JP2008091089A - Manufacturing method of image display apparatus - Google Patents

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Masanori Uchitsubo
雅則 内坪
Akiyoshi Yamada
晃義 山田
Takashi Enomoto
貴志 榎本
Kentaro Shimayama
賢太郎 島山
Yusuke Kasahara
佑介 笠原
Shinya Nakamichi
真也 中道
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of an image display device capable of maintaining high display performance over a long period of time and capable of reducing a manufacturing cost, and the image display device. <P>SOLUTION: This is the manufacturing method of the image display device equipped with an enclosure having a front face substrate 11 and a rear face substrate arranged opposite to this front face substrate, and non-evaporation type getters installed in the enclosure. Getter films are formed by applying a particulate getter material and a low viscosity solution having a viscosity of 1 to 1,000 mPa.S on the inner face of the constitution member constituting the enclosure by spraying. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

この発明は、対向配置された基板を有する外囲器と、外囲器内部に配設されたゲッタとを備えた画像表示装置の製造方法に関する。   The present invention relates to a method of manufacturing an image display device including an envelope having substrates disposed opposite to each other and a getter disposed inside the envelope.

近年、軽量・薄型の画像表示装置として、液晶の配向を利用して光の強弱を制御する液晶ディスプレイ(以下、LCDと称する)、プラズマ放電の紫外線により蛍光体を発光させるプラズマディスプレイパネル(以下、PDPと称する)、電界放出型電子放出素子の電子ビームにより蛍光体を発光させるフィールドエミッションディスプレイ(以下、FEDと称する)、表面伝導型電子放出素子の電子ビームにより蛍光体を発光させる表面伝導型電子放出素子ディスプレイ(以下、SEDと称する)などが開発されている。   In recent years, as a lightweight and thin image display device, a liquid crystal display (hereinafter referred to as LCD) that controls the intensity of light using the orientation of liquid crystal, a plasma display panel (hereinafter referred to as LCD) that emits phosphors by ultraviolet rays of plasma discharge. (Referred to as PDP), field emission display (hereinafter referred to as FED) that emits a phosphor with an electron beam of a field emission electron emitter, and surface conduction electron that emits a phosphor with an electron beam of a surface conduction electron emitter. Emission element displays (hereinafter referred to as SEDs) have been developed.

例えばFEDでは、一般に、所定の隙間を置いて対向配置された前面基板および背面基板を有し、これらの基板は、矩形枠状の側壁を介して周辺部同士を互いに接合することにより真空外囲器を構成している。前面基板の内面には蛍光体スクリーンが形成され、背面基板の内面には蛍光体を励起して発光させる電子放出源として多数の電子放出素子が設けられている。   For example, an FED generally has a front substrate and a rear substrate that are opposed to each other with a predetermined gap, and these substrates are surrounded by a vacuum by surrounding each other through a rectangular frame-shaped side wall. Make up the vessel. A phosphor screen is formed on the inner surface of the front substrate, and a number of electron-emitting devices are provided on the inner surface of the rear substrate as electron emission sources that excite the phosphor to emit light.

背面基板および前面基板に加わる大気圧荷重を支えるために、これら基板の間には複数の支持部材が配設されている。背面基板側の電位はほぼアース電位であり、蛍光面にはアノード電圧が印加される。蛍光体スクリーンを構成する赤、緑、青の蛍光体に電子放出素子から放出された電子ビームを照射し、蛍光体を発光させることによって画像を表示する。   In order to support an atmospheric pressure load applied to the back substrate and the front substrate, a plurality of support members are disposed between these substrates. The potential on the back substrate side is almost the ground potential, and an anode voltage is applied to the phosphor screen. An image is displayed by irradiating the phosphors of red, green, and blue constituting the phosphor screen with the electron beams emitted from the electron-emitting devices and causing the phosphors to emit light.

このようなFEDにおいては、外囲器内部を高い真空度に維持することが重要となる。真空度が低いと、安定した電子放出ができず、画像表示装置の寿命が低下する。また、PDPでは、外囲器の内部を満たした不活性ガスを高純度に保つことが重要な技術となっている。   In such an FED, it is important to maintain a high degree of vacuum inside the envelope. If the degree of vacuum is low, stable electron emission cannot be performed, and the life of the image display device is reduced. Further, in PDP, it is an important technique to keep the inert gas filling the inside of the envelope with high purity.

長期間に渡って外囲器内を高真空に維持するため、外囲器内には放出ガスを吸着するゲッタ材が設けられ重要な役割を果たしている。従来、ゲッタ材のガス吸着特性を向上させるため、真空処理装置内でゲッタ材を前面基板または背面基板の内面、あるいはその他の構造物に蒸着し、更に、両基板を真空中で封着して外囲器を形成する画像表示装置の製造方法および製造装置が提案されている(例えば、特許文献1参照)。また、例えば、PDPのパネル側辺に隣り合う領域に非蒸発型ゲッタ層を形成する方法が提案されている(例えば、特許文献2参照)。
特開2001−229824号公報 特開平11−191378号公報
In order to maintain a high vacuum in the envelope for a long period of time, a getter material that adsorbs the released gas is provided in the envelope and plays an important role. Conventionally, in order to improve the gas adsorption characteristics of the getter material, the getter material is deposited on the inner surface of the front substrate or the rear substrate or other structure in a vacuum processing apparatus, and both the substrates are sealed in a vacuum. A manufacturing method and a manufacturing apparatus for an image display device forming an envelope have been proposed (see, for example, Patent Document 1). For example, a method of forming a non-evaporable getter layer in a region adjacent to the panel side of the PDP has been proposed (see, for example, Patent Document 2).
JP 2001-229824 A JP-A-11-191378

真空処理装置内でゲッタ膜の形成、および外囲器の封着を行う方法では、不所望なガス分子は効率的にゲッタ膜に吸着される。そのため、FEDの真空外囲器内部は長期間にわたって高い真空度に維持される。   In the method of forming a getter film and sealing an envelope in a vacuum processing apparatus, undesired gas molecules are efficiently adsorbed on the getter film. For this reason, the inside of the vacuum envelope of the FED is maintained at a high degree of vacuum over a long period of time.

