JP2015210414A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device Download PDF

Info

Publication number
JP2015210414A
JP2015210414A JP2014092513A JP2014092513A JP2015210414A JP 2015210414 A JP2015210414 A JP 2015210414A JP 2014092513 A JP2014092513 A JP 2014092513A JP 2014092513 A JP2014092513 A JP 2014092513A JP 2015210414 A JP2015210414 A JP 2015210414A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
liquid crystal
seal pattern
region
display device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2014092513A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
朋宏 積
Tomohiro Seki
朋宏 積
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2014092513A priority Critical patent/JP2015210414A/en
Publication of JP2015210414A publication Critical patent/JP2015210414A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide technology capable of suppressing generation of a puddling phenomenon and a gap failure between substrates without increasing a cost of manufacturing even when a wide frame region is defined.SOLUTION: A liquid crystal display device includes a pair of a CF substrate 120 and a TFT substrate 110 opposing to each other, and a sealing pattern 2 disposed to enclose a display region 100 between the CF substrate 120 and the TFT substrate 110. The sealing pattern 2 is continuously formed across a peripheral part of the display region 100 and a peripheral part of ends of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110, while leaving a void region 101b between the peripheral parts in a plan view.

Description

本発明は、製造コストの増加を招くことなく、パドリングおよび基板間のギャップ不良の発生を抑制することが可能な液晶表示装置に関するものである。   The present invention relates to a liquid crystal display device capable of suppressing the occurrence of paddling and a gap defect between substrates without causing an increase in manufacturing cost.

液晶表示装置では、駆動回路が一体化される場合または製品の仕様などによって、特定の辺において表示領域と基板端との間の距離が大きく(額縁領域が広く)なる場合がある。この場合、該当する辺において、シールパターンを表示領域の周辺部に配置し基板端から距離をあけると切断不良を生じ易くなる。逆に基板端の周辺部にシールパターンを配置すると、シールパターンと表示領域との間にセルギャップ保持の弱くなる領域が比較的広く形成されることになり、この領域でギャップ不良が発生し易くなる。   In a liquid crystal display device, the distance between a display region and a substrate edge may be large (a frame region is wide) in a specific side depending on a case where a drive circuit is integrated or product specifications. In this case, if the seal pattern is arranged in the peripheral portion of the display area at a corresponding side and the distance from the edge of the substrate is increased, a cutting defect is likely to occur. Conversely, when a seal pattern is arranged around the edge of the substrate, a region where the cell gap retention is weakened is formed between the seal pattern and the display region, and a gap defect is likely to occur in this region. Become.

さらに、この領域にはフロントフレームの端部が配置されるが、フロントフレームを介した外的振動が、この領域に伝達されて発生する動的なギャップ不良であるパドリングが問題となっている。   Furthermore, although the end of the front frame is disposed in this region, paddling, which is a dynamic gap defect that occurs when external vibrations transmitted through the front frame are transmitted to this region, is a problem.

このような問題に対して、例えば特許文献１には、セルギャップ保持の弱い部分、特にフロントフレームの端部が配置され、フロントフレームによる保持圧力が加わる部分における液晶パネルのシールパターンの周辺部の外側にダミーシールを配置することで、ギャップ不良の改善を図る方法が開示されている。   For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-228667 discloses a portion where the cell gap is weakly held, particularly the end portion of the front frame, and the peripheral portion of the seal pattern of the liquid crystal panel at the portion where holding pressure is applied by the front frame. A method for improving a gap defect by disposing a dummy seal outside is disclosed.

また、例えば特許文献２には、特に額縁領域が広く形成される液晶パネルにおいて、額縁領域が広く形成されセルギャップ保持の弱い領域に対応して、シールパターンの内側の表示領域にダミーシールを配置して補強する方法が開示されている。さらに、特許文献２には、シールパターンにおける注入口を形成する注入口引出しパターンについて、比較的距離が大きくなる表示領域と基板端との間において、表示領域の周辺部から基板端まで延在させることで、注入口引出しパターンを利用して補強する方法が開示されている。   Further, for example, in Patent Document 2, in a liquid crystal panel in which a frame region is formed wide, a dummy seal is arranged in a display region inside the seal pattern corresponding to a region where the frame region is formed wide and the cell gap is weakly held. Thus, a method of reinforcing is disclosed. Further, in Patent Document 2, the inlet drawing pattern that forms the inlet in the seal pattern is extended from the periphery of the display area to the substrate edge between the display area and the substrate edge where the distance is relatively large. Thus, a method of reinforcing using an inlet drawing pattern is disclosed.

特開２００１−１００２２６号公報JP 2001-100226 A 特開２００１−５１２８１号公報JP 2001-51281 A

しかしながら、特許文献１に記載の方法では、滴下注入プロセスを用いた場合、または、比較的大きな液晶パネルなどの製造プロセスでも汎用される方式であるシールを吐出するノズルを移動させてシールパターンを形成するディスペンサ方式で行う場合、メインシールパターンに追加してダミーシールを別途配置することは、処理タクトの増加と、それに伴う製造コストの増加につながる。   However, in the method described in Patent Document 1, a seal pattern is formed by moving a nozzle that discharges a seal, which is a method that is widely used even in a manufacturing process of a relatively large liquid crystal panel or the like when a dropping injection process is used. In the case of using the dispenser method, if a dummy seal is additionally provided in addition to the main seal pattern, it leads to an increase in processing tact and an accompanying increase in manufacturing cost.

また、特許文献２に記載の方法では、ダミーシールを別途配置する場合、特許文献１の場合と同様の問題を発生する。注入口引出しパターンを長く形成する場合は、液晶が液晶パネル内に引き込まれる際の入口付近の経路として狭い経路が長く続くことでコンダクタンスが低くなり、注入時間のタクト増加と、それに伴う製造コストの増加につながる。   In the method described in Patent Document 2, when a dummy seal is separately arranged, the same problem as in Patent Document 1 occurs. When the inlet drawing pattern is formed long, the conductance is lowered because a narrow path as the path near the inlet when the liquid crystal is drawn into the liquid crystal panel continues for a long time, increasing the tact time of the injection time and the associated manufacturing cost. Leads to an increase.

また、一般的には、広い額縁領域となる辺は、駆動回路または端子部への引き出しパターンの形成される辺に対応する場合が多く、何れにしても端子部の形成される辺であり注入口の設けられない辺である。したがって、注入口引出しパターンを長く形成する方法は、広い額縁領域となる辺を補強するために用いることができない場合が多い。つまり、広い額縁領域において発生する問題に対して抜本的な解決策とならない。   In general, a side that forms a wide frame region often corresponds to a side where a lead-out pattern is formed on a drive circuit or a terminal portion, and is a side where a terminal portion is formed in any case. It is a side where no entrance is provided. Therefore, in many cases, the method of forming a long inlet drawing pattern cannot be used to reinforce a side that becomes a wide frame region. That is, it is not a drastic solution to the problem that occurs in a wide frame area.

そこで、本発明は、広い額縁領域が規定される場合にも、製造コストの増加を招くことなく、パドリングおよび基板間のギャップ不良の発生を抑制することが可能な技術を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a technology capable of suppressing the occurrence of paddling and a gap defect between substrates without causing an increase in manufacturing cost even when a wide frame region is defined. To do.

本発明に係る液晶表示装置は、互いに対向する一対の基板を備え、前記一対の基板には、平面視において、表示領域と、前記表示領域と前記一対の基板の端との間の額縁領域とが規定され、前記一対の基板の間において、前記表示領域を囲むように配置されるシールパターンをさらに備え、前記シールパターンは、平面視で、前記表示領域の周辺部と、前記一対の基板の端の周辺部とに跨って、かつ前記両周辺部の間に空隙を形成しつつ、連続的に形成されるものである。   A liquid crystal display device according to the present invention includes a pair of substrates facing each other, and the pair of substrates includes a display region and a frame region between the display region and an end of the pair of substrates in a plan view. The seal pattern is further provided between the pair of substrates so as to surround the display region, and the seal pattern includes a peripheral portion of the display region and the pair of substrates in a plan view. It is formed continuously over the peripheral part of the end and while forming a gap between the peripheral parts.

本発明によれば、液晶表示装置は、互いに対向する一対の基板を備え、一対の基板には、平面視において、表示領域と、表示領域と一対の基板の端との間の額縁領域とが規定され、一対の基板の間において、表示領域を囲むように配置されるシールパターンをさらに備え、シールパターンは、平面視で、表示領域の周辺部と、一対の基板の端の周辺部とに跨って、かつ両周辺部の間に空隙を形成しつつ、連続的に形成される。   According to the present invention, the liquid crystal display device includes a pair of substrates facing each other, and the pair of substrates has a display region and a frame region between the display region and an end of the pair of substrates in plan view. The seal pattern is further provided between the pair of substrates so as to surround the display region, and the seal pattern is formed on the periphery of the display region and the periphery of the ends of the pair of substrates in plan view. It is formed continuously, forming a gap between both peripheral parts.

