JP2008096730A - Display panel and color filter substrate used therefor - Google Patents

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Norio Yoshida
徳生 吉田
Kazuhiko Tsuda
和彦 津田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain display quality comparable to that of a flat surface state even when the display panel is in a curved surface state. <P>SOLUTION: The liquid crystal display panel 50 is equipped with: an active matrix substrate 20 having a plurality of pixel electrodes 17 and arranged in a matrix; and a color filter substrate 30 having a color filter layer and disposed opposite to the active matrix substrate 20, wherein the color filter layer is equipped with a plurality of coloring layers 18a which are respectively colored with predetermined colors, and extend in parallel to one another along one arrangement direction of the plurality of pixel electrodes 17. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、表示パネル及びそれに用いられるカラーフィルタ基板に関し、特に、フレキシブルな表示パネルに関するものである。   The present invention relates to a display panel and a color filter substrate used therefor, and more particularly to a flexible display panel.

近年、液晶表示装置や有機EL(Electro Luminescence)表示装置などの分野では、プラスチック基板などの可撓性基板を用いて作製されたフレキシブルな表示パネルが注目されている。   In recent years, in the fields of liquid crystal display devices, organic EL (Electro Luminescence) display devices, and the like, flexible display panels manufactured using a flexible substrate such as a plastic substrate have attracted attention.

例えば、特許文献1には、所定の軸周りに湾曲した状態又は平面状態に変形可能な表示パネルと、その表示パネルに実装され、表示パネルを駆動するための棒状のドライバICとを備え、そのドライバICが湾曲するときの軸に対して平行となるように配置された表示装置が開示されている。これによれば、ドライバICが比較的長い形状であっても、表示パネルの湾曲変形を剛性が高いドライバICによって阻害させないようにすることができる、と記載されている。
特開2005−338179号公報
For example, Patent Document 1 includes a display panel that can be deformed into a curved state or a planar state around a predetermined axis, and a rod-shaped driver IC that is mounted on the display panel and drives the display panel. A display device is disclosed which is arranged so as to be parallel to an axis when the driver IC is curved. According to this, it is described that even if the driver IC has a relatively long shape, the curved deformation of the display panel can be prevented from being hindered by the driver IC having high rigidity.
JP 2005-338179 A

図5は、従来の湾曲変形可能な液晶表示パネル150の断面模式図である。   FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a conventional liquid crystal display panel 150 that can be bent and deformed.

この液晶表示パネル150は、互いに対向して配置されたアクティブマトリクス基板120及びカラーフィルタ基板130と、それらの両基板120及び130の間に設けられた液晶層125とを備えている。   The liquid crystal display panel 150 includes an active matrix substrate 120 and a color filter substrate 130 that are arranged to face each other, and a liquid crystal layer 125 provided between the substrates 120 and 130.

アクティブマトリクス基板120は、プラスチック基板などの絶縁基板110aと、絶縁基板110a上に画像の最小単位である画素毎に設けられた薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor、以下、「TFT」と称する)105と、各TFT105のドレイン電極114bに接続された画素電極117とを備えている。ここで、アクティブマトリクス基板120では、複数の画素電極117がマトリクス状に配置されている。   The active matrix substrate 120 includes an insulating substrate 110a such as a plastic substrate, a thin film transistor (hereinafter referred to as “TFT”) 105 provided for each pixel which is the minimum unit of an image on the insulating substrate 110a, And a pixel electrode 117 connected to the drain electrode 114b of the TFT 105. Here, in the active matrix substrate 120, a plurality of pixel electrodes 117 are arranged in a matrix.

カラーフィルタ基板130は、プラスチック基板などの絶縁基板110bと、絶縁基板110b上に設けられたカラーフィルタ層118と、カラーフィルタ層118上に設けられた共通電極119とを備えている。ここで、カラーフィルタ層118は、図6に示すように、アクティブマトリクス基板120上の各画素電極117に対応してマトリクス状に設けられた着色層118aと、各着色層118aの間に設けられたブラックマトリクス118bとを備えている。なお、各着色層118aは、例えば、赤(R)、緑(G)又は青(B)に着色されている。   The color filter substrate 130 includes an insulating substrate 110b such as a plastic substrate, a color filter layer 118 provided on the insulating substrate 110b, and a common electrode 119 provided on the color filter layer 118. Here, as shown in FIG. 6, the color filter layer 118 is provided between the colored layers 118a provided in a matrix corresponding to the pixel electrodes 117 on the active matrix substrate 120, and between the colored layers 118a. And a black matrix 118b. Each colored layer 118a is colored, for example, red (R), green (G), or blue (B).

また、液晶表示パネル150では、各画素電極117と各着色層118aとが重畳するように、アクティブマトリクス基板120とカラーフィルタ基板130とが互いに位置合わせされた状態で貼り合わされている。そして、図7に示すように、液晶表示パネル150を軸L周りに湾曲状に変形させた場合には、例えば、図8中のC領域において、各画素電極117と各着色層118aとが重畳していたとしても、湾曲方向に沿った先の図8中の領域Eにおいて、各画素電極117と各着色層118aとが重畳しなくなることがある。   In the liquid crystal display panel 150, the active matrix substrate 120 and the color filter substrate 130 are bonded together so that the pixel electrodes 117 and the colored layers 118a overlap each other. As shown in FIG. 7, when the liquid crystal display panel 150 is deformed in a curved shape around the axis L, for example, each pixel electrode 117 and each colored layer 118a overlap each other in a region C in FIG. Even in such a case, the pixel electrodes 117 and the colored layers 118a may not overlap each other in the region E in FIG. 8 along the bending direction.