しかしながら、この方法では大型の真空処理装置を使用するため、製造コストが高くなり、結果として画像表示装置のコストも高くなる。蛍光体スクリーンの全面に亘って蒸発型のゲッタ膜を蒸着形成すると、輝度が低下するという性能上の問題も生じる。   However, since this method uses a large vacuum processing apparatus, the manufacturing cost increases, and as a result, the cost of the image display apparatus also increases. When an evaporative getter film is deposited over the entire surface of the phosphor screen, there is a problem in performance that the luminance is lowered.

また、パネル側辺に隣り合う領域に非蒸発型のゲッタ膜を形成する方法では、ゲッタから離れた領域、すなわち蛍光体スクリーンの中央部に存在する不所望なガス分子を効率的にゲッタに吸着することができない。そのため、真空外囲器の中央部のガス圧が高くなり、表示装置中央部の輝度が低下する。更に、コンダクタンスの小さい排気管や排気孔から外囲器内を排気している状態で基板を加熱すると、放出ガスによって外囲器内の圧力が上昇し、十分なゲッタ特性を得られるまでゲッタを活性化することが困難となる。   In addition, in the method of forming a non-evaporable getter film in the area adjacent to the side of the panel, undesired gas molecules existing in the area away from the getter, that is, in the central part of the phosphor screen are efficiently adsorbed to the getter. Can not do it. Therefore, the gas pressure at the center of the vacuum envelope increases, and the brightness at the center of the display device decreases. Furthermore, if the substrate is heated with the exhaust pipe or exhaust hole having a small conductance being exhausted, the pressure inside the envelope rises due to the released gas, and the getter is removed until sufficient getter characteristics are obtained. It becomes difficult to activate.

この発明は以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、ゲッタを容易にパターン形成することができ、長期にわたって良好な表示性能を維持することができるとともに、製造コストの低減を図ることが可能な画像表示装置の製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above points. The object of the present invention is to easily form a getter, to maintain good display performance over a long period of time, and to reduce the manufacturing cost. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a possible image display device.

この発明の態様に係る画像表示装置の製造方法は、前面基板およびこの前面基板に対向配置され背面基板を有した外囲器と、前記外囲器内に設けられた非蒸発型のゲッタと、を備えた画像表示装置の製造方法において、前記外囲器を構成する構成部材の内面上に、微粒子状のゲッタ材と粘度が1〜1000mPa.Sの低粘度溶液とをスプレーにより塗布しゲッタ膜を形成することを特徴としている。   An image display device manufacturing method according to an aspect of the present invention includes a front substrate, an envelope disposed opposite to the front substrate and having a rear substrate, a non-evaporable getter provided in the envelope, In the manufacturing method of the image display apparatus provided with the above, a fine particle getter material and a viscosity of 1 to 1000 mPa.s are formed on the inner surface of the constituent member constituting the envelope. A getter film is formed by applying a low-viscosity solution of S by spraying.

本発明の様態によれば、短時間で均一にゲッタ膜を形成することが可能となり、ゲッタ材を効果的に機能させることができる。また、高価な真空装置を用いることなく、長期にわたって高い表示性能を維持することができとともに、製造コストの低減を図ることが可能な画像表示装置の製造方法を提供することができる。   According to the aspect of the present invention, it is possible to form a getter film uniformly in a short time, and the getter material can function effectively. In addition, it is possible to provide a method for manufacturing an image display device that can maintain high display performance over a long period of time without using an expensive vacuum device and can reduce the manufacturing cost.

以下図面を参照しながら、この発明の実施形態に係る画像表示装置の製造方法について詳細に説明する。始めに、本製造方法によって製造される画像表示装置の一例として、表面導電型の電子放出素子を備えたSEDについて説明する。
図1および図2に示すように、SEDは、それぞれ矩形状のガラス板からなる前面基板11、および背面基板12を備え、これらの基板は所定の間隔で対向配置されている。背面基板12は、前面基板11よりも大きな寸法に形成されている。前面基板11および背面基板12は、矩形枠状の側壁13を介して周縁部同士が接合され、内部が真空状態に維持された偏平な外囲器10を構成している。接合部材として機能する側壁13は、例えば、低融点ガラス、低融点金属等の封着材25により、前面基板11の周縁部および背面基板12の周縁部に封着され、これらの基板同士を接合している。
Hereinafter, a method for manufacturing an image display device according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. First, as an example of an image display device manufactured by this manufacturing method, an SED including a surface-conduction electron-emitting device will be described.
As shown in FIGS. 1 and 2, the SED includes a front substrate 11 and a rear substrate 12 each made of a rectangular glass plate, and these substrates are arranged to face each other at a predetermined interval. The back substrate 12 is formed with a size larger than that of the front substrate 11. The front substrate 11 and the back substrate 12 constitute a flat envelope 10 whose peripheral portions are joined to each other through a rectangular frame-shaped side wall 13 and the inside is maintained in a vacuum state. The side wall 13 functioning as a bonding member is sealed to the peripheral edge of the front substrate 11 and the peripheral edge of the back substrate 12 by, for example, a sealing material 25 such as low melting glass or low melting metal, and these substrates are bonded to each other. is doing.

