JP2008020541A - Liquid crystal display device and its manufacturing method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device and its manufacturing method. <P>SOLUTION: The liquid crystal display device is composed of: a first substrate and a second substrate opposed to each other; a liquid crystal layer located between the first substrate and the second substrate; and a seal pattern which surrounds the liquid crystal layer and is formed of frit glass or glass paste. The frit glass comprises lead oxide PbO, zinc oxide ZnO, silicon oxide SiO<SB>2</SB>and barium oxide BaO powders, filler and binder material. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶表示装置に係り、より詳しくは、液晶表示装置及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof.

近来、社会が本格的な情報化時代に入ることによって、各種の電気的信号情報を視覚的に表現するディスプレー分野が急速度に発展している。
最近、薄形化、軽量化、低消費電力化等の優れた性能を保有している薄膜トランジスタTFT型の液晶表示装置TFT-LCDが開発され、既存のブラウン管CRT(Cathode Ray Tube)に代替している。
Recently, as the society enters the full-fledged information age, the display field that visually expresses various electrical signal information is rapidly developing.
Recently, TFT-LCD, a thin-film transistor TFT-type liquid crystal display device with excellent performance such as thinning, lightening, and low power consumption has been developed, replacing the existing cathode ray tube (CRT) (Cathode Ray Tube). Yes.

液晶表示装置の画像表示原理は、液晶の光学的異方性と分極性質を利用する。液晶は、分子構造が細くて長く、配列に方向性を有する光学的異方性と、電場内に置かれる場合に、その大きさによって分子の配列方向が変化する分極性質を有する。   The image display principle of the liquid crystal display device utilizes the optical anisotropy and polarization properties of the liquid crystal. Liquid crystals have a thin and long molecular structure, optical anisotropy having directionality in the alignment, and polarization properties that change the alignment direction of molecules depending on the size when placed in an electric field.

従って、液晶表示装置は、液晶層を間に、相互に向かい合う面に、各々画素電極と共通電極が形成されたアレイ基板とカラーフィルター基板を合着させて構成する液晶パネルを構成要素として、前記電極間の電場の変化によって液晶分子の配列方向を任意的に調節し、この時、変化される光の通過率を利用して多様な画像を表示する。   Accordingly, the liquid crystal display device includes, as a constituent element, a liquid crystal panel formed by bonding an array substrate having a pixel electrode and a common electrode and a color filter substrate on surfaces facing each other with a liquid crystal layer in between. The alignment direction of the liquid crystal molecules is arbitrarily adjusted according to the change in the electric field between the electrodes, and various images are displayed using the changed light transmission rate.

最近、特に、画像表現の基本単位である画素を行列方式に配列して、スイッチング素子を各画素に配置させて、独立的に制御する能動行列方式が解像度及び動画像表示能力に優れていることから注目を浴びているが、このようなスイッチング素子で薄膜トランジスタTFTを使用するのがTFT−LCD(以下、液晶表示装置と称する。)である。   Recently, in particular, the active matrix system, in which pixels, which are the basic units of image representation, are arranged in a matrix system and switching elements are arranged in each pixel and independently controlled, has excellent resolution and moving image display capability. However, TFT-LCD (hereinafter referred to as a liquid crystal display device) uses a thin film transistor TFT with such a switching element.

液晶表示装置の構造を、従来の一般的な液晶表示装置の平面及び断面を各々簡略に示した図1及び図2を参照して説明する。   The structure of the liquid crystal display device will be described with reference to FIG. 1 and FIG.

図1は、従来の液晶表示装置を概略的に示した断面図であって、図2は、図1のII−II線に沿って示した断面図である。   FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a conventional liquid crystal display device, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II in FIG.

図示したように、従来の液晶表示装置1は、液晶層90を間に、アレイ基板11とカラーフィルター基板61が向かい合って合着された構成である。このうち、下部のアレイ基板11は、この上面に縦横に交差配列され多数の画素領域Pを定義する複数のゲート配線13及びデータ配線30を含む。前記ゲート配線13及びデータ配線30の交差地点には、薄膜トランジスタTrを備えて、各画素領域Pに備えた画素電極50に連結されている。薄膜トランジスタTrは、ゲート電極15、アクティブ層23aとオーミックコンタクト層23bを有する半導体層23、ソース電極33及びドレイン電極35を含む。ゲート絶縁膜20は、ゲート電極15上に位置して、絶縁層40は、ドレイン電極35を露出するドレインコンタクトホール43を有する。   As shown in the figure, the conventional liquid crystal display device 1 has a configuration in which the array substrate 11 and the color filter substrate 61 are bonded to each other with the liquid crystal layer 90 therebetween. Among these, the lower array substrate 11 includes a plurality of gate wirings 13 and data wirings 30 which intersect with each other in the vertical and horizontal directions and define a large number of pixel regions P. A thin film transistor Tr is provided at the intersection of the gate line 13 and the data line 30 and is connected to the pixel electrode 50 provided in each pixel region P. The thin film transistor Tr includes a gate electrode 15, a semiconductor layer 23 having an active layer 23a and an ohmic contact layer 23b, a source electrode 33, and a drain electrode 35. The gate insulating film 20 is located on the gate electrode 15, and the insulating layer 40 has a drain contact hole 43 exposing the drain electrode 35.

また、これとは向かい合う上部のカラーフィルター基板61には、これの背面にブラックマトリックス63が形成される。ブラックマトリックス63は、ゲート配線13とデータ配線30、薄膜トランジスタTrを遮るように各画素領域Pを取り囲む格子状の第1ブラックマトリックス63aと、前記第1ブラックマトリックス63aの一端に連結されて、基板61を取り囲む第2ブラックマトリックス63bが形成される。この格子の内部で、各画素領域Pに対応するように順に反復配列された赤色R、緑色G、青色Bのカラーフィルターパターン66a、66b、66cが形成される。赤色R、緑色G、青色Bのカラーフィルターパターン66a、66b、66cの下部に透明導電性物質で形成された共通電極70を備える。   In addition, a black matrix 63 is formed on the back surface of the upper color filter substrate 61 facing this. The black matrix 63 is connected to a grid-shaped first black matrix 63a surrounding each pixel region P so as to block the gate wiring 13, the data wiring 30, and the thin film transistor Tr, and one end of the first black matrix 63a. A second black matrix 63b is formed. Inside this lattice, red R, green G, and blue B color filter patterns 66a, 66b, and 66c are formed which are repeatedly arranged in order so as to correspond to each pixel region P. A common electrode 70 formed of a transparent conductive material is provided below the red R, green G, and blue B color filter patterns 66a, 66b, and 66c.