具体的には、図8に示すように、カラーフィルタ基板130が外側になるように液晶表示パネル150を湾曲状に変形させた場合、カラーフィルタ基板130の曲率半径がアクティブマトリクス基板120の曲率半径よりも大きくなるので、図9に示すように、例えば、左上から3番目の画素電極117cが本来単独で重畳すべき左上から3番目の着色層118a(R3)だけでなく、その右隣の左上から4番目の着色層118a(R4)にも重畳することになる。そうなると、例えば、着色層118a(R4)では、画素電極117d−着色層118a(R4)間の本来かかるべき印加電圧によって発色するだけではなく、画素電極117c−着色層118a(R4)間の本来かかるべきでない印加電圧によっても発色することになるため、液晶表示パネル150の表示品位が著しく低下してしまう。   Specifically, as shown in FIG. 8, when the liquid crystal display panel 150 is curved so that the color filter substrate 130 is on the outside, the curvature radius of the color filter substrate 130 is the curvature radius of the active matrix substrate 120. As shown in FIG. 9, for example, the third pixel electrode 117c from the upper left is not only the third colored layer 118a (R3) from the upper left that should be superimposed independently, but also the upper left adjacent to the right. To the fourth colored layer 118a (R4). Then, for example, in the colored layer 118a (R4), not only is the color applied by the originally applied voltage between the pixel electrode 117d and the colored layer 118a (R4), but also the original color is applied between the pixel electrode 117c and the colored layer 118a (R4). Since the color is generated even by an applied voltage that should not be applied, the display quality of the liquid crystal display panel 150 is significantly deteriorated.

本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、表示パネルが湾曲した状態であっても、平面状態と同等の表示品位を保持することにある。   The present invention has been made in view of such a point, and an object of the present invention is to maintain display quality equivalent to that of a flat state even when the display panel is curved.

上記目的を達成するために、本発明は、カラーフィルタ層が、各々、所定の色に着色され、互いに平行に延びる複数の着色層を備えるようにしたものである。   In order to achieve the above object, according to the present invention, the color filter layer includes a plurality of colored layers that are each colored in a predetermined color and extend in parallel with each other.

具体的に本発明に係る表示パネルは、マトリクス状に配列された複数の画素電極を有するアクティブマトリクス基板と、上記アクティブマトリクス基板に対向して配置され、カラーフィルタ層を有するカラーフィルタ基板とを備えた表示パネルであって、上記カラーフィルタ層は、上記複数の画素電極の一方の配列方向に沿って、各々、所定の色に着色され、互いに平行に延びる複数の着色層を備えていることを特徴とする。   Specifically, a display panel according to the present invention includes an active matrix substrate having a plurality of pixel electrodes arranged in a matrix, and a color filter substrate disposed opposite to the active matrix substrate and having a color filter layer. In the display panel, the color filter layer includes a plurality of colored layers that are colored in a predetermined color and extend in parallel with each other along one arrangement direction of the plurality of pixel electrodes. Features.

上記の構成によれば、カラーフィルタ基板上のカラーフィルタ層が、アクティブマトリクス基板上の複数の画素電極の一方の配列方向に沿って、各々、例えば、赤色、緑色又は青色の所定の色に着色され、互いに平行に延びる複数の着色層を備えているので、各画素電極により構成され、上記一方の配列方向に沿って並ぶ各画素の間には、従来のカラーフィルタ基板上に設けられていたブラックマトリクスが存在しないことになる。そのため、表示パネルが画素電極の一方の配列方向に沿って、すなわち、カラーフィルタ基板上の各着色層の延びる方向に沿って湾曲している場合であっても、アクティブマトリクス基板上の各画素電極に対応するカラーフィルタ基板上の各領域には、ブラックマトリクスが配置されずに、表示パネルが平面状態である場合と同様に、所定の各着色層が配置されるので、平面状態と同等の表示品位が保持される。これにより、表示パネルが湾曲した状態であっても、平面状態と同等の表示品位が保持される。   According to the above configuration, the color filter layer on the color filter substrate is colored in a predetermined color of, for example, red, green, or blue, respectively, along one arrangement direction of the plurality of pixel electrodes on the active matrix substrate. In addition, since a plurality of colored layers extending in parallel to each other are provided, each pixel electrode is provided on a conventional color filter substrate between the pixels arranged along the one arrangement direction. There will be no black matrix. Therefore, each pixel electrode on the active matrix substrate is curved even when the display panel is curved along one arrangement direction of the pixel electrodes, that is, along the extending direction of each colored layer on the color filter substrate. In each region on the color filter substrate corresponding to the above, no black matrix is arranged, and each display layer is arranged in the same manner as in the case where the display panel is in a flat state. Quality is maintained. Thereby, even if the display panel is in a curved state, the display quality equivalent to the flat state is maintained.

また、上記のように、アクティブマトリクス基板に対向する基板側にカラーフィルタ層が設けられたフレキシブルな表示パネルにおいて、湾曲した状態であっても、平面状態と同等の表示品位が保持されるので、フレキシブルな表示パネルにおいて、アクティブマトリクス基板の歩留まりに大きく左右するカラーフィルタオンアレイ(CF on Array)構造を採用する必要がなくなる。   In addition, as described above, in a flexible display panel in which a color filter layer is provided on the substrate side facing the active matrix substrate, even in a curved state, a display quality equivalent to a planar state is maintained, In a flexible display panel, it is not necessary to adopt a color filter on array (CF on Array) structure that greatly affects the yield of the active matrix substrate.

上記アクティブマトリクス基板及びカラーフィルタ基板は、可撓性を有し、上記各着色層の延びる方向に沿って湾曲した曲面状に形成されていてもよい。   The active matrix substrate and the color filter substrate may be flexible and may be formed in a curved surface curved along the extending direction of the colored layers.

