JP2008078283A - Substrate support device - Google Patents
Substrate support device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008078283A JP2008078283A JP2006254158A JP2006254158A JP2008078283A JP 2008078283 A JP2008078283 A JP 2008078283A JP 2006254158 A JP2006254158 A JP 2006254158A JP 2006254158 A JP2006254158 A JP 2006254158A JP 2008078283 A JP2008078283 A JP 2008078283A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- contact
- support plate
- contact member
- substrate support
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
本発明は、基板支持装置に関するものである。 The present invention relates to a substrate support apparatus.
従来、ウェハやFPDガラス基板のような可撓性のある薄板状の基板を検査したり処理したりする際に、基板を固定するために基板の裏面を支持プレートの載置面に面接触させて支持する基板支持装置が知られている。 Conventionally, when inspecting or processing a flexible thin plate substrate such as a wafer or an FPD glass substrate, the back surface of the substrate is brought into surface contact with the mounting surface of the support plate in order to fix the substrate. There are known substrate support devices that support the substrate.
このような基板支持装置においては、基板を支持プレート上に載置したり、支持プレート上から取り外したりするには、外部に設置されたロボットハンドにより基板を支持して搬送するのが一般的であり、基板の下方にロボットハンドの入るスペースを設けるために、支持プレートにリフトピンを設け、該リフトピンによって支持プレートの載置面から基板を浮上させることとしている。 In such a substrate support apparatus, in order to place the substrate on the support plate or to remove it from the support plate, it is common to support and transport the substrate by an externally installed robot hand. In order to provide a space for the robot hand to enter below the substrate, lift pins are provided on the support plate, and the substrate is lifted from the mounting surface of the support plate by the lift pins.
この場合に、支持プレートの載置面に密着している基板を、リフトピンによって載置面から剥離させることになるので、剥離帯電現象が発生し、空中放電した場合にはアークにより基板上の回路が破損する虞がある。
従来、この種の剥離帯電現象による基板の破損を防止するために、リフトピンを導電性材料によって構成し、かつ電気的に接地させることで、基板に帯電した電荷をリフトピンを介して外部に逃がす方法や、剥離時に基板にイオン化ガスを吹き付けることで基板に帯電している電荷を中和させる方法が知られている(例えば、特許文献1および特許文献2参照。)。
Conventionally, in order to prevent damage to the substrate due to this type of peeling charging phenomenon, the lift pin is made of a conductive material and electrically grounded, so that the charge charged on the substrate is released to the outside through the lift pin. Also known is a method of neutralizing charges charged on the substrate by blowing an ionized gas onto the substrate at the time of peeling (see, for example,
しかしながら、基板が大型化していくことにより、上記の方法では剥離帯電現象による基板の破損を効果的に抑制できなくなってきた。
すなわち、基板への帯電量は基板と支持プレートとの接触面積に左右されるので、基板が大きくなると帯電量が著しく増大する。
However, as the substrate becomes larger, it has become impossible to effectively suppress breakage of the substrate due to the peeling charging phenomenon.
That is, since the amount of charge on the substrate depends on the contact area between the substrate and the support plate, the amount of charge increases significantly as the substrate becomes larger.
これに対して、基板を浮上させるためのリフトピンは、ロボットハンドの大型化などの影響により、その本数が制限され、帯電した電荷は局所的に放電されるのみで、十分に放電されることなく基板に残存してしまう。
また、イオン化ガスを噴射する方法では、基板の表面側には噴射されるため電荷が中和されるが、基板の裏面側には噴射されないために電荷が残存してしまうことになる。
On the other hand, the number of lift pins for levitating the substrate is limited due to the increase in the size of the robot hand, etc., and the charged charges are only discharged locally without being fully discharged. It remains on the substrate.
In the method of injecting ionized gas, the charge is neutralized because it is injected on the front surface side of the substrate, but the charge remains because it is not injected on the back surface side of the substrate.
そして、大型の基板を少ない本数のリフトピンで浮上させる場合には、基板が撓んでしまうので、剥離は一気に行われず、徐々に行われていくようになる。そして、基板に残存した電荷は基板が支持プレートから剥離される箇所に向かって局所的に集まっていく。このため、基板が支持プレートから浮上するときには、基板の支持プレートとの最後の接触点に過大な電荷が集合し、基板が浮上した瞬間に空中放電を生じ易くなるという不都合がある。 When a large substrate is levitated with a small number of lift pins, the substrate is bent, so that peeling is not performed at a stretch but gradually. And the electric charge which remained on the board | substrate gathers locally toward the location where a board | substrate peels from a support plate. For this reason, when the substrate rises from the support plate, excessive charges are collected at the last contact point of the substrate with the support plate, and air discharge tends to occur at the moment the substrate rises.