一般に液晶表示装置においては、一対の基板の前面側にフロントフレームが配置され、フロントフレームの端部が一対の基板の額縁領域に位置する。シールパターンは、平面視で、表示領域の周辺部と、一対の基板の端の周辺部とに跨って、かつ両周辺部の間に空隙を形成しつつ、連続的に形成されるため、一対の基板において、フロントフレームの端部に対応する領域はシールパターンによって保持され、広い額縁領域が規定される場合にも、パドリングおよび基板間のギャップ不良の発生を抑制できる。また、ダミーシールの追加などの新たな工程を追加する必要がないことから、製造コストの増加を抑制できる。   In general, in a liquid crystal display device, a front frame is disposed on the front side of a pair of substrates, and an end portion of the front frame is located in a frame region of the pair of substrates. Since the seal pattern is continuously formed in a plan view, straddling the peripheral portion of the display area and the peripheral portions of the ends of the pair of substrates and forming a gap between the peripheral portions, In this substrate, the region corresponding to the end portion of the front frame is held by the seal pattern, and even when a wide frame region is defined, the occurrence of paddling and a gap defect between the substrates can be suppressed. Moreover, since it is not necessary to add a new process such as addition of a dummy seal, an increase in manufacturing cost can be suppressed.

実施の形態に係る液晶表示装置のシールパターンの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the seal pattern of the liquid crystal display device which concerns on embodiment. 実施の形態に係る液晶表示装置のシールパターンの他の例を示す図である。It is a figure which shows the other example of the seal pattern of the liquid crystal display device which concerns on embodiment. 実施の形態の変形例に係る液晶表示装置のシールパターンの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the seal pattern of the liquid crystal display device which concerns on the modification of embodiment. 実施の形態の変形例に係る液晶表示装置のシールパターンの他の例を示す図である。It is a figure which shows the other example of the seal pattern of the liquid crystal display device which concerns on the modification of embodiment. 実施の形態に係る液晶表示装置の液晶パネルの平面図である。It is a top view of the liquid crystal panel of the liquid crystal display device which concerns on embodiment. 図５のA-A線断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 5. 液晶パネルの組み立て工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the assembly process of a liquid crystal panel. 前提技術に係る液晶表示装置のシールパターンの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the seal pattern of the liquid crystal display device which concerns on a base technology.

＜実施の形態＞
（液晶パネルの概略構成）
本発明の実施の形態について、図面を用いて以下に説明する。図１は、実施の形態に係る液晶表示装置のシールパターン２の一例を示す図であり、液晶表示装置のコーナー部を拡大した平面図である。 <Embodiment>
(Schematic configuration of the liquid crystal panel)
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a seal pattern 2 of a liquid crystal display device according to an embodiment, and is a plan view in which a corner portion of the liquid crystal display device is enlarged.

図１に示すように、液晶表示装置は、液晶パネル１０と、フロントフレーム１とを備えている。液晶パネル１０は、カラーフィルタ基板（以下「ＣＦ基板」という）１２０と、ＴＦＴアレイ基板（以下「ＴＦＴ基板」という）１１０（図６参照）と、シールパターン２とを備えている。ここで、ＣＦ基板１２０とＴＦＴ基板１１０は互いに対向する位置に配置され、具体的には、ＴＦＴ基板１１０はＣＦ基板１２０の裏面側に配置されている。図１ではＴＦＴ基板１１０について図示が省略されており、その詳細については後述する。   As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device includes a liquid crystal panel 10 and a front frame 1. The liquid crystal panel 10 includes a color filter substrate (hereinafter referred to as “CF substrate”) 120, a TFT array substrate (hereinafter referred to as “TFT substrate”) 110 (see FIG. 6), and a seal pattern 2. Here, the CF substrate 120 and the TFT substrate 110 are disposed at positions facing each other. Specifically, the TFT substrate 110 is disposed on the back surface side of the CF substrate 120. In FIG. 1, the TFT substrate 110 is not shown, and details thereof will be described later.

ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０には、平面視において、表示領域１００と額縁領域１０１とが規定されている。表示領域１００は、平面視において、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の中央部分に規定され、額縁領域１０１は、表示領域１００と、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端との間に配置されている。また、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の表面側（より具体的にはＣＦ基板１２０の表面側）には、フロントフレーム１が配置されている。フロントフレーム１は、表示領域１００に対応する開口１ａを備えており、ＣＦ基板１２０の表面側にフロントフレーム１が配置された状態で、表示領域１００が露出している。   In the CF substrate 120 and the TFT substrate 110, a display region 100 and a frame region 101 are defined in plan view. The display area 100 is defined in the center portion of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110 in plan view, and the frame area 101 is disposed between the display area 100 and the ends of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110. . Further, the front frame 1 is disposed on the surface side of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110 (more specifically, the surface side of the CF substrate 120). The front frame 1 includes an opening 1 a corresponding to the display area 100, and the display area 100 is exposed in a state where the front frame 1 is disposed on the surface side of the CF substrate 120.

シールパターン２は、ＣＦ基板１２０とＴＦＴ基板１１０との間において、表示領域１００を囲むように額縁領域１０１に配置されている。額縁領域１０１は、４つの辺で構成されており、相対的に広い幅を有する辺（広い額縁領域）と、相対的に狭い幅を有する辺が存在する。額縁領域１０１を構成する４つの辺のうち相対的に広い幅を有する辺において、シールパターン２は、次に説明する形状に形成されている。   The seal pattern 2 is disposed in the frame area 101 so as to surround the display area 100 between the CF substrate 120 and the TFT substrate 110. The frame region 101 is composed of four sides, and there are sides having a relatively wide width (wide frame region) and sides having a relatively narrow width. On the side having a relatively wide width among the four sides constituting the frame region 101, the seal pattern 2 is formed in the shape described below.

シールパターン２は、平面視で、表示領域１００の周辺部と、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端の周辺部に跨って、かつ両周辺部の間に空隙領域１０１ｂ（空隙）を形成しつつ、連続的（一筆書き状）に形成されている。より具体的には、シールパターン２は、フロントフレーム１の端部を跨いで、表示領域１００と、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端に交互に近接するジグザグ形状に形成されている。   The seal pattern 2 forms a void region 101b (gap) between the peripheral portion of the display region 100 and the peripheral portions of the ends of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110 in a plan view. , Is formed continuously (one-stroke writing). More specifically, the seal pattern 2 is formed in a zigzag shape that straddles the display area 100 and the ends of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110 across the end of the front frame 1.

他方、額縁領域１０１を構成する４つの辺のうち相対的に狭い幅を有する辺において、シールパターン２は、表示領域１００の周辺部と、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端の周辺部の間に直線状に形成されている。ここで、例えば相対的に広い幅を有する辺が２つ以上存在する場合、シールパターン２は、これらの辺に対してジグザグ形状に形成されていてもよいし、相対的に狭い幅を有する辺に対してもジグザグ形状に形成されていてもよい。   On the other hand, on the side having a relatively narrow width among the four sides constituting the frame region 101, the seal pattern 2 is between the peripheral portion of the display region 100 and the peripheral portions of the ends of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110. It is formed in a straight line. Here, for example, when there are two or more sides having a relatively wide width, the seal pattern 2 may be formed in a zigzag shape with respect to these sides, or a side having a relatively narrow width. Also, it may be formed in a zigzag shape.

額縁領域１０１は、シールパターン２によって、液晶領域１０１ａと、空隙領域１０１ｂに分割されている。液晶領域１０１ａは、液晶が封入される領域であり、シールパターン２の内側（表示領域１００側）に規定されている。空隙領域１０１ｂは、液晶が封入されない領域であり、シールパターン２の外側（ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端側）に規定されている。   The frame area 101 is divided into a liquid crystal area 101 a and a gap area 101 b by the seal pattern 2. The liquid crystal region 101a is a region in which liquid crystal is sealed, and is defined inside the seal pattern 2 (on the display region 100 side). The void region 101b is a region where liquid crystal is not sealed, and is defined outside the seal pattern 2 (on the end side of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110).

シールパターン２には、ＣＦ基板１２０とＴＦＴ基板１１０との間を保持するキャップ材として、スペーサまたはマイクロロッドなどが混入されている。シールパターン２の具体的な形成方法としては、後にも説明を追記するが、例えば、ディスペンサ方式でシールパターン２を形成する際に、シールパターン２の描き方(ディスペンサノズルの動作)をジグザグにするとよい。   In the seal pattern 2, spacers or microrods are mixed as a cap material for holding between the CF substrate 120 and the TFT substrate 110. As a specific method of forming the seal pattern 2, a description will be added later. For example, when forming the seal pattern 2 by the dispenser method, if the method of drawing the seal pattern 2 (operation of the dispenser nozzle) is zigzag Good.

また、シールパターン２の空隙領域１０１ｂは、ジグザグ形状に形成された部分において、外部に開放された開口部３を複数備え、開口部３の入口には切断補助パターン４がそれぞれ配置されている。切断補助パターン４は、額縁領域１０１に多数配置され、ＣＦ基板１２０とＴＦＴ基板１１０との間の距離を一定範囲に保持するスペーサ材である柱状スペーサ１３４（図６参照）と同時に形成される。ここで、開口部３は、液晶パネル１０の製造時に空気の逃し口としての機能を有するため、ある方が望ましい。   Further, the gap area 101b of the seal pattern 2 includes a plurality of openings 3 opened to the outside in the zigzag portion, and the cutting assist patterns 4 are arranged at the entrances of the openings 3, respectively. A large number of cutting assist patterns 4 are arranged in the frame region 101, and are formed simultaneously with the columnar spacers 134 (see FIG. 6), which is a spacer material that keeps the distance between the CF substrate 120 and the TFT substrate 110 within a certain range. Here, it is desirable that the opening 3 has a function as an air outlet when the liquid crystal panel 10 is manufactured.

