JP2008089884A - Display device - Google Patents

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健太郎 三浦
Takeshi Hioki
毅 日置
Masao Tanaka
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display device which can easily view an image even on its curved section and has a high reliable by solving the following problem: the angle between the viewpoint and the display device is significantly varied by the position of the display region inside the display device in the display device having the curved section. <P>SOLUTION: In the display device, a resin layer 60 arranged on a first region 50A on a protruding surface 51 corresponding to the curvature direction of a laminate 50 is formed so as to be thicker than the resin layer 60 arranged on a second region 50B on the protruding surface 51, and further, the thickness of the resin layer of the first region 50A on the protruding surface 51 gradually increases as going closer to the bus 5. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、表示素子に関し、特に、樹脂フィルムなどの可撓性材料を基板として用いた表示素子に関する。   The present invention relates to a display element, and more particularly to a display element using a flexible material such as a resin film as a substrate.

近年、薄膜トランジスタ(以下、TFTという)を用いた表示装置は、その高品質な表示や動画表示能力などにより、パソコン用モニタをはじめ携帯電話などの情報端末向けの表示装置として広く用いられている。   In recent years, display devices using thin film transistors (hereinafter referred to as TFTs) have been widely used as display devices for information terminals such as monitors for personal computers and mobile phones due to their high quality display and moving image display capabilities.

さらに、最近では、更なる形状自由度を与えるべく、表示装置自体に柔軟性を付与した、可撓性を備えた表示装置の研究開発が進んでいる(例えば、特許文献1、2)。
特開平11−38395号公報 特開2004−46792公報
Further, recently, research and development of flexible display devices in which flexibility is given to the display device itself in order to give a further degree of freedom of shape has progressed (for example, Patent Documents 1 and 2).
Japanese Patent Laid-Open No. 11-38395 JP 2004-46792 A

しかしながら、このような可撓性を有する表示装置は、表示素子を湾曲状態で固定した場合には、視点を中心に半球体状になっている場合を除き、視点と表示素子とのなす角が表示素子内の表示領域によって大きく変化するという問題がある。そのため、視点によって情報の密度が異なったり、表示素子としての視野角の狭さから表示領域が狭くなったり、表示素子としての視野角依存性により暗くなったり色が変化するなどの問題がある。また、可撓性を有する表示素子を実現するために、液晶等を挟持する基板にプラスチックフィルムなどのプラスチック基板を用いて曲面表示装置を形成する場合は、そのプラスチック基板の湾曲部において、水や酸素の透過が起こり、その湾曲部で映像を表示する場合は、表示画像等が乱れてしまうという問題があり、表示装置の信頼性が低下するといった問題があった。   However, in such a display device having flexibility, when the display element is fixed in a curved state, the angle formed between the viewpoint and the display element is different except when the display element is hemispherical with the viewpoint as the center. There is a problem that it varies greatly depending on the display area in the display element. For this reason, there are problems such that the information density varies depending on the viewpoint, the display area becomes narrow due to the narrow viewing angle as the display element, and the display area becomes dark due to the viewing angle dependence as the display element. In order to realize a flexible display element, when a curved display device is formed using a plastic substrate such as a plastic film on a substrate that sandwiches liquid crystal or the like, water or When oxygen permeates and an image is displayed on the curved portion, there is a problem that a display image or the like is disturbed, and there is a problem that reliability of the display device is lowered.

そこで、本発明は、湾曲部を有する表示素子において、視点と表示素子とのなす角が表示素子内の表示領域によって大きく変化する問題を解決し、表示素子の湾曲部においても映像が見やすく、かつ、信頼性の高い表示素子を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention solves the problem that the angle formed between the viewpoint and the display element varies greatly depending on the display area in the display element in the display element having the curved part, and the image is easy to see even in the curved part of the display element, and An object is to provide a display element with high reliability.

本発明に係る表示素子は、第1基板と、第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた液晶層と、を備える積層体と、前記積層体を覆う樹脂層と、を有し、前記積層体は前記第1基板と前記第2基板とが対向するいずれか一方の面を凸面、他方の面を凹面とするように湾曲した第1領域と、前記第1領域に隣接し、前記第1領域より曲率半径が大きい第2領域とを備え、前記第1領域の前記凸面上に設けられた樹脂層は、前記第2領域の前記凸面上に設けられた樹脂層より厚く形成されていることを特徴とする。   A display element according to the present invention includes a laminate including a first substrate, a second substrate, and a liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate, and a resin that covers the laminate. A first region that is curved so that one surface of the laminate facing the first substrate and the second substrate is a convex surface and the other surface is a concave surface; A resin layer provided on the convex surface of the first region is provided on the convex surface of the second region, the second region having a radius of curvature larger than that of the first region. It is characterized by being formed thicker than the resin layer.

本発明によれば、湾曲部を有する表示素子において、視点と表示素子とのなす角が表示素子内の表示領域によって大きく変化する問題を解決し、表示素子の湾曲部においても映像が見やすく、かつ、信頼性の高い表示素子が提供される。   According to the present invention, in a display element having a curved portion, the problem that the angle between the viewpoint and the display element varies greatly depending on the display area in the display element is solved. A display element with high reliability is provided.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。以下の図面の記載において、同一の部分には同一の符号を付し、重複する記載は省略する。また、図面は模式的なものであり、厚みと平面寸法との関係、各層の厚みの比率等は現実のものと異なる。更に、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれている。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following description of the drawings, the same portions are denoted by the same reference numerals, and overlapping descriptions are omitted. The drawings are schematic, and the relationship between the thickness and the planar dimensions, the ratio of the thickness of each layer, and the like are different from the actual ones. Further, there are included portions having different dimensional relationships and ratios between the drawings.

(第1の実施形態)
図1は第1の実施形態に係る表示素子を示す斜視図であり、図2は第1の実施形態に係る表示素子の断面構造を示す断面図である。
(First embodiment)
FIG. 1 is a perspective view showing a display element according to the first embodiment, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing a cross-sectional structure of the display element according to the first embodiment.

本実施形態に係る表示素子10は、図1及び図2に示すように、アレイ基板20と、アレイ基板20に対向する対向基板30と、アレイ基板20と対向基板30との間に設けられた液晶層40と、アレイ基板20、対向基板30及び液晶層40とを含む積層体50を覆う樹脂層60と、を備えており、全体が柱面形状に湾曲している。図1中、80は表示領域である。   As shown in FIGS. 1 and 2, the display element 10 according to the present embodiment is provided between the array substrate 20, the counter substrate 30 facing the array substrate 20, and the array substrate 20 and the counter substrate 30. The liquid crystal layer 40 and the resin layer 60 covering the laminated body 50 including the array substrate 20, the counter substrate 30, and the liquid crystal layer 40 are provided, and the whole is curved in a columnar shape. In FIG. 1, reference numeral 80 denotes a display area.

図3は、本発明に採用可能なアレイ基板20上の画素領域の一例を示す平面図であり、図4は、図3のA−A線で切った断面図である。また、図5は、本発明に採用可能な表示素子の一例を示す部分断面図である。   3 is a plan view showing an example of a pixel region on the array substrate 20 that can be employed in the present invention, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. FIG. 5 is a partial cross-sectional view showing an example of a display element that can be employed in the present invention.

表示素子10は、アレイ基板20と対向基板30とを含んでいる。また、アレイ基板20の外面上には図示しない偏光板が順次配置されており、同様に、対向基板30の外面上には図示しない偏光板が順次配置されている。   The display element 10 includes an array substrate 20 and a counter substrate 30. Further, polarizing plates (not shown) are sequentially arranged on the outer surface of the array substrate 20, and similarly, polarizing plates (not shown) are sequentially arranged on the outer surface of the counter substrate 30.

アレイ基板20は、例えば、プラスチックフィルムなどの可撓性を有する有機材料、又は、ガラス等の可撓性を有する無機材料で構成されている支持基板100を含んでいる。支持基板100上には、走査線101と、図示しない補助容量線とが配置されている。走査線101と補助容量線は、各々がX方向に延びており、X方向と交差するY方向(図4では紙面方向、以下、同じ)に交互に配列している。この走査線101と補助容量線とは、同一の工程で形成することができる。また、これらの材料としては、例えば、Al、Ta、Mo、Tiなどの金属や、Mo−W、Mo−Ta、Al−Ndなどの合金の薄膜またはその積層膜を用いればよく、スパッタ法などにより成膜後、パターニングして形成することができる。走査線101の一部は、薄膜トランジスタ(TFT:thin film transistor)の領域内において、薄膜トランジスタのゲート電極102として使用される。   The array substrate 20 includes a support substrate 100 made of, for example, a flexible organic material such as a plastic film, or a flexible inorganic material such as glass. On the support substrate 100, scanning lines 101 and auxiliary capacitance lines (not shown) are arranged. The scanning lines 101 and the auxiliary capacitance lines each extend in the X direction, and are alternately arranged in the Y direction (the paper surface direction in FIG. 4, hereinafter the same) that intersects the X direction. The scanning line 101 and the auxiliary capacitance line can be formed in the same process. Further, as these materials, for example, a metal such as Al, Ta, Mo, or Ti, a thin film of an alloy such as Mo—W, Mo—Ta, or Al—Nd or a laminated film thereof may be used. Thus, it can be formed by patterning after film formation. A part of the scanning line 101 is used as a gate electrode 102 of the thin film transistor in a thin film transistor (TFT) region.

