JP2008091764A - Electronic component, and film capacitor - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電子部品及びフィルムコンデンサーに関する。 The present invention relates to an electronic component and a film capacitor.
近年、情報通信分野の技術進歩に伴い、制御機器を構成する電子部品に対しての小型化、軽量化、高性能化が強く要望されている。フィルムコンデンサーについても例外ではなく、誘電体フィルムのよりいっそうの薄膜化への取り組みが行われている。例えば、誘電体としてフィルムを前もって製造する方法に対し、1μm以下の厚みの誘電体を真空蒸着法によって薄膜形成しながら同時に金属薄膜電極形成を行ってコンデンサを形成する方法が今後必要となる。 In recent years, along with technological advancement in the field of information communication, there is a strong demand for downsizing, weight reduction, and high performance of electronic components constituting control equipment. Film capacitors are no exception, and efforts are being made to make dielectric films even thinner. For example, a method for forming a capacitor by forming a metal thin film electrode at the same time while forming a thin film of a dielectric having a thickness of 1 μm or less by a vacuum vapor deposition method will be required for a method of manufacturing a film as a dielectric in advance.
下記特許文献1には、有機材料薄膜誘電体を積層してなるフィルムコンデンサーにおいて、電極端面に黄銅を溶射して端面電極を形成することが開示されている。しかし、電極を溶射で形成することで、溶射による熱影響からフィルム自体に溶融や熱変形が生じてしまうという致命的欠点があった。 Patent Document 1 below discloses that a film capacitor formed by laminating an organic material thin film dielectric is formed by thermally spraying brass on an electrode end surface to form an end surface electrode. However, forming the electrode by thermal spraying has a fatal defect that the film itself is melted or thermally deformed due to the thermal effect of thermal spraying.
即ち、フィルムは樹脂材料で出来ている為、溶射の熱影響による溶融や熱変形が問題になりやすい(問題点1)、及び、溶射は粉末材料を大気中で溶融させながら吹き付けるプロセスのため、溶射コーティングには酸化しやすい特徴がある。そのため電気抵抗が高くなりやすく、電極等で使用する場合に電気的損失が大きいといった問題がある(問題点2)。 That is, since the film is made of a resin material, melting and thermal deformation due to the thermal effect of thermal spraying are likely to be a problem (Problem 1), and since thermal spraying is a process of spraying while melting the powder material in the atmosphere, Thermal spray coating has the characteristic of being easily oxidized. For this reason, there is a problem that the electrical resistance tends to be high and the electrical loss is large when used as an electrode or the like (Problem 2).
他方、「コールドスプレー」と呼ばれる溶射技術がある。コールドスプレーは、溶射材料の融点又は軟化温度よりも低い温度のガスを超音速流にして、前記超音速流のガス中に前記溶射材料の粒子を投入し、固相状態のまま基材に衝突させて被膜を形成する技術である。コールドスプレーは、従来のプラズマ溶射法、フレーム溶射法、高速フレーム溶射法などに比べ、溶射材料粒子を加熱・加速する作動ガスの温度が著しく低く、溶射粒子をあまり加熱せずに固相状態のまま基材へ高速で衝突させ、そのエネルギーにより基材と粒子に塑性変形を生じさせて成膜させるものである。これによって得た被膜は、緻密で密度、熱・電気伝導性が高く、酸化や熱変質も少なく、密着性も良好であるという、優れた性質を有する。 On the other hand, there is a thermal spray technique called “cold spray”. In cold spray, a gas having a temperature lower than the melting point or softening temperature of the thermal spray material is converted into a supersonic flow, and the particles of the thermal spray material are injected into the supersonic flow gas, and collide with the base material in a solid state. This is a technique for forming a film. Compared to the conventional plasma spraying method, flame spraying method, and high-speed flame spraying method, the temperature of the working gas for heating and accelerating the sprayed material particles is significantly lower. The substrate is allowed to collide with the substrate at a high speed, and the energy and energy cause plastic deformation of the substrate and particles to form a film. The film thus obtained has excellent properties such as denseness, high density, high heat and electrical conductivity, little oxidation and thermal deterioration, and good adhesion.