上記の構成によれば、表示パネルがカラーフィルタ基板の各着色層の延びる方向に沿って湾曲した曲面状に形成されるので、本発明の作用効果が具体的に奏される。ここで、表示パネルの曲面形状は、凸面及び凹面のどららであってもよい。   According to said structure, since a display panel is formed in the curved surface shape curved along the direction where each colored layer of a color filter substrate is extended, the effect of this invention is show | played concretely. Here, the curved shape of the display panel may be a convex surface or a concave surface.

上記アクティブマトリクス基板及びカラーフィルタ基板の間には、液晶層が設けられていてもよい。   A liquid crystal layer may be provided between the active matrix substrate and the color filter substrate.

上記の構成によれば、アクティブマトリクス基板及びカラーフィルタ基板の間に液晶層が設けられた液晶表示パネルにおいて、本発明の作用効果が具体的に奏される。   According to said structure, the effect of this invention is specifically show | played in the liquid crystal display panel in which the liquid crystal layer was provided between the active matrix substrate and the color filter substrate.

上記カラーフィルタ基板の各着色層の間には、遮光膜が設けられていてもよい。   A light shielding film may be provided between the colored layers of the color filter substrate.

上記の構成によれば、遮光膜が互いに平行に延びる複数の着色層の間に設けられているので、表示パネルがカラーフィルタ基板上の各着色層の延びる方向に沿って湾曲している場合であっても、アクティブマトリクス基板上の各画素電極に対応するカラーフィルタ基板上の各領域に遮光膜が配置されないことになる。   According to the above configuration, since the light shielding film is provided between the plurality of colored layers extending in parallel to each other, the display panel is curved along the extending direction of each colored layer on the color filter substrate. Even in such a case, the light shielding film is not disposed in each region on the color filter substrate corresponding to each pixel electrode on the active matrix substrate.

上記アクティブマトリクス基板及びカラーフィルタ基板は、プラスチック基板であってもよい。   The active matrix substrate and the color filter substrate may be plastic substrates.

上記の構成によれば、アクティブマトリクス基板及びカラーフィルタ基板が可撓性を有するプラスチック基板であるので、表示パネルがカラーフィルタ基板の各着色層の延びる方向に沿って湾曲した曲面状に形成され、本発明の作用効果が具体的に奏される。   According to the above configuration, since the active matrix substrate and the color filter substrate are plastic substrates having flexibility, the display panel is formed in a curved surface curved along the extending direction of each colored layer of the color filter substrate, The effects of the present invention are specifically demonstrated.

また、本発明に係るカラーフィルタ基板は、表示パネル用のカラーフィルタ層を有するカラーフィルタ基板であって、上記カラーフィルタ層は、各々、所定の色に着色され、互いに平行に延びる複数の着色層を備えていることを特徴とする。   The color filter substrate according to the present invention is a color filter substrate having a color filter layer for a display panel, and each of the color filter layers is colored in a predetermined color and extends in parallel with each other. It is characterized by having.

上記の構成によれば、カラーフィルタ層が、各々、例えば、赤色、緑色又は青色の所定の色に着色され、互いに平行に延びる複数の着色層を備えているので、各着色層の間には、従来のカラーフィルタ基板上に設けられていたブラックマトリクスが存在しないことになる。そのため、そのカラーフィルタ基板が、例えば、マトリクス状に配列された複数の画素電極を有するアクティブマトリクス基板に対向して配置させることにより、表示パネルを構成し、その表示パネルがカラーフィルタ基板上の各着色層の延びる方向に沿って湾曲している場合であっても、アクティブマトリクス基板上の各画素電極に対応するカラーフィルタ基板上の各領域には、ブラックマトリクスが配置されずに、表示パネルが平面状態である場合と同様に、所定の各着色層が配置されるので、平面状態と同等の表示品位が保持される。これにより、表示パネルが湾曲した状態であっても、平面状態と同等の表示品位が保持される。   According to the above configuration, each of the color filter layers includes, for example, a plurality of colored layers that are colored in a predetermined color of, for example, red, green, or blue and extend in parallel with each other. Thus, the black matrix provided on the conventional color filter substrate does not exist. Therefore, for example, the display panel is configured by arranging the color filter substrate so as to face the active matrix substrate having a plurality of pixel electrodes arranged in a matrix, and the display panel is arranged on each color filter substrate. Even when the coloring layer is curved along the extending direction, the black matrix is not disposed in each region on the color filter substrate corresponding to each pixel electrode on the active matrix substrate, and the display panel is As in the case of the planar state, the predetermined colored layers are arranged, so that the display quality equivalent to the planar state is maintained. Thereby, even if the display panel is in a curved state, the display quality equivalent to the flat state is maintained.

本発明によれば、カラーフィルタ層が、各々、所定の色に着色され、互いに平行に延びる複数の着色層を備えているため、表示パネルが湾曲した状態であっても、平面状態と同等の表示品位を得ることができる。   According to the present invention, the color filter layer is provided with a plurality of colored layers that are each colored in a predetermined color and extend in parallel to each other, so that even if the display panel is curved, it is equivalent to the planar state. Display quality can be obtained.

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。以下の実施形態では、表示パネルとして、各画素毎にTFTが設けられた液晶表示パネルを例示して説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following embodiments, a liquid crystal display panel in which a TFT is provided for each pixel will be described as an example of the display panel. In addition, this invention is not limited to the following embodiment.

図1は、本発明の実施形態に係る液晶表示パネル50の斜視図であり、図2は、液晶表示パネル50の平面状態での断面模式図である。   FIG. 1 is a perspective view of a liquid crystal display panel 50 according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the liquid crystal display panel 50 in a planar state.

