JP2008034591A - Organic el display - Google Patents

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JP2008034591A
JP2008034591A JP2006205801A JP2006205801A JP2008034591A JP 2008034591 A JP2008034591 A JP 2008034591A JP 2006205801 A JP2006205801 A JP 2006205801A JP 2006205801 A JP2006205801 A JP 2006205801A JP 2008034591 A JP2008034591 A JP 2008034591A
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Hitoshi Azuma
人士 東
Masahiro Tanaka
政博 田中
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Japan Display Inc
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Hitachi Displays Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent deterioration in color purity in an organic EL display for displaying a color picture by allowing light from an organic EL layer for emitting white light to pass through a color filter. <P>SOLUTION: Organic EL layers 4R, 4G, and 4B for emitting white light are formed on a substrate 1 in such a manner that they are separated from one another by a bank 39. For example, white light from the organic EL light emitting layer 4G passes through a green filter 5G and displays green. However, a part of the light proceeds, for example, to a red filter 5R as shown by an arrow. Deterioration in color purity can be prevented by preventing the arrowed light from being emitted to the outside, by entirely reflecting the arrowed light by setting the incident angle C of the arrowed light to a color filter substrate 2 to be equal to or more than a critical angle. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は有機EL表示装置のうち、特に白色発光する有機ELとカラーフィルタを組み合わせてカラー表示する画像表示装置に関連する。   The present invention relates to an organic EL display device, in particular, an image display device that performs color display by combining an organic EL that emits white light and a color filter.

従来表示装置の主流はCRTであったが、これに替わって、フラットデスプレイ装置である液晶表示装置、プラズマ表示装置等が実用化され、需要が増大している。さらにこれらの表示装置に加え、有機エレクトロルミネッセンスを用いた表示装置(以下有機EL表示装置という)や、フィールドエミッションを利用する電子源をマトリクス状に配置して陽極に配置された蛍光体を光らすことによって画像を形成する表示装置(以後FED表示装置という)の開発、実用化も進んでいる。   The mainstream of conventional display devices has been CRT, but instead of this, liquid crystal display devices, plasma display devices and the like, which are flat display devices, have been put into practical use, and demand is increasing. Furthermore, in addition to these display devices, display devices using organic electroluminescence (hereinafter referred to as organic EL display devices) and electron sources using field emission are arranged in a matrix to illuminate phosphors arranged on the anode. As a result, display devices that form images (hereinafter referred to as FED display devices) are being developed and put to practical use.

有機EL表示装置は(1)液晶と比較して自発光型であるので、バックライトが不要である、(2)発光に必要な電圧が10V以下と低く、消費電力を小さくできる可能性がある、(3)プラズマ表示装置やFED表示装置と比較して、真空構造が不要であり、軽量化、薄型化に適している、(4)応答時間が数マイクロ秒と短く、動画特性がすぐれている、(5)視野角が170度以上と広い、等の特徴がある。   Since the organic EL display device is (1) self-luminous type compared with liquid crystal, a backlight is not required. (2) The voltage required for light emission is as low as 10 V or less, which may reduce power consumption. (3) Compared with plasma display devices and FED display devices, it does not require a vacuum structure and is suitable for weight reduction and thinning. (4) Response time is as short as a few microseconds and video characteristics are excellent. (5) The viewing angle is as wide as 170 degrees or more.

カラー表示をする有機EL表示装置は、赤色、緑色、青色を発光する有機EL層を形成し、各画素の明るさを制御してカラー表示するのが一般的である。有機EL発光層は、発光効率を上げるため、陰極と陽極に間に、陰極側から、電子注入層、電子輸送層、発光層、ホール輸送層、ホール注入層を形成することが多い。有機EL材料として低分子材料を使用するタイプと高分子材料を使用するタイプとがある。低分子材料を用いる場合は、有機EL材料はマスク蒸着によって堆積されて有機EL層が各画素に形成される。高分子材料を用いる場合は、有機材料はインクジェット等で各画素に堆積されて有機EL層が各画素に堆積される。いずれの場合も、画素ピッチが小さくなると製造が困難になる。   An organic EL display device that performs color display generally forms an organic EL layer that emits red, green, and blue light, and performs color display by controlling the brightness of each pixel. In order to increase luminous efficiency, the organic EL light emitting layer often forms an electron injection layer, an electron transport layer, a light emitting layer, a hole transport layer, and a hole injection layer between the cathode and the anode from the cathode side. There are a type using a low molecular material as an organic EL material and a type using a polymer material. When a low molecular material is used, the organic EL material is deposited by mask vapor deposition, and an organic EL layer is formed on each pixel. In the case of using a polymer material, the organic material is deposited on each pixel by inkjet or the like, and the organic EL layer is deposited on each pixel. In either case, manufacturing becomes difficult when the pixel pitch is reduced.

一方、白色発光をする有機EL材料を用いて、カラーフィルタあるいは色変換フィルタを用いてカラー表示する構成も提案されている。「特許文献1」には一方の基板に白色発光する有機EL層を形成し、対向する他方の基板に色変換フィルタを用いてカラー表示する単純マトリクス型の有機EL表示装置が開示されている。そして「特許文献1」には、有機EL発光素子部と色変換フィルタの間に0ないし20μmの間隙が存在すると視野角特性の高い素子が得られるという記載があり、また、この間隙は基板間の封止に用いられるギャップ材の厚さによって調整されるとの記載がある。ただ、この視野角特性が何を意味するのか明らかでない。また、0ないし20μmの間隙を封止に用いられるギャップ材によって制御する場合は、有機EL発光素子部と色変換フィルタの間隙等がどのようになるのかも明らかではない。   On the other hand, a configuration in which color display is performed using a color filter or a color conversion filter using an organic EL material that emits white light has been proposed. “Patent Document 1” discloses a simple matrix type organic EL display device in which an organic EL layer that emits white light is formed on one substrate, and color display is performed using a color conversion filter on the opposite substrate. In “Patent Document 1”, there is a description that an element having a high viewing angle characteristic can be obtained when a gap of 0 to 20 μm exists between the organic EL light emitting element portion and the color conversion filter. There is a description that it is adjusted by the thickness of the gap material used for sealing. However, it is not clear what this viewing angle characteristic means. Further, when the gap of 0 to 20 μm is controlled by the gap material used for sealing, it is not clear what the gap between the organic EL light emitting element part and the color conversion filter will be.

特開2001−93664号公報JP 2001-93664 A

本発明は、白色発光する有機EL表示装置に液晶等で使用されるカラーフィルタを組み合わせて高精細の有機EL表示装置を実現する場合の、各画素の混色の問題を解決するものである。   The present invention solves the problem of color mixing of each pixel when a high-definition organic EL display device is realized by combining a color filter used in liquid crystal or the like with an organic EL display device that emits white light.

すなわち、従来のように、各画素毎に特定の色を発光する場合であれば、特定の色と他の色の干渉は考慮する必要は無い。しかし、白色の発光層をカラーフルターによって、色変換する場合、白色の発光が他のカラーフィルタに達すると、所定の色以外も発色させて色純度を劣化させる。   That is, as in the conventional case, if a specific color is emitted for each pixel, it is not necessary to consider interference between the specific color and another color. However, when the white light-emitting layer is color-converted by a color filter, when the white light emission reaches another color filter, the color purity is deteriorated by causing a color other than a predetermined color to be developed.

本発明は、いわゆる白色発光する有機ELを用いてカラーフィルタを使用することによって、カラー表示する有機EL表示装置において、特定の画素からの光が他のカラーフィルタに入射することによる色純度の劣化を防止するもので、具体的手段は次の通りである。   The present invention uses a color filter using a so-called white-light emitting organic EL, so that in an organic EL display device that performs color display, color purity is deteriorated due to light from a specific pixel entering another color filter. The specific means is as follows.

(1)基板に有機EL層を含む画素がマトリクス状に配置され、前記有機EL層を挟んで下部電極と上部電極が形成され、前記下部電極と前記上部電極に電圧を印加して前記有機EL層から可視光を発光させ、前記基板と対向してカラーフィルタ基板を配置することによってカラー画像を形成する有機EL表示装置であって、前記カラーフィルタ基板には赤フィルタと緑フィルタと青フィルタが形成され、前記各カラーフィルタの間にはブラックマトリクスが形成され、前記基板と前記カラーフィルタ基板との間にはスペーサが形成されており、有機EL層を含む特定の画素は特定のカラーフィルタに対応し、前記特定の画素から出射する光は前記特定のカラーフィルタ以外のカラーフィルタでは全反射される構成であることを特徴とする有機EL表示装置。   (1) Pixels including an organic EL layer are arranged in a matrix on a substrate, a lower electrode and an upper electrode are formed across the organic EL layer, and a voltage is applied to the lower electrode and the upper electrode to apply the organic EL An organic EL display device that emits visible light from a layer and forms a color image by disposing a color filter substrate facing the substrate, wherein the color filter substrate includes a red filter, a green filter, and a blue filter. And a black matrix is formed between the color filters, and a spacer is formed between the substrate and the color filter substrate. A specific pixel including the organic EL layer is a specific color filter. Correspondingly, the light emitted from the specific pixel is totally reflected by a color filter other than the specific color filter. EL display device.

