JP2008028099A - Device and method for exposure - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 54
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 abstract description 31
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 14
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 101100277917 Caenorhabditis elegans dmd-3 gene Proteins 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
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Abstract
Description
本発明は露光装置及び露光方法に関する。 The present invention relates to an exposure apparatus and an exposure method.
従来から、露光装置においては、光源の出力光が平行光でないことや発光部分の空間的な不均一性、光学素子の不完全さなどに起因して、基板表面に照射される光量分布にムラが生じ、露光量が不均一になるという問題があった。また、光源の出力光の強度分布が環境温度や経時劣化により変動して露光強度分布に影響を与えるという問題もあった。 Conventionally, in an exposure apparatus, the distribution of the amount of light irradiated on the substrate surface is uneven due to the fact that the output light of the light source is not parallel light, the spatial nonuniformity of the light emitting part, the imperfection of the optical elements, etc. As a result, there was a problem that the exposure amount became non-uniform. There is also a problem that the intensity distribution of the output light of the light source fluctuates due to the environmental temperature or deterioration with time and affects the exposure intensity distribution.
そこで、この露光強度分布の不均一という問題を解消するため、光源からの光を光学系により均一化する露光装置が提案されている。 Therefore, in order to solve the problem of non-uniform exposure intensity distribution, an exposure apparatus that makes light from a light source uniform by an optical system has been proposed.
例えば、特許文献1には、所定面で所望の光強度分布の光を形成する回折光学素子と、該回折光学素子に入射する光の角度分布を所望の分布に変換する角度分布変更手段とを含む照明光学系を備えた露光装置が記載されている。この角度変更手段としてはコリメータレンズ、インプットレンズ、ハエの目レンズ又はズームレンズが使用され、回折光学素子に入射する光の角度を制御することにより、回折光学素子において変形照明を形成して、光源の出力光を均一化するようになっている。
しかしながら、特許文献1に記載の露光装置のように、光源の出力光の均一化を光学系だけで実現しようとすると、複数の高価なレンズを用いた複雑な光学系を使用する必要があり、安定性の確保や調整が困難な上に、露光装置の製造コストが高くなるという問題があった。
However, as in the exposure apparatus described in
また、近年ではDMD(Digital Micro-mirror Device)などの空間光変調手段によって所望の画像パターンを形成し、この画像パターンを基板表面に照射する露光装置が使用されているが、この露光装置では画像パターンが書き込まれたフォトマスクを必要とせず、空間光変調手段によって画像パターンを自在に形成することが可能である。したがって、これまでは照明光強度分布の均一化技術は光学系の改良にのみ限られていたが、空間光変調手段を用いた露光装置では、空間光変調手段に工夫を施すことによって露光強度分布の均一化を図ることができる。 Further, in recent years, an exposure apparatus that forms a desired image pattern by a spatial light modulation means such as DMD (Digital Micro-mirror Device) and irradiates the surface of the substrate with this image pattern is used. It is possible to freely form an image pattern by the spatial light modulation means without requiring a photomask on which the pattern is written. Therefore, until now, the illumination light intensity distribution homogenization technique has been limited only to the improvement of the optical system, but in the exposure apparatus using the spatial light modulation means, the exposure intensity distribution can be obtained by devising the spatial light modulation means. Can be made uniform.
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、光学系による露光強度分布の均一化手法に頼ることなく、簡易な装置構成により露光分布を均一にすることを可能とする露光装置及び露光方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an exposure apparatus and an exposure method that can make the exposure distribution uniform with a simple apparatus configuration without relying on an exposure intensity distribution uniformization method using an optical system. The purpose is to provide.