液晶表示パネル50は、図2に示すように、アクティブマトリクス基板20と、アクティブマトリクス基板20に対向して配置されたカラーフィルタ基板30と、アクティブマトリクス基板20及びカラーフィルタ基板30の間に設けられた液晶層25とを備えている。   As shown in FIG. 2, the liquid crystal display panel 50 is provided between the active matrix substrate 20, the color filter substrate 30 disposed to face the active matrix substrate 20, and the active matrix substrate 20 and the color filter substrate 30. And a liquid crystal layer 25.

アクティブマトリクス基板20は、互いに平行に延びるように設けられた複数のゲート線(不図示)と、各ゲート線と直交する方向に互いに平行に延びるように設けられた複数のソース線(不図示)と、各ゲート線a及び各ソース線の交差部分のそれぞれに設けられたTFT5と、隣り合う一対のゲート線及び一対のソース線で囲われる領域に各TFT5に対応して設けられた画素電極17とを備えている。ここで、アクティブマトリクス基板20では、各画素電極17によって画像の最小単位である画素が構成され、それらの画素がマトリクス状に配置されることによって表示領域が構成されている。なお、各ゲート線の間には、補助容量を構成するための容量線が設けられていてもよい。   The active matrix substrate 20 includes a plurality of gate lines (not shown) provided so as to extend in parallel with each other and a plurality of source lines (not shown) provided so as to extend in parallel with each other in a direction orthogonal to each gate line. And the TFT 5 provided at each intersection of each gate line a and each source line, and the pixel electrode 17 provided corresponding to each TFT 5 in a region surrounded by a pair of adjacent gate lines and a pair of source lines. And. Here, in the active matrix substrate 20, pixels that are the minimum unit of an image are configured by the pixel electrodes 17, and a display region is configured by arranging these pixels in a matrix. Note that a capacitance line for forming an auxiliary capacitance may be provided between the gate lines.

TFT5は、図2に示すように、絶縁基板10a上に設けられたゲート電極11と、ゲート電極11を覆うように設けられたゲート絶縁膜12と、ゲート絶縁膜12上でゲート電極11に対応する位置に島状に設けられた半導体層13と、半導体層13上で互いに対峙するように設けられたソース電極14a及びドレイン電極14bとを備えている。ここで、ゲート電極11は、ゲート線の延びる方向に対して側方に突出した部分であり、ソース電極14aは、ソース線の延びる方向に対して側方に突出した部分である。また、ドレイン電極14bは、保護絶縁膜15及び層間絶縁膜16の積層膜に形成されたコンタクトホールを介して画素電極17に接続されている。   As shown in FIG. 2, the TFT 5 corresponds to the gate electrode 11 provided on the insulating substrate 10 a, the gate insulating film 12 provided so as to cover the gate electrode 11, and the gate electrode 11 on the gate insulating film 12. The semiconductor layer 13 provided in an island shape at a position where the source electrode 14 a and the drain electrode 14 b are provided so as to face each other on the semiconductor layer 13. Here, the gate electrode 11 is a portion protruding laterally with respect to the extending direction of the gate line, and the source electrode 14a is a portion protruding laterally with respect to the extending direction of the source line. The drain electrode 14 b is connected to the pixel electrode 17 through a contact hole formed in the laminated film of the protective insulating film 15 and the interlayer insulating film 16.

また、アクティブマトリクス20は、可撓性を有する絶縁基板10a上に、ゲート絶縁膜12、保護絶縁膜15及び層間絶縁膜16が順に積層された多層積層構造になっている。   The active matrix 20 has a multilayer laminated structure in which a gate insulating film 12, a protective insulating film 15, and an interlayer insulating film 16 are sequentially laminated on a flexible insulating substrate 10a.

絶縁基板10aとゲート絶縁膜12との層間には、上記各ゲート線及びゲート電極11がそれぞれ設けられている。   The gate lines and the gate electrode 11 are provided between the insulating substrate 10 a and the gate insulating film 12.

ゲート絶縁膜12と保護絶縁膜15及び層間絶縁膜16の積層膜との層間には、半導体層13と、半導体層13の上層に配置された上記各ソース線、ソース電極14a及びドレイン電極14bとがそれぞれ設けられている。   Between the gate insulating film 12 and the laminated film of the protective insulating film 15 and the interlayer insulating film 16, the semiconductor layer 13, the source lines 14 a and the drain electrodes 14 b arranged above the semiconductor layer 13, Are provided.

保護絶縁膜15及び層間絶縁膜16の積層膜の上層には、画素電極17がマトリクス状に設けられている。   Pixel electrodes 17 are provided in a matrix on the upper layer of the protective insulating film 15 and the interlayer insulating film 16.

カラーフィルタ基板30は、可撓性を有する絶縁基板10b上に、カラーフィルタ層18、及び共通電極19が順に積層された多層積層構造になっている。   The color filter substrate 30 has a multilayer stacked structure in which the color filter layer 18 and the common electrode 19 are sequentially stacked on the flexible insulating substrate 10b.

カラーフィルタ層18は、図3に示すように、アクティブマトリクス基板20上の複数の画素電極17の一方の配列方向(図中の縦方向)に沿って、各々、赤色(R)、緑色(G)又は青色(B)に着色され、互いに平行に延びるようにストライプ配列された複数の着色層18a、すなわち、18a(R)、18a(G)及び18a(B)と、各着色層18aの間に互いに平行に延びるように設けられた遮光膜18bとを備えている。ここで、各着色層18aの大きさは、パネルサイズが2.6インチ(QVGA用、画素数:垂直320×RGB×水平240)の場合、縦5cm×横54μm程度であり、パネルサイズが57インチ(Full HD用、画素数:垂直1920×RGB×水平1080)の場合、縦71cm×横200μm程度である。   As shown in FIG. 3, the color filter layer 18 has red (R) and green (G), respectively, along one arrangement direction (vertical direction in the drawing) of the plurality of pixel electrodes 17 on the active matrix substrate 20. ) Or blue (B), and a plurality of colored layers 18a stripe-arranged so as to extend parallel to each other, that is, between 18a (R), 18a (G) and 18a (B), and each colored layer 18a And a light shielding film 18b provided so as to extend in parallel with each other. Here, when the panel size is 2.6 inches (for QVGA, the number of pixels: vertical 320 × RGB × horizontal 240), the size of each colored layer 18a is about 5 cm long × about 54 μm wide and the panel size is 57 inches. In the case of inch (for Full HD, the number of pixels: vertical 1920 × RGB × horizontal 1080), it is about 71 cm long × 200 μm wide.

