JP2008028029A - Varistor, and light-emitting device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a varistor and a light emitting device which are capable of radiating heat efficiently. <P>SOLUTION: A through-hole 19 penetrating a varistor element 12 is formed at a part corresponding to the central region of a first main surface 12a in the varistor element 12. A buffer unit 21 is provided with a first main surface 21a and a second main surface 21b while the first main surface 21a is arranged so as to be contacted with the second main surface 12b of the varistor element 12. A through-hole 23 penetrating the buffer unit 21 is formed at a part corresponding to the central region of the first main surface 21a in the buffer unit 21, so as to be continued to the through-hole 19 formed on the varistor element 12. A base unit 31 is provided with a first main surface 31a and a second main surface 31b. The base unit 31 is formed of a material having a heat conductivity and a light reflection coefficient higher than those of the varistor element 12, and the first main surface 31a is arranged so as to be contacted with the second main surface 21b of the buffer unit 21. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、バリスタ、及び、当該バリスタを備える発光装置に関する。   The present invention relates to a varistor and a light emitting device including the varistor.

バリスタとして、電圧非直線特性を発現するバリスタ素体と該バリスタ素体の一部を挟んで該バリスタ素体の内部に配置される一対の内部電極とを有する素体と、該素体の外表面に形成されて対応する内部電極にそれぞれ接続される一対の端子電極と、を備えるものが知られている(例えば、特許文献1参照)。
特開2002−246207号公報
As a varistor, an element body having a varistor element body that exhibits voltage non-linear characteristics and a pair of internal electrodes disposed inside the varistor element body with a part of the varistor element body interposed therebetween; A device including a pair of terminal electrodes formed on the surface and respectively connected to corresponding internal electrodes is known (see, for example, Patent Document 1).
JP 2002-246207 A

ところで、バリスタは、半導体発光素子に並列接続されることにより、半導体発光素子をESD(Electrostatic Discharge:静電気放電)サージから保護することができる。この半導体発光素子は、動作中に熱を発する。半導体発光素子が高温になると、その発光動作に影響が出る。このため、発生した熱を効率よく放散させる必要がある。   By the way, the varistor can protect the semiconductor light emitting element from an ESD (Electrostatic Discharge) surge by being connected in parallel to the semiconductor light emitting element. This semiconductor light emitting device generates heat during operation. When the semiconductor light emitting element becomes high temperature, the light emitting operation is affected. For this reason, it is necessary to dissipate the generated heat efficiently.

そこで本発明は、熱を効率よく放散することが可能なバリスタ及び発光装置を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a varistor and a light-emitting device that can dissipate heat efficiently.

本発明に係るバリスタは、基体部と、基体部の一の主面側に配置されると共に、電圧非直線特性を発現するバリスタ素体と少なくとも2つの外部電極とを有するバリスタ部と、を備え、基体部が、バリスタ素体よりも熱伝導率及び光反射率が高い材料からなり、バリスタ素体には、基体部に達する貫通孔が形成されていることを特徴とする。   The varistor according to the present invention includes a base part, a varistor part that is disposed on one main surface side of the base part and has a varistor element body that exhibits voltage nonlinear characteristics and at least two external electrodes. The base portion is made of a material having higher thermal conductivity and light reflectance than the varistor element body, and the varistor element body has a through hole reaching the base portion.

本発明に係るバリスタでは、基体部がバリスタ素体よりも熱伝導率が高い材料からなるので、バリスタ部に伝えられた熱を基体部から効率よく放散することができる。   In the varistor according to the present invention, since the base portion is made of a material having a higher thermal conductivity than the varistor element body, the heat transmitted to the varistor portion can be efficiently dissipated from the base portion.

ところで、バリスタと当該バリスタに並列接続された半導体発光素子とを備える発光装置の発光効率を高める手法として、半導体発光素子の周囲に、光反射板を配置することが考えられる。しかしながら、この場合には、光反射板を配置するためのスペースを確保しなければならず、発光装置全体の小型化を図ることが難しい。そこで、本発明者等は、バリスタ自体の光反射性を高めることができれば、発光装置全体の小型化を図った上で、発光装置の発光効率を高めることができると考えた。   By the way, as a technique for increasing the light emission efficiency of a light emitting device including a varistor and a semiconductor light emitting element connected in parallel to the varistor, it is conceivable to arrange a light reflector around the semiconductor light emitting element. However, in this case, it is necessary to secure a space for arranging the light reflecting plate, and it is difficult to reduce the size of the entire light emitting device. Therefore, the present inventors considered that if the light reflectivity of the varistor itself can be increased, the light emission efficiency of the light emitting device can be increased while the entire light emitting device is reduced in size.

本発明に係るバリスタでは、基体部がバリスタ素体よりも光反射率が高い材料からなり、バリスタ素体に基体部に達する貫通孔が形成されている。これにより、基体部の一の主面が光反射面として機能することとなり、バリスタの光反射性を高めることができる。   In the varistor according to the present invention, the base portion is made of a material having higher light reflectance than the varistor element body, and a through-hole reaching the base portion is formed in the varistor element body. Thereby, one main surface of the base portion functions as a light reflecting surface, and the light reflectivity of the varistor can be improved.

一方、本発明に係る発光装置は、バリスタと、半導体発光素子とを備えた発光装置であって、バリスタが、基体部と、基体部の一の主面側に配置されると共に、電圧非直線特性を発現するバリスタ素体と少なくとも2つの外部電極とを有するバリスタ部と、を備え、基体部が、バリスタ素体よりも熱伝導率及び光反射率が高い材料からなり、バリスタ素体には、基体部に達する貫通孔が形成され、半導体発光素子が、バリスタに並列接続されるように少なくとも2つの外部電極に物理的且つ電気的に接続されていることを特徴とする。   On the other hand, the light-emitting device according to the present invention is a light-emitting device including a varistor and a semiconductor light-emitting element, wherein the varistor is disposed on the main surface side of the base portion and the base portion, and the voltage non-linearity. A varistor part having characteristics and a varistor part having at least two external electrodes, and the base part is made of a material having higher thermal conductivity and light reflectance than the varistor element body. A through hole reaching the base portion is formed, and the semiconductor light emitting element is physically and electrically connected to at least two external electrodes so as to be connected in parallel to the varistor.

本発明に係る発光装置では、半導体発光素子がバリスタの上記外部電極に物理的に接続されているので、半導体発光素子において発生した熱が上記外部電極を介してバリスタのバリスタ部に伝わることとなる。バリスタ部に伝えられた熱は基体部に伝わることとなるが、基体部がバリスタ素体よりも熱伝導率が高い材料からなるので、基体部に伝えられた熱を当該基体部から効率よく放散することができる。   In the light emitting device according to the present invention, since the semiconductor light emitting element is physically connected to the external electrode of the varistor, the heat generated in the semiconductor light emitting element is transferred to the varistor part of the varistor through the external electrode. . The heat transferred to the varistor part is transferred to the base part. However, since the base part is made of a material having a higher thermal conductivity than the varistor element body, the heat transferred to the base part is efficiently dissipated from the base part. can do.