上記課題を解決するために請求項1記載の発明は、画像データ作成手段により作成した画像データに基づき、光源の出力光を空間的に変調する空間光変調手段により画像パターンを形成し、この画像パターンを基板上に照射するように構成された露光装置において、前記空間光変調手段の各々の画素から基板上に投射される光の強度を順次フォトダイオードで測定し、前記画像データ作成手段は、前記フォトダイオードで測定された前記受光強度の最大値と前記空間光変調手段の各々の画素からの投射光の前記受光強度との比に基づき、前記基板上における画像パターン各部の投射光量が空間的に均一となるように前記各々の画素における露光時間を決定し、その露光時間と前記基板に形成すべき画像パターンとに基づいて、露光の際に光を投射すべき前記画像パターン各部の投射光量が空間的に均一となるように経時的に画像パターンが変化する画像パターンデータを生成し、前記空間光変調手段は前記画像パターンデータに基づいて画像パターンを形成し、この画像パターンを基板上に照射することを特徴とする。 In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to claim 1 forms an image pattern by spatial light modulation means for spatially modulating the output light of the light source based on the image data created by the image data creation means. In an exposure apparatus configured to irradiate a pattern onto a substrate, the intensity of light projected onto the substrate from each pixel of the spatial light modulation unit is sequentially measured with a photodiode, and the image data creation unit includes: Based on the ratio between the maximum value of the received light intensity measured by the photodiode and the received light intensity of the projection light from each pixel of the spatial light modulation means, the projected light amount of each part of the image pattern on the substrate is spatially The exposure time for each of the pixels is determined so as to be uniform, and light is applied during exposure based on the exposure time and the image pattern to be formed on the substrate. The image pattern data that changes over time is generated so that the amount of light projected to each part of the image pattern to be projected is spatially uniform, and the spatial light modulator forms an image pattern based on the image pattern data The image pattern is irradiated onto the substrate.
請求項2記載の発明は、請求項1記載の露光装置であって、前記画像データ作成手段は、階調表現された前記画像パターンデータの各画素における輝度レベルを2進数で表現し、その各ビットの重み付けにより配分された露光時間を各画素の階調に応じて点灯するような画像パターンデータを生成することを特徴とする。 A second aspect of the present invention is the exposure apparatus according to the first aspect, wherein the image data creating means expresses a luminance level in each pixel of the image pattern data expressed in gradation in binary numbers, and Image pattern data is generated such that the exposure time distributed by bit weighting is turned on according to the gradation of each pixel.
請求項3記載の発明は、作成した画像データに基づき、光源の出力光を空間的に変調する空間光変調手段に画像パターンを形成して、この画像パターンを基板上に照射する露光方法であって、前記空間光変調手段の各々の画素から基板上に投射される光の強度を順次フォトダイオードで測定し、前記フォトダイオードで測定された前記受光強度の最大値と前記空間光変調手段の各々の画素からの投射光の前記受光強度との比に基づき、前記基板上における画像パターン各部の投射光量が空間的に均一となるように前記各々の画素における露光時間を決定し、その露光時間と前記基板に形成すべき画像パターンとに基づいて、露光の際に光を投射すべき前記画像パターン各部の投射光量が空間的に均一となるように経時的に画像パターンが変化する画像パターンデータを生成し、前記画像パターンデータに基づき前記空間光変調手段に画像パターンを形成して、この画像パターンを基板上に照射することを特徴とする。 According to a third aspect of the present invention, there is provided an exposure method in which an image pattern is formed on a spatial light modulation means for spatially modulating the output light of a light source based on the created image data, and the substrate is irradiated with the image pattern. Then, the light intensity projected on the substrate from each pixel of the spatial light modulator is sequentially measured by a photodiode, and the maximum value of the received light intensity measured by the photodiode and each of the spatial light modulators Based on the ratio of the projection light from the pixel to the received light intensity, the exposure time in each pixel is determined so that the projected light quantity of each part of the image pattern on the substrate is spatially uniform, and the exposure time Based on the image pattern to be formed on the substrate, the image pattern changes over time so that the amount of light projected from each part of the image pattern to which light should be projected during exposure is spatially uniform. That the image pattern data to generate the image pattern data based on the form an image pattern on the spatial light modulating means, and then irradiating the image pattern on the substrate.