液晶層25は、電気光学特性を有するネマチック液晶材料などにより構成されている。   The liquid crystal layer 25 is made of a nematic liquid crystal material having electro-optical characteristics.

上記構成の液晶表示パネル50は、各画素において、ゲート線からゲート電極11を介してゲート信号が送られてTFT5をオン状態になったときに、ソース線からソース信号が送られてソース電極14a及びドレイン電極14bを介して、画素電極17に所定の電荷を書き込まれ、画素電極17及び共通電極19の間で電位差が生じることになり、液晶層25からなる液晶容量に所定の電圧が印加されるように構成されている。そして、液晶表示パネル50では、液晶層25の印加電圧の大きさに応じて液晶分子の配向状態が変わることを利用して、外部から入射する光の透過率を調整することにより、画像が表示される。   In the liquid crystal display panel 50 configured as described above, in each pixel, when a gate signal is sent from the gate line via the gate electrode 11 and the TFT 5 is turned on, the source signal is sent from the source line to the source electrode 14a. A predetermined charge is written into the pixel electrode 17 through the drain electrode 14b and a potential difference is generated between the pixel electrode 17 and the common electrode 19, and a predetermined voltage is applied to the liquid crystal capacitor formed of the liquid crystal layer 25. It is comprised so that. In the liquid crystal display panel 50, an image is displayed by adjusting the transmittance of light incident from the outside by utilizing the change in the alignment state of the liquid crystal molecules according to the magnitude of the voltage applied to the liquid crystal layer 25. Is done.

また、液晶表示パネル50は、図1に示すように、軸L周りに、各着色層18aの延びる方向に沿って湾曲した曲面状に形成されるように構成されている。そして、液晶表示パネル50では、カラーフィルタ基板30上の各着色層18aがその湾曲方向に沿って延びるように設けられているので、図4に示すように、例えば、カラーフィルタ基板30の曲率半径がアクティブマトリクス基板20の曲率半径よりも大きくなっても、アクティブマトリクス基板20上の各画素電極17(17a〜17e)がカラーフィルタ基板30上に延びる着色層18a(R)に重畳することになる。   Further, as shown in FIG. 1, the liquid crystal display panel 50 is configured to be formed in a curved surface around the axis L along the extending direction of each colored layer 18a. In the liquid crystal display panel 50, since each colored layer 18a on the color filter substrate 30 is provided so as to extend along the curve direction, for example, as shown in FIG. Is larger than the radius of curvature of the active matrix substrate 20, the pixel electrodes 17 (17 a to 17 e) on the active matrix substrate 20 overlap with the colored layer 18 a (R) extending on the color filter substrate 30. .

次に、図2を参照し、本実施形態の液晶表示パネル50の製造方法について一例を挙げて説明する。本実施形態の製造方法は、アクティブマトリクス基板作製工程、カラーフィルタ基板作製工程及び液晶層形成工程とを備えている。   Next, with reference to FIG. 2, a method for manufacturing the liquid crystal display panel 50 of the present embodiment will be described with an example. The manufacturing method of this embodiment includes an active matrix substrate manufacturing process, a color filter substrate manufacturing process, and a liquid crystal layer forming process.

<アクティブマトリクス基板作製工程>
まず、プラスチック基板(例えば、厚さ0.05mm〜0.2mm程度)などの絶縁基板10a上の基板全体に、アルミニウムやモリブデンなどからなる金属膜を膜厚3000Å程度でスパッタリング法により成膜し、その後、フォトリソグラフィー技術によりパターン形成して、ゲート線及びゲート電極11を形成する。
<Active matrix substrate manufacturing process>
First, a metal film made of aluminum, molybdenum, or the like is formed on the entire substrate on the insulating substrate 10a such as a plastic substrate (for example, a thickness of about 0.05 mm to 0.2 mm) by a sputtering method with a film thickness of about 3000 mm. Thereafter, a pattern is formed by a photolithography technique to form the gate line and the gate electrode 11.

続いて、ゲート線及びゲート電極11が形成された基板全体に、CVD(Chemical Vapor Deposition)法により窒化シリコン膜などを膜厚4000Å程度で成膜し、ゲート絶縁膜12を形成する。   Subsequently, a silicon nitride film or the like is formed to a thickness of about 4000 mm on the entire substrate on which the gate line and the gate electrode 11 are formed by a CVD (Chemical Vapor Deposition) method, thereby forming the gate insulating film 12.

さらに、ゲート絶縁膜12上の基板全体に、CVD法により真性アモルファスシリコン膜(膜厚2000Å程度)と、リンがドープされたn+アモルファスシリコン膜(膜厚1000Å程度)とを連続して成膜し、その後、フォトリソグラフィー技術によりゲート電極11上に島状にパターン形成して、真性アモルファスシリコン層及びn+アモルファスシリコン層からなる半導体層13を形成する。   Further, an intrinsic amorphous silicon film (film thickness of about 2000 mm) and a phosphorus-doped n + amorphous silicon film (film thickness of about 1000 mm) are continuously formed on the entire substrate on the gate insulating film 12 by the CVD method. Thereafter, an island pattern is formed on the gate electrode 11 by a photolithography technique to form a semiconductor layer 13 composed of an intrinsic amorphous silicon layer and an n + amorphous silicon layer.