(2)基板に有機EL層を含む画素がマトリクス状に配置され、前記有機EL層を挟んで下部電極と上部電極が形成され、前記下部電極と前記上部電極に電圧を印加して前記有機EL層から可視光を発光させ、前記基板と対向してカラーフィルタ基板を配置することによってカラー画像を形成する有機EL表示装置であって、前記カラーフィルタ基板には赤フィルタと緑フィルタと青フィルタが形成され、前記各カラーフィルタの間にはブラックマトリクスが形成され、前記基板と前記カラーフィルタ基板との間にはスペーサが形成されており、有機EL層を含む特定の画素は特定のカラーフィルタに対応し、前記特定画素の有機EL層と他の画素の有機EL層とはバンクによって隔てられ、前記特定画素の有機EL層と前記特定カラーフィルタとの距離Dと、前記カラーフィルタ間に形成される前記ブラックマトリクスの幅WBMと、前記バンクの幅WBANKの関係は、前記カラーフィルタ基板の屈折率をnとしたとき、
tan(sin(1/n))≦{WBM+(WBANK−WBM)/2}/D
となっていることを特徴とする有機EL表示装置。
(3)前記ブラックマトリクスの幅WBMと、前記バンクの幅WBANKは略々等しいことを特徴とする(2)に記載の有機EL表示装置。
(4)前記スペーサの高さは1μm以上であることを特徴とする請求項2に記載の有機EL表示装置。
(2) Pixels including an organic EL layer are arranged in a matrix on a substrate, a lower electrode and an upper electrode are formed across the organic EL layer, and a voltage is applied to the lower electrode and the upper electrode to apply the organic EL An organic EL display device that emits visible light from a layer and forms a color image by disposing a color filter substrate facing the substrate, wherein the color filter substrate includes a red filter, a green filter, and a blue filter. And a black matrix is formed between the color filters, and a spacer is formed between the substrate and the color filter substrate. A specific pixel including the organic EL layer is a specific color filter. Correspondingly, the organic EL layer of the specific pixel and the organic EL layer of another pixel are separated by a bank, and the organic EL layer of the specific pixel and the specific color filter are separated. The distance D between the data, and the width WBM of the black matrix formed between the color filters, relationships width WBANK of the bank, and the refractive index of the color filter substrate is n,
tan (sin - (1 / n )) ≦ {WBM + (WBANK-WBM) / 2} / D
An organic EL display device characterized by the above.
(3) The organic EL display device according to (2), wherein a width WBM of the black matrix is substantially equal to a width WBANK of the bank.
(4) The organic EL display device according to (2), wherein the height of the spacer is 1 μm or more.

(5)基板に有機EL層を含む画素がマトリクス状に配置され、前記有機EL層を挟んで下部電極と上部電極が形成され、前記下部電極と前記上部電極に電圧を印加して前記有機EL層から可視光を発光させ、前記基板と対向してカラーフィルタ基板を配置することによってカラー画像を形成する有機EL表示装置であって、前記カラーフィルタ基板には赤フィルタと緑フィルタと青フィルタが形成され、前記各カラーフィルタの間にはブラックマトリクスが形成され、前記基板と前記カラーフィルタ基板との間にはスペーサが形成され、有機EL層を含む特定の画素は特定のカラーフィルタに対応し、前記特定画素の有機EL層と他の画素の有機EL層とはバンクによって隔てられ、前記基板と前記カラーフィルタ基板とは前記ブラックマトリクスの幅方向にδなる量のズレが生じており、前期δと、前記特定画素の有機EL層と前記特定カラーフィルタとの距離Dと、前記カラーフィルタ間に形成される前記ブラックマトリクスの幅WBMと、前記バンクの幅WBANKの関係は、前記カラーフィルタ基板の屈折率をnとしたとき、
tan(sin(1/n))≦{WBM―δ+(WBANK−WBM)/2}/D
となっていることを特徴とする有機EL表示装置。
(6)前記ブラックマトリクスの幅WBMと、前記バンクの幅WBANKは略々等しいことを特徴とする(5)に記載の有機EL表示装置。
(7)前記スペーサの高さは1μm以上であることを特徴とする(5)に記載の有機EL表示装置。
(5) Pixels including an organic EL layer are arranged in a matrix on a substrate, a lower electrode and an upper electrode are formed across the organic EL layer, and a voltage is applied to the lower electrode and the upper electrode to apply the organic EL An organic EL display device that emits visible light from a layer and forms a color image by disposing a color filter substrate facing the substrate, wherein the color filter substrate includes a red filter, a green filter, and a blue filter. Formed, a black matrix is formed between the color filters, a spacer is formed between the substrate and the color filter substrate, and a specific pixel including the organic EL layer corresponds to a specific color filter. The organic EL layer of the specific pixel and the organic EL layer of another pixel are separated by a bank, and the substrate and the color filter substrate are separated from each other by the black matrix. There is a deviation of δ in the width direction of the Rix, δ, the distance D between the organic EL layer of the specific pixel and the specific color filter, and the width of the black matrix formed between the color filters The relationship between WBM and the width WBANK of the bank is as follows when the refractive index of the color filter substrate is n.
tan (sin - (1 / n )) ≦ {WBM-δ + (WBANK-WBM) / 2} / D
An organic EL display device characterized by the above.
(6) The organic EL display device according to (5), wherein a width WBM of the black matrix is substantially equal to a width WBANK of the bank.
(7) The organic EL display device according to (5), wherein the spacer has a height of 1 μm or more.

(8)基板に有機EL層を含む画素がマトリクス状に配置され、前記有機EL層を挟んで下部電極と上部電極が形成され、前記下部電極と前記上部電極に電圧を印加して前記有機EL層から可視光を発光させ、前記基板と対向してカラーフィルタ基板を配置することによってカラー画像を形成する有機EL表示装置であって、前記有機EL層は他の画素の有機EL層とバンクによって隔てられ、前記カラーフィルタ基板は赤フィルタと緑フィルタと青フィルタが形成され、前記各カラーフィルタの間にはブラックマトリクスが形成され、前記基板と前記カラーフィルタ基板との間にはスペーサが形成されており、前記バンクの幅をWBANKとし、前記バンクの高さと前記スペーサの高さの合計をDDとし、前記カラーフィルタ間に形成される前記ブラックマトリクスの幅をWBMとし、前記カラーフィルタ基板の屈折率をnとしたとき、
tan(sin(1/n))≦{WBM+(WBANK−WBM)/2}/DD
となっていることを特徴とする有機EL表示装置。
(9)前記バンクは有機樹脂で形成されていることを特徴とする(8)に記載の有機EL表示装置。
(10)前記バンクは無機膜で形成されていることを特徴とする(8)に記載の有機EL表示装置。
(11)前記スペーサの高さは1μm以上であることを特徴とする(8)に記載の有機EL表示装置。
(12)前記スペーサは前記カラーフィルタ基板に形成されたブラックマトリクス上に形成されていることを特徴とする(8)に記載の有機EL表示装置。
(13)前記ブラックマトリクスの幅WBMと、前記バンクの幅WBANKは略々等しいことを特徴とする(8)に記載の有機EL表示装置。
(8) Pixels including an organic EL layer are arranged in a matrix on a substrate, a lower electrode and an upper electrode are formed across the organic EL layer, and a voltage is applied to the lower electrode and the upper electrode to apply the organic EL An organic EL display device that emits visible light from a layer and forms a color image by disposing a color filter substrate facing the substrate, wherein the organic EL layer is formed by an organic EL layer and a bank of another pixel The color filter substrate includes a red filter, a green filter, and a blue filter, a black matrix is formed between the color filters, and a spacer is formed between the substrate and the color filter substrate. The bank width is WBANK, the sum of the bank height and the spacer height is DD, and is formed between the color filters. When the black width of the matrix and WBM, the refractive index of the color filter substrate is n,
tan (sin - (1 / n )) ≦ {WBM + (WBANK-WBM) / 2} / DD
An organic EL display device characterized by the above.
(9) The organic EL display device according to (8), wherein the bank is made of an organic resin.
(10) The organic EL display device according to (8), wherein the bank is formed of an inorganic film.
(11) The organic EL display device according to (8), wherein the spacer has a height of 1 μm or more.
(12) The organic EL display device according to (8), wherein the spacer is formed on a black matrix formed on the color filter substrate.
(13) The organic EL display device according to (8), wherein a width WBM of the black matrix is substantially equal to a width WBANK of the bank.

(14)基板に有機EL層を含む画素がマトリクス状に配置され、前記有機EL層を挟んで下部電極と上部電極が形成され、前記下部電極と前記上部電極に電圧を印加して前記有機EL層から可視光を発光させ、前記基板と対向してカラーフィルタ基板を配置することによってカラー画像を形成する有機EL表示装置であって、前記有機EL層は他の画素と無機材料で形成されたバンクによって隔てられ、前記カラーフィルタ基板には赤フィルタと緑フィルタと青フィルタが形成され、前記各カラーフィルタの間にはブラックマトリクスが形成され、前記基板と前記カラーフィルタ基板との間にはスペーサが形成されており、前記スペーサの高さをHSとし、前記バンクの幅をWBANKとし、前記カラーフィルタ間に形成される前記ブラックマトリクスの幅をWBMとし、前記カラーフィルタ基板の屈折率をnとしたとき、
tan(sin(1/n))≦{WBM+(WBANK−WBM)/2}/HS
となっていることを特徴とする有機EL表示装置。
(15)前記スペーサの高さは1μm以上であることを特徴とする(14)に記載の有機EL表示装置。
(16)前記スペーサはブラックマトリクス上に形成されていることを特徴とする(14)に記載の有機EL表示装置。
(14) Pixels including an organic EL layer are arranged in a matrix on a substrate, a lower electrode and an upper electrode are formed across the organic EL layer, and a voltage is applied to the lower electrode and the upper electrode to apply the organic EL An organic EL display device that emits visible light from a layer and forms a color image by disposing a color filter substrate facing the substrate, wherein the organic EL layer is formed of another pixel and an inorganic material Separated by banks, a red filter, a green filter, and a blue filter are formed on the color filter substrate, a black matrix is formed between the color filters, and a spacer is formed between the substrate and the color filter substrate. The height of the spacer is HS, the width of the bank is WBANK, and the black block formed between the color filters is formed. The width of the matrix and WBM, when the refractive index of the color filter substrate is n,
tan (sin - (1 / n )) ≦ {WBM + (WBANK-WBM) / 2} / HS
An organic EL display device characterized by the above.
(15) The organic EL display device according to (14), wherein the spacer has a height of 1 μm or more.
(16) The organic EL display device according to (14), wherein the spacer is formed on a black matrix.

