JP2008070541A - Manufacturing method of liquid crystal display, and liquid crystal display - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device and a liquid crystal display device.
一般に、液晶ディスプレイ(LCD)に用いられる液晶表示パネルは、TFT基板とカラーフィルタ基板とを互いにわずかな間隙をあけて、一部が欠損した枠状のシール材を介して貼り合わせることにより製造される。このような液晶表示パネルは、その枠状のシール材の欠損した部分により、液晶注入孔が構成される。そして、例えば、特許文献1に記載されているように、この液晶注入孔からTFT基板とカラーフィルタ基板との間隙に液晶を注入した後に、光硬化性等の封止樹脂等を液晶注入孔に供給して硬化させて、液晶注入孔の封止処理が行われている。
ここで、従来の一般的な液晶注入孔の封止処理を説明する。従来の一般的な封止処理は、図7に示すように、液晶表示パネル100の基板間において、その枠状シール部101で囲まれた表示領域106に液晶注入孔102から液晶材料を注入した後、その液晶注入孔102に封止材103を供給することにより行われている。
Here, a conventional general liquid crystal injection hole sealing process will be described. As shown in FIG. 7, in the conventional general sealing process, a liquid crystal material is injected from a liquid
しかしながら、このような封止処理によって液晶注入孔102を封止すると、液晶表示パネル100のエッジ104から外部へ封止材103が突出して形成されてしまう。このように封止材103が液晶表示パネル100のエッジ104から外部へ突出すると、液晶モジュール組立時等に、パネルがベゼルに収まらず、組立が困難となる場合がある。
However, when the liquid
また、このように供給しただけの封止材103は、所望の形状に形成されておらず、その封止性能に不良があるものが生じる可能性がある。このような場合、液晶表示パネル100の液晶注入孔102からの液晶漏れを発生させ、表示品位が低下する、という問題が生じる。
Moreover, the sealing
本発明は、斯かる諸点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、液晶注入孔を良好に封止して液晶材料の漏れを抑制すると共に、パネル寸法を精度良く形成する液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置を提供することである。 The present invention has been made in view of such various points, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal that seals a liquid crystal injection hole well to suppress leakage of a liquid crystal material and accurately forms panel dimensions. A manufacturing method of a display device and a liquid crystal display device are provided.
本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、透明の第1基板の表面に、枠状シール部を、その一部が開口して第1基板の外側に延びるように形成するステップと、枠状シール部を形成した第1基板に、枠状シール部を介して透明の第2基板を貼り合わせて開口を有する貼り合わせ基板を形成するステップと、貼り合わせ基板の枠状シール部に囲まれた領域に、開口から液晶材料を供給するステップと、液晶材料を供給した貼り合わせ基板の開口に、封止材を供給して硬化させるステップと、封止材が硬化された貼り合わせ基板を、開口が形成されたエッジに沿い、且つ、硬化した封止材上を通る分断線において分断するステップと、を備えたことを特徴とする。 The method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention includes a step of forming a frame-shaped seal portion on the surface of a transparent first substrate so that a part of the frame-shaped seal portion is opened and extends to the outside of the first substrate; A step of forming a bonded substrate having an opening by bonding a transparent second substrate to the first substrate on which the seal portion is formed via the frame-shaped seal portion, and being surrounded by the frame-shaped seal portion of the bonded substrate Supplying a liquid crystal material from the opening to the region; supplying a sealing material to the opening of the bonded substrate to which the liquid crystal material is supplied; and curing the bonded substrate with the cured sealing material; And cutting along a dividing line that passes along the formed edge and passes over the cured encapsulant.