また、本発明に係る発光装置では、基体部がバリスタ素体よりも光反射率が高い材料からなり、バリスタ素体に基体部に達する貫通孔が形成されている。これにより、基体部の一の主面が光反射面として機能することとなり、この基体部の一の主面が、半導体発光素子が発生した光のうちバリスタに向かって進む光を反射する。この結果、発光装置の発光効率を高めることができる。   In the light emitting device according to the present invention, the base portion is made of a material having a higher light reflectance than the varistor element body, and a through hole reaching the base portion is formed in the varistor element body. Thereby, one main surface of the base portion functions as a light reflecting surface, and one main surface of the base portion reflects light traveling toward the varistor among the light generated by the semiconductor light emitting element. As a result, the light emission efficiency of the light emitting device can be increased.

好ましくは、基体部が、金属からなり、バリスタ部が、電気絶縁性を有する材料からなるバッファ部を介して基体部の一の主面側に配置されており、バッファ部には、バリスタ素体に形成された貫通孔に連続し且つ基体部に達する貫通孔が形成されている。この場合、基体部が熱伝導率の比較的高い金属からなるので、バリスタ部に伝えられた熱を基体部からより一層効率よく放散することができる。また、バッファ部が電気絶縁性を有する材料からなるので、バッファ部及び基体部がバリスタ部の電気的特性に悪影響を及ぼすのを防ぐことができる。もちろん、バッファ部にも、上記貫通孔が形成されているので、バリスタの光反射性が低下することはない。   Preferably, the base portion is made of metal, and the varistor portion is arranged on one main surface side of the base portion through a buffer portion made of an electrically insulating material, and the buffer portion includes a varistor element body. A through hole that is continuous with the formed through hole and reaches the base portion is formed. In this case, since the base portion is made of a metal having a relatively high thermal conductivity, the heat transferred to the varistor portion can be dissipated more efficiently from the base portion. Moreover, since the buffer portion is made of a material having electrical insulation, it is possible to prevent the buffer portion and the base portion from adversely affecting the electrical characteristics of the varistor portion. Of course, since the through-hole is also formed in the buffer portion, the light reflectivity of the varistor does not deteriorate.

好ましくは、バリスタ部が、バリスタ素体の少なくとも一部を挟むように配置された少なくとも一対の内部電極を更に有し、各内部電極が、少なくとも2つの外部電極のうち対応する外部電極に接続されている。   Preferably, the varistor part further includes at least a pair of internal electrodes arranged so as to sandwich at least a part of the varistor element body, and each internal electrode is connected to a corresponding external electrode of at least two external electrodes. ing.

本発明によれば、熱を効率よく放散することが可能なバリスタ及び発光装置を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the varistor and light-emitting device which can dissipate heat efficiently can be provided.

また、本発明によれば、光反射性に優れたバリスタ、あるいは、発光効率にすぐれた発光装置を提供することができる。   Further, according to the present invention, it is possible to provide a varistor excellent in light reflectivity or a light emitting device excellent in luminous efficiency.

以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には、同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the description, the same reference numerals are used for the same elements or elements having the same function, and redundant description is omitted.

図1〜図4を参照して、本実施形態に係る発光装置Lの構成を説明する。図1は、本実施形態に係る発光装置を示す概略斜視図である。図2は、図1におけるII−II線に沿った概略断面図である。図3は、図1におけるIII−III線に沿った概略断面図である。図4は、図1におけるIV−IV線に沿った概略断面図である。   With reference to FIGS. 1-4, the structure of the light-emitting device L which concerns on this embodiment is demonstrated. FIG. 1 is a schematic perspective view showing a light emitting device according to this embodiment. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view taken along the line II-II in FIG. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view taken along the line III-III in FIG. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view taken along line IV-IV in FIG.

発光装置Lは、半導体発光素子1と、バリスタ10とを備えている。半導体発光素子1は、バリスタ10上に配置されている。   The light emitting device L includes a semiconductor light emitting element 1 and a varistor 10. The semiconductor light emitting device 1 is disposed on the varistor 10.

まず、バリスタ10の構成について説明する。バリスタ10は、バリスタ部11と、バッファ部21と、基体部31とを備えている。バリスタ部11は、略直方体形状を呈しており、バリスタ素体12と、第1の外部電極13と、第2の外部電極14と、第1の内部電極15と、第2の内部電極16とを有している。   First, the configuration of the varistor 10 will be described. The varistor 10 includes a varistor part 11, a buffer part 21, and a base part 31. The varistor portion 11 has a substantially rectangular parallelepiped shape, and includes a varistor element body 12, a first external electrode 13, a second external electrode 14, a first internal electrode 15, and a second internal electrode 16. have.

バリスタ素体12は、電圧非直線特性(バリスタ特性)を有する材料からなり、第1の主面12aと第2の主面12bとを有している。第1の主面12aと第2の主面12bとは、バリスタ部11の主面を構成することとなる。バリスタ素体12は、バリスタ特性を有する材料からなるバリスタ層が複数積層された積層体として構成されている。実際には、各バリスタ層は、バリスタ層の間の境界が視認できない程度に一体化されている。   The varistor element body 12 is made of a material having voltage non-linear characteristics (varistor characteristics), and has a first main surface 12a and a second main surface 12b. The first main surface 12 a and the second main surface 12 b constitute the main surface of the varistor part 11. The varistor element body 12 is configured as a laminated body in which a plurality of varistor layers made of a material having varistor characteristics are laminated. Actually, the varistor layers are integrated so that the boundary between the varistor layers is not visible.

各バリスタ層は、ZnOを主成分とするセラミック材料(半導体セラミック)を含むセラミックグリーンシートの焼結体から構成される。上記セラミック材料は、副成分として希土類元素、Co、IIIb族元素(B、Al、Ga、In)、Si、Cr、Mo、アルカリ金属元素(K、Rb、Cs)及びアルカリ土類金属元素(Mg、Ca、Sr、Ba)等の金属単体やこれらの酸化物を含んでいる。本実施形態において、バリスタ層は、副成分としてPr、Co、Cr、Ca、Si、K、Al等を含んでいる。上記セラミック材料は、希土類元素の代わりに、Biを含んでいてもよい。   Each varistor layer is composed of a sintered body of a ceramic green sheet containing a ceramic material (semiconductor ceramic) mainly composed of ZnO. The ceramic materials include rare earth elements, Co, IIIb group elements (B, Al, Ga, In), Si, Cr, Mo, alkali metal elements (K, Rb, Cs), and alkaline earth metal elements (Mg) as subcomponents. , Ca, Sr, Ba) and the like, and oxides thereof. In the present embodiment, the varistor layer contains Pr, Co, Cr, Ca, Si, K, Al, and the like as subcomponents. The ceramic material may contain Bi instead of the rare earth element.

