JP2008070281A - Charge device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the formation of secondary particles when target particles are ionized while preventing the clustering of the ions formed by an ion forming mechanism. <P>SOLUTION: Flow channels 5 and 7 including a charge part 6 are covered with a heat conductive material 10 and a heating mechanism 12 is further installed outside of the heat conductive material 10. The heat value of the heating mechanism 12 is controlled by a temperature controller 16. The temperature controller 16 controls the heating mechanism 12 so that the temperature of the heat conductive material 10 becomes almost the same to that in the ion forming mechanism while measuring the temperature of the heat conductive material 10 through a thermocouple 14. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、ＤＭＡ（微分型電気移動度測定装置：Differential Mobility Analyzer）、液体クロマトグラフィ又は液体クロマトグラフ‐質量分析計など電気的原理を用いる装置において、粒子の荷電又は帯電物の中和などに用いられる荷電装置に関するものである。   The present invention is used for charge of particles or neutralization of charged substances in an apparatus using an electrical principle such as DMA (Differential Mobility Analyzer), liquid chromatography or liquid chromatograph-mass spectrometer. The charging device.

荷電装置としては、エアロゾル粒子を含むガスが供給されるチャンバー内に向けて軟Ｘ線を放射するＸ線放射部を備え、そのチャンバー内でエアロゾルをイオン化するものが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。   As a charging device, an apparatus that includes an X-ray emission unit that emits soft X-rays into a chamber to which a gas containing aerosol particles is supplied and ionizes the aerosol in the chamber has been proposed (for example, a patent). Reference 1).

また、イオン生成機構として、微小径のイオン噴射口が設けられ、内部で生成したイオンをイオン噴射口から噴射させる構造のものが提案されている（例えば、特許文献２参照。）。
特開２００４−５３２９８号公報 特開２００２−２５７９１号公報 In addition, as an ion generation mechanism, a structure in which a small-diameter ion injection port is provided and ions generated therein are injected from the ion injection port has been proposed (for example, see Patent Document 2).
JP 2004-53298 A JP 2002-25791 A

特許文献１に示されているような荷電装置はイオンを生成するイオン生成機構と目的粒子を荷電する荷電機構が一体化された構造となっており、目的粒子であるエアロゾル粒子と同時にチャンバー内に存在するガスもイオン化されるため、チャンバー内に自動車の排ガスなど反応性の高い成分を含むガスが導入されてしまうと、目的粒子のイオン化の際に、化学反応によって二次粒子が生成されてしまうという問題がある。   The charging device as shown in Patent Document 1 has a structure in which an ion generation mechanism that generates ions and a charging mechanism that charges target particles are integrated, and the aerosol particles that are target particles are placed in the chamber at the same time. Since the existing gas is also ionized, if a gas containing a highly reactive component such as an automobile exhaust gas is introduced into the chamber, secondary particles are generated due to a chemical reaction when the target particles are ionized. There is a problem.

また、特許文献２に示されているような微小径のイオン噴射口を備えてイオンを噴射させるイオン生成機構では、高圧条件下のイオン生成機構内から大気圧下に噴霧されたイオンは急激な圧力変化による断熱膨張によって温度が急激に低下してクラスター化することが考えられる。そのため、目的粒子以外の目的荷電粒子よりも大きな粒子が生成される可能性があり、目的粒子の粒子径を測定する場合などには、正確な測定が行なえないという問題が起こる。   Further, in an ion generation mechanism that has a small-diameter ion injection port as shown in Patent Document 2 and ejects ions, ions sprayed from the ion generation mechanism under high pressure conditions to atmospheric pressure are abrupt. It is conceivable that the temperature abruptly decreases due to adiabatic expansion due to the pressure change and clustered. Therefore, there is a possibility that particles larger than the target charged particles other than the target particles may be generated. When measuring the particle diameter of the target particles, there is a problem that accurate measurement cannot be performed.