なお、切断補助パターン４を設ける代わりに、シールパターン２のジグザグ形状を若干変形することも可能である。図２は、液晶表示装置のシールパターン２の他の例（液晶パネル１０Ａ）を示す図である。図２に示すように、シールパターン２は、平面視において、Ω形状に形成されている。すなわち、シールパターン２の開口部３は、入口を窄めた形状に形成されている。これにより、切断補助パターン４の配置を省略することが可能である。   Instead of providing the cutting assist pattern 4, the zigzag shape of the seal pattern 2 can be slightly modified. FIG. 2 is a diagram showing another example (liquid crystal panel 10A) of the seal pattern 2 of the liquid crystal display device. As shown in FIG. 2, the seal pattern 2 is formed in an Ω shape in plan view. That is, the opening 3 of the seal pattern 2 is formed in a shape with a narrowed entrance. Thereby, the arrangement of the auxiliary cutting pattern 4 can be omitted.

＜変形例＞
次に、実施の形態の変形例に係る液晶表示装置について説明する。図３は、実施の形態の変形例に係る液晶表示装置のシールパターン２の一例（液晶パネル１０Ｂ）を示す図である。 <Modification>
Next, a liquid crystal display device according to a modification of the embodiment will be described. FIG. 3 is a diagram showing an example (liquid crystal panel 10B) of the seal pattern 2 of the liquid crystal display device according to the modification of the embodiment.

実施の形態の変形例において、額縁領域１０１を構成する４辺のうち相対的に広い幅を有する辺に配置されるシールパターン２は、平面視において、内側部分と外側部分の二重に形成されている。   In the modification of the embodiment, the seal pattern 2 arranged on a side having a relatively wide width among the four sides constituting the frame region 101 is formed in a double of an inner part and an outer part in a plan view. ing.

図３に示すように、シールパターン２は、第１シールパターン５と、第２シールパターン６とを備えている。第１シールパターン５は、表示領域１００の全周に渡って表示領域１００の周辺部に配置されている。より具体的には、第１シールパターン５は、フロントフレーム１の端部に対応する位置、または当該位置よりも内側に配置されている。   As shown in FIG. 3, the seal pattern 2 includes a first seal pattern 5 and a second seal pattern 6. The first seal pattern 5 is arranged on the periphery of the display area 100 over the entire circumference of the display area 100. More specifically, the first seal pattern 5 is disposed at a position corresponding to the end of the front frame 1 or on the inner side of the position.

第２シールパターン６は、額縁領域１０１を構成する４辺のうち相対的に広い幅を有する辺において、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端の周辺部に配置されている。第２シールパターン６の一端は第１シールパターン５に接続され、第２シールパターン６の他端は開放されており、第１シールパターン５と第２シールパターン６との間に空隙領域１０１ｂが形成されている。これにより、シールパターン２は、平面視で、表示領域１００の周辺部と、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端の周辺部に跨って、かつ両周辺部の間に空隙領域１０１ｂ（空隙）を形成しつつ、連続的（一筆書き状）に形成されている。   The second seal pattern 6 is arranged in the peripheral portion of the ends of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110 on the side having a relatively wide width among the four sides constituting the frame region 101. One end of the second seal pattern 6 is connected to the first seal pattern 5, the other end of the second seal pattern 6 is open, and a gap region 101 b is formed between the first seal pattern 5 and the second seal pattern 6. Is formed. Thereby, the seal pattern 2 has a gap region 101b (gap) in a plan view, straddling the peripheral part of the display region 100 and the peripheral parts of the ends of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110, and between the peripheral parts. While forming, it is formed continuously (one-stroke writing).

次に、額縁領域１０１を構成する４辺のうち相対的に広い幅を有する辺が２つ存在する場合について説明する。図４は、実施の形態の変形例に係る液晶表示装置のシールパターン２の他の例（液晶パネル１０Ｃ）を示す図である。   Next, a case where two sides having a relatively wide width among the four sides constituting the frame region 101 are described. FIG. 4 is a diagram showing another example (liquid crystal panel 10C) of the seal pattern 2 of the liquid crystal display device according to the modification of the embodiment.

図４に示すように、額縁領域１０１における相対的に広い幅を有する２つの辺は隣接しており、第２シールパターン６は、額縁領域１０１における相対的に広い幅を有する２つの辺に跨って配置されている。相対的に広い幅を有する２つの辺のうち１つの辺において、第２シールパターン６の一端は第１シールパターン５に接続され、第２シールパターン６の他端は開放されている。このため、第１シールパターン５と第２シールパターン６の間に空隙領域１０１ｂが形成され、空隙領域１０１ｂの開口部３は１辺のみに形成されている。この場合も、シールパターン２は、平面視で、表示領域１００の周辺部と、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端の周辺部に跨って、かつ両周辺部の間に空隙領域１０１ｂ（空隙）を形成しつつ、連続的（一筆書き状）に形成されている。   As shown in FIG. 4, two sides having a relatively wide width in the frame region 101 are adjacent to each other, and the second seal pattern 6 straddles two sides having a relatively wide width in the frame region 101. Are arranged. In one of the two sides having a relatively wide width, one end of the second seal pattern 6 is connected to the first seal pattern 5 and the other end of the second seal pattern 6 is open. For this reason, the space | gap area | region 101b is formed between the 1st seal pattern 5 and the 2nd seal pattern 6, and the opening part 3 of the space | gap area | region 101b is formed only in 1 side. Also in this case, the seal pattern 2 has a gap region 101b (gap) between the peripheral portion of the display region 100 and the peripheral portions of the ends of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110 in the plan view. Is formed continuously (one-stroke writing).

なお、額縁領域１０１を構成する４辺のうち相対的に広い幅を有する辺が互いに対向する場合、図４に示すシールパターン２を連続的（一筆書き状）に形成することができないため、図１または図２に示すシールパターン２を相対的に広い幅を有する２辺に形成すればよい。   Note that when the sides having a relatively wide width among the four sides constituting the frame region 101 face each other, the seal pattern 2 shown in FIG. 4 cannot be formed continuously (in a single stroke). The seal pattern 2 shown in FIG. 1 or 2 may be formed on two sides having a relatively wide width.

（液晶パネルの全体構成）
次に、液晶表示装置を構成する液晶パネルの全体構成について説明する。なお、発明の特徴部分となる額縁領域１０１でのシールパターン２の形状については図１の例で説明を行うことにする。先ず、液晶表示装置を構成する液晶パネル１０の構成について図５と図６を用いて説明する。図５は、液晶表示装置の液晶パネル１０の平面図であり、図６は、図５のA-A線断面図である。ここでは、一例としてＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）方式の液晶パネルについて説明を行うことにする。 (Overall configuration of LCD panel)
Next, the overall configuration of the liquid crystal panel constituting the liquid crystal display device will be described. Note that the shape of the seal pattern 2 in the frame region 101, which is a characteristic part of the invention, will be described with reference to the example of FIG. First, the structure of the liquid crystal panel 10 which comprises a liquid crystal display device is demonstrated using FIG. 5 and FIG. 5 is a plan view of the liquid crystal panel 10 of the liquid crystal display device, and FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. Here, as an example, a TFT (Thin Film Transistor) type liquid crystal panel will be described.

図５と図６に示すように、液晶パネル１０は、ＴＦＴ基板１１０と、ＣＦ基板１２０と、シールパターン２とを備えている。ＴＦＴ基板１１０には、スイッチング素子としてＴＦＴがアレイ状に配置され、ＣＦ基板１２０には、カラーフィルタなどが形成されている。   As shown in FIGS. 5 and 6, the liquid crystal panel 10 includes a TFT substrate 110, a CF substrate 120, and a seal pattern 2. TFTs are arranged in an array on the TFT substrate 110 as switching elements, and color filters and the like are formed on the CF substrate 120.

シールパターン２は、ＴＦＴ基板１１０とＣＦ基板１２０との間における、少なくとも表示領域１００を囲うように額縁領域１０１に設けられ、ＣＦ基板１２０とＴＦＴ基板１１０との間の間隙を密封している。ここで、表示領域１００は、液晶パネル１０が動作した際に画像を表示する表示面に対応する領域である。   The seal pattern 2 is provided in the frame region 101 so as to surround at least the display region 100 between the TFT substrate 110 and the CF substrate 120, and seals the gap between the CF substrate 120 and the TFT substrate 110. Here, the display area 100 is an area corresponding to a display surface on which an image is displayed when the liquid crystal panel 10 is operated.

特にシールパターン２については、図１を用いて詳細説明を行ったとおり、本発明の特徴的な構成として、特に額縁領域１０１における相対的に広い幅を有する辺（図５において紙面の下側に位置する辺）において、表示領域１００と、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端に交互に近接するジグザグ形状に形成されている。   As for the seal pattern 2 in particular, as described in detail with reference to FIG. 1, as a characteristic configuration of the present invention, a side having a relatively wide width particularly in the frame region 101 (on the lower side of the page in FIG. 5). (Side edge), the display area 100 is formed in a zigzag shape alternately close to the ends of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110.

