JP2008085326A - 検査装置、像投影装置、および基板特性測定方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】スキャトロメータを用いる際、ターゲット領域の異なる部分がそれぞれ異なる焦点深度を有する。全体の領域が測定されるとき、その結果は部分的に焦点から外れる。これを補償するために、高開口数レンズの後焦点面にレンズアレイを配置する。
【選択図】図4
Description
Claims (21)
- 基板の特性を測定する検査装置であって、
基板上に放射を投影する放射プロジェクタ、
対物レンズ、
基板の表面から反射された放射ビームを検出するディテクタ、および
反射放射ビームを各レンズがディテクタ上に投影するレンズアレイ、
を備える検査装置。 - ディテクタは、レンズアレイの各レンズによって投影された放射の角度分解スペクトルを検出する、請求項1に記載の装置。
- 各レンズによって投影された角度分解スペクトルを処理して単一の角度分解スペクトルを生成するデータ処理ユニットをさらに備える、請求項2に記載の装置。
- ディテクタは、レンズアレイの各レンズによって投影された放射の波長を検出する、請求項1に記載の装置。
- レンズアレイは対物レンズの瞳面内に位置する、請求項4に記載の装置。
- レンズアレイは微小レンズのアレイである、請求項5に記載の装置。
- レンズアレイは微小レンズのアレイである、請求項1に記載の装置。
- 対物レンズは高開口数レンズである、請求項1に記載の装置。
- 対物レンズの開口数は少なくとも0.9である、請求項8に記載の装置。
- 検査装置を備えるリソグラフィ装置であって、検査装置は、
基板上に放射を投影する放射プロジェクタ、
対物レンズ、
基板の表面から反射された放射ビームを検出するディテクタ、および
反射放射ビームを各レンズがディテクタ上に投影するレンズアレイ、
を備える、リソグラフィ装置。 - ディテクタは、レンズアレイの各レンズによって投影された放射の角度分解スペクトルを検出する、請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- 各レンズによって投影された角度分解スペクトルを処理して単一の角度分解スペクトルを生成するデータ処理ユニットをさらに備える、請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- ディテクタは、レンズアレイの各レンズによって投影された放射の波長を検出する、請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- レンズアレイは対物レンズの瞳面内に位置する、請求項13に記載のリソグラフィ装置。
- レンズアレイは微小レンズのアレイである、請求項14に記載のリソグラフィ装置。
- レンズアレイは微小レンズのアレイである、請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- 対物レンズは高開口数レンズである、請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- 対物レンズの開口数は少なくとも0.9である、請求項17に記載のリソグラフィ装置。
- 基板の像を投影する装置であって、
基板上に放射を投影する放射プロジェクタ、
投影された放射が通過する対物レンズ、および
基板の表面から反射された放射ビームの異なる部分をそれぞれが投影するレンズアレイ、
を備える装置。 - 基板の特性を測定する方法であり、
基板上に放射を投影すること、
反射された放射の異なる部分を各レンズが投影するレンズアレイを通して、基板から反射された放射を投影すること、および
レンズアレイを通して投影された反射放射を検出し、反射された放射は測定される特性を表すこと
を含む方法。 - 測定される特性はオーバーレイエラーである、請求項20に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/520,790 | 2006-09-14 | ||
US11/520,790 US7969577B2 (en) | 2006-09-14 | 2006-09-14 | Inspection apparatus, an apparatus for projecting an image and a method of measuring a property of a substrate |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008085326A true JP2008085326A (ja) | 2008-04-10 |
JP5091597B2 JP5091597B2 (ja) | 2012-12-05 |
Family
ID=39188221
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007232149A Expired - Fee Related JP5091597B2 (ja) | 2006-09-14 | 2007-09-07 | 検査装置、像投影装置、および基板特性測定方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7969577B2 (ja) |
JP (1) | JP5091597B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014504448A (ja) * | 2010-12-09 | 2014-02-20 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | Euvリソグラフィ系 |
JP2017524150A (ja) * | 2014-07-16 | 2017-08-24 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置、デバイス製造方法、並びに関連付けられたデータ処理装置及びコンピュータプログラム製品 |
TWI616642B (zh) * | 2015-10-02 | 2018-03-01 | Asml荷蘭公司 | 用於量測微影程序之參數的度量衡方法及裝置、電腦程式及微影系統 |
JP2018066865A (ja) * | 2016-10-19 | 2018-04-26 | キヤノン株式会社 | リソグラフィ装置、および物品製造方法 |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL1036468A1 (nl) * | 2008-02-27 | 2009-08-31 | Asml Netherlands Bv | Inspection method and apparatus, lithographic apparatus, lithographic processing cell and device manufacturing method. |
NL1036597A1 (nl) | 2008-02-29 | 2009-09-01 | Asml Netherlands Bv | Metrology method and apparatus, lithographic apparatus, and device manufacturing method. |
JP2013029806A (ja) * | 2011-06-22 | 2013-02-07 | Canon Inc | 撮像装置 |
KR102221714B1 (ko) * | 2016-08-23 | 2021-03-03 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 공정에 의해 기판 상에 형성된 구조체를 측정하는 메트롤로지 장치, 리소그래피 시스템, 및 리소그래피 공정에 의해 기판 상에 형성된 구조체를 측정하는 방법 |
DE102017113614B4 (de) * | 2017-06-20 | 2021-04-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Positionssensorvorrichtung zum Ermitteln einer Position eines beweglichen Objektes |
TWI696820B (zh) * | 2018-02-22 | 2020-06-21 | 致茂電子股份有限公司 | 檢測裝置 |
CN110398480A (zh) * | 2019-07-22 | 2019-11-01 | 中国科学院广州生物医药与健康研究院 | 一种超分辨显微镜 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01216306A (ja) * | 1988-02-24 | 1989-08-30 | Canon Inc | 撮像手段を有した焦点検出装置 |