下記特許文献2には、電気めっきに用いる不溶性電極をコールドスプレーで形成する発明が開示されている。具体的には、Ti、Ti合金、Ta、Ta合金、Nb、Nb合金、Zr、Zr合金の何れかからなる母材の表面に、Ti、Ti合金、Ta、Ta合金、Nb、Nb合金、Zr、Zr合金の何れかと、該金属又は該合金の酸化物からなり、該酸化物の量が体積%で0.01〜2%である中間層を有し、該中間層の表面に白金族金属酸化物からなる最表層を有することを特徴とする不溶性電極である。
特許文献2に記載の発明は、電気めっきに用いる不溶性電極をコールドスプレーで形成するものの、その溶射材料は、Ti、Ti合金、Ta、Ta合金、Nb、Nb合金、Zr、Zr合金に限られている。その結果、以下のような問題点が生じている。
In the invention described in
使用材料として比較的電気抵抗率が高いTi系、Ta系、Nb系、Zr系を選択しているため、作製した電極も電気抵抗率が高くなり、電気的損失が大きくなりやすい(問題点3)。使用材料として比較的硬いTi系、Ta系、Nb系、Zr系を選択しているため、コールドスプレー皮膜は粒子扁平しにくい。結果として敏密な皮膜が出来にくく、電気抵抗率が高くなりやすく、また成膜しにくいため成膜時間が長くなる(問題点4)。使用材料として比較的高価なTi系、Ta系、Nb系、Zr系を選択している(問題点5)。電極厚さが小さいため熱容量が小さくジュール熱により温度上昇し、基材に熱影響を与えてしまう(問題点6)。 Since Ti-based, Ta-based, Nb-based, and Zr-based materials having a relatively high electrical resistivity are selected as the materials used, the fabricated electrodes also have a high electrical resistivity and electrical loss tends to increase (problem 3). ). Since a relatively hard Ti-based, Ta-based, Nb-based, or Zr-based material is selected as the material used, the cold spray coating is difficult to flatten the particles. As a result, it is difficult to form a sensitive film, the electrical resistivity tends to be high, and the film formation time is long because it is difficult to form a film (Problem 4). Relatively expensive Ti-based, Ta-based, Nb-based, and Zr-based materials are selected as the materials used (Problem 5). Since the electrode thickness is small, the heat capacity is small, the temperature rises due to Joule heat, and the substrate is affected by heat (Problem 6).
更に、下記特許文献3には、ナトリウム硫黄電池において、電極形成の方法として、集電極の表面に高抵抗層の材料を多孔質状態で一体成形して装着するため、表面へ一体成形する装着法は、溶射に限らず、コールドスプレー法,塗布法や焼結法等で実施される旨の記載がある。また、集電極の材料としては、カーボン、グラファイト、クロム、モリブデン等の単体、又は、クロムとコバルト系の合金、クロムと鉄系の合金等である旨の記載がある。 Furthermore, in Patent Document 3 below, as a method for forming an electrode in a sodium-sulfur battery, a high resistance layer material is integrally formed and mounted on the surface of the collector electrode in a porous state. Is not limited to thermal spraying, but there is a description that it is performed by a cold spray method, a coating method, a sintering method, or the like. In addition, there is a description that the material of the collector electrode is carbon, graphite, chromium, molybdenum or the like, or a chromium-cobalt alloy, chromium-iron alloy, or the like.