(17)基板上に赤フィルタと緑フィルタと青フィルタが形成され、前記各フィルタの間にはブラックマトリクスが形成されており、前記カラーフィルタ上には平坦化のための有機樹脂膜が形成され、前記有機樹脂膜の上には無機膜が形成され、前記無機膜上には半導体層、ゲート絶縁膜、ゲート電極、層間絶縁膜、パッシベーション膜を有するTFTを含む層が形成され、前記TFTを含む層の上に前記TFTを含む層を経由した信号に応じて可視光を放射する有機EL層が形成され、前記有機EL層はマトリクス状に配置されることによって前記基板上に画像を形成する有機EL表示装置であって、前記有機EL層の各々はバンクによって隔てられ、前記可視光を放射する有機EL層と前記赤フィルタまたは緑フィルタまたは青フィルタとの距離をDFとし、前記カラーフィルタ間に形成される前記ブラックマトリクスの幅をWBMとし、前記バンクの幅をWBANKとし、前記基板の屈折率をnとしたとき、
tan(sin(1/n))≦{WBM+(WBANK−WBM)/2}/DF
の関係を満足する有機EL表示装置。
(18)前記パッシベーション膜は有機樹脂膜を含むことを特徴とする(17)に記載の有機EL表示装置。
(19)前記ブラックマトリクスの幅WBMと、前記バンクの幅WBANKは略々等しいことを特徴とする(17)に記載の有機EL表示装置。
(20)前記パッシベーション膜は有機樹脂膜を含み、前記平坦化のための樹脂膜の厚さと前記パッシベーションに含まれる樹脂膜の膜厚の合計は3μm以上であることを特徴とする(17)に記載の有機EL表示装置。
(17) A red filter, a green filter, and a blue filter are formed on the substrate, a black matrix is formed between the filters, and an organic resin film for planarization is formed on the color filter. An inorganic film is formed on the organic resin film, and a layer including a TFT having a semiconductor layer, a gate insulating film, a gate electrode, an interlayer insulating film, and a passivation film is formed on the inorganic film. An organic EL layer that emits visible light according to a signal that passes through the layer including the TFT is formed on the including layer, and the organic EL layer is arranged in a matrix to form an image on the substrate. An organic EL display device, wherein each of the organic EL layers is separated by a bank, and the organic EL layer that emits the visible light and the red filter, the green filter, or the blue filter The distance and DF, the width of the black matrix formed between the color filter and WBM, the width of the bank as WBANK, when the refractive index of the substrate is n,
tan (sin - (1 / n )) ≦ {WBM + (WBANK-WBM) / 2} / DF
Organic EL display that satisfies the above relationship.
(18) The organic EL display device according to (17), wherein the passivation film includes an organic resin film.
(19) The organic EL display device according to (17), wherein a width WBM of the black matrix is substantially equal to a width WBANK of the bank.
(20) The passivation film includes an organic resin film, and the sum of the thickness of the resin film for planarization and the thickness of the resin film included in the passivation is 3 μm or more. The organic EL display device described.

各手段毎の効果は次のとおりである。   The effect of each means is as follows.

手段(1)によれば、特定画素の有機EL層から出射した光のうち、対応するカラーフィルタ以外のカラーフィルタに向かう光は全反射して外部に出射しないため、色純度の低下を防止することができる。   According to the means (1), among the light emitted from the organic EL layer of the specific pixel, the light directed to the color filter other than the corresponding color filter is totally reflected and is not emitted to the outside, thereby preventing a decrease in color purity. be able to.

手段(2)ないし(4)によれば、ブラックマトリクスの幅とカラーフィルタと有機EL層との間隔にある条件を持たせることにより、特定画素の有機EL層から出射した光のうち、対応するカラーフィルタ以外のカラーフィルタに向かう光は全反射して外部に出射しないため、色純度の低下を防止することができる。   According to the means (2) to (4), by providing the conditions that are in the width of the black matrix and the interval between the color filter and the organic EL layer, the light corresponding to the light emitted from the organic EL layer of the specific pixel is handled. Since light directed to the color filters other than the color filter is totally reflected and is not emitted to the outside, it is possible to prevent a decrease in color purity.

手段(5)ないし(7)によれば、基板とカラーフィルタ基板のあわせ誤差が生じても特定画素の有機EL層から出射した光のうち、対応するカラーフィルタ以外のカラーフィルタに向かう光は全反射して外部に出射しないため、色純度の低下を防止することができる。   According to the means (5) to (7), even if an alignment error between the substrate and the color filter substrate occurs, all of the light emitted from the organic EL layer of the specific pixel is directed to the color filter other than the corresponding color filter. Since the light is not reflected and emitted to the outside, it is possible to prevent a decrease in color purity.

手段(8)ないし(13)によれば、バンクの高さとスペーサの高さの和とブラックマトリクス幅の関係に一定の条件を与えることによって、特定画素の有機EL層から出射した光のうち、対応するカラーフィルタ以外のカラーフィルタに向かう光は全反射して外部に出射しないため、色純度の低下を防止することができる。   According to the means (8) to (13), by giving a certain condition to the relationship between the sum of the bank height and the spacer height and the black matrix width, among the light emitted from the organic EL layer of the specific pixel, Since light directed to a color filter other than the corresponding color filter is totally reflected and is not emitted to the outside, a decrease in color purity can be prevented.

手段(14)ないし(16)によれば、スペーサの高さとブラックマトリクス幅の関係に一定の条件を与えることによって、特定画素の有機EL層から出射した光のうち、対応するカラーフィルタ以外のカラーフィルタに向かう光は全反射して外部に出射しないため、色純度の低下を防止することができるとともに、カラーフィルタによる有機EL膜の損傷を防止することができる。   According to the means (14) to (16), by giving a certain condition to the relationship between the spacer height and the black matrix width, out of the light emitted from the organic EL layer of the specific pixel, the color other than the corresponding color filter Since light directed to the filter is totally reflected and is not emitted to the outside, it is possible to prevent a decrease in color purity and to prevent an organic EL film from being damaged by the color filter.

手段(17)ないし(20)によれば、本発明をボトムエミッションタイプの有機EL表示装置に適用した場合も、有機EL膜と基板表面との間にどのような膜が形成されていても、有機EL膜とカラーフィルタとの間の距離とBM幅を一定の関係に保てば、特定画素の有機EL層から出射した光のうち、対応するカラーフィルタ以外のカラーフィルタに向かう光は全反射して外部に出射しないため、色純度の低下を防止することができる。   According to the means (17) to (20), when the present invention is applied to a bottom emission type organic EL display device, no matter what film is formed between the organic EL film and the substrate surface, If the distance between the organic EL film and the color filter and the BM width are kept in a certain relationship, the light emitted from the organic EL layer of the specific pixel toward the color filter other than the corresponding color filter is totally reflected. And since it does not radiate | emit outside, the fall of color purity can be prevented.

実施例にしたがって、本発明の詳細な内容を開示する。   The detailed contents of the present invention will be disclosed according to the embodiments.

図1は本発明の第1の実施例の概略断面図であり、図2はその詳細断面図である。ガラス基板上に有機EL層42への印加電圧を制御する薄膜トランジスタ(TFT)に関連する部分(TFT部)が形成される。このTFT部3の上に下部電極41、有機EL層42、上部電極43を含む白色発光部4が形成される。本実施例ではいわゆるトップエミッションタイプの有機EL表示装置であり、下部電極41は陰極である。下部電極41から順に電子注入層、電子輸送層、白色発光層、ホール輸送層、ホール注入層等の有機EL層42が形成され、ホール注入層の上に上部電極43である陽極が形成される。ここで、白色光とは赤、緑、青のスペクトルを含む可視光のことである。   FIG. 1 is a schematic sectional view of a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a detailed sectional view thereof. A portion (TFT portion) related to the thin film transistor (TFT) for controlling the voltage applied to the organic EL layer 42 is formed on the glass substrate. A white light emitting unit 4 including a lower electrode 41, an organic EL layer 42, and an upper electrode 43 is formed on the TFT unit 3. In this embodiment, the organic EL display device is a so-called top emission type, and the lower electrode 41 is a cathode. An organic EL layer 42 such as an electron injection layer, an electron transport layer, a white light emitting layer, a hole transport layer, and a hole injection layer is formed in order from the lower electrode 41, and an anode as the upper electrode 43 is formed on the hole injection layer. . Here, white light is visible light including red, green, and blue spectra.

本実施例では下部電極41は光を反射するAl等の金属膜を含むことが必要である。また、上部電極43は光を透過させるIZO、ITOのような透明導電膜であることが必要である。白色発光層42の有機EL材料としては、例えば、ポリビニルカルバゾール(PVK)をドーパントとして、TPB、クマリン、DCM−1を混入した複合体薄膜を使用することができる。TPB、クマリン、DCM−1をおのおの式(1)、式(2)、式(3)に示す。   In this embodiment, the lower electrode 41 needs to include a metal film such as Al that reflects light. The upper electrode 43 needs to be a transparent conductive film such as IZO or ITO that transmits light. As the organic EL material of the white light emitting layer 42, for example, a composite thin film in which TPB, coumarin, and DCM-1 are mixed using polyvinyl carbazole (PVK) as a dopant can be used. TPB, coumarin, and DCM-1 are shown in Formula (1), Formula (2), and Formula (3), respectively.

Figure 2008034591
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図1において、枠材7を介してカラーフィルタ基板2が設置される。枠材7は基板1とカラーフィルタ基板2との間隔を保つ。このカラーフィルタ基板2の内側には白色光を受けて色変換するカラーフィルタ部5が形成される。このカラーフィルタ部5と有機EL層42を含む発光部4との距離が実施例1における表示装置での混色に重要な役割を果たすので、本実施例ではスペーサ6を用いてカラーフィルタ部5と発光部4との距離を制御している。光は図1の矢印Lの方向に出射される。   In FIG. 1, the color filter substrate 2 is installed through a frame member 7. The frame member 7 keeps the distance between the substrate 1 and the color filter substrate 2. Inside the color filter substrate 2 is formed a color filter portion 5 that receives white light and performs color conversion. Since the distance between the color filter unit 5 and the light emitting unit 4 including the organic EL layer 42 plays an important role in color mixing in the display device in the first embodiment, in this embodiment, the spacer 6 is used to The distance to the light emitting unit 4 is controlled. The light is emitted in the direction of arrow L in FIG.

