JP2008052864A - 半導体装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 半導体装置における通常モードと特殊モードとの混載をコストの増大および特殊モードへの誤移行の危険性を回避して実現する。
【解決手段】 短パルス除去回路(11)は、外部制御信号(/CE)について第1所定時間より短いパルス幅の活性パルスおよび非活性パルスを除去して内部制御信号(/CEI)として出力する。短パルス検出回路(12)は、外部制御信号について第1所定時間より短いパルス幅の活性パルスおよび非活性パルスを検出する。内部回路(13)は、通常モードおよび特殊モードを有し、外部制御信号に代えて内部制御信号に応じて動作する。内部回路は、短パルス検出回路による活性パルスの検出に応答して通常モードから特殊モードに移行し、短パルス検出回路による非活性パルスの検出に応答して特殊モードから通常モードに移行する。
【選択図】 図1

Description

本発明は、通常モードと特殊モードとを混載した半導体装置に関する。
一般に、SRAM(Static Random Access Memory)やDRAM(Dynamic Random Access Memory)等の半導体装置では、通常モードと特殊モード(例えば、内部回路の動作テストを実施するためのテストモード)とが混載される場合、内部回路の通常モードから特殊モードへの移行は、以下に示すような手段により実現されている。
第1の実現手段では、通常モードから特殊モードへの移行要求を示す信号を入力するための特殊な外部端子を新たに追加し、その外部端子を介して供給される信号に応答して内部回路が通常モードから特殊モードに移行するように半導体装置を構成する。第2の実現手段では、予め決められた条件(アクセス先やアクセス順序等)を満たすアクセス動作が実施された場合に内部回路が通常モードから特殊モードに移行するように半導体装置を構成する。
また、特許文献1には、半導体集積回路装置におけるテストモードの誤エントリを確実に防止するための技術が開示されている。
特開2000−215695号公報
第1の実現手段を採用する場合、新たなパッドやESD(Electro Static Discharge)保護素子等を追加する必要があり、半導体装置のチップ面積が増大してしまう。また、第1の実現手段を採用する場合、端子数の多いパッケージを新たに採用する必要があるため、半導体装置の実装面積が増大する、あるいは別の半導体装置との置き換えが困難になる等の問題が発生してしまう。このように、第1の実現手段を採用する場合、半導体装置のチップ面積が増大するうえにパッケージを変更する必要もあるため、コストが増大してしまう。また、第2の実現手段を採用する場合、チップ面積等での不利はないが、内部回路が通常モードでの動作中に誤って特殊モードに移行してしまう可能性がある。
本発明は、このような問題点に鑑みてなされたものであり、半導体装置における通常モードと特殊モードとの混載をコストの増大および特殊モードへの誤移行の危険性を回避して実現することを目的とする。
本発明の第1形態では、半導体装置は、短パルス除去回路、短パルス検出回路および内部回路を備えて構成される。短パルス除去回路は、外部制御信号について第1所定時間より短いパルス幅の活性パルスおよび非活性パルスを除去して内部制御信号として出力する。短パルス検出回路は、外部制御信号について第1所定時間より短いパルス幅の活性パルスおよび非活性パルスを検出する。内部回路は、通常モードおよび特殊モードを有し、外部制御信号に代えて内部制御信号に応じて動作する。内部回路は、短パルス検出回路による活性パルスの検出に応答して通常モードから特殊モードに移行し、短パルス検出回路による非活性パルスの検出に応答して特殊モードから通常モードに移行する。例えば、特殊モードは、内部回路の動作テストを実施するためのテストモードである。
以上のような構成の半導体装置では、外部制御信号において第1所定時間より短いパルス幅の活性パルスが発生すると内部回路が通常モードから特殊モードに移行し、外部制御信号において第1所定時間より短いパルス幅の非活性パルスが発生すると内部回路が特殊モードから通常モードに移行する。また、内部回路は外部制御信号に代えて内部制御信号(外部制御信号について第1所定時間より短いパルス幅の活性パルスおよび非活性パルスを除去した信号)に応じて動作するため、外部制御信号において第1所定時間より短いパルス幅の活性パルスおよび非活性パルスが発生したとしても内部回路の動作に影響を及ぼすことはない。
このように、内部回路の動作を制御するために設けられる外部制御信号を利用して内部回路のモード移行を実現することで、モード移行要求を示す信号を入力するための特殊な外部端子を不要にでき、その結果、パッケージを変更する必要もなくなる。また、外部制御信号を利用して内部回路のモード移行を実現することで、予め決められた条件を満たす動作が実施されたときに内部回路のモードを移行させる場合に比べて、内部回路の通常モードから特殊モードへの誤移行の可能性を低く抑えることができる。このため、半導体装置における通常モードと特殊モードとの混載をコストの増大および特殊モードへの誤移行の危険性を回避して実現できる。