走査線101、ゲート電極102及び補助容量線を覆うように、支持基板100上に、例えば、シリコン酸化膜やシリコン窒化膜などからなる絶縁膜103が設けられている。この絶縁膜103は、例えば、プラズマCVD法により形成することができる。   An insulating film 103 made of, for example, a silicon oxide film or a silicon nitride film is provided on the support substrate 100 so as to cover the scanning line 101, the gate electrode 102, and the auxiliary capacitance line. This insulating film 103 can be formed by, for example, a plasma CVD method.

ゲート電極102に対応する領域の絶縁膜103上には、例えば、アモルファスシリコン等で構成された半導体層104が設けられている。この半導体層104と、ゲート電極102と、絶縁膜103のうちゲート電極102と半導体層104との間に位置する部分(ゲート絶縁膜)とで、薄膜トランジスタ(TFT)を形成している。これら薄膜トランジスタは、画素スイッチ105として利用される。更に、半導体層104上のゲート電極に対応する位置には、例えば、シリコン窒化膜で構成されたチャネル保護膜106が設けられている。   On the insulating film 103 in a region corresponding to the gate electrode 102, a semiconductor layer 104 made of, for example, amorphous silicon is provided. A thin film transistor (TFT) is formed by the semiconductor layer 104, the gate electrode 102, and a portion (gate insulating film) of the insulating film 103 positioned between the gate electrode 102 and the semiconductor layer 104. These thin film transistors are used as the pixel switch 105. Further, a channel protective film 106 made of, for example, a silicon nitride film is provided at a position corresponding to the gate electrode on the semiconductor layer 104.

また、絶縁膜103上には、更に、信号線110とドレイン電極120が配置されている。信号線110は、各々がY方向に延びており、画素スイッチ105が設けられている列に対応してX方向に交互に配列している。信号線110の一部は、画素スイッチ105に接続されたソース電極115として使用される。これら信号線110及びドレイン電極120は、同一の工程で形成することができ、例えば、絶縁膜103上に設けられた半導体層104と、半導体層104上に設けられたn型半導体層111と、n型半導体層111上に設けられた金属薄膜113とで構成されている。n型半導体層111は、例えば、アモルファスシリコンに燐をドープした半導体層で構成されている。また、金属薄膜113は、例えば、Al、Ta、Mo、Tiなどの金属や、Mo−W、Mo−Ta、Al−Ndなどの合金の薄膜またはその積層膜で構成されている。n型半導体層111及び金属薄膜113は、スパッタ法などにより成膜後、パターニングして形成することができる。   Further, a signal line 110 and a drain electrode 120 are further disposed on the insulating film 103. Each signal line 110 extends in the Y direction, and is alternately arranged in the X direction corresponding to the column in which the pixel switch 105 is provided. A part of the signal line 110 is used as the source electrode 115 connected to the pixel switch 105. The signal line 110 and the drain electrode 120 can be formed in the same process. For example, the semiconductor layer 104 provided over the insulating film 103, the n-type semiconductor layer 111 provided over the semiconductor layer 104, The metal thin film 113 is provided on the n-type semiconductor layer 111. The n-type semiconductor layer 111 is composed of, for example, a semiconductor layer obtained by doping amorphous silicon with phosphorus. The metal thin film 113 is made of, for example, a metal such as Al, Ta, Mo, or Ti, a thin film of an alloy such as Mo—W, Mo—Ta, or Al—Nd, or a laminated film thereof. The n-type semiconductor layer 111 and the metal thin film 113 can be formed by patterning after film formation by a sputtering method or the like.

ソース電極115、ドレイン電極120及びチャネル保護層106を含む絶縁膜103上には、例えば、シリコン酸化膜で構成された保護層125が配置されている。保護層125上には、例えば、ITO(indium tin oxide)で構成された画素電極130が設けられ、画素電極130は、保護層125に形成された貫通孔を介してドレイン電極120に接続されている。   On the insulating film 103 including the source electrode 115, the drain electrode 120, and the channel protective layer 106, for example, a protective layer 125 made of a silicon oxide film is disposed. A pixel electrode 130 made of, for example, ITO (indium tin oxide) is provided on the protective layer 125, and the pixel electrode 130 is connected to the drain electrode 120 through a through hole formed in the protective layer 125. Yes.

画素電極130は、配向膜140で被覆されている。配向膜140は、その近傍で、液晶分子を、比較的大きなプレチルト角,例えば5°乃至10°で傾斜配向させる。配向膜140は、例えば、アクリル、ポリイミド、ナイロン、ポリアミド、ポリカーボネート、ベンゾシクロブテンポリマー、ポリアクリルニトリル、ポリシランなどからなる有機膜にラビングなどの配向処理を施すことにより得られる。或いは、配向膜140は、例えばシリコン酸化物を斜方蒸着することにより得られる。これらの中でも、成膜の容易さや化学的安定性の点では、ポリイミド、ポリアクリルニトリル、及びナイロンが優れている。   The pixel electrode 130 is covered with an alignment film 140. In the vicinity of the alignment layer 140, the liquid crystal molecules are tilted with a relatively large pretilt angle, for example, 5 ° to 10 °. The alignment film 140 is obtained, for example, by performing an alignment treatment such as rubbing on an organic film made of acrylic, polyimide, nylon, polyamide, polycarbonate, benzocyclobutene polymer, polyacrylonitrile, polysilane, or the like. Alternatively, the alignment film 140 is obtained, for example, by obliquely depositing silicon oxide. Among these, polyimide, polyacrylonitrile, and nylon are excellent in terms of film formation and chemical stability.

また、絶縁膜103上には、走査信号入力端子群(図示せず)と、映像信号入力端子群(図示せず)が配置されている。これら走査信号入力端子及び映像信号入力端子は、それぞれ、走査線101及び信号線110に接続されている。これら端子の材料としては、例えば金属又は合金を使用することができる
対向基板30は、例えば、プラスチックフィルムなどの柔軟性を有する有機材料、又は、ガラス等の可撓性を有する無機材料で構成されている支持基板200を含んでいる。
A scanning signal input terminal group (not shown) and a video signal input terminal group (not shown) are disposed on the insulating film 103. These scanning signal input terminal and video signal input terminal are connected to the scanning line 101 and the signal line 110, respectively. As a material of these terminals, for example, a metal or an alloy can be used. The counter substrate 30 is made of, for example, a flexible organic material such as a plastic film, or a flexible inorganic material such as glass. The supporting substrate 200 is included.

支持基板200上には、対向電極210、カラーフィルタ220がこの順で積層して設けられている。対向電極210は、画素電極130と向き合った共通電極である。対向電極210の材料としては、例えばITOを使用することができる。   On the support substrate 200, a counter electrode 210 and a color filter 220 are stacked in this order. The counter electrode 210 is a common electrode facing the pixel electrode 130. As a material of the counter electrode 210, for example, ITO can be used.

カラーフィルタ220は、配向膜230で被覆されている。配向膜230としては、配向膜140と同様の膜を使用することができる。   The color filter 220 is covered with an alignment film 230. As the alignment film 230, a film similar to the alignment film 140 can be used.

なお、ここでは、支持基板200上に、対向電極210、カラーフィルタ220がこの順で積層された構成を有しているが、対向電極210と、カラーフィルタ220が逆、すなわち、支持基板200上に、カラーフィルタ220、対向電極210がこの順で積層された構成を備えていてもよい。   Here, the counter electrode 210 and the color filter 220 are stacked in this order on the support substrate 200, but the counter electrode 210 and the color filter 220 are reversed, that is, on the support substrate 200. In addition, the color filter 220 and the counter electrode 210 may be stacked in this order.

アレイ基板20と対向基板30とは、それらの配向膜140及び230同士を向き合わせている。アレイ基板20と対向基板30との間には、枠状のシール層300が介在している。前述した走査信号入力端子と映像信号入力端子は、シール層が形成する枠の外側に位置している。シール層300は、アレイ基板20と対向基板30とを互いに貼り合せている。シール層300の材料としては、エポキシ系やアクリル系の接着剤を使用することができる。   The array substrate 20 and the counter substrate 30 face each other their alignment films 140 and 230. A frame-shaped seal layer 300 is interposed between the array substrate 20 and the counter substrate 30. The scanning signal input terminal and the video signal input terminal described above are located outside the frame formed by the seal layer. The seal layer 300 bonds the array substrate 20 and the counter substrate 30 to each other. As a material of the seal layer 300, an epoxy or acrylic adhesive can be used.

アレイ基板20と対向基板30との間であってシール層300が形成する枠の外側には、図示しないトランスファ電極が配置されている。トランスファ電極は、対向電極210及びアレイ基板20に接続している。   A transfer electrode (not shown) is disposed between the array substrate 20 and the counter substrate 30 and outside the frame formed by the seal layer 300. The transfer electrode is connected to the counter electrode 210 and the array substrate 20.

アレイ基板20と対向基板30との間隙、すなわち液晶層40の厚さは、この間隙に配設されたプラスチック等からなる球状のスペーサ310により保持されている。或いは、アレイ基板20と対向基板30の間隙に、設けられた図示しない柱状スペーサで構成されていてもよい。これらスペーサは、アレイ基板20と対向基板30との間であって画素電極130に対応した位置にほぼ一定の隙間を形成している。   The gap between the array substrate 20 and the counter substrate 30, that is, the thickness of the liquid crystal layer 40 is held by a spherical spacer 310 made of plastic or the like disposed in the gap. Alternatively, it may be constituted by a columnar spacer (not shown) provided in the gap between the array substrate 20 and the counter substrate 30. These spacers form a substantially constant gap between the array substrate 20 and the counter substrate 30 at a position corresponding to the pixel electrode 130.