このような構成によれば、封止材を液晶注入孔に供給した後、さらに封止材上の分断線でエッジに沿って貼り合わせ基板を分断するため、分断後の開口は封止材が密に充填されており、且つ、エッジから外へ突出することはない。このため、液晶モジュールの組立が容易になる。また、液晶注入孔からの液晶漏れの発生を良好に抑制することができる。 According to such a configuration, after supplying the sealing material to the liquid crystal injection hole, the bonded substrate is further cut along the edge by a dividing line on the sealing material. It is tightly packed and does not protrude outward from the edge. This facilitates assembly of the liquid crystal module. Moreover, the occurrence of liquid crystal leakage from the liquid crystal injection hole can be satisfactorily suppressed.
また、本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、封止材が紫外線硬化性材料で形成されていると共に、封止材の硬化を紫外光照射により行ってもよい。 In the method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention, the sealing material may be formed of an ultraviolet curable material, and the sealing material may be cured by irradiation with ultraviolet light.
液晶注入孔に供給した封止材上でパネルを分断して削除するためには、液晶注入孔をその分、余裕をもって深めに作製しておかなければならないが、上述の構成によれば、パネルのエッジから液晶注入孔の深い部分まで供給された封止材を良好に硬化することができる。 In order to divide and delete the panel on the sealing material supplied to the liquid crystal injection hole, the liquid crystal injection hole must be made deep with a margin, but according to the above configuration, the panel The sealing material supplied from the edge to the deep part of the liquid crystal injection hole can be cured well.
さらに、本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、枠状シール部を、それぞれ第1基板の所定領域を囲み、且つ、それらの開口が第1基板の同一エッジ側に向くように複数形成すると共に、貼り合わせ基板を、複数の枠状シール部で形成される複数の開口が形成されたエッジに沿い、硬化した封止材上を通る分断線において分断するステップと、を備えてもよい。 Furthermore, in the method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention, a plurality of frame-shaped seal portions are formed so as to surround predetermined regions of the first substrate and their openings face the same edge side of the first substrate. And a step of dividing the bonded substrate along a dividing line passing over the cured sealing material along the edge where the plurality of openings formed by the plurality of frame-shaped seal portions are formed.
このような構成によれば、複数の表示領域を形成した大判の貼り合わせ基板を、その分断線において一度に分断するため、液晶モジュールの組立が容易で、液晶注入孔からの液晶漏れの発生を良好に抑制することができる液晶表示装置を効率良く作製することができる。 According to such a configuration, a large-sized bonded substrate having a plurality of display areas is divided at a time along the dividing line, so that the liquid crystal module can be easily assembled and liquid crystal leakage from the liquid crystal injection hole is prevented. A liquid crystal display device that can be favorably suppressed can be efficiently manufactured.
本発明に係る液晶表示装置は、液晶材料と、液晶材料を囲むように設けられた枠状シール部と、を介して貼り合わされた第1及び第2基板を有する液晶表示装置であって、枠状シール部は、その一部が開口して第1及び第2基板のエッジに到達するように形成されており、開口には、封止材が充填されていると共に、封止材は第1及び第2基板のエッジから外側へ突出していないことを特徴とする。 A liquid crystal display device according to the present invention is a liquid crystal display device having first and second substrates bonded together through a liquid crystal material and a frame-shaped seal portion provided so as to surround the liquid crystal material. The shaped seal portion is formed such that a part thereof is opened and reaches the edges of the first and second substrates. The opening is filled with the sealing material, and the sealing material is the first sealing material. And it does not protrude outward from the edge of the second substrate.
このような構成によれば、液晶注入孔に封止材が充填されていると共に、封止材は第1及び第2基板のエッジから外側へ突出していないため、液晶モジュールの組立が容易になる。また、液晶注入孔からの液晶漏れの発生を良好に抑制することができる。 According to such a configuration, the liquid crystal injection hole is filled with the sealing material, and the sealing material does not protrude outward from the edges of the first and second substrates, so that the liquid crystal module can be easily assembled. . Moreover, the occurrence of liquid crystal leakage from the liquid crystal injection hole can be satisfactorily suppressed.
