JP2008044045A - 微小流路の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板上に第1の液体を付与して描画する工程、前記第1の液体を硬化させて凸部からなる第1の硬化物を得る工程、前記第1の硬化物を覆って第2の液体を付与する工程、第2の液体を硬化させて第2の硬化物を得る工程、前記第2の硬化物と基板上の第1の硬化物を分離して第2の硬化物中に凹部を形成する工程、前記基板から第1の硬化物を除去する工程、前記第1の硬化物を除去した基板上に第2の硬化物を設置して前記凹部からなる流路を形成する工程を有する微小流路の製造方法。
【選択図】図1
Description
「マイクロ化学チップの技術と応用」p.242から246、化学とマイクロ・ナノシステム研究会監修、北森 武彦・庄子 習一・馬場 嘉信・藤田 博之 編 「J.Micromech.Microeng.」14(2004)81から90,Advances in on−chip photodetection for applications in miniaturized genetic analysis systems.Vijay Namasivayam,Rongsheng Lin,Brian Johnson,Sundaresh Brahmasandra,Zafar Razzacki,David T Burke and Mark A Burns.
前記基板および第1の硬化物の表面に離型剤または表面処理剤を塗布することが好ましい。
前記基板が、半導体、電気、電子部品、機械部品および光学部品を搭載可能な電子回路プリント基板であることが好ましい。
また、本発明の微小流路製造装置は、所望の口径のノズルから溶液を射出する手段と、制御可能な2軸以上の直動システムおよびその制御手段と、所定の位置に水平に配置された基板に対して、前記ノズルをアライメントする手段と、少なくとも一つ以上の前記アライメント情報および描画パターン情報に基づいて前記ノズルから溶液を射出して描画を行う手段とを備え、かつ(1)ノズルに取り付けられたタンク内の溶液を所望の温度に保つ温度調整手段、(2)ノズルから射出された溶液が構造物に着地する前に、赤外線、遠赤外線、紫外線のいずれかを照射する光照射手段、(3)構造物を所望の温度に保つ温度調整手段、(4)対物レンズと接眼レンズまたはCCDカメラで画像を取得する画像取得手段のうち少なくとも1つ以上の手段を有することを特徴とする。
本発明は、あらゆるプロセスで発生する凹凸段差に無関係に微小流路を形成することができるため、広範囲の業種間で製造プロセスを完全に独立、分離できる。例えば、電子部品実装済みの電子回路プリント基板(ハイブリッドIC基板含む)、各種半導体プロセス終了後のベアチップなどに本発明の微小流路の製造方法を用いることができる。
図1は本発明の微小流路の製造方法の一実施態様を示す工程図である。図1を用いて本発明を説明する。本発明の微小流路の製造方法は、基板7上にノズル6から第1の液体5を付与して描画する工程、前記第1の液体5を硬化させて凸部からなる第1の硬化物5aを得る工程(A)を有する。次に、前記第1の硬化物5aを覆って第2の液体8を付与する工程(B)を有する。次に、第2の液体を硬化させて第2の硬化物8aを得る工程、前記第2の硬化物8aと基板上の第1の硬化物5aを分離して第2の硬化物中に凹部31を形成する工程(C)を有する。次に、前記基板7から第1の硬化物を除去する工程(D)を有する。次に、前記基板7上に第2の硬化物8aを設置して凹部からなる流路30を形成する工程(E)を有することを特徴とする。
第1の液体を硬化させる手段には、自然硬化(空気との接触、溶媒の蒸発を含む)、昇温や冷却による硬化、重合など化学的反応による硬化、紫外線による硬化が行われる。第1の液体には、硬化性樹脂またはエラストマーが用いられる。例えばポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン、ポリメタクリル酸エステル、ポリアミド、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、セルロース誘導体、フェノール樹脂、ユリア樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリエステルを用いることができる。感光性樹脂として、例えば重クロム酸系感光樹脂、光二量化型感光性樹脂(シンナメート系)、光分解架橋型(アジド系)、光分解不溶型(ジアゾ系)、光分解可溶型(キノンジアジド系)、不飽和ポリエステル系、アクリレート、ナイロン系(光重合オリゴマー+ポリマー)、Ene付加反応系、カチオン重合系のものを用いることができる。また、ゴム、シリコーンなどのエラストマーを用いることができる。