さらに、前述した構造のアレイ基板11の画素電極50とカラーフィルター基板60の共通電極70間には、液晶90が介される。液晶90の漏洩を防いで、前記両基板の合着された状態を維持させるために、カラーフィルター基板に形成された第2ブラックマトリックス63bに沿って表示領域AAを取り囲むシールパターン85を備える。   Further, a liquid crystal 90 is interposed between the pixel electrode 50 of the array substrate 11 having the structure described above and the common electrode 70 of the color filter substrate 60. In order to prevent the liquid crystal 90 from leaking and maintain the bonded state of the two substrates, a seal pattern 85 surrounding the display area AA is provided along the second black matrix 63b formed on the color filter substrate.

アレイ基板11には、シールパターン85の外部の非表示領域に、ゲートパッド領域GPAとデータパッド領域DPAが位置する。   On the array substrate 11, the gate pad area GPA and the data pad area DPA are located in a non-display area outside the seal pattern 85.

ゲートパッド領域GPAとデータパッド領域DPAには各々、ゲートパッド及びデータパッドが位置する。ゲートパッドは、ゲートパッド電極52とゲートパッド電極端子52を含む。データパッドは、データパッド電極(図示せず)とデータパッド電極端子54を含む。   A gate pad and a data pad are located in the gate pad area GPA and the data pad area DPA, respectively. The gate pad includes a gate pad electrode 52 and a gate pad electrode terminal 52. The data pad includes a data pad electrode (not shown) and a data pad electrode terminal 54.

ゲートパッド及びデータパッドは、TCP(Tape Carrier Package)フィルムによって駆動回路を有するPCB(Printed Circuit Board)と連結される。TCPフィルム上には、ゲートドライバーGDまたは、データドライバーが位置する。   The gate pad and the data pad are connected to a PCB (Printed Circuit Board) having a drive circuit by a TCP (Tape Carrier Package) film. A gate driver GD or a data driver is positioned on the TCP film.

TCPフィルムの一端の連結部80は、ゲートパッドまたは、データパッド、すなわち、ゲートパッド電極端子52または、データパッド電極端子54と接触する。   The connection part 80 at one end of the TCP film is in contact with the gate pad or the data pad, that is, the gate pad electrode terminal 52 or the data pad electrode terminal 54.

ゲートパッド及びデータパッドと接触する連結部80の上部には、TCPフィルムとアレイ基板11間の接触が離れないように密閉材として、保護膜87がさらに形成される。   A protective film 87 is further formed as a sealing material on the connection part 80 that contacts the gate pad and the data pad as a sealing material so that the contact between the TCP film and the array substrate 11 is not separated.

前述した構造の液晶表示装置では、前記両基板11、61を封止するシールパターン11及びTCPフィルムの上部の保護膜を形成する物質として、熱硬化性または、紫外線硬化性のエポキシまたは、アクリル系列の物質が使用される。また、液晶表示装置の上部及び下部の基板11、61間の離隔された間隔、すなわち、セルギャップを維持するためのパターン化スペーサー56やボールスペーサーも熱硬化性または、紫外線硬化性のエポキシまたは、アクリル系列の物質が利用される。   In the liquid crystal display device having the above-described structure, a thermosetting or ultraviolet curable epoxy or acrylic series is used as the material for forming the sealing pattern 11 for sealing the substrates 11 and 61 and the protective film on the top of the TCP film. Substances are used. In addition, the space between the upper and lower substrates 11 and 61 of the liquid crystal display device, that is, the patterned spacer 56 and the ball spacer for maintaining the cell gap are also thermosetting or ultraviolet curable epoxy, Acrylic materials are used.

ところが、エポキシまたは、アクリル系列の物質を使用して、シールパターン85、保護膜87、パターン化スペーサー56を形成する場合、加温によるシールパターンが破裂する頻度が高く、不良率が増加する問題がある。   However, when the seal pattern 85, the protective film 87, and the patterned spacer 56 are formed using an epoxy or acrylic material, there is a problem that the seal pattern is frequently ruptured by heating and the defect rate increases. is there.

また、最近、液晶表示装置の生産性向上のために、製造費用を最小化しようとする努力をつくしており、既存に比べて、性能は向上され、その原価は低減された新しい材料を模索している。   Recently, efforts have been made to minimize manufacturing costs in order to improve the productivity of liquid crystal display devices, and new materials with improved performance and reduced costs compared to existing products have been sought. ing.

本発明は、比較的に、材料費が低廉で、その特性も優れた新しい材料として、フリットガラスまたは、ガラスペーストを利用して、液晶表示装置の封止材や密閉材として利用し、さらに、セルギャップを維持するようにするパターン化スペーサーを前記物質で形成することによって、材料費と費用を節減し、生産性を向上させる。   The present invention uses a frit glass or glass paste as a new material having relatively low material costs and excellent properties, and is used as a sealing material or a sealing material for a liquid crystal display device. Forming patterned spacers with the material to maintain the cell gap reduces material costs and costs and increases productivity.