以上説明したように、本発明によれば、液晶注入孔を良好に封止して液晶材料の漏れを抑制すると共に、パネル寸法を精度良く形成する液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置を提供することができる。 As described above, according to the present invention, a method for manufacturing a liquid crystal display device and a liquid crystal display device are provided, in which liquid crystal injection holes are well sealed to prevent leakage of liquid crystal material and panel dimensions are formed with high accuracy. can do.
以下、本発明の実施形態に係る液晶表示装置及びその製造方法を、図面に基づいて詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。 Hereinafter, a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof according to embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited to the following embodiment.
(液晶表示装置10の構成)
図1は本発明の実施形態に係る液晶表示装置10の断面図を表す。
(Configuration of the liquid crystal display device 10)
FIG. 1 is a sectional view of a liquid
液晶表示装置10は、液晶表示パネル12及びバックライト13等により構成されている。
The liquid
液晶表示パネル12は、対向するTFT(薄膜トランジスタ)基板14及びCF(カラーフィルタ)基板15、それらの間に設けられた枠状シール部20、液晶層21、及び、スペーサ(不図示)で構成されている。
The liquid
CF基板15は、ガラス等で形成された基板上に赤(R)、緑(G)及び青(B)の3原色からなる色層が形成されている。色層としては、RGBの組合せ以外に、シアン、マゼンタ、イエローの補色を用いてもよい。
In the
色層上には不図示の対向電極及び配向膜がそれぞれ形成されている。色層は、その外周に、コントラストを得るための縁取りとしてブラックマトリクス(遮光層)が設けられて遮光領域30が形成されている。
A counter electrode (not shown) and an alignment film are formed on the color layer. On the outer periphery of the color layer, a black matrix (light shielding layer) is provided as a border for obtaining contrast, and a
TFT基板14は、ガラス等で形成された基板、基板上に形成されたそれぞれ不図示のゲート電極、ソース電極及びドレイン電極等のTFT素子、透明絶縁層、画素電極及び配向膜等で構成されている。
The
枠状シール部20は、CF基板15とTFT基板14との間に設けられており、両基板を接着している。枠状シール部20は、表示領域31を囲むようにして配置されており、これにより液晶表示セルが形成されている。枠状シール部20は、ラジカル重合体のメタクリル、アクリル樹脂等の紫外線硬化型の接着剤で構成されている。枠状シール部20は、その一辺の例えば略中央部が開口22を形成している。
The frame-
ここで、図2に枠状シール部20の開口22付近の拡大図を示す。枠状シール部20の開口22は、液晶表示パネル12のエッジ24に到達するように形成されている。枠状シール部20の開口22には、ラジカル重合体のメタクリル、アクリル樹脂等の紫外線硬化型の封止材25が充填されている。この封止材25は、液晶表示パネル12のエッジ24から外側へ突出しておらず、且つ、封止材25のエッジ26と液晶表示パネル12のエッジ24とが同一ラインを構成している。
Here, FIG. 2 shows an enlarged view of the vicinity of the opening 22 of the frame-
バックライト13は、液晶表示パネル12のTFT基板14側に配置されている。バックライト13は、光源と、光源から出射された光を受けてその中を伝播させながら液晶表示パネル12に向けて出射する導光板と、導光板の裏面から出射された光を導光板に向けて反射する反射板(いずれも不図示)とを有している。
The
(液晶表示装置10の製造方法)
次に、本発明の実施形態に係る液晶表示装置10の製造方法の一例について、図を用いて詳細に説明する。本実施形態では、それぞれ、大判の基板上に複数の表示領域を形成した大判のCF基板と大判のTFT基板を作製し、これらを貼り合わせてから分断し、個別の液晶表示パネルを作製する方法を説明する。
(Manufacturing method of the liquid crystal display device 10)
Next, an example of a method for manufacturing the liquid
(大判のCF基板35の製造工程)
まず、ガラス等で形成された基板を用意し、次に、図3に示すように、基板の一端において、所定幅の領域(表示素子非形成領域36)だけ残し、それ以外の部分における複数領域にそれぞれ表示素子を形成する。
(Manufacturing process of large format CF substrate 35)
First, a substrate formed of glass or the like is prepared, and then, as shown in FIG. 3, only a region having a predetermined width (a display element non-formation region 36) is left at one end of the substrate, and a plurality of regions in other portions are left. Each of the display elements is formed.