本発明は上述した事情に鑑みてなされたものであって、剥離帯電現象により基板に帯電した電荷を効果的に外部に逃がして、アークによる基板の損傷を防止することができる基板支持装置を提供することを目的としている。 The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and provides a substrate support device capable of effectively escaping charges charged on a substrate due to a peeling charging phenomenon to the outside and preventing damage to the substrate due to an arc. The purpose is to do.
上記目的を達成するために、本発明は以下の手段を提供する。
本発明は、薄板状の基板を載置する支持プレートと、該支持プレートの載置面に載置された前記基板を載置面から浮上させるために押し上げる箇所以外の箇所に配置され、前記基板の裏面に接触する少なくとも1つの接触部材とを備え、該接触部材が、導電性を有する材質により構成されるとともに、電気的に接地されている基板支持装置を提供する。
In order to achieve the above object, the present invention provides the following means.
The present invention is arranged at a place other than a support plate for placing a thin plate-like substrate and a place where the substrate placed on the placement surface of the support plate is pushed up to float from the placement surface. There is provided a substrate support device including at least one contact member that contacts the back surface of the substrate, wherein the contact member is made of a conductive material and is electrically grounded.
本発明によれば、薄板状の基板を支持プレートの載置面に載置して支持している状態から、基板の裏面を複数の箇所において押し上げることにより基板を浮上させることができる。この場合において、基板は、下から押された箇所が先に載置面から離れるが、基板が撓むために、支持プレートからの剥離は押された箇所を中心として徐々に行われていくことになる。これにより、基板に帯電していた電荷は剥離された領域と剥離されていない領域との境界線である剥離線に集まるように移動していく。 According to the present invention, the substrate can be levitated by pushing up the back surface of the substrate at a plurality of locations from the state where the thin plate-like substrate is placed and supported on the placement surface of the support plate. In this case, the portion of the substrate that has been pressed from the bottom leaves the mounting surface first, but since the substrate is bent, peeling from the support plate is gradually performed around the pressed portion. . As a result, the charges charged on the substrate move so as to gather on the separation line that is the boundary line between the peeled region and the non-peeled region.
そして、剥離線が接触部材の近傍に達すると、集まった電荷が接触部材を介して外部に逃がされる。これにより、剥離帯電現象によって基板に溜まり、基板が支持プレートから完全に剥離する際に行き場がなくなった電荷が空中放電する不都合の発生を未然に防止することができる。 When the peeling line reaches the vicinity of the contact member, the collected charges are released to the outside through the contact member. Accordingly, it is possible to prevent the occurrence of inconvenience that the charge that has accumulated on the substrate due to the peeling charging phenomenon and has no place to go when the substrate completely peels from the support plate is discharged in the air.
上記発明においては、前記支持プレートの載置面に開口する開口部から出没可能に設けられ、前記基板を前記載置面から浮上させる複数のリフト部材を備え、前記接触部材が、前記リフト部材の間に配置されていることとしてもよい。
このようにすることで、複数のリフト部材を上昇させて、その上端を載置面の開口部から突出させることにより、基板の裏面を押して浮上させることができる。
In the above invention, a plurality of lift members are provided so as to be able to protrude and retract from an opening opening on the mounting surface of the support plate, and the substrate floats from the mounting surface, and the contact member includes the lift member. It is good also as arrange | positioning between them.
By doing so, the plurality of lift members are raised and their upper ends are projected from the openings of the placement surface, whereby the back surface of the substrate can be pushed and floated.
上記発明においては、前記接触部材が、浮上させられた際の基板の撓みにより最下位となる基板の裏面に接触する位置に配置されていることとしてもよい。
このようにすることで、浮上させられた基板が、接触部材の位置で支持プレートから最後に剥離することとなる。したがって、剥離帯電現象により局所的に集められた電荷は、基板が支持プレートから最後に剥離する位置に配置された接触部材から外部に逃がされる。これにより、浮上した基板に残存する電荷を十分に低減し、空中放電の発生をより確実に防止することができる。
In the above invention, the contact member may be disposed at a position in contact with the back surface of the lowermost substrate due to bending of the substrate when the substrate is levitated.
By doing in this way, the floated board | substrate will peel from the support plate last in the position of a contact member. Therefore, the charges collected locally by the peeling charging phenomenon are released to the outside from the contact member disposed at the position where the substrate is finally peeled off from the support plate. Thereby, the charge remaining on the floating substrate can be sufficiently reduced, and the occurrence of air discharge can be more reliably prevented.
また、上記発明においては、前記接触部材は、前記基板が浮上させられる際に、前記支持プレートの載置面から若干上方に突出した後、基板の裏面から離間するように構成されていることとしてもよい。
このようにすることで、基板が支持プレートから浮上した後、しばらくの間、接触部材を基板に接触状態に維持することができる。接触部材は導電性材料からなるので、剥離帯電現象により基板に帯電し残存した電荷が、接触部材に向かって空中放電され易いが、浮上後も接触部材と基板とを接触状態に維持することで、剥離位置と接触部材とを遠ざけて、空中放電され難くすることができる。
In the above invention, the contact member is configured to protrude slightly upward from the mounting surface of the support plate and then separate from the back surface of the substrate when the substrate is levitated. Also good.