実施例1
図1を用いて本実施例を説明する。RIE装置のバイアス、RFパワーを標準プロトコールに従って設定し、C4F8ガスのみを供給し、約10分間、基板7のシリコンウエハの表面に撥水性処理を行う。予め流体の導入口3と流体の導出口4にレジストSU−8を薄くぬり、硬化させて固定しておく。ディスペンサのノズル6から硬化性の第1の液体5(レジストSU−8)を押し出し、描画する(図1(A))。
図2は本発明の微小流路の製造方法の他の実施例を示す概略図である。図2を用いて本実施例を説明する。
図3は、本発明の微小流路製造装置の一実施態様を示す概略図である。PC12には制御インターフェースが内蔵されている。基板1をY軸直動モジュール20の固定冶具に固定する。Y軸直動モジュール20天板の裏側にはラバーヒータおよび温度センサが取り付けられ、天板の温度をコントロールすることが出来る。Z軸フォーカス調整ノブ18を動かして、CCDカメラ14または接眼レンズ17で基板1にフォーカスを合わせる。XおよびY軸の直動モジュール13,20に対して行う描画パターンデータを予め作成しておき、CCDカメラ14で画像データを取り込みながら、描画シークエンス動作の確認を行う。描画位置にずれが生じていた場合には、固定治具または描画パターンデータの修正を行う。硬化性の液体のタンク15には、センサおよびラバーヒータ巻きつけ、温度管理をすることができる。また。硬化性の液体が紫外線硬化樹脂の場合には紫外線光源10から光ファイバ集光レンズ16に紫外線を供給することができる。XおよびY軸の直動モジュール13,201にシーケンス動作のリセット位置を与えたあと、ディスペンスコントローラ11に吐出を指示するとともに描画シーケンス動作を行う。
2 第1の液体
3 流体の導入口
4 流体の導出口
5 第1の液体
5a 第1の硬化物
6 ノズル
7 基板
8 第2の液体(PDMS)
8a 第2の硬化物
9 ホトダイオード
10 紫外線光源
11 ディスペンスコントローラ
12 PC
13 X軸直動モジュール
14 CCDカメラ
15 硬化性の液体のタンク
16 光ファイバおよび集光レンズ
17 接眼レンズ
18 Z軸フォーカス調整ノブ
19 長作動距離対物レンズ
20 Y軸直動モジュール
30 微小流路
31 凹部
Claims (7)
- 基板上に第1の液体を付与して描画する工程、前記第1の液体を硬化させて凸部からなる第1の硬化物を得る工程、前記第1の硬化物を覆って第2の液体を付与する工程、第2の液体を硬化させて第2の硬化物を得る工程、前記第2の硬化物と基板上の第1の硬化物を分離して第2の硬化物中に凹部を形成する工程、前記基板から第1の硬化物を除去する工程、前記第1の硬化物を除去した基板上に第2の硬化物を設置して前記凹部からなる流路を形成する工程を有することを特徴とする微小流路の製造方法。
- 前記第1の液体および第2の液体が硬化性樹脂またはエラストマーからなることを特徴とする請求項1記載の微小流路の製造方法。
- 前記基板および第1の硬化物の表面に離型剤または表面処理剤を塗布することを特徴とする請求項1記載の微小流路の製造方法。
- 前記基板上に、半導体、電気、電子部品、機械部品、光学部品のうち少なくとも一つが搭載されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかの項に記載の記載の微小流路の製造方法。
- 前記基板が、半導体、電気、電子部品、機械部品および光学部品を搭載可能な電子回路プリント基板であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかの項に記載の記載の微小流路の製造方法。
- 前記第2の硬化物を光学的レンズとして用いることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかの項に記載の記載の微小流路の製造方法。
- 所望の口径のノズルから溶液を射出する手段と、制御可能な2軸以上の直動システムおよびその制御手段と、所定の位置に水平に配置された基板に対して、前記ノズルをアライメントする手段と、少なくとも一つ以上の前記アライメント情報および描画パターン情報に基づいて前記ノズルから溶液を射出して描画を行う手段とを備え、かつ(1)ノズルに取り付けられたタンク内の溶液を所望の温度に保つ温度調整手段、(2)ノズルから射出された溶液が構造物に着地する前に、赤外線、遠赤外線、紫外線のいずれかを照射する光照射手段、(3)構造物を所望の温度に保つ温度調整手段、(4)対物レンズと接眼レンズまたはCCDカメラで画像を取得する画像取得手段のうち少なくとも1つ以上の手段を有することを特徴とする微小流路製造装置。
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