液晶層40は、例えば、高分子材料とこれよりも低分子量の低分子液晶材料とを含んだ混合物で構成されている。高分子材料は、5000以上の平均分子量を有している。なお、ここで言う「平均分子量」は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィで測定した数平均分子量である。高分子材料は、液晶層40中で、高分子マトリクス又は高分子ネットワークを形成している。低分子材料は、1000以下の分子量を有している。低分子液晶材料は、例えば、誘電率異方性が正のネマティック液晶材料である。   The liquid crystal layer 40 is composed of, for example, a mixture including a high molecular material and a low molecular liquid crystal material having a lower molecular weight than this. The polymer material has an average molecular weight of 5000 or more. The “average molecular weight” referred to here is a number average molecular weight measured by gel permeation chromatography. The polymer material forms a polymer matrix or polymer network in the liquid crystal layer 40. The low molecular weight material has a molecular weight of 1000 or less. The low-molecular liquid crystal material is, for example, a nematic liquid crystal material having a positive dielectric anisotropy.

図示しない偏光板は、例えば、それらの透過軸が互いに略直交するように配置する。また、各偏光板は、例えば、その透過軸がX方向及びY方向に対して約45°の角度を為すように配置する。   For example, polarizing plates (not shown) are arranged so that their transmission axes are substantially orthogonal to each other. Moreover, each polarizing plate is arrange | positioned, for example so that the transmission axis may make an angle of about 45 degrees with respect to the X direction and the Y direction.

走査線ドライバ2及び信号線ドライバ3は、それぞれ、走査信号入力端子及び映像信号入力端子に接続されている。この例ではドライバ2及び3をCOG(chip on glass)実装しているが、その代わりにTCP(tape carrier package)実装してもよい。   The scanning line driver 2 and the signal line driver 3 are connected to a scanning signal input terminal and a video signal input terminal, respectively. In this example, the drivers 2 and 3 are mounted on COG (chip on glass), but instead, TCP (tape carrier package) may be mounted.

本実施形態に係る表示素子10は、アレイ基板20と対向基板30とが対向する方向に湾曲している。すなわち、本実施形態に係る表示素子10は、図2に示すように、アレイ基板20と対向基板30と液晶層40とで構成される積層体50のアレイ基板20と対向基板30とが対向するいずれか一方の面を凸面(本実施形態では図中51)、他方の面を凹面(本実施形態では図中52)とするように湾曲した第1領域50Aと、第1領域50Aに隣接し、第1領域50Aより曲率半径が大きい第2領域50Bとを備える。本実施形態に係る表示素子10の表示領域80は、図1に示すように、凸面51上に設けられている。   The display element 10 according to the present embodiment is curved in a direction in which the array substrate 20 and the counter substrate 30 face each other. That is, in the display element 10 according to the present embodiment, as shown in FIG. 2, the array substrate 20 and the counter substrate 30 of the laminate 50 including the array substrate 20, the counter substrate 30, and the liquid crystal layer 40 face each other. A first region 50A curved so that one of the surfaces is a convex surface (51 in the drawing in the present embodiment) and the other surface is a concave surface (52 in the drawing in the embodiment), and adjacent to the first region 50A The second region 50B has a larger radius of curvature than the first region 50A. The display area 80 of the display element 10 according to the present embodiment is provided on the convex surface 51 as shown in FIG.

詳しくは、第2領域50Bは、第1領域50Aに隣接し、第1領域50Aより曲率半径が大きい第2a領域50B1と、第2a領域50B1を介して第1領域50Aに隣接し、積層体50の外端50Cを含み、第1領域50A及び第2a領域50B1より曲率半径が大きい第2b領域50B2とで構成されている。   Specifically, the second region 50B is adjacent to the first region 50A, adjacent to the first region 50A via the second a region 50B1 having a larger radius of curvature than the first region 50A, and the second a region 50B1, and to the stacked body 50. The first region 50A and the second b region 50B2 having a larger radius of curvature than the second region 50B1.

本実施形態に係る表示素子10は、第1領域50Aの凸面51上に設けられた樹脂層は、第2領域50Bの凸面51上に設けられた樹脂層より厚く形成されている。より詳しくは、凸面51上に設けられた樹脂層は、積層体50の外端50Cから第1領域50Aに向かって、厚さが漸増している。   In the display element 10 according to the present embodiment, the resin layer provided on the convex surface 51 of the first region 50A is formed thicker than the resin layer provided on the convex surface 51 of the second region 50B. More specifically, the thickness of the resin layer provided on the convex surface 51 gradually increases from the outer end 50C of the stacked body 50 toward the first region 50A.

このような構成とすることで、第1領域50A内における表示領域80の視点と表示素子10とのなす角を調整することができる。   With such a configuration, the angle formed between the viewpoint of the display region 80 and the display element 10 in the first region 50A can be adjusted.

この効果を、図面を用いて説明する。図6は、従来の表示素子における積層体から出た光の樹脂層からの出射する光の様子を模式的に示した断面模式図であり、(a)は表示素子全体の断面図、(b)は、(a)のβの部分における部分断面図である。   This effect will be described with reference to the drawings. FIG. 6 is a schematic cross-sectional view schematically showing a state of light emitted from a resin layer of light emitted from a laminate in a conventional display element, (a) is a cross-sectional view of the entire display element, ) Is a partial cross-sectional view of the portion β in (a).

図6に示すように、従来の表示素子10’は、表示領域内の樹脂層60’の厚さはほぼ均一に構成されているため、積層体50から垂直に出た光が樹脂層60’から空気中に出射する場合は、そのまま垂直に出光する(図6(b))。そのため、使用者が表示素子10’の表示領域80を凸方向から見たときには、表示領域80の第1領域50Aでは光が分散されてしまうため、使用者にとって見ずらいという問題がある。   As shown in FIG. 6, in the conventional display element 10 ′, the thickness of the resin layer 60 ′ in the display region is substantially uniform, so that the light emitted vertically from the laminate 50 is the resin layer 60 ′. When the light is emitted into the air, the light is emitted vertically as it is (FIG. 6B). For this reason, when the user views the display area 80 of the display element 10 ′ from the convex direction, light is dispersed in the first area 50 </ b> A of the display area 80, which is difficult for the user to view.

図7は、本実施形態に係る表示素子における積層体から出た光の樹脂層からの出射する光の様子を模式的に示した断面模式図であり、(a)は表示素子全体の断面図、(b)は、(a)のβの部分における部分断面図である。   FIG. 7 is a schematic cross-sectional view schematically showing a state of light emitted from the resin layer of light emitted from the laminate in the display element according to the present embodiment, and (a) is a cross-sectional view of the entire display element. (B) is a fragmentary sectional view in the (beta) part of (a).

本実施形態に係る表示素子の凸面51上に設けられた樹脂層60は、積層体50の外端50Cから第1領域50Aに向かって(第1領域50Aの母線5に向かって)厚さが漸増しているため、第1領域50A内の樹脂層60の厚さは均一ではない。このため、積層体50から垂直に出た光は、樹脂層60と空気との界面が垂直ではないため、樹脂層60と空気との屈折率の違いと入射角に依存した屈折が起こる。これは、樹脂層60の積層体50の表面に対する傾きをθ、樹脂層60、空気の屈折率をそれぞれn、nとすると、出射角はθoutとなり、一般的に、n>nであるので、積層体50から垂直に出た光は、樹脂層60の厚い側に光が屈折する。つまり、図7(b)に示す部分では、表示素子10の母線5方向に向かって光が屈折する。そのため、表示素子10の第1領域50Aを凸方向から見たときには、表示領域80の第1領域50Aでは光が分散されず、均一に表示素子10から出光するため、使用者にとって第1領域50Aの部分が非常に見やすくなるという効果が生じる。 The resin layer 60 provided on the convex surface 51 of the display element according to the present embodiment has a thickness from the outer end 50C of the stacked body 50 toward the first region 50A (toward the bus 5 of the first region 50A). Since the thickness gradually increases, the thickness of the resin layer 60 in the first region 50A is not uniform. For this reason, the light emitted perpendicularly from the laminate 50 is refracted depending on the difference in refractive index between the resin layer 60 and air and the incident angle because the interface between the resin layer 60 and air is not vertical. When the inclination of the resin layer 60 with respect to the surface of the laminate 50 is θ, and the refractive index of the resin layer 60 and air is n 1 and n 0 , respectively, the emission angle is θout, and generally n 1 > n 0 Therefore, the light emitted vertically from the laminated body 50 is refracted to the thick side of the resin layer 60. That is, in the portion shown in FIG. 7B, the light is refracted toward the bus 5 direction of the display element 10. Therefore, when the first area 50A of the display element 10 is viewed from the convex direction, light is not dispersed in the first area 50A of the display area 80, and the light is emitted uniformly from the display element 10, so that the first area 50A is for the user. This produces the effect of making the part of the screen very easy to see.

更に、凸面51上の第1領域50Aの樹脂層60は、凸面51上の第2領域50Bの樹脂層60より厚く設けられているため、対向基板30の第1領域50Aにおける水や酸素の透過を抑制することができる。このため、第1領域50Aにおける表示画像等の乱れを防止することができる。   Furthermore, since the resin layer 60 in the first region 50A on the convex surface 51 is thicker than the resin layer 60 in the second region 50B on the convex surface 51, water and oxygen are transmitted through the first region 50A of the counter substrate 30. Can be suppressed. For this reason, it is possible to prevent the display image and the like in the first region 50A from being disturbed.