図2は本実施例の断面詳細図である。図2において、基板1は本実施例においてはガラスを用いる。しかし、トップエミッションの場合は、基板1は光を透過させる必要は無いので、ガラスに限る必要は無く、SUSなどの金属や、PET、PES等のプラスチック材料を用いることもできる。アンダーコート膜31は基板1からの不順物に対するバリアとしての役割をもつ。一方、アンダーコート膜31は、その上に形成される半導体層32との密着性も重要である。本実施例においては、酸化シリコン膜あるいは窒化シリコン膜またはそれらの積層膜が用いられる。アンダーコート膜31として2層膜が用いられる場合は、膜厚は例えば、下層の窒化シリコンが150nm、上層の酸化シリコンが100nmである。   FIG. 2 is a detailed sectional view of the present embodiment. In FIG. 2, the substrate 1 uses glass in this embodiment. However, in the case of top emission, the substrate 1 does not need to transmit light, and thus is not limited to glass. A metal such as SUS or a plastic material such as PET or PES can also be used. The undercoat film 31 serves as a barrier against irregular materials from the substrate 1. On the other hand, the adhesion between the undercoat film 31 and the semiconductor layer 32 formed thereon is also important. In this embodiment, a silicon oxide film, a silicon nitride film, or a laminated film thereof is used. When a two-layer film is used as the undercoat film 31, the film thickness is, for example, 150 nm for the lower silicon nitride and 100 nm for the upper silicon oxide.

半導体層32はCVD法によって形成されるアモーファスSi膜、またはアモーファスSi膜をレーザーでアニールすることによって形成されるポリシリコン膜が用いられる。該半導体層32の両側にはイオンインプランテーションによって、導電性が付与されたソース部あるいはドレイン部が形成される。この半導体層32の膜厚は例えば、50nmである。   As the semiconductor layer 32, an amorphous Si film formed by a CVD method or a polysilicon film formed by annealing an amorphous Si film with a laser is used. On both sides of the semiconductor layer 32, a source portion or a drain portion imparted with conductivity is formed by ion implantation. The film thickness of the semiconductor layer 32 is, for example, 50 nm.

半導体層32を覆って、ゲート絶縁膜33が形成される。ゲート絶縁膜33にはCVD法で形成される酸化シリコンあるいは窒化シリコン、またはそれらの積層膜がもちいられる。ゲート絶縁膜33の膜厚は例えば、100nmである。ゲート絶縁膜33の上にゲート電極34となるゲート金属層がスパッタリング等によって形成される。この金属層をパターニングすることにより、ゲート電極34を形成するだけでなく、ゲート配線層も形成する。ゲート金属層はMo、W、Ta、Ti等の高融点金属、あるいはこれらの金属の合金が適している。さらには、これらの金属あるいは合金との積層膜を用いてもよい。ゲート金属層を端子部としても使用する場合は最上層はTi、TiN、ITO、IZO等の安定な材料とする必要がある。ゲート電極34の膜厚は例えば、150nmである。   A gate insulating film 33 is formed so as to cover the semiconductor layer 32. As the gate insulating film 33, silicon oxide or silicon nitride formed by a CVD method or a laminated film thereof is used. The film thickness of the gate insulating film 33 is, for example, 100 nm. A gate metal layer to be the gate electrode 34 is formed on the gate insulating film 33 by sputtering or the like. By patterning this metal layer, not only the gate electrode 34 but also the gate wiring layer is formed. As the gate metal layer, a refractory metal such as Mo, W, Ta, Ti, or an alloy of these metals is suitable. Furthermore, a laminated film of these metals or alloys may be used. When the gate metal layer is also used as the terminal portion, the uppermost layer needs to be made of a stable material such as Ti, TiN, ITO, or IZO. The film thickness of the gate electrode 34 is 150 nm, for example.

ゲート電極34を覆って層間絶縁膜35が形成される。この層間絶縁膜35はゲート電極34と接続されるゲート配線と、SD配線層36と接続される信号配線との絶縁をする役目をもつ。層間絶縁膜35はCVDで形成される酸化シリコンあるいは、窒化シリコンがもちいられる。層間絶縁膜35の膜厚は例えば、500nmである。   An interlayer insulating film 35 is formed to cover the gate electrode 34. The interlayer insulating film 35 serves to insulate the gate wiring connected to the gate electrode 34 and the signal wiring connected to the SD wiring layer 36. The interlayer insulating film 35 is made of silicon oxide or silicon nitride formed by CVD. The film thickness of the interlayer insulating film 35 is, for example, 500 nm.

この層間絶縁膜35を覆って、SD配線層36となるSD金属層がスパッタリング等によって形成される。SD金属層はパターニングされて信号線になるとともに、層間絶縁層に形成されたスルーホールを介して半導体層32のソース部あるいはドレイン部と接続する。SD配線層36を覆って、TFT等を保護するためのパッシベーション膜が形成される。パッシベーション膜は2層構造である。下層パッシベーション膜37はSiN膜等の無機膜を100nmないし200nm形成する。不純物の進入はこの下層膜が主として受け持つ。上層パッシベーション膜38は例えば、アクリル樹脂等の有機樹脂を1ミクロン程度あるいはそれ以上の膜厚で形成する。この上層パッシベーション膜38は表面を平坦化するために形成される。   An SD metal layer to be the SD wiring layer 36 is formed by sputtering or the like so as to cover the interlayer insulating film 35. The SD metal layer is patterned to become a signal line, and is connected to the source part or the drain part of the semiconductor layer 32 through a through hole formed in the interlayer insulating layer. A passivation film for protecting the TFT and the like is formed covering the SD wiring layer 36. The passivation film has a two-layer structure. As the lower passivation film 37, an inorganic film such as a SiN film is formed to a thickness of 100 nm to 200 nm. This lower layer film is mainly responsible for the entry of impurities. The upper passivation film 38 is made of, for example, an organic resin such as an acrylic resin with a thickness of about 1 micron or more. This upper passivation film 38 is formed to flatten the surface.

そして、平坦な有機パッシベーション膜38の上に有機EL層42の下部電極41となる配線層を形成する。下部電極41となる配線層はパッシベーション膜に形成されたスルーホールを通してSD配線層36と接続する。トップエミッションタイプにおいては、下部電極41は次のような特性を有する必要がある。すなわち、有機EL層42からの光を反射する必要があるので、充分な反射率をもつこと、下部電極41あるいはパッシベーション膜上に形成されるバンク39のエッチング等に使用されるエッチング液等に耐えること、有機EL層42に対する電子注入特性を有すること等である。   Then, a wiring layer to be the lower electrode 41 of the organic EL layer 42 is formed on the flat organic passivation film 38. The wiring layer to be the lower electrode 41 is connected to the SD wiring layer 36 through a through hole formed in the passivation film. In the top emission type, the lower electrode 41 needs to have the following characteristics. That is, since it is necessary to reflect the light from the organic EL layer 42, it has sufficient reflectivity and can withstand an etching solution used for etching the lower electrode 41 or the bank 39 formed on the passivation film. That is, it has an electron injection characteristic for the organic EL layer 42.

有機EL膜の下部電極41を形成した後、バンク39形成のためのアクリル膜がコーティングされる。このアクリル膜をエッチングによって、部分的に除去する。アクリル膜の除去された部分には有機EL膜の下部電極41が露出する。アクリル膜の残った部分が画素を分離するバンク39となる。なお、バンク39は有機膜に限る必要はなく、SiN膜のような無機膜でもよい。   After forming the lower electrode 41 of the organic EL film, an acrylic film for forming the bank 39 is coated. This acrylic film is partially removed by etching. The lower electrode 41 of the organic EL film is exposed at the portion where the acrylic film is removed. The remaining portion of the acrylic film becomes a bank 39 for separating pixels. Note that the bank 39 is not limited to an organic film, and may be an inorganic film such as a SiN film.

アクリル膜が除去されて下部電極41が露出した部分に有機EL層42が堆積される。この有機EL層42は先に説明したように複数の膜から形成される。図2においては、有機EL層42は画素毎に分離しているが、かならずしも分離する必要は無い。いずれの画素にも同一の有機EL層42が形成されるからである。白色発光方式は有機EL層42を分離する必要が無いことが利点である。   An organic EL layer 42 is deposited on the portion where the acrylic film is removed and the lower electrode 41 is exposed. As described above, the organic EL layer 42 is formed of a plurality of films. In FIG. 2, the organic EL layer 42 is separated for each pixel, but is not necessarily separated. This is because the same organic EL layer 42 is formed in any pixel. The white light emission method is advantageous in that it is not necessary to separate the organic EL layer 42.

そして、有機EL層42の上には陽極となる透明導電膜が形成される。本発明はトップエミッションタイプであるため、陽極となる上部電極43は透明電極である必要がある。さらに、上部電極43は有機EL層42に対してホールの注入効率の高いものである必要がある。上部電極43は有機EL層42に対して一定の直流電圧を加えるものであるため、画素毎に分離しなくともよい。また、外気にさらされる機会もあるために、化学的にも安定である必要がある。さらに長期間にわたって、抵抗等の電気的特性も安定である必要がある。本実施例に用いることができる上部電極43の材料としては、ITO、IZO、WO等である。 A transparent conductive film that serves as an anode is formed on the organic EL layer 42. Since the present invention is a top emission type, the upper electrode 43 serving as an anode needs to be a transparent electrode. Further, the upper electrode 43 needs to have a high hole injection efficiency with respect to the organic EL layer 42. Since the upper electrode 43 applies a constant DC voltage to the organic EL layer 42, it does not have to be separated for each pixel. Moreover, since there is an opportunity to be exposed to the outside air, it is necessary to be chemically stable. Furthermore, electrical characteristics such as resistance must be stable over a long period of time. The material of the upper electrode 43 that can be used in this embodiment is ITO, IZO, WO 3 or the like.

上部電極43の上には適当な間隔をおいてカラーフィルタ基板2が設置される。カラーフィルタ基板2には赤、緑、青のカラーフィルタとブラックマトリクス(BM)が形成されている。なお、カラーフィルタおよびBM51の上に保護膜が形成されるが、図2では省略してある。BM51とバンク39の間に間隔を制御するためのスペーサ6が形成される。このスペーサ6はカラーフィルタ基板2に形成されたBM51上にフォトリソグラフィ法で形成され、基板1側のバンク39と当接する。   On the upper electrode 43, the color filter substrate 2 is installed at an appropriate interval. On the color filter substrate 2, red, green and blue color filters and a black matrix (BM) are formed. Although a protective film is formed on the color filter and the BM 51, it is omitted in FIG. A spacer 6 for controlling the interval is formed between the BM 51 and the bank 39. The spacer 6 is formed by photolithography on the BM 51 formed on the color filter substrate 2 and comes into contact with the bank 39 on the substrate 1 side.