本発明の第1形態における好ましい例では、短パルス検出回路は、第1遅延回路、第2遅延回路、カスコード回路およびラッチ回路を備えて構成される。第1遅延回路は、第1所定時間より短い第2所定時間だけ外部制御信号を遅延させて第1遅延制御信号として出力する。第2遅延回路は、第1所定時間より短く第2所定時間より長い第3所定時間だけ外部制御信号を遅延させて第2遅延制御信号として出力する。カスコード回路は、複数のp型トランジスタおよび複数のn型トランジスタを備えて構成される。複数のp型トランジスタは、外部制御信号と第1遅延制御信号の反転信号と第2遅延制御信号とに対応して高電位電源線と出力ノードとの間で直列に接続され、対応する信号を制御端子で受ける。複数のn型トランジスタは、外部制御信号と第1遅延制御信号の反転信号と第2遅延制御信号とに対応して低電位電源線と出力ノードとの間で直列に接続され、対応する信号を制御端子で受ける。ラッチ回路は、カスコード回路の出力ノードに接続される。内部回路は、ラッチ回路の出力信号の活性化に応答して通常モードから特殊モードに移行し、ラッチ回路の出力信号の非活性化に応答して特殊モードから通常モードに移行する。これにより、外部制御信号について第1所定時間より短いパルス幅の活性パルスおよび非活性パルスを検出する短パルス検出回路を容易に構成することができる。
本発明の第2形態では、半導体装置は、短パルス除去回路、短パルス検出回路および内部回路を備えて構成される。短パルス除去回路は、外部制御信号について第1所定時間より短いパルス幅の活性パルスおよび非活性パルスを除去して内部制御信号として出力する。短パルス検出回路は、外部制御信号について第1所定時間より短いパルス幅の活性パルスおよび非活性パルスを組み合わせて構成される特殊モード設定用パターンを検出する。内部回路は、通常モードおよび特殊モードを有し、外部制御信号に代えて内部制御信号に応じて動作する。内部回路は、短パルス検出回路による特殊モード設定用パターンの検出に応答して通常モードから特殊モードに移行する。例えば、特殊モードは、内部回路の動作テストを実施するためのテストモードである。
以上のような構成の半導体装置では、外部制御信号において特殊モード設定用パターンが発生すると内部回路が通常モードから特殊モードに移行する。また、内部回路は外部制御信号に代えて内部制御信号(外部制御信号について第1所定時間より短いパルス幅の活性パルスおよび非活性パルスを除去した信号)に応じて動作するため、外部制御信号において特殊モード設定用パターンが発生したとしても内部回路の動作に影響を及ぼすことはない。
このように、内部回路の動作を制御するために設けられる外部制御信号を利用して内部回路のモード移行を実現することで、モード移行要求を示す信号を入力するための特殊な外部端子を不要にでき、その結果、パッケージを変更する必要もなくなる。また、外部制御信号を利用して内部回路のモード移行を実現することで、予め決められた条件を満たす動作が実施されたときに内部回路のモードを移行させる場合に比べて、内部回路の通常モードから特殊モードへの誤移行の可能性を低く抑えることができる。このため、半導体装置における通常モードと特殊モードとの混載をコストの増大および特殊モードへの誤移行の危険性を回避して実現できる。また、特殊モード設定用パターンを複雑化することで、内部回路の通常モードから特殊モードへの誤移行の可能性を更に低下させることができる。
本発明の第2形態における好ましい例では、短パルス検出回路は、遅延線回路およびパターン判定回路を備えて構成される。遅延線回路は、第1所定時間より短い第2所定時間を遅延時間として有する複数の遅延要素を直列に接続して構成され、初段の遅延要素で外部制御信号を受ける。パターン判定回路は、遅延要素の出力信号が特殊モード設定用パターンに対応する論理レベルに設定された場合に出力信号を活性化させる。内部回路は、パターン判定回路の出力信号の活性化に応答して通常モードから特殊モードに移行する。これにより、外部制御信号について特殊モード設定用パターンを検出する短パルス検出回路を容易に構成することができる。
本発明によれば、半導体装置における通常モードと特殊モードとの混載をコストの増大および特殊モードへの誤移行の危険性を回避して実現できる。
以下、本発明の実施形態について図面を用いて説明する。
図1は、本発明の第1実施形態を示している。第1実施形態の半導体装置10は、例えば、SRAMとして形成されている。半導体装置10は、短パルス除去回路11、短パルス検出回路12およびSRAMコア回路13を備えて構成されている。