バリスタ素体12の、第1の主面12aの中央領域に相当する部分には、バリスタ素体12を第1の主面12aから第2の主面12bに貫通する貫通孔19が形成されている。   A through-hole 19 that penetrates the varistor element body 12 from the first main surface 12a to the second main surface 12b is formed in a portion of the varistor element body 12 corresponding to the central region of the first main surface 12a. Yes.

第1の外部電極13と第2の外部電極14とは、略直方体形状を呈しており、一部がバリスタ素体12の第1の主面12a及び第2の主面12bから露出するようにバリスタ素体12を貫通して配置されている。第1の外部電極13は、第1の主面12aに垂直な方向から見て、貫通孔19が形成された領域と縁12cとの間の領域に位置している。第2の外部電極14は、第1の主面12aに垂直な方向から見て、貫通孔19が形成された領域と縁12dとの間の領域に位置している。第1の外部電極13と第2の外部電極14とは、貫通孔19が形成された領域を挟んで対向するように配置されている。   The first external electrode 13 and the second external electrode 14 have a substantially rectangular parallelepiped shape, and are partially exposed from the first main surface 12a and the second main surface 12b of the varistor element body 12. The varistor element body 12 is disposed through. The first external electrode 13 is located in a region between the region where the through hole 19 is formed and the edge 12c when viewed from the direction perpendicular to the first main surface 12a. The second external electrode 14 is located in a region between the region where the through hole 19 is formed and the edge 12d when viewed from the direction perpendicular to the first main surface 12a. The first external electrode 13 and the second external electrode 14 are arranged so as to face each other across the region where the through hole 19 is formed.

第1の外部電極13と第2の外部電極14とは、例えば、導電性ペーストの焼結体から構成される。導電性ペーストとしては、金属粒子(例えば、Au粒子又はPt粒子等)を主成分とする金属粉末に、有機バインダ及び有機溶剤を混合したものを用いることができる。第1の外部電極13と第2の外部電極14とは、入出力端子電極及び半導体発光素子1に電気的に接続されるパッド電極として機能する。外部電極13,14の数は、半導体発光素子1の電極に対応させて、それぞれ複数としてもよい。   The first external electrode 13 and the second external electrode 14 are made of, for example, a sintered body of conductive paste. As an electrically conductive paste, what mixed the organic binder and the organic solvent in the metal powder which has a metal particle (for example, Au particle | grains or Pt particle | grains) as a main component can be used. The first external electrode 13 and the second external electrode 14 function as input / output terminal electrodes and pad electrodes that are electrically connected to the semiconductor light emitting element 1. The number of external electrodes 13 and 14 may be plural, corresponding to the electrodes of the semiconductor light emitting device 1.

第1の内部電極15と第2の内部電極16とは、第1の主面12aに垂直な方向から見て、略長方形状を呈すると共に、貫通孔19が形成された領域と縁12e,12fとの間の領域に位置している。第1の内部電極15と第2の内部電極16とは、バリスタ素体12の少なくとも一部(少なくとも一層のバリスタ層)を挟むように配置されている。バリスタ素体12(バリスタ層)における第1の内部電極15と第2の内部電極16に重なる領域が、バリスタ特性を発現する領域として機能する。   The first internal electrode 15 and the second internal electrode 16 have a substantially rectangular shape when viewed from the direction perpendicular to the first main surface 12a, and the regions where the through holes 19 are formed and the edges 12e and 12f. Located in the area between. The first internal electrode 15 and the second internal electrode 16 are arranged so as to sandwich at least a part (at least one varistor layer) of the varistor element body 12. A region overlapping the first internal electrode 15 and the second internal electrode 16 in the varistor element body 12 (varistor layer) functions as a region expressing varistor characteristics.

第1の内部電極15は、その端部において第1の外部電極13と電気的且つ物理的に接続されている。第2の内部電極16は、その端部において第2の外部電極14と電気的且つ物理的に接続されている。第1の内部電極15及び第2の内部電極16は、例えば、導電性ペーストの焼結体から構成される。導電性ペーストとしては、金属粒子(例えば、Pd粒子又はAg−Pd合金粒子等)を主成分とする金属粉末に、有機バインダ及び有機溶剤を混合したものを用いることができる。   The first internal electrode 15 is electrically and physically connected to the first external electrode 13 at the end thereof. The second internal electrode 16 is electrically and physically connected to the second external electrode 14 at the end thereof. The first internal electrode 15 and the second internal electrode 16 are made of, for example, a sintered body of conductive paste. As an electrically conductive paste, what mixed the organic binder and the organic solvent in the metal powder which has a metal particle (for example, Pd particle | grains or Ag-Pd alloy particle | grains etc.) as a main component can be used.

本実施形態では、一つの第1の内部電極15と一つの第2の内部電極16とで構成される内部電極対が、貫通孔19が形成された領域を挟んで複数配置されているが、いずれか一方の内部電極対だけが配置されていてもよい。また、第1の内部電極15と第2の内部電極16とは、それぞれ複数配置されていてもよい。   In the present embodiment, a plurality of internal electrode pairs composed of one first internal electrode 15 and one second internal electrode 16 are arranged across the region where the through hole 19 is formed. Only one of the internal electrode pairs may be arranged. A plurality of first internal electrodes 15 and second internal electrodes 16 may be arranged.

バッファ部21は、第1の主面21aと第2の主面21bとを有しており、第1の主面21aがバリスタ素体12の第2の主面12bと接するように配置されている。バッファ部21は、電気絶縁性を有する材料(例えば、ガラスを主成分として含む材料)からなる。バッファ部21の材料がガラスである場合、バッファ部21は、ガラス粉末、有機バインダ及び有機溶剤を混合したガラスペーストの焼結体から構成されることとなる。バッファ部21に用いられるガラスは、酸化ビスマス系、酸化亜鉛系、リン酸系、又は、ホウケイ酸系等が挙げられる。バッファ部21の厚みは、例えば1〜1000μm程度である。   The buffer unit 21 has a first main surface 21 a and a second main surface 21 b, and the first main surface 21 a is disposed so as to be in contact with the second main surface 12 b of the varistor element body 12. Yes. The buffer unit 21 is made of an electrically insulating material (for example, a material containing glass as a main component). When the material of the buffer part 21 is glass, the buffer part 21 will be comprised from the sintered compact of the glass paste which mixed glass powder, the organic binder, and the organic solvent. Examples of the glass used for the buffer unit 21 include bismuth oxide, zinc oxide, phosphoric acid, and borosilicate. The thickness of the buffer unit 21 is, for example, about 1 to 1000 μm.