図2のような構成においては、例えば、4Gから出射する光は緑色のカラーフィルタ5Gに入射することが想定されている。ここで問題となるのは、例えば、4Gから出射する光が赤色のカラーフィルタ5Rに入射するような場合である。図2の矢印で示すような光は緑の色純度を劣化させることになる。本発明の目的は図2の矢印に示すような光による色純度の劣化を防止することである。   In the configuration as shown in FIG. 2, for example, it is assumed that light emitted from 4G enters the green color filter 5G. The problem here is, for example, the case where the light emitted from 4G enters the red color filter 5R. Light as indicated by the arrows in FIG. 2 will degrade the color purity of green. An object of the present invention is to prevent deterioration of color purity due to light as indicated by an arrow in FIG.

有機ELの上部電極43とカラーフィルタの間に間隔が存在している限り図2の矢印のような光が存在することは避けられない。本発明は、このような光が存在しても、屈折率の差による全反射を利用することによって、図2の矢印に示すような光が外へ出ないようにして、色純度の劣化を防止するものである。   As long as there is a gap between the upper electrode 43 of the organic EL and the color filter, it is inevitable that light as shown by the arrow in FIG. 2 exists. In the present invention, even if such light is present, the total reflection due to the difference in refractive index is used to prevent the light as shown by the arrow in FIG. It is to prevent.

図3に本実施例を説明するための断面模式図を示す。図3は説明を簡単にするために、詳細構造は省略してある。図3において、発光部4Gから出射される光は緑のカラーフィルタ5Gに入射すると想定されている。しかし、一部の光は緑フィルタ以外に向かう。ここで、発光部4Gの端部を出た白色光が矢印に示すように、赤フィルタ5Rの端部に達して、そのときのカラーフィルタ基板2の主面との角度がCであるとする。この矢印の光がガラス基板面で全反射して、看者の目に触れなければ、色純度は劣化しないことになる。   FIG. 3 shows a schematic cross-sectional view for explaining the present embodiment. In FIG. 3, the detailed structure is omitted for the sake of simplicity. In FIG. 3, it is assumed that the light emitted from the light emitting unit 4G is incident on the green color filter 5G. However, part of the light goes to other than the green filter. Here, as shown by the arrow, the white light emitted from the end of the light emitting unit 4G reaches the end of the red filter 5R, and the angle with the main surface of the color filter substrate 2 at that time is C. . If the light of this arrow is totally reflected on the glass substrate surface and does not touch the viewer's eyes, the color purity will not deteriorate.

全反射の条件を求めるために、図4を参照して説明する。有機ELの発光部4を出射した光は先ずフィルタに入射して屈折し、さらにガラス基板に屈折して入射し、最後にガラス基板から空気中に出射する。各層の主面と光線との角度は図4におけるC1、C2,C3として示すとおりである。図4ではカラーフィルタの屈折率はカラーフィルタ基板2の屈折率よりも大きいと仮定している。図4からわかるように、発光部4からの光がカラーフィルタ基板2と外気との界面で全反射するか否かは、角度C1の大きさによる。そして、この角度C1は、カラーフィルタ層に入射する角度C1と同じである。したがって、光が全反射するか否かは、発光部4から出射した光が、カラーフィルタ基板2に入射する角度C1を評価すればよいことになる。   In order to obtain the total reflection condition, a description will be given with reference to FIG. The light emitted from the light emitting portion 4 of the organic EL is first incident on the filter and refracted, further refracted and incident on the glass substrate, and finally exits from the glass substrate into the air. The angle between the principal surface of each layer and the light beam is as shown as C1, C2, and C3 in FIG. In FIG. 4, it is assumed that the refractive index of the color filter is larger than the refractive index of the color filter substrate 2. As can be seen from FIG. 4, whether or not the light from the light emitting unit 4 is totally reflected at the interface between the color filter substrate 2 and the outside air depends on the size of the angle C1. The angle C1 is the same as the angle C1 incident on the color filter layer. Therefore, whether or not the light is totally reflected may be determined by evaluating the angle C1 at which the light emitted from the light emitting unit 4 enters the color filter substrate 2.

ここで、図3にもどり、光が全反射する条件を求める。カラーフィルタ基板2はノンアルカリガラスであり、屈折率は1.51ないし1.54である。この場合の臨界角は、sinC=1/nから、Cは40度ないし41度である。すなわち、角度Cが41度よりも大きければ全反射をして図3に示す矢印の光は赤フィルタ5Rを透過しない。したがって、色純度は劣化しないことになる。図3において、発光部4Gおいて、矢印よりも右側から出射した光は角度Cが大きくなる。したがって、矢印の光が全反射すれば、他の光も全反射することになる。   Here, returning to FIG. 3, a condition for total reflection of light is obtained. The color filter substrate 2 is non-alkali glass and has a refractive index of 1.51 to 1.54. In this case, the critical angle is sin C = 1 / n, and C is 40 degrees to 41 degrees. That is, if the angle C is greater than 41 degrees, the light is totally reflected and the light indicated by the arrow shown in FIG. 3 does not pass through the red filter 5R. Therefore, the color purity does not deteriorate. In FIG. 3, the angle C of the light emitted from the right side of the arrow in the light emitting unit 4G becomes larger. Therefore, if the light of the arrow is totally reflected, the other light is also totally reflected.

図3においてはBM51の幅WBMはバンク39の幅WBANKよりも小さいと仮定している。また、図3においては基板1とカラーフィルタ基板2との合わせ精度が完全であると仮定している。この場合、図3において、全反射するか否かの条件は、発光部4とカラーフィルタ部5の距離をDとし、BM51の幅をWBM、バンク39の幅をWBANKとしたとき、TanC≦{WBM+(WBANK−WBM)/2}/Dとなる。ここで、TanC=0.87であるから、0.87D≦WBM+(WBANK−WBM)/2の条件を満たせば、全反射が生じ、色純度は劣化しないことになる。   In FIG. 3, it is assumed that the width WBM of the BM 51 is smaller than the width WBANK of the bank 39. In FIG. 3, it is assumed that the alignment accuracy between the substrate 1 and the color filter substrate 2 is perfect. In this case, in FIG. 3, the condition of whether or not the total reflection is performed is as follows. The distance between the light emitting unit 4 and the color filter unit 5 is D, the width of the BM 51 is WBM, and the width of the bank 39 is WBANK. WBM + (WBANK-WBM) / 2} / D. Here, since TanC = 0.87, total reflection occurs and the color purity does not deteriorate if the condition of 0.87D ≦ WBM + (WBANK−WBM) / 2 is satisfied.

図5に高精細有機EL表示装置のカラーフィルタの配置例を示す。この画素配置は300ドット/インチ程度の精細度である。ここで、1ドットは図5に示すR、G、Bの1組を意味する。仮にバンク39の幅WBANKがBM51の幅WBMと同じであると仮定した場合、0.87D≦10μmとなって、発光部4とカラーフィルタの距離は11μm以下であれば色純度の劣化は生じないことになる。   FIG. 5 shows an arrangement example of the color filters of the high-definition organic EL display device. This pixel arrangement has a definition of about 300 dots / inch. Here, one dot means one set of R, G, and B shown in FIG. Assuming that the width WBANK of the bank 39 is the same as the width WBM of the BM 51, 0.87D ≦ 10 μm, and if the distance between the light emitting unit 4 and the color filter is 11 μm or less, the color purity does not deteriorate. It will be.

実際には基板1とカラーフィルタ基板2との合わせ精度は完全ではなく、図6に示すように、δのようなズレが生ずる。このズレδは実績から6μm程度である。これをもとに、上記と同様、バンク39の幅とBM51の幅が同一であると仮定し、図5のような画素配置で評価すると、0.87D≦(10−6)μmとなる。したがって、Dの値は4.4μm以下であれば色純度の劣化は無いことになる。   Actually, the alignment accuracy between the substrate 1 and the color filter substrate 2 is not perfect, and as shown in FIG. This deviation δ is about 6 μm from the actual results. Based on this, as described above, assuming that the width of the bank 39 and the width of the BM 51 are the same, and evaluating with the pixel arrangement as shown in FIG. 5, 0.87D ≦ (10−6) μm. Therefore, when the value of D is 4.4 μm or less, there is no deterioration in color purity.

この場合の発光部4とカラーフィルタ部5の距離をコントロールするためにスペーサ6を用いるが、このスペーサ6は図2に示すように、BM51上にフォトリソグラフィ法により、例えば、アクリルで柱状に形成する。スペーサ6はバンク39に当接するので、スペーサ6の高さをどの程度にするかはバンク39の高さHBによって決定される。バンク39はアクリルのような樹脂で形成する場合は、1μmないし2μmである。したがって、この場合はスペーサ6の高さは2.4μmから3.4μmになる。一方、バンク39をSiNのような無機膜で形成する場合は、0.1μm程度の膜厚であるから、Dの値は、ほぼスペーサ6の値になると考えてよい。   In this case, a spacer 6 is used to control the distance between the light emitting portion 4 and the color filter portion 5, and this spacer 6 is formed on the BM 51 by a photolithography method, for example, in an acrylic columnar shape as shown in FIG. To do. Since the spacer 6 abuts against the bank 39, the height of the spacer 6 is determined by the height HB of the bank 39. When the bank 39 is formed of a resin such as acrylic, it is 1 μm to 2 μm. Therefore, in this case, the height of the spacer 6 is changed from 2.4 μm to 3.4 μm. On the other hand, when the bank 39 is formed of an inorganic film such as SiN, the thickness of the bank 39 is about 0.1 μm.

発光部4とカラーフィルタ部5の距離Dは例えば、4.4μm以下であれば全反射が生じて、理論的には色純度の劣化は生じないことになる。しかし、実際にはカラーフィルタに最大1ミクロン程度の凹凸があり、この凹凸の凸部が発光部の有機EL膜に接触すると有機EL膜が破壊される恐れがある。特にバンク39に無機材料を使用した場合はバンク39の高さが小さいために、カラーフィルタが発光部の有機EL膜に接触する可能性が非常に高い。また、バンク39が有機膜の場合であっても、高さが1μm程度以下の場合はカラーフィルタと発光部の有機EL膜との接触の危険が大きい。このように、本実施例においては、発光部の有機EL膜を保護する点からもスペーサ6の役割は大きい。   If the distance D between the light emitting unit 4 and the color filter unit 5 is, for example, 4.4 μm or less, total reflection occurs, and theoretically, the color purity does not deteriorate. However, in actuality, the color filter has irregularities of up to about 1 micron, and the organic EL film may be destroyed if the irregularities come into contact with the organic EL film of the light emitting portion. In particular, when an inorganic material is used for the bank 39, since the height of the bank 39 is small, the possibility that the color filter contacts the organic EL film of the light emitting portion is very high. Even when the bank 39 is an organic film, the risk of contact between the color filter and the organic EL film of the light emitting portion is great if the height is about 1 μm or less. Thus, in this embodiment, the role of the spacer 6 is great from the viewpoint of protecting the organic EL film of the light emitting portion.