短パルス除去回路11は、チップイネーブル信号/CEについて時間Taより短いパルス幅の活性パルスおよび非活性パルスを除去して内部チップイネーブル信号/CEIとして出力する。チップイネーブル信号/CEは、チップイネーブル端子/CEを介して外部から供給される。短パルス除去回路11の詳細については、図2および図3を用いて後述する。
短パルス検出回路12は、チップイネーブル信号/CEについて時間Taより短いパルス幅の活性パルスおよび非活性パルスを検出する。短パルス検出回路12は、活性パルスの検出に伴って、テストモード信号TMを“1”に活性化させる。また、短パルス検出回路12は、非活性パルスの検出に伴って、テストモード信号TMを“0”に非活性化させる。短パルス検出回路12の詳細については、図4および図5を用いて後述する。
SRAMコア回路13は、通常モードおよびテストモード(読み書きテスト等を実施するためのモード)を有しており、テストモード信号TMの活性化(立ち上がり遷移:“0”から“1”への遷移)に応答して通常モードからテストモードに移行し、テストモード信号TMの非活性化(立ち下がり遷移:“1”から“0”への遷移)に応答してテストモードから通常モードに移行する。また、SRAMコア回路13は、内部チップイネーブル信号/CEI、アウトプットイネーブル信号/OE、ライトイネーブル信号/WE、クロック信号CLKおよびアドレス信号ADDに基づいて、読み出し動作および書き込み動作を実施する。アウトプットイネーブル信号/OE、ライトイネーブル信号/WE、クロック信号CLKおよびアドレス信号ADDは、アウトプットイネーブル端子/OE、ライトイネーブル端子/WE、クロック端子CLKおよびアドレス端子ADDを介して外部からそれぞれ供給される。SRAMコア回路13は、読み出し動作時にデータ端子DQを介して読み出しデータを外部に出力し、書き込み動作時にデータ端子DQを介して外部から供給される書き込みデータを取得する。
図2は、第1実施形態の短パルス除去回路を示している。短パルス除去回路11は、遅延回路DC1、カスケード回路CC1およびラッチ回路LC1を備えて構成されている。
遅延回路DC1は、チップイネーブル信号/CEを時間Taだけ遅延させて遅延チップイネーブル信号/CED1として出力する。遅延回路DC1は、例えば、偶数個のインバータを直列に接続して構成されている。また、時間Ta(遅延回路DC1の遅延時間)は、例えば、10nsである。
カスケード回路CC1は、pMOSトランジスタQP10、QP11およびnMOSトランジスタQN10、QN11を備えて構成されている。pMOSトランジスタQP10のドレインは、出力ノードND1に接続されている。pMOSトランジスタQP10のソースおよびpMOSトランジスタQP11のドレインは、相互に接続されている。pMOSトランジスタQP11のソースは、電源線VDDに接続されている。
nMOSトランジスタQN10のドレインは、出力ノードND1に接続されている。nMOSトランジスタQN10のソースおよびnMOSトランジスタQN11のドレインは、相互に接続されている。nMOSトランジスタQN11のソースは、接地線VSSに接続されている。pMOSトランジスタQP10のゲートおよびnMOSトランジスタQN10のゲートは、遅延チップイネーブル信号/CED1を受けている。pMOSトランジスタQP11のゲートおよびnMOSトランジスタQN11のゲートは、チップイネーブル信号/CEを受けている。
従って、カスケード回路CC1の出力ノードND1は、チップイネーブル信号/CEおよび遅延チップイネーブル信号/CED1の双方が“0”に活性化されている場合に電源線VDDに接続される。また、カスケード回路CC1の出力ノードND1は、チップイネーブル信号/CEおよび遅延チップイネーブル信号/CED1の双方が“1”に非活性化されている場合に接地線VSSに接続される。
ラッチ回路LC1は、インバータIL10、IL11を環状に接続して構成されている。ラッチ回路LC1の入力ノード(インバータIL10の入力端子とインバータIL11の出力端子との接続ノード)は、カスケード回路CC1の出力ノードND1に接続されている。ラッチ回路LC1の出力ノード(インバータIL10の出力端子とインバータIL11の入力端子との接続ノード)に生成される信号は、内部チップイネーブル信号/CEIとして出力される。従って、ラッチ回路LC1は、カスケード回路CC1の出力ノードND1に生成されるカスケード出力信号CO1をラッチして内部チップイネーブル信号/CEIとして出力する。
図3は、第1実施形態の短パルス除去回路の動作を示している。短パルス除去回路11では、時刻t1においてチップイネーブル信号/CEが“1”から“0”に活性化され、時刻t1から時間Ta(10ns)より短い時間Tm(例えば、3ns)が経過した時刻t2においてチップイネーブル信号/CEが“0”から“1”に非活性化されると、時刻t1から時間Taが経過した時刻t3において遅延チップイネーブル信号/CED1が“1”から“0”に活性化され、時刻t3から時間Tmが経過した時刻t4において遅延チップイネーブル信号/CED1が“0”から“1”に非活性化される。