請求項4記載の発明は、請求項3記載の露光方法であって、階調表現された前記画像パターンデータの各画素における輝度レベルを2進数で表現し、その各ビットの重み付けにより配分された露光時間を各画素の階調に応じて点灯するような画像パターンデータを生成することを特徴とする。
The invention according to
請求項1又は請求項3記載の発明によれば、DMDの各画素から投射される光の強度とその最大値との比に基づき、露光面全体の投射光量が空間的に均一となるような各画素の露光時間を決定することができる。そして、各画素の露光時間と基板に形成すべき画像パターンとに基づき、露光の際に、光を投射すべきDMDの画素からの投射光量が空間的に均一となるように経時的に変化するような画像パターンデータを生成することが可能となる。この画像パターンデータは、DMDの各画素の中で露光面における光強度の小さい画素は露光時間を長く、光強度の大きい画素は露光時間を短くして露光面全体の投射光量を空間的に均一化するものである。これにより、複数の高価なレンズを用いた複雑な光学系を使用することなく、簡易な装置構成で露光分布を均一にすることが可能となる。 According to the first or third aspect of the invention, based on the ratio between the intensity of light projected from each pixel of the DMD and its maximum value, the amount of light projected on the entire exposure surface is spatially uniform. The exposure time for each pixel can be determined. Based on the exposure time of each pixel and the image pattern to be formed on the substrate, the amount of light projected from the DMD pixel to which light is projected changes over time so that light is projected upon exposure. Such image pattern data can be generated. In the image pattern data, among the pixels of the DMD, the pixel with low light intensity on the exposure surface has a long exposure time, and the pixel with high light intensity has a short exposure time so that the projection light amount on the entire exposure surface is spatially uniform. It is to become. Thereby, it is possible to make the exposure distribution uniform with a simple apparatus configuration without using a complicated optical system using a plurality of expensive lenses.
請求項2又は請求項4記載の発明によれば、画像パターンデータの輝度レベルを2進数で表現し、その各ビットの重み付けにより配分された露光時間によって各画素のON/OFFを制御することにより、1フレーム時間を均等に配分する方式に比べてDMDの各ミラーの駆動回数が大幅に減少するため、処理速度を高速化することが可能となる。 According to the second or fourth aspect of the present invention, the luminance level of the image pattern data is expressed by a binary number, and the ON / OFF of each pixel is controlled by the exposure time allocated by the weighting of each bit. Since the number of times of driving each mirror of the DMD is significantly reduced as compared with a method in which one frame time is evenly distributed, the processing speed can be increased.
(装置構成)
本実施形態に係る露光装置1は、所定の画像データに基づいて空間光変調手段としてのDMD(Digital Micro-mirror Device)2に画像パターンを形成し、この画像パターンをステージ3に支持された基板上に照射するものである。
(Device configuration)
The
図1に示すように、露光装置1は、光源4、コリメータレンズ5、ミラー6,7、DMD2、ミラー8、リレーレンズ9、対物レンズ10及びステージ3を含んで構成されており、露光分布の測定時にはステージ3上にフォトダイオード(Photodiode)11が載置されるようになっている。
As shown in FIG. 1, the
このうち光源4は、レーザやLEDなどにより構成され、基板の露光時及び測定時に露光用の光を出力するようになっている。
Among these, the
また、コリメータレンズ5は光源4の出力光を平行光に整形し、ミラー6,7はコリメータレンズ5の透過光をDMD2に入射させるようになっている。
The
また、DMD2は、半導体素子上に微細なミラーエレメントを格子状に敷き詰めて、1枚のパネルとして形成したものであり、各々のミラーが独立して傾斜角度を変えることにより、光源4の出力光の投射をON/OFFできるようになっている。
Further, the
また、DMD2にはコントローラ12(図3参照)が電気的に接続されており、各々のミラーのON/OFFを制御できるようになっている。これにより、図2に示すように、露光分布の測定時には所定位置のミラーを順次ONにしながら、DMD2の各画素から光を投射するようになっている。
Further, a controller 12 (see FIG. 3) is electrically connected to the
ここで、DMD2が備える1つのミラーは1画素に相当し、コントローラ12は1画素分ずつミラーをONとすることも可能であるが、基板上における輝度分布の変化が滑らかな場合には、例えば、16×16画素分ずつを最小単位として露光面上の光強度分布を測定しても構わない。これにより、露光分布測定の処理速度が上がると共に、フォトダイオード11の出力信号が増大するため十分なS/N比を得ることが可能となる。
Here, one mirror provided in the
また、露光時には所定位置のミラーを順次ON/OFFして所望の画像パターンを形成し、この画像パターンによって基板上に画像パターンを形成するようになっている。 Further, at the time of exposure, a mirror at a predetermined position is sequentially turned on / off to form a desired image pattern, and an image pattern is formed on the substrate by this image pattern.