外囲器10の内部には、前面基板11および背面基板12に加わる大気圧荷重を支えるため、複数の板状の支持部材14が設けられている。これらの支持部材14は、外囲器10の一辺と平行な方向にそれぞれ延在しているとともに、上記一辺と直交する方向に沿って所定の間隔を置いて配置されている。各支持部材14の長手方向両端部は、それぞれ側壁13と隙間を置いて対向している。   A plurality of plate-like support members 14 are provided inside the envelope 10 in order to support an atmospheric pressure load applied to the front substrate 11 and the rear substrate 12. These support members 14 extend in a direction parallel to one side of the envelope 10 and are arranged at a predetermined interval along a direction orthogonal to the one side. Both ends in the longitudinal direction of each support member 14 are opposed to the side wall 13 with a gap.

図2ないし図4に示すように、前面基板11の内面には、画像表示面として機能する蛍光体スクリーン16が形成されている。この蛍光体スクリーン16は、赤、緑、青の蛍光体層R、G、B、およびこれらの蛍光体層間に位置した黒色の遮光層20を並べて構成されている。赤、緑、青の3色の蛍光体層R、G、Bは、前面基板11の長辺と平行な第1方向に隙間を置いて交互に並んで形成され、同一色の蛍光体層が第1方向と直交する第2方向に隙間を置いて配列されている。蛍光体層R、G、Bはそれぞれ、赤、緑、青の単色でサブピクセルを構成し、3色のサブピクセルを合わせて一画素を構成している。なお、蛍光体層は、ドット状に限らず、ストライプ状に形成されていてもよい。   As shown in FIGS. 2 to 4, a phosphor screen 16 that functions as an image display surface is formed on the inner surface of the front substrate 11. The phosphor screen 16 is configured by arranging red, green, and blue phosphor layers R, G, and B, and a black light-shielding layer 20 positioned between the phosphor layers. The phosphor layers R, G, and B of three colors of red, green, and blue are formed alternately with a gap in the first direction parallel to the long side of the front substrate 11, and the phosphor layers of the same color are formed. They are arranged with a gap in a second direction orthogonal to the first direction. Each of the phosphor layers R, G, and B constitutes a subpixel with single colors of red, green, and blue, and constitutes one pixel by combining the subpixels of three colors. The phosphor layer is not limited to a dot shape, and may be formed in a stripe shape.

蛍光体スクリーン16の遮光層20に重ねてマトリクス状の分断層31が形成されている。蛍光体スクリーン16上には、アルミニウム膜等からなるメタルバック層17が形成されている。本実施形態によれば、メタルバック層17は、分断層31により縦方向および横方向に分断され、互いに電気的に分離した複数の分断領域を有している。分断層31により夫々が互いに電気的に分断したメタルバック層17は、蛍光体層R、G、Bに夫々重なって位置している。   A matrix-shaped dividing layer 31 is formed so as to overlap the light shielding layer 20 of the phosphor screen 16. A metal back layer 17 made of an aluminum film or the like is formed on the phosphor screen 16. According to this embodiment, the metal back layer 17 is divided in the vertical direction and the horizontal direction by the dividing layer 31 and has a plurality of divided regions that are electrically separated from each other. The metal back layers 17 that are electrically separated from each other by the dividing layer 31 are positioned so as to overlap the phosphor layers R, G, and B, respectively.

蛍光体スクリーン16の遮光層20に重ねて、ここでは、分断層31に重ねて、複数の非蒸発型のゲッタ膜23がパターン形成され、互いに隙間を置いて並んでいる。ゲッタ膜23は、蛍光体層R、G、B上を避けるように分断層31上に重ねて形成され、互いに電気的に分断された複数の領域を有している。非蒸発型のゲッタ膜23は、遮光層20上に重なる領域にだけ設けても良いが、蛍光体層R、G、Bに重なる領域であっても、対応する電子放出素子18からの電子ビームが当たらない領域であれば重ねて設けても良い。   A plurality of non-evaporable getter films 23 are formed on the light shielding layer 20 of the phosphor screen 16 and, here, on the dividing layer 31, and are arranged with a gap therebetween. The getter film 23 is formed on the dividing layer 31 so as to avoid the phosphor layers R, G, and B, and has a plurality of regions that are electrically separated from each other. The non-evaporable getter film 23 may be provided only in a region overlapping the light shielding layer 20, but even in a region overlapping the phosphor layers R, G, and B, an electron beam from the corresponding electron emitter 18 is used. If the region does not hit, it may be overlapped.

ゲッタ膜23は、外囲器10内の不要ガスを吸着し、外囲器内を高い真空度に維持する。後述するように、各ゲッタ膜23は、非蒸発型ゲッタの粉末を接着効果のある材料によって分断層上に膜状に固着して形成されている。   The getter film 23 adsorbs unnecessary gas in the envelope 10 and maintains a high degree of vacuum in the envelope. As will be described later, each getter film 23 is formed by fixing a non-evaporable getter powder in a film shape on a dividing layer with a material having an adhesive effect.