このような場合、時刻t1から時刻t4までの期間において、チップイネーブル信号/CEおよび遅延チップイネーブル信号/CED1の双方が活性状態(“0”)である期間は存在しない。このため、時刻t1から時刻t4までの期間において、カスケード回路CC1のpMOSトランジスタQP10、QP11の双方がオン状態である期間は存在せず、カスケード回路CC1の出力ノードND1が電源線VDDに接続されることはない。従って、時刻t1から時刻t4までの期間において、カスケード出力信号CO1が“0”から“1”に遷移することはなく、その結果、内部チップイネーブル信号/CEIが“1”から“0”に活性化されることはない。
一方、短パルス除去回路11では、時刻t5においてチップイネーブル信号/CEが“1”から“0”に活性化され、時刻t5から時間Taが経過した時刻t6以降までチップイネーブル信号/CEの活性状態が継続されると、時刻t6において、遅延チップイネーブル信号/CED1が“1”から“0”に活性化されるため、チップイネーブル信号/CEおよび遅延チップイネーブル信号/CED1の双方が活性状態(“0”)となる。このため、時刻t6において、カスケード回路CC1のpMOSトランジスタQP10、QP11の双方がオン状態となり、カスケード回路CC1の出力ノードND1が電源線VDDに接続される。従って、時刻t6において、カスケード出力信号CO1が“0”から“1”に遷移し、その結果、内部チップイネーブル信号/CEIが“1”から“0”に活性化される。
また、短パルス除去回路11では、時刻t7においてチップイネーブル信号/CEが“0”から“1”に非活性化され、時刻t7から時間Ta(10ns)より短い時間Tm(3ns)が経過した時刻t8においてチップイネーブル信号/CEが“1”から“0”に活性化されると、時刻t7から時間Taが経過した時刻t9において遅延チップイネーブル信号/CED1が“0”から“1”に非活性化され、時刻t9から時間Tmが経過した時刻t10において遅延チップイネーブル信号/CED1が“1”から“0”に活性化される。
このような場合、時刻t7から時刻t10までの期間において、チップイネーブル信号/CEおよび遅延チップイネーブル信号/CED1の双方が非活性状態(“1”)である期間は存在しない。このため、時刻t7から時刻t10までの期間において、カスケード回路CC1のnMOSトランジスタQN10、QN11の双方がオン状態である期間は存在せず、カスケード回路CC1の出力ノードND1が接地線VSSに接続されることはない。従って、時刻t7から時刻t10までの期間において、カスケード出力信号CO1が“1”から“0”に遷移することはなく、その結果、内部チップイネーブル信号/CEIが“0”から“1”に非活性化されることはない。
一方、短パルス除去回路11では、時刻t11においてチップイネーブル信号/CEが“0”から“1”に非活性化され、時刻t11から時間Taが経過した時刻t12以降までチップイネーブル信号/CEの非活性状態が継続されると、時刻t12において、遅延チップイネーブル信号/CED1が“0”から“1”に非活性化されるため、チップイネーブル信号/CEおよび遅延チップイネーブル信号/CED1の双方が非活性状態(“1”)となる。このため、時刻t12において、カスケード回路CC1のnMOSトランジスタQN10、QN11の双方がオン状態となり、カスケード回路CC1の出力ノードND1が接地線VSSに接続される。従って、時刻t12において、カスケード出力信号CO1が“1”から“0”に遷移し、その結果、内部チップイネーブル信号/CEIが“0”から“1”に非活性化される。
このように、短パルス除去回路11では、チップイネーブル信号/CEについて時間Ta(10ns)より短いパルス幅の活性パルスおよび非活性パルスを除去した信号が内部チップイネーブル信号/CEIとして出力される。
図4は、第1実施形態の短パルス検出回路を示している。短パルス検出回路12は、遅延回路DC20、DC21、インバータINV、カスケード回路CC2およびラッチ回路LC2を備えて構成されている。
遅延回路DC20は、チップイネーブル信号/CEを時間Tb(Tb<Ta)だけ遅延させて遅延チップイネーブル信号/CED20として出力する。遅延回路DC20は、例えば、偶数個のインバータを直列に接続して構成されている。また、時間Tb(遅延回路DC20の遅延時間)は、例えば、2nsである。インバータINVは、遅延チップイネーブル信号/CED20を反転させて遅延チップイネーブル信号CED20として出力する。なお、インバータINVの遅延時間は、遅延回路DC20の遅延時間(2ns)に比べて非常に小さい。