図2においては、スペーサはカラーフィルタ基板2のBM51上にアクリルを柱状に形成した、いわゆるSOC(Spacer On Color Filter)であるが、スペーサはこれに限らず、図7に示すように有機材料、例えば、アクリルで形成された球状のものを用いてもよい。   In FIG. 2, the spacer is a so-called SOC (Spacer On Color Filter) in which acrylic is formed in a columnar shape on the BM 51 of the color filter substrate 2. However, the spacer is not limited to this, and an organic material, as shown in FIG. For example, you may use the spherical thing formed with the acryl.

以上のべたように、本実施例によれば、液晶表示装置ですでに実績のある、カラーフィルタ基板2を有機EL表示装置に用いることにより、量産性があり、かつ、色純度の劣化のない、有機EL表示装置を実現することができる。本発明にBM幅が10μm以下となるような高精細の表示装置において特に効果がる。   As described above, according to this embodiment, the color filter substrate 2 that has already been proven in the liquid crystal display device is used for the organic EL display device, so that it can be mass-produced and the color purity is not deteriorated. An organic EL display device can be realized. The present invention is particularly effective in a high-definition display device having a BM width of 10 μm or less.

図8に本発明の第2の実施例の概略断面図を示す。図8はカラーフィルタ基板を別途製作せず、カラーフィルタ部5と発光部を同一の基板上に形成するものである。図8において、基板1上にまず、カラーフィルタ層を形成する。その上に有機材料、例えば、アクリルを平坦化膜として形成する。充分な平坦化のためにアクリル膜は2μm形成する。平坦化膜の上にアンダーコート膜31を形成し、TFT部3を形成する。TFT部3の上に有機EL層を含む発光部を形成する。実施例2における有機EL表示装置はボトムエミッションタイプであり、図8における矢印Lの方向に光が出射する。図8において、背面ガラス板200は、枠材7を介して、有機EL表示装置の内部を気密に封止し、有機EL膜を水分等の影響から保護する。   FIG. 8 shows a schematic cross-sectional view of the second embodiment of the present invention. In FIG. 8, a color filter substrate is not separately manufactured, and the color filter portion 5 and the light emitting portion are formed on the same substrate. In FIG. 8, a color filter layer is first formed on a substrate 1. An organic material such as acrylic is formed thereon as a planarizing film. An acrylic film is formed with a thickness of 2 μm for sufficient planarization. An undercoat film 31 is formed on the planarizing film, and the TFT portion 3 is formed. A light emitting part including an organic EL layer is formed on the TFT part 3. The organic EL display device in Example 2 is a bottom emission type, and light is emitted in the direction of arrow L in FIG. In FIG. 8, the back glass plate 200 hermetically seals the inside of the organic EL display device through the frame member 7 and protects the organic EL film from the influence of moisture and the like.

図9は実施例2の詳細断面図である。図9において、基板1上にまず、カラーフィルタ部5が形成される。カラーフィルタ部5は赤フィルタ5R、緑フィルタ5G、青フィルタ5Bが形成され、各フィルタの間はBM51が形成されている。カラーフィルタのうえには、平坦化膜が例えば、アクリル樹脂によって、2μm程度またはそれ以上の厚さで形成される。その上に無機のアンダーコート膜31が形成される。この無機のアンダーコート膜31は実施例1の場合と同じ役割をもつ。その後、TFT層が形成されることは実施例1と同じである。   FIG. 9 is a detailed sectional view of the second embodiment. In FIG. 9, first, the color filter portion 5 is formed on the substrate 1. The color filter unit 5 includes a red filter 5R, a green filter 5G, and a blue filter 5B, and a BM 51 is formed between the filters. On the color filter, a planarizing film is formed with an acrylic resin, for example, with a thickness of about 2 μm or more. An inorganic undercoat film 31 is formed thereon. This inorganic undercoat film 31 has the same role as in the first embodiment. Thereafter, the TFT layer is formed as in the first embodiment.

本実施例はボトムエミッションタイプであるため、図9の下部電極41、有機EL層42、上部電極43は実施例1と異なっている。すなわち、下部電極41は陽極となり、透明電極が使用される。この透明電極の材料としてはITO、IZO、WO等が使用される。有機EL層42は実施例1とは逆に、下からホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層が堆積される。発光層は実施例1と同じように、白色発光をする有機EL材料が使用される。そして、陰極となる上部電極43は反射率の高いAlまたはAl合金等が使用される。 Since this embodiment is a bottom emission type, the lower electrode 41, the organic EL layer 42, and the upper electrode 43 in FIG. 9 are different from those in the first embodiment. That is, the lower electrode 41 serves as an anode, and a transparent electrode is used. As the material of the transparent electrode, ITO, IZO, WO 3 or the like is used. Contrary to Example 1, the organic EL layer 42 has a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer deposited from below. As in the first embodiment, an organic EL material that emits white light is used for the light emitting layer. The upper electrode 43 serving as the cathode is made of Al or Al alloy having a high reflectance.

上部電極43の上には有機EL層42を水分等から保護するための背面ガラス板200が設置され、背面ガラス板200は表示装置の周辺部において枠材7を介して表示装置の内部を気密に保つ。実施例2はボトムエミッションであるので、封止のための部材としてはかならずしも背面カラス板のような透明部材である必要はなく、封止缶のような金属でも良い。   A rear glass plate 200 for protecting the organic EL layer 42 from moisture and the like is installed on the upper electrode 43, and the rear glass plate 200 airtightly seals the inside of the display device through the frame member 7 in the peripheral portion of the display device. Keep on. Since Example 2 is bottom emission, the member for sealing does not necessarily need to be a transparent member such as a back glass plate, and may be a metal such as a sealing can.

この場合も実施例1と同じように、発光層からの白色光が他のカラーフィルタに入射し、カラス面から外部に出射されると色純度の劣化をきたす。この状況を図10に示す。図10において、発光部4Rから出射した白色光は赤フィルタ5Rに入射すると想定されているが、図10の矢印のように、斜め方向に向かう光は緑フィルタ5Gに入射する。このような場合も矢印の光が全反射して基板1から出射しなければ、色純度の劣化は避けることができる。   Also in this case, as in Example 1, when the white light from the light emitting layer enters the other color filter and is emitted to the outside from the crow surface, the color purity is deteriorated. This situation is shown in FIG. In FIG. 10, it is assumed that the white light emitted from the light emitting unit 4R is incident on the red filter 5R, but the light traveling in the oblique direction is incident on the green filter 5G as indicated by an arrow in FIG. Even in such a case, deterioration of color purity can be avoided if the light of the arrow is not totally reflected and emitted from the substrate 1.

光が全反射する条件を実施例1と同様な考え方によって、導くと、TanC≦{WBM+(WBANK−WBM)/2}/(HTFT+HF)となる。ここで、HTFTはTFT部3全体の厚さ、HFは平坦化膜の厚さである。WBMはBM膜の幅であり、WBANKはバンク39の幅である。すなわち、カラーフィルタへの入射角が臨界角Cよりも大きければ、全反射がおき、色純度の劣化は避けることができる。   If the conditions under which light is totally reflected are derived in the same way as in the first embodiment, TanC ≦ {WBM + (WBANK−WBM) / 2} / (HTFT + HF). Here, HTFT is the thickness of the entire TFT section 3, and HF is the thickness of the planarizing film. WBM is the width of the BM film, and WBANK is the width of the bank 39. That is, if the incident angle to the color filter is larger than the critical angle C, total reflection occurs, and deterioration of color purity can be avoided.

本発明の特に重要な点は、ボトムエミッションのように、有機EL層42からの光が、多くの層を通過した後、ガラス基板表面から出射して画像を形成するような複雑な系に対しても、上述のような簡単な式によって色純度を劣化させない条件を得ることができる点である。   A particularly important point of the present invention is that it is difficult for a complex system such as bottom emission in which light from the organic EL layer 42 passes through many layers and is then emitted from the surface of the glass substrate to form an image. However, a condition that does not degrade the color purity can be obtained by the simple formula as described above.

なお、本実施例において注意すべき点は、有機EL層42からの白色光がTFTの半導体部に達すると光によって半導体が誤動作をするという点である。したがって、本実施例を実現するためには、半導体層32に対して、有機EL層42からの白色光を遮光する構造とすることが必要である。   It should be noted that in this embodiment, when white light from the organic EL layer 42 reaches the semiconductor portion of the TFT, the semiconductor malfunctions due to the light. Therefore, in order to realize the present embodiment, it is necessary to make the semiconductor layer 32 have a structure that shields white light from the organic EL layer 42.

以上のように本発明を用いれば、白色発光有機EL層42をボトムエミッションタイプの有機EL表示装置に使用した場合も、色純度を劣化させないような表示装置の実現が可能になる。   As described above, when the present invention is used, even when the white light emitting organic EL layer 42 is used in a bottom emission type organic EL display device, it is possible to realize a display device that does not deteriorate the color purity.

図11は本発明によって構成された画素を有する有機EL表示装置の基板1の平面図である。実施例1はこの基板1に対向してカラーフィルタ基板2が設置される。実施例2においては、基板1上にカラーフィルタ部5が形成されたあと、以下に述べる駆動部が形成されることになる。   FIG. 11 is a plan view of a substrate 1 of an organic EL display device having pixels constructed according to the present invention. In the first embodiment, a color filter substrate 2 is installed facing the substrate 1. In the second embodiment, after the color filter portion 5 is formed on the substrate 1, the drive portion described below is formed.