本発明は、前述したような目的を達成するために、相互に向かい合う第1基板及び第2基板と;前記第1基板及び第2基板間に位置する液晶層と;前記第1基板及び第2基板間に位置して、前記液晶層を取り囲み、フリットガラスまたは、ガラスペーストで形成されたシールパターンを含む液晶表示装置を提供する。
ここで、前記フリットガラスは、酸化鉛PbO、酸化亜鉛ZnO、酸化シリコンSiO、酸化バリウムBaOパウダー、増量剤(filler)と接合物質(binder material)を含む。 前記ガラスペーストは、酸化鉛PbO、酸化亜鉛ZnO、酸化シリコンSiO、酸化バリウムBaOパウダー、接合物質を含む。
In order to achieve the above-described object, the present invention provides a first substrate and a second substrate facing each other; a liquid crystal layer positioned between the first substrate and the second substrate; the first substrate and the second substrate; Provided is a liquid crystal display device including a seal pattern positioned between substrates, surrounding the liquid crystal layer, and formed of frit glass or glass paste.
Here, the frit glass includes lead oxide PbO, zinc oxide ZnO, silicon oxide SiO 2 , barium oxide BaO powder, a filler, and a binder material. The glass paste includes lead oxide PbO, zinc oxide ZnO, silicon oxide SiO 2 , barium oxide BaO powder, and a bonding material.

また、相互に向かい合う第1基板及び第2基板と;前記第1基板及び第2基板間に位置して、セルギャップを有する液晶層と;前記第1基板及び第2基板間に位置し、前記セルギャップを維持して、フリットガラスまたは、ガラスペーストで形成されたスペーサーを含む液晶表示装置を提供する。
ここで、前記フリットガラスは、酸化鉛PbO、酸化亜鉛ZnO、酸化シリコンSiO、酸化バリウムBaOパウダー、増量剤と接合物質を含む。 前記ガラスペーストは、酸化鉛PbO、酸化亜鉛ZnO、酸化シリコンSiO、酸化バリウムBaOパウダー、接合物質を含む。
A first substrate and a second substrate facing each other; a liquid crystal layer having a cell gap positioned between the first substrate and the second substrate; and positioned between the first substrate and the second substrate, A liquid crystal display device including a spacer formed of frit glass or glass paste while maintaining a cell gap is provided.
Here, the frit glass includes lead oxide PbO, zinc oxide ZnO, silicon oxide SiO 2 , barium oxide BaO powder, an extender, and a bonding material. The glass paste includes lead oxide PbO, zinc oxide ZnO, silicon oxide SiO 2 , barium oxide BaO powder, and a bonding material.

さらに、本発明は、基板の周辺部に位置して、ゲートパッド及びデータパッドと;駆動回路と前記ゲートパッド及びデータパッドのいずれかを連結するために、前記ゲートパッド及びデータパッドのいずれかと接触する連結部と;前記ゲートパッド及びデータパッドのいずれかと前記連結部の接触領域を覆い、フリットガラスまたは、ガラスペーストで形成された保護膜を含む液晶表示装置を提供する。
ここで、前記フリットガラスは、酸化鉛PbO、酸化亜鉛ZnO、酸化シリコンSiO、酸化バリウムBaOパウダー、増量剤と接合物質を含む。
前記ガラスペーストは、酸化鉛PbO、酸化亜鉛ZnO、酸化シリコンSiO、酸化バリウムBaOパウダー、接合物質を含む。
Furthermore, the present invention is located at a peripheral portion of the substrate, and contacts with either the gate pad or the data pad to connect the gate pad and the data pad; and the driving circuit and the gate pad or the data pad. There is provided a liquid crystal display device comprising: a connecting portion that covers; a contact region between one of the gate pad and the data pad and the connecting portion; and a protective film formed of frit glass or glass paste.
Here, the frit glass includes lead oxide PbO, zinc oxide ZnO, silicon oxide SiO 2 , barium oxide BaO powder, an extender, and a bonding material.
The glass paste includes lead oxide PbO, zinc oxide ZnO, silicon oxide SiO 2 , barium oxide BaO powder, and a bonding material.

一方、シリンジまたは、ディスペンサーのいずれかを使用して、第1基板の周辺部に沿ってフリットガラスまたは、ガラスペーストのいずれかを塗布して、シールパターンを形成する段階と;第2基板と前記第1基板を合着して、前記シールパターンを硬化する段階と;前記シールパターンによって取り囲まれた前記第1基板及び第2基板間に液晶を注入する段階を含む液晶表示装置の製造方法を提供する。
ここで、前記フリットガラスは、酸化鉛PbO、酸化亜鉛ZnO、酸化シリコンSiO、酸化バリウムBaOパウダー、増量剤と接合物質を含み、前記フリットガラスで形成されたシールパターンは、300ないし500℃で硬化される。
On the other hand, using either a syringe or a dispenser, applying either frit glass or glass paste along the periphery of the first substrate to form a seal pattern; A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising: bonding a first substrate to cure the seal pattern; and injecting liquid crystal between the first substrate and the second substrate surrounded by the seal pattern. To do.
Here, the frit glass includes lead oxide PbO, zinc oxide ZnO, silicon oxide SiO 2 , barium oxide BaO powder, an extender and a bonding material, and a seal pattern formed of the frit glass has a temperature of 300 to 500 ° C. Cured.

前記ガラスペーストは、酸化鉛PbO、酸化亜鉛ZnO、酸化シリコンSiO、酸化バリウムBaOパウダー、接合物質を含み、前記ガラスペーストで形成されたシールパターンは、400ないし900℃で硬化される。 The glass paste includes lead oxide PbO, zinc oxide ZnO, silicon oxide SiO 2 , barium oxide BaO powder, and a bonding material, and the seal pattern formed of the glass paste is cured at 400 to 900 ° C.

また、第1基板の表示領域にブラックマトリックスを形成する段階と;シリンジまたは、ディスペンサーのいずれかを使用して、前記ブラックマトリックスに対応するように、フリットガラスまたは、ガラスペーストのいずれかを、前記第1基板及び第2基板のいずれかに塗布してスペーサーを形成する段階と;前記スペーサーを硬化する段階と;前記第1基板及び第2基板を合着して、前記第1基板及び第2基板間に液晶を注入する段階とを含む液晶表示装置の製造方法を提供する。   Forming a black matrix on the display area of the first substrate; using either a syringe or a dispenser, either frit glass or glass paste so as to correspond to the black matrix, Applying to one of the first substrate and the second substrate to form a spacer; curing the spacer; and bonding the first substrate and the second substrate to form the first substrate and the second substrate; And a liquid crystal display device manufacturing method including a step of injecting liquid crystal between the substrates.