即ち、まず、遮光領域30となる部分に例えば幅5〜50μm程度のブラックマトリクスをスパッタリング法により形成する。次に、基板上の表示領域31及び遮光領域30に赤の顔料が分散された樹脂フィルム(ドライフィルム)を全面にラミネートし、露光、現像及びベーク(熱処理)を行って、第1色層(赤)を形成する。次に、第1色層に重ねて、緑色の顔料が分散された樹脂フィルムを全面にラミネートし、露光、現像及びベーク(熱処理)を行って、第2色層(緑)を形成する。同様に、第3色層(青)を形成する。
That is, first, a black matrix having a width of, for example, about 5 to 50 μm is formed on the portion to be the
尚、色層は、ストライプ配列となるように形成してもよく、デルタ配列であってもよい。また、色層の形成方法は、ドライフィルムをラミネートする代わりに、顔料が分散された感光性樹脂材料をスピン、スリットコートにより全面に塗布してもよい。更に、着色層の各色の形成順序は、特に限定されず、他の順序でもよい。 The color layer may be formed in a stripe arrangement or a delta arrangement. As a method for forming the color layer, instead of laminating a dry film, a photosensitive resin material in which a pigment is dispersed may be applied to the entire surface by spin or slit coating. Furthermore, the order of forming each color of the colored layer is not particularly limited, and may be other orders.
次に、色層の上層にITO(Indium Tin Oxide)を蒸着し、不図示の透明電極及び透明誘電体層を形成する。 Next, ITO (Indium Tin Oxide) is deposited on the color layer to form a transparent electrode and a transparent dielectric layer (not shown).
次に、感光性樹脂等からなるスペーサを透明誘電体層上に形成する。スペーサは、フォトリソグラフィ法により、表示領域31及び遮光領域30に同一工程で形成される。
Next, a spacer made of a photosensitive resin or the like is formed on the transparent dielectric layer. The spacer is formed in the same process in the
これにより、基板の一端に表示素子非形成領域36を有し、複数の表示領域31が設けられた大判のCF基板35が完成する。
As a result, a
(大判のTFT基板40の製造工程)
続いて、ガラス等で形成された基板を用意し、次に、図4に示すように、基板の一端において、所定幅の領域(表示素子非形成領域41)だけ残し、それ以外の部分における複数領域にそれぞれ表示素子を形成する。
(Manufacturing process of large-sized TFT substrate 40)
Subsequently, a substrate formed of glass or the like is prepared. Next, as shown in FIG. 4, only a region having a predetermined width (display element non-formation region 41) is left at one end of the substrate, and a plurality of other portions are formed. A display element is formed in each region.
即ち、まず、Ta又はAl/Tiからなるゲート電極をスパッタ法により形成し、パターニングする。 That is, first, a gate electrode made of Ta or Al / Ti is formed by sputtering and patterned.
次に、ゲート絶縁膜としてSiNx、薄膜として半導体a−Siを形成し、次いで、エッチング保護膜としてSiNxを形成し、パターン形成を行った後、層間絶縁膜を形成する。 Next, SiNx is formed as a gate insulating film, semiconductor a-Si is formed as a thin film, then SiNx is formed as an etching protective film, and after pattern formation, an interlayer insulating film is formed.
次に、ITOを真空蒸着して透明電極を形成し、次いで、コンタクトホール、ドレイン電極及びソース電極を形成する。 Next, ITO is vacuum-deposited to form a transparent electrode, and then a contact hole, a drain electrode, and a source electrode are formed.
