JP2008091629A - 放射線画像検出器 - Google Patents
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Abstract
【課題】所定の電圧が印加される電極層と、放射線の照射を受けて電荷を発生する光導電層と、基板とがこの順に積層された放射線画像検出器であって、電極層に所定の電圧を供給するための通電部の剥がれによる電圧供給不良を抑制する。
【解決手段】電極層11から基板14上の電圧供給位置Pまで延びる通電部20の少なくとも基板に接する部分を電極層11の材料より基板14との密着性が高い材料で形成する。
【選択図】図2
【解決手段】電極層11から基板14上の電圧供給位置Pまで延びる通電部20の少なくとも基板に接する部分を電極層11の材料より基板14との密着性が高い材料で形成する。
【選択図】図2
Description
本発明は、所定の電圧が印加される電極層と、放射線の照射を受けて電荷を発生する光導電層と、基板とが積層された放射線画像検出器であって、電極層に所定の電圧を供給するための通電部を備えた放射線画像検出器に関するものである。
従来、医療分野などにおいて、被写体を透過した放射線の照射を受けて電荷を発生し、その電荷を蓄積することにより被写体に関する放射線画像を記録する放射線画像検出器が各種提案、実用化されている。
そして、上記のような放射線画像検出器としては、たとえば、特許文献1には、放射線を透過する第1の電極層、放射線の照射を受けることにより電荷を発生する記録用光導電層、潜像電荷に対しては絶縁体として作用し、かつ潜像電荷と逆極性の輸送電荷に対しては導電体として作用する電荷輸送層、読取光の照射を受けることにより電荷を発生する読取用光導電層、および読取光を透過する線状に延びる透明線状電極と読取光を遮光する線状に延びる遮光線状電極とが平行に交互に配列された第2の電極層をこの順に積層してなる放射線画像検出器が提案されている。
ここで、上記のような放射線画像検出器における第1の電極層としては、放射線を透過するとともに、高い導電性と酸化による腐食に対する強い耐性を有するAuがよく使われている。そして、放射線画像を記録する際には、電圧供給手段によりこの第1電極層に所定の電圧が印加される。
特許文献2では、図3に示すように、第1の電極層31と、光導電層32と、第2の電極層33と、基板34とをこの順に積層してなる放射線画像検出器30において、第1の電極層31から基板34上の電圧供給位置に設けられたパット35まで、光導電層32の端部の斜面および基板34上に沿って第1の電極層31が延長された通電部40を形成し、この通電部40を介して第1の電極層31に所定の電圧を供給する構成が提案されている。
特開2000−284056号公報
特開2000−241556号公報
しかしながら、上記従来技術では、第1の電極層31が基板上の電圧供給位置に設けられたパット35まで延びて形成される通電部40は、第1の電極層31の材料であるAuからなるため、基板の一般的な材料であるガラスとの密着性が悪く、温度変化や引っ張りなどによって剥がれが生じ、第1の電極層31へのお電圧供給不良が生じる恐れがあった。
本発明は、上記事情に鑑み、上記のような電圧供給不良の発生を抑制するとともに、装置の信頼性を向上させた放射線画像検出器を提供することを目的とするものである。
本発明の放射線画像検出器は、所定の電圧が印加される電極層と、放射線の照射を受けて電荷を発生する光導電層と、基板とがこの順に積層された放射線画像検出器であって、電極層から基板上の電圧供給位置まで延びる、電極層に所定の電圧を供給するための通電部を備え、この通電部の少なくとも基板に接する部分が電極層の材料より基板との密着性が高い材料で形成されていることを特徴とするものである。
この通電部は、単一の層から構成されるものである場合には、この単一の層自体が電極層の材料より基板との密着性が高い材料で形成されることになるが、通電部が複数の層から構成されるものである場合には、この通電部の基板に接する部分に相当する層が電極層の材料より基板との密着性が高い材料で形成されていればよい。
上記装置において、通電部は、基板側に位置する、電極層の材料より基板との密着性が高い材料からなる第1層と、第1層の基板側とは反対の側に、第1層を被覆するように設けられた、第1層の材料より高い耐酸化性を有する材料からなる第2層とを備えたもので
あってもよい。
あってもよい。
この場合、第1層は電極層から基板上の電圧供給位置まで延びているものであってもよいが、電極層から基板上の電圧供給位置までの間のうち少なくとも基板に接する部分に設けられているものであればよい。また、第2層は第1層の全体を覆うように設けられたものであることが好ましいが、第1層の一部のみを覆うものであってもよい。