By doing in this way, after a board | substrate floats from a support plate, a contact member can be maintained in a contact state for a while. Since the contact member is made of a conductive material, the charge remaining on the substrate due to the peeling electrification phenomenon is likely to be discharged in the air toward the contact member, but by maintaining the contact member and the substrate in contact even after rising. The separation position and the contact member can be kept away from each other to make it difficult to be discharged in the air.
また、上記発明においては、前記接触部材が、前記支持プレートから剥離する基板と支持プレートとの剥離線に交差する方向に延びるライン状に形成されていることとしてもよい。
このようにすることで、支持プレートからの基板の剥離が進行すると、剥離位置に形成される基板と支持プレートとの剥離線が該剥離線に交差する方向に移動することになるが、その移動方向に沿ってライン状に形成された接触部材が基板との接触状態を長い時間にわたって維持することができ、剥離帯電現象により基板に溜まった電荷を十分に外部に逃がすことができる。
Moreover, in the said invention, the said contact member is good also as being formed in the line shape extended in the direction which cross | intersects the peeling line of the board | substrate and support plate which peel from the said support plate.
In this way, when the peeling of the substrate from the support plate proceeds, the peeling line between the substrate and the support plate formed at the peeling position moves in a direction intersecting the peeling line. The contact member formed in a line along the direction can maintain the contact state with the substrate for a long time, and the charge accumulated on the substrate due to the peeling charging phenomenon can be sufficiently released to the outside.
また、上記発明においては、前記接触部材が、電気抵抗部材を介して接地されていることとしてもよい。
このようにすることで、剥離帯電現象により基板に溜まった電荷は、接触部材から電気抵抗部材を介して外部に逃がされることになる。その結果、電気抵抗部材の抵抗値に応じた電流が流れることになるので、電気抵抗部材の抵抗値を調整することにより、電流を制限することができる。
In the above invention, the contact member may be grounded via an electric resistance member.
By doing so, the charge accumulated on the substrate due to the peeling electrification phenomenon is released to the outside from the contact member via the electric resistance member. As a result, a current corresponding to the resistance value of the electrical resistance member flows, and thus the current can be limited by adjusting the resistance value of the electrical resistance member.
また、上記発明においては、前記電気抵抗部材の抵抗値が可変であることとしてもよい。
このようにすることで、基板の大きさに応じて変化する剥離帯電現象による電荷量に応じて電気抵抗部材の抵抗値を変更して、基板の大きさにかかわらず同等の電流を流すようにすることができる。
Moreover, in the said invention, it is good also as resistance value of the said electrical resistance member being variable.
By doing so, the resistance value of the electric resistance member is changed in accordance with the amount of charge due to the peeling charging phenomenon that changes in accordance with the size of the substrate so that the same current flows regardless of the size of the substrate. can do.
また、上記発明においては、前記接触部材が、電気抵抗部材を介して接地され、該電気抵抗部材の抵抗値を前記接触部材の上昇に応じて増大させる抵抗値可変機構を備えることとしてもよい。
このようにすることで、基板が上昇させられて、接触部材から基板が離れたときに、電気抵抗部材の抵抗値を大きくすることができる。その結果、基板に電荷が残存していても接触部材に向かって空中放電することをより確実に防止することができる。
Moreover, in the said invention, the said contact member is earth | grounded via an electrical resistance member, It is good also as providing the resistance value variable mechanism which increases the resistance value of this electrical resistance member according to the raise of the said contact member.
By doing in this way, when the board | substrate is raised and a board | substrate leaves | separates from a contact member, the resistance value of an electrical resistance member can be enlarged. As a result, it is possible to more reliably prevent air discharge toward the contact member even if charges remain on the substrate.
また、上記発明においては、前記電気抵抗部材がスライダの移動により抵抗値を可変させる可変抵抗器からなり、前記抵抗値可変機構が、前記接触部材の移動に同期させてスライダを移動させることとしてもよい。
このようにすることで、簡易な構成により、基板が上昇させられて接触部材から基板が離れたときに、電気抵抗部材の抵抗値を大きくすることができる。
In the above invention, the electric resistance member may be a variable resistor that varies the resistance value by moving the slider, and the resistance value variable mechanism may move the slider in synchronization with the movement of the contact member. Good.
In this way, the resistance value of the electric resistance member can be increased when the substrate is lifted and separated from the contact member with a simple configuration.
本発明によれば、剥離帯電現象により基板に帯電した電荷を効果的に外部に逃がして、アークによる基板の損傷を防止することができるという効果を奏する。 According to the present invention, it is possible to effectively release the electric charge charged on the substrate due to the peeling charging phenomenon to the outside and prevent the substrate from being damaged by the arc.
