JP2007529881A5 - - Google Patents

Claims (5)

1. 露光時間中フォトレジスト層を露光するのに露光光学系を用い、該露光光学系と露光されるべき該フォトレジスト層（２０）との間に浸漬媒体を挿入し、露光後、現像液を用いて該フォトレジスト層を現像する浸漬リソグラフィー方法であって、該フォトレジスト層（２０）に該フォトレジスト層（２０）と該浸漬媒体との接触を防ぐためのシールド層（３０）を提供する工程を備え、該シールド層は前記露光波長で透明であり且つ該浸漬媒体を通さないことを特徴とする、浸漬リソグラフィー方法。
2. 前記シールド層（３０）は、前記露光時間中、前記浸漬媒体が前記フォトレジスト層（２０）と接触することを防ぐのに十分な程度に前記浸漬媒体に不溶性である材料で形成される、請求項１に記載の浸漬リソグラフィー方法。
3. 前記シールド層（３０）は、前記現像液によって除去される材料で形成される、請求項１又は２に記載の浸漬リソグラフィー方法。
4. 前記浸漬媒体は水であり、前記現像液はテトラメチルアンモニウムヒドロキシドであり、前記シールド層（３０）はｐＨ依存性の溶解性を有する材料で形成される、請求項３に記載の浸漬リソグラフィー方法。
5. 特定の浸漬媒体を用いる浸漬リソグラフィープロセスでの露光に適した中間体製品であって、フォトレジスト層（２０）を有する基板（１０）から成り、該基板（１０）から離れた前記フォトレジスト層（２０）の表面が、前記浸漬リソグラフィープロセスで用いられる前記露光波長で透明であり且つ前記特定の浸漬媒体を通さないシールド層（３０）で覆われていることを特徴とする、特定の浸漬媒体を用いる浸漬リソグラフィープロセスでの露光に適した中間体製品。