JP2008012633A - Water jet machining device - Google Patents

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Satoshi Hanashima
聡 花島
Satoshi Tateiwa
聡 立岩
Masayuki Matsubara
政幸 松原
Masaaki Yamamoto
昌明 山本
Moichi Kanai
茂一 金井
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Disco Abrasive Systems Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To dispense with the frequent replacement of a buffer tank by preventing deterioration of the buffer tank installed in a water jet machining device. <P>SOLUTION: In this water jet machining device 1, a workpiece 8 is held in a holding means 2, and machining water 30a mixed with abrasive grains and water is injected from an injection nozzle 30 to machine the workpiece 8. The buffer tank 4 constituted of a water storage tank 40 for storing the machining water 30a passing through the workpiece 8, a basket 41 stored in the water storage tank 40, and a plurality of buffer balls 42 stored in the basket 41 is provided just under the injection nozzle 30. By agitating the buffer balls 42, force of the machining water can be weakened. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、砥粒と水とを混合した加工水を高圧噴射して被加工物の加工を行うウォータージェット加工装置に関するものである。   The present invention relates to a water jet processing apparatus that processes a workpiece by high-pressure jetting of processing water in which abrasive grains and water are mixed.

IC、LSI等の複数のデバイスが形成されたウェーハは、ダイシング装置、レーザー加工装置等の分割装置を用いて個々のデバイスに分割され、パッケージングされて各種電子機器に利用されている。   A wafer on which a plurality of devices such as an IC and an LSI are formed is divided into individual devices using a dividing device such as a dicing device or a laser processing device, packaged, and used for various electronic devices.

例えば、CSP(Chip Size Package)と呼ばれる半導体チップとほぼ同じサイズのパッケージを製造する場合においては、ストリートによってマトリクス状に区画されたリードフレームにおける区画された各領域にチップが配置され、配置されたすべてのチップが樹脂封止されてCSP基板が形成された後に、当該ストリートが切断されて個々のCSPに分割される。   For example, when manufacturing a package of almost the same size as a semiconductor chip called a CSP (Chip Size Package), the chip is arranged and arranged in each partitioned region in a lead frame partitioned in a matrix by streets. After all chips are sealed with resin and a CSP substrate is formed, the street is cut and divided into individual CSPs.

ところが、リードフレームを切削ブレードで切削すると、バリが生じてリード端子が短絡するという問題がある。また、他の被加工物を切断する場合にも同様の問題がある。そこで、本出願人は、砥粒と水とを混合した加工水を50〜100MPa程の高圧で噴射ノズルから噴射して切断を行うウォータージェット加工装置を開発した。このウォータージェット加工装置においては、噴射された加工水が被加工物を貫通するため、貫通した加工水の噴射方向には、加工水の勢いを弱めるための緩衝槽が設置されている(例えば特許文献1参照)。   However, when the lead frame is cut with a cutting blade, there is a problem that burrs are generated and the lead terminals are short-circuited. The same problem occurs when cutting other workpieces. In view of this, the present applicant has developed a water jet machining apparatus that performs cutting by jetting processing water, which is a mixture of abrasive grains and water, from an injection nozzle at a high pressure of about 50 to 100 MPa. In this water jet processing apparatus, since the injected processing water penetrates the workpiece, a buffer tank for weakening the momentum of the processing water is installed in the penetrating direction of the processing water (for example, a patent) Reference 1).

特開2005−230994号公報JP 2005-230994 A

しかし、緩衝槽は、加工水の圧力によって経時的に劣化するため、頻繁に緩衝槽を交換しなければならないという問題がある。   However, since the buffer tank deteriorates with time due to the pressure of the processing water, there is a problem that the buffer tank must be frequently replaced.

そこで、本発明が解決しようとする課題は、ウォータージェット加工装置に設置される緩衝槽の劣化を防止して、頻繁な交換を不要とすることである。   Therefore, the problem to be solved by the present invention is to prevent deterioration of the buffer tank installed in the water jet machining apparatus and eliminate frequent replacement.