ここで、前記フリットガラスは、酸化鉛PbO、酸化亜鉛ZnO、酸化シリコンSiO、酸化バリウムBaOパウダー、増量剤と接合物質を含み、前記フリットガラスで形成されたシールパターンは、300ないし500℃で硬化される。 Here, the frit glass includes lead oxide PbO, zinc oxide ZnO, silicon oxide SiO 2 , barium oxide BaO powder, an extender and a bonding material, and a seal pattern formed of the frit glass has a temperature of 300 to 500 ° C. Cured.

前記ガラスペーストは、酸化鉛PbO、酸化亜鉛ZnO、酸化シリコンSiO、酸化バリウムBaOパウダー、接合物質を含み、前記ガラスペーストで形成されたシールパターンは、400ないし900℃で硬化される。 The glass paste includes lead oxide PbO, zinc oxide ZnO, silicon oxide SiO 2 , barium oxide BaO powder, and a bonding material, and the seal pattern formed of the glass paste is cured at 400 to 900 ° C.

さらに、基板の周辺部にゲートパッド及びデータパッドを形成する段階と;駆動回路と前記ゲートパッド及びデータパッドのいずれかを連結するために、前記ゲートパッド及びデータパッドのいずれかと接触する連結部を形成する段階と;フリットガラスまたは、ガラスペーストのいずれかを塗布して、前記ゲートパッド及びデータパッドのいずれかと前記連結部の接触領域を覆う保護膜を成形する段階を含む液晶表示装置の製造方法を提供する。   And forming a gate pad and a data pad on a peripheral portion of the substrate; and connecting a driving circuit and any one of the gate pad and the data pad to connect the gate pad and the data pad. A method of manufacturing a liquid crystal display device, the method comprising: forming a protective film covering either the gate pad or the data pad and the contact area of the connecting portion by applying either frit glass or glass paste I will provide a.

ここで、前記フリットガラスは、酸化鉛PbO、酸化亜鉛ZnO、酸化シリコンSiO、酸化バリウムBaOパウダー、増量剤と接合物質を含み、前記フリットガラスで形成されたシールパターンは、300ないし500℃で硬化される。 Here, the frit glass includes lead oxide PbO, zinc oxide ZnO, silicon oxide SiO 2 , barium oxide BaO powder, an extender, and a bonding material. Cured.

前記ガラスペーストは、酸化鉛PbO、酸化亜鉛ZnO、酸化シリコンSiO、酸化バリウムBaOパウダー、接合物質を含み、前記ガラスペーストで形成されたシールパターンは、400ないし900℃で硬化される。 The glass paste includes lead oxide PbO, zinc oxide ZnO, silicon oxide SiO 2 , barium oxide BaO powder, and a bonding material, and the seal pattern formed of the glass paste is cured at 400 to 900 ° C.

以下、図面を参照して、本発明の実施例をより詳しく説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.

本発明の液晶表示装置は、フリットガラスまたは、ガラスペーストを使用してシールーパターンを形成することによって、加温の際に、シールーパターンが破裂する不良を防ぐ。   In the liquid crystal display device of the present invention, the seal pattern is formed using frit glass or glass paste, thereby preventing the seal pattern from rupturing when heated.

また、フリットガラスまたは、ガラスペーストを使用して、セルギャップを維持するためのパターン化スペーサーを形成することによって、硬度の増加による潰れ等によるセルギャップの不良を防いで、モデル別に多様なセルギャップに比較的容易に対応できる。   In addition, by using frit glass or glass paste to form a patterned spacer to maintain the cell gap, cell gap defects due to crushing due to increased hardness can be prevented. Can be handled relatively easily.

さらに、ゲートパッド及びデータパッドと連結されるTCPフィルムの上部に形成される保護膜を、強い硬度で、熱的安定性の優れたフリットガラスまたは、ガラスペーストを使用して形成することによって、安定的な状態を維持する。   In addition, the protective film formed on the top of the TCP film connected to the gate pad and the data pad is stable by forming a frit glass or glass paste having high hardness and excellent thermal stability. Maintain a healthy state.

本発明の液晶表示装置に利用されるフリットガラスまたは、ガラスペーストの組成及び特性を説明する。   The composition and characteristics of the frit glass or glass paste used in the liquid crystal display device of the present invention will be described.

フリットガラスは、主成分が、酸化鉛PbOであって、副成分としては、酸化亜鉛ZnO、酸化シリコンSiO、酸化バリウムBaOパウダー、増量剤と接合物質を含む。フリットガラスは、有機溶剤を混ぜた状態で、300ないし500℃で加熱して焼成することによって、ガラス物質を接合するシールパターン、保護膜、スペーサーとして使用される。 The main component of the frit glass is lead oxide PbO, and the subcomponents include zinc oxide ZnO, silicon oxide SiO 2 , barium oxide BaO powder, extender and bonding material. The frit glass is used as a seal pattern, a protective film, and a spacer for bonding glass substances by heating and baking at 300 to 500 ° C. in a state where an organic solvent is mixed.

また、ガラスペーストは、酸化鉛PbO、酸化亜鉛ZnO、酸化シリコンSiO、酸化バリウムBaOパウダー、接合物質を含み、400ないし900℃で加熱して焼成することによって、ガラス物質を接合するシールパターン、保護膜、スペーサーとして使用される。この時、前記ガラスペーストの特性を説明すると、ガラスペーストの熱膨張係数は、最大100*10−7/℃になって、絶縁抵抗は、1012Ω程度になり、密度は、2g/cmないし6g/cmになる。さらに、曲げ強度は、最大、40MPaである。 Further, the glass paste includes lead oxide PbO, zinc oxide ZnO, silicon oxide SiO 2 , barium oxide BaO powder, and a bonding material, and is a seal pattern for bonding a glass material by heating and baking at 400 to 900 ° C. Used as protective film and spacer. At this time, the characteristics of the glass paste will be described. The thermal expansion coefficient of the glass paste is 100 * 10 −7 / ° C. at the maximum, the insulation resistance is about 10 12 Ω, and the density is 2 g / cm 3. Or 6 g / cm 3 . Furthermore, the bending strength is a maximum of 40 MPa.