図2に示すように、背面基板12の内面上には、蛍光体スクリーン16の蛍光体層R、G、Bを励起する電子源として、それぞれ電子ビームを放出する多数の表面伝導型の電子放出素子18が設けられている。これらの電子放出素子18は、画素毎に対応して複数列および複数行に配列されている。各電子放出素子18は、図示しない電子放出部、この電子放出部に電圧を印加する一対の素子電極等で構成されている。背面基板12の内面には、電子放出素子18に電位を供給する多数本の配線21がマトリック状に設けられ、その端部は外囲器10の外部に引出されている。   As shown in FIG. 2, on the inner surface of the back substrate 12, a number of surface conduction type electron emitters each emitting an electron beam as an electron source for exciting the phosphor layers R, G, B of the phosphor screen 16 are provided. An element 18 is provided. These electron-emitting devices 18 are arranged in a plurality of columns and a plurality of rows corresponding to each pixel. Each electron-emitting device 18 includes an electron emitting portion (not shown) and a pair of device electrodes for applying a voltage to the electron emitting portion. A large number of wirings 21 for supplying a potential to the electron-emitting devices 18 are provided in a matrix on the inner surface of the rear substrate 12, and end portions thereof are drawn out of the envelope 10.

背面基板12の周縁部、例えば、コーナー部には排気工程において外囲器10内部を排気するための排気孔29が貫通形成されている。排気孔29は、蛍光体スクリーン16から外れた位置、つまり、有効表示領域から外れた位置に設けられている。排気孔29は蓋部材30によって気密に封止されている。排気孔29は、1つに限らず、必要に応じて増加可能である。   Exhaust holes 29 for exhausting the inside of the envelope 10 in the exhaust process are formed through the periphery of the back substrate 12, for example, corners. The exhaust hole 29 is provided at a position away from the phosphor screen 16, that is, at a position away from the effective display area. The exhaust hole 29 is hermetically sealed by the lid member 30. The number of exhaust holes 29 is not limited to one, and can be increased as necessary.

このようなSEDでは、画像を表示する場合、蛍光体スクリーン16およびメタルバック層17にアノード電圧を印加して、電子放出素子18から放出された電子ビームをアノード電圧により加速して蛍光体スクリーンへ衝突させる。これにより、蛍光体スクリーン16の蛍光体層R、G、Bが励起されて発光し、カラー画像を表示する。   In such an SED, when displaying an image, an anode voltage is applied to the phosphor screen 16 and the metal back layer 17, and the electron beam emitted from the electron-emitting device 18 is accelerated by the anode voltage to the phosphor screen. Collide. Thereby, the phosphor layers R, G, and B of the phosphor screen 16 are excited to emit light, and a color image is displayed.

次に、ゲッタ膜23の構成、およびSEDの製造方法について説明する。
非蒸発型のゲッタ膜23は、非蒸発型ゲッタの粉末に接着効果を有した低粘度の溶液を混合した混合溶液を、蛍光体スクリーン上にスプレーし固着することにより形成されている。本実施形態では、非蒸発型ゲッタ材として、Zr、V、およびFeを配合した混合物をアークメルトにより溶解してインゴットを溶製し、このインゴットを粉砕機により平均粒径10μm以下、望ましくは10nm〜10μm、例えば、10μm程度に粉砕して非蒸発型ゲッタの粉末を製造する。
Next, the configuration of the getter film 23 and the method for manufacturing the SED will be described.
The non-evaporable getter film 23 is formed by spraying and fixing a mixed solution obtained by mixing a non-evaporable getter powder with a low-viscosity solution having an adhesive effect on a phosphor screen. In this embodiment, as a non-evaporable getter material, a mixture containing Zr, V, and Fe is melted by arc melting to produce an ingot, and this ingot is averaged to 10 μm or less, preferably 10 nm by a pulverizer. A non-evaporable getter powder is manufactured by pulverizing to about 10 μm, for example, about 10 μm.

ゲッタ材として、Zr、V、およびFeに限らず、その他金属材料、有機材料、無機材料などが選択可能である。例えば、非蒸発型ゲッタ材として、Ti,Zr,V,Fe,Al,Cr,Nb,Ta,W,Mo,Ni,Mn,Y等の内、1種類以上の金属または2種類以上の合金を用いても良い。低粘度を有する溶液としては、コロイダルシリカの他、酸化物微粒子を用いたコロイダルアルミナなどのコロイド溶液、ナトリウム系水ガラス、カリウム系水ガラス、金属アルコキシド等、或いはそれらの混合物を用いることができる。   The getter material is not limited to Zr, V, and Fe, and other metal materials, organic materials, inorganic materials, and the like can be selected. For example, as a non-evaporable getter material, one or more kinds of metals or two or more kinds of alloys among Ti, Zr, V, Fe, Al, Cr, Nb, Ta, W, Mo, Ni, Mn, and Y are used. It may be used. As the solution having low viscosity, colloidal silica, colloidal solution such as colloidal alumina using fine oxide particles, sodium-based water glass, potassium-based water glass, metal alkoxide, or a mixture thereof can be used.

SEDの製造工程においては、まず、前面基板11となる板ガラスに蛍光体スクリーン16を形成する。続いて、蛍光体スクリーン16の遮光層20に重ねてマトリクス状の分断層31を形成した後、蛍光体スクリーン16に重ねてアルミニウム膜等からなるメタルバック層17を蒸着形成する。メタルバック層17は、分断層31により縦方向および横方向に分断され、互いに電気的に分離した複数の分断領域を形成する。   In the manufacturing process of the SED, first, the phosphor screen 16 is formed on the plate glass to be the front substrate 11. Subsequently, a matrix-shaped dividing layer 31 is formed on the light shielding layer 20 of the phosphor screen 16, and then a metal back layer 17 made of an aluminum film or the like is deposited on the phosphor screen 16 by vapor deposition. The metal back layer 17 is divided in the vertical direction and the horizontal direction by the dividing layer 31 to form a plurality of divided regions that are electrically separated from each other.