図8は、本実施形態に係る表示素子における積層体から出た光の樹脂層からの出射する光の様子を模式的に示した断面模式図であり、(a)は表示素子全体の断面図、(b)は、(a)のβの部分における部分断面図である。   FIG. 8 is a schematic cross-sectional view schematically showing a state of light emitted from the resin layer of light emitted from the laminate in the display element according to the present embodiment, and (a) is a cross-sectional view of the entire display element. (B) is a fragmentary sectional view in the (beta) part of (a).

このように、凸面51において、積層体50の曲率半径が小さくなるにつれて(湾曲の程度が大きくなるにつれて)、凸面51における樹脂層60の厚さを漸増させた構成を備えることで、凸面51の表示領域80の全面において光を分散させずに、均一化することができるため、表示領域80全体において、画像が見やすくなるという効果を得ることができる。   As described above, the convex surface 51 has a configuration in which the thickness of the resin layer 60 on the convex surface 51 is gradually increased as the radius of curvature of the stacked body 50 decreases (as the degree of curvature increases). Since light can be made uniform without being dispersed over the entire surface of the display region 80, an effect that the image can be easily seen in the entire display region 80 can be obtained.

次に、本実施形態に係る表示素子10の製造方法の一例を説明する。   Next, an example of a method for manufacturing the display element 10 according to the present embodiment will be described.

最初に、柔軟性を有するプラスチックフィルムにコロナ処理やUVオゾン処理などの表面処理を行った後、プラスチックフィルムの表面に、スパッタ法により、シリコン酸化膜(SiOx)、シリコン窒化膜(SiNx)、又は、シリコン酸窒化膜(SiOxNy)等の絶縁膜を形成する。次に、スパッタ法を用いて、MoやAlなどの金属、あるいは、MoTa、MoWSなどの合金の薄膜を例えば300nm形成する。この薄膜を、フォトリソグラフィ法を用いて選択的にエッチングすることにより走査線及びゲート電極等を形成する。次に、走査線及びゲート電極上に、絶縁膜、半導体層、チャネル保護膜をCVD法でこの順で積層する。絶縁膜としては、シリコン酸化膜(SiOx)、シリコン窒化膜(SiNx)、又は、シリコン酸窒化膜(SiOxNy)の単層あるいは積層の膜を例えば300nm形成する。半導体層としては、アモルファスシリコン層を例えば50nm形成する。チャネル保護膜としては、シリコン酸化膜(SiOx)で例えば300nm形成する。次に、チャネル保護層をフォトリソグラフィ法で選択エッチングした後、燐をドープしたアモルファスシリコンをCVD法で形成してn型半導体層とする。次に、AlやMoなどの金属薄膜を300nm程度形成する。そして、半導体層、n型半導体層及び金属薄膜の積層構造に対して、フォトリソグラフィ法を用いて選択的にエッチングすることにより、信号線、ソース電極及びドレイン電極を形成する。その後、CVD法などにより、シリコン酸化膜(SiOx)、シリコン窒化膜(SiNx)等の保護層を形成し、その後、フォトリソグラフィ法を用いてドレイン電極部にコンタクトホールを形成する。そして、ITO等の透明電極をスパッタ法を用いて成膜して、フォトリソグラフィ法でパターニングすることで画素電極を形成する。次に、ポリイミドなどの樹脂で配向膜を形成し、ラビング処理を行う。   First, after a surface treatment such as corona treatment or UV ozone treatment is performed on a plastic film having flexibility, a silicon oxide film (SiOx), a silicon nitride film (SiNx), or Then, an insulating film such as a silicon oxynitride film (SiOxNy) is formed. Next, a 300 nm thin film of a metal such as Mo or Al or an alloy such as MoTa or MoWS is formed by sputtering. This thin film is selectively etched using a photolithography method to form a scanning line, a gate electrode, and the like. Next, an insulating film, a semiconductor layer, and a channel protective film are stacked in this order on the scanning line and the gate electrode by the CVD method. As the insulating film, a silicon oxide film (SiOx), a silicon nitride film (SiNx), or a silicon oxynitride film (SiOxNy) is formed as a single layer or a stacked film, for example, with a thickness of 300 nm. As the semiconductor layer, an amorphous silicon layer is formed with a thickness of 50 nm, for example. The channel protective film is formed of a silicon oxide film (SiOx), for example, 300 nm. Next, after the channel protective layer is selectively etched by a photolithography method, amorphous silicon doped with phosphorus is formed by a CVD method to form an n-type semiconductor layer. Next, a metal thin film such as Al or Mo is formed to about 300 nm. Then, a signal line, a source electrode, and a drain electrode are formed by selectively etching the stacked structure of the semiconductor layer, the n-type semiconductor layer, and the metal thin film using a photolithography method. Thereafter, a protective layer such as a silicon oxide film (SiOx) or a silicon nitride film (SiNx) is formed by CVD or the like, and then a contact hole is formed in the drain electrode portion using photolithography. Then, a transparent electrode such as ITO is formed using a sputtering method and patterned by a photolithography method to form a pixel electrode. Next, an alignment film is formed with a resin such as polyimide, and a rubbing process is performed.

対向する基板として柔軟性を有するプラスチックフィルムにコロナ処理やUVオゾン処理などの表面処理を行った後、プラスチックフィルムの表面に、ITOなどの透明電極をスパッタ法を用いて成膜する。その後、カラーフィルタを貼り合わせ、その表面上に、次に、ポリイミドなどの樹脂で配向膜を形成し、ラビング処理を行う。   A plastic film having flexibility as an opposing substrate is subjected to surface treatment such as corona treatment or UV ozone treatment, and then a transparent electrode such as ITO is formed on the surface of the plastic film by sputtering. Thereafter, a color filter is bonded, and an alignment film is then formed on the surface with a resin such as polyimide, and a rubbing process is performed.

次に、両方のプラスチックフィルムの配向膜を対向するように、配置させて、それぞれのプラスチックフィルム間の間隙を均一に保つ球状のスペーサを形成し、更に、プラスチックフィルムの外周端部には、シール剤を設け、2枚のプラスチックフィルムを貼り合わせる。そして、2枚のプラスチックフィルム間の間隙に、液晶を注入して封止することで積層体が完成する。   Next, the alignment films of both plastic films are arranged so as to face each other to form a spherical spacer that keeps the gap between the plastic films uniform. Further, the outer peripheral edge of the plastic film has a seal. An agent is provided and two plastic films are bonded together. And a liquid crystal is inject | poured and sealed in the gap | interval between two plastic films, and a laminated body is completed.

次に、この積層体を所望の母線を支点として湾曲させた状態で、湾曲させた凸部を下にしてUV硬化エポキシ樹脂の入ったポートに入れ、全面を樹脂で覆った後に引き上げ、凸部を下にした状態で一定時間保持する。これにより、重力によって積層体の凸部に厚く樹脂層を形成することができる。なお、この樹脂層の形成の際、粘度によって形成時間は異なるが、例えば、300cpの粘度の樹脂の場合は、1時間程度放置すればよい。その後、コートした樹脂に対してUV照射することで、樹脂層を形成する。この際、部分的に、UVを照射するタイミングをずらすことでさらに細かく樹脂層の膜厚を制御することができる。   Next, in a state where the laminate is curved with a desired generatrix as a fulcrum, the curved convex portion is placed downward and placed in a port containing UV curable epoxy resin, and the whole surface is covered with resin and then pulled up, the convex portion Hold for a certain time with Thereby, a resin layer can be thickly formed on the convex part of a laminated body by gravity. In forming the resin layer, the formation time varies depending on the viscosity. For example, in the case of a resin having a viscosity of 300 cp, the resin layer may be left for about 1 hour. Thereafter, the resin layer is formed by irradiating the coated resin with UV. At this time, the thickness of the resin layer can be controlled more finely by partially shifting the timing of UV irradiation.

なお、樹脂層の材料は、上述したUV硬化エポキシ樹脂に限定されず、アクリル(PMMA)、エポキシ、PVC、COP、PA、PE、PC、PEN、PET、PI、PAI、シリコーン、フッ素樹脂などさまざまな材料を用いることが可能である。また、UV硬化でなくても、可視光硬化、2液性硬化、熱硬化など他の硬化方法を用いることができる。また、コート方法もインクジェット法などの塗布方法も用いることが可能である。これらの樹脂は表示装置表面を覆うため透明であることが好ましく、また屈折率が大きい方がレンズ効果も大きくなるために好ましい。   The material of the resin layer is not limited to the above-mentioned UV curable epoxy resin, but various such as acrylic (PMMA), epoxy, PVC, COP, PA, PE, PC, PEN, PET, PI, PAI, silicone, fluororesin, etc. It is possible to use a simple material. Moreover, even if it is not UV curing, other curing methods such as visible light curing, two-component curing, and thermal curing can be used. Also, a coating method such as an inkjet method can be used. These resins are preferably transparent in order to cover the surface of the display device, and a higher refractive index is preferable in order to increase the lens effect.

また、樹脂材料にPCTFEなどの防湿性を優れた材料を使用すると、可撓性基板を用いた曲面表示の欠点であった湿度による信頼性の低下を防止することが出来る。   In addition, when a resin material having excellent moisture resistance such as PCTFE is used as the resin material, it is possible to prevent a decrease in reliability due to humidity, which is a drawback of curved display using a flexible substrate.

また、上述した実施形態では、積層体全面に樹脂層を形成した例で説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、前述した第一面のみに、樹脂層を形成した場合でも、同様な効果を得ることが出来る。   In the above-described embodiment, the example in which the resin layer is formed on the entire surface of the laminate has been described. However, the present invention is not limited to this, and even when the resin layer is formed only on the first surface described above. A similar effect can be obtained.