本発明は、被加工物を保持する保持手段と、保持手段に保持された被加工物に砥粒と水とが混合された加工水を噴射ノズルから噴射して被加工物を加工する加工水噴射手段と、噴射ノズルの直下に配設され被加工物を貫通した加工水を受け止めて加工水の勢いを弱める緩衝槽とを少なくとも備えたウォータージェット加工装置に関するもので、緩衝槽は、被加工物を貫通した加工水を貯水する貯水槽と、貯水槽に収容されるバスケットと、バスケットに収容される複数の緩衝球とから構成されることを特徴とする。   The present invention relates to holding means for holding a workpiece, and processing water for processing a workpiece by injecting, from an injection nozzle, processing water in which abrasive grains and water are mixed into the workpiece held by the holding means. The present invention relates to a water jet machining apparatus comprising at least a jetting means and a buffer tank that is disposed immediately below the jet nozzle and receives the machining water penetrating the workpiece to weaken the momentum of the machining water. It is comprised from the water storage tank which stores the processed water which penetrated the thing, the basket accommodated in a water storage tank, and the some buffer ball accommodated in a basket.

上記ウォータージェット加工装置において、緩衝球の直径は3mm〜8mmであることが望ましい。   In the water jet machining apparatus, the buffer ball preferably has a diameter of 3 mm to 8 mm.

また、緩衝球を構成する材料には、加工水に含まれる砥粒を構成する材料と同一の材料が含まれることが望ましい。この場合において、緩衝球は、例えばアルミナセラミックスにより形成される。   Moreover, it is desirable that the material constituting the buffer ball includes the same material as that constituting the abrasive grains contained in the processed water. In this case, the buffer sphere is made of alumina ceramics, for example.

本発明では、複数の緩衝球をバスケットに収容して緩衝槽を構成したことにより、被加工物を貫通した加工水が複数の緩衝球に衝突し、複数の緩衝球が攪拌されて加工水の勢いが弱められる。特に、緩衝球の直径を3mm〜8mmとすることによって、より効果的に加工水の勢いが弱められる。   In the present invention, since a plurality of buffer balls are accommodated in the basket to constitute the buffer tank, the processing water penetrating the workpiece collides with the plurality of buffer balls, and the plurality of buffer balls are agitated to process the processing water. Momentum is weakened. In particular, by setting the diameter of the buffer ball to 3 mm to 8 mm, the momentum of the processing water is more effectively reduced.

また、緩衝球を構成する材料に、加工水に含まれる砥粒を構成する材料と同一の材料が含まれると、加工水からの衝撃によって緩衝球が破損しても、加工水を循環させて再利用するのに支障が生じない。   In addition, if the material that makes up the buffer ball contains the same material as the material that makes up the abrasive grains contained in the processed water, even if the buffer ball is damaged by impact from the processed water, the processed water is circulated. There is no obstacle to reuse.

図1に示すウォータージェット加工装置1は、被加工物を保持する保持手段2と、保持手段2に保持された被加工物に加工水を噴射して被加工物を加工する加工水噴射手段3と、噴射された加工水を受け止めて加工水の勢いを弱める緩衝槽4とを少なくとも備えている。   A water jet machining apparatus 1 shown in FIG. 1 includes a holding unit 2 that holds a workpiece, and a machining water injection unit 3 that processes the workpiece by injecting the machining water onto the workpiece held by the holding unit 2. And at least a buffer tank 4 that receives the injected processing water and weakens the momentum of the processing water.

保持手段2は、被加工物が載置される板状部材20と、被加工物の形状に対応した形状に形成され垂直方向に貫通する貫通部21と、被加工物が載置される際の位置決めの基準となる複数の位置決めピン22とから構成されている。   The holding means 2 includes a plate-like member 20 on which a workpiece is placed, a penetrating portion 21 formed in a shape corresponding to the shape of the workpiece and penetrating in the vertical direction, and when the workpiece is placed. And a plurality of positioning pins 22 serving as a positioning reference.