遅延回路DC21は、チップイネーブル信号/CEを時間Tc(Tb<Tc<Ta)だけ遅延させて遅延チップイネーブル信号/CED21として出力する。遅延回路DC21は、例えば、遅延回路DC20と同様に、偶数個のインバータを直列に接続して構成されている。また、時間Tc(遅延回路DC21の遅延時間)は、例えば、5nsである。
カスケード回路CC2は、pMOSトランジスタQP20、QP21、QP22およびnMOSトランジスタQN20、QN21、QP22を備えて構成されている。pMOSトランジスタQP20のドレインは、出力ノードND2に接続されている。pMOSトランジスタQP20のソースおよびpMOSトランジスタQP21のドレインは、相互に接続されている。pMOSトランジスタQP21のソースおよびpMOSトランジスタQP22のドレインは、相互に接続されている。pMOSトランジスタQP22のソースは、電源線VDDに接続されている。
nMOSトランジスタQN20のドレインは、出力ノードND2に接続されている。nMOSトランジスタQN20のソースおよびnMOSトランジスタQN21のドレインは、相互に接続されている。nMOSトランジスタQN21のソースおよびnMOSトランジスタQN22のドレインは、相互に接続されている。nMOSトランジスタQN22のソースは、接地線VSSに接続されている。
pMOSトランジスタQP20のゲートおよびnMOSトランジスタQN20のゲートは、遅延チップイネーブル信号CED20を受けている。pMOSトランジスタQP21のゲートおよびnMOSトランジスタQN21のゲートは、遅延チップイネーブル信号/CED21を受けている。pMOSトランジスタQP22のゲートおよびnMOSトランジスタQN22のゲートは、チップイネーブル信号/CEを受けている。
従って、カスケード回路CC2の出力ノードND2は、チップイネーブル信号/CE、遅延チップイネーブル信号CED20および遅延チップイネーブル信号/CED21の全てが“0”(チップイネーブル信号/CEの活性レベル)に設定されている場合に電源線VDDに接続される。また、カスケード回路CC2の出力ノードND2は、チップイネーブル信号/CE、遅延チップイネーブル信号CED20および遅延チップイネーブル信号/CED21の全てが“1”(チップイネーブル信号/CEの非活性レベル)に設定されている場合に接地線VSSに接続される。
ラッチ回路LC2は、インバータIL20、IL21を環状に接続して構成されている。ラッチ回路LC2の入力ノード(インバータIL20の入力端子とインバータIL21の出力端子との接続ノード)は、カスケード回路CC2の出力ノードND2に接続されている。ラッチ回路LC2の出力ノード(インバータIL20の出力端子とインバータIL21の入力端子との接続ノード)に生成される信号は、テストモード信号TMとして出力される。従って、ラッチ回路LC2は、カスケード回路CC2の出力ノードND2に生成されるカスケード出力信号CO2をラッチしてテストモード信号TMとして出力する。
図5は、第1実施形態の短パルス検出回路の動作を示している。短パルス検出回路12では、時刻t1においてチップイネーブル信号/CEが“1”から“0”に活性化され、時刻t1から時間Ta(10ns)より短い時間Tm(3ns)が経過した時刻t3においてチップイネーブル信号/CEが“0”から“1”に非活性化されると、時刻t1から時間Tb(2ns)が経過した時刻t2において遅延チップイネーブル信号CED20が“0”から“1”に活性化され、時刻t2から時間Tmが経過した時刻t4において遅延チップイネーブル信号CED20が“1”から“0”に非活性化される。また、時刻t1から時間Tc(5ns)が経過した時刻t4において遅延チップイネーブル信号/CED21が“1”から“0”に活性化され、時刻t4から時間Tmが経過した時刻t5において遅延チップイネーブル信号/CED21が“0”から“1”に非活性化される。
このような場合、時刻t3において、チップイネーブル信号/CE、遅延チップイネーブル信号CED20および遅延チップイネーブル信号/CED21の全てが“1”(チップイネーブル信号/CEの非活性レベル)に設定される。このため、時刻t3において、カスケード回路CC2のnMOSトランジスタQN20、QN21、QP22の全てがオン状態となり、カスケード回路CC2の出力ノードND2が接地線VSSに接続される。従って、時刻t3において、カスケード出力信号CO2が“1”から“0”に遷移し、その結果、テストモード信号TMが“0”から“1”に活性化される。これにより、SRAMコア回路13が通常モードからテストモードに移行する。
