより、適宜、パターンの違うマスクを交換することにより、様々なパターン表示が可能な有機ＥＬ素子を作製することが可能とされる。

上記で示されるように本実施形態では、従来技術では、マスク−基板間のギャップについて、全く注意を払っていないのに対し、本発明では、マスク−基板間のギャップを、スプレーによって霧化された液滴の直径以上となるよう、積極的かつ精密に制御する。

次に、本実施形態の変形例について説明する。

「他のギャップ調整機構」
図５のように、本発明による有機ＥＬ製造装置に、マスク−基板間に挿入するスペーサーを具備していても良い。ギャップの調整は、厚さの異なる複数種のスペーサーを用意しておけばよい。スペーサーを挿入するだけなので、機構が単純であり、装置のコストを安くできる。

「液滴観察装置」
図６のように、本発明による有機ＥＬ製造装置に、液滴を観察する装置を具備しても良い。

液滴の入れ替えや、スプレー条件の変更により、液滴の大きさが変わってしまう。よって、液滴を観察する装置があれば、マスク−基板間のギャップを迅速に決定できる。

リアルタイムで液滴を観察し液滴の直径を測定、測定した結果に応じて、マスク−基板間のギャップを最も小さくできるよう、ギャップ調整機構により制御することにより、更に、パターン精度の高い塗布を行うことができる。ギャップをリアルタイムに必要最小限に制御できるので、パターン精度良く有機機能層を形成できる。

「スプレー用マスクの改良」
図３のように、マスク側にギャップの調整機能を具備させることもできる。図３のマスクは、液滴の直径よりも大きく突出する凸部を有している。凸部は基板に突き当たるように形成すれば、どの位置にあっても良い。例えば、図のように、マスクの遮蔽部の一部に形成しても良い。従来のスプレー用マスクは、単純な平板形状。それに対し、本発明によるスプレー用マスクは凸部を有している。それにより、塗布装置にギャップの調整機構を具備する必要がなくなる。

前記ギャップの厚さを、前記貫通した部分の最も短い開口径の１／１０以下とすると好適であるがこれに限られない。

また、本実施形態では、前記ギャップの厚さを、前記貫通した部分の最も短い開口径の１／１００以下とすると好適であるがこれに限られない。前記ギャップの厚さを、１ｍｍ以下とすると好適であるがこれに限られない。前記ギャップの厚さを、０．１ｍｍ以下とすると好適であるがこれに限られない。

本実施形態では、前記液滴の直径の値として、前記液滴の直径の略最大値を用いると好適であるがこれに限られない。前記液滴の直径の値として、前記液滴の直径の平均値＋３σの値を用いると好適であるがこれに限られない。前記液滴の直径を測定し、測定結果に基づき前記ギャップの厚さを調整すると好適であるがこれに限られない。

本実施形態では、前記被塗布材が半導体基板、有機トランジスタ基板、有機ＥＬ素子構成層のうち少なくとも一つであると好適であるがこれに限られない。前記有機ＥＬ素子構成層は、基板、陽極、有機機能層の各層、陰極、基板側の保護バリア膜、封止膜のうち少なくとも１層であると好適であるがこれに限られない。前記塗布物が揮発性の低い溶媒成分を含む（乾燥しにくい）と好適であるがこれに限られない。

本実施形態における塗布物被塗布材の製造装置を模式的に説明する図である。本実施形態における有機ＥＬ素子の断面図である。本実施形態における塗布物被塗布材の製造装置を模式的に説明する図である。本実施形態における塗布物被塗布材の製造装置を模式的に説明する図である。本実施形態における塗布物被塗布材の製造装置を模式的に説明する図である。本実施形態における塗布物被塗布材の製造装置を模式的に説明する図である。本実施形態における塗布物被塗布材の製造装置を模式的に説明する図である。