(第2の実施形態)
次に、第2の実施形態について図面を用いて説明する。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment will be described with reference to the drawings.

図9は第2の実施形態に係る表示素子の断面構造を概略的に示す断面図である。   FIG. 9 is a cross-sectional view schematically showing a cross-sectional structure of the display element according to the second embodiment.

本実施形態に係る表示素子10Aは、積層体50の凸面51上の第1領域50Aと、凸面51上の第2b領域50B2の樹脂層60の厚さを厚く形成した構成であり、第2b領域50B2では、積層体50の外周端部50Cに向かって樹脂層60が漸増した構成を備えている。他の部分は、第1の実施形態と同様なため説明を省略する。   The display element 10A according to the present embodiment has a configuration in which the first layer 50A on the convex surface 51 of the multilayer body 50 and the resin layer 60 of the second b region 50B2 on the convex surface 51 are formed thick, and the second b region 50B2 has a configuration in which the resin layer 60 is gradually increased toward the outer peripheral end 50C of the laminated body 50. Since other parts are the same as those in the first embodiment, description thereof is omitted.

本実施形態に係る表示素子10Aの樹脂層60の形成は、第1の実施形態で説明した方法に加え、凸部を上にして、積層体50の外周部をUV硬化エポキシ樹脂の入ったポート内に入れて一定時間保持することで形成することができる。また、他にもインクジェット法などの塗布法を用いて塗布量を制御しながら形成してもよい。   In addition to the method described in the first embodiment, the resin layer 60 of the display element 10 </ b> A according to the present embodiment is a port in which the outer peripheral portion of the laminate 50 is filled with a UV curable epoxy resin with the convex portion facing upward. It can be formed by putting in and holding for a certain period of time. Alternatively, it may be formed while controlling the coating amount using a coating method such as an ink jet method.

なお、本実施形態に係る第2b領域50B2上の樹脂層60は、図10に示すように、樹脂層60上に第2の樹脂層60Aを備えた2層構造としても良い。本実施形態では、2層構造の例で説明する。第2b領域50B2上の樹脂層を2層構造とする場合は、第1の実施形態で説明した方法に加え、インクジェット法などの塗布法を使用することで形成することができる。   Note that the resin layer 60 on the second b region 50B2 according to the present embodiment may have a two-layer structure in which the second resin layer 60A is provided on the resin layer 60 as shown in FIG. In the present embodiment, an example of a two-layer structure will be described. When the resin layer on the second b region 50B2 has a two-layer structure, it can be formed by using a coating method such as an inkjet method in addition to the method described in the first embodiment.

このように、第1の実施形態の構成に加え、第2b領域50B2上の樹脂層も積層体50の外周端部(表示領域の外周部)に向かってその厚さが漸増しているため、表示素子として、凸方向から見た場合に加え、側面方向(横方向)から見た場合でも画像が見やすくなり、凸面51のあらゆる方向において視野の広い液晶表示素子を提供することができる。   Thus, in addition to the configuration of the first embodiment, the thickness of the resin layer on the second b region 50B2 gradually increases toward the outer peripheral end portion (the outer peripheral portion of the display region) of the stacked body 50. As a display element, a liquid crystal display element having a wide field of view in all directions of the convex surface 51 can be provided even when viewed from the side direction (lateral direction) as well as when viewed from the convex direction.

この効果を、図面を用いて説明する。図11は、本実施形態に係る表示素子における積層体から出た光の樹脂層からの出射する光の様子を模式的に示した断面模式図であり、(a)は表示素子全体の断面図、(b)は、(a)のβの部分における部分断面図である。   This effect will be described with reference to the drawings. FIG. 11 is a schematic cross-sectional view schematically showing a state of light emitted from the resin layer of light emitted from the laminate in the display element according to the present embodiment, and (a) is a cross-sectional view of the entire display element. (B) is a fragmentary sectional view in the (beta) part of (a).

本実施形態に係る表示素子10Aの積層体50から垂直に出射した第2b領域50B2の光の出射は、図11に示すようになる。   The light emitted from the second b region 50B2 perpendicularly emitted from the stacked body 50 of the display element 10A according to the present embodiment is as shown in FIG.

すなわち、積層体50の第2b領域50B2の凸面51上における1層目の樹脂層60を樹脂1として、2層目の樹脂層60Aを樹脂2とし、樹脂1と樹脂2との界面を界面1とし、樹脂2と空気層との界面を界面2とし、また、界面1と積層体50表面とのなす角をθ1、界面2と積層体50表面とのなす角をθ2とする。また、樹脂1と樹脂2の屈折率をそれぞれn、nとする。また、界面1に対する入射角をθ1in、出射角をθ1outとし、界面2への入射角をθ2in出射角をθ2outとする。そして、界面1で屈折した角度をα1、界面2で屈折した角度をα2とする。図11はθ1out ≦ θ1 + θ2を仮定している。 That is, the first resin layer 60 on the convex surface 51 of the second b region 50B2 of the laminate 50 is the resin 1, the second resin layer 60A is the resin 2, and the interface between the resin 1 and the resin 2 is the interface 1. The interface between the resin 2 and the air layer is defined as the interface 2, the angle between the interface 1 and the surface of the laminate 50 is θ1, and the angle between the interface 2 and the surface of the laminate 50 is θ2. In addition, the refractive indexes of the resin 1 and the resin 2 are n 1 and n 2 , respectively. The incident angle with respect to the interface 1 is θ1in, the exit angle is θ1out, and the incident angle to the interface 2 is θ2in and the exit angle is θ2out. The angle refracted at the interface 1 is α1, and the angle refracted at the interface 2 is α2. FIG. 11 assumes θ1out ≦ θ1 + θ2.

スネルの法則から
n1sinθ1=n2 sinθ1out
n2 sinθ2out=n0 sinθ2out
また、
幾何学的にα11out1, θ2in = θ2 - α1
が成り立つ。
From Snell's law
n 1 sinθ 1 = n 2 sinθ 1out
n 2 sinθ 2out = n 0 sinθ 2out
Also,
Geometrically α 1 = θ 1out1 , θ 2in = θ 21
Holds.

このとき

Figure 2008089884
なお、θ1out > θ1 + θ2の時は、図11(b)のようになり、出射光は左に屈折される。 At this time
Figure 2008089884
When θ 1out > θ 1 + θ 2 , the light is refracted to the left as shown in FIG. 11B.

このとき

Figure 2008089884
となる
θ1=3°、θ2=10°、n1=1.55、n2=1.44、n0=1.00の時
θ1out ~3.23(<θ12)となり図11(b)のような屈折を起こす。このときα2=4.1度となり表示素子10Aの側面方向に光線が屈折する。そのため、表示素子10Aの表示領域80の側面方向から見たときでも、使用者にとって見やすくなるという効果が生じる。 At this time
Figure 2008089884
When θ 1 = 3 °, θ 2 = 10 °, n 1 = 1.55, n 2 = 1.44, and n 0 = 1.00, θ 1out to 3.23 (<θ 1 + θ 2 ) is obtained, as shown in FIG. Cause refraction. At this time, α 2 = 4.1 degrees, and the light beam is refracted in the side surface direction of the display element 10A. Therefore, even when viewed from the side surface direction of the display region 80 of the display element 10 </ b> A, there is an effect that it is easy for the user to see.

(第3の実施形態)
次に、第3の実施形態について図面を用いて説明する。
(Third embodiment)
Next, a third embodiment will be described with reference to the drawings.

図12及び図13は第3の実施形態に係る表示素子の断面構造を概略的に示す断面図である。   12 and 13 are cross-sectional views schematically showing a cross-sectional structure of the display element according to the third embodiment.

本実施形態に係る表示素子10Bは、第1の実施形態に係る樹脂層60がプラスチックフィルム等の柔軟性を有するプラスチックフィルム70に置き換えられ、このプラスチックフィルム70と積層体50の凸面51との間に液体層75が設けられている構成を備えている。その他の構成は第1の実施形態と同様なため説明を省略する。   In the display element 10 </ b> B according to the present embodiment, the resin layer 60 according to the first embodiment is replaced with a plastic film 70 having flexibility such as a plastic film, and the plastic film 70 and the convex surface 51 of the laminate 50. Is provided with a liquid layer 75. Since other configurations are the same as those of the first embodiment, description thereof is omitted.

このプラスチックフィルム70の厚さは、全面においてほぼ均一の厚さを有している。また、プラスチックフィルム70と積層体50とのそれぞれの端面はシール剤300Aが設けられており、プラスチックフィルム70と積層体50とを固定すると共に、プラスチックフィルム70と積層体50との間に液体(例えば、水)を封止している。プラスチックフィルム70と積層体50との間の液体層75には、図示しない球状のスペーサが設けられており、プラスチックフィルム70と積層体50が図示しない球状のスペーサの大きさで規定される間隙以下には小さくならない構成となっている。また、液体層75内に封止する液体の量を調整することで、一部はスペーサ規定の間隙(図12中T部)になり、他の一部は液体により間隙が広がった状態(図12中T部)となっている。 The plastic film 70 has a substantially uniform thickness over the entire surface. Each of the end surfaces of the plastic film 70 and the laminated body 50 is provided with a sealing agent 300A, which fixes the plastic film 70 and the laminated body 50, and a liquid (between the plastic film 70 and the laminated body 50 ( For example, water is sealed. The liquid layer 75 between the plastic film 70 and the laminated body 50 is provided with a spherical spacer (not shown), and the plastic film 70 and the laminated body 50 are not larger than the gap defined by the size of the spherical spacer (not shown). The structure is not reduced. Further, by adjusting the amount of liquid sealed in the liquid layer 75, the state in part will be spacer defining gaps (12 in T 1 part), the other part spread gap by liquid ( 12 in which a T 2 parts).