なお、本実施形態では空間光変調手段としてDMD2を用いているが、空間光変調手段としては液晶パネルや発光ダイオードアレイ、磁気光学効果などを用いることも可能である。
In this embodiment, the
また、ミラー8は、DMD2からの投射光をリレーレンズ9に入射させ、リレーレンズ9は、DMD2上の点から出た光を平行光に変換する。また、対物レンズ10はリレーレンズ9の透過光を基板又はフォトダイオード11の表面に集光するようになっている。
Further, the mirror 8 causes the projection light from the
ステージ3は、2軸、3軸、6軸など各種のステージを用いることができる。なお、ステージにはステージ駆動部13(図3参照)が電気的に接続されている。
As the
フォトダイオード11は、露光分布の測定時にステージ3上に載置され、DMD2の各画素から基板上に投射される光の強度を順次測定するようになっている。これにより、基板上における露光強度分布を検出することが可能となる。なお、光強度分布を測定するにはCCDなどの2次元受光素子を用いることも可能であるが、この場合には、あらかじめ2次元受光素子の感度ムラを補正しておく必要がある。本実施形態では、そのような受光素子の感度ムラに対する配慮は不要であり、高精度な計測を行うことができる。
The
また、露光装置1には互いに通信可能なネットワークを介してパーソナルコンピュータなどの制御装置14が接続されており、露光装置1の各構成部分に種々の指示信号を送信するようになっている。
Further, a
(制御構成)
次に、図3に本実施形態に係る露光装置1の制御ブロック図を示す。
(Control configuration)
Next, FIG. 3 shows a control block diagram of the
図1及び図3に示すように、露光装置1は制御装置14を備えている。制御装置14が備える制御部15は、CPU(Central Processing Unit)、書き換え可能な半導体素子で構成されるRAM(Random Access Memory)及び不揮発性の半導体メモリで構成されるROM(Read Only Memory)から構成されており、ROMに記録された処理プログラムをRAMに展開して、CPUによりこの処理プログラムを実行するようになっている。
As shown in FIGS. 1 and 3, the
また、図3に示すように、制御部15には、入力部16及び記憶部17が接続されている。更に、制御装置14には、光源4、DMD2を制御するコントローラ12、ステージ3を駆動するステージ駆動部13、フォトダイオード11及び画像データ作成部18が接続されている。
As shown in FIG. 3, an
光源4は、制御部15によりON/OFFされるようになっている。
The
入力部16は、キーボード、マウス、タッチパネルなどから構成され、ユーザによる指示入力に基づく指示信号を制御部15に出力するようになっている。
The
記憶部17は、半導体メモリなどからなる記録用のメモリであり、入力部16から入力された情報などを記録する記録領域を有している。記憶部17は、例えばフラッシュメモリなどの内蔵型メモリや、着脱可能なメモリカードやメモリスティックであってもよく、また、ハードディスク又はフロッピー(登録商標)ディスクなどの磁気記録媒体などであってもよい。
The
コントローラ12は、DMD2の制御手段としての機能を果たすものであり、DMD2が備える各々のミラーのON/OFFを制御する。これにより、露光分布の測定時には、所定位置のミラーを1画素分ずつ順次ONにして、DMD2の各画素から光を投射するようになっている。また、露光時には、画像データ作成部18が作成した画像パターンデータに基づき、所定位置のミラーを順次ON/OFFして所望の画像パターンを形成し、この画像パターンにより基板上に画像パターンを形成するようになっている。
The
ステージ駆動部13は、露光時に基板が載置されたステージ3の上下移動や傾斜を制御することにより、基板の表面に入射する光の位置を調整するようになっている。
The
フォトダイオード11は、DMD2の各画素から基板上に投射される光の強度を順次測定し、測定結果としての出力信号を画像データ作成部18に送信するようになっている。図4は、DMD2の各画素に対応した基板上の光強度分布の例を示したものである。
The
画像データ作成部18は、画像データ作成手段としての機能を果たすものであり、フォトダイオード11で測定された前記受光強度の最大値とDMD2の各々の画素からの投射光の受光強度との比に基づき、基板上における画像パターン各部の投射光量が空間的に均一となるようなDMD2の各画素における露光時間を決定するようになっている。また、画像データ作成部18は、決定した露光時間と基板に形成すべき画像パターンとに基づいて、露光の際に光を投射すべき画像パターン各部の投射光量が空間的に均一となるように経時的に画像パターンが変化する画像パターンデータを生成し、コントローラ12に転送するようになっている。