保持手段2は、第一の送り手段5によって駆動されてY軸方向(図1における矢印Yの向き)に移動可能となっている。第一の送り手段5は、Y軸方向に配設されたボールネジ50と、ボールネジ50の一端に連結されボールネジ50を回動させるパルスモータ51と、ボールネジ50に平行に配設されたガイドレール52と、保持手段2を支持しガイドレール52に摺接すると共に内部のナットがボールネジ50に螺合する保持手段支持部53と、ボールネジ50とパルスモータ51とガイドレール52とを支持する基部54とから構成され、パルスモータ51に駆動されてボールネジ50が回動するのに伴い、ガイドレール52にガイドされて保持手段支持部53がY軸方向に移動する構成となっている。   The holding means 2 is driven by the first feeding means 5 and is movable in the Y-axis direction (the direction of the arrow Y in FIG. 1). The first feeding means 5 includes a ball screw 50 disposed in the Y-axis direction, a pulse motor 51 connected to one end of the ball screw 50 and rotating the ball screw 50, and a guide rail 52 disposed in parallel to the ball screw 50. And a holding means supporting portion 53 that supports the holding means 2 and is slidably contacted with the guide rail 52 and has an internal nut screwed into the ball screw 50, and a base portion 54 that supports the ball screw 50, the pulse motor 51, and the guide rail 52. As the ball screw 50 is rotated by being driven by the pulse motor 51, the holding means support portion 53 is moved in the Y-axis direction while being guided by the guide rail 52.

保持手段2は、第二の送り手段6によって駆動されてZ軸方向(図1における矢印Zの向き)に移動可能となっている。第二の送り手段6は、Z方向に配設され基部54の内部のナットに螺合するボールネジ60と、ボールネジ60の一端に連結されボールネジ60を回動させるパルスモータ61と、ボールネジ60に平行に配設され基部54と摺接するガイドレール62と、ボールネジ6とパルスモータ61とガイドレール62とを支持する基部63とから構成され、パルスモータ61に駆動されてボールネジ60が回動するのに伴い、ガイドレール62にガイドされて第一の送り手段5及び保持手段2がZ軸方向に移動する構成となっている。   The holding means 2 is driven by the second feeding means 6 and is movable in the Z-axis direction (the direction of the arrow Z in FIG. 1). The second feeding means 6 is arranged in the Z direction and is parallel to the ball screw 60 that is screwed into a nut inside the base portion 54, a pulse motor 61 that is connected to one end of the ball screw 60 and rotates the ball screw 60, and the ball screw 60. The guide rail 62 is slidably in contact with the base 54 and the ball screw 6, the pulse motor 61, and the base 63 that supports the guide rail 62. The ball screw 60 is driven by the pulse motor 61 to rotate. Accordingly, the first feeding means 5 and the holding means 2 are guided by the guide rail 62 and moved in the Z-axis direction.

保持手段2は、第三の送り手段7によって駆動されてX軸方向(図1における矢印Xの向き)に移動可能となっている。第三の送り手段7は、X軸方向に配設され基部63の内部のナットに螺合するボールネジ70と、ボールネジ70の一端に連結されボールネジ70を回動させるパルスモータ71と、ボールネジ70に平行に配設され基部63と摺接するガイドレール72と、ボールネジ70とパルスモータ61とガイドレール62とを支持する基部73とから構成され、パルスモータ71に駆動されてボールネジ70が回動するのに伴い、ガイドレール72にガイドされて第二の送り手段6、第一の送り手段5及び保持手段2がX軸方向に移動する構成となっている   The holding means 2 is driven by the third feeding means 7 and is movable in the X-axis direction (the direction of the arrow X in FIG. 1). The third feeding means 7 includes a ball screw 70 disposed in the X-axis direction and screwed into a nut inside the base 63, a pulse motor 71 connected to one end of the ball screw 70 and rotating the ball screw 70, and a ball screw 70. A guide rail 72 that is arranged in parallel and is in sliding contact with the base 63, and a base 73 that supports the ball screw 70, the pulse motor 61, and the guide rail 62, and is driven by the pulse motor 71 to rotate the ball screw 70. Accordingly, the second feeding means 6, the first feeding means 5 and the holding means 2 are guided by the guide rail 72 and moved in the X-axis direction.