バッファ部21における第1の主面21aの中央領域に相当する部分には、バリスタ素体12に形成された貫通孔19に連続して、バッファ部21を第1の主面21aから第2の主面21bに貫通する貫通孔23が形成されている。貫通孔19の内径形状と貫通孔23の内径形状とは、略同じである。   In the portion corresponding to the central region of the first main surface 21a in the buffer portion 21, the buffer portion 21 is connected to the second main surface 21a from the first main surface 21a continuously to the through hole 19 formed in the varistor element body 12. A through hole 23 penetrating the main surface 21b is formed. The inner diameter shape of the through hole 19 and the inner diameter shape of the through hole 23 are substantially the same.

基体部31は、第1の主面31aと第2の主面31bとを有しており、略直方体形状を呈している。基体部31は、第1の主面31aがバッファ部21の第2の主面21bと接するように配置されている。これにより、バリスタ部11は、バッファ部21を介して、基体部31の第1の主面31a側に配置されることとなる。基体部31は、バリスタ素体12よりも熱伝導率及び光反射率が高い金属、例えば、Ag又はCu等からなる。Agは、可視光全域にわたって90%以上の反射率を有することから、基体部31の材料として、特に好ましい。   The base portion 31 has a first main surface 31a and a second main surface 31b, and has a substantially rectangular parallelepiped shape. The base portion 31 is disposed such that the first main surface 31 a is in contact with the second main surface 21 b of the buffer portion 21. As a result, the varistor part 11 is arranged on the first main surface 31 a side of the base part 31 via the buffer part 21. The base portion 31 is made of a metal having higher thermal conductivity and light reflectance than the varistor element body 12, for example, Ag or Cu. Ag is particularly preferable as the material of the base portion 31 because Ag has a reflectance of 90% or more over the entire visible light region.

貫通孔19は、基体部31の第1の主面31aに達しており、バリスタ素体12の第1の主面12a側から見て、第1の主面31aにおける貫通孔19,23に対応する領域が露出することとなる。貫通孔19,23には、半導体発光素子から出射される光に対して光学的に透明な材料が充填されていてもよい。   The through hole 19 reaches the first main surface 31 a of the base portion 31, and corresponds to the through holes 19 and 23 in the first main surface 31 a when viewed from the first main surface 12 a side of the varistor element body 12. The area to be exposed is exposed. The through holes 19 and 23 may be filled with a material that is optically transparent to light emitted from the semiconductor light emitting element.

バッファ部21は、副成分として、バリスタ素体12に含まれている物質と化合物又は合金を生成すると共に、基体部31に含まれている物質と化合物又は合金を生成する物質を含むことが好ましい。これにより、バッファ部21と、バリスタ素体12及び基体部31とを強固に接合することができる。例えば、バリスタ素体12がPrを含み、基体部31がAgを含む場合、副成分としてPdを用いることができる。この場合、バリスタ素体12とバッファ部21との界面並びに界面近傍にはPr−Pd合金が形成され、基体部31とバッファ部21との界面並びに界面近傍にはAg−Pd合金が形成されることとなる。   The buffer unit 21 preferably includes a substance and a compound or alloy contained in the varistor element body 12 as a subsidiary component, and a substance that produces a compound and compound or alloy contained in the base part 31. . Thereby, the buffer part 21, the varistor element body 12, and the base | substrate part 31 can be joined firmly. For example, when the varistor element body 12 includes Pr and the base portion 31 includes Ag, Pd can be used as a subcomponent. In this case, a Pr—Pd alloy is formed in the interface between the varistor element body 12 and the buffer portion 21 and in the vicinity of the interface, and an Ag—Pd alloy is formed in the interface between the base portion 31 and the buffer portion 21 and in the vicinity of the interface. It will be.

次に、半導体発光素子1の構成について説明する。   Next, the configuration of the semiconductor light emitting element 1 will be described.

半導体発光素子1は、バリスタ素体12の貫通孔19が形成された領域を覆うように、バリスタ部11(バリスタ素体12)上に配置されている。   The semiconductor light emitting element 1 is arranged on the varistor part 11 (varistor element body 12) so as to cover the region where the through hole 19 of the varistor element body 12 is formed.

半導体発光素子1は、GaN(窒化ガリウム)系半導体の発光ダイオード(LED:Light-Emitting Diode)であり、基板2と、当該基板2上に形成された層構造体とを備えている。GaN系の半導体LEDは、周知であり、その説明を簡略化する。基板2は、サファイアからなる光学的に透明且つ電気絶縁性を有する基板である。層構造体は、積層された、n型(第1導電型)の半導体領域3と、発光層4と、p型(第2導電型)の半導体領域5とを含んでいる。半導体発光素子1は、n型の半導体領域3とp型の半導体領域5との間に印加される電圧に応じて発光する。   The semiconductor light-emitting element 1 is a light-emitting diode (LED) of a GaN (gallium nitride) semiconductor, and includes a substrate 2 and a layer structure formed on the substrate 2. GaN-based semiconductor LEDs are well known and will be described briefly. The substrate 2 is an optically transparent and electrically insulating substrate made of sapphire. The layer structure includes an n-type (first conductivity type) semiconductor region 3, a light emitting layer 4, and a p-type (second conductivity type) semiconductor region 5 which are stacked. The semiconductor light emitting element 1 emits light according to a voltage applied between the n-type semiconductor region 3 and the p-type semiconductor region 5.

n型の半導体領域3は、n型の窒化物半導体を含んで構成されている。本実施形態では、n型の半導体領域3は、基板2上にGaNがエピタキシャル成長されて成り、例えばSiといったn型ドーパントが添加されてn型の導電性を有している。また、n型の半導体領域3は、発光層4よりも屈折率が小さく且つバンドギャップが大きくなるような組成を有していてもよい。この場合、n型の半導体領域3は、発光層4に対して下部クラッドとしての役割を果たす。   The n-type semiconductor region 3 includes an n-type nitride semiconductor. In this embodiment, the n-type semiconductor region 3 is formed by epitaxially growing GaN on the substrate 2 and has an n-type conductivity by adding an n-type dopant such as Si. Further, the n-type semiconductor region 3 may have a composition such that the refractive index is smaller than that of the light emitting layer 4 and the band gap is increased. In this case, the n-type semiconductor region 3 serves as a lower cladding for the light emitting layer 4.