The image
具体的には、画像データ作成部18はフォトダイオード11の出力信号を受信すると、DMD2の各画素に対応する出力信号より、図4に示すような光強度I(x,y)を検出する。図4の例では、領域(A)及び領域(B)の各々の光強度が各々IA,IBになっている。
Specifically, when receiving the output signal of the
また、画像データ作成部18は、露光エリア内における光強度の最大値Imaxとフォトダイオード11で測定されたDMD2の各画素に対応する光強度I(x,y)との比に基づき、露光面全域にわたって露光量を均一化するための各画素の露光時間を求める。すなわち、光強度がImaxの画素における最適露光時間をTmとすると、各画素の露光時間T(x,y)は下記式(1)で求められる。
Further, the image
そして、各画素の露光時間と、基板に形成すべき画像パターンとに基づいて、露光の際に光を投射すべきDMD2の各画素からの投射光量が空間的に均一となるように経時的に変化するような画像パターンデータを生成する。
Based on the exposure time of each pixel and the image pattern to be formed on the substrate, the amount of light projected from each pixel of the
ここで、DMD2からの投射光量が空間的に均一となるように経時的に変化するような画像パターンデータとは、基板上における光強度分布に応じて画像パターンの各画素における露光時間が調整される画像パターンデータをいう。すなわち、露光の際に光を投射すべきDMD2の各画素のうち、受光強度が小さい領域に対応する画素は露光時間を長く、受光強度が大きい領域に対応する画素は露光時間を短くする画像パターンデータをいう。この露光時間は、DMD2のミラーをON/OFFする時間によって調整することができる。
Here, the image pattern data that changes with time so that the amount of light projected from the
また、画像データ作成部18は生成した画像パターンデータをコントローラ12に転送する。こうして生成された画像パターンデータに基づき、コントローラ12がDMD2に所望の画像パターンを形成して、この画像パターンにより基板上に画像パターンを形成すると、露光の際に光を投射すべきDMD2の各画素の投射光量が空間的に均一となり、露光分布は均一化される。
Further, the image
この際、画像データ作成部18は、階調表現された画像パターンデータの各画素における輝度レベルを2進数で表現し、その各ビットの重み付けにより配分された露光時間を各画素の階調に応じて点灯するような画像パターンデータを生成して、コントローラ12に転送するようになっている。
At this time, the image
具体的に、まず画像データ作成部18は、所望の画像パターンデータを階調表現し、その階調レベルを2進数に変換して各ビットの重み付けで露光時間Tを配分する。例えば、階調を6ビット(0〜63)で表した場合、最上位ビット(MSB)から最下位ビット(LSB)に向かって各ビットに割り振られる露光時間は、それぞれT/2、T/4、T/8、T/16、T/32、T/64となり、ビット毎に分解された6枚の画像転送で階調が表現できるのに対し、露光時間Tを均等に分割して階調表現をする場合には、T/63を最小露光単位として63枚の画像転送が必要となるため、ビット毎に重み付けされた画像転送の方がより高速な露光処理を実現できる。
Specifically, first, the image
図5は、6ビット分解能の階調表現を仮定して、図4に示した光強度分布で、IA/IB=1.4の場合を一例に、コントローラ12による露光時間の制御方法を具体的に表したものである。領域(A)の光強度IAにおける最適露光時間がTmの場合、領域(B)における露光時間は上記式(1)からTm×IA/IBであり、この時間を6ビット階調の最大値である63とすれば、領域(A)の階調は63/1.4=45(2進数表記で101101)となる。そこで、露光面上における光強度の小さい領域(B)の画素は露光時間Tm×IA/IBの間、常時ONの状態にしながら、一方で光強度の大きい領域(A)の画素については2ビット目と5ビット目に重み付けされた時間はOFF、それ以外の時間はONとすることで、基板上の露光量を均一にすることができる。
FIG. 5 shows a method of controlling the exposure time by the