そこで本発明は、目的粒子のイオン化の際に二次粒子が生成されることを防止するとともに、イオン生成機構で生成されたイオンのクラスター化を防止することを目的とするものである。   In view of the above, an object of the present invention is to prevent secondary particles from being generated during ionization of target particles and to prevent clustering of ions generated by an ion generation mechanism.

本発明に係る荷電装置の第１局面は、イオンを生成するためのイオン生成機構と、イオン生成機構で生成されたイオンを導入するためのイオン導入部、荷電対象粒子を含むガスを導入するための荷電対象粒子導入部、イオン導入部から導入されたイオンにより荷電対象粒子導入部から導入された荷電対象粒子を荷電する荷電部、及び荷電部で生成された荷電粒子を含むガスを排出するための排出部を備えた熱伝導性材料からなる荷電機構と、荷電機構の温度を調節するための温調機構と、を備えていることを特徴とするものである。   A first aspect of the charging device according to the present invention is to introduce an ion generation mechanism for generating ions, an ion introduction unit for introducing ions generated by the ion generation mechanism, and a gas containing charged target particles. In order to discharge a gas containing charged particles generated in the charging unit, and a charged unit that charges the charged target particle introduced from the charged target particle introducing unit by ions introduced from the ion introducing unit And a temperature control mechanism for adjusting the temperature of the charging mechanism. The charging mechanism is made of a heat conductive material.

荷電機構とイオン生成機構は同温度であることが好ましい。   The charging mechanism and the ion generation mechanism are preferably at the same temperature.

荷電部はイオン導入部と排出部の間に設けられており、イオン導入部から排出部までが均一な流路幅をもつ一本の流路で構成されていてもよい。   The charging unit is provided between the ion introduction unit and the discharge unit, and the ion introduction unit to the discharge unit may be configured by a single channel having a uniform channel width.

本発明に係る荷電装置の第２局面は、イオンを生成するためのイオン生成機構と、熱伝導性材料からなり、イオン生成機構で生成されたイオンを導入するためのイオン導入部、荷電対象粒子を含むガスを導入するための荷電対象粒子導入部、イオン導入部から導入されたイオンにより荷電対象粒子導入部から導入された荷電対象粒子を荷電する荷電部、及び荷電部で生成された荷電粒子を含むガスを排出するための排出部を備え、荷電部がイオン導入部と排出部の間に設けられて、イオン導入部から排出部までが均一な流路幅をもつ一本の流路で構成されている荷電機構と、を備えているものである。   A second aspect of the charging device according to the present invention includes an ion generation mechanism for generating ions, an ion introduction unit for introducing ions generated by the ion generation mechanism, and particles to be charged. Charged particle introduction unit for introducing a gas containing gas, a charged unit for charging a charged target particle introduced from the charged target particle introduction unit by ions introduced from the ion introduction unit, and a charged particle generated in the charging unit A discharge section for discharging a gas containing gas, a charging section is provided between the ion introduction section and the discharge section, and a single flow path having a uniform flow path width from the ion introduction section to the discharge section. And a charging mechanism that is configured.

本発明に係る荷電装置の第３局面は、イオンを生成するためのイオン生成機構と、イオン生成機構で生成されたイオンを導入するためのイオン導入部、荷電対象粒子を含むガスを導入するための荷電対象粒子導入部、イオン導入部から導入されたイオンにより荷電対象粒子導入部から導入された荷電対象粒子を荷電する荷電部、及び荷電部で生成された荷電粒子を含むガスを排出するための排出部を備えた熱伝導性材料からなる荷電機構と、を備え、イオン生成機構と前記荷電機構は熱伝導性材料で構成され、互いに接触しているものである。   A third aspect of the charging device according to the present invention is to introduce an ion generation mechanism for generating ions, an ion introduction unit for introducing ions generated by the ion generation mechanism, and a gas containing charged target particles. In order to discharge a gas containing charged particles generated in the charging unit, and a charged unit that charges the charged target particle introduced from the charged target particle introducing unit by ions introduced from the ion introducing unit A charge mechanism made of a heat conductive material having a discharge portion, and the ion generation mechanism and the charge mechanism are made of a heat conductive material and are in contact with each other.