なお、通電部は、全体的に導電性を有するものであればよく、2以上の異なる材料で積層されてなる場合、全ての層が、導電性を有する必要はない。
また、基板がガラス基板であり、電極層がAu電極層である場合、通電部の少なくとも基板に接する部分は、電極層の材料より基板との密着性が高い材料である、Cr、Ti、Ni、Al、Ta、W、Mo、Mn、Fe、Cu、Nb、Hf、Ag、In、Sn、Pb、及びこれらから構成される合金のいずれかからなるものであってもよい。
また、基板がガラス基板であり、電極層がAu電極層である場合、第1層は、Cr、Ti、Ni、Al、Ta、W、Mo、Mn、Fe、Cu、Nb、Hf、Ag、In、Sn、Pb、及びこれらから構成される合金のいずれかからなるものであってもよい。
また、基板がガラス基板であり、電極層がAu電極層であって、第1層が、Cr、Ti、Ni、Al、Ta、W、Mo、Mn、Fe、Cu、Nb、Hf、Ag、In、Sn、Pb、及びこれらから構成される合金のいずれかからなるものである場合、第2層は、Au、Pd、Pt、SiO2、SiO、Al2O3、TiO2、及びSi3N4のいずれかからなるものであってもよい。
基板がガラス基板であり、電極層がAu電極層であって、第1層が、Cr、Ti、Ni、Ta、W、Mo、Mn、Fe、Nb、Hf、Ag、In、Sn、Pb、及びこれらから構成される合金のいずれかからなるものである場合、第2層は、AlまたはCuからなるものであってもよい。
そして、密着性が高いとは、剥がれにくいことを意味する。
本発明の放射線画像検出器は、所定の電圧が印加される電極層と、放射線の照射を受けて電荷を発生する光導電層と、基板とがこの順に積層された放射線画像検出器であれば、TFT方式、光読取方式等いかなるタイプの放射線画像検出器であってもよい。
また、本発明の放射線画像検出器は、上記電極層と光導電層と基板とがこの順に積層されているものであればよく、それらの層の間あるいはそれらの層の上下にさらに他の層を備えているものであってもよい。
本発明の放射線画像検出器によれば、所定の電圧が印加される電極層と、放射線の照射を受けて電荷を発生する光導電層と、基板とがこの順に積層された放射線画像検出器であって、電極層から基板上の電圧供給位置まで延びる電極層に所定の電圧を供給するための通電部を備え、この通電部の少なくとも基板に接する部分が電極層の材料より基板との密着性が高い材料で形成されているため、電極層に所定の電圧を供給するための通電部が基板に対してより高い密着性を有することができ、剥がれによる電圧供給不良の発生を抑制するとともに、装置の信頼性を向上させることができる。
上記装置において、通電部が、基板側に位置する、電極層の材料より基板との密着性が高い材料からなる第1層と、第1層の基板側とは反対の側に、第1層を被覆するように設けられた、第1層の材料より高い耐酸化性を有する材料からなる第2層とを備えたものである場合、第1層により通電部が基板に対してより高い密着性を有するとともに、第2層により導電性を有する第1層の酸化による導電特性の劣化を防止することができる。
以下、図面を参照して本発明の放射線画像検出器の一実施形態について説明する。図1は本発明の放射線画像検出器の一実施形態の概略構成図を示す斜面図である。図2は図1に示す放射線画像検出器のII−II線断面図である。
本放射線画像検出器は、放射線画像検出器本体10と該放射線画像検出器本体10中の後述する第1の電極層11にバイアス電圧を供給するための通電部20とを備えている。
放射線画像検出器本体10は、バイアス電圧が印加されるとともに、放射線画像を担持した放射線を透過するAuからなる第1の電極層11、第1の電極層11を透過した放射線の照射を受けることにより電荷を発生する光導電層12、光導電層12において発生した電荷に応じた信号を出力するTFTからなる第2の電極層13、およびガラス基板14をこの順に積層してなるものである。
通電部20は、光導電層12の端部の斜面およびガラス基板14上に沿って、第1の電極層11からガラス基板14上の電圧供給位置Pまで帯状に延びた下層21と、下層21のガラス基板14側とは反対の側に、この下層21を被覆するように設けられた上層22とから構成されている。
下層21は、第1の電極層11の材料Auよりガラス基板14との密着性が高い材料であれば種々のものが使用可能であり、例えばCr、Ti、Ni、Al、Ta、W、Mo、Mn、Fe、Cu、Nb、Hf、Ag、In、Sn、Pb、及びこれらから構成される合金等が挙げられる。