特許文献2に記載の発明には、以下のような問題点が生じている。使用材料として比較的電気抵抗率が高いCr系、Mo系を選択しているため、作製した電極も電気抵抗率が高くなり、電気的損失が大きくなりやすい(問題点7)。使用材料として比較的硬いCr系、Mo系を選択しているため、コールドスプレー皮膜は粒子扁平しにくい。結果として徹密な皮膜が出来にくく、電気抵抗率が高くなりやすく、また成膜しにくいため成膜時間が長くなる(問題点8)。使用材料として比較的高価なCr系、Mo系を選択している(問題点9)。
The invention described in
本発明は、従来技術が有する諸問題を解決し、フィルム材料(基材)に熱影響を与えることなく、十分な厚さを有する電極を形成することを目的とする。 An object of the present invention is to solve various problems of the prior art and form an electrode having a sufficient thickness without affecting the film material (base material).
本発明者は、特定のコールドスプレーの溶射材料として選択すること、及び、特定の樹脂基材上に電極を形成することで、上記課題が解決されることを見出し、本発明に到達した。 The present inventor has found that the above-mentioned problems can be solved by selecting as a spray material for a specific cold spray and forming an electrode on a specific resin substrate, and has reached the present invention.
即ち、第1に、本発明は、電極が形成された電子部品の発明であり、該電極は、純Cu、Cu系合金、純Al、Al系合金から選択される1種以上を溶射材料とし、該溶射材料の融点又は軟化温度以下の温度のガスを超音速流にして、該超音速流ガス中に該溶射材料の粉粒を投入し、該溶射材料を固相状態のまま基材に衝突させて生じる皮膜からなる。ここで、上記溶射方法は所謂コールドスプレーと呼ばれるものを含むが、本発明では、狭義のコールドスプレーだけでなく、温度等に若干の幅を持たせたコールドスプレーからの派生技術も適用される。これらを含めて広義のコールドスプレーを、本発明では『コールドスプレー』とする。 That is, first, the present invention is an invention of an electronic component in which an electrode is formed, and the electrode uses one or more selected from pure Cu, Cu-based alloy, pure Al, and Al-based alloy as a thermal spray material. , A gas having a temperature equal to or lower than the melting point or softening temperature of the thermal spray material is made to be a supersonic flow, and powder particles of the thermal spray material are put into the supersonic flow gas, and the thermal spray material is left in a solid state on the substrate. It consists of a film produced by collision. Here, the thermal spraying method includes what is called a cold spray. However, in the present invention, not only the narrow spray spray but also a derivative technique derived from a cold spray having a slight width in temperature and the like is applied. A cold spray in a broad sense including these is referred to as “cold spray” in the present invention.
上記方法を用いて電極を形成すれば、従来の溶射と比較して電極の電気抵抗率を小さく出来やすいため、電気的損失の抑制やセンサーの感度向上に有利である。 If the electrode is formed using the above method, it is easy to reduce the electrical resistivity of the electrode as compared with the conventional thermal spraying, which is advantageous in suppressing electrical loss and improving the sensitivity of the sensor.
溶射材料を、純Cu、Cu系合金、純Al、Al系合金から選択される1種以上に限定することで、従来公知の溶射材料と比べて、極めて電気抵抗の小さい電極を形成することが可能となる。 By limiting the thermal spray material to at least one selected from pure Cu, Cu-based alloy, pure Al, and Al-based alloy, it is possible to form an electrode with extremely low electrical resistance as compared with conventionally known thermal spray materials. It becomes possible.
本発明の電子部品としては特に制限されず、金属溶射で電極が形成されてきた各種電子部品が含まれる。具体的には、フィルムコンデンサー、配線基板、サーミスタ(温度センサー)、電池、蛍光ランプ、画像表示装置、バリスタ、圧電素子、熱電素子、赤外線放射装置、紫外線放射装置、放電電極などが好ましく例示される。これらの中で、フィルムコンデンサーがコールドスプレーの低温プロセスという長所が生かせるため、本発明が適用される電子部品として特に好ましい。 The electronic component of the present invention is not particularly limited, and includes various electronic components having electrodes formed by metal spraying. Specifically, film capacitors, wiring boards, thermistors (temperature sensors), batteries, fluorescent lamps, image display devices, varistors, piezoelectric elements, thermoelectric elements, infrared radiation devices, ultraviolet radiation devices, discharge electrodes, etc. are preferably exemplified. . Among these, the film capacitor is particularly preferable as an electronic component to which the present invention is applied because it can take advantage of the cold spray low temperature process.