発光層4は、n型の半導体領域3上に形成され、n型の半導体領域3及びp型の半導体領域5から供給されたキャリア(電子及び正孔)が再結合することにより発光領域において光を発生する。発光層4は、例えば、障壁層と井戸層とが複数周期にわたって交互に積層された多重量子井戸(MQW:Multiple Quantum Well)構造とすることができる。この場合、障壁層及び井戸層がInGaNからなり、In(インジウム)の組成を適宜選択することによって障壁層のバンドギャップが井戸層のバンドギャップより大きくなるように構成される。発光領域は、発光層4において、キャリアが注入される領域に生じる。   The light emitting layer 4 is formed on the n-type semiconductor region 3, and carriers (electrons and holes) supplied from the n-type semiconductor region 3 and the p-type semiconductor region 5 are recombined to emit light in the light-emitting region. Is generated. The light emitting layer 4 can have, for example, a multiple quantum well (MQW) structure in which barrier layers and well layers are alternately stacked over a plurality of periods. In this case, the barrier layer and the well layer are made of InGaN, and the band gap of the barrier layer is configured to be larger than the band gap of the well layer by appropriately selecting the composition of In (indium). The light emitting region is generated in a region where carriers are injected in the light emitting layer 4.

p型の半導体領域5は、p型の窒化物半導体を含んで構成されている。本実施形態では、p型の半導体領域5は、発光層4上にAlGaNがエピタキシャル成長されて成り、例えばMgといったp型ドーパントが添加されてp型の導電性を有している。また、p型の半導体領域5は、発光層4よりも屈折率が小さく且つバンドギャップが大きくなるような組成を有していてもよい。この場合、p型の半導体領域5は、発光層4に対して上部クラッドとしての役割を果たす。   The p-type semiconductor region 5 includes a p-type nitride semiconductor. In the present embodiment, the p-type semiconductor region 5 is formed by epitaxially growing AlGaN on the light emitting layer 4 and has p-type conductivity by adding a p-type dopant such as Mg. The p-type semiconductor region 5 may have a composition that has a refractive index smaller than that of the light emitting layer 4 and a larger band gap. In this case, the p-type semiconductor region 5 serves as an upper cladding for the light emitting layer 4.

n型の半導体領域3上には、カソード電極6が形成されている。カソード電極6は、導電性材料からなり、n型の半導体領域3との間にオーミック接触が実現されている。p型の半導体領域5上には、アノード電極7が形成されている。アノード電極7は、導電性材料からなり、p型の半導体領域5との間にオーミック接触が実現されている。カソード電極6及びアノード電極7には、バンプ電極8が形成されている。   A cathode electrode 6 is formed on the n-type semiconductor region 3. The cathode electrode 6 is made of a conductive material and realizes ohmic contact with the n-type semiconductor region 3. An anode electrode 7 is formed on the p-type semiconductor region 5. The anode electrode 7 is made of a conductive material, and has an ohmic contact with the p-type semiconductor region 5. Bump electrodes 8 are formed on the cathode electrode 6 and the anode electrode 7.

上述した構成の半導体発光素子1では、アノード電極7(バンプ電極8)とカソード電極6(バンプ電極8)との間に所定の電圧が印加されて電流が流れると、発光層4の発光領域において発光が生じることとなる。   In the semiconductor light emitting device 1 having the above-described configuration, when a predetermined voltage is applied between the anode electrode 7 (bump electrode 8) and the cathode electrode 6 (bump electrode 8) and a current flows, the light emitting region 4 emits light. Luminescence will occur.

半導体発光素子1は、各外部電極13,14にバンプ接続されている。すなわち、アノード電極7は、バンプ電極8を介して第1の外部電極13に電気的且つ物理的に接続されている。カソード電極6は、バンプ電極8を介して第2の外部電極14に電気的且つ物理的に接続されている。これにより、バリスタ(第1の内部電極15と、第2の内部電極16と、バリスタ素体12における各内部電極15,16に重なる領域とにより構成される部分)が半導体発光素子1に並列接続されることとなる。   The semiconductor light emitting element 1 is bump-connected to the external electrodes 13 and 14. That is, the anode electrode 7 is electrically and physically connected to the first external electrode 13 via the bump electrode 8. The cathode electrode 6 is electrically and physically connected to the second external electrode 14 via the bump electrode 8. Thereby, the varistor (the portion constituted by the first internal electrode 15, the second internal electrode 16, and the region overlapping the internal electrodes 15, 16 in the varistor element body 12) is connected in parallel to the semiconductor light emitting element 1. Will be.

以上のように、本実施形態によれば、バリスタ10が半導体発光素子1に並列接続されるので、半導体発光素子1をESDサージから保護することができる。   As described above, according to this embodiment, since the varistor 10 is connected in parallel to the semiconductor light emitting element 1, the semiconductor light emitting element 1 can be protected from an ESD surge.

本実施形態においては、半導体発光素子1がバリスタ10の各外部電極13,14に物理的に接続されているので、半導体発光素子1において発生した熱が各外部電極13,14を介してバリスタ10のバリスタ部11に伝わることとなる。バリスタ部11に伝えられた熱は基体部31に伝わることとなるが、基体部31がバリスタ素体12よりも熱伝導率が高い材料からなるので、基体部31に伝えられた熱を当該基体部31から効率よく放散することができる。特に、基体部31が熱伝導率の比較的高い金属からなるので、バリスタ部11に伝えられた熱を基体部31からより一層効率よく放散することができる。また、第1の外部電極13及び第2の外部電極14は、略直方体形状を呈していることから、半導体発光素子1から基体部31に向かう熱伝達路が比較的大きくなり、効率よく熱を伝達することができる。   In the present embodiment, since the semiconductor light emitting element 1 is physically connected to the external electrodes 13 and 14 of the varistor 10, the heat generated in the semiconductor light emitting element 1 passes through the external electrodes 13 and 14. Will be transmitted to the varistor section 11. The heat transferred to the varistor part 11 is transferred to the base part 31. Since the base part 31 is made of a material having a higher thermal conductivity than the varistor element body 12, the heat transferred to the base part 31 is transferred to the base part 31. It is possible to efficiently dissipate from the portion 31. In particular, since the base portion 31 is made of a metal having a relatively high thermal conductivity, the heat transmitted to the varistor portion 11 can be dissipated from the base portion 31 more efficiently. In addition, since the first external electrode 13 and the second external electrode 14 have a substantially rectangular parallelepiped shape, the heat transfer path from the semiconductor light emitting element 1 to the base portion 31 becomes relatively large, and heat is efficiently generated. Can communicate.

各外部電極13,14に伝わった熱は、対応する内部電極15,16に伝わることによっても、放散されることとなる。これにより、半導体発光素子1において発生した熱の放熱パスが拡がり、半導体発光素子1において発生した熱を効率よく放散することができる。ところで、バリスタ素体12(バリスタ層)は、ZnOを主成分としている。ZnOは、放熱基板として通常用いられるアルミナ等と同等程度の熱伝導率を有しており、比較的良好な熱伝導率を有する。したがって、各内部電極15,16からの熱の放散がバリスタ素体12により阻害されるのを抑制することができる。   The heat transmitted to the external electrodes 13 and 14 is also dissipated by being transmitted to the corresponding internal electrodes 15 and 16. Thereby, the heat radiation path of the heat generated in the semiconductor light emitting element 1 is expanded, and the heat generated in the semiconductor light emitting element 1 can be efficiently dissipated. By the way, the varistor element body 12 (varistor layer) contains ZnO as a main component. ZnO has a thermal conductivity comparable to that of alumina or the like normally used as a heat dissipation substrate, and has a relatively good thermal conductivity. Therefore, it is possible to suppress the heat dissipation from the internal electrodes 15 and 16 from being inhibited by the varistor element body 12.