例えば、図12に示すように、積層体50の凸面51を上においた場合は、液体層75の液体は、重力により表示素子10Bの側面部(積層体50の第2b領域50B2上)に溜まることになる。この場合は、第2の実施形態で説明したのと同様な効果を得ることができる。   For example, as shown in FIG. 12, when the convex surface 51 of the stacked body 50 is placed on the top, the liquid in the liquid layer 75 accumulates on the side surface of the display element 10B (on the second b region 50B2 of the stacked body 50) by gravity. It will be. In this case, the same effect as described in the second embodiment can be obtained.

一方、例えば、図13に示すように、積層体50の凸面51の凸部を下においた場合は、液体層75の液体は、重力により表示素子10Bの凸部(積層体50の第1領域50A上)に溜まることになる。この場合は、第1の実施形態で説明したのと同様な効果を得ることができる。   On the other hand, for example, as shown in FIG. 13, when the convex portion of the convex surface 51 of the multilayer body 50 is placed below, the liquid in the liquid layer 75 causes the convex portion of the display element 10 </ b> B (first region of the multilayer body 50) by gravity. 50A)). In this case, the same effect as described in the first embodiment can be obtained.

更に、例えば、積層体50の凸面51を上においた場合でも、使用者が表示素子10Bの側面部に外力を加えることで、図14に示すように、液体層75の液体は、表示素子10Bの凸部(積層体50の第1領域50B上)に溜まることになる。この場合は、第1の実施形態で説明したのと同様な効果を得ることができる。   Further, for example, even when the convex surface 51 of the stacked body 50 is placed on the top, the liquid in the liquid layer 75 is applied to the display element 10B by applying an external force to the side surface of the display element 10B as shown in FIG. Will be accumulated on the convex portion (on the first region 50B of the laminate 50). In this case, the same effect as described in the first embodiment can be obtained.

このように、積層体50の表示領域80の凸面51に間隙を有して柔軟性を有するプラスチックフィルム70を配置し、この間隙に液体を封止することで、表示領域80の見やすい部分を使用者が自由に制御することができる表示素子10Bを得ることができる。   As described above, the flexible plastic film 70 having a gap is arranged on the convex surface 51 of the display area 80 of the laminate 50, and a liquid is sealed in this gap, so that an easy-to-see portion of the display area 80 is used. A display element 10B that can be freely controlled by a person can be obtained.

なお、表示素子10Bの側面部に外力を与える手段は、図15に示すように、着脱可能な固定部材400を備えても良い。なお、この固定部材400は、その固定部における画像を見るという観点から透明部材で構成されていることが好ましい。   The means for applying an external force to the side surface of the display element 10B may include a detachable fixing member 400 as shown in FIG. In addition, it is preferable that this fixing member 400 is comprised with the transparent member from a viewpoint of seeing the image in the fixing | fixed part.

(第4の実施形態)
次に、第4の実施形態について図面を用いて説明する。
(Fourth embodiment)
Next, a fourth embodiment will be described with reference to the drawings.

図16は第4の実施形態に係る表示素子の断面構造を概略的に示す断面図である。   FIG. 16 is a cross-sectional view schematically showing a cross-sectional structure of a display element according to the fourth embodiment.

本実施形態に係る表示素子10Cは、第1の実施形態と比較して、図4に示すアレイ基板20上のTFT、画素電極等が可撓性、柔軟性を有するガラス基板100上に配置され、対向電極等が同様に可撓性、柔軟性を有するガラス基板200上に配置され、それぞれアレイ基板20及び対向基板30を構成している。TFT、画素電極等が設けられたガラス基板100の面に対向する面には接着層410を介してガラス基板100よりも可撓性、柔軟性が大きいプラスチックフィルム430が設けられ、対向電極等が設けられたガラス基板200の面に対向する面には接着層420を介してガラス基板200よりも可撓性、柔軟性が大きいプラスチックフィルム440が設けられている。ここでいう可撓性、柔軟性を有するガラス基板とは、例えば、厚さが150μm以下の薄い厚さを備えたガラス基板のことをいう。その他の構成は、第1の実施形態と同様なため説明を省略する。   Compared with the first embodiment, the display element 10C according to the present embodiment has TFTs, pixel electrodes, and the like on the array substrate 20 shown in FIG. 4 arranged on a glass substrate 100 having flexibility and flexibility. The counter electrode and the like are similarly arranged on the glass substrate 200 having flexibility and flexibility, and constitute the array substrate 20 and the counter substrate 30, respectively. A plastic film 430 that is more flexible and flexible than the glass substrate 100 is provided on the surface facing the surface of the glass substrate 100 on which TFTs, pixel electrodes, and the like are provided, with an adhesive layer 410 interposed therebetween. A plastic film 440 having greater flexibility and flexibility than the glass substrate 200 is provided on the surface facing the surface of the provided glass substrate 200 with an adhesive layer 420 interposed therebetween. Here, the glass substrate having flexibility and flexibility refers to a glass substrate having a thin thickness of 150 μm or less, for example. Since other configurations are the same as those of the first embodiment, description thereof is omitted.

なお、上述したプラスチック基板の材料としては、PA、PE、PC、PEN、PET、PI、PAI、シリコーン、フッ素樹脂などさまざまな材料が使用できる。   Various materials such as PA, PE, PC, PEN, PET, PI, PAI, silicone, and fluororesin can be used as the material for the plastic substrate described above.

なお、上述した接着剤としては、エポキシ系やアクリル系の接着剤を使用することができる。   In addition, as an adhesive mentioned above, an epoxy-type or acrylic-type adhesive can be used.

このように、樹脂層60内において液晶層30を挟持する一対の基板を、柔軟性を有するガラス基板と、ガラス基板よりも柔軟性の高いプラスチック基板との2層構造とすることで、第1の実施形態で説明した効果に加え、湾曲しやすく、戻りにくい表示素子を得ることができる。   In this way, the pair of substrates sandwiching the liquid crystal layer 30 in the resin layer 60 has a two-layer structure of a glass substrate having flexibility and a plastic substrate having higher flexibility than the glass substrate, whereby the first In addition to the effects described in the embodiment, it is possible to obtain a display element that is easily bent and is difficult to return.

(第5の実施形態)
前述した第1から第4の実施形態では、液晶を挟持した表示装置について説明しているが、本発明はこれに限定されるものではなく、有機EL、電気泳動等で構成された表示素子にも適用することが可能である。
(Fifth embodiment)
In the first to fourth embodiments described above, the display device in which the liquid crystal is sandwiched is described. However, the present invention is not limited to this, and the display device is configured by organic EL, electrophoresis, or the like. Can also be applied.

有機EL、電気泳動等を用いる表示素子の表示部は従来の一般的な公知の構成を用いることができる。   A display unit of a display element using organic EL, electrophoresis, or the like can use a conventional general known configuration.

例えば、表示素子の表示部は、図17に示すように、例えば、柔軟性を有するプラスチックフィルムで構成された支持基板500と、支持基板500上に設けられたTFT510と、前記支持基板500上に設けられTFT510に接続され、例えば、ITO(indium tin oxide)で構成された画素電極520と、TFT510を覆い、例えば、シリコン酸化膜(SiOx)、シリコン窒化膜(SiNx)等で構成された層間絶縁膜530と、層間絶縁膜530の間に設けられた有機EL、電気泳動等で構成された発光層540と、層間絶縁膜530の間及び発光層540上に設けられ、例えば、ITO(indium tin oxide)で構成された対向電極550と、層間絶縁膜530と、対向電極550を覆い、例えば、シリコン酸化膜(SiOx)、シリコン窒化膜(SiNx)等で構成された保護層560とで構成されている。また、基板上には図示しない信号線と電源線が平行に配置され、更に、信号線及び電源線と垂直する方向に図示しない走査線が配置されており、信号線と電源線、及び、垂直する走査線に囲まれた領域を1画素として、この画素がマトリクス状に配置されている。   For example, as shown in FIG. 17, the display portion of the display element includes, for example, a support substrate 500 made of a plastic film having flexibility, a TFT 510 provided on the support substrate 500, and the support substrate 500. A pixel electrode 520 that is provided and connected to the TFT 510, for example, is made of ITO (indium tin oxide) and covers the TFT 510, and is made of, for example, a silicon oxide film (SiOx), a silicon nitride film (SiNx), etc. A light emitting layer 540 formed by organic EL, electrophoresis, or the like provided between the film 530 and the interlayer insulating film 530, and provided between the interlayer insulating film 530 and on the light emitting layer 540, for example, ITO (indium tin The counter electrode 550 made of oxide), the interlayer insulating film 530, and the counter electrode 550 are covered. For example, a silicon oxide film (SiOx), silicon It is composed of a protective layer 560 made of a nitride film (SiNx) or the like. Further, signal lines and power lines (not shown) are arranged in parallel on the substrate, and scanning lines (not shown) are arranged in a direction perpendicular to the signal lines and power lines. The area surrounded by the scanning lines to be set as one pixel is arranged in a matrix.