(露光方法)
次に、本実施形態に係る露光装置1を使用した本発明の露光方法について説明する。
(Exposure method)
Next, the exposure method of the present invention using the
まず、ステージ3上にフォトダイオード11を載置して、露光面上における光強度分布を測定する。
First, the
制御部15が光源4をONとして露光用の光を出力させると、コリメータレンズ5は光源4の出力光を平行光に整形し、ミラー6,7はコリメータレンズ5の透過光をDMD2に入射させる。
When the
続いて、コントローラ12がDMD2のミラーを1画素分ずつ順次ONとすると、ミラー8はDMD2からの投射光をリレーレンズ9に入射させ、リレーレンズ9はDMD2上の点から出た光を平行光にし、対物レンズ10はリレーレンズ9の透過光をフォトダイオード11の表面に集光する。
Subsequently, when the
続いて、フォトダイオード11はDMD2の各画素から投射される光の強度を順次測定し、測定結果としての出力信号を画像データ作成部18に送信する。
Subsequently, the
次に、ステージ3上に露光用基板を載置する。
Next, an exposure substrate is placed on the
続いて、制御部15が光源4をONとし、コリメータレンズ5が光源4の出力光を平行光に整形して、ミラー6,7がコリメータレンズ5の透過光をDMD2に入射させる。
Subsequently, the
次に、画像データ作成部18は、フォトダイオード11で測定された前記受光強度の最大値とDMD2の各々の画素からの投射光の受光強度との比に基づき、基板上における画像パターン各部の投射光量が空間的に均一となるようなDMD2の各画素における露光時間を決定する。そして、決定した露光時間と基板に形成すべき画像パターンとに基づき、露光の際に光を投射すべき画像パターン各部の投射光量が空間的に均一となるように経時的に画像パターンが変化する画像パターンデータを生成して、コントローラ12に転送する。
Next, the image
この際、画像データ作成部18は、階調表現された画像パターンデータの各画素における輝度レベルを2進数で表現し、その各ビットの重み付けにより配分された露光時間を各画素の階調に応じて点灯するような画像パターンデータを生成してコントローラ12に転送する。
At this time, the image
コントローラ12は、基板上における露光量が均一になるように、画像データ作成部18が生成した前記画像パターンデータに基づき、DMD2に所望の画像パターンを形成する。続いて、ミラー8はDMD2からの投射光をリレーレンズ9に入射させ、リレーレンズ9はDMD2上の点から出た光を平行光にし、対物レンズ10はリレーレンズ9の透過光を基板表面に集光する。これにより、基板表面が均一に露光される。
The
以上のように本実施形態に係る露光装置1及び露光方法によれば、DMD2の各画素から投射される光の強度とその最大値との比に基づき、基板上の投射光量が空間的に均一となるような各画素の露光時間を決定することができる。そして、各画素の露光時間と基板に形成すべき画像パターンとに基づき、露光の際に、光を投射すべきDMD2の各画素からの投射光量が空間的に均一となるように経時的に変化するような画像パターンデータを生成することが可能となる。この画像パターンデータは、DMD2のうち基板上における画像パターンの光強度が小さい画素は露光時間を長く、光強度が大きい画素は露光時間を短くして露光面内の投射光量を空間的に均一化するものである。これにより、複数の高価なレンズを用いた複雑な光学系を使用することなく、簡易な装置構成で露光分布を均一にすることが可能となる。
As described above, according to the
また、画像パターンデータの輝度レベルを2進数で表現し、その各ビットの重み付けにより配分された露光時間によって各画素のON/OFFを制御することにより、DMDの各ミラーの駆動回数が大幅に減少するため、処理速度を高速化することが可能となる。 In addition, the brightness level of the image pattern data is expressed in binary, and the number of times each mirror of the DMD is driven is greatly reduced by controlling the ON / OFF of each pixel according to the exposure time allocated by weighting each bit. Therefore, the processing speed can be increased.