そして、半導体層13が形成されたゲート絶縁膜12上の基板全体に、アルミニウムやモリブデンなどからなる金属膜を膜厚2000Å程度でスパッタリング法により成膜し、その後、フォトリソグラフィー技術によりパターン形成して、ソース線、ソース電極14a及びドレイン電極14bを形成する。   Then, a metal film made of aluminum, molybdenum, or the like is formed on the entire substrate on the gate insulating film 12 on which the semiconductor layer 13 is formed by a sputtering method with a film thickness of about 2000 mm, and then a pattern is formed by a photolithography technique. The source line, the source electrode 14a, and the drain electrode 14b are formed.

続いて、ソース電極14a及びドレイン電極14bをマスクとして半導体層13のn+アモルファスシリコン層を部分的にエッチングすることにより、チャネル部を形成する。これにより、TFT5が形成される。   Subsequently, the n + amorphous silicon layer of the semiconductor layer 13 is partially etched using the source electrode 14a and the drain electrode 14b as a mask, thereby forming a channel portion. Thereby, the TFT 5 is formed.

さらに、TFT5が形成された基板全体に、CVD法を用いて窒化シリコン膜などを膜厚3000Å程度で成膜し、続いて、スピンコート法などにより膜厚2.0μm程度で感光性アクリル樹脂などを塗布した後に、フォトリソグラフィー技術によりドレイン電極14b上にコンタクトホールをパターン形成して、保護絶縁膜15及び層間絶縁膜16からなる積層膜を形成する。   Further, a silicon nitride film or the like is formed with a film thickness of about 3000 mm on the entire substrate on which the TFT 5 is formed by using a CVD method, and then a photosensitive acrylic resin or the like with a film thickness of about 2.0 μm by a spin coating method or the like. After coating, a contact hole is patterned on the drain electrode 14b by photolithography to form a laminated film composed of the protective insulating film 15 and the interlayer insulating film 16.

そして、層間絶縁膜16上の基板全体に、酸化インジウムと酸化スズとの化合物であるITO(Indium Tin Oxide)膜を膜厚1000Å程度でスパッタリング法により成膜し、その後、フォトリソグラフィー技術によりパターン形成して、画素電極17を形成する。   Then, an ITO (Indium Tin Oxide) film, which is a compound of indium oxide and tin oxide, is formed over the entire substrate on the interlayer insulating film 16 by a sputtering method with a film thickness of about 1000 mm, and then pattern formation is performed by a photolithography technique. Thus, the pixel electrode 17 is formed.

最後に、画素電極17が形成された基板全体に、ポリイミド樹脂を塗布した後に、ラビング処理を行うことにより、配向膜を形成する。   Finally, a polyimide resin is applied to the entire substrate on which the pixel electrodes 17 are formed, and then a rubbing process is performed to form an alignment film.

以上のようにして、アクティブマトリクス基板20を作製することができる。   As described above, the active matrix substrate 20 can be manufactured.

なお、本実施形態のアクティブマトリクス基板作製工程では、半導体層13をアモルファスシリコン膜から形成させる方法を例示したが、ポリシリコン膜から形成させてもよく、さらには、アモルファスシリコン膜にレーザアニール処理を行って結晶性を向上させてもよい。   In the active matrix substrate manufacturing process of this embodiment, the method of forming the semiconductor layer 13 from an amorphous silicon film is exemplified. However, the semiconductor layer 13 may be formed from a polysilicon film, and further, laser annealing treatment may be performed on the amorphous silicon film. May be performed to improve crystallinity.

<カラーフィルタ基板作製工程>
まず、プラスチック基板(例えば、厚さ0.05mm〜0.2mm程度)などの絶縁基板10b上の基板全体に、黒色に着色した感光性樹脂を膜厚2μm程度で成膜した後、フォトリソグラフィー技術によりパターン形成して遮光膜18bを形成する。
<Color filter substrate manufacturing process>
First, a black-colored photosensitive resin is formed to a thickness of about 2 μm on the entire substrate on the insulating substrate 10b such as a plastic substrate (for example, a thickness of about 0.05 mm to 0.2 mm), and then a photolithography technique. Then, a light shielding film 18b is formed by pattern formation.

続いて、各遮光膜18b間に、赤色、緑色又は青色に着色されたカラーレジストを膜厚1.5μm程度で成膜した後、フォトリソグラフィー技術によりパターン形成し、さらに、これを他の2色について繰り返して着色層18a(R)、着色層18a(G)及び着色層18a(B)を形成する。これにより、着色層18a及び遮光膜18bからなるカラーフィルタ層18が形成される。なお、本実施形態では、各着色層18a(R)、18a(G)及び18a(B)をフォトリソグラフィー技術により形成する方法を例示したが、本発明は、各着色層をインクジェット方式などにより形成してもよい。   Subsequently, a color resist colored in red, green, or blue is formed between the respective light shielding films 18b with a film thickness of about 1.5 μm, and then a pattern is formed by a photolithography technique. Is repeated to form the colored layer 18a (R), the colored layer 18a (G) and the colored layer 18a (B). Thereby, the color filter layer 18 which consists of the colored layer 18a and the light shielding film 18b is formed. In the present embodiment, the method of forming the colored layers 18a (R), 18a (G), and 18a (B) by photolithography technology is exemplified. However, in the present invention, the colored layers are formed by an inkjet method or the like. May be.

さらに、カラーフィルタ層18上の基板全体に、ITO膜を膜厚1000Å程度で成膜して共通電極19を形成する。   Further, the common electrode 19 is formed by forming an ITO film with a thickness of about 1000 mm on the entire substrate on the color filter layer 18.