なお、表示領域１００および額縁領域１０１は、ＴＦＴ基板１１０上、ＣＦ基板１２０上、またはＣＦ基板１２０とＴＦＴ基板１１０との間に挟まれる領域の全てが使用され、本明細書中においては同様である。   Note that the display region 100 and the frame region 101 are all used on the TFT substrate 110, the CF substrate 120, or the region sandwiched between the CF substrate 120 and the TFT substrate 110, and are the same in this specification. is there.

さらに、表示領域１００内には、ＣＦ基板１２０とＴＦＴ基板１１０との間に一定範囲の間隙を形成し保持する柱状スペーサ１３４が多数配置されている。また、柱状スペーサ１３４は、額縁領域１０１においても設けるとよく、その場合には、額縁領域１０１とその周辺部において、一定範囲の間隙を形成し保持することができる。   Further, a large number of columnar spacers 134 are formed in the display area 100 to form and hold a certain range of gaps between the CF substrate 120 and the TFT substrate 110. Further, the columnar spacer 134 may be provided also in the frame region 101. In that case, a certain range of gaps can be formed and held in the frame region 101 and its peripheral portion.

また、本発明の特徴的な構成として、ジグザグ形状に形成されるシールパターン２が配置される辺においてＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端に沿って、柱状スペーサ１３４と同一材料からなる切断補助パターン４が配置されている。特に、この切断補助パターン４は、ジグザグ形状のシールパターン２が基板端から離れて配置される部分（つまり、図１における空隙領域１０１ｂの開口部３）を埋めるように配置されることになる。また、切断補助パターン４は柱状スペーサ１３４と同一材料からなることから、同時に（同じ成膜工程と同じパターニング工程を経て）形成することができ、特に製造工程などを増やすことなく、通常の製造工程と変わらない製造工程によって形成することが可能である。   Further, as a characteristic configuration of the present invention, a cutting assist pattern made of the same material as the columnar spacer 134 along the edges of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110 on the side where the seal pattern 2 formed in a zigzag shape is disposed. 4 is arranged. In particular, the cutting assist pattern 4 is disposed so as to fill a portion where the zigzag seal pattern 2 is disposed away from the substrate end (that is, the opening 3 of the void region 101b in FIG. 1). Further, since the auxiliary cutting pattern 4 is made of the same material as the columnar spacer 134, it can be formed at the same time (through the same film forming process and the same patterning process), and a normal manufacturing process without particularly increasing the manufacturing process or the like. It is possible to form by the same manufacturing process.

液晶（液晶材料）が、シールパターン２によって密封されるとともに、柱状スペーサ１３４によって保持されたＣＦ基板１２０とＴＦＴ基板１１０との間の間隙の少なくとも表示領域１００に対応する領域に液晶材料が狭持されることで、液晶層１３０が形成されている。ここでは、液晶材料として一般的なＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）タイプの液晶材料が用いられている。また、液晶材料は、表示領域１００に対応する領域に加えて、ジグザグ形状のシールパターン２の内側領域まで封入されており、当該領域まで液晶層１３０が形成されることになる。   The liquid crystal (liquid crystal material) is sealed by the seal pattern 2, and the liquid crystal material is held in at least a region corresponding to the display region 100 in the gap between the CF substrate 120 and the TFT substrate 110 held by the columnar spacer 134. As a result, the liquid crystal layer 130 is formed. Here, a general TN (twisted nematic) type liquid crystal material is used as the liquid crystal material. In addition to the region corresponding to the display region 100, the liquid crystal material is sealed up to the inner region of the zigzag seal pattern 2, and the liquid crystal layer 130 is formed up to the region.

また、シールパターン２には、液晶材料を注入するための開口部である注入口１３ａが設けられ、注入口１３ａは、封止材１３ｂによって封止されている。換言すると、液晶材料は、シールパターン２によって囲まれる領域に封止されている。注入口１３ａと、対応して設けられる封止材１３ｂは、シールパターン２のどの位置に設けてもよく、複数設けてもよい。一般的には、平面視において、ＣＦ基板１２０とＴＦＴ基板１１０の端面が揃った辺に設けられることから、以降で説明する信号端子１１８が形成されるＴＦＴ基板１１０の端面は、ＣＦ基板１２０よりも突出する辺を除く辺に設けられることになる。   The seal pattern 2 is provided with an injection port 13a which is an opening for injecting a liquid crystal material, and the injection port 13a is sealed with a sealing material 13b. In other words, the liquid crystal material is sealed in a region surrounded by the seal pattern 2. The inlet 13a and the sealing material 13b provided correspondingly may be provided at any position in the seal pattern 2, or a plurality of the sealing material 13b may be provided. Generally, in plan view, it is provided on the side where the end surfaces of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110 are aligned. Therefore, the end surface of the TFT substrate 110 on which a signal terminal 118 described below is formed is more than the CF substrate 120. Is also provided on the side excluding the protruding side.

次に、ＴＦＴ基板１１０とＣＦ基板１２０について説明する。ＴＦＴ基板１１０は、透明基板である厚み０．７ｍｍ程度の一般的なガラスによって形成されたガラス基板１１１を備えている。さらに、ＴＦＴ基板１１０は、ガラス基板１１１の一方の面に液晶を配向させる配向膜１１２、配向膜１１２の下部に設けられ液晶を駆動する電圧を印加する画素電極１１３と、画素電極１１３に電圧を供給するスイッチング素子であるＴＦＴ１１４と、ＴＦＴ１１４を覆う絶縁膜１１５と、ＴＦＴ１１４に信号を供給する配線である複数のゲート配線１１６およびソース配線１１７と、ＴＦＴ１１４に供給される信号を外部から受け入れる信号端子１１８と、信号端子１１８から入力された信号を共通電極１２３へ伝達するためのトランスファ電極（図示省略）と、信号端子１１８から入力された信号をゲート配線１１６とソース配線１１７とトランスファ電極へ伝達する周辺配線１１９などを備えている。   Next, the TFT substrate 110 and the CF substrate 120 will be described. The TFT substrate 110 includes a glass substrate 111 formed of a general glass having a thickness of about 0.7 mm, which is a transparent substrate. Further, the TFT substrate 110 includes an alignment film 112 that aligns liquid crystal on one surface of the glass substrate 111, a pixel electrode 113 that is provided below the alignment film 112 and that applies a voltage for driving the liquid crystal, and a voltage applied to the pixel electrode 113. A TFT 114 as a switching element to be supplied, an insulating film 115 covering the TFT 114, a plurality of gate wirings 116 and source wirings 117 as wirings for supplying signals to the TFT 114, and a signal terminal 118 for receiving a signal supplied to the TFT 114 from the outside. A transfer electrode (not shown) for transmitting a signal input from the signal terminal 118 to the common electrode 123, and a periphery for transmitting a signal input from the signal terminal 118 to the gate wiring 116, the source wiring 117, and the transfer electrode. Wiring 119 and the like are provided.

図５における紙面の下側に位置する辺において、周辺配線１１９が特に広い平面的な領域を占めて配置されることから、額縁領域１０１が相対的に広く形成されることになっている。また、ガラス基板１１１の他方の面には偏光板１３１が配置されている。   Since the peripheral wiring 119 occupies a particularly wide planar area on the side located on the lower side of the paper surface in FIG. 5, the frame area 101 is formed relatively wide. A polarizing plate 131 is disposed on the other surface of the glass substrate 111.

ＣＦ基板１２０は、透明基板である厚み０．７ｍｍ程度の一般的なガラスによって形成されたガラス基板１２１を備えている。さらに、ＣＦ基板１２０は、ガラス基板１２１の一方の面に液晶を配向させる配向膜１２２と、配向膜１２２の下部に配置されＴＦＴ基板１１０上の画素電極１１３との間に電界を生じ液晶を駆動する共通電極１２３と、共通電極１２３下部に設けられるそれぞれのカラーフィルタ１２４間を遮光するため、または表示領域１００に対応する領域外側に配置される額縁領域１０１を遮光するために設けられる遮光層であるブラックマトリクス１２５（以下「ＢＭ１２５」という）などを有している。   The CF substrate 120 includes a glass substrate 121 made of a general glass having a thickness of about 0.7 mm, which is a transparent substrate. Further, the CF substrate 120 drives the liquid crystal by generating an electric field between the alignment film 122 for aligning the liquid crystal on one surface of the glass substrate 121 and the pixel electrode 113 on the TFT substrate 110 disposed below the alignment film 122. A light shielding layer provided to shield between the common electrode 123 and the color filters 124 provided below the common electrode 123 or to shield the frame region 101 disposed outside the region corresponding to the display region 100. A black matrix 125 (hereinafter referred to as “BM125”) or the like is included.

ＢＭ１２５としては、一般的な樹脂性の遮光層またはクロムなどを用いた金属性の遮光層を用いることができる。また、ＣＦ基板１２０のガラス基板１２１の他方の面には偏光板１３２が配置されている。なお、配向膜１２２より下層に、カラーフィルタ１２４とＢＭ１２５を覆うように透明樹脂膜によって形成されたオーバーコート層を設ける構成としても構わない。   As the BM 125, a general resinous light shielding layer or a metallic light shielding layer using chromium or the like can be used. A polarizing plate 132 is disposed on the other surface of the glass substrate 121 of the CF substrate 120. Note that an overcoat layer formed of a transparent resin film may be provided below the alignment film 122 so as to cover the color filter 124 and the BM 125.