第１局面の荷電装置はイオン生成機構と荷電機構からなり、荷電機構の温度を調節するための温調機構を備えているので、荷電部とイオン生成との温度差が小さくなるように荷電機構の温度を調整でき、イオン生成機構から放出されたイオンが急激な温度変化によってクラスター化して大きくなることを抑制できる。また、イオン生成機構と荷電機構とがそれぞれ独立して設けられているので、イオン生成時に二次粒子が生成されることを防止できる。   The charging device according to the first aspect includes an ion generation mechanism and a charging mechanism, and includes a temperature adjustment mechanism for adjusting the temperature of the charging mechanism, so that the temperature difference between the charging unit and the ion generation is reduced. Thus, the ions released from the ion generation mechanism can be prevented from clustering and increasing due to a rapid temperature change. In addition, since the ion generation mechanism and the charging mechanism are provided independently, secondary particles can be prevented from being generated during ion generation.

荷電機構とイオン生成機構が同温度になっていれば、イオン生成機構から荷電機構に導入されたイオンのクラスター化をさらに防止できる。   If the charging mechanism and the ion generation mechanism are at the same temperature, clustering of ions introduced from the ion generation mechanism to the charging mechanism can be further prevented.

荷電部がイオン導入部と排出部の間に設けられ、イオン導入部から排出部までが均一な流路幅をもつ一本の流路で構成されていれば、イオン導入部から導入されたイオンの急激な膨張を防止できるので、イオンのクラスター化をさらに防止できる。   If the charged part is provided between the ion introducing part and the discharging part and the ion introducing part to the discharging part is configured by a single flow path having a uniform flow path width, the ions introduced from the ion introducing part Since the rapid expansion of the ions can be prevented, ion clustering can be further prevented.

第２局面の荷電装置では、荷電部がイオン導入部と排出部の間に設けられ、イオン導入部から排出部までが均一な流路幅をもつ一本の流路で構成されているので、イオン導入部から導入されたイオンの膨張を防止できるので、イオンのクラスター化を抑制できる。   In the charging device of the second aspect, the charging unit is provided between the ion introduction unit and the discharge unit, and the ion introduction unit to the discharge unit are configured by a single flow channel having a uniform flow channel width. Since the expansion of ions introduced from the ion introduction portion can be prevented, ion clustering can be suppressed.

第３局面の荷電装置は、イオン生成機構と荷電機構との間で熱伝達が行なわれてイオン生成機構と荷電機構との温度差が小さくなるので、イオン生成機構から荷電機構に導入されたイオンが急激な温度変化によってクラスター化して大きくなることを抑制できる。   In the charging device of the third aspect, since heat transfer is performed between the ion generation mechanism and the charging mechanism, a temperature difference between the ion generation mechanism and the charging mechanism becomes small, so that the ions introduced from the ion generation mechanism to the charging mechanism. Can be prevented from becoming clustered due to a rapid temperature change.

図１は本発明に係る荷電装置の一実施例を示す断面図である。
この実施例の荷電装置は、イオンを生成するイオン生成機構１と、イオン生成機構１の下部に取り付けられた荷電機構２とで構成されている。イオン生成機構１は下方に生成イオンを噴出するための微小な開口部からなるイオン噴出部（図示は省略）が設けられており、イオン噴出部から噴出されたイオンが荷電機構２のイオン導入部３から荷電機構２内に導入されるようになっている。 FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a charging apparatus according to the present invention.
The charging device of this embodiment includes an ion generation mechanism 1 that generates ions and a charging mechanism 2 that is attached to the lower part of the ion generation mechanism 1. The ion generating mechanism 1 is provided with an ion ejecting portion (not shown) including a minute opening for ejecting generated ions below, and ions ejected from the ion ejecting portion are ion introducing portions of the charging mechanism 2. 3 is introduced into the charging mechanism 2.

