JP2008087388A - Method of delustering resin-made part - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、車両用インストルメントパネルの表皮等の樹脂製部品の艶消し方法に関する。 The present invention relates to a matting method for resin parts such as a skin of an instrument panel for a vehicle.
一般に、車両用インストルメントパネルの表皮には、表面において光が反射し、フロントウィンドウに写りこむことを抑制するために、表面に絞模様と微細な幾何学模様を形成することにより表面において光を乱反射させる艶消し加工が施されている。通常、この艶消し加工は、エッチング加工により金型表面に絞模様を形成した後、別工程のエッチング加工によって金型表面に幾何学模様を形成し、この金型を用いて表皮に絞押し加工を施すことにより行われている。
上述の通り、従来の艶消し加工は、エッチング加工により金型表面に絞模様を形成した後、別工程のエッチング加工によって金型表面に幾何学模様を形成するという流れになっているために、標準的な大きさのインストルメントパネルの艶消し加工には6〜9日程度の日数が必要となり、艶消し加工が完了するまでに多くの時間を要する。また、エッチング加工が少なくとも2回必要になるために多くの加工費用が必要となる。 As described above, the conventional matting process has a flow of forming a drawn pattern on the mold surface by etching and then forming a geometric pattern on the mold surface by another etching process. The matte processing of a standard size instrument panel requires about 6-9 days, and it takes a lot of time to complete the matte processing. Further, since the etching process is required at least twice, a large processing cost is required.
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、その目的は、加工時間の短縮及び加工費用の削減が可能な樹脂製部品の艶消し方法を提供することにある。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a matting method for resin parts that can reduce processing time and processing cost.
上記課題を解決するため、本発明に係る樹脂製部品の艶消し方法は、樹脂製部品の表面に絞模様と微細な幾何学模様を形成することにより樹脂製部品表面の艶消しを行う樹脂製部品の艶消し方法であって、画像処理によって絞模様の画像データと幾何学模様の画像データが合成された合成画像データを生成する工程(S1)と、生成された合成画像データを用いて合成画像がパターンニングされたマスクフィルムを作製する工程(S2)と、作製されたマスクフィルムを利用して金型表面をエッチング加工することにより金型表面に合成画像をパターンニングする工程(S3,S4,S5)と、合成画像がパターンニングされた金型を用いて樹脂製部品の表面に対し絞押し加工を施す工程とを有する。 In order to solve the above-mentioned problems, the matte method for resin parts according to the present invention is a resin-made matte surface for resin parts by forming a drawn pattern and a fine geometric pattern on the surface of the resin part. A method of matting a part, wherein a step (S1) of generating combined image data in which aperture pattern image data and geometric pattern image data are combined by image processing is combined with the generated combined image data. A step (S2) for producing a mask film on which an image is patterned, and a step (S3, S4) for patterning a composite image on the mold surface by etching the mold surface using the produced mask film. , S5), and a step of drawing and pressing the surface of the resin part using the mold on which the composite image is patterned.
本発明に係る樹脂製部品の艶消し方法によれば、1回のエッチング加工によって絞模様と幾何学模様を金型にパターンニングすることができるので、艶消し加工に要する時間を短縮することができると共に艶消し加工に要する費用を削減することができる。 According to the matting method for resin parts according to the present invention, the drawing pattern and the geometric pattern can be patterned on the mold by one etching process, so that the time required for the matting process can be shortened. In addition, the cost required for matting can be reduced.
以下、図面を参照して、本発明の実施形態となる樹脂製部品の艶消し方法について説明する。 Hereinafter, with reference to the drawings, a method for matting a resin part according to an embodiment of the present invention will be described.
図1に示すフローチャートは、オペレータが画像処理装置に絞模様の画像データ(以下、絞画像データと表記)と幾何学模様の画像データ(以下、微細絞画像データと表記)を入力し、画像処理の実行を指示したタイミングで開始となり、艶消し処理はステップS1の処理に進む。なお、幾何学模様は列状に配列された複数の円形模様であることが望ましい。 In the flowchart shown in FIG. 1, an operator inputs aperture pattern image data (hereinafter referred to as aperture image data) and geometric pattern image data (hereinafter referred to as micro aperture image data) to the image processing apparatus, and image processing is performed. Is started at the timing when the execution of is instructed, and the matting process proceeds to the process of step S1. The geometric pattern is preferably a plurality of circular patterns arranged in a line.