続いて、蛍光体スクリーン16上にゲッタ膜23を形成する。この場合、ゲッタ材として、例えば10μmの平均粒径を有するジルコニウム合金の粉末、および低粘度溶液として100mPa・s程度の粘度を有するコロイダルシリカを用意する。ゲッタ材と低粘度溶液を例えば、1:1の割合で調合し混合溶液を作る。ゲッタ材の割合が多いと基板との接着力が低下し、コロイダルシリカの割合が多いと形成されたゲッタ膜にひび割れなどが発生する。   Subsequently, a getter film 23 is formed on the phosphor screen 16. In this case, for example, a zirconium alloy powder having an average particle diameter of 10 μm is prepared as a getter material, and colloidal silica having a viscosity of about 100 mPa · s is prepared as a low viscosity solution. For example, a getter material and a low-viscosity solution are mixed at a ratio of 1: 1 to make a mixed solution. When the proportion of the getter material is large, the adhesive strength with the substrate is lowered, and when the proportion of colloidal silica is large, the formed getter film is cracked.

続いて、図5に示すように、多数の開孔41がパターン形成された板状のメタルマスク40を用意する。前面基板11を加熱プレート42の上に載置するとともに、メタルマスク40をメタルバック層17および分断層31上に載置する。この際、メタルマスク40の開孔41が分断層31上に位置するように、前面基板11に対してメタルマスクを位置合わせする。必要に応じて、加熱プレート42の外側にマグネット44を配置し、メタルマスク40を吸着して蛍光体スクリーン16に密着させるとともに、メタルマスクの位置ずれを防止する。   Subsequently, as shown in FIG. 5, a plate-shaped metal mask 40 in which a large number of openings 41 are patterned is prepared. The front substrate 11 is placed on the heating plate 42 and the metal mask 40 is placed on the metal back layer 17 and the dividing layer 31. At this time, the metal mask is aligned with the front substrate 11 so that the opening 41 of the metal mask 40 is positioned on the dividing layer 31. If necessary, a magnet 44 is disposed outside the heating plate 42 to attract the metal mask 40 and bring it into intimate contact with the phosphor screen 16 and prevent displacement of the metal mask.

加熱プレート42により前面基板11を40〜150℃、例えば、80℃程度に加熱する。この状態で、図6に示すように、前述した混合溶液を2流体式のスプレーノズル46からメタルマスク40を介して前面基板11上にスプレーし、形成エリア全体を走査する。これにより、メタルマスク40の開孔41を通して分断層31上に混合溶液が付着される。そして、付着した混合溶液は、加熱された前面基板11により加熱され、低粘度溶液が蒸発して乾燥する。これにより、ゲッタの粉末が分断層31上に固着され、ゲッタ膜23がパターン形成される。   The front substrate 11 is heated to 40 to 150 ° C., for example, about 80 ° C. by the heating plate 42. In this state, as shown in FIG. 6, the above-mentioned mixed solution is sprayed from the two-fluid spray nozzle 46 onto the front substrate 11 through the metal mask 40, and the entire formation area is scanned. As a result, the mixed solution is attached onto the dividing layer 31 through the opening 41 of the metal mask 40. Then, the adhering mixed solution is heated by the heated front substrate 11, and the low viscosity solution is evaporated and dried. As a result, the getter powder is fixed on the dividing layer 31 and the getter film 23 is patterned.

前面基板11を加熱した状態で、混合溶液をスプレーすることにより、分断層31に付着した低粘度溶液が直ぐに乾燥してゲッタ粉末を固着する。そのため、ゲッタ膜23のパターンニング精度が向上する。基板温度が高すぎると、混合溶液が分断層31に付着する直前に低粘度溶液が乾燥し、基板との接着力が低下し、あるいは、形成されたゲッタ層表面に凸凹が生ずる。基板温度が低いと、ゲッタ膜23を積層する際に、メタルマスク40と前面基板との間に低粘度溶液が入り込み、にじみが発生する。このことから、前面基板11の加熱温度は40〜150℃が望ましい。   By spraying the mixed solution while the front substrate 11 is heated, the low-viscosity solution adhering to the dividing layer 31 is immediately dried to fix the getter powder. Therefore, the patterning accuracy of the getter film 23 is improved. If the substrate temperature is too high, the low-viscosity solution dries immediately before the mixed solution adheres to the dividing layer 31, and the adhesive force with the substrate decreases, or unevenness occurs on the surface of the formed getter layer. When the substrate temperature is low, a low viscosity solution enters between the metal mask 40 and the front substrate when the getter film 23 is stacked, and bleeding occurs. For this reason, the heating temperature of the front substrate 11 is preferably 40 to 150 ° C.

図7は、非蒸発型ゲッタの粒子23aおよび低粘度溶液23bにより形成されたゲッタ膜23を拡大して示している。非蒸発型のゲッタ膜23の膜厚を15μm程度に設定した。ゲッタ膜23を形成した後、低粘度溶液23bであるコロイダルシリカにより非蒸発型ゲッタの粒子23a同士を強固に接着するとともに、非蒸発型ゲッタの粒子23aの表面を比較的大きな面積で露出させることができる。そのため、後の活性化工程で非蒸発型ゲッタの粒子23aを活性化させた後、非蒸発型ゲッタのガス吸着機能を十分に発揮させることができる。   FIG. 7 shows an enlarged view of the getter film 23 formed of the non-evaporable getter particles 23a and the low-viscosity solution 23b. The film thickness of the non-evaporable getter film 23 was set to about 15 μm. After the getter film 23 is formed, the non-evaporable getter particles 23a are firmly bonded to each other by the colloidal silica that is the low-viscosity solution 23b, and the surface of the non-evaporable getter particles 23a is exposed in a relatively large area. Can do. Therefore, after the non-evaporable getter particles 23a are activated in the subsequent activation step, the gas adsorption function of the non-evaporable getter can be sufficiently exhibited.