荷電機構２は、上方からイオンを導入するイオン導入部３と下方からガスを排出する排出部８までが均一な径をもつ１本の流路５で構成されている。また、荷電機構２は側方から荷電対象粒子を含むガスを導入するための荷電対象粒子導入部４を備えており、荷電対象粒子導入部４は流路７によって流路５に合流している。流路５と流路７の合流部はイオン生成機構１で生成されたイオンと荷電対象粒子とを衝突させて荷電対象粒子を荷電する荷電部６を構成している。   The charging mechanism 2 is composed of a single flow path 5 having a uniform diameter from an ion introduction part 3 for introducing ions from above and a discharge part 8 for discharging gas from below. In addition, the charging mechanism 2 includes a charge target particle introduction unit 4 for introducing a gas containing charge target particles from the side, and the charge target particle introduction unit 4 is joined to the flow channel 5 by the flow channel 7. . The junction part of the flow path 5 and the flow path 7 constitutes a charging part 6 that charges the charge target particles by colliding the ions generated by the ion generation mechanism 1 with the charge target particles.

荷電部６を含む流路５及び流路７は、例えば銅、真鍮、ステンレスといった金属などの熱伝導性材料１０で覆われており、さらに熱伝導性材料１０の外側に例えばリボンヒータなどの発熱機構１２が設けられている。発熱機構１２の発熱量は温度調整器１６によって制御されている。温度調整器１６は熱電対１４を介して熱伝導性材料１０の温度を測定しながら、熱伝導性材料１０の温度がイオン生成機構内の温度とほぼ同じになるように発熱機構１２を制御するようになっている。発熱機構１２、熱電対１４及び温度調整器１６は荷電部６を含む流路５及び流路７の温度を調整するための温調機構を構成している。   The flow path 5 and the flow path 7 including the charging unit 6 are covered with a heat conductive material 10 such as a metal such as copper, brass, and stainless steel, and heat is generated outside the heat conductive material 10 such as a ribbon heater. A mechanism 12 is provided. The amount of heat generated by the heat generating mechanism 12 is controlled by the temperature regulator 16. The temperature controller 16 measures the temperature of the heat conductive material 10 via the thermocouple 14 and controls the heat generating mechanism 12 so that the temperature of the heat conductive material 10 becomes substantially the same as the temperature in the ion generation mechanism. It is like that. The heat generating mechanism 12, the thermocouple 14, and the temperature adjuster 16 constitute a temperature adjusting mechanism for adjusting the temperatures of the flow path 5 and the flow path 7 including the charging unit 6.

この実施例の荷電装置は、発熱機構１２、熱電対１４及び温度調整器１６からなる温調機構によって、荷電部６を含む流路５及び流路７の温度がイオン生成機構内の温度とほぼ同じになるように調整されるので、イオン生成機構１で生成されて噴出されたイオンが急激に冷却されることがなくなり、イオンがクラスター化して大きくなることを防止できる。さらに、イオン導入部３から排出部８までが均一な径をもつ流路５で構成されており、イオン生成部１から噴出されたイオンが荷電部６において断熱膨張することがないので、イオンのクラスター化をさらに防止できる。   In the charging device of this embodiment, the temperature of the flow path 5 and the flow path 7 including the charging unit 6 is substantially equal to the temperature in the ion generation mechanism by the temperature adjustment mechanism including the heat generation mechanism 12, the thermocouple 14, and the temperature regulator 16. Since they are adjusted to be the same, the ions generated and ejected by the ion generation mechanism 1 are not rapidly cooled, and the ions can be prevented from clustering and becoming larger. Further, the flow path 5 having a uniform diameter is formed from the ion introduction part 3 to the discharge part 8, and the ions ejected from the ion generation part 1 do not adiabatically expand in the charging part 6. Clustering can be further prevented.