加工水噴射手段3は、粒径¢30μm〜¢50μmのアルミナセラミックス(Al)製の砥粒と水とが混合した加工水を下方に噴射する噴射ノズル30を備えており、噴射ノズル30には、ポンプ31を介して加工水を貯留する加工水タンク32が連結され、加工水タンク32からポンプ31によって噴射ノズル30に加工水が供給される構成となっている。また、図示の例では、使用済みの加工水を循環させて再利用するための循環経路46が加工水タンク32に連結されており、循環経路46を通る加工水が加工水タンク32に流入する。 The processing water injection means 3 includes an injection nozzle 30 that injects downward processing water in which abrasive grains made of alumina ceramics (Al 2 O 3 ) having a particle size of ¢ 30 μm to ¢ 50 μm and water are mixed. A processing water tank 32 for storing processing water is connected to 30 via a pump 31, and the processing water is supplied from the processing water tank 32 to the injection nozzle 30 by the pump 31. Further, in the illustrated example, a circulation path 46 for circulating and reusing the used machining water is connected to the machining water tank 32, and the machining water passing through the circulation path 46 flows into the machining water tank 32. .

緩衝槽4は、噴射ノズル30の直下に配設されている。図2に示すように、緩衝槽4は、噴射ノズル30から噴射された加工水を貯水する貯水槽40と、貯水槽40に収容される網状のバスケット41と、バスケット41に収容される複数の緩衝球42とから構成されている。貯水槽40は、例えばステンレス等で形成され、図示の例では、排水槽43の中に貯水槽40が収容された構成となっており、貯水槽40から溢れた加工水を排水槽43に移して排水することができる。   The buffer tank 4 is disposed immediately below the injection nozzle 30. As shown in FIG. 2, the buffer tank 4 includes a water storage tank 40 that stores the processing water sprayed from the spray nozzle 30, a net-like basket 41 that is stored in the water storage tank 40, and a plurality of containers that are stored in the basket 41. And a buffer ball 42. The water storage tank 40 is formed of, for example, stainless steel, and in the illustrated example, the water storage tank 40 is accommodated in the drainage tank 43, and the processing water overflowing from the water storage tank 40 is transferred to the drainage tank 43. Can be drained.

貯水槽40には、循環経路46に加工水を流出させる流出口44を備えている。流出口44にはバルブを備えていることが望ましい。図1に示すように、循環経路46には加工水精錬部50が介在しており、使用済みの加工水を再び使用できる状態にして加工水タンク32に流す。一方、排水槽43には、排水経路47に流出させる流出口45を備えている。   The water storage tank 40 is provided with an outlet 44 through which processing water flows into the circulation path 46. The outlet 44 is preferably provided with a valve. As shown in FIG. 1, the processing water refining unit 50 is interposed in the circulation path 46, and the used processing water is made available again and flows into the processing water tank 32. On the other hand, the drainage tank 43 is provided with an outlet 45 that flows out into the drainage passage 47.

緩衝球42は、加工水に含まれる砥粒を構成するアルミナセラミックスと同種の耐摩耗性に優れたアルミナセラミックス(Al)により形成されたボールである。緩衝球42としては、例えばアズワン株式会社が提供する「アルミナボール」を使用することができる。緩衝球の直径は、例えば3mm〜8mmである。 The buffer spheres 42 are balls formed of alumina ceramics (Al 2 O 3 ) having the same type of wear resistance as the alumina ceramics constituting the abrasive grains contained in the processing water. As the buffer ball 42, for example, an “alumina ball” provided by AS ONE Corporation can be used. The diameter of the buffer ball is, for example, 3 mm to 8 mm.

図3に示すCSP基板8は、被加工物の一例であり、3つのブロック8a、8b、8cによって構成されている。個々のブロックには、横方向ストリートS1及び縦方向ストリートS2によって区画されて複数のCSP80が形成されており、ストリートSを縦横に切断することによって、個々のCSP80に分割される。   The CSP substrate 8 shown in FIG. 3 is an example of a workpiece, and includes three blocks 8a, 8b, and 8c. Each block is partitioned by a horizontal street S1 and a vertical street S2 to form a plurality of CSPs 80. The street S is divided into individual CSPs 80 by cutting the street S vertically and horizontally.