カラーフィルタ１２４としては、樹脂中に顔料などを分散させた色材層を選択でき、赤、緑または青などの特定の波長範囲の光を選択的に透過するフィルタとして機能し、これら異なる色の色材層が規則的に配列して構成される。   As the color filter 124, a color material layer in which a pigment or the like is dispersed in a resin can be selected, and the color filter 124 functions as a filter that selectively transmits light in a specific wavelength range such as red, green, or blue. The color material layers are arranged regularly.

以上説明を行ったＴＦＴ基板１１０とＣＦ基板１２０は、シールパターン２を介して貼り合わされているが、それと同時にＴＦＴ基板１１０上に設けられたトランスファ電極とＣＦ基板１２０上に設けられた共通電極１２３は、トランスファ材によって電気的に接続される。それによって、ＴＦＴ基板１１０上の信号端子１１８から入力された信号がトランスファ電極とトランスファ材を介して共通電極１２３に伝達される。トランスファ材については、シールパターン２中に導電性の粒子などを混合することによって代用できることから省略することも可能である。本実施の形態でも、導電性の粒子などを混合したシールパターン２を用いたうえで、シールパターン２と共通電極１２３とが、さらにトランスファ電極とシールパターン２が、それぞれ接触される配置として、トランスファ電極と共通電極１２３についてシールパターン２を介して電気的に接続している。   The TFT substrate 110 and the CF substrate 120 described above are bonded together via the seal pattern 2, but at the same time, the transfer electrode provided on the TFT substrate 110 and the common electrode 123 provided on the CF substrate 120. Are electrically connected by a transfer material. Thereby, a signal input from the signal terminal 118 on the TFT substrate 110 is transmitted to the common electrode 123 via the transfer electrode and the transfer material. Since the transfer material can be substituted by mixing conductive particles or the like in the seal pattern 2, it can be omitted. Also in this embodiment, after using the seal pattern 2 in which conductive particles or the like are mixed, the seal pattern 2 and the common electrode 123 and the transfer electrode and the seal pattern 2 are in contact with each other. The electrode and the common electrode 123 are electrically connected via the seal pattern 2.

この他に、液晶パネル１０は、駆動信号を発生する制御基板１３５と、制御基板１３５を信号端子１１８に電気的に接続するＦＦＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ Ｆｌａｔ Ｃａｂｌｅ）１３５と、光源となるバックライトユニット（通常は、表示面となるＣＦ基板１２０側とは反対側であるＴＦＴ基板１１０の外側に対向して配置されるが、ここでは図示せず）などを備えている。これらの部材とともに表示面となる表示領域１００におけるＣＦ基板１２０の外側の部分が開放された筐体（フロントフレーム１：図１参照）の中に収容され、本実施の形態の液晶表示装置が構成される。   In addition, the liquid crystal panel 10 includes a control board 135 that generates a drive signal, an FFC (Flexible Flat Cable) 135 that electrically connects the control board 135 to the signal terminal 118, and a backlight unit (usually a light source). , Which is disposed to face the outside of the TFT substrate 110 which is the opposite side of the CF substrate 120 serving as a display surface, but is not shown here. The liquid crystal display device of the present embodiment is configured with these members housed in a housing (front frame 1: see FIG. 1) in which the outer portion of the CF substrate 120 in the display area 100 serving as a display surface is opened. Is done.

なお、フロントフレーム１の表示領域１００に対応して設けられる開口１ａの特に液晶パネル１０上に重なって配置されるフロントフレーム１の端部については、上記で詳細に説明したとおり、表示領域１００の外形端に対して、少し外側の周辺部に配置されることになり、表示領域１００と、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端との間、すなわち、額縁領域１０１において、特に表示領域１００の周辺部に位置することになる。   In addition, as described in detail above, the end portion of the front frame 1 that is disposed so as to overlap the liquid crystal panel 10 of the opening 1a provided corresponding to the display region 100 of the front frame 1 is described in detail. The outer peripheral edge is arranged at a slightly outer peripheral portion, and between the display region 100 and the ends of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110, that is, in the frame region 101, particularly in the periphery of the display region 100. Will be located in the section.

以上説明を行った液晶表示装置を構成する液晶パネル１０は、次のように動作する。例えば、制御基板１３５から電気信号が入力されると、画素電極１１３および共通電極１２３に駆動電圧が加わり、駆動電圧に合わせて液晶層１３０における液晶分子の方向が変わる。そして、バックライトユニットの発する光が、ＴＦＴ基板１１０、液晶層１３０およびＣＦ基板１２０を介して、各画素単位で観察者側に透過または遮断されることによって、液晶パネル１０の表示領域１００に映像などが表示される。   The liquid crystal panel 10 constituting the liquid crystal display device described above operates as follows. For example, when an electrical signal is input from the control substrate 135, a driving voltage is applied to the pixel electrode 113 and the common electrode 123, and the direction of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 130 changes according to the driving voltage. Then, light emitted from the backlight unit is transmitted or blocked to the viewer side in units of each pixel through the TFT substrate 110, the liquid crystal layer 130, and the CF substrate 120, whereby an image is displayed on the display region 100 of the liquid crystal panel 10. Etc. are displayed.

（液晶パネルの製造工程）
次に、液晶表示装置を構成する液晶パネル１０の製造方法の全体の流れについて説明する。ここでは、液晶パネル１０の組み立て工程の概要について、図７のフローチャートを用いて説明を行うことにする。図７は、液晶パネル１０の組み立て工程を示すフローチャートである。 (Liquid crystal panel manufacturing process)
Next, an overall flow of the manufacturing method of the liquid crystal panel 10 constituting the liquid crystal display device will be described. Here, the outline of the assembly process of the liquid crystal panel 10 will be described using the flowchart of FIG. FIG. 7 is a flowchart showing an assembly process of the liquid crystal panel 10.

先ず、基板準備工程において、互いに貼り合わされる前のＴＦＴ基板１１０を取り出すマザーＴＦＴ基板と、ＣＦ基板１２０を取り出すマザーＣＦ基板を準備する（ステップＳ１）。液晶パネルの薄型化または軽量化のために、厚み０．５ｍｍ以下程度までＴＦＴ基板１１０とＣＦ基板１２０を薄型化加工する場合もあるが、その場合にも、以降の工程の実施が容易となるように、途中までは、厚み０．５〜１．５ｍｍ程度のガラスによって構成されるマザーＴＦＴ基板とマザーＣＦ基板を用いて製造される。本実施の形態では、最終的なＴＦＴ基板１１０とＣＦ基板１２０の厚みは０．７ｍｍ程度としており、薄型化加工も省略できることから、ここでは、マザーＴＦＴ基板とマザーＣＦ基板の両者ともに厚み０．７ｍｍのガラスによって構成される基板として準備される。   First, in the substrate preparation process, a mother TFT substrate for taking out the TFT substrate 110 before being bonded together and a mother CF substrate for taking out the CF substrate 120 are prepared (step S1). In order to reduce the thickness or weight of the liquid crystal panel, the TFT substrate 110 and the CF substrate 120 may be thinned to a thickness of about 0.5 mm or less. In this case, the subsequent steps can be easily performed. Thus, it is manufactured to the middle using a mother TFT substrate and a mother CF substrate made of glass having a thickness of about 0.5 to 1.5 mm. In this embodiment, the final TFT substrate 110 and the CF substrate 120 have a thickness of about 0.7 mm, and the thinning process can be omitted. Therefore, here, both the mother TFT substrate and the mother CF substrate have a thickness of 0. Prepared as a substrate made of 7 mm glass.

マザーＴＦＴ基板とマザーＣＦ基板の製造方法については、一般的な方法を用いて製造できるため、簡単に説明する。先ず、マザーＴＦＴ基板については、公知の製造方法を利用して、ガラス基板１１１の一方の面に、成膜、フォトリソグラフィー法によるパターンニング、およびエッチング等のパターン形成工程を繰り返し用いて、ＴＦＴ１１４と画素電極１１３、ゲート配線１１６とソース配線１１７、周辺配線１１９などの配線層、信号端子１１８、およびトランスファ電極を形成することで製造される。   The manufacturing method of the mother TFT substrate and the mother CF substrate can be manufactured using a general method, and will be briefly described. First, with respect to the mother TFT substrate, the TFT 114 and the TFT 114 are formed by repeatedly using a pattern forming process such as film formation, patterning by photolithography, and etching on one surface of the glass substrate 111 using a known manufacturing method. It is manufactured by forming a pixel electrode 113, a wiring layer such as a gate wiring 116 and a source wiring 117, a peripheral wiring 119, a signal terminal 118, and a transfer electrode.

また、マザーＣＦ基板は、ガラス基板１２１の一方の面に、同様に、成膜からパターン形成工程を繰り返し用いて、カラーフィルタ１２４、ＢＭ１２５、共通電極１２３、有機樹脂膜をパターニングして形成された柱状スペーサ１３４、および先に説明した柱状スペーサ１３４と同一材料により形成される切断補助パターン４が形成されることで製造することができる。   Similarly, the mother CF substrate was formed on one surface of the glass substrate 121 by patterning the color filter 124, the BM 125, the common electrode 123, and the organic resin film by repeatedly using the pattern formation process from film formation. It can be manufactured by forming the columnar spacer 134 and the auxiliary cutting pattern 4 formed of the same material as the columnar spacer 134 described above.