US5076687A (en) * | 1990-08-28 | 1991-12-31 | Massachusetts Institute Of Technology | Optical ranging apparatus |
JP2002372406A (ja) * | 2001-06-13 | 2002-12-26 | Nikon Corp | 位置検出装置及び方法、位置検出装置の収差測定方法及び調整方法、露光装置、並びにマイクロデバイスの製造方法 |
WO2004076993A2 (en) * | 2003-02-26 | 2004-09-10 | Castonguay Raymond J | Spherical light-scatter and far-field phase measurement |
JP2006060214A (ja) * | 2004-08-16 | 2006-03-02 | Asml Netherlands Bv | 角度分解した分光リソグラフィの特徴付けの方法および装置 |
Family Cites Families (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5703692A (en) * | 1995-08-03 | 1997-12-30 | Bio-Rad Laboratories, Inc. | Lens scatterometer system employing source light beam scanning means |
US6133986A (en) * | 1996-02-28 | 2000-10-17 | Johnson; Kenneth C. | Microlens scanner for microlithography and wide-field confocal microscopy |
US5880838A (en) * | 1996-06-05 | 1999-03-09 | California Institute Of California | System and method for optically measuring a structure |
JP3675102B2 (ja) * | 1997-04-14 | 2005-07-27 | ソニー株式会社 | 画像表示装置 |
US5963329A (en) * | 1997-10-31 | 1999-10-05 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for measuring the profile of small repeating lines |
US6429943B1 (en) * | 2000-03-29 | 2002-08-06 | Therma-Wave, Inc. | Critical dimension analysis with simultaneous multiple angle of incidence measurements |
US6689519B2 (en) * | 2000-05-04 | 2004-02-10 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Methods and systems for lithography process control |
JP2001343434A (ja) * | 2000-05-31 | 2001-12-14 | Ando Electric Co Ltd | 半導体試験装置 |
JP2002043379A (ja) * | 2000-07-26 | 2002-02-08 | Ando Electric Co Ltd | 半導体試験装置 |
US6753961B1 (en) * | 2000-09-18 | 2004-06-22 | Therma-Wave, Inc. | Spectroscopic ellipsometer without rotating components |
IL138552A (en) * | 2000-09-19 | 2006-08-01 | Nova Measuring Instr Ltd | Measurement of transverse displacement by optical method |
US6768983B1 (en) * | 2000-11-28 | 2004-07-27 | Timbre Technologies, Inc. | System and method for real-time library generation of grating profiles |
US7072034B2 (en) * | 2001-06-08 | 2006-07-04 | Kla-Tencor Corporation | Systems and methods for inspection of specimen surfaces |
US6515744B2 (en) * | 2001-02-08 | 2003-02-04 | Therma-Wave, Inc. | Small spot ellipsometer |
US6819426B2 (en) * | 2001-02-12 | 2004-11-16 | Therma-Wave, Inc. | Overlay alignment metrology using diffraction gratings |
US6699624B2 (en) * | 2001-02-27 | 2004-03-02 | Timbre Technologies, Inc. | Grating test patterns and methods for overlay metrology |
CN1261736C (zh) * | 2001-03-02 | 2006-06-28 | 安格盛光电科技公司 | 利用散射测量的线路轮廓不对称测量法 |
US6704661B1 (en) * | 2001-07-16 | 2004-03-09 | Therma-Wave, Inc. | Real time analysis of periodic structures on semiconductors |
US6785638B2 (en) * | 2001-08-06 | 2004-08-31 | Timbre Technologies, Inc. | Method and system of dynamic learning through a regression-based library generation process |
US7061615B1 (en) * | 2001-09-20 | 2006-06-13 | Nanometrics Incorporated | Spectroscopically measured overlay target |
US6639201B2 (en) * | 2001-11-07 | 2003-10-28 | Applied Materials, Inc. | Spot grid array imaging system |
US6608690B2 (en) * | 2001-12-04 | 2003-08-19 | Timbre Technologies, Inc. | Optical profilometry of additional-material deviations in a periodic grating |
US6772084B2 (en) * | 2002-01-31 | 2004-08-03 | Timbre Technologies, Inc. | Overlay measurements using periodic gratings |
US6813034B2 (en) * | 2002-02-05 | 2004-11-02 | Therma-Wave, Inc. | Analysis of isolated and aperiodic structures with simultaneous multiple angle of incidence measurements |
US7061627B2 (en) * | 2002-03-13 | 2006-06-13 | Therma-Wave, Inc. | Optical scatterometry of asymmetric lines and structures |
US6721691B2 (en) * | 2002-03-26 | 2004-04-13 | Timbre Technologies, Inc. | Metrology hardware specification using a hardware simulator |