また、上層22は、下層21の材料より高い耐酸化性を有する材料であれば種々のものが使用可能である。例えば、下層21がCr、Ti、Ni、Al、Ta、W、Mo、Mn、Fe、Cu、Nb、Hf、Ag、In、Sn、Pb、及びこれらから構成される合金のいずれかからなるものである場合、上層22は、Au、Pd、Pt、あるいは導電性を持たないSiO2、SiO、Al2O3、TiO2、Si3N4等を使用することができる。また、下層21が、Cr、Ti、Ni、Ta、W、Mo、Mn、Fe、Nb、Hf、Ag、In、Sn、Pb、及びこれらから構成される合金のいずれかからなるものである場合、上層22に、Al、Cu等を使用するようにしてもよい。
なお、電圧供給位置Pは、電圧供給源から電圧を供給するための配線が通電部20と接続される位置であり、ガラス基板14上の光導電層12の周辺に任意に設定することができる。本実施の形態では、ガラス基板14上の辺部に電圧供給位置Pを設定し、通電部20を第1の電極層11から電圧供給位置Pまで延設している。
上記通電部20は、電圧供給位置Pにおいて、電圧供給源から電圧を供給するための不図示の配線と接続される。
上記通電部20は、蒸着方法、スパッタ方法、イオンプレーティング法、CVD法等の成膜方法により形成することができ、本実施の形態では、蒸着槽の真空状態を保持したまま、下層21および上層22を層ごとにそれぞれの成膜材料により、同一マスクを用いて蒸着により形成している。
この本実施形態の放射線画像検出器において、第1の電極層11に、上記電圧供給源から上記配線および通電部20を介してバイアス電圧が印加され、第1の電極層11と第2の電極層13との間に電界が形成されているときに、光導電層12に画像情報を担持する放射線が照射されると、光導電層12内に電荷対が発生し、この電荷対の量に応じた潜像電荷が第2の電極層13内に蓄積される。蓄積された潜像電荷を読み取る際には、第2の電極層13のTFTを順次駆動して、各画素に対応した潜像電荷に基づく画像信号を出力ラインから出力させて、この画像信号を信号検出手段により検出することにより、潜像電荷が担持する放射線画像を読み取ることができる。
上記実施の形態によれば、第1の電極層11からガラス基板14上の電圧供給位置Pまで延びる通電部20のガラス基板14に接する部分に、第1の電極層11の材料よりガラス基板14との密着性が高い材料で形成された下層21を設けているので、第1の電極層11に所定の電圧を供給するための通電部20がガラス基板14に対してより高い密着性を有することができ、剥がれによる電圧供給不良の発生を抑制するとともに、装置の信頼性を向上させることができる。
さらに、通電部20が、下層21のガラス基板14側とは反対の側に、その下層21を被覆するように設けられた、下層21の材料より高い耐酸化性を有する材料からなる上層22を備えているため、下層21により通電部がガラス基板14に対してより高い密着性を有するとともに、上層22により導電性を有する下層21の酸化による導電特性の劣化を防止することができる。
なお、上記実施の形態では、上層22を、下層21の基板側とは反対側に、下層21の全面を被覆するように設けた場合について説明したが、下層21が導電性を有する材料からなるものである場合、上層22は、下層21の酸化による導電特性の劣化を防止する程度で下層21の大気と接する面の一部を被覆するように設けるものであってもよく、必ずしも下層21の全体を被覆する必要はない。
また、通電部は、全体的に導電性を有するものであればよく、2以上の異なる材料で積層されてなる場合、全ての層が導電性を有する必要はない。例えば、上記実施の形態において、電圧供給源から電圧を供給するための図3にしめすようなパットを基板上の電圧供給位置Pに設け、下層21を第1の電極層11からガラス基板14上の電圧供給位置Pに設けられた電圧供給用のパットまで形成し、その電圧供給用のパットに下層21を接続する場合、上層22は導電性を有さなくてもよい。ただし、この場合、下層21をパットまで形成する際、図3に示されているようにパットの一部は露出させて電圧供給源からの配線と接続可能にしておくことが望ましい。
なお、放射線画像検出器本体の層構成は電極層と光導電層と基板とがこの順に積層されているものであればよく、それらの層の間あるいはそれらの層の上下にさらに他の層を備えているものであってもよい。
また、上記実施形態の放射線画像検出器においては、いわゆるTFT読取り方式の放射線画像検出器を用いるようにしたが、光読取方式等いかなるタイプの放射線画像検出器を用いるようにしてもよい。
10 放射線画像検出器本体
11 第1の電極層(電極層)
12 光導電層
13 第2の電極層
14 ガラス基板
20 通電部
21 下層(第1層)
22 上層(第2層)
P 電圧供給位置
11 第1の電極層(電極層)
12 光導電層
13 第2の電極層