また、ゲッタ膜23の膜厚は、5μmないし50μmであることが好ましい。5μm未満であると、ゲッタ膜のガス吸着能力が不足する傾向があり、50μmを超えると背面基板側と放電を起こす傾向がある。ゲッタ膜23の膜厚は、混合溶液を複数回スプレーして重ね塗りすることにより、調整することができる。
その後、図7に示すように、メタルマスク40を前面基板11から取外す。これにより、図7および図8に示すように、所定パターンのゲッタ膜23が形成される。
The film thickness of the getter film 23 is preferably 5 μm to 50 μm. If it is less than 5 μm, the gas adsorption ability of the getter film tends to be insufficient, and if it exceeds 50 μm, there is a tendency to cause discharge with the back substrate side. The film thickness of the getter film 23 can be adjusted by spraying the mixed solution a plurality of times and applying it repeatedly.
Thereafter, as shown in FIG. 7, the metal mask 40 is removed from the front substrate 11. As a result, a getter film 23 having a predetermined pattern is formed as shown in FIGS.

一方、背面基板12用の板ガラスに電子放出素子18および配線21を形成する。次に、封着材25としての低融点ガラスを背面基板12の内面外周部に沿って矩形枠状に塗布し封着層を形成する。この背面基板12を大気中で仮焼成する。その後、封着層上に側壁13を位置合わせした後、大気中で低融点ガラスの結晶析出温度まで昇温し、その温度を保持することにより側壁13を背面基板12に封着する。この後、電子放出素子18の活性化を行う。次いで、複数の支持部材14を背面基板12に対して位置合わせし、その端部を背面基板に固着する。   On the other hand, the electron-emitting device 18 and the wiring 21 are formed on the plate glass for the back substrate 12. Next, low melting point glass as the sealing material 25 is applied in a rectangular frame shape along the inner periphery of the back substrate 12 to form a sealing layer. The back substrate 12 is temporarily fired in the atmosphere. Then, after aligning the side wall 13 on the sealing layer, the temperature is raised to the crystal precipitation temperature of the low-melting glass in the atmosphere, and the side wall 13 is sealed to the back substrate 12 by maintaining the temperature. Thereafter, the electron-emitting device 18 is activated. Next, the plurality of support members 14 are aligned with respect to the back substrate 12, and the end portions thereof are fixed to the back substrate.

続いて、上記のように形成された前面基板11および背面基板12の周縁部同士を封着する。本実施の形態では、前面基板11と背面基板12とを互いに位置合わせし、一定の隙間を置いて対向配置した状態で図示しない加熱炉内に投入する。そして、前面基板11および背面基板12を450℃程度に加熱する。加熱により、予め塗布された低融点ガラスの溶融が始まる。例えば、30分かけてアルゴン雰囲気にて約450℃に温度が保持され、低融点ガラスが溶融するとともに結晶析出が始まる。その後、低融点ガラスの結晶析出がほぼ完了し、背面基板12、前面基板11が低融点ガラスにより側壁13を介して互いに封着される。   Subsequently, the peripheral portions of the front substrate 11 and the back substrate 12 formed as described above are sealed. In the present embodiment, the front substrate 11 and the rear substrate 12 are aligned with each other, and placed in a heating furnace (not shown) in a state of being opposed to each other with a certain gap. Then, the front substrate 11 and the back substrate 12 are heated to about 450 ° C. By heating, melting of the low melting point glass previously applied starts. For example, the temperature is maintained at about 450 ° C. in an argon atmosphere over 30 minutes, and the low melting glass melts and crystal precipitation begins. Thereafter, crystal precipitation of the low melting point glass is almost completed, and the back substrate 12 and the front substrate 11 are sealed to each other through the side wall 13 by the low melting point glass.

続いて、加熱炉内の温度をゲッタ膜の活性化温度よりも高い高温、例えば、400〜450℃に維持し、前面基板11および背面基板12を1時間程度ベーキングする。これにより、前面基板、背面基板、蛍光体スクリーン、電子放出素子に吸着していた不所望なガス成分を放出させ脱ガスを行う。電子放出素子の酸化を防ぐため、加熱炉内を不活性雰囲気、還元雰囲気にて封着およびベーキングを行うことが望ましい。時間、温度により雰囲気を選択することが可能である。   Subsequently, the temperature in the heating furnace is maintained at a high temperature higher than the activation temperature of the getter film, for example, 400 to 450 ° C., and the front substrate 11 and the back substrate 12 are baked for about 1 hour. As a result, undesired gas components adsorbed on the front substrate, the rear substrate, the phosphor screen, and the electron-emitting device are released to perform degassing. In order to prevent oxidation of the electron-emitting device, it is desirable to seal and bake the inside of the heating furnace in an inert atmosphere and a reducing atmosphere. The atmosphere can be selected according to time and temperature.

ベーキングによる脱ガスの間、排気ポンプにより、排気孔29から外囲器10内部を排気する。これにより、基板、蛍光体スクリーン等から脱離したガス成分が外囲器10から外部へ排出され、外囲器10内部は清浄な真空状態となる。   During the degassing by baking, the inside of the envelope 10 is exhausted from the exhaust hole 29 by the exhaust pump. As a result, gas components desorbed from the substrate, the phosphor screen, and the like are discharged from the envelope 10 to the outside, and the inside of the envelope 10 is in a clean vacuum state.