以下、本発明の一実施形態に係る基板支持装置1について、図1〜図5を参照して説明する。
本実施形態に係る基板支持装置1は、例えば、図1および図2に示されるように、ガラス基板等の可撓性を有する基板Aを光学的に検査する基板検査装置2に備えられている。
Hereinafter, a
The
本実施形態に係る基板支持装置1は、図1および図2に示されるように、基板Aの裏面に面接触させられる載置面3aを有する支持プレート3と、該支持プレート3の載置面3aに開口する開口部4から上方に出没させられる複数のリフトピン(リフト部材)5と、該リフトピン5の間の位置に配置されたコンタクトピン(接触部材)6とを備えている。
図中、符号7は支持プレート3の上方に走行可能に配置された検査ヘッドである。
As shown in FIGS. 1 and 2, the
In the figure,
前記支持プレート3は、基板Aを面接触させて平坦な状態に支持するために、高い平坦度を有するように形成された載置面3aを有している。該載置面3aは、該載置面3aに接触する基板Aを保護するために、例えば、支持プレート3が金属製である場合にはアルマイト処理などの表面処理が施され、あるいは、透過性を確保するためにガラス材により構成されている。アルマイトは導電性が悪く、また、ガラス材は絶縁体である。
The
前記リフトピン5は、図2に示されるように、基板の下方に配置された昇降機構8に固定され、該昇降機構8の作動により、上端を支持プレート3の開口部4から上方に出没させることができるようになっている。昇降機構8は、直線ガイド8aと該直線ガイド8aに沿って移動可能なスライダ8bと、該スライダ8bを昇降させる図示しない駆動部とを備えている。
As shown in FIG. 2, the
リフトピン5は、接触する基板Aを保護するために、例えば、PEEKあるいはUPE等の樹脂材料により構成されている。また、リフトピン5は、例えば、支持プレート3の4隅に平行間隔をあけて、複数本、例えば、図に示す例では4本設けられている。なお、リフトピン5の本数は限定されるものではないが、搬送用のロボットハンド(図3参照。)9との干渉を回避するために、十分に広い間隔をあけて配置されていることが必要である。
The lift pins 5 are made of, for example, a resin material such as PEEK or UPE in order to protect the substrate A in contact therewith. In addition, a plurality of
各リフトピン5は、下降させられた状態で、前記支持プレート3の開口部4内に完全に没し、その上端を載置面3aと面一以下の位置に配置して、載置面3aに載置される基板Aの平坦度に影響を与えないようになっている。
また、リフトピン5は、上昇させられた状態で、前記支持プレート3の開口部4から上方に上端を十分に突出させ、4本のリフトピン5の上端に基板Aを支持して、支持プレート3の載置面3aから完全に浮上させることができるようになっている。このとき、基板Aと支持プレート3の載置面3aとの間には、搬送用のロボットハンド9を挿入可能な隙間10が形成されるようになっている。
Each
In addition, the lift pins 5 are fully lifted upward from the
前記コンタクトピン6は、前記4本のリフトピン5により囲まれた領域内に、複数本、例えば、図に示す例では4本配置されている。各コンタクトピン6は、導電性を有する材料、例えば、導電性樹脂あるいは導電性の金属により構成されている。また、コンタクトピン6はそれぞれ電気的に接地されている。
A plurality of
コンタクトピン6の上端面は、前記支持プレート3の載置面3aと面一に設定されており、載置面3aに面接触させられる基板Aの裏面に接触することができるようになっている。これにより、基板Aがコンタクトピン6に接触している状態では、基板Aに帯電した電荷がコンタクトピン6を介して外部に逃がされるようになっている。
The upper end surface of the
このように構成された本実施形態に係る基板支持装置1の作用について、以下に説明する。
本実施形態に係る基板支持装置1によれば、可撓性のあるガラス基板のような大型の基板Aを支持プレート3に搬入するには、昇降機構8を作動させて、支持プレート3の開口部4からリフトピン5の上端を突出させる。この状態で、ロボットハンド9によって支持した基板Aを外部から搬送してきて、支持プレート3の上方から近接させ、リフトピン5の上端に接触させる。
The operation of the
According to the
この状態から、ロボットハンド9をさらに下降させることにより、基板Aをロボットハンド9からリフトピン5に引き渡す。基板Aは、可撓性を有するので、リフトピン5の間に配置されている領域がリフトピン5の上端よりも低い位置まで撓むことになるが、ロボットハンド9をそれよりも下降させることで、完全にリフトピン5のみによって支持させることができる。
From this state, the
そして、基板Aと支持プレート3との間の隙間10からロボットハンド9を水平方向に引き抜いた後、昇降機構8を作動させてリフトピン5を下降させていく。これにより、基板Aを下降させ、支持プレート3の載置面3aに接触させる。
Then, after the
リフトピン5を開口部4内に完全に没する位置まで下降させることにより、基板Aを支持プレート3の載置面3aに面接触させた状態に支持させることができる。これにより、可撓性を有する基板Aを、精度良く平坦な状態に維持して検査ヘッド7による検査を精度良く行うことが可能となる。
By lowering the
検査終了後に、基板Aを支持プレート3から搬出するには、搬入時とは逆順に基板支持装置1を作動させる。すなわち、検査ヘッド7を支持プレート3の上方から退避させ、昇降機構8を作動させてリフトピン5を上昇させ、支持プレート3との間に隙間10が形成されるまでリフトピン5の上端によって基板Aを押し上げる。