この実施例ではイオン導入部３から排出部８までが均一な径をもつ流路５で構成されているが、本発明はこれに限定されるものではなく、荷電部６が温度調節可能な空間として設けられているものであってもよい。その場合、イオン導入部３から導入されたイオンの膨張を防止することはできないが、イオンの温度が急激に低下することを防止できるので、イオンのクラスター化を抑制する効果がある。   In this embodiment, the flow from the ion introduction part 3 to the discharge part 8 is constituted by the flow path 5 having a uniform diameter. However, the present invention is not limited to this, and the space where the temperature of the charging part 6 can be adjusted. It may be provided as. In that case, the expansion of the ions introduced from the ion introduction part 3 cannot be prevented, but since the temperature of the ions can be prevented from rapidly decreasing, there is an effect of suppressing ion clustering.

また、図２に示されるように、イオン導入部３から排出部８までが均一な径をもつ流路５で構成され、発熱機構、熱電対及び温度調整器などの温調機構を備えていないものであってもよい。この場合でも、イオン生成機構１から放出されたイオンが急激に膨張することを防止できるので、イオンのクラスター化を抑制する効果がある。   In addition, as shown in FIG. 2, the ion introduction part 3 to the discharge part 8 are configured by a flow path 5 having a uniform diameter, and are not provided with a temperature control mechanism such as a heat generation mechanism, a thermocouple, or a temperature controller. It may be a thing. Even in this case, since the ions released from the ion generation mechanism 1 can be prevented from expanding rapidly, there is an effect of suppressing ion clustering.

次に、本発明に係る荷電装置の別の実施例を説明する。図３は荷電装置の別の実施例を示す断面図である。
この実施例の荷電装置は、放電芯２４及び対向電極２６を備えたイオン生成機構２０と、イオン生成機構２０の対向電極２６の下面に上面が接した状態で配置された荷電機構３０とを備えている。 Next, another embodiment of the charging device according to the present invention will be described. FIG. 3 is a cross-sectional view showing another embodiment of the charging device.
The charging device of this embodiment includes an ion generation mechanism 20 including a discharge core 24 and a counter electrode 26, and a charging mechanism 30 disposed in a state where the upper surface is in contact with the lower surface of the counter electrode 26 of the ion generation mechanism 20. ing.

イオン生成機構２０はイオンを生成するイオン生成部２１に側方からイオン源ガスを導入するためのイオン源ガス導入部２２が設けられている。イオン生成部２１は、電源２８に電気的に接続された放電芯２４が上部に設けられており、下部に放電芯２４と対をなす電極２６が設けられている。
イオン生成部２１は高温・高圧状態で放電芯２４から電極２６に向けて放電されることで、イオン源ガス導入部２２から導入されたイオン源ガスがイオン化され、イオンがイオン噴出部２８から噴出される。 The ion generation mechanism 20 is provided with an ion source gas introduction unit 22 for introducing an ion source gas from the side into an ion generation unit 21 that generates ions. The ion generator 21 is provided with a discharge core 24 electrically connected to a power supply 28 at the upper part, and an electrode 26 that is paired with the discharge core 24 at a lower part.
The ion generation unit 21 is discharged from the discharge core 24 toward the electrode 26 in a high temperature and high pressure state, whereby the ion source gas introduced from the ion source gas introduction unit 22 is ionized and ions are ejected from the ion ejection unit 28. Is done.