CSP基板8を個々のCSP80に分割するに際し、CSP基板8は、図4に示す第一の治具9a及び図5に示す第二の治具9bに支持される。いずれの治具も、支持板90と蓋部材91とがヒンジ92によって開閉自在に連結された構成となっており、支持板90には、図1に示した保持手段2に形成された位置決めピン22を嵌合させる嵌合孔93が位置決めピン22と同数形成されている。また、蓋部材91には、加工水を通すための貫通窓94が形成されている。支持板90の側面には係合穴95が形成され、蓋部材91には係合穴95に係合して係合片96が形成されており、支持板90にCSP基板8が載置された状態で係合片96が係合穴95に係合すると、支持版90と蓋部材91とが閉状態でロックされ、CSP基板8が支持版90と蓋部材91によって挟持される。   When the CSP substrate 8 is divided into individual CSPs 80, the CSP substrate 8 is supported by the first jig 9a shown in FIG. 4 and the second jig 9b shown in FIG. Each jig has a structure in which a support plate 90 and a lid member 91 are connected to each other by a hinge 92 so that the support plate 90 can be opened and closed. A positioning pin formed on the holding means 2 shown in FIG. The same number of fitting holes 93 as the positioning pins 22 are formed. Further, the cover member 91 is formed with a through window 94 for passing the processed water. An engagement hole 95 is formed on the side surface of the support plate 90, and an engagement piece 96 is formed on the lid member 91 by engaging with the engagement hole 95. The CSP substrate 8 is placed on the support plate 90. When the engagement piece 96 is engaged with the engagement hole 95 in the state where the support plate 90 is engaged, the support plate 90 and the lid member 91 are locked in the closed state, and the CSP substrate 8 is held between the support plate 90 and the cover member 91.

図4に示す第一の治具9aは、図3に示した横方向ストリートS1を切断する際に用いる治具であり、支持版90において、CSP基板8を保持した状態におけるすべての横方向ストリートS1の下方には、加工水を通すための貫通溝97が横方向ストリートS1と同じ向きに形成されている。図示の例における貫通溝97は、連続して形成されている。   The first jig 9a shown in FIG. 4 is a jig used when cutting the lateral street S1 shown in FIG. 3, and all the lateral streets in the state in which the CSP substrate 8 is held in the support plate 90. Under S1, a through groove 97 for passing the processing water is formed in the same direction as the lateral street S1. The through groove 97 in the illustrated example is formed continuously.

一方、図5に示す9bは、図3に示した縦方向ストリートS2を切断する際に用いる治具であり、支持版90において、CSP基板8を保持した状態におけるすべての縦方向ストリートS2の下方には、加工水を通すための貫通溝98が縦方向ストリートS2と同じ向きに形成されている。図示の例における貫通溝98は、連続して形成されている。   On the other hand, 9b shown in FIG. 5 is a jig used when cutting the vertical street S2 shown in FIG. 3, and below the all vertical streets S2 in the state in which the CSP substrate 8 is held in the support plate 90. The through-groove 98 for letting process water pass is formed in the same direction as the vertical street S2. The through groove 98 in the illustrated example is formed continuously.

図1を参照して説明すると、CSP基板8を保持した第一の治具9aは、位置決めピン22に嵌合孔93が嵌合されて保持手段2に保持される。そして、第一の送り手段5及び第三の送り手段7による駆動により、CSP基板8に形成された横方向ストリートS1のうちの両端のいずれかを、噴射ノズルの直下に位置付ける。   Referring to FIG. 1, the first jig 9 a holding the CSP substrate 8 is held by the holding means 2 with the fitting hole 93 fitted to the positioning pin 22. Then, either one of both ends of the lateral street S1 formed on the CSP substrate 8 is positioned directly below the injection nozzle by driving by the first feeding unit 5 and the third feeding unit 7.

そして、噴射ノズル30から砥粒と水とが混合した加工水を下方に高圧噴射すると共に、第三の送り手段7によってCSP基板8をX軸方向に移動させながら、X軸方向に相当する横方向のストリートS1を切断する。横方向のストリートS1を1本切断した後は、第一の送り手段5によってCSP基板8を若干Y軸方向に移動させてから、再び第三の送り手段7によってCSP基板8をX軸方向に移動させ、隣の横方向のストリートS1を切断する。このような動作を連続的に繰り返し、第一の治具9aの支持版90に形成された貫通溝97に沿って加工水が噴射されるようにする。これによって、横方向ストリートS1がすべて切断される。   Then, the processing water in which the abrasive grains and water are mixed is jetted from the jet nozzle 30 at a high pressure downward, and the CSP substrate 8 is moved in the X-axis direction by the third feeding means 7 while the horizontal direction corresponding to the X-axis direction. Cut the street S1 in the direction. After cutting one horizontal street S1, the CSP substrate 8 is slightly moved in the Y-axis direction by the first feeding means 5, and then the CSP substrate 8 is again moved in the X-axis direction by the third feeding means 7. Move and cut the adjacent horizontal street S1. Such operation is continuously repeated so that the processing water is sprayed along the through groove 97 formed in the support plate 90 of the first jig 9a. As a result, all the horizontal streets S1 are cut.