画素電極520は、画素駆動回路570に接続されている。画素駆動回路570は、例えば、図18に示すように、駆動TFT580と電流制御用TFT590の2つのトランジスタを有している。駆動TFT580のドレイン電極は、電流制御用TFT590のゲート電極と接続されている。駆動TFT580のソース電極は信号線600に、駆動TFT580のゲート電極はゲート線610にそれぞれ接続されている。また、電流制御用TFT590のソース電極は電源線620と、ドレイン電極は画素電極(発光層630)に接続されている。   The pixel electrode 520 is connected to the pixel drive circuit 570. For example, as illustrated in FIG. 18, the pixel drive circuit 570 includes two transistors, a drive TFT 580 and a current control TFT 590. The drain electrode of the driving TFT 580 is connected to the gate electrode of the current control TFT 590. The source electrode of the driving TFT 580 is connected to the signal line 600, and the gate electrode of the driving TFT 580 is connected to the gate line 610. In addition, the source electrode of the current control TFT 590 is connected to the power supply line 620, and the drain electrode is connected to the pixel electrode (light emitting layer 630).

本実施形態に係る表示素子10Dでは、例えば、図19(a)に示すように、上述した構成を有する表示部700を覆うように樹脂層60が設けられており、樹脂層60は、第1実施形態で説明したと同様な構成を備えている。   In the display element 10 </ b> D according to the present embodiment, for example, as illustrated in FIG. 19A, the resin layer 60 is provided so as to cover the display unit 700 having the above-described configuration. A configuration similar to that described in the embodiment is provided.

また、本実施形態に係る表示素子10Eでは、図19(b)に示すように、上述した表示部700を覆うように樹脂層60が設けられ、樹脂層60は、第2実施形態で説明したと同様な構成を備えている。   Further, in the display element 10E according to the present embodiment, as shown in FIG. 19B, the resin layer 60 is provided so as to cover the display unit 700 described above, and the resin layer 60 has been described in the second embodiment. It has the same configuration as

また、本実施形態に係る表示素子10Fでは、図19(c)に示すように、上述した表示部700の表示方向(図中紙面上方向)に対向する面に、可撓性、柔軟性を有するガラス基板710と、ガラス基板710の表示部700が設けられた面に対向する面に、接着層720を介してガラス基板710よりも柔軟性が大きいプラスチックフィルム730とを備えた構成(第4の実施形態に類似する構成)を備えている。   Further, in the display element 10F according to the present embodiment, as shown in FIG. 19C, flexibility and flexibility are provided on the surface facing the display direction (upward in the drawing in the drawing) of the display unit 700 described above. A configuration in which a glass substrate 710 having a plastic film 730 that is more flexible than the glass substrate 710 is provided on the surface of the glass substrate 710 opposite to the surface on which the display unit 700 is provided (fourth adhesive layer 720). A configuration similar to that of the first embodiment.

以上の構成を備えることで、有機EL、電気泳動等で構成された表示素子においても前述した第1、第2、第4実施形態で説明した構成を備えることで、各実施形態と同様な効果を得ることができる。   By providing the above-described configuration, even in a display element configured by organic EL, electrophoresis, etc., by providing the configuration described in the first, second, and fourth embodiments described above, the same effects as those of the embodiments are provided. Can be obtained.

また、前述した画素電極520をITO電極で構成し、前述した支持基板500を透明材料で構成させた基板を備えると、表示部の湾曲した凸方向と、その反対の面の両面から光を取り出すことができる表示素子を備えることができる。   Further, when the pixel electrode 520 described above is formed of an ITO electrode and the support substrate 500 described above is provided with a substrate made of a transparent material, light is extracted from both the curved convex direction of the display portion and the opposite surface. The display element which can be provided can be provided.

この場合は、図20に示すように、表示部700の湾曲した凸方向の凸面51の樹脂層60は、第1の実施形態で説明したのと同様な構成を備え、前記凸面51の反対方向、すなわち、表示部の湾曲した凹方向の凹面52の樹脂層60は、凹面52の外周端部から第1領域700Aに向かって漸減して構成されていることが好ましい。   In this case, as shown in FIG. 20, the resin layer 60 of the convex surface 51 in the curved convex direction of the display unit 700 has the same configuration as that described in the first embodiment, and is in the direction opposite to the convex surface 51. That is, it is preferable that the resin layer 60 of the concave surface 52 in the concave direction in which the display portion is curved is configured to gradually decrease from the outer peripheral end portion of the concave surface 52 toward the first region 700A.

このような構成とすることで、前述した第1の実施形態と同様な効果が得られると共に、表示素子の湾曲した凹方向においても、同様に使用者が見やすい構成の表示素子を得ることができる。   By adopting such a configuration, the same effects as those of the first embodiment described above can be obtained, and a display element having a configuration that is easy for the user to view can be obtained in the curved concave direction of the display element as well. .

(その他の実施形態)
前述した第1〜第4の実施形態に係る表示素子は、表示領域が凸方向に湾曲した構成で説明されているが、表示領域が凹方向に湾曲していた場合は、第5実施形態で説明したように、詳しくは、図21に示すように、表示領域80を覆う樹脂層60は、前記積層体50の母線(図示せず)に向かって、凸面51の外周端部50Cから漸減して構成することが好ましい。
(Other embodiments)
The display elements according to the first to fourth embodiments described above have been described with a configuration in which the display area is curved in the convex direction. However, when the display area is curved in the concave direction, the display element according to the fifth embodiment is used. As described above, in detail, as shown in FIG. 21, the resin layer 60 covering the display region 80 gradually decreases from the outer peripheral end portion 50C of the convex surface 51 toward the generatrix (not shown) of the laminate 50. It is preferable to configure.

このような構成とすることで、前述した第1の実施形態と同様な効果により、表示領域の湾曲した凹方向においても、使用者が見やすい構成の表示素子を得ることができる。   With such a configuration, it is possible to obtain a display element having a configuration that is easy for the user to see even in the concave direction in which the display region is curved, by the same effects as those of the first embodiment described above.

なお、本実施形態に係る構成は、前述した第2〜第4の構成にも応用できることは言うまでもない。   Needless to say, the configuration according to the present embodiment can also be applied to the second to fourth configurations described above.

第1の実施形態に係る表示素子を示す斜視図。The perspective view which shows the display element which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係る表示素子の断面構造を示す断面図。Sectional drawing which shows the cross-section of the display element which concerns on 1st Embodiment. 本発明に採用可能なアレイ基板20上の画素領域の一例を示す平面図。The top view which shows an example of the pixel area | region on the array board | substrate 20 employable for this invention. A−A線で切った断面図。Sectional drawing cut | disconnected by the AA line. 本発明に採用可能な表示素子の一例を示す部分断面図。The fragmentary sectional view which shows an example of the display element employable for this invention. 従来の表示素子における積層体から出た光の樹脂層からの出射する光の様子を模式的に示した断面模式図。The cross-sectional schematic diagram which showed typically the mode of the light radiate | emitted from the resin layer of the light emitted from the laminated body in the conventional display element. 第1の実施形態に係る表示素子における積層体から出た光の樹脂層からの出射する光の様子を模式的に示した断面模式図。The cross-sectional schematic diagram which showed typically the mode of the light radiate | emitted from the resin layer of the light which came out of the laminated body in the display element which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係る表示素子における積層体から出た光の樹脂層からの出射する光の様子を模式的に示した断面模式図。The cross-sectional schematic diagram which showed typically the mode of the light radiate | emitted from the resin layer of the light which came out of the laminated body in the display element which concerns on 1st Embodiment. 第2の実施形態に係る表示素子の断面構造を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the cross-section of the display element which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施形態に係る表示素子の断面構造を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the cross-section of the display element which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施形態に係る表示素子における積層体から出た光の樹脂層からの出射する光の様子を模式的に示した断面模式図。The cross-sectional schematic diagram which showed typically the mode of the light radiate | emitted from the resin layer of the light emitted from the laminated body in the display element which concerns on 2nd Embodiment. 第3の実施形態に係る表示素子の断面構造を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the cross-section of the display element which concerns on 3rd Embodiment. 第3の実施形態に係る表示素子の断面構造を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the cross-section of the display element which concerns on 3rd Embodiment. 第3の実施形態に係る表示素子の断面構造を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the cross-section of the display element which concerns on 3rd Embodiment. 第3の実施形態に係る表示素子の断面構造を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the cross-section of the display element which concerns on 3rd Embodiment. 第4の実施形態に係る表示素子の断面構造を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the cross-section of the display element which concerns on 4th Embodiment. 第5の実施形態に係る表示部の断面構造を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the cross-section of the display part which concerns on 5th Embodiment. 第5の実施形態に係る表示部の画素駆動回路を概略的に示す回路図。The circuit diagram which shows roughly the pixel drive circuit of the display part which concerns on 5th Embodiment. 第5の実施形態に係る表示素子の断面構造を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the cross-section of the display element which concerns on 5th Embodiment. 第5の実施形態に係る表示素子の断面構造を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the cross-section of the display element which concerns on 5th Embodiment. 他の実施形態に係る表示素子の断面構造を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the cross-section of the display element which concerns on other embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