このような組成及び物性のフリットガラス及びガラスペーストは、その成分自体がガラスを形成する材質と大変類似であって、ガラス材質の基板を封止または、接合するシールパターンの材料としては、接着性が優れている。特に、液晶表示装置に利用される基板は、ガラス物質を利用するので、液晶表示装置の形成過程で、物質反応が発生しない。また、液晶と接触するにおいて、不純物等を排出する等の現象が全然ない。従って、液晶表示装置の一部構成要素を、フリットガラス及びガラスペーストで形成すると、多数の有利な点がある。   The frit glass and glass paste having such composition and physical properties are very similar to the material forming the glass itself, and the adhesive material is used as a seal pattern material for sealing or joining the glass substrate. Is excellent. In particular, since a substrate used in a liquid crystal display device uses a glass material, no material reaction occurs during the formation process of the liquid crystal display device. Further, there is no phenomenon such as discharge of impurities in contact with the liquid crystal. Accordingly, forming some components of the liquid crystal display device with frit glass and glass paste has many advantages.

前述したフリットガラスに有機溶媒を混ぜることによって、グラスパウダーのように、ペースト状になる。このようなペースト状のフリットガラスやガラスペーストをシリンジまたは、ディスペンサーを利用して、基板上の望む部分を塗布して、塗布された状態の前記フリットガラスやガラスペーストを所定温度で焼成することによって、封止材や密閉材として利用することができる。   By mixing an organic solvent into the frit glass described above, it becomes a paste like glass powder. By applying such a paste-like frit glass or glass paste to a desired portion on a substrate using a syringe or a dispenser, and baking the applied frit glass or glass paste at a predetermined temperature. It can be used as a sealing material or a sealing material.

図3は、本発明の実施例によるフリットガラスやガラスペーストを利用して、液晶表示装置用の基板上に、シールパターンを形成する過程を示した図である。   FIG. 3 is a view illustrating a process of forming a seal pattern on a substrate for a liquid crystal display device using a frit glass or glass paste according to an embodiment of the present invention.

シールパターン115は、液晶表示装置において、相互に向かい合うアレイ基板とカラーフィルター基板を合着固定させて、前記両基板の枠部でセルギャップを維持させる手段になる。図3の基板100は、アレイ基板とカラーフィルター基板のいずれかに当たる。   In the liquid crystal display device, the seal pattern 115 serves as a means for bonding and fixing the array substrate and the color filter substrate facing each other to maintain the cell gap at the frame portion of the both substrates. The substrate 100 in FIG. 3 corresponds to either the array substrate or the color filter substrate.

この時、シールパターン115は、画面を表示する表示領域の内部を埋める液晶と直接接触されることによって、液晶とは反応しない物質で形成される必要がある。また、アレイ基板とカラーフィルター基板を丈夫に固定させる役割をしなければならないために、基板との接着力の優れた物質で形成される必要がある。   At this time, the seal pattern 115 needs to be formed of a substance that does not react with the liquid crystal by directly contacting the liquid crystal filling the inside of the display area for displaying the screen. Further, since the array substrate and the color filter substrate must be firmly fixed, it is necessary to form the substrate with a material having an excellent adhesion to the substrate.

このような重要な特徴を全て満足する物質として、従来には、エポキシまたは、アクリル系列の物質を利用してシールパターンを形成したが、エポキシまたは、アクリル系列の物質は、その単価が高く、原価を節減するのに邪魔である。従って、本発明では、エポキシまたは、アクリル系列より、その単価が安く、液晶と反応しても不純物を形成しないで、基板100との接着力も優れたフリットガラスまたは、ガラスペーストを利用して、シールパターン115を形成する。これにより、原価節減と同時に、エポキシまたは、アクリル系列の材質で形成されたシールパターンに比べて、さらに優れた封止状態を維持するようにする。   As a material that satisfies all these important characteristics, conventionally, an epoxy or acrylic group material is used to form a seal pattern. However, an epoxy or acrylic group material has a high unit price and costs. It is an obstacle to save. Therefore, in the present invention, the unit price is lower than that of epoxy or acrylic series, and it does not form impurities even when it reacts with liquid crystal, and uses frit glass or glass paste that has excellent adhesion to the substrate 100, and seals. A pattern 115 is formed. Accordingly, at the same time as the cost saving, a more excellent sealing state is maintained as compared with a seal pattern formed of an epoxy or acrylic material.

また、フリットガラスまたは、ガラスペーストでシールパターン115を形成することによって、シールパターン115の塗布後、シールパターン115を硬化する。シールパターン115自体がガラスとほとんど類似な材質であるために、丈夫に硬化され、以後気温によっては、シールパターンの破裂がほとんど発生しない。   Further, by forming the seal pattern 115 using frit glass or glass paste, the seal pattern 115 is cured after the seal pattern 115 is applied. Since the seal pattern 115 itself is made of a material that is almost similar to glass, the seal pattern 115 is hardened firmly, and thereafter, the seal pattern hardly ruptures depending on the temperature.

シールパターン115の形成方法を簡単に説明する。
シールパターン115は、図3に示したように、シリンジ110の内部にペーストタイプのフリットガラスまたは、ガラスペーストで埋める。その後、基板100の周辺部に沿って、シリンジ110を一定な速度で移動し続けながら、フリットガラスまたは、ガラスペーストをディスペンスしてシールパターン115を形成する。シリンジ110の代わりに、他の塗布装置、例えば、ディスペンサーを使用することができる。また、基板100は、薄膜トランジスタ(図示せず)及び画素電極(図示せず)を備えたアレイ基板または、カラーフィルターパターンと共通電極を備えたカラーフィルター基板である。
A method for forming the seal pattern 115 will be briefly described.
As shown in FIG. 3, the seal pattern 115 is filled in the syringe 110 with paste type frit glass or glass paste. Thereafter, the frit glass or glass paste is dispensed while the syringe 110 is continuously moved along the peripheral portion of the substrate 100 to form the seal pattern 115. Instead of the syringe 110, other application devices such as a dispenser can be used. The substrate 100 is an array substrate including a thin film transistor (not shown) and a pixel electrode (not shown), or a color filter substrate including a color filter pattern and a common electrode.