荷電機構３０は中空の例えば銅、真鍮、ステンレスといった金属などの導電性及び熱伝導性の材料からなる筐体４０で構成されている。荷電機構３０の上部にイオンを導入するためのイオン導入部３２が設けられており、側面に側方から荷電対象粒子を含むガスを導入するための荷電対象粒子導入部３８が設けられている。荷電機構３０内部の空間はイオンと荷電対象粒子とを衝突させて荷電対象粒子を荷電する荷電部３６を構成している。荷電機構３０の下部には荷電部３６で荷電された荷電粒子を含むガスを排出するための排出部４２が設けられている。   The charging mechanism 30 includes a hollow housing 40 made of a conductive and heat conductive material such as a hollow metal such as copper, brass, and stainless steel. An ion introduction part 32 for introducing ions is provided above the charging mechanism 30, and a charge target particle introduction part 38 for introducing a gas containing charge target particles from the side is provided on the side surface. The space inside the charging mechanism 30 constitutes a charging unit 36 that charges ions to be charged by colliding ions with the particles to be charged. A discharge unit 42 for discharging a gas containing charged particles charged by the charging unit 36 is provided below the charging mechanism 30.

荷電機構３０は筐体４０の上部４０ａがイオン生成機構２０の対向電極２６と接しており、イオン生成機構２０内部の熱が対向電極２６、筐体４０を介して荷電部３６に伝達されるようになっている。また、筐体４０は接地されており、イオン生成機構２０の放電芯２４から放電された電流は筐体４０を介してグランドに放出されるようになっている。
イオン生成機構２０の対向電極２６は導電性及び熱伝導性である金属で構成されているため、イオン生成機構２０の熱が筐体４０を介して荷電機構３０全体に伝達される。これにより、荷電部３６とイオン生成機構２０の温度差が小さくなり、イオン導入部３２から荷電部３６に導入されたイオンが急激な温度低下によってクラスター化して大きくなることを防止できる。 In the charging mechanism 30, the upper part 40 a of the housing 40 is in contact with the counter electrode 26 of the ion generation mechanism 20, so that the heat inside the ion generation mechanism 20 is transmitted to the charging unit 36 via the counter electrode 26 and the housing 40. It has become. Further, the housing 40 is grounded, and the current discharged from the discharge core 24 of the ion generation mechanism 20 is discharged to the ground through the housing 40.
Since the counter electrode 26 of the ion generation mechanism 20 is made of a metal that is conductive and thermally conductive, the heat of the ion generation mechanism 20 is transmitted to the entire charging mechanism 30 via the housing 40. Thereby, the temperature difference between the charging unit 36 and the ion generating mechanism 20 is reduced, and it is possible to prevent the ions introduced from the ion introducing unit 32 into the charging unit 36 from being clustered and increased due to a rapid temperature drop.

荷電装置の一実施例を示す断面構成図である。It is a cross-sectional block diagram which shows one Example of a charging device. 荷電装置のさらに他の実施例を示す断面構成図である。It is a cross-sectional block diagram which shows other Example of a charging device. 荷電装置のさらに他の実施例を示す断面構成図である。It is a cross-sectional block diagram which shows other Example of a charging device.

符号の説明Explanation of symbols

１,２０ イオン生成機構
２,３０ 荷電機構
３,３２ イオン導入部
４,３８ 荷電対象粒子導入部
５,７ 流路
６,３６ 荷電部
８,４２ 排出部
１０ 熱伝導性材料
１２ リボンヒータ
１４ 熱電対
１６ 温度調整器
２１ イオン生成部
２２ イオン源ガス導入部
２４ 放電芯
２６ 対向電極
２８ イオン放出部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,20 Ion production mechanism 2,30 Charging mechanism 3,32 Ion introduction part 4,38 Charge object particle introduction part 5,7 Flow path 6,36 Charge part 8,42 Discharge part 10 Thermal conductive material 12 Ribbon heater 14 Thermoelectric Counter 16 Temperature controller 21 Ion generation unit 22 Ion source gas introduction unit 24 Discharge core 26 Counter electrode 28 Ion emission unit

Claims (5)