本実施形態においては、基体部31がバリスタ素体12よりも光反射率が高い金属からなり、バリスタ素体12及びバッファ部21には基体部31に達する貫通孔19,23が形成されている。このため、基体部31の第1の主面31aが光反射面として機能することとなり、半導体発光素子1が発生した光のうちバリスタ10に向かって進む光は、バリスタ素体12及びバッファ部21に形成された貫通孔19,23内を通って、基体部31の第1の主面31aに入射し、反射される。したがって、バリスタ10の光反射性を高めることができ、発光装置Lの発光効率を高めることができる。   In the present embodiment, the base portion 31 is made of a metal having a light reflectance higher than that of the varistor element body 12, and through-holes 19 and 23 reaching the base portion 31 are formed in the varistor element body 12 and the buffer portion 21. . Therefore, the first main surface 31a of the base portion 31 functions as a light reflecting surface, and the light traveling toward the varistor 10 among the light generated by the semiconductor light emitting element 1 is the varistor element body 12 and the buffer portion 21. The first main surface 31a of the base portion 31 is incident and reflected through the through holes 19 and 23 formed in the first and second holes. Therefore, the light reflectivity of the varistor 10 can be increased, and the light emission efficiency of the light emitting device L can be increased.

本実施形態においては、バッファ部21が電気絶縁性を有する材料からなるので、バッファ部21及び基体部31がバリスタ部11の電気的特性に悪影響を及ぼすのを防ぐことができる。   In the present embodiment, since the buffer unit 21 is made of an electrically insulating material, the buffer unit 21 and the base unit 31 can be prevented from adversely affecting the electrical characteristics of the varistor unit 11.

続いて、図5〜図14を参照して、バリスタの第1〜第3の変形例の構成について説明する。   Then, with reference to FIGS. 5-14, the structure of the 1st-3rd modification of a varistor is demonstrated.

図5〜図7に示された第1の変形例では、バリスタ部11がスルーホール導体41を更に有しており、第1の外部電極13及び第2の外部電極14がバリスタ素体12の第1の主面12a上に配置されている。図5に示す概略断面図は、図1に示されたII−II線に対応する線にて変形例に係るバリスタ10を切断した際の概略断面図である。図6に示す断面図は、図1に示されたIII−III線に対応する線にて変形例に係るバリスタ10を切断した際の概略断面図である。図7に示す断面図は、図1に示されたIV−IV線に対応する線にて変形例に係るバリスタ10を切断した際の概略断面図である。   In the first modification shown in FIGS. 5 to 7, the varistor portion 11 further includes a through-hole conductor 41, and the first external electrode 13 and the second external electrode 14 are the varistor element body 12. It arrange | positions on the 1st main surface 12a. The schematic cross-sectional view shown in FIG. 5 is a schematic cross-sectional view when the varistor 10 according to the modification is cut along a line corresponding to the line II-II shown in FIG. The cross-sectional view shown in FIG. 6 is a schematic cross-sectional view when the varistor 10 according to the modification is cut along a line corresponding to the line III-III shown in FIG. The cross-sectional view shown in FIG. 7 is a schematic cross-sectional view when the varistor 10 according to the modification is cut along a line corresponding to the IV-IV line shown in FIG.

スルーホール導体41は、一端がバリスタ素体12の第1の主面12aから露出するようにバリスタ素体12に配置されている。スルーホール導体41は、第1の主面12aに露出する一端において、対応する外部電極13,14と電気的且つ物理的に接続されている。スルーホール導体41は、その途中部分において対応する内部電極15,16と電気的且つ物理的に接続されている。これにより、各外部電極13,14と対応する内部電極15,16とは、スルーホール導体41を通して電気的に接続されることとなる。スルーホール導体41は、上述した導電性ペーストの焼結体により構成することができる。   The through-hole conductor 41 is disposed on the varistor element body 12 so that one end is exposed from the first main surface 12 a of the varistor element body 12. The through-hole conductor 41 is electrically and physically connected to the corresponding external electrodes 13 and 14 at one end exposed at the first main surface 12a. The through-hole conductor 41 is electrically and physically connected to the corresponding internal electrodes 15 and 16 in the middle part thereof. As a result, the external electrodes 13 and 14 and the corresponding internal electrodes 15 and 16 are electrically connected through the through-hole conductor 41. The through-hole conductor 41 can be composed of a sintered body of the conductive paste described above.

図8〜図11に示された第2の変形例では、バリスタ部11は、第1の内部電極15及び第2の内部電極16の代わりに、対向電極43を有している。図8は、バリスタの第2の変形例を示す概略斜視図である。図9は、図8におけるIX−IX線に沿った概略断面図である。図10は、図8におけるX−X線に沿った概略断面図である。図11は、図8におけるXI−XI線に沿った概略断面図である。   In the second modification shown in FIGS. 8 to 11, the varistor section 11 has a counter electrode 43 instead of the first internal electrode 15 and the second internal electrode 16. FIG. 8 is a schematic perspective view showing a second modification of the varistor. FIG. 9 is a schematic cross-sectional view along the line IX-IX in FIG. FIG. 10 is a schematic cross-sectional view along the line XX in FIG. FIG. 11 is a schematic cross-sectional view along the line XI-XI in FIG.

対向電極43は、バリスタ素体12の第1の主面12a上に配置された第1の外部電極13及び第2の外部電極14に、バリスタ素体12の少なくとも一部(少なくとも一層のバリスタ層)を挟んで、対向している。対向電極43は、第1の内部電極15及び第2の内部電極16と同様に、第1の主面12aに垂直な方向から見て、略長方形状を呈すると共に、貫通孔19が形成された領域と縁12e,12fとの間の領域に位置している。対向電極43は、バリスタ素体12の第2の主面12bに露出するように配置されているが、第2の主面12bに露出することなく、バリスタ素体12内に配置されていてもよい。対向電極43は、上述した導電性ペーストの焼結体により構成することができる。   The counter electrode 43 is disposed on at least a part of the varistor element body 12 (at least one varistor layer) on the first external electrode 13 and the second external electrode 14 disposed on the first main surface 12a of the varistor element body 12. ) Across the board. Similar to the first internal electrode 15 and the second internal electrode 16, the counter electrode 43 has a substantially rectangular shape when viewed from the direction perpendicular to the first main surface 12 a and the through-hole 19 is formed. It is located in the area between the area and the edges 12e, 12f. The counter electrode 43 is disposed so as to be exposed on the second main surface 12b of the varistor element body 12. However, the counter electrode 43 may be disposed in the varistor element body 12 without being exposed on the second main surface 12b. Good. The counter electrode 43 can be composed of a sintered body of the conductive paste described above.