これにより、基板の一端に表示素子非形成領域41を有し、複数の表示領域31が設けられた大判のTFT基板40が完成する。
Thus, a
(貼り合わせ基板形成工程)
次に、大判のTFT基板40上に枠状シール部20を形成する。枠状シール部20は、図4に示すように、大判のTFT基板40の複数の表示領域31をそれぞれ囲むように設け、且つ、各々その一部が開口して大判のTFT基板40の表示素子非形成領域41を通り、大判のTFT基板40の外側に延びるように形成する。
(Laminated substrate formation process)
Next, the frame-shaped
次に、枠状シール部20を形成した大判のTFT基板40に、枠状シール部20を介して大判のCF基板35を貼り合わせる。このとき、両基板の表示素子非形成領域36,41が重なるように貼り合わせる。
Next, a
次に、紫外光を枠状シール部20に照射することにより硬化させて大判のTFT基板40及び大判のCF基板35を接着し、複数の表示領域31を有する貼り合わせ基板を形成する。このとき、枠状シール部20の開口22は、液晶注入孔44を構成している。
Next, the frame-shaped
次に、複数の表示領域31を有する貼り合わせ基板を、それぞれの表示領域31を囲むように形成された枠状シール部20の外縁で分断し、個別の貼り合わせ基板を作製する。
Next, the bonded substrate having a plurality of
(液晶注入工程)
次に、分断した貼り合わせ基板の液晶注入孔44に、真空注入方式により、液晶材料を注入する。これにより、貼り合わせ基板内の枠状シール部20で囲まれた領域に、液晶材料が充填される。
(Liquid crystal injection process)
Next, a liquid crystal material is injected into the liquid crystal injection hole 44 of the divided bonded substrate by a vacuum injection method. Thereby, the liquid crystal material is filled in the region surrounded by the frame-shaped
(液晶注入孔封止工程)
次に、液晶材料を充填した貼り合わせ基板の液晶注入孔44に、封止材25を供給する。
(Liquid crystal injection hole sealing process)
Next, the sealing
このとき、封止材25は、図5に示すように液晶注入孔44をすべて満たし、さらに貼り合わせ基板のエッジ50より外側に盛り上がるように供給する。
At this time, the sealing
次に、供給した封止材25に紫外光を照射することにより、封止材25を硬化させる。
Next, the sealing
(封止材供給基板分断工程)
次に、封止材25が硬化された貼り合わせ基板を、図5に示すように、液晶注入孔が形成されたエッジ50に沿い、且つ、硬化した封止材25上を通る分断線51において分断する。このようにして形成した貼り合わせ基板は、図2に示すように、その液晶注入孔44に設けた封止材25が、分断によって新しく形成された基板のエッジ24から外側へ突出しておらず、且つ、封止材25のエッジ26と基板のエッジ24とが同一ラインを構成する。
(Encapsulant supply substrate cutting process)
Next, as shown in FIG. 5, the bonded substrate on which the sealing
次に、このようにして作製した貼り合わせ基板を用いて液晶表示パネル12を作製し、さらに、これにバックライト13等を設けて液晶表示装置10を完成させる。
Next, the liquid
また、本発明の液晶表示装置の製造方法に係る他の実施形態として、図6に示すように、複数の枠状シール部20を形成した大判の貼り合わせ基板を分断せずに、このまま液晶材料を注入し、液晶注入孔44に封止材25を供給してから一度に個別の貼り合わせ基板に分断するものであってもよい。この場合、貼り合わせ基板の液晶注入孔44が形成されたエッジ50における分断は、そのエッジ50に沿い、硬化した封止材25上を通る分断線51において行う。
Further, as another embodiment of the method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention, as shown in FIG. 6, a liquid crystal material is left as it is without dividing a large bonded substrate on which a plurality of frame-shaped
尚、上述のように、大判の基板を用いて複数の表示領域31を有する液晶表示パネル12を形成し、それを分断して個別の液晶表示パネル12を作製するものでなくてもよく、一枚のガラス基板で一つの液晶表示パネル12を個々に作製してもよい。また、大判の基板を用いて複数の表示領域31をマトリクス状に形成してから、個別の貼り合わせ基板に分断するものであってもよい。
As described above, the liquid
(作用効果)
次に作用効果について説明する。
(Function and effect)
Next, the function and effect will be described.