ステップS1の処理では、画像処理装置が、絞画像データと微細絞画像データを合成した合成画像データを生成する。これにより、ステップS1の処理は完了し、艶消し処理はステップS2の処理に進む。 In the process of step S1, the image processing apparatus generates composite image data obtained by combining the aperture image data and the micro aperture image data. Thereby, the process of step S1 is completed and the matte process proceeds to the process of step S2.
ステップS2の処理では、画像処理装置が、ステップS1の処理により生成された合成画像データを用いてマスクフィルムに合成画像をパターンニングする。これにより、ステップS2の処理は完了し、艶消し処理はステップS3の処理に進む。 In the process of step S2, the image processing apparatus patterns the composite image on the mask film using the composite image data generated by the process of step S1. Thereby, the process of step S2 is completed and the matte process proceeds to the process of step S3.
ステップS3の処理では、レジスト加工装置が、絞押し加工において使用される金型の表面にレジストを塗布する。これにより、ステップS3の処理は完了し、艶消し処理はステップS4の処理に進む。 In the process of step S3, the resist processing apparatus applies a resist to the surface of the mold used in the drawing and pressing process. Thereby, the process of step S3 is completed and the matte process proceeds to the process of step S4.
ステップS4の処理では、レジスト加工装置が、合成画像がパターンニングされたマスクフィルムを介してレジストに紫外線を照射する。これにより、ステップS4の処理は完了し、艶消し処理はステップS5の処理に進む。 In the process of step S4, the resist processing apparatus irradiates the resist with ultraviolet rays through the mask film on which the composite image is patterned. Thereby, the process of step S4 is completed and the matte process proceeds to the process of step S5.
ステップS5の処理では、レジスト加工装置が、ステップS4の処理後の金型表面にエッチング処理を施した後、残存するレジストを除去することにより合成画像がパターンニングされた金型を作製する。これにより、ステップS5の処理は終了し、以後作製された金型を用いて樹脂製部品に絞押し加工を施すことにより、一連の艶消し処理は終了する。 In the process of step S5, the resist processing apparatus performs an etching process on the mold surface after the process of step S4, and then removes the remaining resist to produce a mold in which the composite image is patterned. Thereby, the process of step S5 is complete | finished and a series of matting processes are complete | finished by performing a drawing process to resin parts using the metal mold | die produced after that.
以上の説明から明らかなように、本発明の実施形態となる樹脂製部品の艶消し方法では、1回のエッチング加工によって絞模様と幾何学模様を同時に金型にパターンニングするので、艶消し加工に要する時間を短縮することができると共に艶消し加工に要する費用を削減することができる。また、このような艶消し方法によれば、画像処理装置上で幾何学模様の形状,大きさ,深さ等を任意に設定できる。 As is clear from the above description, in the matte method for resin parts according to the embodiment of the present invention, the drawn pattern and the geometric pattern are simultaneously patterned on the mold by one etching process. The time required for the matting process can be shortened and the cost required for the matting process can be reduced. Further, according to such a matting method, the shape, size, depth, etc. of the geometric pattern can be arbitrarily set on the image processing apparatus.