バリスタ素体12(バリスタ層)における対向電極43と各外部電極13,14とに重なる領域が、バリスタ特性を発現する領域として機能する。すなわち、対向電極43と、第1の外部電極13と、バリスタ素体12における対向電極43と第1の外部電極13とに重なる領域とにより構成されてバリスタ機能を有する第1の部分と、対向電極43と、第2の外部電極14と、バリスタ素体12における対向電極43と第2の外部電極14とに重なる領域とにより構成されてバリスタ機能を有する第2の部分とが、第1の外部電極13と第2の外部電極14との間に電気的に直列接続されることとなる。   A region of the varistor element body 12 (varistor layer) that overlaps the counter electrode 43 and the external electrodes 13 and 14 functions as a region that exhibits varistor characteristics. That is, the counter electrode 43, the first external electrode 13, and the first portion having a varistor function, which is configured by the region overlapping the counter electrode 43 and the first external electrode 13 in the varistor element body 12, The electrode 43, the second external electrode 14, and a second portion having a varistor function configured by a region overlapping the counter electrode 43 and the second external electrode 14 in the varistor element body 12, The external electrode 13 and the second external electrode 14 are electrically connected in series.

図12〜図14に示された第3の変形例では、バリスタ部11は、内部電極15,16及び対向電極43に相当する電極を有していない。この場合、バリスタ素体12における第1の外部電極13と第2の外部電極14との間に位置する領域が、バリスタ特性を発現する領域として機能する。図12に示す概略断面図は、図8に示されたIX−IX線に対応する線にて変形例に係るバリスタ10を切断した際の概略断面図である。図13に示す概略断面図は、図8に示されたX−X線に対応する線にて変形例に係るバリスタ10を切断した際の概略断面図である。図14に示す概略断面図は、図8に示されたXI−XI線に対応する線にて変形例に係るバリスタ10を切断した際の概略断面図である。   In the third modification shown in FIGS. 12 to 14, the varistor portion 11 does not have electrodes corresponding to the internal electrodes 15 and 16 and the counter electrode 43. In this case, a region located between the first external electrode 13 and the second external electrode 14 in the varistor element body 12 functions as a region that develops varistor characteristics. The schematic cross-sectional view shown in FIG. 12 is a schematic cross-sectional view when the varistor 10 according to the modification is cut along a line corresponding to the line IX-IX shown in FIG. The schematic cross-sectional view shown in FIG. 13 is a schematic cross-sectional view when the varistor 10 according to the modification is cut along a line corresponding to the line XX shown in FIG. The schematic cross-sectional view shown in FIG. 14 is a schematic cross-sectional view when the varistor 10 according to the modification is cut along a line corresponding to the XI-XI line shown in FIG.

以上、本発明の好適な実施形態について説明してきたが、本発明は必ずしも上述した実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変更が可能である。   The preferred embodiments of the present invention have been described above. However, the present invention is not necessarily limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

例えば、バリスタ10を構成するバリスタ部11、バッファ部21、及び基体部31の形状は図示されたものに限られない。同様に、バリスタ部11が有するバリスタ素体12、第1の外部電極13、第2の外部電極14、第1の内部電極15、及び第2の内部電極16の形状、並びに、貫通孔19,23の形状も図示されたものに限られない。   For example, the shapes of the varistor part 11, the buffer part 21, and the base part 31 constituting the varistor 10 are not limited to those illustrated. Similarly, the shape of the varistor element body 12, the first external electrode 13, the second external electrode 14, the first internal electrode 15, and the second internal electrode 16 included in the varistor part 11, and the through holes 19, The shape of 23 is not limited to the illustrated one.

基体部31は、バリスタ素体12よりも熱伝導率及び光反射率が高い材料であれば、金属でなくてもよい。基体部31は、例えば、AlNやSiC等により構成することができる。   The base portion 31 may not be a metal as long as it has a higher thermal conductivity and light reflectance than the varistor element body 12. The base portion 31 can be made of, for example, AlN, SiC, or the like.

基体部31が、更に電気絶縁性を有する材料である場合、バッファ部21は必ずしも必要ではない。この場合、バリスタ部11は、第2の主面12bが基体部31の第1の主面31aに接するように配置されることとなる。   In the case where the base portion 31 is a material further having electrical insulation, the buffer portion 21 is not necessarily required. In this case, the varistor portion 11 is arranged so that the second main surface 12 b is in contact with the first main surface 31 a of the base portion 31.

ところで、バリスタ部11を第2の主面12bが基体部31の第1の主面31aに接するように配置する場合、バリスタ部11と基体部31とを同時焼成により形成すると、バリスタ部11と基体部31との収縮率との格差により、バリスタが変形したり、クラックが生じたりする懼れがある。特に、バリスタ素体12がセラミック材料からなり、基体部31が金属からなると、焼成時の収縮率の格差は大きくなり、上述した問題が顕著となる。このため、バリスタ部11と基体部31との間にバッファ部21を位置させ、バッファ部21の材料を、バリスタ素体12を構成する材料の収縮率と、基体部31を構成する材料の収縮率との中間の収縮率を有する材料であることが好ましい。   By the way, when the varistor part 11 is arranged so that the second main surface 12b is in contact with the first main surface 31a of the base part 31, the varistor part 11 and the base part 31 are formed by simultaneous firing. The varistor may be deformed or cracks may be generated due to the difference between the shrinkage rate and the base portion 31. In particular, when the varistor element body 12 is made of a ceramic material and the base portion 31 is made of a metal, the difference in shrinkage rate during firing becomes large, and the above-described problem becomes significant. For this reason, the buffer part 21 is positioned between the varistor part 11 and the base part 31, and the material of the buffer part 21 is reduced by the shrinkage rate of the material constituting the varistor element body 12 and the shrinkage of the material constituting the base part 31. It is preferable that the material has a shrinkage rate intermediate to the rate.

本実施形態では、半導体発光素子1としてGaN系の半導体LEDの発光ダイオードを用いているが、これに限られない。半導体発光素子1として、例えば、GaN系以外の窒化物系半導体LED(例えば、InGaNAs系の半導体LED等)や窒化物系以外の化合物半導体LEDやレーザーダイオード(LD:Laser Diode)を用いてもよい。   In the present embodiment, a light-emitting diode of a GaN-based semiconductor LED is used as the semiconductor light-emitting element 1, but the present invention is not limited to this. As the semiconductor light emitting element 1, for example, a nitride semiconductor LED other than GaN-based (for example, InGaNAs-based semiconductor LED), a compound semiconductor LED other than nitride-based, or a laser diode (LD) may be used. .