柱状スペーサ１３４と切断補助パターン４は、一般的な柱状スペーサの形成方法である感光性樹脂膜の塗布とパターニングによって形成され、具体的には、同じ感光性樹脂膜の塗布工程と同じパターニング工程を経て形成するとよい。また、切断補助パターン４は、以後に実施されるセル分断工程（ステップＳ８）でスクライブラインが形成される位置において、切断補助パターン４のパターン形状、つまり、ＣＦ基板１２０の端に沿って、特に、後に形成されるジグザグ形状のシールパターン２がＣＦ基板１２０の端（切断前の状態であれば、スクライブラインが形成される位置）から離れた配置される予定の部分に形成される。   The columnar spacer 134 and the cutting assist pattern 4 are formed by application and patterning of a photosensitive resin film, which is a general method for forming a columnar spacer. Specifically, the same patterning process as the application process of the same photosensitive resin film is performed. It is good to form through. Further, the cutting assistance pattern 4 is formed along the pattern shape of the cutting assistance pattern 4, that is, along the edge of the CF substrate 120 at the position where the scribe line is formed in the cell dividing step (step S 8) to be performed later. Then, the zigzag seal pattern 2 to be formed later is formed in a portion to be arranged away from the end of the CF substrate 120 (in the state before cutting, a position where a scribe line is formed).

続いて、基板洗浄工程において、上記の説明のように準備されたマザーＴＦＴ基板を洗浄する（ステップＳ２）。次に、配向膜材料塗布工程において、マザーＴＦＴ基板の一方の面に、配向膜材料を塗布形成する（ステップＳ３）。この工程は、例えば、印刷法によって有機膜からなる配向膜材料を塗布し、ホットプレートなどによって焼成処理し乾燥させる。その後、配向処理工程において、配向膜材料にラビングを行い、配向膜材料の表面を配向処理し配向膜１１２とする（ステップＳ４）。なお、ラビングの代わりに、その他公知の配向処理を行って配向膜１１２を形成してもよい。   Subsequently, in the substrate cleaning process, the mother TFT substrate prepared as described above is cleaned (step S2). Next, in the alignment film material application process, an alignment film material is applied and formed on one surface of the mother TFT substrate (step S3). In this step, for example, an alignment film material made of an organic film is applied by a printing method, and is baked and dried by a hot plate or the like. Thereafter, in the alignment treatment step, the alignment film material is rubbed, and the surface of the alignment film material is subjected to alignment treatment to form the alignment film 112 (step S4). Note that the alignment film 112 may be formed by performing other known alignment treatments instead of rubbing.

また、ステップＳ２からステップＳ４と同様に、マザーＣＦ基板についても、洗浄、配向膜材料の塗布およびラビング等の配向処理を行うことによって配向膜１２２を形成する。続いて、シール剤塗布工程において、シールディスペンサ装置によって、ペースト状態のシール剤を吐出するディスペンサノズルを所定のシールパターン形状に合わせて移動させてマザーＴＦＴ基板またはマザーＣＦ基板の一方の面にシール剤の塗布を行い、最終的に表示領域１００を囲う形状のシールパターン２を形成する（ステップＳ５）。   Similarly to steps S2 to S4, the alignment film 122 is also formed on the mother CF substrate by performing an alignment process such as cleaning, applying an alignment film material, and rubbing. Subsequently, in the sealant application process, the sealant dispenser that discharges the paste sealant is moved in accordance with a predetermined seal pattern shape by the seal dispenser device, and the sealant is applied to one surface of the mother TFT substrate or the mother CF substrate. The seal pattern 2 having a shape that finally surrounds the display area 100 is formed (step S5).

本実施の形態では、液晶パネルの全体構成の説明部分で述べたとおり、シールパターン２に基板間導通機能を持たせることから、導電性粒子を混在させたシール剤を塗布している。また、額縁領域１０１における相対的に広い幅を有する辺に形成されるシールパターン２は、ディスペンサノズルの動作を表示領域１００と、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端となる位置（スクライブラインが形成される位置）に交互に近接するようなジグザグ動作させて、図６を用いて説明したジグザグ形状を有するシールパターン２を形成する。   In the present embodiment, as described in the explanation part of the entire configuration of the liquid crystal panel, the sealing pattern 2 is provided with a conductive function between the substrates, so that a sealing agent mixed with conductive particles is applied. In addition, the seal pattern 2 formed on the side having a relatively wide width in the frame region 101 is a position where the operation of the dispenser nozzle becomes the end of the display region 100, the CF substrate 120, and the TFT substrate 110 (a scribe line is formed). The seal pattern 2 having the zigzag shape described with reference to FIG. 6 is formed by performing the zigzag operation so as to be alternately close to the position).

続いて、基板貼り合わせ工程において、マザーＴＦＴ基板およびマザーＣＦ基板を貼り合わせてセル基板を形成する（ステップＳ６）。続いて、シール剤硬化工程において、マザーＴＦＴ基板とマザーＣＦ基板を貼り合わせた状態で、シールパターン２を構成するシール剤を完全に硬化させる（ステップＳ７）。この工程は、例えば、シール剤の材質に合わせて熱を加えること、または紫外線を照射することで行われる。なお、本実施の形態では特に行っていないが、マザーＴＦＴ基板およびマザーＣＦ基板を薄型化する際には、マザーＴＦＴ基板とマザーＣＦ基板の周辺部に対し薬液がマザー基板間に入ることを防止する周辺封止を実施したうえで、上記のステップＳ７の工程後に貼り合わされたマザーＴＦＴ基板とマザーＣＦ基板全体を薬液中に浸漬して、マザーＴＦＴ基板とマザーＣＦ基板の表面を削り薄型化するとよい。   Subsequently, in the substrate bonding step, the mother TFT substrate and the mother CF substrate are bonded together to form a cell substrate (step S6). Subsequently, in the sealant curing step, the sealant constituting the seal pattern 2 is completely cured with the mother TFT substrate and the mother CF substrate bonded together (step S7). This step is performed, for example, by applying heat according to the material of the sealing agent or by irradiating ultraviolet rays. Although not particularly performed in the present embodiment, when the mother TFT substrate and the mother CF substrate are thinned, the chemical liquid is prevented from entering between the mother substrates with respect to the peripheral portion of the mother TFT substrate and the mother CF substrate. After the peripheral sealing is performed, the entire surface of the mother TFT substrate and the mother CF substrate is shaved and thinned by immersing the entire mother TFT substrate and the mother CF substrate bonded together after the step S7 in the chemical solution. Good.

続いて、セル分断工程において、貼り合わせたマザーＴＦＴ基板およびマザーＣＦ基板を分断し、多数の個別セルに分断する（ステップＳ８）。この工程は、スクライブ工程において、ガラス基板の表面に切断の起点となるスクライブラインを形成した後、このスクライブラインの周辺部に応力を印加することで分断が行われ、多数の個別セルの状態となる。   Subsequently, in the cell dividing step, the bonded mother TFT substrate and mother CF substrate are divided into a number of individual cells (step S8). In this process, in the scribing process, after forming a scribe line as a starting point of cutting on the surface of the glass substrate, the cutting is performed by applying stress to the periphery of the scribe line, and the state of many individual cells Become.

本実施の形態においては、特にシールパターン２がジグザグ形状に形成されていることと、切断補助パターン４が配置されていることによって、スクライブラインの周辺部にシールパターン２と切断補助パターン４の何れかが配置されている。これらによってマザー基板が裏面で保持された状態で、スクライブライン上において、スクライブ処理がされることになり、安定して比較的均一な深さの切断傷が形成されることで、一層大きな切断不良の抑制効果が得られることになる。   In this embodiment, in particular, the seal pattern 2 is formed in a zigzag shape, and the cutting assist pattern 4 is arranged, so that any of the seal pattern 2 and the cutting assist pattern 4 is provided around the scribe line. Is arranged. As a result, a scribing process is performed on the scribe line while the mother substrate is held on the back surface, and a cut with a relatively uniform depth is stably formed, resulting in a larger cutting defect. In this way, the suppression effect is obtained.

続いて、液晶注入工程において、個別セルの注入口１３ａから液晶を注入する（ステップＳ９）。この工程は、例えば、真空注入プロセスによって、真空状態とされた真空注入装置内において、個別セルの注入口１３ａを液晶材料に接触させた状態で、徐々に装置内を大気圧とする。これにより、真空状態となったセル内に注入口１３ａから液晶材料が注入、つまり、充填されることで行われる。本実施の形態においては、ジグザグ形状のシールパターン２の内側の領域にまで、液晶材料が満たされることになるが、これらの領域についても、特に狭い部分を経ることもなく表示領域１００などの液晶材料が満たされる領域とつながっていることから、特に障害なく液晶材料を注入することができる。   Subsequently, in the liquid crystal injection process, liquid crystal is injected from the injection port 13a of the individual cell (step S9). In this step, for example, in the vacuum injection apparatus that has been brought into a vacuum state by a vacuum injection process, the pressure in the apparatus is gradually changed to atmospheric pressure in a state where the inlet 13a of the individual cell is in contact with the liquid crystal material. Thus, the liquid crystal material is injected from the injection port 13a into the cell in a vacuum state, that is, filled. In the present embodiment, the liquid crystal material is filled up to the inner region of the zigzag-shaped seal pattern 2, and these regions also have a liquid crystal such as the display region 100 without passing through a particularly narrow portion. Since it is connected to the region where the material is filled, the liquid crystal material can be injected without any particular obstacle.