また、短パルス検出回路12では、時刻t6においてチップイネーブル信号/CEが“0”から“1”に非活性化され、時刻t6から時間Ta(10ns)より短い時間Tm(3ns)が経過した時刻t8においてチップイネーブル信号/CEが“1”から“0”に活性化されると、時刻t6から時間Tb(2ns)が経過した時刻t7において遅延チップイネーブル信号CED20が“1”から“0”に非活性化され、時刻t7から時間Tmが経過した時刻t9において遅延チップイネーブル信号CED20が“0”から“1”に活性化される。また、時刻t6から時間Tc(5ns)が経過した時刻t9において遅延チップイネーブル信号/CED21が“0”から“1”に非活性化され、時刻t9から時間Tmが経過した時刻t10において遅延チップイネーブル信号/CED21が“1”から“0”に活性化される。
このような場合、時刻t8において、チップイネーブル信号/CE、遅延チップイネーブル信号CED20および遅延チップイネーブル信号/CED21の全てが“0”(チップイネーブル信号/CEの活性レベル)に設定される。このため、時刻t8において、カスケード回路CC2のpMOSトランジスタQP20、QP21、QP22の全てがオン状態となり、カスケード回路CC2の出力ノードND2が電源線VDDに接続される。従って、時刻t8において、カスケード出力信号CO2が“0”から“1”に遷移し、その結果、テストモード信号TMが“1”から“0”に非活性化される。これにより、SRAMコア回路13がテストモードから通常モードに移行する。
このように、短パルス検出回路12では、チップイネーブル信号/CEについて時間Tb(5ns)より短いパルス幅の活性化パルスが検出されるとテストモード信号TMが“0”から“1”に活性化され、チップイネーブル信号/CEについて時間Tb(5ns)より短いパルス幅の非活性パルスが検出されるとテストモード信号TMが“1”から“0”に非活性化される。
以上のような第1実施形態では、チップイネーブル信号/CEにおいて時間Tb(時間Ta)より短いパルス幅の活性パルスが発生するとSRAMコア回路13が通常モードからテストモードに移行し、チップイネーブル信号/CEにおいて時間Tb(時間Ta)より短いパルス幅の非活性パルスが発生するとSRAMコア回路13がテストモードから通常モードに移行する。また、SRAMコア回路13はチップイネーブル信号/CEに代えて内部チップイネーブル信号/CEI(チップイネーブル信号/CEについて時間Taより短いパルス幅の活性パルスおよび非活性パルスを除去した信号)に応じて動作するため、チップイネーブル信号/CEにおいて時間Tb(時間Ta)より短いパルス幅の活性パルスおよび非活性パルスが発生したとしてもSRAMコア回路13の動作に影響を及ぼすことはない。
このように、SRAMコア回路13の動作を制御するために設けられるチップイネーブル信号/CEを利用してSRAMコア回路13のモード移行を実現することで、モード移行要求を示す信号を入力するための特殊な外部端子(パッドやESD保護素子等)を不要にでき、その結果、パッケージを変更する必要もなくなる。このため、半導体装置10のチップ面積を大幅に削減できるとともに、半導体装置10の実装面積が増大する、あるいは別の半導体装置との置き換えが困難になる等のパッケージ変更に伴う問題を回避できる。また、チップイネーブル信号/CEを利用してSRAMコア回路13のモード移行を実現することで、予め決められた条件を満たす動作が実施されたときにSRAMコア回路13のモードを移行させる場合に比べて、SRAMコア回路13の通常モードからテストモードへの誤移行の可能性を低く抑えることができる。このため、半導体装置10における通常モードとテストモードとの混載をコストの増大およびテストモードへの誤移行の危険性を回避して実現できる。
図6は、本発明の第2実施形態を示している。なお、第2実施形態を説明するにあたって、第1実施形態で説明した要素と同一の要素については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。第2実施形態の半導体装置20は、例えば、第1実施形態の半導体装置10と同様に、SRAMとして形成されている。半導体装置20は、短パルス除去回路11、短パルス検出回路22およびSRAMコア回路13を備えて構成されている。
短パルス検出回路22は、チップイネーブル信号/CEについて時間Ta(10ns)より短いパルス幅の活性パルスおよび非活性化パルスを組み合わせて構成されるテストモード設定用パターンを検出する。短パルス検出回路22は、テストモード設定用パターンの検出に伴って、テストモード信号TMを“1”に活性化させる。また、短パルス検出回路22は、内部チップイネーブル信号/CEIの非活性化に伴って、テストモード信号TMを“0”に非活性化させる。
図7は、第2実施形態の短パルス検出回路を示している。短パルス検出回路22は、遅延線回路DLC、パターン判定回路PJCおよびセット/リセット回路SRCを備えて構成されている。