第2に、本発明は、フィルムコンデンサーの発明であり、金属材料からなる溶射材料の融点又は軟化温度以下の温度のガスを超音速流にして、該超音速流ガス中に該溶射材料の粉粒を投入し、該溶射材料を固相状態のまま樹脂材料からなる基材に衝突させて生じる皮膜を電極としたことを特徴とするフィルムコンデンサーである。 Secondly, the present invention is an invention of a film capacitor, wherein a gas having a temperature equal to or lower than a melting point or a softening temperature of a thermal spray material made of a metal material is converted to a supersonic flow, and the powder of the thermal spray material is put into the supersonic flow gas. The film capacitor is characterized in that a film formed by introducing grains and causing the sprayed material to collide with a base material made of a resin material in a solid state is used as an electrode.
本発明のフィルムコンデンサーにおいて、溶射材料としては特に限定されないが、純Cu、Cu系合金、純Al、Al系合金から選択される1種以上が特に好ましい。 In the film capacitor of the present invention, the thermal spray material is not particularly limited, but at least one selected from pure Cu, Cu-based alloy, pure Al, and Al-based alloy is particularly preferable.
フィルムコンデンサーは樹脂材料上に電極を形成する必要があるが、上記コールドスプレーにより基材の温度上昇を抑制して溶射出来るため、電極の厚さを0.2mm以上とすることが出来る。 Although it is necessary to form an electrode on a resin material for a film capacitor, since the temperature can be sprayed by suppressing the temperature rise of the substrate by the cold spray, the thickness of the electrode can be 0.2 mm or more.
純Cu、Cu系合金、純Al、Al系合金から選択される1種以上を溶射材料としたコールドスプレーにより電極を形成した電子部品は、
(1)Ti系、Ta系、Nb系、Zr系、Cr系、Mo系と比較して電気伝導率の高い材料を選択しているため問題点3及び問題点7を解決する。
(2)Ti系、Ta系、Nb系、Z係、Cr系、Mo系と比較して軟らかい材料を選択しているため問題点4及び問題点8を解決する。
(3)Ti系、Ta系、Nb系、Zr系、Cr系、Mo系と比較して低コスト材であるため問題点5及び問題点9を解決する。
An electronic component in which an electrode is formed by cold spraying using one or more selected from pure Cu, Cu-based alloy, pure Al, and Al-based alloy as a thermal spray material,
(1) Problems 3 and 7 are solved because a material having a higher electrical conductivity than Ti, Ta, Nb, Zr, Cr, and Mo is selected.
(2)
(3) Since it is a low-cost material as compared with Ti, Ta, Nb, Zr, Cr, and Mo, problems 5 and 9 are solved.
コールドスプレーにより樹脂材料からなる基材上に電極を形成したフィルムコンデンサーは、
(4)コールドスプレーは粉末材料を溶融させずに吹き付けるプロセスであるため、基材に与える熱影響が溶射と比較して小さい。従って問題点1を解決する。
(5)従来の溶射と比較して酸化しにくいため問題点2を解決する。
A film capacitor in which electrodes are formed on a base material made of a resin material by cold spray
(4) Since the cold spray is a process in which the powder material is sprayed without melting, the thermal effect on the substrate is smaller than that of thermal spraying. Therefore, Problem 1 is solved.
(5)
フィルムコンデンサーの電極の厚さを0.2mm以上とすることで、
(6)電極の熱容量を向上し、問題点6を解決する。
By setting the thickness of the electrode of the film capacitor to 0.2 mm or more,
(6) The heat capacity of the electrode is improved and the problem 6 is solved.