この場合において、支持プレート3が低い導電性の材質により構成され、基板Aが絶縁材からなるガラスにより構成されているので、基板Aが支持プレート3に面接触させられると、帯電列の相違により、接触表面上に電荷が帯電することになる。
In order to carry the substrate A out of the
In this case, the
コンタクトピン6が導電性材料により構成されるとともに電気的に接地されているので、コンタクトピン6近傍の領域に帯電した電荷は、コンタクトピン6を介して外部に逃がされる。しかしながら、基板Aが大型の場合には、一部の電荷しか外部に逃がされず、大部分が基板Aに残存する。
Since the
そして、リフトピン5が上昇させられて、基板Aが支持プレート3の載置面3aから剥離されていくと、基板Aに残存していた電荷が電気的に浮いた状態となり、基板Aの支持プレート3から剥離した部分と、接触している部分との境界に形成される剥離線に向かって集められるように移動する剥離帯電現象が発生する。
この場合において、本実施形態に係る基板支持装置1によれば、リフトピン5が支持プレート3の4隅に4本設けられているので、基板Aは、図4に、符号A−1〜A−4で示されるように、外側から剥離され始め、内側に向かって剥離線が移動していく。
When the lift pins 5 are raised and the substrate A is peeled off from the mounting
In this case, according to the
リフトピン5の内側には、電気的に接地されたコンタクトピン6が配置されているので、剥離線がコンタクトピン6に近接していくことになり、剥離線に向かって集められた電荷がコンタクトピン6を介して外部に逃がされることになる。すなわち、剥離線に向かって電荷が集められる剥離帯電現象を利用して、集められた電荷をコンタクトピン6により効果的に外部に逃がすので、最終的に基板Aが剥離され終わる時点で、基板Aに残存する電荷を低減し、空中放電の発生を効果的に抑制することができるという利点がある。
Since the electrically grounded
なお、本実施形態においては、4本のリフトピン5により囲まれた内側の領域に4本のコンタクトピン6を配置した。これに代えて、上述した理由から、リフトピン5により浮上させられる際の基板Aの撓みが最大となる位置、すなわち、基板Aが支持プレート3から最後に離れる位置、例えば、図5に示される支持プレート3の中央位置にコンタクトピン6を配置しておくことが効果的である。
In the present embodiment, the four
また、本実施形態においては、支持プレート3の開口部4から出没させられるリフトピン5により基板Aを浮上させ、形成された隙間10に差し込んだロボットハンド9に基板Aを移載する構造のものを例示したが、これに代えて、図6に示されるように、支持プレート3にロボットハンド9を通過可能な切欠11を設け、該切欠11とは異なる位置にコンタクトピン6を配置することにしてもよい。
Further, in the present embodiment, a structure in which the substrate A is floated by the lift pins 5 which are projected and retracted from the
次に、本発明の第2の実施形態に係る基板支持装置20について、図7および図8を参照して説明する。
本実施形態の説明において、上述した第1の実施形態に係る基板支持装置1と構成を共通とする箇所には同一符号を付して説明を省略する。
Next, a
In the description of the present embodiment, portions having the same configuration as those of the
本実施形態に係る基板支持装置20は、コンタクトピン21の構造において、第1の実施形態に係る基板支持装置1と相違している。本実施形態において、コンタクトピン21は、図7および図8に示されるように、支持プレート3に設けられた開口部22内に収容され、軸受23により上下動可能に支持されるとともに、コイルスプリングのような付勢手段24により上方に付勢されている。付勢手段24の付勢力は弱く、載置される基板Aを変形させる程の力を生じない一方、基板Aが浮上される際に、コンタクトピン21を基板Aの裏面に接触させたままの状態で所定距離だけ上昇させることができるようになっている。図中、符号25は接地用の配線である。なお、コンタクトピンの上昇距離は、ロボットハンドの進入を妨げない程度の高さに制限されている。
The
このように構成された本実施形態に係る基板支持装置20によれば、支持プレート3からの基板Aの剥離の進行に伴って、剥離線がコンタクトピン21に近接すると、剥離帯電現象により集められた電荷が、コンタクトピン21に流し込まれるようにして、外部に効果的に逃がされる点は、第1の実施形態と同様である。さらに、本実施形態に係る基板支持装置20によれば、基板Aが支持プレート3から浮上した場合に、付勢手段24の付勢力によりコンタクトピン21が上昇させられて、剥離線がコンタクトピン21の位置を通過した後も、しばらくの間、コンタクトピン21が基板Aの裏面に接触状態に維持される。
According to the
すなわち、コンタクトピン21を介して電荷を外部に逃がす時間を長く確保することができる。その結果、基板Aに残存している電荷を十分に外部に逃がすことができ、空中放電の可能性をさらに低減することができるという利点がある。また、1本のコンタクトピン21あたりに外部に逃がすことができる電荷量を増大させることができるので、支持プレート3に設けるコンタクトピン21の数を減らすことができるという利点もある。
That is, it is possible to ensure a long time for the electric charge to escape to the outside through the