本実施形態では、半導体発光素子1がバリスタ上にフリップチップボンディングにより搭載されてバリスタ10と電気的に接続されているが、これに限られるものではない。例えば、半導体発光素子1を、金錫合金(Au−Sn)はんだや接着剤等により貫通孔19,23を覆うようにバリスタ10上に固定し、ワイヤボンディングによりバリスタ10と電気的に接続してもよい。   In the present embodiment, the semiconductor light emitting device 1 is mounted on the varistor by flip chip bonding and is electrically connected to the varistor 10, but the present invention is not limited to this. For example, the semiconductor light emitting element 1 is fixed on the varistor 10 so as to cover the through holes 19 and 23 with a gold-tin alloy (Au—Sn) solder or an adhesive, and is electrically connected to the varistor 10 by wire bonding. Also good.

本実施形態に係る発光装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the light-emitting device which concerns on this embodiment. 図1におけるII−II線に沿った概略断面図である。It is a schematic sectional drawing in alignment with the II-II line | wire in FIG. 図1におけるIII−III線に沿った概略断面図である。It is a schematic sectional drawing in alignment with the III-III line in FIG. 図1におけるIV−IV線に沿った概略断面図である。It is a schematic sectional drawing in alignment with the IV-IV line in FIG. バリスタの第1の変形例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the 1st modification of a varistor. バリスタの第1の変形例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the 1st modification of a varistor. バリスタの第1の変形例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the 1st modification of a varistor. バリスタの第2の変形例を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows the 2nd modification of a varistor. 図8におけるIX−IX線に沿った概略断面図である。It is a schematic sectional drawing in alignment with the IX-IX line in FIG. 図8におけるX−X線に沿った概略断面図である。It is a schematic sectional drawing in alignment with the XX line in FIG. 図8におけるXI−XI線に沿った概略断面図である。It is a schematic sectional drawing in alignment with the XI-XI line in FIG. バリスタの第3の変形例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the 3rd modification of a varistor. バリスタの第3の変形例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the 3rd modification of a varistor. バリスタの第3の変形例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the 3rd modification of a varistor.

符号の説明Explanation of symbols

1…半導体発光素子、10…バリスタ、11…バリスタ部、12…バリスタ素体、12a…第1の主面、12b…第2の主面、13…第1の外部電極、14…第2の外部電極、15…第1の内部電極、16…第2の内部電極、19…貫通孔、21…バッファ部、21a…第1の主面、21b…第2の主面、23…貫通孔、31…基体部、31a…第1の主面、31b…第2の主面、L…発光装置。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Semiconductor light emitting element, 10 ... Varistor, 11 ... Varistor part, 12 ... Varistor element | base_body, 12a ... 1st main surface, 12b ... 2nd main surface, 13 ... 1st external electrode, 14 ... 2nd External electrode, 15 ... first internal electrode, 16 ... second internal electrode, 19 ... through hole, 21 ... buffer portion, 21a ... first main surface, 21b ... second main surface, 23 ... through hole, 31 ... Base part, 31a ... 1st main surface, 31b ... 2nd main surface, L ... Light-emitting device.

Claims (6)

基体部と、
前記基体部の一の主面側に配置されると共に、電圧非直線特性を発現するバリスタ素体と少なくとも2つの外部電極とを有するバリスタ部と、を備え、
前記基体部が、前記バリスタ素体よりも熱伝導率及び光反射率が高い材料からなり、
前記バリスタ素体には、前記基体部に達する貫通孔が形成されていることを特徴とするバリスタ。
A base part;
A varistor part that is arranged on one main surface side of the base part and has a varistor element body that expresses voltage nonlinear characteristics and at least two external electrodes;
The base portion is made of a material having higher thermal conductivity and light reflectance than the varistor element body,
The varistor element body is formed with a through hole reaching the base portion.
前記基体部が、金属からなり、
前記バリスタ部が、電気絶縁性を有する材料からなるバッファ部を介して前記基体部の前記一の主面側に配置されており、
前記バッファ部には、前記バリスタ素体に形成された前記貫通孔に連続し且つ前記基体部に達する貫通孔が形成されていることを特徴とする請求項1に記載のバリスタ。
The base portion is made of metal,
The varistor part is disposed on the one main surface side of the base part through a buffer part made of an electrically insulating material,
2. The varistor according to claim 1, wherein the buffer part is formed with a through hole that is continuous with the through hole formed in the varistor element body and reaches the base part.
前記バリスタ部が、前記バリスタ素体の少なくとも一部を挟むように配置された少なくとも一対の内部電極を更に有し、
前記各内部電極が、前記少なくとも2つの外部電極のうち対応する外部電極に接続されていることを特徴とする請求項1に記載のバリスタ。
The varistor part further includes at least a pair of internal electrodes arranged to sandwich at least a part of the varistor element body;
The varistor according to claim 1, wherein each of the internal electrodes is connected to a corresponding external electrode of the at least two external electrodes.
バリスタと、半導体発光素子とを備えた発光装置であって、
前記バリスタが、
基体部と、
前記基体部の一の主面側に配置されると共に、電圧非直線特性を発現するバリスタ素体と少なくとも2つの外部電極とを有するバリスタ部と、を備え、
前記基体部が、前記バリスタ素体よりも熱伝導率及び光反射率が高い材料からなり、
前記バリスタ素体には、前記基体部に達する貫通孔が形成され、
前記半導体発光素子が、前記バリスタに並列接続されるように前記少なくとも2つの外部電極に物理的且つ電気的に接続されていることを特徴とする発光装置。
A light emitting device including a varistor and a semiconductor light emitting element,
The varistor is
A base part;
A varistor part that is arranged on one main surface side of the base part and has a varistor element body that expresses voltage nonlinear characteristics and at least two external electrodes;
The base portion is made of a material having higher thermal conductivity and light reflectance than the varistor element body,
In the varistor element body, a through hole reaching the base portion is formed,
The light-emitting device, wherein the semiconductor light-emitting element is physically and electrically connected to the at least two external electrodes so as to be connected in parallel to the varistor.
前記基体部が、金属からなり、
前記バリスタ部が、絶縁材料からなるバッファ部を介して前記基体部の前記一の主面側に配置されており、
前記バッファ部には、前記バリスタ素体に形成された前記貫通孔に連続し且つ前記基体部に達する貫通孔が形成されていることを特徴とする請求項4に記載の発光装置。
The base portion is made of metal,
The varistor part is disposed on the one main surface side of the base part through a buffer part made of an insulating material,
The light emitting device according to claim 4, wherein the buffer portion includes a through hole that is continuous with the through hole formed in the varistor element body and reaches the base portion.
前記バリスタ部が、前記バリスタ素体の少なくとも一部を挟むように配置された少なくとも一対の内部電極を更に有し、
前記各内部電極が、前記少なくとも2つの外部電極のうち対応する外部電極に接続されていることを特徴とする請求項4に記載の発光装置。

The varistor part further includes at least a pair of internal electrodes arranged to sandwich at least a part of the varistor element body;
5. The light emitting device according to claim 4, wherein each of the internal electrodes is connected to a corresponding external electrode of the at least two external electrodes.

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