次に、保持手段2から第一の治具9aを取り外すと共に、第一の治具9aからCSP基板8を取り外し、第一のストリートS1が切断されたCSP基板8を、第二の治具9bに保持させる。そして、第二の治具9bを保持手段2に保持させる。   Next, while removing the 1st jig | tool 9a from the holding means 2, the CSP board | substrate 8 is removed from the 1st jig | tool 9a, The CSP board | substrate 8 from which the 1st street S1 was cut | disconnected is used as the 2nd jig | tool 9b. To hold. Then, the second jig 9 b is held by the holding means 2.

次に、第一の送り手段5及び第三の送り手段7による駆動により、CSP基板8に形成された縦方向ストリートS2のうちの両端のいずれかを、噴射ノズルの直下に位置付ける。そして、噴射ノズル30から砥粒と水とが混合した加工水を下方に高圧噴射すると共に、第一の送り手段5によってCSP基板8をY軸方向に移動させながら、Y軸方向に相当する縦方向ストリートS2を切断する。縦方向ストリートS2を1本切断した後は、第三の送り手段7によってCSP基板8を若干X軸方向に移動させてから、再び第一の送り手段5によってCSP基板8をY軸方向に移動させ、隣の縦方向ストリートS2を切断する。このような動作を連続的に繰り返し、第二の治具9bの支持版90に形成された貫通溝98に沿って加工水が噴射されるようにする。これによって、縦方向ストリートS2がすべて切断され、個々のCSPに分割される。   Next, either one of both ends of the longitudinal streets S2 formed on the CSP substrate 8 is positioned directly below the injection nozzle by driving by the first feeding unit 5 and the third feeding unit 7. Then, working water in which abrasive grains and water are mixed is jetted downward from the jet nozzle 30 at a high pressure, and the CSP substrate 8 is moved in the Y-axis direction by the first feeding means 5 while the vertical direction corresponding to the Y-axis direction. Cut the direction street S2. After cutting one longitudinal street S2, the CSP substrate 8 is slightly moved in the X-axis direction by the third feeding means 7, and then the CSP substrate 8 is moved again in the Y-axis direction by the first feeding means 5. Next, the adjacent vertical street S2 is cut. Such operation is continuously repeated so that the processing water is sprayed along the through groove 98 formed in the support plate 90 of the second jig 9b. As a result, all the vertical streets S2 are cut and divided into individual CSPs.

図6に示すように、切断中は、噴射された加工水30aがCSP基板8を貫通し、高圧のまま緩衝槽4に達する。噴射ノズル30の直下に位置する緩衝槽4を構成する貯水槽40には網状のバスケット41が収容され、バスケット41には複数の緩衝球42が収容されているため、高圧の加工水は、緩衝球42に衝突する。そして、加工水が衝突した緩衝球42は回転し、加工水が衝突しなかったものも含めて複数の緩衝球42が撹拌されるため、加工水の勢いは弱められる。また、勢いが弱まった加工水は、網状のバスケット41を通って落下して貯水槽40に溜まっていく。このように、加工水は、緩衝球42によって噴射時の勢いが弱められた後に、貯水槽40に溜まっていくため、貯水槽40が劣化することがない。   As shown in FIG. 6, during the cutting, the injected processing water 30 a penetrates the CSP substrate 8 and reaches the buffer tank 4 while maintaining a high pressure. Since the water storage tank 40 constituting the buffer tank 4 located immediately below the injection nozzle 30 stores a net-like basket 41, and the basket 41 stores a plurality of buffer balls 42, high-pressure processed water is buffered. Collides with sphere 42. And since the buffer ball 42 which process water collided rotates and the some buffer ball 42 is stirred including the thing which the process water did not collide, the momentum of process water will be weakened. Further, the processed water whose momentum has weakened falls through the mesh basket 41 and accumulates in the water storage tank 40. In this way, since the processing water is accumulated in the water storage tank 40 after the momentum at the time of injection is weakened by the buffer balls 42, the water storage tank 40 is not deteriorated.