前記シールパターン115が形成された基板100と、これとは向かい合う基板をシールパターン115を使用して合着する。それから、前記両基板間に、液晶を注入して、シールパターン115を硬化させ、液晶表示装置(図示せず)が完成される。この時、硬化温度は、フリットガラスに対して、300ないし500℃、ガラスペーストに対して、400ないし900℃である。   The substrate 100 on which the seal pattern 115 is formed and the substrate facing the substrate 100 are bonded using the seal pattern 115. Then, liquid crystal is injected between the two substrates to cure the seal pattern 115, thereby completing a liquid crystal display device (not shown). At this time, the curing temperature is 300 to 500 ° C. for the frit glass and 400 to 900 ° C. for the glass paste.

図4は、本発明の他の実施例によるフリットガラスまたは、ガラスペーストを利用して液晶表示装置用の基板上に、パターン化スペーサーを形成する過程を示した図である。   FIG. 4 is a diagram illustrating a process of forming a patterned spacer on a substrate for a liquid crystal display using a frit glass or glass paste according to another embodiment of the present invention.

本発明の他の実施例による前記フリットガラスまたは、ガラスペーストを利用したパターン化スペーサーの形成は、前述した実施例のように、ディスペンサーやシリンジ220を利用することを特徴とする。図4で、基板200は、カラーフィルター基板である。ところが、アレイ基板を使用することもできる。   The formation of the patterned spacer using the frit glass or glass paste according to another embodiment of the present invention is characterized in that a dispenser or a syringe 220 is used as in the above-described embodiment. In FIG. 4, the substrate 200 is a color filter substrate. However, an array substrate can also be used.

パターン化スペーサー215を形成するにおいて、多数のシリンジ220(または、ディスペンサー)が一定間隔を置いて配置される。シリンジ220の一端は、マイクロμm単位でフリットガラスまたは、ガラスペーストをディスペンシングする。   In forming the patterned spacer 215, a number of syringes 220 (or dispensers) are arranged at regular intervals. One end of the syringe 220 dispenses frit glass or glass paste in units of micro micrometers.

また、シールーパターンの形成とは異なり、所定間隔を移動して、まるで、ドット状で、フリットガラスまたは、ガラスペーストをディスペンシングする。このことによって、基板200上の所定領域、例えば、赤色R、緑色G,青色Bを表示する画素Pを取り囲みながら形成されたブラックマトリックス210が上部に、一定間隔にパターン化スペーサー215が形成される。   Further, unlike the formation of the seal pattern, the frit glass or the glass paste is dispensed by moving at a predetermined interval as if in a dot shape. As a result, the patterned spacers 215 are formed at regular intervals on the upper side of the black matrix 210 formed surrounding the pixels P that display a predetermined area on the substrate 200, for example, red R, green G, and blue B, for example. .

前記パターン化スペーサー215がディスペンシングされた基板200を焼成する。フリットガラスに対して、300ないし500℃で、ガラスペーストに対しては、400ないし900℃で、5分ないし30分焼成する。このことによって、硬化された状態のパターン化スペーサー215が完成される。この時、パターン化スペーサー215は、各画素Pごとに形成しないで、多数の画素Pごとに形成することもできる。この場合、離隔間隔は、一定にする。   The substrate 200 on which the patterned spacer 215 is dispensed is baked. Baking is performed at 300 to 500 ° C. for frit glass and at 400 to 900 ° C. for glass paste for 5 to 30 minutes. This completes the patterned spacer 215 in a cured state. At this time, the patterned spacer 215 may be formed for each of a large number of pixels P without being formed for each pixel P. In this case, the separation interval is constant.

液晶表示装置のモデル別に、相互に異なるセルギャップを形成する場合、シリンジ220(または、ディスペンサー)を利用して塗布されるフリットガラスまたは、ガラスペーストの量を調節することによって、パターン化スペーサー215の高さを容易に調節できる。従って、多様なモデルに対して、その対応が容易な長所がある。   When forming different cell gaps depending on the liquid crystal display model, the amount of the patterned spacer 215 is adjusted by adjusting the amount of frit glass or glass paste applied using the syringe 220 (or dispenser). The height can be adjusted easily. Therefore, there is an advantage that it is easy to deal with various models.

従来のパターン化スペーサーは、有機絶縁物質の特性上、その硬度の低い液晶表示装置の完成後、外部からの酷い圧力を受けると、圧力を受けた部分が潰れてセルギャップが維持されなく、このことによって、画質不良をもたらす。ところが、パターン化スペーサーをガラスと類似な材質のフリットガラスまたは、ガラスペーストを利用して形成することによって、強度及び熱変化に強いフリットガラスまたは、ガラスペーストの特性上、潰れによるセルギャップ維持の不良等が防げる。   Due to the characteristics of the organic insulating material, the conventional patterned spacer is subjected to severe external pressure after the liquid crystal display device with low hardness is completed. As a result, poor image quality is caused. However, the formation of patterned spacers using frit glass similar to glass or glass paste makes it difficult to maintain the cell gap due to crushing due to the characteristics of frit glass or glass paste that is resistant to strength and heat changes. Etc. can be prevented.

前述した他の実施例では、液晶表示装置用のカラーフィルター基板上に、パターン化スペーサー215を形成する。ところが、パターン化スペーサーをアレイ基板上に形成しても良い。この時、パターン化スペーサーの形成位置は、ブラックマトリックスに対応するゲート配線、データ配線、薄膜トランジスタ上に形成される。パターン化スペーサーは、カラーフィルター基板においては、モデルによって共通電極または、オーバーコート層と接触できて、アレイ基板においては、保護層と接触できる。   In the other embodiments described above, the patterned spacer 215 is formed on a color filter substrate for a liquid crystal display device. However, the patterned spacer may be formed on the array substrate. At this time, the formation position of the patterned spacer is formed on the gate wiring, data wiring, and thin film transistor corresponding to the black matrix. The patterned spacer can contact the common electrode or the overcoat layer depending on the model in the color filter substrate, and can contact the protective layer in the array substrate.