なお、本実施形態に係る基板支持装置20のコンタクトピン21としては、図9に示されるように、基板Aに接触する上部の接触片21aを、例えば、球面軸受26によって揺動自在に支持しておくことにしてもよい。このようにすることで、剥離されるときの基板Aの傾斜に倣って接触片21aを揺動させ、基板Aとコンタクトピン21の接触面積を大きくして、電荷が流れ易いようにすることができる。
As the contact pins 21 of the
また、上下動可能に支持されたコンタクトピン21に代えて、図10に示されるように、鉛直面内で揺動可能に支持されたレバー状のコンタクトピン27を採用してもよい。コンタクトピン27の先端にローラ28を設けておくことにより、基板Aとコンタクトピン27との間の摩擦を低減し、基板Aの損傷を防止することができる。
Further, instead of the
また、図11に示されるように、コンタクトピン6を接地する配線25に、電気抵抗部材29を配置することとしてもよい。これにより、剥離帯電現象により剥離線に向けて集められた電荷がコンタクトピン6を介して急激に流れることによる、空中放電の発生を防止することができる。
In addition, as shown in FIG. 11, an
また、図12に示されるように、コンタクトピン6に接続される電気抵抗部材29A,29Bとして、異なる抵抗値を有するものを複数用意し、必要に応じて切り替えるスイッチ30を備えることにしてもよい。このようにすることで、支持プレート3に載置する基板Aの大きさ等の相違により、基板Aに帯電する電荷量に合わせて適正な抵抗値の電気抵抗部材29A,29Bを選択することができる。
Further, as shown in FIG. 12, a plurality of members having different resistance values may be prepared as the
さらに、図13に示されるように、支持プレート3近傍に静電気測定器31を配置し、該静電気測定器31に接続された制御部32により基板Aの家電量情報をモニタリングし、帯電状態に応じて接続する電気抵抗部材29A,29Bを切り替えることにしてもよい。また、これに代えて、制御部32が、図示しないホストコンピュータ等から受信した工程情報により基板Aの帯電状況を予測することにしてもよい。
Further, as shown in FIG. 13, the static
また、図14に示されるように、電気抵抗部材29として、摺動子33を摺動させることで抵抗値を連続的に変化させる可変抵抗器を採用し、コンタクトピン21に摺動子33を固定することにしてもよい。この場合に、基板Aが支持プレート3から剥離し始めてコンタクトピン21が上昇するときに抵抗値が大きくなるようにしている。これにより、コンタクトピン21から基板Aが離れるときの電気抵抗部材29の抵抗値を最も大きくすることができる。
Further, as shown in FIG. 14, a variable resistor that continuously changes the resistance value by sliding the slider 33 is adopted as the
すなわち、基板Aがコンタクトピン21に確実に接触しているときには、基板Aに帯電した電荷がコンタクトピン21を介して容易に外部に逃がされるように、電気抵抗部材29の抵抗値を小さくしておくことが好ましい。その一方で、基板Aがコンタクトピン21から離れたときには、導電性の良好なコンタクトピン21に向かって基板Aに帯電している電荷が空中放電されてしまうことを防止するために電気抵抗部材29の抵抗値を大きくしておくことが好ましい。
That is, when the substrate A is in reliable contact with the
したがって、コンタクトピン21が上昇するときに抵抗値が大きくなるようにしておくことにより、上記2つの要求を簡易に満たすことができる。
なお、図示しない位置センサ等により、コンタクトピン21の位置を検出し、抵抗値を切り替えるようにしてもよい。抵抗値の切替は、可変抵抗器のように無段階に限定されるものではなく、段階的に切り替えることにしてもよい。
Therefore, the above two requirements can be easily satisfied by increasing the resistance value when the
In addition, the position of the
また、本実施形態においては、コンタクトピン21の上下動を、基板Aの昇降により行わせることとしたが、これに代えて、コンタクトピン21の昇降動作に同期させることとしてもよい。
例えば、図15に示されるように、コンタクトピン21を直線ガイド34aとスライダ34bとからなる昇降機構34により昇降自在に支持するとともにコイルバネのような付勢手段24により上方に付勢するようになっている。そして、リフトピン5用の昇降機構8のスライダに設けた押圧部材35により、コンタクトピン21に固定した被押圧部材36を下方に押さえるようになっている。
In the present embodiment, the
For example, as shown in FIG. 15, the
これにより、リフトピン5が下降した状態では、押圧部材35により被押圧部材36が押し下げられることによって、コンタクトピン21が付勢手段24の付勢力に抗して下方に押し下げられた状態に維持される。そして、リフトピン5が上昇して基板Aを押し上げると、押圧部材35による被押圧部材36の拘束が解除されるので、基板Aの上昇に同期して付勢手段24の付勢力によりコンタクトピン21が上昇させられる。
Thereby, in the state where the
また、本実施形態においては、導電性の材料からなるコンタクトピン6,21を基板Aに接触させることとしたが、導電性の接触部材としては、コンタクトピン6,21に限定されるものではなく、例えば、支持プレート3の載置面3aに長い範囲にわたって露出するライン状の接触部材(図示略)を採用してもよい。