続いて、注入口封止工程において、注入口１３ａを封止する（ステップＳ１０）。この工程は、例えば、注入口１３ａを光硬化型樹脂で封じ、光を照射することにより行われる。以上の工程によって、個別セル内に液晶材料が封入されることになる。   Subsequently, in the inlet sealing step, the inlet 13a is sealed (step S10). This step is performed, for example, by sealing the injection port 13a with a photocurable resin and irradiating light. Through the above steps, the liquid crystal material is sealed in the individual cells.

このように個々の液晶パネル１０の形状に分断され、液晶材料が充填されて封止された後、液晶材料が封入された状態の個別セル基板に対して、先ず、偏光板貼り付け工程が行われる。偏光板貼り付け工程において、ＴＦＴ基板１１０およびＣＦ基板１２０のそれぞれのセル基板外側の表面に偏光板１３１および偏光板１３２を貼り付ける（ステップＳ１１）。次に、制御基板実装工程において、制御基板１３５を実装する（ステップＳ１２）ことで、液晶パネル１０が完成する。さらに、液晶パネル１０の反視認側となるＴＦＴ基板１１０の裏面側に位相差板などの光学フィルムを介して、バックライトユニットを配設し、樹脂または金属などからなるフロントフレーム１（図１参照）内に、液晶パネル１０およびこれら周辺部材を適宜収容することで、本実施の形態に係る液晶表示装置が完成する。   After being divided into individual liquid crystal panel 10 shapes, filled with a liquid crystal material and sealed, first, a polarizing plate attaching step is performed on the individual cell substrate in which the liquid crystal material is sealed. Is called. In the polarizing plate attaching step, the polarizing plate 131 and the polarizing plate 132 are attached to the outer surfaces of the cell substrates of the TFT substrate 110 and the CF substrate 120 (step S11). Next, in the control board mounting process, the liquid crystal panel 10 is completed by mounting the control board 135 (step S12). Further, a backlight unit is disposed on the back side of the TFT substrate 110 on the opposite side of the liquid crystal panel 10 via an optical film such as a retardation plate, and a front frame 1 made of resin or metal (see FIG. 1). The liquid crystal display device according to the present embodiment is completed by appropriately housing the liquid crystal panel 10 and these peripheral members.

次に、実施の形態に係る液晶表示装置から得られる効果について、前提技術に係る液晶表示装置の場合と対比しながら説明する。図８は、前提技術に係る液晶表示装置のシールパターン５２の一例を示す図である。   Next, effects obtained from the liquid crystal display device according to the embodiment will be described in comparison with the case of the liquid crystal display device according to the base technology. FIG. 8 is a diagram illustrating an example of the seal pattern 52 of the liquid crystal display device according to the base technology.

図８に示すように、前提技術に係る液晶表示装置を構成する液晶パネル５０において、シールパターン５２は、額縁領域１０１の４つの辺に対して直線状に形成されている。すなわち、シールパターン５２は、額縁領域１０１における相対的に広い幅を有する辺に対しても、直線状に一重に形成されている。   As shown in FIG. 8, in the liquid crystal panel 50 constituting the liquid crystal display device according to the base technology, the seal pattern 52 is formed linearly with respect to the four sides of the frame region 101. That is, the seal pattern 52 is also formed in a straight line with respect to the side having a relatively wide width in the frame region 101.

このため、シールパターン５２を表示領域１００の周辺部に配置し、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端から距離をあけると切断不良を生じ易くなる。逆に、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端の周辺部にシールパターン５２を配置すると、シールパターン５２と表示領域１００との間にセルギャップ保持の弱くなる領域が比較的広く形成されることになり、この領域でギャップ不良が発生し易くなるという問題があった。   For this reason, if the seal pattern 52 is disposed in the peripheral portion of the display region 100 and is spaced from the ends of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110, a cutting defect is likely to occur. On the contrary, when the seal pattern 52 is disposed around the ends of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110, a region where the cell gap retention is weakened is formed between the seal pattern 52 and the display region 100. Therefore, there is a problem that gap defects are likely to occur in this region.

これに対して、実施の形態に係る液晶表示装置は、図１に示すように、互いに対向する一対のＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０を備え、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０には、平面視において、表示領域１００と、表示領域１００とＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端との間の額縁領域１０１とが規定され、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の間において、表示領域１００を囲むように配置されるシールパターン２をさらに備え、シールパターン２は、平面視で、表示領域１００の周辺部と、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端の周辺部に跨って、かつ両周辺部の間に空隙領域１０１ｂを形成しつつ、連続的に形成される。   In contrast, as shown in FIG. 1, the liquid crystal display device according to the embodiment includes a pair of CF substrate 120 and TFT substrate 110 facing each other, and the CF substrate 120 and TFT substrate 110 have a plan view. The display region 100 and the frame region 101 between the display region 100 and the ends of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110 are defined, and are arranged so as to surround the display region 100 between the CF substrate 120 and the TFT substrate 110. The seal pattern 2 is further provided, and the seal pattern 2 spans the peripheral portion of the display area 100 and the peripheral portions of the ends of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110 in a plan view, and between the peripheral portions. It forms continuously, forming the area | region 101b.

一般に液晶表示装置においては、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の前面側にフロントフレーム１が配置され、フロントフレーム１の端部がＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の額縁領域１０１に位置する。シールパターン２は、平面視で、表示領域の周辺部と、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端の周辺部に跨って、かつ両周辺部の間に空隙領域１０１ｂを形成しつつ、連続的に形成されるため、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０において、フロントフレーム１の端部に対応する領域はシールパターン２によって保持され、広い額縁領域（額縁領域１０１における相対的に広い幅を有する辺）が規定される場合にも、パドリングおよび、ＣＦ基板１２０とＴＦＴ基板１１０との間のギャップ不良の発生を抑制できる。これにより、液晶表示装置の歩留まり向上を図ることが可能となる。   In general, in the liquid crystal display device, the front frame 1 is disposed on the front side of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110, and the end of the front frame 1 is located in the frame region 101 of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110. The seal pattern 2 is continuously formed in a plan view across the peripheral portion of the display region and the peripheral portions of the ends of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110 while forming the gap region 101b between the peripheral portions. Therefore, in the CF substrate 120 and the TFT substrate 110, the region corresponding to the end portion of the front frame 1 is held by the seal pattern 2, and a wide frame region (a side having a relatively wide width in the frame region 101) is formed. Even when prescribed, it is possible to suppress puddling and occurrence of a gap defect between the CF substrate 120 and the TFT substrate 110. As a result, the yield of the liquid crystal display device can be improved.

また、ダミーシールの追加などの新たな工程を追加する必要がないことから、製造コストの増加を抑制できる。さらに、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端の周辺部にキャップ材の混入されたシールパターン２が配置されていることから、基板切断時のスクライブ処理(切断の起点となる切断傷の形成処理)の際に、切断ラインの周辺部となるＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端の周辺部を裏面側から保持できる。これにより、所望のスクライブ処理を行うことができるため、切断不良の増加を抑制できる。   Moreover, since it is not necessary to add a new process such as addition of a dummy seal, an increase in manufacturing cost can be suppressed. Further, since the seal pattern 2 mixed with the cap material is disposed in the peripheral portion of the ends of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110, a scribing process at the time of cutting the substrate (a process for forming a cut flaw as a starting point of cutting) At this time, the peripheral portions at the ends of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110 which are peripheral portions of the cutting line can be held from the back surface side. Thereby, since a desired scribe process can be performed, the increase in cutting failure can be suppressed.

シールパターン２の空隙領域１０１ｂは、外部に開放された開口部３を備えるため、液晶パネル１０の製造時に空気の逃し口として機能し、液晶パネル１０に対して無用な力が加わることを抑制できる。   Since the gap region 101b of the seal pattern 2 includes the opening 3 opened to the outside, it functions as an air outlet when the liquid crystal panel 10 is manufactured, and it is possible to suppress unnecessary force from being applied to the liquid crystal panel 10. .

ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の表面側に配置され、かつ、表示領域１００に対応する開口１ａを有するフロントフレーム１をさらに備え、シールパターン２は、フロントフレーム１の端部を跨いで、表示領域１００と、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端に交互に近接するジグザグ形状に形成される。   The front frame 1 is further provided with an opening 1a that is disposed on the front surface side of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110 and that corresponds to the display region 100. The seal pattern 2 straddles the end of the front frame 1 and extends to the display region. 100 and a zigzag shape alternately adjacent to the ends of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110.

したがって、液晶領域１０１ａと空隙領域１０１ｂが混在する構造を滴下注入方式で形成することが可能であり、真空注入方式で形成することも可能である。また、額縁領域１０１が細かく分割されることから共振などを生じにくく、パドリングの抑制効果が大きい。   Therefore, a structure in which the liquid crystal region 101a and the gap region 101b are mixed can be formed by a dropping injection method, and can also be formed by a vacuum injection method. Further, since the frame region 101 is finely divided, resonance and the like are hardly generated, and the effect of suppressing paddling is great.