最後に、共通電極19上の基板全体に、ポリイミド樹脂を塗布した後に、ラビング処理を行うことにより、配向膜を形成する。   Finally, a polyimide resin is applied to the entire substrate on the common electrode 19 and then a rubbing process is performed to form an alignment film.

以上のようにして、カラーフィルタ基板30を作製することができる。   The color filter substrate 30 can be manufactured as described above.

<液晶層形成工程>
まず、例えば、上記カラーフィルタ基板作製工程で作製されたカラーフィルタ基板30に、スクリーン印刷又はディスペンサによって熱硬化性エポキシ樹脂などからなるシール材料を表示領域を囲むように液晶注入口の部分を欠いた枠状パターンに塗布することにより、シールパターンを形成する。
<Liquid crystal layer forming step>
First, for example, the color filter substrate 30 manufactured in the color filter substrate manufacturing step is not provided with a liquid crystal inlet portion so as to surround a display region with a sealing material made of a thermosetting epoxy resin or the like by screen printing or a dispenser. By applying to the frame pattern, a seal pattern is formed.

続いて、上記シールパターンが形成されたカラーフィルタ基板30の表示領域に、液晶層25の厚さに相当する直径(例えば、5μm程度)を持ち、プラスチックやシリカビーズなどからなる球状のスペーサーを散布する。なお、本実施形態では、基板上にスペーサを配置する方法として、基板上に球状のスペーサを散布する方法を例示したが、本発明は、例えば、アクティブマトリクス基板上にフォトリソグラフィー技術によりフォトスペーサを形成する方法などであってもよい。   Subsequently, a spherical spacer made of plastic, silica beads or the like having a diameter (for example, about 5 μm) corresponding to the thickness of the liquid crystal layer 25 is scattered on the display area of the color filter substrate 30 on which the seal pattern is formed. To do. In this embodiment, as a method of arranging the spacers on the substrate, a method of dispersing the spherical spacers on the substrate is exemplified. However, in the present invention, for example, the photo spacers are formed on the active matrix substrate by a photolithography technique. It may be a method of forming.

さらに、シールパターンが形成されたアクティブマトリクス基板20と、スペーサーが散布されたカラーフィルタ基板30とを貼り合わせた後に加熱することにより、シールパターンを硬化させて、空の液晶表示パネルを作製する。   Further, the active matrix substrate 20 on which the seal pattern is formed and the color filter substrate 30 on which the spacers are dispersed are bonded together and then heated to cure the seal pattern, thereby producing an empty liquid crystal display panel.

最後に、空の液晶表示パネルに、減圧法により液晶材料を注入した後、液晶注入口にUV硬化樹脂を塗布し、UV照射により、液晶材料を封止する。これによって、液晶層25が形成される。   Finally, after injecting a liquid crystal material into an empty liquid crystal display panel by a decompression method, a UV curable resin is applied to the liquid crystal injection port, and the liquid crystal material is sealed by UV irradiation. Thereby, the liquid crystal layer 25 is formed.

以上のようにして、本実施形態の液晶表示パネル50を製造することができる。また、この後、液晶表示パネル50を各着色層18aの延びる方向に沿って湾曲させ、曲面状に固定することにより、図1に示すように、液晶表示パネル50を軸L周りに湾曲した湾曲状態に製造することができる。   As described above, the liquid crystal display panel 50 of the present embodiment can be manufactured. Thereafter, the liquid crystal display panel 50 is curved along the direction in which each colored layer 18a extends and fixed in a curved surface, whereby the liquid crystal display panel 50 is curved around the axis L as shown in FIG. Can be manufactured to the state.

以上説明したように、本実施形態の液晶表示パネル50によれば、カラーフィルタ基板30上のカラーフィルタ層18が、アクティブマトリクス基板20上の複数の画素電極17の一方の配列方向に沿って、各々、赤色、緑色又は青色に着色され、互いに平行に延びる複数の着色層18aを備えているので、各画素電極17により構成され、画素電極17の一方の配列方向に沿って並ぶ各画素の間には、従来のカラーフィルタ基板130上に設けられていたブラックマトリクス118b(図6参照)が存在しないことになる。そのため、液晶表示パネル50が画素電極17の一方の配列方向に沿って、すなわち、カラーフィルタ基板30上の各着色層18aの延びる方向に沿って湾曲している場合であっても、アクティブマトリクス基板20上の各画素電極17に対応するカラーフィルタ基板30上の各領域には、ブラックマトリクス(118b)が配置されずに、液晶表示パネル50が平面状態である場合と同様に、各着色層18aが配置されるので、平面状態と同等の表示品位を保持することができる。これにより、液晶表示パネル50が湾曲した状態であっても、平面状態と同等の表示品位を保持することができる。   As described above, according to the liquid crystal display panel 50 of the present embodiment, the color filter layer 18 on the color filter substrate 30 extends along one arrangement direction of the plurality of pixel electrodes 17 on the active matrix substrate 20. Since each of the plurality of colored layers 18a is colored red, green, or blue and extends in parallel with each other, each pixel electrode 17 is formed between the pixels arranged along one arrangement direction of the pixel electrodes 17. Therefore, the black matrix 118b (see FIG. 6) provided on the conventional color filter substrate 130 does not exist. Therefore, even when the liquid crystal display panel 50 is curved along one arrangement direction of the pixel electrodes 17, that is, along the extending direction of each colored layer 18 a on the color filter substrate 30, the active matrix substrate In each region on the color filter substrate 30 corresponding to each pixel electrode 17 on 20, the black matrix (118 b) is not disposed, and each colored layer 18 a is similar to the case where the liquid crystal display panel 50 is in a planar state. Therefore, display quality equivalent to that in the flat state can be maintained. Thereby, even if the liquid crystal display panel 50 is in a curved state, the display quality equivalent to the planar state can be maintained.