基板1の中央の大部分には表示領域121が形成されている。この表示領域の両側に走査信号駆動回路122、123が配置されている。各走査信号駆動回路122、123からはゲート信号線が延在している。左側の走査信号駆動回路122からのゲート信号線124と右側の走査信号駆動回路123からのゲート信号線125とは交互に配置されている。   A display area 121 is formed in most of the center of the substrate 1. Scan signal driving circuits 122 and 123 are arranged on both sides of the display area. Gate signal lines extend from the scanning signal drive circuits 122 and 123. The gate signal lines 124 from the left scanning signal driving circuit 122 and the gate signal lines 125 from the right scanning signal driving circuit 123 are alternately arranged.

表示領域121の下側には映像信号駆動回路126が配置され、このデータ信号駆動回路からは表示領域121側にデータ信号線127が延在している。表示領域121の上側には電流供給母線128が配置され、この電流供給母線128からは表示領域121側に電流供給線129が延在している。   A video signal driving circuit 126 is disposed below the display area 121, and a data signal line 127 extends from the data signal driving circuit to the display area 121 side. A current supply bus 128 is disposed above the display area 121, and a current supply line 129 extends from the current supply bus 128 toward the display area 121.

データ信号線127と電流供給線129は交互に配置され、これにより、これらデータ信号線127、電流供給線129、および前記ゲート信号線124、ゲート信号線125で囲まれた各領域において一つの画素PXの領域を構成する。この画素PXの断面が図2に示す本発明の断面図である。   The data signal lines 127 and the current supply lines 129 are alternately arranged, so that one pixel is formed in each region surrounded by the data signal lines 127, the current supply lines 129, and the gate signal lines 124 and the gate signal lines 125. The PX area is configured. The cross section of the pixel PX is a cross sectional view of the present invention shown in FIG.

表示領域の上側にはコンタクトホール群130が形成されている。コンタクトホール群130は表示領域全域に形成される有機EL層42の上部電極43を、絶縁膜の下に形成されていて端子まで延在する配線と電気的に接続する役割をもつ。表示領域の下側には端子131が形成され、これらの端子131から走査信号、データ信号、有機EL層42に対する陽極電位、陰極電位等が供給される。   A contact hole group 130 is formed on the upper side of the display area. The contact hole group 130 has a role of electrically connecting the upper electrode 43 of the organic EL layer 42 formed over the entire display region to a wiring formed under the insulating film and extending to the terminal. Terminals 131 are formed below the display area, and scanning signals, data signals, an anode potential, a cathode potential, and the like for the organic EL layer 42 are supplied from these terminals 131.

表示領域121、走査信号駆動回路122、123、映像信号駆動回路126、電流供給母線128を囲むようにして封着材71が形成され、この部分にカラーフィルタ基板2あるいは背面ガラス板200を封止する枠材7が封着される。封着材71の外側の基板1には端子部131が形成され、この端子から、走査信号駆動回路122、123、映像信号駆動回路126、電流供給母線128等に信号または電流が供給される。   A sealing material 71 is formed so as to surround the display area 121, the scanning signal driving circuits 122 and 123, the video signal driving circuit 126, and the current supply bus 128, and a frame for sealing the color filter substrate 2 or the rear glass plate 200 in this portion. The material 7 is sealed. Terminal portions 131 are formed on the substrate 1 outside the sealing material 71, and signals or currents are supplied from these terminals to the scanning signal drive circuits 122 and 123, the video signal drive circuit 126, the current supply bus 128, and the like.

本発明の第1実施例の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of 1st Example of this invention. 本発明の第1実施例の画素部の詳細断面図である。It is a detailed sectional view of the pixel portion of the first embodiment of the present invention. 本発明の第1実施例を説明する断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram explaining 1st Example of this invention. 本発明の補助説明図である。It is auxiliary explanatory drawing of this invention. 本発明が適用される画素部の平面図である。It is a top view of the pixel part to which this invention is applied. 本発明の第1実施例の他の形態を説明する断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram explaining the other form of 1st Example of this invention. 本発明の第1実施例のさらに他の形態を説明する断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram explaining the further another form of 1st Example of this invention. 本発明の第2実施例の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of 2nd Example of this invention. 本発明の第2実施例の画素部の詳細断面図である。It is a detailed sectional view of the pixel portion of the second embodiment of the present invention. 本発明の第2実施例を説明する断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram explaining 2nd Example of this invention. 本発明の表示装置の全体平面図である。1 is an overall plan view of a display device of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1…基板、2…カラーフィルタ基板、 3…TFT部、 4…発光部、 5…カラーフィルタ部、 6…スペーサ、 7…枠材、31…アンダーコート膜、 32…半導体層、 33…ゲート絶縁膜、 34…ゲート電極、 35…層間絶縁膜、 36…SD配線層、 37…下層パッシベーション膜、 38…上層パッシベーション膜、 39…バンク、 41…下部電極、 42…有機EL層、 43…上部電極、 51…ブラックマトリクス、 200…背面ガラス板、 4R…赤発光部、 4G…緑発光部、4B…青発光部、5R…赤フィルタ、 5G…緑フィルタ、5B…青フィルタ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Board | substrate, 2 ... Color filter board | substrate, 3 ... TFT part, 4 ... Light emission part, 5 ... Color filter part, 6 ... Spacer, 7 ... Frame material, 31 ... Undercoat film, 32 ... Semiconductor layer, 33 ... Gate insulation Film 34... Gate electrode 35. Interlayer insulating film 36 SD wiring layer 37 lower passivation film 38 upper passivation film 39 bank 41 lower electrode 42 organic EL layer 43 upper electrode 51 ... Black matrix, 200 ... Back glass plate, 4R ... Red light emitting part, 4G ... Green light emitting part, 4B ... Blue light emitting part, 5R ... Red filter, 5G ... Green filter, 5B ... Blue filter

Claims (20)