液晶表示装置は、開口部３に配置される切断補助パターン４をさらに備えるため、シールパターン２がＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端から離れた部分において、切断補助パターン４はＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０を裏面側から保持する。これにより、スクライブ処理において、安定して比較的均一な深さの切断傷が形成されるため、切断不良の抑制効果が一層大きくなる。   Since the liquid crystal display device further includes a cutting assist pattern 4 disposed in the opening 3, the cutting assist pattern 4 is formed in the CF substrate 120 and the TFT at portions where the seal pattern 2 is separated from the ends of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110. The substrate 110 is held from the back side. As a result, in the scribing process, cutting flaws having a stable and relatively uniform depth are formed, and the effect of suppressing cutting defects is further increased.

図６に示すように、ＣＦ基板１２０とＴＦＴ基板１１０との間の距離を一定範囲に保持する柱状スペーサ１３４をさらに備え、切断補助パターン４は柱状スペーサ１３４と同時に形成されるため、切断補助パターン４について、公知の柱状スペーサ１３４の一般的な形成方法を用いることができ、容易に形成することが可能である。   As shown in FIG. 6, it further includes a columnar spacer 134 that keeps the distance between the CF substrate 120 and the TFT substrate 110 within a certain range, and the cutting assist pattern 4 is formed simultaneously with the columnar spacer 134. As for No. 4, a known method for forming the columnar spacer 134 can be used, and it can be easily formed.

図２に示すように、開口部３は、入口を窄めた形状に形成されるため、シールパターン２においてＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端から離れた部分自体を減らすことができる。これにより、スクライブ処理において、安定して比較的均一な深さの切断傷が形成されるため、切断不良の抑制効果が一層大きくなる。   As shown in FIG. 2, since the opening 3 is formed in a shape with a narrowed entrance, the portion of the seal pattern 2 that is away from the ends of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110 can be reduced. As a result, in the scribing process, cutting flaws having a stable and relatively uniform depth are formed, and the effect of suppressing cutting defects is further increased.

図３と図４に示すように、額縁領域１０１は、自身を構成する４つの辺のうち相対的に広い幅を有する辺を備え、シールパターン２は、額縁領域１０１における相対的に広い幅を有する辺に対し、表示領域１００の周辺部に配置される第１シールパターン５と、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端の周辺部に配置される第２シールパターン６とを備える。   As shown in FIG. 3 and FIG. 4, the frame region 101 includes a side having a relatively wide width among the four sides constituting the frame region 101, and the seal pattern 2 has a relatively wide width in the frame region 101. The first seal pattern 5 disposed in the peripheral portion of the display area 100 and the second seal pattern 6 disposed in the peripheral portion at the ends of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110 are provided with respect to the side having the same.

したがって、額縁領域１０１における相対的に広い幅を有する辺に対し、ＣＦ基板１２０およびＴＦＴ基板１１０の端に沿って連続的にシールパターン２が配置されるため、図１の場合と比較して切断不良の抑制効果が一層大きくなる。   Therefore, since the seal pattern 2 is continuously arranged along the edges of the CF substrate 120 and the TFT substrate 110 with respect to the side having a relatively wide width in the frame region 101, cutting is performed as compared with the case of FIG. The effect of suppressing defects is further increased.

なお、本発明は、その発明の範囲内において、実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。   In the present invention, the embodiments can be appropriately modified and omitted within the scope of the invention.

１ フロントフレーム、１ａ 開口、２ シールパターン、３ 開口部、４ 切断補助パターン、５ 第１シールパターン、６ 第２シールパターン、１００ 表示領域、１０１ 額縁領域、１０１ｂ 空隙領域、１１０ ＴＦＴ基板、１２０ ＣＦ基板、１３４ 柱状スペーサ。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Front frame, 1a opening, 2 seal pattern, 3 opening part, 4 cutting assistance pattern, 5 1st seal pattern, 6 2nd seal pattern, 100 display area, 101 frame area, 101b space | gap area, 110 TFT substrate, 120 CF Substrate, 134 Columnar spacer.

Claims (7)

互いに対向する一対の基板を備え、
前記一対の基板には、平面視において、
表示領域と、
前記表示領域と前記一対の基板の端との間の額縁領域とが規定され、
前記一対の基板の間において、前記表示領域を囲むように配置されるシールパターンをさらに備え、
前記シールパターンは、平面視で、前記表示領域の周辺部と、前記一対の基板の端の周辺部とに跨って、かつ前記両周辺部の間に空隙を形成しつつ、連続的に形成される、液晶表示装置。 A pair of substrates facing each other,
In the pair of substrates, in plan view,
A display area;
A frame area between the display area and the end of the pair of substrates is defined,
A seal pattern disposed between the pair of substrates so as to surround the display area;
The seal pattern is continuously formed in a plan view, straddling the peripheral portion of the display area and the peripheral portions of the ends of the pair of substrates, and forming a gap between the peripheral portions. A liquid crystal display device. 前記シールパターンの前記空隙は、外部に開放された開口部を備える、請求項１記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the gap of the seal pattern includes an opening opened to the outside. 前記一対の基板の表面側に配置され、かつ、前記表示領域に対応する開口を有するフロントフレームをさらに備え、
前記シールパターンは、前記フロントフレームの端部を跨いで、前記表示領域と前記一対の基板の端に交互に近接するジグザグ形状に形成される、請求項１記載の液晶表示装置。 A front frame disposed on the surface side of the pair of substrates and having an opening corresponding to the display area;
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the seal pattern is formed in a zigzag shape alternately across the display region and the ends of the pair of substrates across an end portion of the front frame. 前記液晶表示装置は、前記開口部に配置される切断補助パターンをさらに備える、請求項２記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 2, further comprising a cutting assist pattern disposed in the opening. 前記一対の基板間の距離を一定範囲に保持するスペーサ材をさらに備え、
前記切断補助パターンは前記スペーサ材と同時に形成される、請求項４記載の液晶表示装置。 A spacer material for maintaining a distance between the pair of substrates in a certain range;
The liquid crystal display device according to claim 4, wherein the cutting assist pattern is formed simultaneously with the spacer material. 前記開口部は、入口を窄めた形状に形成される、請求項２記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 2, wherein the opening is formed in a shape with a narrowed entrance. 前記額縁領域は、自身を構成する４つの辺のうち相対的に広い幅を有する辺を備え、
前記シールパターンは、前記額縁領域における相対的に広い幅を有する辺に対し、前記表示領域の周辺部に配置される第１シールパターンと、前記一対の基板の端の周辺部に配置される第２シールパターンとを備える、請求項１記載の液晶表示装置。 The frame region includes a side having a relatively wide width among the four sides constituting the frame region,
The seal pattern includes a first seal pattern disposed at a peripheral portion of the display region and a first portion disposed at a peripheral portion of the pair of substrates with respect to a side having a relatively wide width in the frame region. The liquid crystal display device according to claim 1, comprising two seal patterns.
JP2014092513A 2014-04-28 2014-04-28 Liquid crystal display device Pending JP2015210414A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014092513A JP2015210414A (en) 2014-04-28 2014-04-28 Liquid crystal display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014092513A JP2015210414A (en) 2014-04-28 2014-04-28 Liquid crystal display device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2015210414A true JP2015210414A (en) 2015-11-24

Family

ID=54612625

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014092513A Pending JP2015210414A (en) 2014-04-28 2014-04-28 Liquid crystal display device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2015210414A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019117285A (en) * 2017-12-27 2019-07-18 京セラ株式会社 Liquid crystal device
JP7465515B1 (en) 2022-11-21 2024-04-11 三安ジャパンテクノロジー株式会社 Acoustic Wave Devices

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019117285A (en) * 2017-12-27 2019-07-18 京セラ株式会社 Liquid crystal device
JP7465515B1 (en) 2022-11-21 2024-04-11 三安ジャパンテクノロジー株式会社 Acoustic Wave Devices

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6274740B2 (en) Liquid crystal display device and method of manufacturing liquid crystal display device
KR101954979B1 (en) Color filter substrate, Liquid crystal display apparatus and method for fabricating color filter
US20120268708A1 (en) Liquid crystal display and manufacturing method thereof
JP4987422B2 (en) Display device and manufacturing method thereof
WO2016204056A1 (en) Method for manufacturing display device, and display device
KR20080026404A (en) Array substrat, display panel having the same and fabricating of display panel
JP2007328027A (en) Liquid crystal display device and method for manufacturing the same
JP2009109562A (en) Liquid crystal display device
JP5138298B2 (en) LCD panel
JP2015028541A (en) Liquid crystal display element and method for manufacturing the same
WO2008072464A1 (en) Liquid crystal display element
JP2017037211A (en) Liquid crystal panel
JP5073297B2 (en) Liquid crystal display panel and method for manufacturing liquid crystal display panel
JP2009025355A (en) Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
JP5858743B2 (en) Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
JP2015036712A (en) Manufacturing method of liquid crystal display panel
US20200012137A1 (en) Substrate for display device, display device, and method of producing substrate for display device
JP2015210414A (en) Liquid crystal display device
JP2007025066A (en) Manufacturing method for liquid crystal display panel
JP2015036721A (en) Liquid crystal display panel, and manufacturing method of liquid crystal display panel
JP4978248B2 (en) Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
JP2017009770A (en) Liquid crystal display device
JP5184055B2 (en) Cell for liquid crystal display
JP2015025909A (en) Liquid crystal display device
JP2002182242A (en) Method for producing liquid crystal display