以下、本発明の実施例と比較例を示す。
[実施例1]
直径25mm、高さ40mmの円柱状樹脂基板の両底面の円形上の1〜2mmに対して、純Cu、純Al、純Ti、純Ta、純Nb、純Zr、純Cr、純Moを溶射材料としてコールドスプレーを行い、電気抵抗率をもとめた。
Examples of the present invention and comparative examples are shown below.
[Example 1]
Thermal spraying of pure Cu, pure Al, pure Ti, pure Ta, pure Nb, pure Zr, pure Cr, and pure Mo is performed on the circular shape of both bottom surfaces of a cylindrical resin substrate having a diameter of 25 mm and a height of 40 mm. Cold spray was used as a material to determine the electrical resistivity.
[比較例1]
直径25mm、高さ40mmの円柱状樹脂基板の両底面の円形上の1〜2mmに対して、純Cu、純Alを溶射材料として従来の溶射を行い、電気抵抗率をもとめた。
[Comparative Example 1]
Conventional thermal spraying was performed by using pure Cu and pure Al as the thermal spraying material for 1-2 mm on the circular shape of both bottom surfaces of a cylindrical resin substrate having a diameter of 25 mm and a height of 40 mm, and the electrical resistivity was obtained.
図1に、純Cu、純Al、純Ti、純Ta、純Nb、純Zr、純Cr、純Moを溶射材料としてコールドスプレーを行った際の電気抵抗率を示す。同時に、これら金属のバルク材の電気抵抗率を示す。更に、図2に、純Cuと純Alを溶射材料としてコールドスプレーを行った際の電気抵抗率、これら金属を溶射材料として従来の溶射を行った際の電気抵抗率、及びこれら金属のバルク材の電気抵抗率を示す。 FIG. 1 shows electrical resistivity when cold spraying is performed using pure Cu, pure Al, pure Ti, pure Ta, pure Nb, pure Zr, pure Cr, and pure Mo as the thermal spray material. At the same time, the electrical resistivity of these metal bulk materials is shown. Furthermore, FIG. 2 shows the electrical resistivity when cold spraying is performed using pure Cu and pure Al as thermal spray materials, the electrical resistivity when performing conventional thermal spraying using these metals as thermal spray materials, and bulk materials of these metals. The electrical resistivity is shown.
図1及び図2の結果より、純Cuと純Alを溶射材料としたコールドスプレー皮膜は、他の6種類の金属を溶射材料としたコールドスプレー皮膜と比較して、電気抵抗率が極めて低いことがわかる。この要因は、(1)純Cuと純Alはバルク材自体の電気抵抗率が低い、(2)純Cuと純Alは、軟らかい金属であるため緻密な皮膜が生成されやすい、ことが考えられる。 From the results of FIG. 1 and FIG. 2, the cold spray film using pure Cu and pure Al as the thermal spray material has an extremely low electrical resistivity compared to the cold spray film using the other six types of metal as the thermal spray material. I understand. This is because (1) pure Cu and pure Al have low electrical resistivity of the bulk material itself, and (2) pure Cu and pure Al are soft metals, so a dense film is likely to be generated. .
また、図2の結果より、従来の溶射皮膜に比べてコールドスプレー皮膜は、電気抵抗率が低い。これは、従来の溶射は粉末材料を大気中で溶融させながら吹き付けるプロセスのため、溶射皮膜は酸化しやすく、そのため電気抵抗率が高くなりやすいのに対して、コールドスプレーは粉末を溶融させないため、溶射皮膜は酸化し難く、電気抵抗率は高くならないことによる。 In addition, from the results of FIG. 2, the cold spray coating has a lower electrical resistivity than the conventional thermal spray coating. This is because conventional thermal spraying is a process in which the powder material is sprayed while being melted in the air, and the thermal spray coating is likely to oxidize, and thus the electrical resistivity tends to be high, whereas cold spray does not melt the powder, This is because the thermal spray coating is difficult to oxidize and the electrical resistivity does not increase.