基板に有機EL層を含む画素がマトリクス状に配置され、前記有機EL層を挟んで下部電極と上部電極が形成され、前記下部電極と前記上部電極に電圧を印加して前記有機EL層から可視光を発光させ、前記基板と対向してカラーフィルタ基板を配置することによってカラー画像を形成する有機EL表示装置であって、前記カラーフィルタ基板には赤フィルタと緑フィルタと青フィルタが形成され、前記各カラーフィルタの間にはブラックマトリクスが形成され、前記基板と前記カラーフィルタ基板との間にはスペーサが形成されており、有機EL層を含む特定の画素は特定のカラーフィルタに対応し、前記特定の画素から出射する光は前記特定のカラーフィルタ以外のカラーフィルタでは全反射される構成であることを特徴とする有機EL表示装置。   Pixels including an organic EL layer are arranged in a matrix on a substrate, a lower electrode and an upper electrode are formed with the organic EL layer interposed therebetween, and a voltage is applied to the lower electrode and the upper electrode so that the pixel is visible from the organic EL layer. An organic EL display device that emits light and forms a color image by disposing a color filter substrate facing the substrate, wherein the color filter substrate is formed with a red filter, a green filter, and a blue filter, A black matrix is formed between the color filters, a spacer is formed between the substrate and the color filter substrate, and a specific pixel including the organic EL layer corresponds to a specific color filter. The light emitted from the specific pixel is configured to be totally reflected by a color filter other than the specific color filter. Display devices. 基板に有機EL層を含む画素がマトリクス状に配置され、前記有機EL層を挟んで下部電極と上部電極が形成され、前記下部電極と前記上部電極に電圧を印加して前記有機EL層から可視光を発光させ、前記基板と対向してカラーフィルタ基板を配置することによってカラー画像を形成する有機EL表示装置であって、前記カラーフィルタ基板には赤フィルタと緑フィルタと青フィルタが形成され、前記各カラーフィルタの間にはブラックマトリクスが形成され、前記基板と前記カラーフィルタ基板との間にはスペーサが形成されており、有機EL層を含む特定の画素は特定のカラーフィルタに対応し、前記特定画素の有機EL層と他の画素の有機EL層とはバンクによって隔てられ、前記特定画素の有機EL層と前記特定カラーフィルタとの距離Dと、前記カラーフィルタ間に形成される前記ブラックマトリクスの幅WBMと、前記バンクの幅WBANKの関係は、前記カラーフィルタ基板の屈折率をnとしたとき、
tan(sin(1/n))≦{WBM+(WBANK−WBM)/2}/D
となっていることを特徴とする有機EL表示装置。
Pixels including an organic EL layer are arranged in a matrix on a substrate, a lower electrode and an upper electrode are formed with the organic EL layer interposed therebetween, and a voltage is applied to the lower electrode and the upper electrode so that the pixel is visible from the organic EL layer. An organic EL display device that emits light and forms a color image by disposing a color filter substrate facing the substrate, wherein the color filter substrate is formed with a red filter, a green filter, and a blue filter, A black matrix is formed between the color filters, a spacer is formed between the substrate and the color filter substrate, and a specific pixel including the organic EL layer corresponds to a specific color filter. The organic EL layer of the specific pixel and the organic EL layer of another pixel are separated by a bank, and the organic EL layer of the specific pixel, the specific color filter, Distance and D, a width WBM of the black matrix formed between the color filters, relationships width WBANK of the bank, and the refractive index of the color filter substrate is n,
tan (sin - (1 / n )) ≦ {WBM + (WBANK-WBM) / 2} / D
An organic EL display device characterized by the above.
前記ブラックマトリクスの幅WBMと、前記バンクの幅WBANKは略々等しいことを特徴とする請求項2に記載の有機EL表示装置。   3. The organic EL display device according to claim 2, wherein a width WBM of the black matrix is substantially equal to a width WBANK of the bank. 前記スペーサの高さは1μm以上であることを特徴とする請求項2に記載の有機EL表示装置。   The organic EL display device according to claim 2, wherein a height of the spacer is 1 μm or more. 基板に有機EL層を含む画素がマトリクス状に配置され、前記有機EL層を挟んで下部電極と上部電極が形成され、前記下部電極と前記上部電極に電圧を印加して前記有機EL層から可視光を発光させ、前記基板と対向してカラーフィルタ基板を配置することによってカラー画像を形成する有機EL表示装置であって、前記カラーフィルタ基板には赤フィルタと緑フィルタと青フィルタが形成され、前記各カラーフィルタの間にはブラックマトリクスが形成され、前記基板と前記カラーフィルタ基板との間にはスペーサが形成され、有機EL層を含む特定の画素は特定のカラーフィルタに対応し、前記特定画素の有機EL層と他の画素の有機EL層とはバンクによって隔てられ、前記基板と前記カラーフィルタ基板とは前記ブラックマトリクスの幅方向にδなる量のズレが生じており、前期δと、前記特定画素の有機EL層と前記特定カラーフィルタとの距離Dと、前記カラーフィルタ間に形成される前記ブラックマトリクスの幅WBMと、前記バンクの幅WBANKの関係は、前記カラーフィルタ基板の屈折率をnとしたとき、
tan(sin(1/n))≦{WBM―δ+(WBANK−WBM)/2}/D
となっていることを特徴とする有機EL表示装置。
Pixels including an organic EL layer are arranged in a matrix on a substrate, a lower electrode and an upper electrode are formed with the organic EL layer interposed therebetween, and a voltage is applied to the lower electrode and the upper electrode so that the pixel is visible from the organic EL layer. An organic EL display device that emits light and forms a color image by disposing a color filter substrate facing the substrate, wherein the color filter substrate is formed with a red filter, a green filter, and a blue filter, A black matrix is formed between the color filters, and a spacer is formed between the substrate and the color filter substrate. A specific pixel including an organic EL layer corresponds to a specific color filter, and the specific filter The organic EL layer of the pixel and the organic EL layer of the other pixel are separated by a bank, and the substrate and the color filter substrate are separated from each other by the black matrix. Of the black matrix formed between the color filters and the distance D between the organic EL layer of the specific pixel and the specific color filter. And the relationship between the bank width WBANK and the refractive index of the color filter substrate is n,
tan (sin - (1 / n )) ≦ {WBM-δ + (WBANK-WBM) / 2} / D
An organic EL display device characterized by the above.
前記ブラックマトリクスの幅WBMと、前記バンクの幅WBANKは略々等しいことを特徴とする請求項5に記載の有機EL表示装置。   6. The organic EL display device according to claim 5, wherein a width WBM of the black matrix is substantially equal to a width WBANK of the bank. 前記スペーサの高さは1μm以上であることを特徴とする請求項5に記載の有機EL表示装置。   The organic EL display device according to claim 5, wherein a height of the spacer is 1 μm or more. 基板に有機EL層を含む画素がマトリクス状に配置され、前記有機EL層を挟んで下部電極と上部電極が形成され、前記下部電極と前記上部電極に電圧を印加して前記有機EL層から可視光を発光させ、前記基板と対向してカラーフィルタ基板を配置することによってカラー画像を形成する有機EL表示装置であって、前記有機EL層は他の画素の有機EL層とバンクによって隔てられ、前記カラーフィルタ基板は赤フィルタと緑フィルタと青フィルタが形成され、前記各カラーフィルタの間にはブラックマトリクスが形成され、前記基板と前記カラーフィルタ基板との間にはスペーサが形成されており、前記バンクの幅をWBANKとし、前記バンクの高さと前記スペーサの高さの合計をDDとし、前記カラーフィルタ間に形成される前記ブラックマトリクスの幅をWBMとし、前記カラーフィルタ基板の屈折率をnとしたとき、
tan(sin(1/n))≦{WBM+(WBANK−WBM)/2}/DD
となっていることを特徴とする有機EL表示装置。
Pixels including an organic EL layer are arranged in a matrix on a substrate, a lower electrode and an upper electrode are formed with the organic EL layer interposed therebetween, and a voltage is applied to the lower electrode and the upper electrode so that the pixel is visible from the organic EL layer. An organic EL display device that emits light and forms a color image by disposing a color filter substrate facing the substrate, wherein the organic EL layer is separated from an organic EL layer of another pixel by a bank, The color filter substrate is formed with a red filter, a green filter, and a blue filter, a black matrix is formed between the color filters, and a spacer is formed between the substrate and the color filter substrate, The width of the bank is WBANK, the sum of the height of the bank and the height of the spacer is DD, and the bank is formed between the color filters. The width of the black matrix and WBM, when the refractive index of the color filter substrate is n,
tan (sin - (1 / n )) ≦ {WBM + (WBANK-WBM) / 2} / DD
An organic EL display device characterized by the above.
前記バンクは有機樹脂で形成されていることを特徴とする請求項8に記載の有機EL表示装置。   The organic EL display device according to claim 8, wherein the bank is formed of an organic resin. 前記バンクは無機膜で形成されていることを特徴とする請求項8に記載の有機EL表示装置。   The organic EL display device according to claim 8, wherein the bank is formed of an inorganic film. 前記スペーサの高さは1μm以上であることを特徴とする請求項8に記載の有機EL表示装置。   The organic EL display device according to claim 8, wherein the spacer has a height of 1 μm or more. 前記スペーサは前記フィルタ基板に形成されたブラックマトリクス上に形成されていることを特徴とする請求項8に記載の有機EL表示装置。   The organic EL display device according to claim 8, wherein the spacer is formed on a black matrix formed on the filter substrate. 前記ブラックマトリクスの幅WBMと、前記バンクの幅WBANKは略々等しいことを特徴とする請求項8に記載の有機EL表示装置。   9. The organic EL display device according to claim 8, wherein the width WBM of the black matrix is substantially equal to the width WBANK of the bank. 基板に有機EL層を含む画素がマトリクス状に配置され、前記有機EL層を挟んで下部電極と上部電極が形成され、前記下部電極と前記上部電極に電圧を印加して前記有機EL層から可視光を発光させ、前記基板と対向してカラーフィルタ基板を配置することによってカラー画像を形成する有機EL表示装置であって、前記有機EL層は他の画素と無機材料で形成されたバンクによって隔てられ、前記カラーフィルタ基板には赤フィルタと緑フィルタと青フィルタが形成され、前記各カラーフィルタの間にはブラックマトリクスが形成され、前記基板と前記カラーフィルタ基板との間にはスペーサが形成されており、前記スペーサの高さをHSとし、前記バンクの幅をWBANKとし、前記カラーフィルタ間に形成される前記ブラックマトリクスの幅をWBMとし、前記カラーフィルタ基板の屈折率をnとしたとき、
tan(sin(1/n))≦{WBM+(WBANK−WBM)/2}/HS
となっていることを特徴とする有機EL表示装置。
Pixels including an organic EL layer are arranged in a matrix on a substrate, a lower electrode and an upper electrode are formed with the organic EL layer interposed therebetween, and a voltage is applied to the lower electrode and the upper electrode so that the pixel is visible from the organic EL layer. An organic EL display device that emits light and forms a color image by disposing a color filter substrate opposite to the substrate, wherein the organic EL layer is separated from other pixels by a bank formed of an inorganic material. A red filter, a green filter, and a blue filter are formed on the color filter substrate, a black matrix is formed between the color filters, and a spacer is formed between the substrate and the color filter substrate. The height of the spacer is HS, the width of the bank is WBANK, and the black matrix formed between the color filters is formed. Scan width of the WBM, when the refractive index of the color filter substrate is n,
tan (sin - (1 / n )) ≦ {WBM + (WBANK-WBM) / 2} / HS
An organic EL display device characterized by the above.
前記スペーサの高さは1μm以上であることを特徴とする請求項14に記載の有機EL表示装置。   The organic EL display device according to claim 14, wherein a height of the spacer is 1 μm or more. 前記スペーサはブラックマトリクス上に形成されていることを特徴とする請求項14に記載の有機EL表示装置。   The organic EL display device according to claim 14, wherein the spacer is formed on a black matrix. 基板上に赤フィルタと緑フィルタと青フィルタが形成され、前記各フィルタの間にはブラックマトリクスが形成されており、前記カラーフィルタ上には平坦化のための有機樹脂膜が形成され、前記有機樹脂膜の上には無機膜が形成され、前記無機膜上には半導体層、ゲート絶縁膜、ゲート電極、層間絶縁膜、パッシベーション膜を有するTFTを含む層が形成され、前記TFTを含む層の上に前記TFTを含む層を経由した信号に応じて可視光を放射する有機EL層が形成され、前記有機EL層はマトリクス状に配置されることによって前記基板上に画像を形成する有機EL表示装置であって、前記有機EL層の各々はバンクによって隔てられ、前記可視光を放射する有機EL層と前記赤フィルタまたは緑フィルタまたは青フィルタとの距離をDFとし、前記カラーフィルタ間に形成される前記ブラックマトリクスの幅をWBMとし、前記バンクの幅をWBANKとし、前記基板の屈折率をnとしたとき、
tan(sin(1/n))≦{WBM+(WBANK−WBM)/2}/DF
の関係を満足する有機EL表示装置。
A red filter, a green filter, and a blue filter are formed on the substrate, a black matrix is formed between the filters, an organic resin film for planarization is formed on the color filter, and the organic An inorganic film is formed on the resin film, and a layer including a TFT having a semiconductor layer, a gate insulating film, a gate electrode, an interlayer insulating film, and a passivation film is formed on the inorganic film. An organic EL layer that emits visible light in response to a signal that has passed through the layer including the TFT is formed thereon, and the organic EL layer is arranged in a matrix to form an image on the substrate. A device, wherein each of the organic EL layers is separated by a bank, and the distance between the organic EL layer emitting visible light and the red filter, green filter, or blue filter When the DF, the width of the black matrix formed between the color filter and WBM, the width of the bank and WBANK, the refractive index of the substrate is n,
tan (sin - (1 / n )) ≦ {WBM + (WBANK-WBM) / 2} / DF
Organic EL display that satisfies the above relationship.
前記パッシベーション膜は有機樹脂膜を含むことを特徴とする請求項17に記載の有機EL表示装置。   The organic EL display device according to claim 17, wherein the passivation film includes an organic resin film. 前記ブラックマトリクスの幅WBMと、前記バンクの幅WBANKは略々等しいことを特徴とする請求項17に記載の有機EL表示装置。   18. The organic EL display device according to claim 17, wherein a width WBM of the black matrix is substantially equal to a width WBANK of the bank. 前記パッシベーション膜は有機樹脂膜を含み、前記平坦化のための樹脂膜の厚さと前記パッシベーションに含まれる樹脂膜の膜厚の合計は3μm以上であることを特徴とする請求項17に記載の有機EL表示装置。
The organic material according to claim 17, wherein the passivation film includes an organic resin film, and a total thickness of the resin film for the planarization and a resin film included in the passivation is 3 μm or more. EL display device.
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