前面基板11および背面基板12を350〜500℃程度で所定時間、例えば、2時間、加熱してゲッタ膜23を活性化する。これにより、ゲッタ膜23は、吸着能力がほぼ劣化することなく動作状態となる。   The getter film 23 is activated by heating the front substrate 11 and the back substrate 12 at about 350 to 500 ° C. for a predetermined time, for example, 2 hours. As a result, the getter film 23 is in an operating state without substantially deteriorating the adsorption capability.

ゲッタ膜23の活性化が終了した後、外囲器10を所望の温度まで降温し、蓋部材30により外囲器10の排気孔29を気密に封止する。蓋部材30の封止は、インジウム等の低融点金属による封着、局所加熱による溶着など公知の技術を用いて行うことができる。次いで、外囲器10は、加熱炉から取り出される。以上の工程によりSEDの外囲器10が完成する。   After the activation of the getter film 23 is completed, the envelope 10 is cooled to a desired temperature, and the exhaust hole 29 of the envelope 10 is hermetically sealed by the lid member 30. The lid member 30 can be sealed using a known technique such as sealing with a low melting point metal such as indium or welding by local heating. Next, the envelope 10 is removed from the heating furnace. The SED envelope 10 is completed through the above steps.

上記のように構成されたSEDおよび製造方法によれば、ゲッタ膜は、蛍光体スクリーン16の全面にわたって形成されているとともに、蛍光体層R、G、B上を避けるよう遮光層20上に形成されている。そのため、ゲッタ膜23により輝度を低下させずに外囲器10内部全体を高い真空度に維持することが可能となる。   According to the SED and the manufacturing method configured as described above, the getter film is formed on the entire surface of the phosphor screen 16 and is formed on the light shielding layer 20 so as to avoid the phosphor layers R, G, and B. Has been. For this reason, the entire interior of the envelope 10 can be maintained at a high degree of vacuum without lowering the luminance by the getter film 23.

ゲッタ材と低粘度溶液を混合しスプレーすることにより短時間で均一にゲッタ膜を形成することが可能になり、ゲッタ材を効果的に機能させることができ、良好な表示性能を長期間に亘って維持できる。高価な真空装置を用いることなく、長期にわたって高い表示性能を維持することができとともに、製造コストの低減を図ることが可能な画像表示装置の製造方法を提供することができる。   By mixing and spraying a getter material and a low-viscosity solution, it becomes possible to form a getter film uniformly in a short time, making the getter material function effectively, and providing good display performance over a long period of time. Can be maintained. Without using an expensive vacuum device, it is possible to provide a method for manufacturing an image display device that can maintain high display performance over a long period of time and can reduce the manufacturing cost.

この発明は上述した実施の形態に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。実施の形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよいし、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be embodied by modifying the constituent elements without departing from the scope of the invention in the implementation stage. In addition, various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of components disclosed in the embodiment. Some constituent elements may be deleted from all the constituent elements shown in the embodiments, or constituent elements over different embodiments may be appropriately combined.

上述した実施形態では、内面に蛍光体スクリーンを有する前面基板を備えたSEDを例にとって説明したが、この発明はこれに限定されること無く、FED、PDP等の他の表示装置に適用することもできる。各構成要素の寸法、材料等は、上述した実施形態で例示した数値、材料に限定されることなく、必要に応じて種々選択可能である。   In the above-described embodiment, the SED provided with the front substrate having the phosphor screen on the inner surface has been described as an example. However, the present invention is not limited to this and is applied to other display devices such as an FED and a PDP. You can also. The dimensions, materials, and the like of each component are not limited to the numerical values and materials exemplified in the above-described embodiment, and can be variously selected as necessary.

ゲッタ材、低粘度溶液の材料は、上述した実施形態に限定されること無く、使用するデバイスの真空特性や放出ガス特性、耐熱性などに合わせ、種々選択することができる。例えば、ゲッタ材は、前述した以外の金属材料、有機材料、無機材料なども選択可能である。スプレー方法は2流体方式に限らず、1流体方式、静電スプレー、その他液体を噴霧できる装置であれば使用可能である。   The material of the getter material and the low-viscosity solution is not limited to the above-described embodiment, and various materials can be selected according to the vacuum characteristics, emission gas characteristics, heat resistance, and the like of the device to be used. For example, as the getter material, metal materials other than those described above, organic materials, inorganic materials, and the like can be selected. The spray method is not limited to the two-fluid method, and any one-fluid method, electrostatic spray, or any other device that can spray liquid can be used.

上述した実施形態では、ゲッタ膜を蛍光体スクリーン上に設ける構成としたが、これに限らず、外囲器を構成する他の構成部材に形成してもよい。例えば、背面基板12側の構造物にゲッタ膜を設けてもよく、この場合、電子放出素子18から外れた位置で配線21を短絡することのない位置に形成すれば良い。   In the above-described embodiment, the getter film is provided on the phosphor screen. However, the present invention is not limited to this, and the getter film may be formed on another constituent member constituting the envelope. For example, a getter film may be provided on the structure on the back substrate 12 side, and in this case, the wiring 21 may be formed at a position where the wiring 21 is not short-circuited at a position away from the electron-emitting device 18.