14 ガラス基板
20 通電部
21 下層(第1層)
22 上層(第2層)
P 電圧供給位置
Claims (6)
- 所定の電圧が印加される電極層と、放射線の照射を受けて電荷を発生する光導電層と、基板とがこの順に積層された放射線画像検出器であって、
前記電極層から前記基板上の電圧供給位置まで延びる、前記電極層に前記所定の電圧を供給するための通電部を備え、
前記通電部の少なくとも前記基板に接する部分が前記電極層の材料より前記基板との密着性が高い材料で形成されていることを特徴とする放射線画像検出器。 - 前記通電部が、
前記基板側に位置する、前記電極層の材料より前記基板との密着性が高い材料からなる第1層と、
前記第1層の前記基板側とは反対の側に、前記第1層を被覆するように設けられた、前記第1層の材料より高い耐酸化性を有する材料からなる第2層と
を備えたものであることを特徴とする請求項1記載の放射線画像検出器。 - 前記基板がガラス基板であり、前記電極層がAu電極層であって、
前記電極層の材料より前記基板との密着性が高い材料が、Cr、Ti、Ni、Al、Ta、W、Mo、Mn、Fe、Cu、Nb、Hf、Ag、In、Sn、Pb、及びこれらから構成される合金のいずれかであることを特徴とする請求項1記載の放射線画像検出器。 - 前記基板がガラス基板であり、前記電極層がAu電極層であって、
前記第1層が、Cr、Ti、Ni、Al、Ta、W、Mo、Mn、Fe、Cu、Nb、Hf、Ag、In、Sn、Pb、及びこれらから構成される合金のいずれかからなることを特徴とする請求項2記載の放射線画像検出器。 - 前記第2層が、Au、Pd、Pt、SiO2、SiO、Al2O3、TiO2、及びSi3N4のいずれかからなることを特徴とする請求項4記載の放射線画像検出器。
- 前記基板がガラス基板であり、前記電極層がAu電極層であって、
前記第1層が、Cr、Ti、Ni、Ta、W、Mo、Mn、Fe、Nb、Hf、Ag、In、Sn、Pb、及びこれらから構成される合金のいずれかからなるものであって、
前記第2層が、AlまたはCuからなることを特徴とする請求項2記載の放射線画像検出器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006270991A JP2008091629A (ja) | 2006-10-02 | 2006-10-02 | 放射線画像検出器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006270991A JP2008091629A (ja) | 2006-10-02 | 2006-10-02 | 放射線画像検出器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2008091629A true JP2008091629A (ja) | 2008-04-17 |
Family
ID=39375483
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2006270991A Withdrawn JP2008091629A (ja) | 2006-10-02 | 2006-10-02 | 放射線画像検出器 |
Country Status (1)
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JP (1) | JP2008091629A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015056554A (ja) * | 2013-09-12 | 2015-03-23 | ソニー株式会社 | 固体撮像素子および製造方法、並びに電子機器 |
-
2006
- 2006-10-02 JP JP2006270991A patent/JP2008091629A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015056554A (ja) * | 2013-09-12 | 2015-03-23 | ソニー株式会社 | 固体撮像素子および製造方法、並びに電子機器 |
US9666643B2 (en) | 2013-09-12 | 2017-05-30 | Sony Semiconductor Solutions Corporation | Solid state image sensor, production method thereof and electronic device |
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