本発明の実施形態に係る液晶表示装置10の製造方法は、TFT基板40の表面に、枠状シール部20を、その一部が開口して基板の外側に延びるように形成するステップと、枠状シール部20を形成した基板に、枠状シール部20を介してCF基板35を貼り合わせて開口22を有する貼り合わせ基板を形成するステップと、貼り合わせ基板の枠状シール部20に囲まれた領域に、開口22から液晶材料を供給するステップと、液晶材料を供給した貼り合わせ基板の開口22に、封止材25を供給して硬化させるステップと、封止材25が硬化された貼り合わせ基板を、開口22が形成されたエッジ50に沿い、且つ、硬化した封止材25上を通る分断線51において分断するステップと、を備えたことを特徴とする。
The method for manufacturing the liquid
このような構成によれば、封止材25を液晶注入孔に供給した後、さらに封止材25上の分断線でエッジ50に沿って貼り合わせ基板を分断するため、分断後の開口22は封止材25が密に充填されており、且つ、新たに形成された基板のエッジ24から外へ突出することはない。このため、液晶モジュールの組立が容易になる。また、液晶注入孔からの液晶漏れの発生を良好に抑制することができる。
According to such a configuration, after the sealing
また、本発明の実施形態に係る液晶表示装置10の製造方法は、封止材25が紫外線硬化性材料で形成されていると共に、封止材25の硬化を紫外光照射により行うことを特徴とする。
In addition, the method for manufacturing the liquid
液晶注入孔44に供給した封止材25上でパネルを分断して削除するためには、液晶注入孔44をその分、余裕をもって深めに作製しておかなければならないが、上述の構成によれば、パネルのエッジ24から液晶注入孔44の深い部分まで供給された封止材25を良好に硬化することができる。
In order to divide and delete the panel on the sealing
さらに、本発明の実施形態に係る液晶表示装置10の製造方法は、枠状シール部20を、それぞれTFT基板の表示領域31を囲み、且つ、それらの開口22がTFT基板の同一エッジ50側に向くように複数形成すると共に、貼り合わせ基板を、複数の枠状シール部20で形成される複数の開口22が形成されたエッジ50に沿い、硬化した封止材25上を通る分断線51において分断するステップと、を備えることを特徴とする。
Furthermore, in the method of manufacturing the liquid
このような構成によれば、複数の表示領域31を形成した大判の貼り合わせ基板を、その分断線51において一度に分断するため、液晶モジュールの組立が容易で、液晶注入孔44からの液晶漏れの発生を良好に抑制することができる液晶表示装置10を効率良く作製することができる。
According to such a configuration, since a large-sized bonded substrate having a plurality of
本発明の実施形態に係る液晶表示装置10は、液晶層21と、液晶層21を囲むように設けられた枠状シール部20と、を介して貼り合わされたTFT基板14及びCF基板15を有する液晶表示装置10であって、枠状シール部20は、その一部が開口してTFT基板14及びCF基板15のエッジ24に到達するように形成されており、開口22には、封止材25が充填されていると共に、封止材25はTFT基板14及びCF基板15のエッジ24から外側へ突出していないことを特徴とする。
A liquid
このような構成によれば、液晶注入孔44に封止材25が充填されていると共に、封止材25はTFT基板14及びCF基板15のエッジ24から外側へ突出していないため、液晶モジュールの組立が容易になる。また、液晶注入孔44からの液晶漏れの発生を良好に抑制することができる。
According to such a configuration, the liquid crystal injection hole 44 is filled with the sealing
以上説明したように、本発明は、液晶表示装置10の製造方法及び液晶表示装置10について有用である。
As described above, the present invention is useful for the method of manufacturing the liquid
10 液晶表示装置
12 液晶表示パネル
14,40 TFT基板
15,35 CF基板
20 枠状シール部
21 液晶層
22 開口
24,26,50 エッジ
25 封止材
30 遮光領域
31 表示領域
36,41 表示素子非形成領域
44 液晶注入孔
51 分断線
10 Liquid crystal display device
12 LCD panel
14,40 TFT substrate
15,35 CF substrate
20 Frame seal
21 Liquid crystal layer
22 opening
24, 26, 50 edges
25 Sealing material
30 Shading area
31 display area
36, 41 Display element non-formation region
44 Liquid crystal injection hole
51 Broken line
Claims (4)
上記枠状シール部を形成した第1基板に、該枠状シール部を介して透明の第2基板を貼り合わせて開口を有する貼り合わせ基板を形成するステップと、
上記貼り合わせ基板の上記枠状シール部に囲まれた領域に、上記開口から液晶材料を供給するステップと、
上記液晶材料を供給した貼り合わせ基板の上記開口に、封止材を供給して硬化させるステップと、
上記封止材が硬化された貼り合わせ基板を、上記開口が形成されたエッジに沿い、且つ、該硬化した封止材上を通る分断線において分断するステップと、