Claims

塗布物が被塗布材表面に塗布される対応箇所が貫通し、被塗布材表面に塗布されることを防止する対応箇所が非貫通してなるマスクパターンが形成された表面マスクで被塗布材表面を覆い、前記表面マスクを通じて噴射ノズルから前記塗布物を噴射し、塗布してなる塗布物表面塗布材の製造方法であって、
前記被塗布材表面から前記表面マスクの背面との間を離すことで、前記噴射される塗布物の液滴の直径よりも大きな厚さのギャップを形成し、
前記ギャップの形成後、前記塗布物を噴射し、塗布する塗布物表面塗布材の製造方法。
請求項１に記載の塗布物被塗布材の製造方法であって、
前記ギャップの厚さを、前記貫通した開口部の最も短い開口径の１／１０以下とする塗布物表面塗布材の製造方法。
請求項２に記載の塗布物被塗布材の製造方法であって、
前記ギャップの厚さを、前記貫通した開口部の最も短い開口径の１／１００以下とする塗布物表面塗布材の製造方法。
請求項１から３のいずれか１つに記載の塗布物被塗布材の製造方法であって、
前記ギャップの厚さを、１ｍｍ以下とする塗布物表面塗布材の製造方法。
請求項１から４のいずれか１つに記載の塗布物被塗布材の製造方法であって、
前記ギャップの厚さを、０．１ｍｍ以下とする塗布物表面塗布材の製造方法。
請求項１から５のいずれか１つに記載の塗布物被塗布材の製造方法であって、
前記液滴の直径の値として、前記液滴の直径の略最大値を用いる塗布物表面塗布材の製造方法。
請求項１から５のいずれか１つに記載の塗布物被塗布材の製造方法であって、
前記液滴の直径の値として、前記液滴の直径の平均値＋３σの値を用いる塗布物表面塗布材の製造方法。
請求項１から７のいずれか１つに記載の塗布物被塗布材の製造方法であって、
前記液滴の直径を測定し、測定結果に基づき前記ギャップの厚さを調整する塗布物被塗布材の製造方法。
請求項１から８のいずれか１つに記載の塗布物被塗布材の製造方法であって、
前記被塗布材が半導体基板、有機トランジスタ基板、有機ＥＬ素子構成層のうち少なくとも一つである塗布物被塗布材の製造方法。
請求項９に記載の塗布物被塗布材の製造方法であって、
前記有機ＥＬ素子構成層は、基板、陽極、有機機能層の各層、陰極、基板側の保護バリア膜、
封止膜のうち少なくとも１層である塗布物被塗布材の製造方法。
請求項１から１０のいずれか１つに記載の塗布物被塗布材の製造方法であって、
前記塗布物が揮発性の低い溶媒成分を含む塗布物被塗布材の製造方法。
請求項１から１１のいずれか１つに記載の塗布物被塗布材の製造方法であって、
前記被塗布材表面上の前記表面マスクについて、前記ギャップを形成するように支持する塗布物被塗布材の製造方法。
請求項１２に記載の塗布物被塗布材の製造方法であって、
前記支持は、前記表面マスクの背面に設けられた凸部が前記被塗布材表面と接することで支持される塗布物被塗布材の製造方法。
請求項１から１３のいずれか１つに記載の塗布物被塗布材の製造方法であって、
前記ギャップは、その厚さが調整可能な塗布物被塗布材の製造方法。
塗布物が被塗布材表面に塗布される対応箇所が貫通し、被塗布材表面に塗布されることを防止する対応箇所が非貫通してなるマスクパターンが形成された表面マスクで被塗布材表面を覆い、前記表面マスクを通じて噴射ノズルから前記塗布物を噴射し、塗布してなる塗布物表面塗布材の製造装置であって、
前記被塗布材表面から前記表面マスクの背面との間を離すことで、前記噴射される塗布物の液滴の直径よりも大きな厚さのギャップを形成し、
前記ギャップの形成後、前記塗布物を噴射し、塗布する塗布物表面塗布材の製造装置。
請求項１５に記載の塗布物被塗布材の製造装置であって、
前記ギャップの厚さを、前記貫通した開口部の最も短い開口径の１／１０以下とする塗布物表面塗布材の製造装置。
請求項１６に記載の塗布物被塗布材の製造装置であって、
前記ギャップの厚さを、前記貫通した開口部の最も短い開口径の１／１００以下とする塗布物表面塗布材の製造装置。
請求項１５から１７のいずれか１つに記載の塗布物被塗布材の製造装置であって、
前記ギャップの厚さを、１ｍｍ以下とする塗布物表面塗布材の製造装置。
請求項１５から１８のいずれか１つに記載の塗布物被塗布材の製造装置であって、
前記ギャップの厚さを、０．１ｍｍ以下とする塗布物表面塗布材の製造装置。
請求項１５から１９のいずれか１つに記載の塗布物被塗布材の製造装置であって、
前記液滴の直径の値として、前記液滴の直径の略最大値を用いる塗布物表面塗布材の製造装置。
請求項１５から１９のいずれか１つに記載の塗布物被塗布材の製造装置であって、
前記液滴の直径の値として、前記液滴の直径の平均値＋３σの値を用いる塗布物表面塗布材の製造装置。
請求項１５から２１のいずれか１つに記載の塗布物被塗布材の製造装置であって、
前記液滴の直径を測定し、測定結果に基づき前記ギャップの厚さを調整する塗布物被塗布材の製造装置。
請求項１５から２２のいずれか１つに記載の塗布物被塗布材の製造装置であって、
前記被塗布材が半導体基板、有機トランジスタ基板、有機ＥＬ素子構成層のうち少なくとも一つである塗布物被塗布材の製造装置。
請求項２３に記載の塗布物被塗布材の製造装置であって、
前記有機ＥＬ素子構成層は、基板、陽極、有機機能層の各層、陰極、基板側の保護バリア膜、封止膜のうち少なくとも１層である塗布物被塗布材の製造装置。
請求項１５から２４のいずれか１つに記載の塗布物被塗布材の製造装置であって、
前記塗布物が揮発性の低い溶媒成分を含む塗布物被塗布材の製造装置。
請求項１５から２５のいずれか１つに記載の塗布物被塗布材の製造装置であって、
前記被塗布材表面上の前記表面マスクについて、前記ギャップを形成するように支持する塗布物被塗布材の製造装置。
請求項２６に記載の塗布物被塗布材の製造装置であって、
前記支持は、前記表面マスクの背面に設けられた凸部が前記被塗布材表面と接することで支持される塗布物被塗布材の製造装置。
請求項１５から２７のいずれか１つに記載の塗布物被塗布材の製造装置であって、
前記ギャップは、その厚さが調整可能な塗布物被塗布材の製造装置。
被塗布材表面を覆い、噴射ノズルから塗布物を噴射し、塗布してなる塗布物表面塗布材の製造方法に用いられ、前記塗布物が前記被塗布材表面に塗布される対応箇所が貫通し、被塗布材表面に塗布されることを防止する対応箇所が非貫通してなるマスクパターンが形成された表面マスクであって、
前記被塗布材表面と前記表面マスクの背面との間に、前記噴射される塗布物の液滴の直径よりも大きな厚さのギャップを形成するように支持する支持体が設けられた表面マスク。
請求項２９に記載の表面マスクであって、
前記支持体は、前記表面マスクの背面に設けられた凸部である表面マスク。