以上詳細に説明したように本発明の露光装置及び露光方法によれば、光学系による複雑な均一化手法に頼ることなく、簡易な装置構成により、基板上における露光分布を均一にすることが可能となる。 As described above in detail, according to the exposure apparatus and the exposure method of the present invention, it is possible to make the exposure distribution on the substrate uniform with a simple apparatus configuration without relying on a complicated uniformization method using an optical system. It becomes.
1 露光装置
2 DMD
3 ステージ
4 光源
5 コリメータレンズ
6,7 ミラー
8 ミラー
9 リレーレンズ
10 対物レンズ
11 フォトダイオード
12 コントローラ
13 ステージ駆動部
14 制御装置
15 制御部
16 入力部
17 記憶部
18 画像データ作成部
1
3
Claims (4)
前記空間光変調手段の各々の画素から基板上に投射される光の強度を順次フォトダイオードで測定し、
前記画像データ作成手段は、前記フォトダイオードで測定された前記受光強度の最大値と前記空間光変調手段の各々の画素からの投射光の前記受光強度との比に基づき、前記基板上における画像パターン各部の投射光量が空間的に均一となるように前記各々の画素における露光時間を決定し、その露光時間と前記基板に形成すべき画像パターンとに基づいて、露光の際に光を投射すべき前記画像パターン各部の投射光量が空間的に均一となるように経時的に画像パターンが変化する画像パターンデータを生成し、
前記空間光変調手段は前記画像パターンデータに基づいて画像パターンを形成し、この画像パターンを基板上に照射することを特徴とする露光装置。 In an exposure apparatus configured to form an image pattern by a spatial light modulation unit that spatially modulates output light of a light source based on image data created by the image data creation unit, and to irradiate the image pattern on a substrate ,
The intensity of light projected on the substrate from each pixel of the spatial light modulator is sequentially measured with a photodiode,
The image data creation means is configured to generate an image pattern on the substrate based on a ratio between the maximum value of the received light intensity measured by the photodiode and the received light intensity of the projection light from each pixel of the spatial light modulation means. The exposure time in each pixel is determined so that the amount of light projected from each part is spatially uniform, and light should be projected during exposure based on the exposure time and the image pattern to be formed on the substrate. Generating image pattern data in which the image pattern changes over time so that the amount of light projected from each part of the image pattern is spatially uniform;
An exposure apparatus characterized in that the spatial light modulator forms an image pattern based on the image pattern data and irradiates the image pattern onto a substrate.
前記空間光変調手段の各々の画素から基板上に投射される光の強度を順次フォトダイオードで測定し、
前記フォトダイオードで測定された前記受光強度の最大値と前記空間光変調手段の各々の画素からの投射光の前記受光強度との比に基づき、前記基板上における画像パターン各部の投射光量が空間的に均一となるように前記各々の画素における露光時間を決定し、その露光時間と前記基板に形成すべき画像パターンとに基づいて、露光の際に光を投射すべき前記画像パターン各部の投射光量が空間的に均一となるように経時的に画像パターンが変化する画像パターンデータを生成し、
前記画像パターンデータに基づき前記空間光変調手段に画像パターンを形成して、この画像パターンを基板上に照射することを特徴とする露光方法。 An exposure method for forming an image pattern on a spatial light modulator that spatially modulates output light of a light source based on the created image data, and irradiating the image pattern on a substrate,
The intensity of light projected on the substrate from each pixel of the spatial light modulator is sequentially measured with a photodiode,
Based on the ratio between the maximum value of the received light intensity measured by the photodiode and the received light intensity of the projection light from each pixel of the spatial light modulation means, the projected light amount of each part of the image pattern on the substrate is spatially The exposure time in each of the pixels is determined so as to be uniform, and based on the exposure time and the image pattern to be formed on the substrate, the projection light quantity of each part of the image pattern to be projected at the time of exposure Generate image pattern data that changes the image pattern over time so that is uniform in space,
An exposure method comprising: forming an image pattern on the spatial light modulator based on the image pattern data, and irradiating the image pattern on a substrate.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008028099A true JP2008028099A (en) | 2008-02-07 |
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JP2006198240A Active JP5180446B2 (en) | 2006-07-20 | 2006-07-20 | Exposure apparatus and exposure method |
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Country | Link |
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