遅延線回路DLCは、バッファ回路BC0〜BC7を直列に接続して構成されている。バッファ回路BCi(i=0、1、・・・、7)は、例えば、偶数個のインバータを直列に接続して構成されている。バッファBC0は、チップイネーブル信号/CEを時間Td(Td<Ta)だけ遅延させてバッファ出力信号BO0として出力する。バッファ回路BC1(BC2〜BC7)は、バッファ出力信号BO0(BO1〜BO6)を時間Tdだけ遅延させてバッファ出力信号BO1(BO2〜BO7)として出力する。また、時間Td(バッファ回路BCiの遅延時間)は、例えば、1nsである。
パターン判定回路PJCは、8入力1出力の論理回路で構成されている。パターン判定回路PJCは、バッファ出力信号BO[7:0]がテストモード設定用パターンに対応する論理レベル(例えば、“01001101”)に設定された場合にパターン判定結果信号PJRを“1”に活性化させる。
セット/リセット回路SRCは、パターン判定結果信号PJRをセット端子Sで受けている。また、セット/リセット回路SRCは、内部チップイネーブル信号/CEIをリセット端子Rで受けている。セット/リセット回路SRCの出力端子Qから供給される信号は、テストモード信号TMとして出力される。従って、セット/リセット回路SRCは、パターン判定結果信号PJRの活性化(立ち上がり遷移)に応答してテストモード信号TMを“1”に活性化させ、内部チップイネーブル信号/CEIの非活性化(立ち上がり遷移)に応答してテストモード信号TMを“0”に非活性化させる。
図8は、第2実施形態の短パルス検出回路の動作を示している。短パルス検出回路22では、SRAMコア回路13を通常モードからテストモードに移行させるために、時刻t1においてチップイネーブル信号/CEが“0”に設定され、その後、時間Td(1ns)の経過毎にチップイネーブル信号/CEが“1”、“0”、“0”、“1”、“1”、“0”、“1”に順次設定されると、時刻t1から時間Tdの8倍の時間が経過した時刻t2においてバッファ出力信号BO[7:0]が“01001101”(テストモード設定用パターンに対応する論理レベル)に設定される。このため、時刻t2において、パターン判定結果信号PJRが“0”から“1”に活性化され、その結果、テストモード信号TMが“0”から“1”に活性化される。これにより、SRAMコア回路13が通常モードからテストモードに移行する。そして、時刻t2から時間Tdが経過すると、バッファ出力信号BO[7:0]が“01001101”から“10011011”に遷移し、その結果、パターン判定結果信号PJRが“1”から“0”に非活性化される。
この後、SRAMコア回路13の動作テストを開始するために、時刻t3においてチップイネーブル信号/CEが“1”から“0”に活性化されると、時刻t3から時間Ta(10ns)が経過した時刻t4において内部チップイネーブル信号/CEIが“1”から“0”に活性化される。そして、SRAMコア回路13の動作テストを終了するために、時刻t5においてチップイネーブル信号/CEが“0”から“1”に非活性化されると、時刻t5から時間Taが経過した時刻t6において、内部チップイネーブル信号/CEIが“0”から“1”に非活性化され、その結果、テストモード信号TMが“1”から“0”に非活性化される。これにより、SRAMコア回路13がテストモードから通常モードに移行する。
このように、短パルス検出回路22では、チップイネーブル信号/CEについてテストモード設定用パターン(“01001101”)が検出されるとテストモード信号TMが“0”から“1”に活性化され、内部チップイネーブル信号/CEIが“0”から“1”に非活性化されるとテストモード信号TMが“1”から“0”に非活性化される。
以上のような第2実施形態でも、第1実施形態と同様の効果が得られる。また、第2実施形態では、短パルス検出回路22における遅延線回路DLCのバッファ回路の数を増加させることで、テストモード設定用パターンを複雑化することができる。従って、第2実施形態では、第1実施形態に比べて、SRAMコア回路13の通常モードからテストモードへの誤移行の可能性を更に低下させることができる。
なお、第1および第2実施形態では、チップイネーブル信号/CEに対して短パルス除去回路および短パルス検出回路が設けられた例について述べたが、本発明はかかる実施形態に限定されるものではない。例えば、チップイネーブル信号/CE以外の外部制御信号(アウトプットイネーブル信号/OEやライトイネーブル信号/WE等)に対して短パルス除去回路および短パルス検出回路が設けられてもよい。
第1および第2実施形態では、本発明をSRAMに適用した例について述べたが、本発明はかかる実施形態に限定されるものではない。例えば、本発明をSRAM以外の半導体記憶装置(DRAMやフラッシュメモリ等)に適用してもよいし、本発明を半導体記憶装置以外の半導体装置(マイクロプロセッサ等)に適用してもよい。また、第1および第2実施形態では、本発明を通常モードとテストモードとの混載に適用した例について述べたが、本発明はかかる実施形態に限定されるものではない。本発明を通常モードとテストモード以外の特殊モード(ユーザ非公開モード等)との混載に適用してもよい。