US6928628B2 (en) * | 2002-06-05 | 2005-08-09 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Use of overlay diagnostics for enhanced automatic process control |
US7046376B2 (en) * | 2002-07-05 | 2006-05-16 | Therma-Wave, Inc. | Overlay targets with isolated, critical-dimension features and apparatus to measure overlay |
US6919964B2 (en) * | 2002-07-09 | 2005-07-19 | Therma-Wave, Inc. | CD metrology analysis using a finite difference method |
SG120958A1 (en) * | 2002-11-01 | 2006-04-26 | Asml Netherlands Bv | Inspection method and device manufacturing method |
JP2004222870A (ja) * | 2003-01-21 | 2004-08-12 | Pentax Corp | 内視鏡用プローブ |
US7068363B2 (en) * | 2003-06-06 | 2006-06-27 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Systems for inspection of patterned or unpatterned wafers and other specimen |
US7061623B2 (en) * | 2003-08-25 | 2006-06-13 | Spectel Research Corporation | Interferometric back focal plane scatterometry with Koehler illumination |
WO2005040927A2 (en) * | 2003-10-18 | 2005-05-06 | Carl Zeiss Smt Ag | Device and method for illumination dose adjustments in microlithography |
US20060109463A1 (en) * | 2004-11-22 | 2006-05-25 | Asml Netherlands B.V. | Latent overlay metrology |
US7453577B2 (en) * | 2004-12-14 | 2008-11-18 | Asml Netherlands B.V. | Apparatus and method for inspecting a patterned part of a sample |
US20070081163A1 (en) * | 2005-06-03 | 2007-04-12 | Minhua Liang | Method and apparatus for scanned beam microarray assay |
US7620309B2 (en) * | 2006-04-04 | 2009-11-17 | Adobe Systems, Incorporated | Plenoptic camera |
US7433038B2 (en) * | 2006-04-27 | 2008-10-07 | Asml Netherlands B.V. | Alignment of substrates for bonding |
-
2006
- 2006-09-14 US US11/520,790 patent/US7969577B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-09-07 JP JP2007232149A patent/JP5091597B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01216306A (ja) * | 1988-02-24 | 1989-08-30 | Canon Inc | 撮像手段を有した焦点検出装置 |
US5076687A (en) * | 1990-08-28 | 1991-12-31 | Massachusetts Institute Of Technology | Optical ranging apparatus |
JP2002372406A (ja) * | 2001-06-13 | 2002-12-26 | Nikon Corp | 位置検出装置及び方法、位置検出装置の収差測定方法及び調整方法、露光装置、並びにマイクロデバイスの製造方法 |
WO2004076993A2 (en) * | 2003-02-26 | 2004-09-10 | Castonguay Raymond J | Spherical light-scatter and far-field phase measurement |
JP2006060214A (ja) * | 2004-08-16 | 2006-03-02 | Asml Netherlands Bv | 角度分解した分光リソグラフィの特徴付けの方法および装置 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014504448A (ja) * | 2010-12-09 | 2014-02-20 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | Euvリソグラフィ系 |
US9448490B2 (en) | 2010-12-09 | 2016-09-20 | Carl Zeiss Smt Gmbh | EUV lithography system |
JP2017524150A (ja) * | 2014-07-16 | 2017-08-24 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置、デバイス製造方法、並びに関連付けられたデータ処理装置及びコンピュータプログラム製品 |
US10754258B2 (en) | 2014-07-16 | 2020-08-25 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and associated data processing apparatus and computer program product |
US11169447B2 (en) | 2014-07-16 | 2021-11-09 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and associated data processing apparatus and computer program product |
TWI616642B (zh) * | 2015-10-02 | 2018-03-01 | Asml荷蘭公司 | 用於量測微影程序之參數的度量衡方法及裝置、電腦程式及微影系統 |
TWI651514B (zh) * | 2015-10-02 | 2019-02-21 | 荷蘭商Asml荷蘭公司 | 用於量測微影程序之參數的度量衡方法及裝置、非暫態電腦可讀媒體及微影系統 |
JP2018066865A (ja) * | 2016-10-19 | 2018-04-26 | キヤノン株式会社 | リソグラフィ装置、および物品製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7969577B2 (en) | 2011-06-28 |
JP5091597B2 (ja) | 2012-12-05 |
US20080068609A1 (en) | 2008-03-20 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070907 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100809 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150921 Year of fee payment: 3 |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |