JP2008057010A - 成膜基板の製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】側面に突部15が設けられた基板14の表面に斜方成長膜法によって成膜する成膜基板の製造装置は、突部15を係合する溝部13を有した保持基材12を複数備え、保持基材12を、基板14の側面方向に対して対向するように配置し、互いに対向する保持基材12の溝部13どうしによって、基板14の突部を保持するとともに、基板14の被成膜面14aよりも保持基材12の上面12aが突出しない形状となっている成膜基板保持治具を備える。
【選択図】図3
Description
このような構成によれば、側方に突部を有した基板を保持する場合、基板の凸部を保持基材の溝内に挿入させることによって保持することが可能となる。
このような構成によれば、側方に溝部を有した基板を保持する場合、基板の凹部内に保持基材の突部を挿入させることによって保持することが可能となる。
このような構成によれば、保持する全ての基板の被成膜面に対して、成膜分子の入射角度を一定にすることができる。また、他の保持基材の保持部が影となることがないので、隣り合う保持基材間に保持される基板の被成膜面に未成膜部分が発生することを防止できる。以上のことから、斜め蒸着膜の膜厚分布の均一化が実現される。
本発明の成膜基板の製造装置によれば、一対の第一線材の挟持力によって、基板の側方を保持することができる。例えば、両側方に凹部を有した基板を保持する場合、基板の各凹部内に第一線材をそれぞれ挿入させることによって保持することが可能となる。さらに、第一線材が基板の被成膜面よりも突出しないように構成されていることから、第一線材が影となって成膜分子を遮る虞もなくなる。このように、基板の側方を保持することにより、被成膜面を全面露出することができるので被成膜面上に未成膜部分が発生することをなくすことができる。よって、所望とする膜性能を有した蒸着膜を得ることができる。また、線材を用いることによって、治具全体の小型化を図ることができる。
このような構成によれば、例えば基板が平面視矩形状である場合には、基板の4辺を支持することができるので、確実且つ安定的に保持することができる。
このような構成によれば、保持する全ての基板の被成膜面に対して、成膜分子の入射角度を一定にすることができる。また、他の第一線材が影となることがないので、連設する第一線材間に保持される基板の被成膜面に未成膜部分が発生することを防止できる。以上のことから、斜め蒸着膜の膜厚分布の均一化が実現される。
真空蒸着法により成膜することにより、成膜分子に過大なエネルギーを与えることなく、熱速度程度の運動エネルギーで蒸着を行なうことができる。これにより、成膜分子を斜めに整列させる上で有利になる。
イオンビームスパッタ法により成膜を行なうことにより、金属、合金、化合物及び有機物等、ほとんど全ての物質を蒸着させることができる。また、基板に対する付着性もよい。
以下に述べる各実施形態の成膜基板保持治具は、成膜しようとする基板を後述の成膜装置内で保持するためのものである。
まず、第1実施形態について、図1から図3を用いて説明する。
図1は、本実施形態における成膜基板保持治具の全体の概要を示す平面図である。図2は、保持基材の側断面図である。図3は、成膜基板保持治具による基板の保持状態を示す説明図である。なお、図3には、本実施形態の成膜基板保持治具に対応する基板が図示してある。
基板14は、図1,3(a)に示すように、底部(被成膜面14aを上面とすると、該被成膜面14aとは反対側の下面14b側)に、平面視における長手方向両側の側面14c,14cからそれぞれ垂直に突出する一対の突出部15,15を有した形状となっている。
次に、第2実施形態について、図1,図4及び図5を用いて説明する。
図4は、保持基材の全体の概要を示す斜視図である。図5は、基板の保持状態を示す説明図である。
第3実施形態について、図6から図8を用いて説明する。
図6は、成膜基板保持治具全体の概要を示す平面図である。図7は、保持基材の概略構成を示す側断面図である。図8は、基板の保持状態を示す説明図である。
なお、本実施形態の成膜基板保持治具は、断面視矩形状を呈する凹部を有した基板を保持するよう構成されたものである。
次に、第4実施形態について、図6,図9及び図10を用いて説明する。
図6は、本実施形態の成膜基板保持治具全体の概要を示す平面図である。図9は、保持基材の概略構成を示す側断面図である。図10は、基板の保持状態を示す説明図である。
なお、本実施形態の成膜基板保持治具は、断面視三角形状を呈する凹部を有した基板に対応するよう構成されたものである。
次に、第5実施形態について、図11及び図12を用いて説明する。
以下に示す成膜基板保持治具は、ワイヤーによって基板を保持する場合の一実施形態である。
図11は、本実施形態の成膜基板保持治具の概要構成を示す斜視図である。図12は、基板の保持状態を示す説明図であって、(a)成膜基板保持治具の要部拡大図、(b),(c)は基板の側断面図である。
次に、第6実施形態について、図13を用いて説明する。
以下に示す本実施形態の成膜基板保持治具は、x方向で隣り合う保持基材同士の高さ位置がz方向で異なっているとともに、水平面に対してその保持部方向を所定の角度で傾斜させている点で異なる。本実施形態では、第3実施形態の保持基材31を用いて説明するが、その他実施形態におけるいずれの保持基材を用いてもよい。図13は、x方向に連設する保持基材の傾斜状態を示す断面図である。
Claims (9)
- 側面に凹部又は凸部が設けられた基板の表面に斜方成長膜法によって成膜する成膜基板の製造装置であって、
前記凹部又は凸部を係合する保持部を有した保持基材を複数備え、
前記保持基材を、前記成膜基板の側面方向に対して対向するように配置し、
互いに対向する前記保持基材の前記保持部どうしによって、前記成膜基板の凹部又は凸部を保持するとともに、
前記成膜基板の被成膜面よりも前記保持基材の上面が突出しないことを特徴とする成膜基板の製造装置。 - 前記保持部が、隣り合う他の保持治基材側に向かって開口する溝であることを特徴とする請求項1記載の成膜基板の製造装置。
- 前記保持部が、隣り合う他の保持基材側に向かって突出する突部からなることを特徴とする請求項1記載の成膜基板の製造装置。
- 複数の前記基板を保持可能とするものであって、
前記保持基材を複数連設し、前記保持部の傾斜角度が連設方向に沿って大きくなっていることを特徴とする請求項1乃至3記載の成膜基板の製造装置。 - 側面に凹部又は凸部が設けられた基板の表面に斜方成長膜法によって成膜する成膜基板の製造装置であって、
前記凹部又は凸部を係合する第一線材を複数備え、
前記第一線材を、前記成膜基板の側面方向に対して対向するように配置し、
互いに対向する前記第一線材どうしによって、前記成膜基板の凹部又は凸部を保持するとともに、
前記成膜基板の被成膜面よりも前記第一線材が突出しないことを特徴とする成膜基板の製造装置。 - 前記一対の第一線材に対して垂直に延在する第二線材を少なくとも一対有することを特徴とする請求項5記載の成膜基板の製造装置。
- 複数の前記基板を保持可能とするものであって、
前記第一線材を複数連設し、前記第一線材の高さ位置が連設方向に沿って高くなっていることを特徴とする請求項5又は6記載の成膜基板の製造装置。 - 前記斜方成長膜法は、真空蒸着法による斜方蒸着であることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の成膜基板の製造装置。
- 前記斜方成長膜法は、イオンビームスパッタ法による斜方スパッタであることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の成膜基板の製造装置。
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JPH0336266A (ja) * | 1989-06-30 | 1991-02-15 | Hitachi Ltd | 分割形基板保持具 |
JPH03232964A (ja) * | 1990-02-07 | 1991-10-16 | Fujitsu Ltd | スパッタリング装置 |
JPH0641743A (ja) * | 1992-04-06 | 1994-02-15 | Balzers Ag | 平板な工作物の保持ユニット |
JPH06248451A (ja) * | 1993-02-24 | 1994-09-06 | Hitachi Ltd | 基板保持装置 |
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