一方、前述した図面には示してないが、アレイ基板のゲートパッド及びデータパッドとTCPフィルムの連結部が接触する部分を覆う保護膜として、フリットガラスまたは、ガラスペーストが使用される。
また、COG(Chip On Glass)型の液晶表示装置、すなわち、TCPフィルムを使用しないで、ゲートドライバーまたは、データドライバー用ICが基板上に直接実装された場合、基板上に形成されたICを覆う保護膜として、フリットガラスまたは、ガラスペーストが使用される。
On the other hand, although not shown in the above-mentioned drawings, frit glass or glass paste is used as a protective film that covers a portion where the gate pad and data pad of the array substrate are in contact with the connecting portion of the TCP film.
Further, when a gate driver or data driver IC is directly mounted on a substrate without using a COG (Chip On Glass) type liquid crystal display device, that is, a TCP film, the IC formed on the substrate is covered. As the protective film, frit glass or glass paste is used.

この場合、既存の密閉材として利用されるエポキシまたは、アクリル系列の物質より接着力が優れ、その硬度も高いので、より安定に密閉材としての役割を果たす。   In this case, the epoxy or acrylic material used as an existing sealing material has better adhesive strength and higher hardness, and thus plays a role as a sealing material more stably.

本発明は、前述した実施例に限られるのではなく、多様に応用及び適用される。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, but can be applied and applied in various ways.

従来の液晶表示装置を概略的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed the conventional liquid crystal display device schematically. 図1のII−II線に沿って示した断面図である。It is sectional drawing shown along the II-II line of FIG. 本発明の実施例によるフリットガラスやガラスペーストを利用して、液晶表示装置用の基板上に、シールパターンを形成する過程を示した図である。FIG. 5 is a view illustrating a process of forming a seal pattern on a substrate for a liquid crystal display device using frit glass or glass paste according to an embodiment of the present invention. 本発明の他の実施例によるフリットガラスまたは、ガラスペーストを利用して液晶表示装置用の基板上に、パターン化スペーサーを形成する過程を示した図である。FIG. 6 is a view illustrating a process of forming a patterned spacer on a substrate for a liquid crystal display using a frit glass or glass paste according to another embodiment of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

100:アレイ基板
110:シリンジ
115:シールパターン
100: Array substrate 110: Syringe 115: Seal pattern

Claims (18)