2 走査線ドライバ
3 信号線ドライバ
5 母線
10 表示素子
20 アレイ基板
30 対向基板
40 液晶層
50 積層体
50A 第1領域
50B 第2領域
50B1 第2a領域
50B2 第2b領域
51 凸面
52 凹面
60 樹脂層
60 第2の樹脂層
70 プラスチックフィルム
75 液体層
80 表示領域
100 支持基板
101 走査線
102 ゲート電極
103 絶縁膜
104 半導体層
105 画素スイッチ
106 チャネル保護膜
110 信号線
111 n型半導体層
113 金属薄膜
115 ソース電極
120 ドレイン電極
125 保護層
130 画素電極
140 配向膜
200 支持基板
210 対向電極
220 カラーフィルタ
230 配向膜
300 シール層
300A シール剤
310 スペーサ
400 固定部材
410 接着層
420 接着層
430 プラスチックフィルム
440 プラスチックフィルム
500 支持基板
510 TFT
520 画素電極
530 層間絶縁膜
540 発光層
550 対向電極
560 保護膜
570 画素駆動回路
580 駆動TFT
590 電流制御用TFT
600 信号線
610 ゲート線
620 電源線
630 発光層
700 表示部
2 scanning line driver 3 signal line driver 5 bus 10 display element 20 array substrate 30 counter substrate 40 liquid crystal layer 50 laminated body 50A first region 50B second region 50B1 second a region 50B2 second b region 51 convex surface 52 concave surface 60 resin layer 60 first 2 resin layer 70 plastic film 75 liquid layer 80 display region 100 support substrate 101 scanning line 102 gate electrode 103 insulating film 104 semiconductor layer 105 pixel switch 106 channel protective film 110 signal line 111 n-type semiconductor layer 113 metal thin film 115 source electrode 120 Drain electrode 125 Protective layer 130 Pixel electrode 140 Alignment film 200 Support substrate 210 Counter electrode 220 Color filter 230 Alignment film 300 Seal layer 300A Sealant 310 Spacer 400 Fixing member 410 Adhesive layer 420 Adhesive layer 430 Plastic fill 440 plastic film 500 supporting the substrate 510 TFT
520 Pixel electrode 530 Interlayer insulating film 540 Light emitting layer 550 Counter electrode 560 Protective film 570 Pixel drive circuit 580 Drive TFT
590 Current control TFT
600 Signal line 610 Gate line 620 Power supply line 630 Light emitting layer 700 Display unit

Claims (9)

第1基板と、第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた液晶層と、を備える積層体と、
前記積層体を覆う樹脂層と、を有し、
前記積層体は前記第1基板と前記第2基板とが対向するいずれか一方の面を凸面、他方の面を凹面とするように湾曲した第1領域と、前記第1領域に隣接し、前記第1領域より曲率半径が大きい第2領域とを備え、
前記第1領域の前記凸面上に設けられた樹脂層は、前記第2領域の前記凸面上に設けられた樹脂層より厚く形成されていることを特徴とする表示素子。
A laminate including a first substrate, a second substrate, and a liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate;
A resin layer covering the laminate,
The laminated body is adjacent to the first region, the first region curved so that one surface of the first substrate and the second substrate facing each other is a convex surface, and the other surface is a concave surface, A second region having a larger radius of curvature than the first region,
The display element, wherein the resin layer provided on the convex surface of the first region is formed thicker than the resin layer provided on the convex surface of the second region.
第1基板と、第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた液晶層と、を備える積層体と、
前記積層体を覆う樹脂層と、を有し、
前記積層体は前記第1基板と前記第2基板とが対向するいずれか一方の面を凸面、他方の面を凹面とするように湾曲した第1領域と、前記第1領域に隣接し、前記第1領域より曲率半径が大きい第2領域と、前記第2領域を介して前記第1領域に隣接し、前記積層体の外端を含み、前記第1領域及び前記第2領域より曲率半径が大きい第3領域とを備え、
前記凸面上に設けられた樹脂層は、前記外端から前記第1領域に向かって、厚さが漸増していることを特徴とする表示素子。
A laminate including a first substrate, a second substrate, and a liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate;
A resin layer covering the laminate,
The laminated body is adjacent to the first region, the first region curved so that one surface of the first substrate and the second substrate facing each other is a convex surface, and the other surface is a concave surface, A second region having a larger radius of curvature than the first region, and adjacent to the first region via the second region, including an outer end of the stacked body, and having a radius of curvature greater than that of the first region and the second region. A large third region,
The display element, wherein a thickness of the resin layer provided on the convex surface gradually increases from the outer end toward the first region.
第1基板と、第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた液晶層と、を備える積層体と、
前記積層体を覆う樹脂層と、を有し、
前記積層体は前記第1基板と前記第2基板とが対向するいずれか一方の面を凸面、他方の面を凹面とするように湾曲した第1領域と、前記第1領域に隣接し、前記第1領域より曲率半径が大きい第2領域と、前記第2領域を介して前記第1領域に隣接し、前記積層体の外端を含み、前記第1領域及び前記第2領域より曲率半径が大きい第3領域とを備え、
前記凸面上に設けられた樹脂層は、前記第2領域から前記第1領域に向かって厚さが漸増しており、かつ、前記第2領域から前記第3領域に向かって厚さが漸増していることを特徴とする表示素子。
A laminate comprising a first substrate, a second substrate, and a liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate;
A resin layer covering the laminate,
The laminated body is adjacent to the first region, the first region curved so that one surface of the first substrate and the second substrate facing each other is a convex surface, and the other surface is a concave surface, A second region having a larger radius of curvature than the first region, and adjacent to the first region via the second region, including an outer end of the stacked body, and having a radius of curvature that is greater than that of the first region and the second region. A large third region,
The resin layer provided on the convex surface gradually increases in thickness from the second region toward the first region, and gradually increases in thickness from the second region toward the third region. A display element characterized by comprising:
第1基板と、第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた液晶層と、を備える積層体と、
前記積層体を覆う樹脂層と、を有し、
前記積層体は前記第1基板と前記第2基板とが対向するいずれか一方の面を凸面、他方の面を凹面とするように湾曲した第1領域と、前記第1領域に隣接し、前記第1領域より曲率半径が大きい第2領域と、前記第2領域を介して前記第1領域に隣接し、前記積層体の外端を含み、前記第1領域及び前記第2領域より曲率半径が大きい第3領域とを備え、
前記凸面における前記積層体と前記樹脂層との間には液晶層が設けられ、前記液晶層は、その厚さが可変可能に構成されていることを特徴とする表示素子。
A laminate including a first substrate, a second substrate, and a liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate;
A resin layer covering the laminate,
The laminated body is adjacent to the first region, the first region curved so that one surface of the first substrate and the second substrate facing each other is a convex surface, and the other surface is a concave surface, A second region having a larger radius of curvature than the first region, and adjacent to the first region via the second region, including an outer end of the stacked body, and having a radius of curvature greater than that of the first region and the second region. A large third region,
A display element, wherein a liquid crystal layer is provided between the laminate and the resin layer on the convex surface, and the thickness of the liquid crystal layer is variable.
前記液体層内には、前記凸面における前記積層体と前記樹脂層との間隙を所定の厚さに保持するスペーサが設けられ、前記積層体に外的手段を付加することで、前記液体層内の液体が移動して厚さを可変させることを特徴とする請求項4に記載の表示素子。 In the liquid layer, a spacer is provided to maintain a gap between the laminate and the resin layer on the convex surface at a predetermined thickness. By adding an external means to the laminate, the liquid layer The display element according to claim 4, wherein the liquid moves to change the thickness. 前記外的手段は、着脱自在な固定治具であることを特徴とする請求項5に記載の表示素子。 The display element according to claim 5, wherein the external means is a detachable fixing jig. 第1基板と、第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた液晶層と、を備える積層体と、
前記積層体を覆う樹脂層と、を有し、
前記積層体は前記第1基板と前記第2基板とが対向するいずれか一方の面を凸面、他方の面を凹面とするように湾曲した第1領域と、前記第1領域に隣接し、前記第1領域より曲率半径が大きい第2領域と、前記第2領域を介して前記第1領域に隣接し、前記積層体の外端を含み、前記第1領域及び前記第2領域より曲率半径が大きい第3領域とを備え、
前記凹面上に設けられた樹脂層は、前記外端から前記第1領域に向かって、厚さが漸減していることを特徴とする表示素子。
A laminate including a first substrate, a second substrate, and a liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate;
A resin layer covering the laminate,
The laminated body is adjacent to the first region, the first region curved so that one surface of the first substrate and the second substrate facing each other is a convex surface, and the other surface is a concave surface, A second region having a larger radius of curvature than the first region, and adjacent to the first region via the second region, including an outer end of the stacked body, and having a radius of curvature greater than that of the first region and the second region. A large third region,
The display element, wherein a thickness of the resin layer provided on the concave surface gradually decreases from the outer end toward the first region.
第1基板と、前記第1基板上に設けられた表示部、前記表示部上に設けられた保護層と、を備える積層体と、
前記積層体を覆う樹脂層と、を有し、
前記積層体は前記第1基板と前記保護層とが対向するいずれか一方の面を凸面、他方の面を凹面とするように湾曲した第1領域と、前記第1領域に隣接し、前記第1領域より曲率半径が大きい第2領域とを備え、
前記第1領域の前記凸面上に設けられた樹脂層は、前記第2領域の前記凸面上に設けられた樹脂層より厚く形成されていることを特徴とする表示素子。
A laminate including a first substrate, a display unit provided on the first substrate, and a protective layer provided on the display unit;
A resin layer covering the laminate,
The laminated body is adjacent to the first region, the first region curved so that one surface of the first substrate and the protective layer facing each other is a convex surface, and the other surface is a concave surface, A second region having a larger radius of curvature than one region,
The display element, wherein the resin layer provided on the convex surface of the first region is formed thicker than the resin layer provided on the convex surface of the second region.
前記表示部は、有機EL又は電気泳動で構成されていることを特徴とする請求項8に記載の表示素子。 The display element according to claim 8, wherein the display unit is configured by organic EL or electrophoresis.
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