In the present embodiment, the contact pins 6 and 21 made of a conductive material are brought into contact with the substrate A. However, the conductive contact member is not limited to the contact pins 6 and 21. For example, you may employ | adopt the linear contact member (illustration omitted) exposed over the mounting
この場合に、ライン状の接触部材を、基板Aを浮上させる際に形成される剥離線に交差する方向に沿って延びるように配置することが好ましい。このようにすることで、基板Aの浮上に伴って剥離線が移動しても、該剥離線の位置で基板Aを接触部材に接触状態に維持することができ、剥離帯電現象によって基板Aに溜まった電荷を継続的に接触部材を介して外部に逃がすことができる。
これにより、基板Aに残存する電荷を低減し、空中放電による基板の損傷をより確実に防止することができる。
In this case, it is preferable to arrange the line-shaped contact member so as to extend along a direction intersecting with a peeling line formed when the substrate A is floated. By doing so, even if the peeling line moves as the substrate A floats, the substrate A can be kept in contact with the contact member at the position of the peeling line, and the peeling charging phenomenon causes the substrate A to move to the substrate A. The accumulated electric charge can be continuously released to the outside through the contact member.
Thereby, the charge remaining on the substrate A can be reduced, and damage to the substrate due to air discharge can be prevented more reliably.
A 基板
1,20 基板支持装置
3 支持プレート
3a 載置面
4 開口部
5 リフト部材
6,21 コンタクトピン(接触部材)
29,29A,29B 電気抵抗部材
33 スライダ
A board |
29, 29A, 29B Electric resistance member 33 Slider
Claims (9)
該支持プレートの載置面に載置された前記基板を載置面から浮上させるために押し上げる箇所以外の箇所に配置され、前記基板の裏面に接触する少なくとも1つの接触部材とを備え、
該接触部材が、導電性を有する材質により構成されるとともに、電気的に接地されている基板支持装置。 A support plate on which a thin plate-like substrate is placed;
Including at least one contact member that is disposed at a location other than the location where the substrate placed on the placement surface of the support plate is pushed up to float from the placement surface and contacts the back surface of the substrate;
A substrate support device in which the contact member is made of a conductive material and is electrically grounded.
前記接触部材が、前記リフト部材の間に配置されている請求項1に記載の基板支持装置。 Provided with a plurality of lift members which are provided so as to be able to protrude and retract from an opening opening on the mounting surface of the support plate, and float the substrate from the mounting surface;
The substrate support apparatus according to claim 1, wherein the contact member is disposed between the lift members.
該電気抵抗部材の抵抗値を前記接触部材の上昇に応じて増大させる抵抗値可変機構を備える請求項4に記載の基板支持装置。 The contact member is grounded via an electrical resistance member;
The substrate support apparatus according to claim 4, further comprising a variable resistance value mechanism that increases a resistance value of the electric resistance member in accordance with a rise of the contact member.