相互に向かい合う第1基板及び第2基板と;
前記第1基板及び第2基板間に位置する液晶層と;
前記第1基板及び第2基板間に位置して、前記液晶層を取り囲み、フリットガラスまたは、ガラスペーストで形成されたシールパターンを含むことを特徴とする液晶表示装置。
A first substrate and a second substrate facing each other;
A liquid crystal layer positioned between the first substrate and the second substrate;
A liquid crystal display device comprising a seal pattern positioned between the first substrate and the second substrate and surrounding the liquid crystal layer and formed of frit glass or glass paste.
前記フリットガラスは、酸化鉛PbO、酸化亜鉛ZnO、酸化シリコンSiO、酸化バリウムBaOパウダー、増量剤と接合物質を含むことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the frit glass includes lead oxide PbO, zinc oxide ZnO, silicon oxide SiO 2 , barium oxide BaO powder, an extender, and a bonding material. 前記ガラスペーストは、酸化鉛PbO、酸化亜鉛ZnO、酸化シリコンSiO、酸化バリウムBaOパウダー、接合物質を含むことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the glass paste includes lead oxide PbO, zinc oxide ZnO, silicon oxide SiO 2 , barium oxide BaO powder, and a bonding material. 相互に向かい合う第1基板及び第2基板と;
前記第1基板及び第2基板間に位置して、セルギャップを有する液晶層と;
前記第1基板及び第2基板間に位置し、前記セルギャップを維持して、フリットガラスまたは、ガラスペーストで形成されたスペーサーを含むことを特徴とする液晶表示装置。
A first substrate and a second substrate facing each other;
A liquid crystal layer positioned between the first substrate and the second substrate and having a cell gap;
A liquid crystal display device comprising a spacer, which is located between the first substrate and the second substrate, maintains the cell gap, and is formed of frit glass or glass paste.
前記フリットガラスは、酸化鉛PbO、酸化亜鉛ZnO、酸化シリコンSiO、酸化バリウムBaOパウダー、増量剤と接合物質を含むことを特徴とする請求項4に記載の液晶表示装置。 5. The liquid crystal display device according to claim 4, wherein the frit glass includes lead oxide PbO, zinc oxide ZnO, silicon oxide SiO 2 , barium oxide BaO powder, an extender, and a bonding material. 前記ガラスペーストは、酸化鉛PbO、酸化亜鉛ZnO、酸化シリコンSiO、酸化バリウムBaOパウダー、接合物質を含むことを特徴とする請求項4に記載の液晶表示装置。 5. The liquid crystal display device according to claim 4, wherein the glass paste includes lead oxide PbO, zinc oxide ZnO, silicon oxide SiO 2 , barium oxide BaO powder, and a bonding material. 基板の周辺部に位置して、ゲートパッド及びデータパッドと;
駆動回路と前記ゲートパッド及びデータパッドのいずれかを連結するために、前記ゲートパッド及びデータパッドのいずれかと接触する連結部と;
前記ゲートパッド及びデータパッドのいずれかと前記連結部の接触領域を覆い、フリットガラスまたは、ガラスペーストで形成された保護膜を含むことを特徴とする液晶表示装置。
A gate pad and a data pad located at the periphery of the substrate;
A connecting portion that contacts either the gate pad or the data pad to connect the driving circuit to any one of the gate pad and the data pad;
A liquid crystal display device comprising a protective film made of frit glass or glass paste, covering a contact region between one of the gate pad and the data pad and the connecting portion.
前記フリットガラスは、酸化鉛PbO、酸化亜鉛ZnO、酸化シリコンSiO、酸化バリウムBaOパウダー、増量剤と接合物質を含むことを特徴とする請求項7に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 7, wherein the frit glass includes lead oxide PbO, zinc oxide ZnO, silicon oxide SiO 2 , barium oxide BaO powder, an extender, and a bonding material. 前記ガラスペーストは、酸化鉛PbO、酸化亜鉛ZnO、酸化シリコンSiO、酸化バリウムBaOパウダー、接合物質を含むことを特徴とする請求項7に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 7, wherein the glass paste includes lead oxide PbO, zinc oxide ZnO, silicon oxide SiO 2 , barium oxide BaO powder, and a bonding material. シリンジまたは、ディスペンサのいずれかを使用して、第1基板の周辺部に沿ってフリットガラスまたは、ガラスペーストのいずれかを塗布して、シールパターンを形成する段階と;
第2基板と前記第1基板を合着して、前記シールパターンを硬化する段階と;
前記シールパターンによって取り囲まれた前記第1基板及び第2基板間に液晶を注入する段階を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
Applying either frit glass or glass paste along the periphery of the first substrate using either a syringe or dispenser to form a seal pattern;
Bonding the second substrate and the first substrate to cure the seal pattern;
A method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising the step of injecting liquid crystal between the first substrate and the second substrate surrounded by the seal pattern.
前記フリットガラスは、酸化鉛PbO、酸化亜鉛ZnO、酸化シリコンSiO、酸化バリウムBaOパウダー、増量剤と接合物質を含み、前記フリットガラスで形成されたシールパターンは、300ないし500℃で硬化されることを特徴とする請求項10に記載の液晶表示装置の製造方法。 The frit glass includes lead oxide PbO, zinc oxide ZnO, silicon oxide SiO 2 , barium oxide BaO powder, an extender and a bonding material, and the seal pattern formed of the frit glass is cured at 300 to 500 ° C. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 10. 前記ガラスペーストは、酸化鉛PbO、酸化亜鉛ZnO、酸化シリコンSiO、酸化バリウムBaOパウダー、接合物質を含み、前記ガラスペーストで形成されたシールパターンは、400ないし900℃で硬化されることを特徴とする請求項10に記載の液晶表示装置の製造方法。 The glass paste includes lead oxide PbO, zinc oxide ZnO, silicon oxide SiO 2 , barium oxide BaO powder, and a bonding material, and the seal pattern formed of the glass paste is cured at 400 to 900 ° C. A method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 10. 第1基板の表示領域にブラックマトリックスを形成する段階と;
シリンジまたは、ディスペンサのいずれかを使用して、前記ブラックマトリックスに対応するように、フリットガラスまたは、ガラスペーストのいずれかを、前記第1基板及び第2基板のいずれかに塗布してスペーサーを形成する段階と;
前記スペーサーを硬化する段階と;
前記第1基板及び第2基板を合着して、前記第1基板及び第2基板間に液晶を注入する段階とを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
Forming a black matrix in the display area of the first substrate;
Using either a syringe or a dispenser, either frit glass or glass paste is applied to either the first substrate or the second substrate so as to correspond to the black matrix to form a spacer. And the stage of
Curing the spacer;
Bonding the first substrate and the second substrate, and injecting liquid crystal between the first substrate and the second substrate.
前記フリットガラスは、酸化鉛PbO、酸化亜鉛ZnO、酸化シリコンSiO、酸化バリウムBaOパウダー、増量剤と接合物質を含み、前記フリットガラスで形成されたシールパターンは、300ないし500℃で硬化されることを特徴とする請求項13に記載の液晶表示装置の製造方法。 The frit glass includes lead oxide PbO, zinc oxide ZnO, silicon oxide SiO 2 , barium oxide BaO powder, an extender and a bonding material, and the seal pattern formed of the frit glass is cured at 300 to 500 ° C. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 13. 前記ガラスペーストは、酸化鉛PbO、酸化亜鉛ZnO、酸化シリコンSiO、酸化バリウムBaOパウダー、接合物質を含み、前記ガラスペーストで形成されたシールパターンは、400ないし900℃で硬化されることを特徴とする請求項13に記載の液晶表示装置の製造方法。 The glass paste includes lead oxide PbO, zinc oxide ZnO, silicon oxide SiO 2 , barium oxide BaO powder, and a bonding material, and the seal pattern formed of the glass paste is cured at 400 to 900 ° C. A method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 13. 基板の周辺部にゲートパッド及びデータパッドを形成する段階と;
駆動回路と前記ゲートパッド及びデータパッドのいずれかを連結するために、前記ゲートパッド及びデータパッドのいずれかと接触する連結部を形成する段階と;
フリットガラスまたは、ガラスペーストのいずれかを塗布して、前記ゲートパッド及びデータパッドのいずれかと前記連結部の接触領域を覆う保護膜を成形する段階を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
Forming gate pads and data pads on the periphery of the substrate;
Forming a connecting portion in contact with either the gate pad or the data pad to connect the driving circuit to the gate pad or the data pad;
A method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: applying a frit glass or a glass paste to form a protective film that covers a contact region between one of the gate pad and the data pad and the connecting portion. .
前記フリットガラスは、酸化鉛PbO、酸化亜鉛ZnO、酸化シリコンSiO、酸化バリウムBaOパウダー、増量剤と接合物質を含み、前記フリットガラスで形成されたシールパターンは、300ないし500℃で硬化されることを特徴とする請求項16に記載の液晶表示装置の製造方法。 The frit glass includes lead oxide PbO, zinc oxide ZnO, silicon oxide SiO 2 , barium oxide BaO powder, an extender and a bonding material, and the seal pattern formed of the frit glass is cured at 300 to 500 ° C. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 16. 前記ガラスペーストは、酸化鉛PbO、酸化亜鉛ZnO、酸化シリコンSiO、酸化バリウムBaOパウダー、接合物質を含み、前記ガラスペーストで形成されたシールパターンは、400ないし900℃で硬化されることを特徴とする請求項16に記載の液晶表示装置の製造方法。 The glass paste includes lead oxide PbO, zinc oxide ZnO, silicon oxide SiO 2 , barium oxide BaO powder, and a bonding material, and the seal pattern formed of the glass paste is cured at 400 to 900 ° C. A method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 16.
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