イオンを生成するためのイオン生成機構と、
前記イオン生成機構で生成されたイオンを導入するためのイオン導入部、荷電対象粒子を含むガスを導入するための荷電対象粒子導入部、前記イオン導入部から導入されたイオンにより前記荷電対象粒子導入部から導入された荷電対象粒子を荷電する荷電部、及び前記荷電部で生成された荷電粒子を含むガスを排出するための排出部を備えた熱伝導性材料からなる荷電機構と、
前記荷電機構の温度を調節するための温調機構と、を備えていることを特徴とする荷電装置。 An ion generation mechanism for generating ions;
An ion introduction unit for introducing ions generated by the ion generation mechanism, a charge target particle introduction unit for introducing a gas containing charged target particles, and the charge target particle introduction by ions introduced from the ion introduction unit A charging mechanism made of a thermally conductive material including a charging unit that charges charged particles introduced from the unit, and a discharge unit for discharging a gas containing charged particles generated in the charging unit;
And a temperature control mechanism for adjusting the temperature of the charging mechanism. 前記荷電機構と前記イオン生成機構は同温度である請求項１に記載の荷電装置。   The charging device according to claim 1, wherein the charging mechanism and the ion generation mechanism are at the same temperature. 前記荷電部は前記イオン導入部と前記排出部の間に設けられており、前記イオン導入部から前記排出部までが均一な流路幅をもつ一本の流路で構成されている請求項１又は２に記載の荷電装置。   2. The charging unit is provided between the ion introduction unit and the discharge unit, and is configured by a single channel having a uniform channel width from the ion introduction unit to the discharge unit. Or the charging device of 2. イオンを生成するためのイオン生成機構と、
熱伝導性材料からなり、前記イオン生成機構で生成されたイオンを導入するためのイオン導入部、荷電対象粒子を含むガスを導入するための荷電対象粒子導入部、前記イオン導入部から導入されたイオンにより前記荷電対象粒子導入部から導入された荷電対象粒子を荷電する荷電部、及び前記荷電部で生成された荷電粒子を含むガスを排出するための排出部を備え、前記荷電部が前記イオン導入部と前記排出部の間に設けられて、前記イオン導入部から前記排出部までが均一な流路幅をもつ一本の流路で構成されている荷電機構と、を備えている荷電装置。 An ion generation mechanism for generating ions;
An ion introduction part for introducing ions generated by the ion generation mechanism, a charge target particle introduction part for introducing a gas containing a charge target particle, and the ion introduction part made of a heat conductive material A charge unit for charging the charge target particles introduced from the charge target particle introduction unit by ions; and a discharge unit for discharging a gas containing charged particles generated by the charge unit, wherein the charge unit is the ion A charging device provided between the introduction unit and the discharge unit, the charging mechanism including a single channel having a uniform channel width from the ion introduction unit to the discharge unit . イオンを生成するためのイオン生成機構と、
前記イオン生成機構で生成されたイオンを導入するためのイオン導入部、荷電対象粒子を含むガスを導入するための荷電対象粒子導入部、前記イオン導入部から導入されたイオンにより前記荷電対象粒子導入部から導入された荷電対象粒子を荷電する荷電部、及び前記荷電部で生成された荷電粒子を含むガスを排出するための排出部を備えた熱伝導性材料からなる荷電機構と、を備え、
前記イオン生成機構と前記荷電機構は熱伝導性材料で構成され、互いに接触している荷電装置。 An ion generation mechanism for generating ions;
An ion introduction unit for introducing ions generated by the ion generation mechanism, a charge target particle introduction unit for introducing a gas containing charged target particles, and the charge target particle introduction by ions introduced from the ion introduction unit A charging mechanism made of a thermally conductive material provided with a charging unit for charging the charged target particles introduced from the unit, and a discharge unit for discharging the gas containing the charged particles generated in the charging unit,
The ion generating mechanism and the charging mechanism are made of a heat conductive material and are in contact with each other.
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