また、本発明の実施形態となる樹脂製部品の艶消し方法によれば、画像処理装置上で幾何学模様の深さや径の変化に伴う樹脂製部品表面の光沢度の変化を確認することができると共に、確認結果を利用して幾何学模様の要,不要箇所を任意に設定することができる。具体的には、幾何学模様の深さの変化に伴う樹脂製部品表面の光沢度の変化を鋭意検討した結果、図2に示すように、本願発明の発明者は幾何学模様の深さは10〜35[μm]の範囲内にあると良いことを知見した。幾何学模様の深さが10[μm]以下である場合、表面の光沢度は大きく変化せず、逆に幾何学模様の深さが35[μm]以上である場合には、絞模様の見栄えに影響が出る。 Further, according to the matte method for resin parts according to the embodiment of the present invention, it is possible to confirm the change in the glossiness of the resin part surface accompanying the change in the depth and diameter of the geometric pattern on the image processing apparatus. At the same time, it is possible to arbitrarily set the important and unnecessary portions of the geometric pattern using the confirmation result. Specifically, as a result of earnest examination of the change in the glossiness of the resin component surface accompanying the change in the geometric pattern depth, as shown in FIG. It was found that it should be in the range of 10 to 35 [μm]. When the depth of the geometric pattern is 10 [μm] or less, the glossiness of the surface does not change greatly, and conversely, when the depth of the geometric pattern is 35 [μm] or more, the appearance of the drawn pattern looks good Will be affected.
また、幾何学模様の最適径を鋭意検討した結果、図3に示すように、本願発明の発明者は幾何学模様の径は15〜25[μm]の範囲内にあると良いことを知見した。幾何学模様の径が15[μm]以下である場合、エッチング加工で所望の径を形成することが困難になり、逆に幾何学模様の径が25[μm]以上である場合には、絞模様の見栄えに影響が出る。 Further, as a result of intensive studies on the optimum diameter of the geometric pattern, as shown in FIG. 3, the inventors of the present invention have found that the diameter of the geometric pattern should be in the range of 15 to 25 [μm]. . If the diameter of the geometric pattern is 15 [μm] or less, it becomes difficult to form a desired diameter by etching, and conversely, if the diameter of the geometric pattern is 25 [μm] or more, the aperture is reduced. The appearance of the pattern will be affected.
以上、本発明者によってなされた発明を適用した実施形態について説明したが、この実施形態による本発明の開示の一部をなす論述及び図面によって本発明は限定されることはない。すなわち、上記実施形態に基づいて当業者等によりなされる他の実施形態、実施例及び運用技術等は全て本発明の範疇に含まれることは勿論であることを最後に付け加えておく。 As mentioned above, although embodiment which applied the invention made | formed by this inventor was described, this invention is not limited by the description and drawing which make a part of indication of this invention by this embodiment. That is, it is added lastly that other embodiments, examples, operation techniques, and the like made by those skilled in the art based on the above embodiments are all included in the scope of the present invention.
Claims (3)
画像処理によって前記絞模様の画像データと前記幾何学模様の画像データが合成された合成画像データを生成する工程(S1)と、
生成された合成画像データを用いて合成画像がパターンニングされたマスクフィルムを作製する工程(S2)と、
作製されたマスクフィルムを利用して金型表面をエッチング加工することにより金型表面に合成画像をパターンニングする工程(S3,S4,S5)と、
合成画像がパターンニングされた金型を用いて前記樹脂製部品の表面に対し絞押し加工を施す工程と
を有することを特徴とする樹脂製部品の艶消し方法。 A matte method for a resin part that mattes a resin part surface by forming a drawn pattern and a fine geometric pattern on the surface of the resin part,
Generating combined image data obtained by combining the image data of the aperture pattern and the image data of the geometric pattern by image processing (S1);
A step (S2) of producing a mask film in which a composite image is patterned using the generated composite image data;
A step (S3, S4, S5) of patterning a composite image on the mold surface by etching the mold surface using the produced mask film;
And a step of drawing and pressing the surface of the resin part using a mold on which a composite image is patterned.
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JP2006272442A JP2008087388A (en) | 2006-10-04 | 2006-10-04 | Method of delustering resin-made part |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012061650A (en) * | 2010-09-15 | 2012-03-29 | Dainippon Printing Co Ltd | Apparatus for generating noise data for removing unevenness of gloss, apparatus for removing unevenness of gloss, method for generating noise data for removing unevenness of gloss, method for removing unevenness of gloss, and program |
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2006
- 2006-10-04 JP JP2006272442A patent/JP2008087388A/en active Pending
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