以上、本発明について詳細に説明してきたが、前述の実施形態およびその変形例は発明の一例に過ぎず、本発明はこれらに限定されるものではない。本発明を逸脱しない範囲で変形可能であることは明らかである。
本発明の第1実施形態を示すブロック図である。 第1実施形態の短パルス除去回路を示す回路図である。 第1実施形態の短パルス除去回路の動作を示すタイミング図である。 第1実施形態の短パルス検出回路を示す回路図である。 第1実施形態の短パルス検出回路の動作を示すタイミング図である。 本発明の第2実施形態を示すブロック図である。 第2実施形態の短パルス検出回路を示す回路図である。 第2実施形態の短パルス検出回路の動作を示すタイミング図である。
符号の説明
10、20‥半導体装置;11‥短パルス除去回路;12、22‥短パルス検出回路;13‥SRAMコア回路;BC0〜BC7‥バッファ回路;CC1、CC2‥カスケード回路;DC1、DC20、DC21‥遅延回路;DLC‥遅延線回路;INV、IL10、IL11、IL20、IL21‥インバータ;LC1、LC2‥ラッチ回路;PJC‥パターン判定回路;QN10、QN11、QN20、QN21、QN22‥nMOSトランジスタ;QP10、QP11、QP20、QP21、QP22‥pMOSトランジスタ;SRC‥セット/リセット回路

Claims (5)

  1. 外部制御信号について第1所定時間より短いパルス幅の活性パルスおよび非活性パルスを除去して内部制御信号として出力する短パルス除去回路と、
    前記外部制御信号について前記第1所定時間より短いパルス幅の活性パルスおよび非活性パルスを検出する短パルス検出回路と、
    通常モードおよび特殊モードを有し、前記外部制御信号に代えて前記内部制御信号に応じて動作する内部回路とを備え、
    前記内部回路は、前記短パルス検出回路による活性パルスの検出に応答して前記通常モードから前記特殊モードに移行し、前記短パルス検出回路による非活性パルスの検出に応答して前記特殊モードから前記通常モードに移行することを特徴とする半導体装置。
  2. 請求項1記載の半導体装置において、
    前記短パルス検出回路は、
    前記第1所定時間より短い第2所定時間だけ前記外部制御信号を遅延させて第1遅延制御信号として出力する第1遅延回路と、
    前記第1所定時間より短く前記第2所定時間より長い第3所定時間だけ前記外部制御信号を遅延させて第2遅延制御信号として出力する第2遅延回路と、
    前記外部制御信号と前記第1遅延制御信号の反転信号と前記第2遅延制御信号とに対応して高電位電源線と出力ノードとの間で直列に接続され、対応する信号を制御端子で受ける複数のp型トランジスタと、前記外部制御信号と前記第1遅延制御信号の反転信号と前記第2遅延制御信号とに対応して低電位電源線と出力ノードとの間で直列に接続され、対応する信号を制御端子で受ける複数のn型トランジスタとを有するカスケード回路と、
    前記カスケード回路の出力ノードに接続されるラッチ回路とを備え、
    前記内部回路は、前記ラッチ回路の出力信号の活性化に応答して前記通常モードから前記特殊モードに移行し、前記ラッチ回路の出力信号の非活性化に応答して前記特殊モードから前記通常モードに移行することを特徴とする半導体装置。
  3. 外部制御信号について第1所定時間より短いパルス幅の活性パルスおよび非活性パルスを除去して内部制御信号として出力する短パルス除去回路と、
    前記外部制御信号について前記第1所定時間より短いパルス幅の活性パルスおよび非活性パルスを組み合わせて構成される特殊モード設定用パターンを検出する短パルス検出回路と、
    通常モードおよび特殊モードを有し、前記外部制御信号に代えて前記内部制御信号に応じて動作する内部回路とを備え、
    前記内部回路は、前記短パルス検出回路による前記特殊モード設定用パターンの検出に応答して前記通常モードから前記特殊モードに移行することを特徴とする半導体装置。
  4. 請求項3記載の半導体装置において、
    前記短パルス検出回路は、
    前記第1所定時間より短い第2所定時間を遅延時間として有する複数の遅延要素を直列に接続して構成され、初段の遅延要素で前記外部制御信号を受ける遅延線回路と、
    前記遅延要素の出力信号が前記特殊モード設定用パターンに対応する論理レベルに設定された場合に出力信号を活性化させるパターン判定回路とを備え、
    前記内部回路は、前記パターン判定回路の出力信号の活性化に応答して前記通常モードから前記特殊モードに移行することを特徴とする半導体装置。
  5. 請求項1または請求項3に記載の半導体装置において、
    前記特殊モードは、前記内部回路の動作テストを実施するためのテストモードであることを特徴とする半導体装置。
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