なお、緩衝球42の直径が10mm以上になると、撹拌が停滞して噴射ノズル30の直下に緩衝球42に穴が開き、緩衝槽4としての機能が損なわれることが確認された。一方、緩衝球42の直径が2mm以下になると、撹拌が激しくなりすぎて加工水の勢いを吸収できなくなり、バスケット41及び貯水槽40を損傷させることも確認された。緩衝球42の直径を3mm〜8mm、好ましくは6mmとすることで、加工水の勢いによって緩衝球42が撹拌され、より効果的に加工水の勢いを弱めることができる。   In addition, when the diameter of the buffer ball | bowl 42 became 10 mm or more, stirring stagnated and the hole was opened in the buffer ball | bowl 42 directly under the injection nozzle 30, and it confirmed that the function as the buffer tank 4 was impaired. On the other hand, it was confirmed that when the diameter of the buffer ball 42 was 2 mm or less, the stirring became so intense that the momentum of the processing water could not be absorbed and the basket 41 and the water storage tank 40 were damaged. By setting the diameter of the buffer ball 42 to 3 mm to 8 mm, preferably 6 mm, the buffer ball 42 is stirred by the momentum of the processing water, and the momentum of the processing water can be reduced more effectively.

貯水槽40に溜まった使用済みの加工水は、排水経路47から排水されるか、循環経路46の加工水精錬部50によって浄化されて加工水タンク32に戻されて再利用される。緩衝球42を構成する材料に、加工水に含まれる砥粒を構成する材料と同一の材料が含まれると、加工水からの衝撃によって緩衝球が破損しても、その破損したものを砥粒として循環させて再利用することができる。例えば、緩衝球42がアルミナセラミックスにより形成され、砥粒にアルミナセラミックスが含まれると、緩衝球42が破損しても、加工水を循環させて再利用するのに支障が生じない   The used processing water collected in the water storage tank 40 is drained from the drainage path 47 or purified by the processing water refining unit 50 in the circulation path 46 and returned to the processing water tank 32 for reuse. If the material constituting the buffer ball 42 includes the same material as the material constituting the abrasive grains contained in the processed water, even if the buffer ball is damaged due to an impact from the processed water, It can be circulated and reused. For example, if the buffer balls 42 are formed of alumina ceramics and the abrasive grains contain alumina ceramics, even if the buffer balls 42 are damaged, there is no problem in circulating and reusing the processing water.

ウォータージェット加工装置の一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of a water jet processing apparatus. 緩衝槽の一例を示す分解斜視図である。It is a disassembled perspective view which shows an example of a buffer tank. 被加工物の一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of a to-be-processed object. 治具の第一の例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the 1st example of a jig | tool. 治具の第二の例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the 2nd example of a jig | tool. 被加工物を切断する状態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the state which cut | disconnects a workpiece.

符号の説明Explanation of symbols

1:ウォータージェット加工装置
2:保持手段
20:板状部材 21:貫通部 22:位置決めピン
3:加工水噴射手段
30:噴射ノズル 31:ポンプ 32:加工水タンク
4:緩衝槽
40:貯水槽 41:バスケット 42:緩衝球 43:排水槽
44、45:流出口 46:循環経路 47:排水経路
5:第一の送り手段
50:ボールネジ 51:パルスモータ 52:ガイドレール
53:保持部材支持部 54:基部
6:第二の送り手段
60:ボールネジ 61:パルスモータ 62:ガイドレール 63:基部
7:第三の送り手段
70:ボールネジ 71:パルスモータ 72:ガイドレール 73:基部
8:CSP基板
80:CSP S:ストリート
9a:第一の治具、9b:第二の治具
90:支持板 91:蓋部材 92:ヒンジ 93:嵌合孔 94:貫通窓
95:係合穴 96:係合片 97、98:貫通溝
1: Water jet processing device 2: Holding means 20: Plate-like member 21: Penetration part 22: Positioning pin 3: Processing water injection means 30: Injection nozzle 31: Pump 32: Processing water tank 4: Buffer tank 40: Water storage tank 41 : Basket 42: Buffer ball 43: Drainage tank 44, 45: Outlet 46: Circulation path 47: Drainage path 5: First feeding means 50: Ball screw 51: Pulse motor 52: Guide rail 53: Holding member support 54: Base 6: Second feeding means 60: Ball screw 61: Pulse motor 62: Guide rail 63: Base 7: Third feeding means 70: Ball screw 71: Pulse motor 72: Guide rail 73: Base 8: CSP substrate 80: CSP S: Street 9a: First jig 9b: Second jig 90: Support plate 91: Lid member 92: Hinge 93: Fitting hole 94 Through window 95: engaging hole 96: the engaging pieces 97 and 98: the through-groove