なお、本実施形態では、RGBの3色の組み合わせの着色層18aを例示したが、本発明は、RGBの3色にイエロー(Y)及びシアン(C)などを追加した多色の組み合わせの着色層であっても、その他の色の組み合わせの着色層であってもよい。   In the present embodiment, the color layer 18a of the RGB three-color combination is illustrated, but the present invention is a multi-color combination coloring in which yellow (Y) and cyan (C) are added to the RGB three colors. Even a layer may be a colored layer of a combination of other colors.

以上説明したように、本発明は、湾曲した状態であっても、平面状態と同等の表示品位を保持することができるので、フレキシブルな表示パネルについて有用である。   As described above, the present invention is useful for a flexible display panel because it can maintain display quality equivalent to that of a flat state even in a curved state.

本発明の実施形態に係る液晶表示パネル50の斜視図である。It is a perspective view of the liquid crystal display panel 50 which concerns on embodiment of this invention. 平面状態での本発明の実施形態に係る液晶表示パネル50を示した断面模式図である。It is the cross-sectional schematic diagram which showed the liquid crystal display panel 50 which concerns on embodiment of this invention in a planar state. 本発明の実施形態に係る液晶表示パネル50を構成するカラーフィルタ基板30の平面模式図である。FIG. 3 is a schematic plan view of a color filter substrate 30 constituting a liquid crystal display panel 50 according to an embodiment of the present invention. 湾曲状態での本発明の実施形態に係る液晶表示パネル50における画素電極17a〜17e及び着色層18a(R)を示した断面模式図である。It is the cross-sectional schematic diagram which showed the pixel electrodes 17a-17e and the colored layer 18a (R) in the liquid crystal display panel 50 which concerns on embodiment of this invention in a curved state. 従来の液晶表示パネル150を示した断面模式図である。FIG. 11 is a schematic cross-sectional view showing a conventional liquid crystal display panel 150. 従来の液晶表示パネル150を構成するカラーフィルタ基板130の平面模式図である。FIG. 10 is a schematic plan view of a color filter substrate 130 constituting a conventional liquid crystal display panel 150. 従来の液晶表示パネル150を湾曲させたときの斜視図である。It is a perspective view when the conventional liquid crystal display panel 150 is curved. 従来の液晶表示パネル150を湾曲させたときの状態を示した断面模式図である。It is the cross-sectional schematic diagram which showed the state when the conventional liquid crystal display panel 150 is curved. 従来の湾曲状の液晶表示パネル150における画素電極117a〜117e及び着色層118a(R1〜R6)を示した断面模式図である。It is the cross-sectional schematic diagram which showed the pixel electrodes 117a-117e and the colored layer 118a (R1-R6) in the conventional curved liquid crystal display panel 150.

符号の説明Explanation of symbols

17 画素電極
18 カラーフィルタ層
18a 着色層
18b 遮光膜
20 アクティブマトリクス基板
25 液晶層
30 カラーフィルタ基板
50 液晶表示パネル
17 Pixel electrode 18 Color filter layer 18a Colored layer 18b Light shielding film 20 Active matrix substrate 25 Liquid crystal layer 30 Color filter substrate 50 Liquid crystal display panel

Claims (6)

マトリクス状に配列された複数の画素電極を有するアクティブマトリクス基板と、
上記アクティブマトリクス基板に対向して配置され、カラーフィルタ層を有するカラーフィルタ基板とを備えた表示パネルであって、
上記カラーフィルタ層は、上記複数の画素電極の一方の配列方向に沿って、各々、所定の色に着色され、互いに平行に延びる複数の着色層を備えていることを特徴とする表示パネル。
An active matrix substrate having a plurality of pixel electrodes arranged in a matrix;
A display panel provided with a color filter substrate disposed opposite to the active matrix substrate and having a color filter layer,
The display panel, wherein the color filter layer includes a plurality of colored layers that are colored in a predetermined color and extend in parallel to each other along one arrangement direction of the plurality of pixel electrodes.
請求項1に記載された表示パネルにおいて、
上記アクティブマトリクス基板及びカラーフィルタ基板は、可撓性を有し、上記各着色層の延びる方向に沿って湾曲した曲面状に形成されていることを特徴とする表示パネル。
The display panel according to claim 1,
The display panel, wherein the active matrix substrate and the color filter substrate are flexible and are formed in a curved surface curved along the extending direction of the colored layers.
請求項1に記載された表示パネルにおいて、
上記アクティブマトリクス基板及びカラーフィルタ基板の間には、液晶層が設けられていることを特徴とする表示パネル。
The display panel according to claim 1,
A display panel, wherein a liquid crystal layer is provided between the active matrix substrate and the color filter substrate.
請求項1に記載された表示パネルにおいて、
上記カラーフィルタ基板の各着色層の間には、遮光膜が設けられていることを特徴とする表示パネル。
The display panel according to claim 1,
A display panel, wherein a light shielding film is provided between the colored layers of the color filter substrate.
請求項1に記載された表示パネルにおいて、
上記アクティブマトリクス基板及びカラーフィルタ基板は、プラスチック基板であることを特徴とする表示パネル。
The display panel according to claim 1,
The display panel, wherein the active matrix substrate and the color filter substrate are plastic substrates.
表示パネル用のカラーフィルタ層を有するカラーフィルタ基板であって、
上記カラーフィルタ層は、各々、所定の色に着色され、互いに平行に延びる複数の着色層を備えていることを特徴とするカラーフィルタ基板。
A color filter substrate having a color filter layer for a display panel,
The color filter substrate, wherein each of the color filter layers includes a plurality of colored layers that are colored in a predetermined color and extend in parallel to each other.
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