参考のために、表1に上記電気抵抗率データ(μΩ・cm)と、表2にビガース硬さ(HV)を示す。 For reference, Table 1 shows the electrical resistivity data (μΩ · cm) and Table 2 shows the Vigars hardness (HV).
[実施例2]
直径25mm、高さ40mmの円柱状樹脂基板の両底面の円形上の1〜2mmに対して、純Cuを溶射材料としてコールドスプレーを行い、成膜膜厚に対する基材温度の変化をもとめた。
[Example 2]
Cold spray using pure Cu as a thermal spray material was performed on 1 to 2 mm on the circular shape of both bottom surfaces of a cylindrical resin substrate having a diameter of 25 mm and a height of 40 mm, and the change in the substrate temperature with respect to the film thickness was determined.
[比較例2]
直径25mm、高さ40mmの円柱状樹脂基板の両底面の円形上の1〜2mmに対して、純Cuを溶射材料として従来の溶射を行い、成膜膜厚に対する基材温度の変化をもとめた。
[Comparative Example 2]
Conventional thermal spraying was performed using pure Cu as the thermal spray material on the circular shape of both bottom surfaces of a cylindrical resin substrate having a diameter of 25 mm and a height of 40 mm, and the change in the substrate temperature with respect to the film thickness was determined. .
図3に、実施例2と比較例2の結果を、純Cuを溶射材料としてコールドスプレーを行った場合(■)と、従来の溶射を行った場合(●)の成膜膜厚に対する基材温度の変化を示すグラフとして示す。 FIG. 3 shows the results of Example 2 and Comparative Example 2 with respect to the film thickness when the cold spray is performed using pure Cu as the spraying material (■) and when the conventional spraying is performed (●). It shows as a graph which shows the change of temperature.
図3の結果より、純Cuを溶射材料としてコールドスプレーを行った場合は、樹脂基板の耐熱性を考慮した目標温度100℃以下が可能であるが、従来の溶射を行った場合は、成膜し早い段階から目標温度100℃を越えることがわかる。 From the results shown in FIG. 3, when cold spraying is performed using pure Cu as a thermal spray material, a target temperature of 100 ° C. or less is possible considering the heat resistance of the resin substrate. However, when conventional thermal spraying is performed, film formation is performed. It can be seen that the target temperature exceeds 100 ° C. from an early stage.
[実施例3]
直径25mm、高さ40mmの円柱状樹脂基板の両底面の円形上の1〜2mmに対して、純Cuを溶射材料としてコールドスプレーを行い、実機稼動時における成膜電極厚さに対する電極表面温度の変化をもとめた。
[Example 3]
Cold spraying is performed using pure Cu as a thermal spray material on the circular shape of both bottom surfaces of a cylindrical resin substrate having a diameter of 25 mm and a height of 40 mm. I sought change.
図4に、実施例3の結果をグラフとして示す。図4の結果より、電極厚さ0.2mm以上では、樹脂基板の耐熱性を考慮した目標温度100℃以下が可能であるが、電極厚さ0.2mm未満では、樹脂基板の耐熱性を考慮した目標温度100℃を越えることがわかる。これより、樹脂基板を用いるフィルムコンデンサーでは、電極厚さ0.2mm以上が好ましいことが分かる。 In FIG. 4, the result of Example 3 is shown as a graph. From the results of FIG. 4, when the electrode thickness is 0.2 mm or more, the target temperature of 100 ° C. or less is possible considering the heat resistance of the resin substrate, but when the electrode thickness is less than 0.2 mm, the heat resistance of the resin substrate is considered. It can be seen that the target temperature exceeds 100 ° C. From this, it can be seen that a film capacitor using a resin substrate preferably has an electrode thickness of 0.2 mm or more.
コールドスプレーを用いて電極を形成することで各種電子部品の電極を電気抵抗率が低く、対象基板の熱損傷を低く抑えることが可能となる。 By forming an electrode using cold spray, the electrical resistivity of the electrodes of various electronic components is low, and thermal damage of the target substrate can be suppressed low.
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