Claims (4)

被加工物を保持する保持手段と、該保持手段に保持された被加工物に砥粒と水とが混合された加工水を噴射ノズルから噴射して該被加工物を加工する加工水噴射手段と、該噴射ノズルの直下に配設され該被加工物を貫通した加工水を受け止めて該加工水の勢いを弱める緩衝槽とを少なくとも備えたウォータージェット加工装置であって、
該緩衝槽は、該被加工物を貫通した加工水を貯水する貯水槽と、該貯水槽に収容されるバスケットと、該バスケットに収容される複数の緩衝球とから構成されるウォータージェット加工装置。
Holding means for holding the workpiece, and processing water injection means for processing the workpiece by injecting the processing water in which abrasive grains and water are mixed into the workpiece held by the holding means from the injection nozzle And a water jet machining apparatus comprising at least a buffer tank that is disposed immediately below the injection nozzle and receives the machining water penetrating the workpiece to weaken the momentum of the machining water,
The buffer tank is a water jet processing device that includes a water storage tank that stores processing water that has penetrated the workpiece, a basket that is stored in the water storage tank, and a plurality of buffer balls that are stored in the basket. .
前記緩衝球の直径は3mm〜8mmである請求項1に記載のウォータージェット加工装置。   The water jet machining apparatus according to claim 1, wherein the buffer ball has a diameter of 3 mm to 8 mm. 前記緩衝球を構成する材料には、前記加工水に含まれる砥粒を構成する材料と同一の材料が含まれる請求項1または2に記載のウォータージェット加工装置。   The water jet machining apparatus according to claim 1 or 2, wherein the material constituting the buffer ball includes the same material as that constituting the abrasive grains contained in the processed water. 前記緩衝球は、アルミナセラミックスにより形成される請求項3に記載のウォータージェット加工装置。   The water jet machining apparatus according to claim 3, wherein the buffer ball is formed of alumina ceramics.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008132542A (en) * 2006-11-27 2008-06-12 Fuji Seiki Mach Works Ltd Wear preventing shielding tool used in liquid honing
JP2012228742A (en) * 2011-04-26 2012-11-22 Toshiba Mach Co Ltd Slurry scattering preventing shield used for liquid honing processing
KR101678356B1 (en) * 2015-11-09 2016-11-22 한국생산기술연구원 Catcher for abrasive waterjet

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6317000A (en) * 1986-07-08 1988-01-23 川崎重工業株式会社 Water jet cutter
JPH01216799A (en) * 1988-02-24 1989-08-30 Sugino Mach:Kk Catcher for water jet cutting device
JPH03221373A (en) * 1990-01-23 1991-09-30 Sugino Mach Ltd Fluid receiving container for abrasive jet machining device

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6317000A (en) * 1986-07-08 1988-01-23 川崎重工業株式会社 Water jet cutter
JPH01216799A (en) * 1988-02-24 1989-08-30 Sugino Mach:Kk Catcher for water jet cutting device
JPH03221373A (en) * 1990-01-23 1991-09-30 Sugino Mach Ltd Fluid receiving container for abrasive jet machining device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008132542A (en) * 2006-11-27 2008-06-12 Fuji Seiki Mach Works Ltd Wear preventing shielding tool used in liquid honing
JP2012228742A (en) * 2011-04-26 2012-11-22 Toshiba Mach Co Ltd Slurry scattering preventing shield used for liquid honing processing
KR101678356B1 (en) * 2015-11-09 2016-11-22 한국생산기술연구원 Catcher for abrasive waterjet

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