前記抵抗値可変機構が、前記接触部材の移動に同期させてスライダを移動させる請求項8に記載の基板支持装置。 The electrical resistance member comprises a variable resistor that varies the resistance value by moving the slider,
The substrate support device according to claim 8, wherein the variable resistance mechanism moves the slider in synchronization with the movement of the contact member.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006254158A JP2008078283A (en) | 2006-09-20 | 2006-09-20 | Substrate support device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006254158A JP2008078283A (en) | 2006-09-20 | 2006-09-20 | Substrate support device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008078283A true JP2008078283A (en) | 2008-04-03 |
Family
ID=39350066
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006254158A Withdrawn JP2008078283A (en) | 2006-09-20 | 2006-09-20 | Substrate support device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008078283A (en) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20090230636A1 (en) * | 2008-03-11 | 2009-09-17 | Ngk Insulators, Ltd. | Electrostatic chuck |
JP2011066369A (en) * | 2009-09-21 | 2011-03-31 | Tokyo Electron Ltd | Placing mechanism, method for transporting dicing frame-attached wafer and program for wafer transport used for the transporting method |
KR101097310B1 (en) * | 2009-05-18 | 2011-12-21 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | Supporter and substrate supporting apparatus of ion implant machine and ion implant machine thereof |
JP2015046517A (en) * | 2013-08-29 | 2015-03-12 | パナソニック株式会社 | Substrate peeling device |
JP2017028248A (en) * | 2015-07-27 | 2017-02-02 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | Substrate lift pin actuator |
JP2020021793A (en) * | 2018-07-31 | 2020-02-06 | 日本電産サンキョー株式会社 | Transport system |
JP2022032033A (en) * | 2020-08-10 | 2022-02-24 | セメス株式会社 | Board support member and board processing device and method including the same |
-
2006
- 2006-09-20 JP JP2006254158A patent/JP2008078283A/en not_active Withdrawn
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20090230636A1 (en) * | 2008-03-11 | 2009-09-17 | Ngk Insulators, Ltd. | Electrostatic chuck |
US8336891B2 (en) * | 2008-03-11 | 2012-12-25 | Ngk Insulators, Ltd. | Electrostatic chuck |
KR101097310B1 (en) * | 2009-05-18 | 2011-12-21 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | Supporter and substrate supporting apparatus of ion implant machine and ion implant machine thereof |
JP2011066369A (en) * | 2009-09-21 | 2011-03-31 | Tokyo Electron Ltd | Placing mechanism, method for transporting dicing frame-attached wafer and program for wafer transport used for the transporting method |
TWI552252B (en) * | 2009-09-21 | 2016-10-01 | Tokyo Electron Ltd | A method for transporting wafers and laying wafers |
JP2015046517A (en) * | 2013-08-29 | 2015-03-12 | パナソニック株式会社 | Substrate peeling device |
JP2017028248A (en) * | 2015-07-27 | 2017-02-02 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | Substrate lift pin actuator |
JP2020021793A (en) * | 2018-07-31 | 2020-02-06 | 日本電産サンキョー株式会社 | Transport system |
JP7208733B2 (en) | 2018-07-31 | 2023-01-19 | 日本電産サンキョー株式会社 | Conveyor system |
JP2022032033A (en) * | 2020-08-10 | 2022-02-24 | セメス株式会社 | Board support member and board processing device and method including the same |
JP7203159B2 (en) | 2020-08-10 | 2023-01-12 | セメス株式会社 | SUBSTRATE SUPPORT MEMBER AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND METHOD INCLUDING THE SAME |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2008078283A (en) | Substrate support device | |
US20180059447A1 (en) | Elevating mechanism | |
US9778314B2 (en) | Capacitive opens testing of low profile components | |
US20160163910A1 (en) | Systems and methods for targeted annealing of photovoltaic structures | |
KR101006747B1 (en) | Apparatus and method for manufacturing solar cell panel | |
CN101175362B (en) | Charge eliminating apparatus and method, and program storage medium | |
KR20140102782A (en) | Blade for transferring wafer and wafer transferring apparatus having the same | |
JPWO2010097858A1 (en) | Electron microscope and sample holding method | |
CN101316952A (en) | Device for picking up and holding a plurality of substrates and an electroplating device | |
CN110681421A (en) | Digital microfluidic system | |
CN105358323A (en) | Resin molded article provided with surface having exceptional water-sheeting properties | |
KR20080045188A (en) | Transfer apparatus using electrostatic attraction board | |
KR101114617B1 (en) | Monitoring apparatus of neutralization apparatus, monitoring method of neutralization apparatus, and computer readable recording medium having a program for monitoring neutralization apparatus recorded | |
KR101346895B1 (en) | Apparatus for testing display panel and model changing method of thereof | |
KR101373466B1 (en) | Transfer device, processing system, control method of transfer device, and computer-readable storage medium | |
KR101259486B1 (en) | Probe Unit for Insulation - Measuring and Insulation Measuring Apparatus | |
JP3859481B2 (en) | Flexible plate take-out device and take-out method | |
JP2010016053A (en) | Transfer mechanism for target object to be inspected | |
KR200448913Y1 (en) | Test handler | |
JP5356962B2 (en) | Placement mechanism, wafer transfer method with dicing frame, and wafer transfer program used in this transfer method | |
KR100833315B1 (en) | Lift pin holder | |
CN109967294B (en) | Foreign matter detection positioning device and coating device | |
JP2007180074A (en) | Static electricity detection device, and substrate inspection device | |
KR100904394B1 (en) | Apparatus for transferring a substrate | |
KR102661854B1 (en) | Buffer System for Transferring Solar Cell Substrates |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090724 |
|
A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20100827 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20110905 |