図1は、この発明の実施形態に係るSEDを一部破断して示す斜視図。FIG. 1 is a perspective view showing a partially broken SED according to an embodiment of the present invention. 図2は、図1の線A−Aに沿ったSEDの断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view of the SED along line AA in FIG. 図3は、前記SEDの前面基板および蛍光体スクリーンの一部を拡大して示す平面図。FIG. 3 is an enlarged plan view showing a part of the front substrate and phosphor screen of the SED. 図4は、図3の線B−Bに沿った前面基板の断面図。4 is a cross-sectional view of the front substrate along the line BB in FIG. 3. 図5は、前記SEDの製造工程において、前面基板を加熱プレート上に載置し、蛍光体スクリーン上にメタルマスクを載置した状態を示す断面図。FIG. 5 is a cross-sectional view showing a state where a front substrate is placed on a heating plate and a metal mask is placed on a phosphor screen in the SED manufacturing process. 図6は、前記SEDの製造工程において、蛍光体スクリーン上にメタルマスクを介して非蒸発型ゲッタの粉末および低粘度溶液をスプレーした状態を示す断面図。FIG. 6 is a cross-sectional view showing a state in which a non-evaporable getter powder and a low-viscosity solution are sprayed on a phosphor screen through a metal mask in the SED manufacturing process. 図7は、非蒸発型のゲッタ膜を拡大して示す断面図。FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view of a non-evaporable getter film.

符号の説明Explanation of symbols

10…外囲器、 11…前面基板、 12…背面基板、 13…側壁、
14…支持部材、 16…蛍光体スクリーン、 17…メタルバック層、
18…電子放出素子、 R、G、B…蛍光体層、 20…遮光層、
23…ゲッタ膜、 23a…ゲッタの粉末、 23b…低粘度溶液、
40…メタルマスク 46…スプレーノズル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Envelope, 11 ... Front substrate, 12 ... Back substrate, 13 ... Side wall,
14 ... support member, 16 ... phosphor screen, 17 ... metal back layer,
18 ... electron-emitting device, R, G, B ... phosphor layer, 20 ... light shielding layer,
23 ... Getter film, 23a ... Getter powder, 23b ... Low viscosity solution,
40 ... Metal mask 46 ... Spray nozzle

Claims (8)

前面基板およびこの前面基板に対向配置され背面基板を有した外囲器と、前記外囲器内に設けられた非蒸発型のゲッタと、を備えた画像表示装置の製造方法において、
前記外囲器を構成する構成部材の内面上に、微粒子状のゲッタ材と粘度が1〜1000mPa.Sの低粘度溶液とをスプレーにより塗布しゲッタ膜を形成する画像表示装置の製造方法。
In a manufacturing method of an image display device comprising: a front substrate, an envelope having a rear substrate disposed opposite to the front substrate, and a non-evaporable getter provided in the envelope.
Fine particles of getter material and a viscosity of 1-1000 mPa. A method for manufacturing an image display device, wherein a getter film is formed by applying a low viscosity solution of S by spraying.
前記ゲッタ材と低粘度溶液を混合し、混合溶液をスプレーする請求項1に記載の画像表示装置の製造方法。   The method for manufacturing an image display device according to claim 1, wherein the getter material and a low viscosity solution are mixed and the mixed solution is sprayed. 前記構成部材を40〜150℃に加熱した状態で、前記微粒子状のゲッタ材および低粘度溶液をスプレーする請求項1又は2に記載の画像表示装置の製造方法。   The manufacturing method of the image display apparatus of Claim 1 or 2 which sprays the said fine particle getter material and a low-viscosity solution in the state which heated the said structural member at 40-150 degreeC. 前記構成部材上に、所定の開孔パターンを有するマスクを配置し、このマスクを介して前記前記ゲッタ材および低粘度溶液をスプレーする請求項1又は2に記載の画像表示装置の製造方法。   The method for manufacturing an image display device according to claim 1, wherein a mask having a predetermined aperture pattern is disposed on the component member, and the getter material and the low-viscosity solution are sprayed through the mask. 粒径が10nmないし10μmのゲッタ材を用いる請求項1に記載の画像表示装置の製造方法。   2. The method for manufacturing an image display device according to claim 1, wherein a getter material having a particle diameter of 10 nm to 10 [mu] m is used. 前記ゲッタ材としてTi,Zr,V,Fe,Al,Cr,Nb,Ta,W,Mo,Ni,Mn,Yの内の1種類以上の金属または2種類以上の合金を用いる請求項1に記載の画像表示装置の製造方法。   The said getter material uses Ti, Zr, V, Fe, Al, Cr, Nb, Ta, W, Mo, Ni, Mn, Y, or one or more types of metals or two or more types of alloys. Manufacturing method of the image display apparatus. 前記前面基板の内面に複数の蛍光体層および蛍光体層間に位置した遮光層とを有する蛍光体スクリーンを形成し、前記遮光層上に前記ゲッタ材および低粘度溶液をスプレーし、ゲッタ膜を形成する請求項1に記載の画像表示装置の製造方法。   A phosphor screen having a plurality of phosphor layers and a light shielding layer located between the phosphor layers is formed on the inner surface of the front substrate, and the getter material and a low viscosity solution are sprayed on the light shielding layer to form a getter film. The manufacturing method of the image display apparatus of Claim 1. 前記ゲッタ層を形成した後、前記前面基板および背面基板の周縁部同士を封着し、
前記外囲器を前記ゲッタ膜の活性化温度よりも高い温度で加熱して、前記外囲器内を脱ガスし、
前記脱ガスしながら、前記外囲器内を真空排気し、
前記脱ガス後、前記非蒸発型ゲッタを活性化する請求項7に記載の画像表示装置の製造方法。
After forming the getter layer, sealing the peripheral portions of the front substrate and the back substrate,
Heating the envelope at a temperature higher than the activation temperature of the getter film to degas the envelope;
While degassing, the inside of the envelope is evacuated,
The method for manufacturing an image display device according to claim 7, wherein the non-evaporable getter is activated after the degassing.
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