を備えた液晶表示装置の製造方法。 Forming a frame-shaped seal portion on the surface of the transparent first substrate so that a part of the frame-shaped seal portion is open and extends to the outside of the first substrate;
Forming a bonded substrate having an opening by bonding a transparent second substrate to the first substrate on which the frame-shaped seal portion is formed, via the frame-shaped seal portion;
Supplying a liquid crystal material from the opening to a region surrounded by the frame-shaped seal portion of the bonded substrate;
Supplying and curing a sealing material to the opening of the bonded substrate to which the liquid crystal material has been supplied; and
Cutting the bonded substrate on which the sealing material has been cured, along a cutting line along the edge where the opening is formed and passing over the cured sealing material;
A method for manufacturing a liquid crystal display device comprising:
上記封止材は紫外線硬化性材料で形成されていると共に、
上記封止材の硬化を紫外光照射により行う液晶表示装置の製造方法。 In the manufacturing method of the liquid crystal display device described in Claim 1,
The sealing material is formed of an ultraviolet curable material,
A method for manufacturing a liquid crystal display device, wherein the sealing material is cured by ultraviolet light irradiation.
上記枠状シール部を、それぞれ上記第1基板の所定領域を囲み、且つ、それらの開口が該第1基板の同一エッジ側に向くように複数形成すると共に、
上記貼り合わせ基板を、上記複数の枠状シール部で形成される複数の開口が形成されたエッジに沿い、上記硬化した封止材上を通る分断線において分断するステップと、
を備えた液晶表示装置の製造方法。 In the manufacturing method of the liquid crystal display device described in Claim 1,
A plurality of the frame-shaped seal portions are respectively formed so as to surround predetermined regions of the first substrate and the openings thereof face the same edge side of the first substrate, and
Cutting the bonded substrate at a dividing line passing over the cured sealing material along an edge formed with a plurality of openings formed by the plurality of frame-shaped seal portions; and
A method for manufacturing a liquid crystal display device comprising:
上記枠状シール部は、その一部が開口して上記第1及び第2基板のエッジに到達するように形成されており、
上記開口には、封止材が充填されていると共に、該封止材は上記第1及び第2基板のエッジから外側へ突出していない液晶表示装置。 A liquid crystal display device having first and second substrates bonded together through a liquid crystal material and a frame-shaped seal portion provided so as to surround the liquid crystal material,
The frame-shaped seal portion is formed so that a part thereof is opened and reaches the edges of the first and second substrates,
A liquid crystal display device in which the opening is filled with a sealing material, and the sealing material does not protrude outward from the edges of the first and second substrates.
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